JPH10251082A - ボーンチャイナ用無鉛フリット釉 - Google Patents
ボーンチャイナ用無鉛フリット釉Info
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- JPH10251082A JPH10251082A JP5448997A JP5448997A JPH10251082A JP H10251082 A JPH10251082 A JP H10251082A JP 5448997 A JP5448997 A JP 5448997A JP 5448997 A JP5448997 A JP 5448997A JP H10251082 A JPH10251082 A JP H10251082A
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 鉛を含有することなく低温で溶融でき、しか
も光沢性、平滑性、耐急冷性、耐薬品性等に優れたボー
ンチャイナ用フリット釉を提供する。 【解決手段】ボーンチャイナの表面に施釉され、1120℃
程度の低温で焼成されるボーンチャイナ用無鉛フリット
釉であって、モル比で、SiO2：61〜73％、Al2O3：２〜
８％、B2O3：０〜７％、ZnO ：３〜10％、アルカリ土類
金属酸化物：３〜10％、アルカリ金属酸化物：７〜13
％、ZrO2：０〜３％、TiO2：０〜２％の組成を有する。
も光沢性、平滑性、耐急冷性、耐薬品性等に優れたボー
ンチャイナ用フリット釉を提供する。 【解決手段】ボーンチャイナの表面に施釉され、1120℃
程度の低温で焼成されるボーンチャイナ用無鉛フリット
釉であって、モル比で、SiO2：61〜73％、Al2O3：２〜
８％、B2O3：０〜７％、ZnO ：３〜10％、アルカリ土類
金属酸化物：３〜10％、アルカリ金属酸化物：７〜13
％、ZrO2：０〜３％、TiO2：０〜２％の組成を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ボーンチャイナに
施釉されるボーンチャイナ用無鉛フリット釉に関するも
のである。ここでフリット釉とは、80重量％以上がフリ
ットであり、カオリン、粘土、珪石、長石等の生原料が
20重量％以下の釉を意味するものである。なお本明細書
においては、特に重量％と記した以外の％は全てモル％
を意味するものとする。
施釉されるボーンチャイナ用無鉛フリット釉に関するも
のである。ここでフリット釉とは、80重量％以上がフリ
ットであり、カオリン、粘土、珪石、長石等の生原料が
20重量％以下の釉を意味するものである。なお本明細書
においては、特に重量％と記した以外の％は全てモル％
を意味するものとする。
【０００２】
【従来の技術】ボーンチャイナは透明感のある光沢を持
つ白色の磁器であって、高級食器等として広く用いられ
ている。このためその表面に施釉されるフリット釉にも
光沢性や平滑性が要求され、また耐急冷性、耐薬品性等
が要求される。さらにボーンチャイナは施釉後の再焼成
を高温で行うと気泡を生じやすいため、ボーンチャイナ
用フリット釉には一般磁器用の釉よりも低温で溶融でき
ることが要求される。
つ白色の磁器であって、高級食器等として広く用いられ
ている。このためその表面に施釉されるフリット釉にも
光沢性や平滑性が要求され、また耐急冷性、耐薬品性等
が要求される。さらにボーンチャイナは施釉後の再焼成
を高温で行うと気泡を生じやすいため、ボーンチャイナ
用フリット釉には一般磁器用の釉よりも低温で溶融でき
ることが要求される。
【０００３】従来、これらの要求を満たすためにボーン
チャイナ用フリット釉としては、鉛を含有させた有鉛釉
が用いられてきた。有鉛釉は低温で溶融し光沢性や平滑
性の点でも優れている。しかし近年、鉛害や環境の鉛汚
染が問題視されるようになり、鉛を含有しないボーンチ
ャイナ用フリット釉が求められている。
チャイナ用フリット釉としては、鉛を含有させた有鉛釉
が用いられてきた。有鉛釉は低温で溶融し光沢性や平滑
性の点でも優れている。しかし近年、鉛害や環境の鉛汚
染が問題視されるようになり、鉛を含有しないボーンチ
ャイナ用フリット釉が求められている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した要請
に応え、鉛を含有することなく低温で溶融させることが
でき、しかも光沢性、平滑性、耐急冷性、耐薬品性等に
も優れたボーンチャイナ用無鉛フリット釉を提供するた
めになされたものである。
に応え、鉛を含有することなく低温で溶融させることが
でき、しかも光沢性、平滑性、耐急冷性、耐薬品性等に
も優れたボーンチャイナ用無鉛フリット釉を提供するた
めになされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明のボーンチャイナ用無鉛フリット釉
は、モル比で、SiO2：61〜73％、Al2O3 ：２〜８％、B2
