JPH10253967A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH10253967A JPH10253967A JP5320097A JP5320097A JPH10253967A JP H10253967 A JPH10253967 A JP H10253967A JP 5320097 A JP5320097 A JP 5320097A JP 5320097 A JP5320097 A JP 5320097A JP H10253967 A JPH10253967 A JP H10253967A
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- Japan
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- liquid crystal
- substrate
- crystal display
- columnar spacer
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 柱状スペーサの設置により、画素の開口率を
減じることなく基板間に均一なギャップを得、表示むら
がなく良好な表示が達成される液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置では、ＴＦＴアレ
イ基板において、保護膜５により覆われていない走査線
１上の段差部１ａ、あるいは走査線１上のＴＦＴ３に極
めて近接した位置に、段差の高さに相当する高さの突起
６が設けられており、このような突起６により段差が解
消され平坦化された領域に、各色着色層の積層により対
向基板に形成された柱状スペーサ７が設置されている。
なお突起６は、例えばＴＦＴを構成する層の少なくとも
一層により形成することができる。
減じることなく基板間に均一なギャップを得、表示むら
がなく良好な表示が達成される液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置では、ＴＦＴアレ
イ基板において、保護膜５により覆われていない走査線
１上の段差部１ａ、あるいは走査線１上のＴＦＴ３に極
めて近接した位置に、段差の高さに相当する高さの突起
６が設けられており、このような突起６により段差が解
消され平坦化された領域に、各色着色層の積層により対
向基板に形成された柱状スペーサ７が設置されている。
なお突起６は、例えばＴＦＴを構成する層の少なくとも
一層により形成することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
わり、特にアクティブマトリクス型の液晶表示装置に関
する。
わり、特にアクティブマトリクス型の液晶表示装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピューターを中心とする情報
機器およびテレビを中心とする映像機器の分野におい
て、大型、高精細なアクティブマトリクス型の液晶表示
装置が開発されている。
機器およびテレビを中心とする映像機器の分野におい
て、大型、高精細なアクティブマトリクス型の液晶表示
装置が開発されている。
【０００３】近年アクティブマトリクス型液晶表示装置
では、アレイ基板と対向基板との間隙を一定に保つため
の間隙材（スペーサ）として、プラスチックビースに代
わり柱状のスペーサが用いられている。すなわち、プラ
スチックビーズ周辺の光漏れによるコントラストの低下
と散布むらに起因する表示むらを解消するために、対向
基板側に複数の色の着色層を積層することにより柱状の
スペーサを形成し、このスペーサにより基板間の間隙を
一定に保つことが行なわれている。
では、アレイ基板と対向基板との間隙を一定に保つため
の間隙材（スペーサ）として、プラスチックビースに代
わり柱状のスペーサが用いられている。すなわち、プラ
スチックビーズ周辺の光漏れによるコントラストの低下
と散布むらに起因する表示むらを解消するために、対向
基板側に複数の色の着色層を積層することにより柱状の
スペーサを形成し、このスペーサにより基板間の間隙を
一定に保つことが行なわれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような柱状スペー
サを用いた液晶表示装置において、画素の開口率を向上
させるためには、スペーサを走査線上に設置することが
好ましいが、スペーサの設置位置によっては、アレイ基
板の主面（対向面）に存在する段差の影響で、基板間隔
（セルギャップ）を均一に制御することができないとい
う問題があった。
サを用いた液晶表示装置において、画素の開口率を向上
させるためには、スペーサを走査線上に設置することが
好ましいが、スペーサの設置位置によっては、アレイ基
板の主面（対向面）に存在する段差の影響で、基板間隔
（セルギャップ）を均一に制御することができないとい
う問題があった。
【０００５】例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）アレ
イ基板では、歩留まり改善のために、走査線上に絶縁性
保護膜により覆われていない部分が存在するが、このよ
うな部分に柱状スペーサが設置された場合には、保護膜
の有無に起因して生じる段差により、セルギャップにむ
らを生じやすく、良好な表示が得られなかった。
イ基板では、歩留まり改善のために、走査線上に絶縁性
保護膜により覆われていない部分が存在するが、このよ
うな部分に柱状スペーサが設置された場合には、保護膜
の有無に起因して生じる段差により、セルギャップにむ
らを生じやすく、良好な表示が得られなかった。
【０００６】本発明は、これらの問題を解決するために
なされたもので、着色層からなる柱状スペーサの設置に
より、画素の開口率を減じることなく基板間に均一なギ
ャップが得られ、表示むらがなく良好な画質の表示が達
成される液晶表示装置を提供することを目的とする。
なされたもので、着色層からなる柱状スペーサの設置に
より、画素の開口率を減じることなく基板間に均一なギ
