JPH1025213A - スルホンアミド誘導体とプレチラクロールを含有する除草性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】殺草スペクトルが広く、生育の進んだ雑草にも
有効で、かつ抑草効果が一定期間維持でき、水稲に安全
性の大きい薬剤を見出すこと。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 ［Ｒ¹ ＝Ｈ又はＣ２〜Ｃ５アルカノイル基、Ｒ² ＝Ｈ、
Ｃｌ等］のスルホンアミド誘導体と、２−クロロ−
２’，６’−ジエチル−Ｎ−（２−プロポキシエチル）
−アセトアニリドを含有する除草性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた除草活性を
有する新規な水田除草剤組成物に関する。更に詳しく
は、スルホンアミド誘導体とプレチラクロールを含有す
る水田除草性組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、水田除草剤として数多くの除草剤
が実用化され、単剤及び混合剤として広く一般に使用さ
れている。しかしながら、水田雑草は多種類におよび、
また各雑草の発芽、生育時期は一様ではなく、特に多年
生雑草の発生は長期におよぶ。そのため一回の除草剤散
布ですべての雑草を防除することは非常に困難である。
したがって除草剤としては、一年生雑草、多年生雑草を
含めた多くの種類の雑草を枯殺できる、すなわち殺草ス
ペクトルが広く、生育の進んだ雑草にも有効で、かつ抑
草効果が一定期間維持でき、水稲に安全性の大きい薬剤
の出現が最も要望されている。

【０００３】本発明の一方の有効成分である一般式
（Ｉ）

【０００４】

【化２】

【０００５】［式中、Ｒ¹ は水素原子又はＣ２〜Ｃ５ア
ルカノイル基を示し、Ｒ² は水素原子、塩素原子、メト
キシカルボニル基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ₃ ）ＣＨ₃ を
示す］で表わされるスルホンアミド誘導体［以下化合物
（Ｉ）と略す］は、新規化合物である。

【０００６】本発明の他の有効成分である２−クロロ−
２’，６’−ジエチル−Ｎ−（２−プロポキシエチル）
−アセトアニリド［以下化合物（Ａ）と略す］は一般名
プレチラクロールとして知られている公知除草活性化合
物である。

【０００７】化合物（Ｉ）は、水田において水稲に薬害
を及ぼすことなく、一年生イネ科雑草及び一年生、多年
生カヤツリグサ科雑草に対して効果を有する。しかしな
がら、雑草がある程度大きくなった時期に薬剤処理する
とその効果は低下し、特にノビエに対する効果は不充分
になる。また、広葉雑草に対して活性を有するが完全に
枯殺する薬量では水稲に薬害を生じる。

【０００８】一方、化合物（Ａ）は、ノビエ、一年生広
葉雑草及びホタルイに対して生育初期処理の効果が高い
が、生育が進んだ雑草に対しては効果が弱くなる。ま
た、多年生カヤツリグサ科雑草に対しては、実用上の除
草効果を示さない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、従来の
除草剤の上記問題点を改良する目的で、一回の散布で全
雑草を完全に防除し、しかも水稲に対して高度の安全性
を有し、人畜毒性の極めて低い安全な除草剤の検索を続
けた結果、前記した二種の有効成分を配合することによ
って、これらの問題点を改良した優れた除草剤が得られ
ることを見出し、本発明を完成した。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）

【００１１】

【化３】

【００１２】［式中、Ｒ¹ は水素原子又はＣ２〜Ｃ５ア
ルカノイル基を示し、Ｒ² は水素原子、塩素原子、メト
キシカルボニル基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ₃ ）ＣＨ₃ を
示す］で表わされるスルホンアミド誘導体及び、２−ク
ロロ−２’，６’−ジエチル−Ｎ−（２−プロポキシエ
チル）−アセトアニリドを有効成分として含有する除草
性組成物である。

【００１３】一般式（Ｉ）において、Ｃ２〜Ｃ５アルカ
ノイル基とは、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、シクロプロピルカルボニル、シクロ
ブチルカルボニルのような総炭素数１乃至４個の直鎖、
分枝鎖又は環状アルキル基にカルボニル基が結合した基
である。好適にはプロピオニル、ブチリル又はシクロブ
チルカルボニルであり、更に好適にはプロピオニルであ
る。

【００１４】一般式（Ｉ）で表される化合物において、
Ｒ¹ は、好適には水素原子、プロピオニル、ブチリル、
シクロブチルカルボニルであり、更に好適にはプロピオ
ニルである。

【００１５】Ｒ² は、好適には水素原子、塩素原子又は
式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ₃ ）ＣＨ₃ であり、更に好適には式
−Ｃ（＝ＮＯＣＨ₃ ）ＣＨ₃ である。

【００１６】である。

【００１７】化合物（Ｉ）の代表例を下記の表１に示す
が、一般式（Ｉ）で表わされる化合物はこれに限定され
るものではない。

【００１８】なお、表１においてＭｅはメチル基を、Ｅ
ｔはエチル基を、ｃＢｕはシクロブチル基を、それぞれ
示す。

【００１９】

【表１】

【００２０】

【化４】

【００２１】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 Ｒ¹ Ｒ² 融点（℃） ──────────────────────────────────── Ｉ−１ Ｈ Ｈ １３８〜１４０．５ Ｉ−２ ＣＯＥｔ Ｈ ８５〜８６ Ｉ−３ Ｈ Ｃｌ １５６．５〜１５９ Ｉ−４ ＣＯＥｔ Ｃｌ １１２〜１１５ Ｉ−５ Ｈ ＣＯＯＭｅ １０９〜１１０ Ｉ−６ ＣＯＥｔ ＣＯＯＭｅ オイル Ｉ−７ Ｈ Ｃ（＝ＮＯＭｅ）Ｍｅ アモルファス Ｉ−８ ＣＯＥｔ Ｃ（＝ＮＯＭｅ）Ｍｅ １２８〜１３０ Ｉ−９ ＣＯ−ｃＢｕ Ｃ（＝ＮＯＭｅ）Ｍｅ ９７〜９９ ──────────────────────────────────── 上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、１、
３、８番の化合物を挙げることができる。