O3：０〜７％、ZnO ：３〜10％、アルカリ土類金属酸化
物：３〜10％、アルカリ金属酸化物：７〜13％、ZrO2：
０〜３％、TiO2：０〜２％の組成を有することを特徴と
するものである。
めになされた本発明のボーンチャイナ用無鉛フリット釉
は、モル比で、SiO2：61〜73％、Al2O3 ：２〜８％、B2
O3：０〜７％、ZnO ：３〜10％、アルカリ土類金属酸化
物：３〜10％、アルカリ金属酸化物：７〜13％、ZrO2：
０〜３％、TiO2：０〜２％の組成を有することを特徴と
するものである。
【０００６】本発明のボーンチャイナ用無鉛フリット釉
の第１の特徴は、鉛に代えて３〜10％のZnO を含有させ
たことである。ZnO は釉の溶融性を高め、光沢性や平滑
性をよくすることができる。その含有量が３％未満では
そのような効果が不十分であり、逆に10％を越えると耐
薬品性が低下するとともに失透や乳濁等により外観が悪
化する。ZnO の最も好ましい範囲は４〜６％である。
の第１の特徴は、鉛に代えて３〜10％のZnO を含有させ
たことである。ZnO は釉の溶融性を高め、光沢性や平滑
性をよくすることができる。その含有量が３％未満では
そのような効果が不十分であり、逆に10％を越えると耐
薬品性が低下するとともに失透や乳濁等により外観が悪
化する。ZnO の最も好ましい範囲は４〜６％である。
【０００７】本発明のボーンチャイナ用無鉛フリット釉
の第２の特徴は、B2O3の含有量を０〜７％としたことで
ある。B2O3は媒溶剤であり釉を平滑化する効果を持つ
が、上記のように３〜10％のZnO を含有させた場合に
は、B2O3が７％を越えると釉の溶解性が過度となり、発
泡のおそれが生じるとともに耐薬品性が低下する。B2O3
の最も好ましい範囲は１〜７％である。
の第２の特徴は、B2O3の含有量を０〜７％としたことで
ある。B2O3は媒溶剤であり釉を平滑化する効果を持つ
が、上記のように３〜10％のZnO を含有させた場合に
は、B2O3が７％を越えると釉の溶解性が過度となり、発
泡のおそれが生じるとともに耐薬品性が低下する。B2O3
の最も好ましい範囲は１〜７％である。
【０００８】このように本発明のボーンチャイナ用無鉛
フリット釉は、鉛に代えて３〜10％のZnO を含有させ、
またB2O3の含有量を０〜７％としたことによって、溶融
性、光沢性、平滑性、耐急冷性、耐薬品性等の各特性を
バランスさせたものである。その他の成分の数値限定の
理由は、以下の通りである。
フリット釉は、鉛に代えて３〜10％のZnO を含有させ、
またB2O3の含有量を０〜７％としたことによって、溶融
性、光沢性、平滑性、耐急冷性、耐薬品性等の各特性を
バランスさせたものである。その他の成分の数値限定の
理由は、以下の通りである。
【０００９】まずSiO2は釉の骨格を形成する基本的な成
分であり、61％以上を必要とする。これは鉛に代えて用
いたZnO による耐薬品性の低下をカバーするためであ
り、SiO2が61％未満では耐薬品性及び耐急冷性が悪くな
る。逆にSiO2が73％を越えると釉が高粘性となり、平滑
な表面が得られなくなる。SiO2の最も好ましい範囲は67
〜72％である。
分であり、61％以上を必要とする。これは鉛に代えて用
いたZnO による耐薬品性の低下をカバーするためであ
り、SiO2が61％未満では耐薬品性及び耐急冷性が悪くな
る。逆にSiO2が73％を越えると釉が高粘性となり、平滑
な表面が得られなくなる。SiO2の最も好ましい範囲は67
〜72％である。
【００１０】Al2O3 は失透や乳濁を抑制すると同時に耐
酸性を向上させる成分であり、２％未満ではその効果が
不十分である。またSiO2を61〜73％と高めに設定したこ
とと関連して、Al2O3 が８％を越えると釉が高粘性とな
り、平滑な表面が得られなくなる。
酸性を向上させる成分であり、２％未満ではその効果が
不十分である。またSiO2を61〜73％と高めに設定したこ
とと関連して、Al2O3 が８％を越えると釉が高粘性とな
り、平滑な表面が得られなくなる。
【００１１】MgO 、CaO 、SrO 、BaO 等のアルカリ土類
金属酸化物は釉の溶融性を改善する成分であり、これら
のうち少なくとも１種以上が３〜10％の範囲で添加され
る。アルカリ土類金属酸化物が３％未満では釉が高粘性
となり、平滑な表面が得られなくなるが、10％を越える
と耐薬品性が低下するとともに失透や乳濁等により外観
が悪化する。
金属酸化物は釉の溶融性を改善する成分であり、これら
のうち少なくとも１種以上が３〜10％の範囲で添加され
る。アルカリ土類金属酸化物が３％未満では釉が高粘性
となり、平滑な表面が得られなくなるが、10％を越える
と耐薬品性が低下するとともに失透や乳濁等により外観
が悪化する。
【００１２】Li2O、Na2O、k2O 等のアルカリ金属酸化物
も釉の溶融性を改善する成分であり、これらのうち少な
くとも１種以上が７〜13％の範囲で添加される。７％未
満では釉が溶融しにくくなり、平滑な表面が得られなく
なるが、13％を越えると釉の熱膨張が大きくなり耐急冷
性が悪くなる。
も釉の溶融性を改善する成分であり、これらのうち少な
くとも１種以上が７〜13％の範囲で添加される。７％未
満では釉が溶融しにくくなり、平滑な表面が得られなく
なるが、13％を越えると釉の熱膨張が大きくなり耐急冷
性が悪くなる。
【００１３】ZrO2とTiO2はいずれも釉の耐薬品性を向上
させる成分であるが、本発明ではそれぞれ０〜３％、０
〜２％の範囲で添加できる。ZrO2は核形成剤としての機
能を有するため、３％を越えると平滑な表面が得られな
くなる。またTiO2は２％を越えると釉の着色が強くなっ
て高級感を失う原因となる。
させる成分であるが、本発明ではそれぞれ０〜３％、０
〜２％の範囲で添加できる。ZrO2は核形成剤としての機
能を有するため、３％を越えると平滑な表面が得られな
くなる。またTiO2は２％を越えると釉の着色が強くなっ
て高級感を失う原因となる。
【００１４】
【発明の実施形態】本発明のボーンチャイナ用無鉛フリ
ット釉は、上記のとおりSiO2：61〜73％、Al2O3 ：２〜
８％、B2O3：０〜７％、ZnO ：３〜10％、アルカリ土類
金属酸化物：３〜10％、アルカリ金属酸化物：７〜13
％、ZrO2：０〜３％、TiO2：０〜２％の組成範囲となる
ように、80重量％以上のフリットと20重量％以下のカオ
リン、粘土、珪石、長石等の生原料とを混合して製造さ
れる。このフリット釉は水に懸濁させてスリップとさ
れ、予め1200〜1300℃で焼成されたボーンチャイナの表
面にスプレー等の公知の手段によって施釉され、1120℃
程度の比較的低温で焼成される。
ット釉は、上記のとおりSiO2：61〜73％、Al2O3 ：２〜
８％、B2O3：０〜７％、ZnO ：３〜10％、アルカリ土類
金属酸化物：３〜10％、アルカリ金属酸化物：７〜13
％、ZrO2：０〜３％、TiO2：０〜２％の組成範囲となる
ように、80重量％以上のフリットと20重量％以下のカオ
リン、粘土、珪石、長石等の生原料とを混合して製造さ
れる。このフリット釉は水に懸濁させてスリップとさ
れ、予め1200〜1300℃で焼成されたボーンチャイナの表
面にスプレー等の公知の手段によって施釉され、1120℃
程度の比較的低温で焼成される。
【００１５】本発明のボーンチャイナ用無鉛フリット釉
は、鉛を含有しないにもかかわらず上記の各成分のバラ
ンスによって1120℃程度の低温で十分に溶融し、ボーン
チャイナの表面に光沢性および平滑性に優れた釉層を形
成する。またこの釉層は耐急冷性、耐薬品性にも優れた
実用的なものである。
は、鉛を含有しないにもかかわらず上記の各成分のバラ
ンスによって1120℃程度の低温で十分に溶融し、ボーン
チャイナの表面に光沢性および平滑性に優れた釉層を形
成する。またこの釉層は耐急冷性、耐薬品性にも優れた
実用的なものである。
【００１６】
【実施例】次の表１の組成となるように原料を調合し、
ボーンチャイナ用無鉛フリット釉を製造した。各フリッ
ト釉をボーンチャイナに施釉して1120℃で施釉して、表
面状態及び耐急冷性、耐薬品性を〇、△、×で評価し
た。
ボーンチャイナ用無鉛フリット釉を製造した。各フリッ
ト釉をボーンチャイナに施釉して1120℃で施釉して、表
面状態及び耐急冷性、耐薬品性を〇、△、×で評価し
た。
【表１】
【００１７】表１の比較例１は、B2O3が本発明の範囲を
越えるために発泡が生じ、また耐薬品性が悪くなってい
る。比較例２はZnO を含まないので、光沢性と平滑性が
悪くなっている。比較例３はZnO が本発明の範囲を越え
るため、平滑性以外の全ての特性が悪化している。これ
らに比較して、実施例１〜４では全ての特性が満足でき
るものであることが分かる。
越えるために発泡が生じ、また耐薬品性が悪くなってい
る。比較例２はZnO を含まないので、光沢性と平滑性が
悪くなっている。比較例３はZnO が本発明の範囲を越え
るため、平滑性以外の全ての特性が悪化している。これ
らに比較して、実施例１〜４では全ての特性が満足でき
るものであることが分かる。
【００１８】
【発明の効果】以上の説明及び実施例に示されるとお
り、本発明のボーンチャイナ用フリット釉は鉛に代えて
亜鉛を使用し、それに合わせて各成分を調整したことに
よって、鉛を含有することなく低温で溶融させることが
でき、しかも光沢性、平滑性、耐急冷性、耐薬品性等に
も優れる利点がある。
り、本発明のボーンチャイナ用フリット釉は鉛に代えて
亜鉛を使用し、それに合わせて各成分を調整したことに
よって、鉛を含有することなく低温で溶融させることが
でき、しかも光沢性、平滑性、耐急冷性、耐薬品性等に
も優れる利点がある。
Claims (2)
- 【請求項１】モル比で、SiO2：61〜73％、Al2O3 ：２〜
８％、B2O3：０〜７％、ZnO ：３〜10％、アルカリ土類