【００２２】最も好適な化合物としては、８番の化合物
を挙げることができる。

【００２３】表１の化合物の、化合物番号、化合物名及
び核磁気共鳴スペクトルを以下に示す。なお、［NMR(20
0MHz,CDCl₃) δ(ppm) ］は、それぞれ省略する。

【００２４】化合物番号Ｉ−１Ｎ−［４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリ
フルオロメタンスルホンアミド 9.10(brs, 1H), 8.60(d, 2H, J=4.8Hz), 7.31(d, 2H, J
=8.0Hz), 7.15(d, 2H,J=8.0Hz), 7.12(t, 1H, J=4.8H
z). 化合物番号Ｉ−２Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［４−（２−ピリミジニルオキ
シ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.59(d, 2H, J=4.8Hz), 7.36(s, 4H), 7.12(t, 1H, J=
4.8Hz), 2.35(q, 2H, J=7.2Hz), 1.11(t, 3H, J=7.2H
z). 化合物番号Ｉ−３Ｎ−［２−クロロ−４−（２−ピリミジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.60(d, 2H, J=4.8Hz), 7.64(d, 1H, J=9.9Hz), 7.37
(d, 1H, J=2.6Hz), 7.20(dd, 1H, J=2.6, 9.9Hz), 7.13
(t, 1H ,J=4.8Hz). 化合物番号Ｉ−４Ｎ−［２−クロロ−４−（２−ピリミジニルオキシ）フ
ェニル］−Ｎ−プロピオニルトリフルオロメタンスルホ
ンアミド 8.61(d, 2H, J=4.8Hz), 7.50(d, 1H, J=2.5Hz), 7.41
(d, 1H, J=8.9Hz), 7.28(dd, 1H, J=2.5, 8.9Hz), 7.15
(t, 1H, J=4.8Hz), 2.35(q, 2H, J=7.2Hz), 1.14(t, 2
H, J=7.2Hz), 化合物番号Ｉ−５Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド 11.20(brs, 1H), 8.57(d, 2H, J=4.8Hz), 7.92(d, 1H,
J=2.9Hz), 7.82(d, 1H, J=9.1Hz), 7.43(dd, 1H, J=2.
9, 9.1Hz), 7.10(t, 1H, J=4.8Hz), 3.96(s, 3H). 化合物番号Ｉ−６Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］−Ｎ−プロピオニルトリフルオロ
メタンスルホンアミド 8.59(d, 2H, J=4.8Hz), 7.97(d, 1H, J=2.9Hz), 7.51(d
d, 1H, J=2.9, 8.6Hz), 7.38(d, 1H, J=8.6Hz), 7.13
(t, 1H, J=4.8Hz), 3.90(s, 3H), 2.48(q, 2H, J=7.2H
z), 1.14(t, 3H, J=7.2Hz). 化合物番号Ｉ−７Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド 11.81(brs, 1H), 8.58(d, 2H, J=4.8Hz), 7.75(d, 1H,
J=9.0Hz), 7.39(d, 1H, J=2.7Hz), 7.24(dd, 1H, J=9.
0, 2.7Hz), 7.09(t, 1H, J=4.8Hz), 4.05(s, 3H), 2.29
(s, 3H). 化合物番号Ｉ−８Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］−Ｎ−プロピオニルト
リフルオロメタンスルホンアミド 8.61(d, 2H, J=4.8Hz), 7.33-7.39(m, 3H), 7.14(t, 1
H, J=4.8Hz), 3.93(s,1H), 2.21-2.60(m, 2H), 2.19(s,
3H), 1.12(t, 3H, J=7.2Hz). 化合物番号Ｉ−９Ｎ−シクロブチルカルボニル−Ｎ−［２−（１−メトキ
シイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.60(d, 2H, J=5.0Hz), 7.35(m, 1H), 7.27(m, 2H), 7.
13(t, 1H, J=5.0Hz),3.87(s, 3H), 3.18(q, 1H, J=8.1H
z), 2.56(q, 1H, J=8.1Hz), 2.10-2.30(m, 1H), 2.16
(s, 3H), 1.75-1.96(m, 4H).

【００２５】

【発明の実施の形態】化合物（Ｉ）は、以下に記載する
方法によって製造することができる。

【００２６】

【化５】

【００２７】式中、Ｒ² は、前記と同意義を示し、Ｙ
は、ハロゲン原子又はメタンスルホニル基のような脱離
基を示し、Ｒ^1bは、Ｃ２〜Ｃ５アルカノイル基を示し、
Ｒ^2aは、水素原子、塩素原子、メトキシカルボニル基又
はアセチル基を示す。

【００２８】以下、これらの一般的製造方法について更
に詳しく説明する。

【００２９】（工程Ａ）本工程は、一般式（ＩＩＩ）で
表される化合物と、一般式（ＩＩ）で表される脱離基Ｙ
を有する化合物とを、溶媒の存在下又は非存在下、塩基
を用いる置換反応により、一般式（ＩＶａ）で表される
エーテル化合物を製造する工程である。

【００３０】本工程で用いられる塩基としては、例え
ば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジエチルイ
ソプロピルアミン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ
［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセンのような有機三級アミン類、
水素化ナトリウム、水素化カルシウム、ナトリウム、リ
チウム、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピル
アミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ナ
トリウムメトキシド、ｔ−ブトキシカリウムなどのアル
カリ金属塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類であ
り、好適には、水素化ナトリウムやリチウムビス（トリ
メチルシリル）アミド、炭酸カリウムである。

【００３１】塩基の使用量は、化合物（ＩＩ）に対して
通常１乃至２０倍当量、好適には１．２乃至５倍当量で
ある。

【００３２】反応は、好適には溶媒の存在下で行なわれ
る。

【００３３】使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発
物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、ト
ルエンのような炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレ
ンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テ
トラヒドロフランのようなエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類及びアセトニトリルのような
ニトリル類並びにこれらの溶媒の混合物等であり、好適
には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。

【００３４】反応温度は、通常−７０〜９０℃であり、
好適には、２０〜６０℃である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類
によって異なるが、通常１５分〜一昼夜であり、好適に
は、１５分〜４時間である。

【００３５】（工程Ｂ）本工程は、前記工程Ａにより製
造される化合物（ＩＶａ）のうち、Ｒ^2aがアセチル基で
ある化合物（ＩＶａ１）を、Ｏ−メチルヒドロキシルア
ミン若しくはそれらの塩（例えば、塩酸、硫酸、硝酸の
ような鉱酸との塩）と反応させることによって、アセチ
ル基を式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ₃ ）ＣＨ₃ で表わされる基に
変換した化合物（ＩＶｂ）を製造する工程である。

【００３６】反応は、通常は不活性溶媒中で行なわれ
る。

【００３７】使用される溶媒としては、例えば、ヘキサ
ン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレン、ｏ−ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエーテル類、メタ
ノール、エタノールのようなアルコール類、酢酸のよう
な脂肪酸類、水並びにこれらの混合溶媒等をあげること
ができる。

【００３８】反応温度は、好適には、１０℃〜６０℃で
ある。反応時間は、通常１時間〜３日間程度であり、好
適には、８時間〜１日間程度である。

【００３９】（工程Ｃ）本工程は、前記化合物（ＩＶ）
を原料として、溶媒の存在下及び反応助剤の存在下、ト
リフルオロメタンスルホン酸の反応性誘導体と反応する
ことにより、式（Ｉａ）で表される化合物を製造する工
程である。

【００４０】本工程に使用される反応助剤は、通常塩基
性の物が好ましい。

【００４１】そのような反応助剤は、例えば、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、ジエチルイソプロピルア
ミン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．
２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］
−７−ウンデセンのような有機三級アミン類や、水素化
ナトリウム、水素化カルシウム、ナトリウム、リチウ
ム、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ｔ−ブ
トキシカリウムなどのアルカリ金属塩基類、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムなどの無機塩基であり、好適には、トリエチルアミン
やピリジンなどの有機三級アミン類である。

【００４２】トリフルオロメタンスルホン酸の反応性誘
導体として適当なものは、例えば、酸ハロゲン化物や酸
無水物であり、好適には、酸クロライド、酸フルオライ
ド、酸無水物である。

【００４３】反応助剤の使用量は、化合物（ＩＶ）に対
して通常１〜２０倍当量、好適には、１．１〜２．５倍
当量であり、トリフルオロメタンスルホン酸の反応性誘
導体の使用量は、化合物（ＩＶ）に対して通常１〜２０
倍当量、好適には、１．１〜２．５倍当量である。

【００４４】反応は、好適には溶媒の存在下で行なわれ
る。

【００４５】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼ
ン、トルエンのような炭化水素類、クロロホルム、塩化
メチレンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミドのようなアミド類、ジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類及びアセトニトリルの
ようなニトリル類並びにこれらの溶媒の混合物であり、
更に好適には塩化メチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドである。

【００４６】反応温度は、通常−７０℃〜１５０℃であ
り、好適には、−２０℃〜４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常１５分〜一昼夜であ
り、好適には、１５分〜３時間である。

【００４７】本工程においては、通常、化合物（Ｉａ）
の他に一般式（Ｖａ）で表される化合物が同時に生成さ
れる。その比率は、反応条件、特に原料である化合物
（ＩＶ）の反応性及びトリフルオロメタンスルホン酸の
反応性誘導体の量と種類により大幅に変わりうる。

【００４８】例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無
水物を、化合物（ＩＶ）に対して１．０〜１．２当量用
いて、−２０℃〜０℃の低温で反応を行なえば、通常化
合物（Ｉａ）を主生成物として取得できる。一方、トリ
フルオロメタンスルホン酸無水物を、化合物（ＩＶ）に
対して２．５〜３．０当量用いて、室温で反応を行なえ
ば、通常化合物（Ｖａ）を主生成物として取得できる。

【００４９】化合物（Ｉａ）の取得を目的とする場合に
は、それ故、本工程の反応物（通常は、前述のとおり、
化合物（Ｉａ）と化合物（Ｖａ）の混合物）を、単離し
又は単離することなしに、後述する加水分解反応である
工程Ｄに付して、その全量を化合物（Ｉａ）とすること
ができる。化合物（Ｖａ）の取得を目的とする場合に
は、本工程の反応物を、カラムクロマトグラフィー等の
通常の精製方法で、分離・精製すればよい。

【００５０】（工程Ｄ）本工程は、前記工程Ｄの反応混
合物を単離し、又は単離することなく、本工程の加水分
解反応に付し、化合物（Ｉａ）を製造する工程である。

【００５１】加水分解反応は、塩基の存在下に溶媒中で
行なわれる。

【００５２】使用される塩基としては、酢酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムをあげることができる。

【００５３】溶媒は反応に関与しないものであれば、特
に限定はなく、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、２−
メトキシエチルエーテルのようなエーテル類及び水並び
にこれらの溶媒の混合物が使用される。