金属酸化物：３〜10％、アルカリ金属酸化物：７〜13
％、ZrO2：０〜３％、TiO2：０〜２％の組成を有するこ
とを特徴とするボーンチャイナ用無鉛フリット釉。 - 【請求項２】B2O3を１〜７％とした請求項１に記載のボ
ーンチャイナ用無鉛フリット釉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5448997A JPH10251082A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | ボーンチャイナ用無鉛フリット釉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5448997A JPH10251082A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | ボーンチャイナ用無鉛フリット釉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10251082A true JPH10251082A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=12972068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5448997A Pending JPH10251082A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | ボーンチャイナ用無鉛フリット釉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10251082A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006206430A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-10 | Schott Ag | ガラスまたはガラスセラミクスの施釉、ほうろう処理および加飾用の鉛フリーおよびカドミウムフリーガラス |
| JP2015020918A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-02 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 陶磁器用フリット釉 |
| JP2016108173A (ja) * | 2014-12-03 | 2016-06-20 | クラレノリタケデンタル株式会社 | ガラス材料及び歯科用補綴物 |
| CN106747660A (zh) * | 2015-11-20 | 2017-05-31 | 广东顺祥陶瓷有限公司 | 一种高锌硼熔块釉 |
| JP2020518549A (ja) * | 2017-05-05 | 2020-06-25 | チャイナ タバコ フゥベイ インダストリアル コーポレーション リミテッド | 複合セラミック噴霧器及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-03-10 JP JP5448997A patent/JPH10251082A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006206430A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-10 | Schott Ag | ガラスまたはガラスセラミクスの施釉、ほうろう処理および加飾用の鉛フリーおよびカドミウムフリーガラス |
| JP2015020918A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-02 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 陶磁器用フリット釉 |
| JP2016108173A (ja) * | 2014-12-03 | 2016-06-20 | クラレノリタケデンタル株式会社 | ガラス材料及び歯科用補綴物 |
| CN106747660A (zh) * | 2015-11-20 | 2017-05-31 | 广东顺祥陶瓷有限公司 | 一种高锌硼熔块釉 |
| JP2020518549A (ja) * | 2017-05-05 | 2020-06-25 | チャイナ タバコ フゥベイ インダストリアル コーポレーション リミテッド | 複合セラミック噴霧器及びその製造方法 |
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| A521 | Written amendment |
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