【００５４】反応温度及び反応時間に特に限定はなく、
通常−１０℃〜１００℃、好適には、０℃〜５０℃で、
３０分〜１５時間、好適には、３０分間〜８時間であ
る。

【００５５】（工程Ｅ）本工程は、一般式（Ｉａ）で表
される化合物を、一般式Ｒ^1bＯＨで表わされるカルボン
酸若しくはその反応性誘導体と反応させることによりア
ミド結合を形成し、一般式（Ｉｂ）で表される化合物を
製造する工程である。

【００５６】本工程は、化合物（Ｉａ）のスルホンアミ
ドのアミノ基とカルボン酸Ｒ^1bＯＨとのアミド化反応で
あって、それ故、アミド化反応としてそれ自体知られた
公知の方法によって行われる。

【００５７】カルボン酸Ｒ^1bＯＨの反応性誘導体として
は、例えば、酸ハライド（酸クロリド、酸ブロミド
等）、酸無水物、混合酸無水物、活性エステル（例え
ば、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニルエス
テル）、活性アミド等、アミド化に通常用いられるもの
が挙げられる。

【００５８】式Ｒ^1bＯＨのカルボン酸の酸ハライドを用
いる場合、反応は好適には、塩基の存在下で行われる。

【００５９】使用される塩基としては、例えば、トリエ
チルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４
−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ[
４．３．０] −５−ノネン（ＤＢＮ）又は１，８−ジア
ザビシクロ[ ５．４．０] −７−ウンデセン（ＤＢＵ）
のような有機塩基をあげることができる。

【００６０】カルボン酸Ｒ^1bＯＨの酸ハライドは、化合
物（Ｉａ）に対して通常１乃至２０当量、好適には、２
乃至１０当量、塩基は、通常１乃至２０当量、好適に
は、２乃至１０当量使用される。

【００６１】反応は、通常は不活性溶媒中で行なわれ
る。

【００６２】使用される溶媒としては、例えば、ヘキサ
ン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレン、ｏ−ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエーテル類、酢酸
エチルのようなエステル類等をあげることができる。

【００６３】反応温度は、通常０℃〜１００℃、好適に
は、２０℃〜６０℃である。反応時間は、通常３０分〜
３時間程度である。

【００６４】（工程Ｆ）本工程は、一般式（ＶＩ）で表
される化合物［本化合物は、上記の化合物（ＩＶａ１）
を原料として工程Ｃ、Ｄに準じて製造される］を原料と
して、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン若しくはそれらの
塩（例えば、塩酸、硫酸、硝酸のような鉱酸との塩）と
反応させることによって、化合物（Ｉａ１）を製造する
工程である。

【００６５】本工程は、工程Ｂと同様の方法により行な
うことができる。

【００６６】上記各工程の反応終了後、反応目的物は常
法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶剤を加え水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は、
必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿、ならびに
クロマトグラフィー等によって更に精製される。

【００６７】化合物（Ｉ）は、畑作の茎葉処理及び土壌
処理において問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズ
ラ、スベリヒユ、ハコベ、シロザ、アオゲイトウ、アメ
リカツノクサネム、エビスグサ、ノハラガラシ、ナズ
ナ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィールドパンジ
ー、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、ヒメオドリコソ
ウ、ホトケノザ、シロバナチョウセンアサガオ、イヌホ
オズキ、オオイヌノフグリ、イヌカミツレ、コーンマリ
ーゴールドのような広葉雑草；ヒエ、イヌビエ、エノコ
ログサ、メヒシバ、オヒシバ、スズメノカタビラ、ブラ
ックグラス、スズメノテッポウ、カラスムギ、セイバン
モロコシ、シバムギ、ウマノチャヒキ、ギョウギシバの
ようなイネ科雑草及びツユクサのようなツユクサ科雑
草；コゴメガヤツリ、ハマスゲのようなカヤツリグサ科
雑草等の種々の雑草に対して、除草活性を示し、かつ、
トウモロコシ、コムギ、ダイズのような主要作物に対し
て問題となるような薬害を示さない。

【００６８】又、化合物（Ｉ）は、水田において問題と
なる種々の雑草、例えば、タイヌビエのようなイネ科雑
草；タマガヤツリ、ホタルイ、マツバイ、ミズガヤツリ
のようなカヤツリグサ科雑草等に対して除草活性を示
し、かつ、イネに対しては問題となる薬害を示さない。

【００６９】更に、畑地、水田のみならず、果樹園、桑
園、非農耕地においても使用することができる。

【００７０】本発明の相乗効果は広い範囲の混合比で認
められ、化合物（Ｉ）１重量部に対して、化合物（Ａ）
を、０．１〜１０重量部の割合で混合して、有用な除草
剤を作成することができる。このようにして完成された
本発明除草剤は、雑草の発芽前及び発芽後に土壌処理す
ることにより高い除草効果が得られる。

【００７１】本発明混合剤は、原体そのものを散布して
もよいし、担体及び必要に応じて他の補助剤と混合し
て、除草剤として通常用いられる製剤形態、たとえば粉
剤、粗粉剤、微粒剤、粒剤、水和剤、乳剤、水性懸濁
剤、顆粒水和剤、油懸濁剤、水田投げ込み剤等に調製さ
れて使用される。

【００７２】本発明混合剤を調製するのに使用する適当
な固体担体としては、カオリナイト群、パリロフィライ
ト群、モンモリロナイト群あるいはアタパルジャイト群
等で代表されるクレー類、タルク、雲母、葉ロウ石、軽
石、バーミキュライト、石こう、炭酸カルシウム、ドロ
マイト、けいそう土、マグネシウム石灰、りん灰石、ゼ
オライト、無水ケイ酸、合成ケイ酸カルシウム等の無機
物質、大豆粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、で
んぷん、結晶セルロース等の植物性有機物質、クマロン
樹脂、石油樹脂、アルキド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ
アルキレングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、コ
ーバルガム、ダンマルガム等の合成または天然の高分子
化合物、カルナバロウ、蜜ロウ等のワックス類、あるい
は尿素、塩化カリウム、硫酸アンモニウム等の水溶性無
機物質があげられる。

【００７３】適当な液体担体としては、ケロシン、鉱
油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィン系も
しくはナフテン系炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、クメン、メチルナフタリン等の
芳香族炭化水素、四塩化炭素、クロロホルム、トリクロ
ロエチレン、モノクロロベンゼン、Ｏ−クロロトルエン
等の塩素化炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン
のようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、
ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノ
ン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸アミ
ル、エチレングリコールアセテート、ジエチレングリコ
ールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチ
ル等のエステル類、メタノール、ｎ−ヘキサノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキ
サノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、エチ
レングリコールエチルエーテル、エチレングリコールフ
ェニルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールブチルエーテル等のエーテル
アルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等の極性溶媒あるいは水等があげられる。

【００７４】乳化、分散、湿潤、拡展、結合、崩壊性調
整、有効成分安定化、流動性改良、防錆等の目的で使用
される界面活性剤は、非イオン性、陰イオン性、陽イオ
ン性及び両性イオン性のいずれのものをも使用しうる
が、通常は非イオン性及び（または）陰イオン性のもの
が使用される。適当な非イオン性界面活性剤としては、
たとえば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコー
ル、オレイルアルコール等の高級アルコールにエチレン
オキシドを重合付加させたもの、オクチルフェノール、
ノニルフェノール等のアルキルフェノールにエチレンオ
キシドを重合付加させたもの、スチリルフェノール、ス
チリルクレゾール等のアリールフェノールにエチレンオ
キシドを重合付加させたもの、ブチルナフトール、オク
チルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオキ
シドを重合付加させたもの、パルミチン酸、ステアリン
酸、 オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを重
合付加させたもの、これらのノニオン系界面活性剤とリ
ン酸とのモノエステル、ジエステル、トリエステルの混
合物又は硫酸エステル及びそれらの塩、ドデシルアミ
ン、ステアリン酸アミド等のアミンにエチレンオキシド
を重合付加させたもの、ソルビタン等の多価アルコール
の高級脂肪酸エステルおよびそれにエチレンオキシドを
重合付加させたもの、エチレンオキシドとプロピレンオ
キシドを重合付加させたもの等があげられる。適当な陰
イオン性界面活性剤としては、たとえば、ラウリル硫酸
ナトリウム、オレイルアルコール硫酸エステルアミン塩
等のアルキル硫酸エステル塩、スルホこはく酸ジオクチ
ルエステルナトリウム、イソプロピルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、メチレンビスナフタレンスルホン酸ナ
トリウム、リグニンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム等のアリールスルホン酸塩
等があげられる。

【００７５】さらに本発明の混合剤には製剤の性状を改
善し、生物効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、
アルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメ
チルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や
他の補助剤を併用することもできる。

【００７６】上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤
型、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独
にあるいは組合わせて適宜使用される。

【００７７】粉剤や粗粉剤は、たとえば有効成分化合物
を通常０．１乃至２５重量部含有し、残部は固体担体で
ある。

【００７８】水和剤や顆粒水和剤は、たとえば有効成分
化合物を通常１乃至９０重量部含有し、残部は固体担
体、分散湿潤剤であって、必要に応じて保護コロイド
剤、チキソトロピー剤、消泡剤が加えられる。これらの
製剤は、水に投入して撹拌すると水中に懸濁分散する。

【００７９】粒剤や微粒剤は、たとえば有効成分化合物
を通常０．１乃至３５重量部含有し、残部は大部分が固
体担体である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合
されているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着も
しくは吸着されており、粒の径は約０．２乃至１．５ｍ
ｍ程度である。

【００８０】乳剤は、たとえば有効成分化合物を通常１
乃至７０重量部含有しており、これに約５乃至２０重量
部の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要に応
じて防錆剤等のその他の補助剤が加えられる。

【００８１】水性懸濁剤や油懸濁剤は、水または高沸点
の有機溶剤中に、有効成分を適当な界面活性剤を用いて
懸濁または乳化分散させたもので、必要に応じて増粘剤
等を添加して経時安定性を保つようにする。

【００８２】水田投げ込み剤は有効成分を、適当な剤
型、例えば、粉剤、粒剤、錠剤、乳剤、塊錠剤等に製剤
し、必要があれば、これらを水溶性のフィルムまたは容
器に分包としたもので、使用に際してはこれらをそのま
ま水田中に数個から数百個ばらまき使用する。

【００８３】

【実施例】以下、本発明について製剤例及び参考例を示
し更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限られるも
のではない。

【００８４】

【製剤例１】（水性懸濁剤） ニューコール２９１ＰＧ（日本乳化剤（株）製、アニオ
ン界面活性剤）１．０部を精製水７５．０部に均一に分
散させた中に、化合物（Ｉ）−１を２４．０部加え、懸
濁させた。得られた懸濁液をダイノミルＫＤＬ型（シン
マルエンタープライゼス社製、ビーズミル）により、直
径１ｍｍのガラスビーズを用いて粉砕し、平均粒子径
２．５μｍの懸濁液を得た。別に、化合物（Ａ）１６．
０部と下記配合乳化剤５．０部を予め混合した液を精製
水７９．０部中に流し込み軽く撹拌した後、デイスパミ
ル（ホソカワミクロン（株）製、乳化機）により細かく
乳化させた。さらに別に、ロードポール２３（ローヌプ
ーラン（株）製、キサンタンガム）０．２部及びビーガ
ムＲ（三洋化成（株）製、ケイ酸アルミニウム・マグネ
シウム）２．０部を精製水９７．８部に分散させ、増粘
剤液を得た。先に粉砕した懸濁液２５．０部に乳化液２
５．０部、増粘液剤３５．０部、及びプロピレングリコ
ール１５．０部を順次加え、撹拌混合して化合物（Ｉ）
−１を６．０％、化合物（Ａ）を４．０％含有する水性
懸濁剤を得た。

【００８５】 ［配合乳化剤］ ニューコール５６４Ｈ（日本乳化剤（株）製、ノニオン界面活性剤） １部 ニューコール７０４ （日本乳化剤（株）製、ノニオン界面活性剤） １部 ニューコール７１０ （日本乳化剤（株）製、ノニオン界面活性剤） ３部

【００８６】

【製剤例２】（粒剤） 化合物（Ｉ）−１を３．０部、炭酸カルシウム粉末（足
立石灰（株）製、カルフィン６００）７１．３部、ベン
トナイト粉末（豊順鉱業（株）製、穂高印）２０．０
部、アミコールＮｏ．１（日澱化学工業（株）製、デキ
ストリン）１．５部を混合し、エックサンプルミル（不
二パウダル（株）製、ハンマーミル）により、スクリー
ン径１ｍｍ、供給速度６ｋｇ／ｈｒの条件で２回粉砕し
た。粉砕品９５．８部をナウタミキサー（ホソカワミク
ロン（株）製、円錐混合機）に仕込み、混合しながら、
トキサノンＧＲ３１Ａ（三洋化成工業（株）、分散剤、
４０％水溶液）５．０部、ニューコール２９１ＰＧ０．
２部、水１１．０部の混合液を加えて練合した。練合物
をエックペレッタ−ＥＸ−１型（不二パウダル（株）
製、押し出し造粒機）を用い、開口径０．８ｍｍのスク
リーンより押し出し造粒した。送風棚型乾燥機を用いて
６０℃で乾燥した後、開口径１．０００ｍｍと０．５０
０ｍｍの篩を用いて整粒した。得られた粒剤９８．０部
をナウタミキサーに秤り取り、撹拌しながら化合物
（Ａ）２．０部を注入し、十分に混合した。得られた粒
剤は、化合物（Ｉ）−１を３．０％、化合物（Ａ）を
２．０％それぞれ含有する。

【００８７】

【製剤例３】（水和剤） 化合物（Ａ）１０．０部と製剤例１の配合乳化剤１．０
部を混合し、化合物（Ａ）のプレミックスを得た。この
プレミックス１１．０部と、カープレックス＃８０（塩
野義製薬（株）製、合成シリカ）２５．０部とをよく混
合し、次いで、化合物（Ｉ）−１を１５．０部、ネオゲ
ンパウダー（第一工業製薬（株）製、湿潤剤）３．０
部、ラベリンＦＡＮ（第一工業製薬（株）製、分散剤）
１０．０部、ゴーセノールＧＬ−０５Ｓ（日本合成
（株）製、ポリビニルアルコール）３．０部、及びジー
クライト（ジークライト鉱業（株）製、カオリナイトク
レー）を混合して全量を１００．０部とし、ジェットオ
ーマイザー０１０１型（セイシン企業（株）製、ジェッ
トミル）により空気圧６〜７ｋｇ／ｃｍ³ 、供給速度３
ｋｇ／ｈｒで粉砕し、化合物（Ｉ）−１を１５．０％、
化合物（Ａ）を１０．０％含有する水和剤を得た。

【００８８】

【参考例】以下に、化合物（Ｉ）の製造方法の具体例を
参考例として示す。

【００８９】

【参考例１】 ［工程Ａ］２−（４−アミノ−３−メトキシカルボニルフェノキ
シ）ピリミジン ４−アミノ−３−メトキシカルボニルフェノール（５．
４ｇ，３２．３ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ，１２ｍｌ）とトルエン（１００ｍｌ）の混合溶液
に、アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム（１．９ｇ，
４７．４ｍｍｏｌ；６０％純度）を加え、１５分間撹拌
した。ついで、２−クロロピリミジン（３．６９ｇ，３
２．２ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で１時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り、目的物７．２８ｇ（９１％）を得た。

【００９０】核磁気共鳴スペクトル(200MHz)δ(CDCl₃)p
pm:8.54(d, 2H, J=4.8Hz), 7.69(d,1H, J=2.8Hz), 7.12
(dd, 1H, J=2.8, 8.8Hz), 7.00(t, 1H, J=4.8Hz), 6.70
(d,1H, J=8.8Hz) 5.71(brs, 2H), 3.83(s, 3H).

【００９１】

【参考例２】 ［工程Ｂ］２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−ピリミ
ジニルオキシ）アニリン ジオキサン（２ｍｌ），メタノール（２ｍｌ）及び水
（１．２ｍｌ）の混合溶液に、参考例１の方法に準じて
製造された２−アセチル−４−（２−ピリミジニルオキ
シ）アニリン（２３２ｍｇ，１．０１ｍｍｏｌ）とＯ−
メチルヒドロキシルアミン塩酸塩（１７１ｍｇ，２．０
５ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で２４時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮して、２−（１−メトキシイミノエチル）−４
−（２−ピリミジニルオキシ）アニリンの粗生成物を２
３６ｍｇ（９０％）得た。

【００９２】

【参考例３】 ［工程Ｃ］２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニ
ル）アミノ−３−メトキシカルボニルフェノキシ］ピリ
ミジン 及びＮ−［２−メトキシカルボニル−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号Ｉ−５） 参考例１の方法で得た２−（４−アミノ−３−メトキシ
カルボニルフェノキシ）ピリミジン（７．２８ｇ，２
９．７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、氷冷下、トリ
エチルアミン（１２．４ｍｌ）と無水トリフルオロメタ
ンスルホン酸（１２．４ｍｌ）を順次加え、１時間撹拌
した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥し、濃縮して、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフ
ルオロメタンスルホニル）アミノ−３−メトキシカルボ
ニルフェノキシ］ピリミジンと、Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミドの混合物の粗生成物
を３０．０ｇ得た。

【００９３】

【参考例４】 ［工程Ｃ］２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニ
ル）アミノ−３−（１−メトキシイミノエチル）フェノ
キシ］ピリミジン 及びＮ−［２−（１−メトキシイミノ
エチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド（化合物番号Ｉ−
７） 参考例２の方法で得た２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）アニリンの粗生
成物（２３６ｍｇ）の塩化メチレン溶液に、氷冷下、ト
リエチルアミン（０．３７ｍｌ）と無水トリフルオロメ
タンスルホン酸（０．３７ｍｌ）を順次加え、１時間撹
拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濃縮して、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリ
フルオロメタンスルホニル）アミノ−３−（１−メトキ
シイミノエチル）フェノキシ］ピリミジンと、Ｎ−［２
−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−ピリミジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミドの混合物の粗生成物を０．３０ｇ得た。

【００９４】

【参考例５】 ［工程Ｃ］Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号Ｉ−７） 参考例２の方法で得た２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）アニリンの粗生
成物（１０３ｍｇ）とトリエチルアミン（６１μｌ）の
塩化メチレン溶液に、アルゴン雰囲気下、−２０℃で、
無水トリフルオロメタンスルホン酸（７２μｌ）を加
え、１時間撹拌した。反応終了後、反応液を直接、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り、目的物１３９ｍｇ（８９％）を得た。

【００９５】

【参考例６】 ［工程Ｃと工程Ｅ］Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエ
チル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド（化合物番号Ｉ−８） 参考例２の方法で得た２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）アニリンの粗生
成物（１．０１ｇ）とトリエチルアミン（０．５９ｍ
ｌ）の塩化メチレン溶液に、アルゴン雰囲気下、−２０
℃で、無水トリフルオロメタンスルホン酸（０．７０ｍ
ｌ）を加え、１時間撹拌した。さらに−２０℃で、トリ
エチルアミン（０．９７ｍｌ）と、プロピオニルクロリ
ド（０．６７ｍｌ）を順次加えた。その後、室温にて１
２時間撹拌した。反応終了後、反応液を直接、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目
的物１．３８ｇ（７９％）を得た。

【００９６】

【参考例７】 ［工程Ｄ］Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド（化合物番号Ｉ−５） 上記参考例３で得られた粗生成混合物３０．０ｇのテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液に、３規定の水酸化ナト
リウム水溶液を加え、室温で一時間撹拌した。反応終了
後、反応液を水にあけ、希塩酸でｐＨを７に調整した
後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸マグネシウム
で乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーで精製して、５．７２ｇ（５１％）の目的物を得
た。

【００９７】

【参考例８】 ［工程Ｄ］Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号Ｉ−７） 上記参考例４で得た粗生成混合物（０．３０ｇ）のＴＨ
Ｆ（１０ｍｌ）−水（５ｍｌ）の混合溶液に、炭酸カリ
ウム（０．２０ｇ）を加え、室温で一時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、希塩酸でｐＨを７に調整
した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して、０．１１ｇ（４０％）の目
的物を得た。

【００９８】

【参考例９】 ［工程Ｅ］Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４
−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロ
メタンスルホンアミド（化合物番号Ｉ−６） 上記参考例７で得られたＮ−［２−メトキシカルボニル
−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド（０．１４ｇ，０．３７ｍｍ
ｏｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃でトリエチルアミン
（１．０３ｍｌ）とプロピオニルクロリド（０．５１ｍ
ｌ）を加え、１時間撹拌した。反応終了後、反応液を水
にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１Ｎ塩酸と飽
和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、０．１０ｇ（６２％）の目的物を得た。

【００９９】

【参考例１０】 ［工程Ｅ］Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエ
チル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド（化合物番号Ｉ−８） 上記参考例８で得られたＮ−［２−（１−メトキシイミ
ノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニ
ル］トリフルオロメタンスルホンアミド（６６ｍｇ，
０．１７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃でトリ
エチルアミン（３６μｌ）とプロピオニルクロリド（３
１μｌ）を加え、１時間撹拌した。反応終了後、反応液
を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１Ｎ塩酸
と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。
濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製して、５８ｍｇ（７７％）の目的物を得た。

【０１００】

【参考例１１】 ［工程Ｆ］Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号Ｉ−７） ジオキサン（２ｍｌ）、メタノール（２ｍｌ）及び水
（１．２ｍｌ）の混合溶液に、参考例３の方法に準じて
製造されたＮ−［２−アセチル−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド（１０３ｍｇ，０．２８５ｍｍｏｌ）とＯ−メチルヒ
ドロキシルアミン塩酸塩（４８ｍｇ，０．５７ｍｍｏ
ｌ）を順次加え、室温で２４時間撹拌した。反応終了
後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、目的物を７０ｍｇ（６３％）得た。

【０１０１】

【発明の効果】化合物（Ｉ）及び化合物（Ａ）を混合施
用すると、各単剤で得られていた適用範囲を越えて殺草
幅が拡大され、その殺草幅はイネ科、一年生広葉雑草お
よびホタルイ、ミズガヤツリ等の多年生雑草全般にまで
およぶ。更に、水稲に対する安全性を損なうことなくそ
の散布適期幅は拡大できる。また、本除草剤組成物は、
その除草効果において相乗作用を示し、単剤使用薬量よ
りはるかに低薬量同志の混合で充分その効果を発揮す
る。その結果、一回処理剤として充分な程に殺草効力の
増大が計られ、その効力持続性は長期におよぶ。また、
水稲に対して薬害がなく、移植前および移植直後の処理
も可能である。

【０１０２】

【試験例】次に本発明の効果をさらに具体的に示すため
に、生物試験例を挙げて説明する。

【０１０３】

【試験例１】移植後湛水土壌処理 １／５０００ａのワグネルポットに水田土壌を充填し、
休眠覚醒したタイヌビエ、ホタルイ及び一年生広葉雑草
（アゼナ、キカシグサ）の種子を表層１ｃｍに混和し
た。また休眠覚醒したミズガヤツリの塊茎を植え、さら
に２．２葉期の水稲の苗を移植して湛水状態とし温室内
で生育させた。移植３日後に、製剤例３に準じて調製し
た水和剤の所定薬量を水に希釈して、湛水土壌処理し、
２５日後に下記判定基準に従って除草効果及び移植水稲
に対する薬害を判定し、その結果を表２に示した。表２
において、ＥＯはタイヌビエを、ＢＬは広葉雑草を、Ｓ
Ｊはホタルイを、ＣＳはミズガヤツリを、ＯＳは移植水
稲を、それぞれ示す。

【０１０４】判定基準 ０：生育抑制率 ０〜 ５％ １：生育抑制率 ６〜１５％ ２：生育抑制率 １６〜２５％ ３：生育抑制率 ２６〜３５％ ４：生育抑制率 ３６〜４５％ ５：生育抑制率 ４６〜５５％ ６：生育抑制率 ５６〜６５％ ７：生育抑制率 ６６〜７５％ ８：生育抑制率 ７６〜８５％ ９：生育抑制率 ８６〜９５％ １０：生育抑制率 ９６〜１００％

【０１０５】

【表２】 ──────────────────────────────────── 化合物番号［施用量(g/a) ］ ＥＯ ＢＬ ＳＪ ＣＳ ＯＳ ──────────────────────────────────── Ｉ−１［３］＋Ａ［２］ １０ １０ １０ １０ ０ Ｉ−３［３］＋Ａ［２］ １０ １０ １０ １０ ０ Ｉ−８［１．５］＋Ａ［２］ １０ １０ １０ １０ ０ Ｉ−１［６］ １０ ３ １０ １０ ０ ［３］ １０ ２ １０ １０ ０ Ｉ−３［６］ １０ ５ １０ １０ ０ ［３］ １０ ３ １０ １０ ０ Ｉ−８［３］ １０ ３ １０ １０ ０ ［１．５］ ９ ２ １０ １０ ０ Ａ［４］ １０ １０ ８ ６ ０ ［２］ １０ １０ ４ ４ ０ ────────────────────────────────────

【０１０６】

【試験例２】移植後生育期湛水土壌処理 １／５０００ａのワグネルポットに水田土壌を充填し、
休眠覚醒したタイヌビエ及びホタルイの種子を表層１ｃ
ｍに混和した。また休眠覚醒したミズガヤツリの塊茎を
植え、さらに２．２葉期の水稲の苗を移植して湛水状態
とし温室内で生育させた。ヒエが２葉期の時期に、製剤
例３に準じて調製した水和剤の所定薬量を水に希釈し
て、湛水土壌処理し、薬剤処理後２５日目に除草効果及
び移植水稲に対する薬害を試験例１と同様に判定した。
その結果を表３に示した。表３においてＥＯはタイヌビ
エを、ＳＪはホタルイを、ＣＳはミズガヤツリを、ＯＳ
は移植水稲を、それぞれ示す。

【０１０７】

【表３】 ──────────────────────────────────── 化合物番号［施用量(g/a) ］ ＥＯ ＳＪ ＣＳ ＯＳ ──────────────────────────────────── Ｉ−１［３］＋Ａ［２］ １０ １０ ９ ０ Ｉ−３［３］＋Ａ［２］ １０ １０ ９ ０ Ｉ−８［１．５］＋Ａ［２］ ９ １０ ９ ０ Ｉ−１［６］ １０ １０ ９ ０ ［３］ ６ ９ ８ ０ Ｉ−３［６］ １０ １０ ９ ０ ［３］ ７ ９ ８ ０ Ｉ−８［３］ ９ １０ ９ ０ ［１．５］ ４ ８ ７ ０ Ａ［４］ ８ ６ ２ ０ ［２］ ４ ２ ０ ０ ──────────────────────────────────── 表２、３に示す結果から明らかなように、本発明の除草
剤組成物は移植水稲に対して薬害を示すことなく、広範
囲な雑草の防除に有効であり、特にタイヌビエ、ホタル
イ、ミズガヤツリに対して顕著な相乗的効果を示した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小井 清 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内 (72)発明者 門谷 淳二 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ¹ は水素原子又はＣ２〜Ｃ５アルカノイル基
   を示し、Ｒ² は水素原子、塩素原子、メトキシカルボニ
   ル基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ₃ ）ＣＨ₃ を示す］で表わ
   されるスルホンアミド誘導体及び、２−クロロ−２’，
   ６’−ジエチル−Ｎ−（２−プロポキシエチル）−アセ
   トアニリドを有効成分として含有する除草性組成物。
2. 【請求項２】一般式（Ｉ）において、Ｒ¹ が水素原子又
   はプロピオニル基であり、Ｒ² が水素原子、塩素原子又
   は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ₃ ）ＣＨ₃ である、請求項１に記
   載の除草性組成物。