ャップが得られ、表示むらがなく良好な画質の表示が達
成される液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、絶縁基板上に複数本の走査線と複数本の信号線とが
それぞれ交差するように形成され、各交差部にスイッチ
ング素子が設けられた第１の基板と、絶縁基板上に対向
電極が形成された第２の基板と、前記第１の基板と第２
の基板との間隙を保つために設置された柱状スペーサ
と、前記第１の基板と第２の基板との間に挟持された液
晶層とを備え、前記第１の基板の前記柱状スペーサが設
置される領域内に段差を有する液晶表示装置において、
前記段差の低部に、該段差を低減する高さを有する少な
くとも一個の突起が形成され、該突起の上面および前記
段差の高部の上面に、前記柱状スペーサの端面が当接さ
れることを特徴とする。
は、絶縁基板上に複数本の走査線と複数本の信号線とが
それぞれ交差するように形成され、各交差部にスイッチ
ング素子が設けられた第１の基板と、絶縁基板上に対向
電極が形成された第２の基板と、前記第１の基板と第２
の基板との間隙を保つために設置された柱状スペーサ
と、前記第１の基板と第２の基板との間に挟持された液
晶層とを備え、前記第１の基板の前記柱状スペーサが設
置される領域内に段差を有する液晶表示装置において、
前記段差の低部に、該段差を低減する高さを有する少な
くとも一個の突起が形成され、該突起の上面および前記
段差の高部の上面に、前記柱状スペーサの端面が当接さ
れることを特徴とする。
【０００８】本発明において、２枚の基板間の間隙を保
つための柱状スペーサは、通常、異なる複数の色の層
（着色層）を積層することにより、第２の基板（対向基
板）上に突出形成され、その上に対向電極が形成され
る。そして、各着色層の厚さ（高さ）や積層順を変える
ことにより、柱状スペーサ全体の高さを自由に変えるこ
とができ、さらに一定の積層順とすることにより、安定
した高さを有する柱状スペーサを形成することができ
る。
つための柱状スペーサは、通常、異なる複数の色の層
（着色層）を積層することにより、第２の基板（対向基
板）上に突出形成され、その上に対向電極が形成され
る。そして、各着色層の厚さ（高さ）や積層順を変える
ことにより、柱状スペーサ全体の高さを自由に変えるこ
とができ、さらに一定の積層順とすることにより、安定
した高さを有する柱状スペーサを形成することができ
る。
【０００９】本発明において、第１の基板（アレイ基
板）の段差の低い部分に設けられる突起は、同じ高さの
層の構成する材料により、同層の形成と同時に積層形成
することが望ましい。特に、スイッチング素子としてＴ
ＦＴが設けられ、このＴＦＴに近接する例えば走査線上
に突起を設ける場合には、ＴＦＴを構成する複数の層の
少なくとも一層により、突起を形成することが望まし
い。
板）の段差の低い部分に設けられる突起は、同じ高さの
層の構成する材料により、同層の形成と同時に積層形成
することが望ましい。特に、スイッチング素子としてＴ
ＦＴが設けられ、このＴＦＴに近接する例えば走査線上
に突起を設ける場合には、ＴＦＴを構成する複数の層の
少なくとも一層により、突起を形成することが望まし
い。
【００１０】また、このような突起は、段差の高低差を
解消し、柱状スペーサが設置される領域を平坦化するに
必要かつ十分な高さを有するものとし、１個または複数
個をアレイ基板上の非開口部に設けることが望ましい。
解消し、柱状スペーサが設置される領域を平坦化するに
必要かつ十分な高さを有するものとし、１個または複数
個をアレイ基板上の非開口部に設けることが望ましい。
【００１１】本発明の液晶表示装置では、第１の基板
（アレイ基板）側において、柱状スペーサが設置される
非開口領域内の段差部に、段差の高さに応じた高さを有
する突起が形成され、この突起の上面および段差の上部
に当接するように、柱状スペーサが設置されるので、セ
ルギャップむらが解消される。したがって、セルギャッ
プむらに起因する表示むらがなくなり、歩留まりが向上
する。また、このような突起の形成により段差部が平坦
化されるため、開口率を下げることなく柱状スペーサの
設置領域を確保することができ、柱状スペーサを最適位
置に設置することができる。
（アレイ基板）側において、柱状スペーサが設置される
非開口領域内の段差部に、段差の高さに応じた高さを有
する突起が形成され、この突起の上面および段差の上部
に当接するように、柱状スペーサが設置されるので、セ
ルギャップむらが解消される。したがって、セルギャッ
プむらに起因する表示むらがなくなり、歩留まりが向上
する。また、このような突起の形成により段差部が平坦
化されるため、開口率を下げることなく柱状スペーサの
設置領域を確保することができ、柱状スペーサを最適位
置に設置することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００１３】図１は、本発明の液晶表示装置の一実施例
において、ＴＦＴアレイ基板と対向基板とを組合わせて
得られる液晶セルを対向基板側から透視した平面図を示
す。また図２は、図１における柱状スペーサ設置部のＡ
−Ａ線に沿った断面図を示し、図３は、図１におけるＴ
ＦＴ部のＢ−Ｂ線に沿った断面図を示す。
において、ＴＦＴアレイ基板と対向基板とを組合わせて
得られる液晶セルを対向基板側から透視した平面図を示
す。また図２は、図１における柱状スペーサ設置部のＡ
−Ａ線に沿った断面図を示し、図３は、図１におけるＴ
ＦＴ部のＢ−Ｂ線に沿った断面図を示す。
【００１４】まず、実施例の液晶表示装置に使用するＴ
ＦＴアレイ基板の概略を説明する。このＴＦＴアレイ基
板は、図１に示すように、絶縁基板上に複数本の走査線
１と信号線２とが交差して形成され、その交差した各区
画の画素ごとに、スイッチング素子としてＴＦＴ３が形
成されている。そして、各画素において、ＴＦＴ３のゲ
ート電極とドレイン電極は、それぞれ走査線１および信
号線２に突出して一体に形成されており、ソース電極は
画素電極４に接続されている。さらに、走査線１上の所
定の一部１ａを除いて、走査線１と信号線２およびＴＦ
Ｔ３の上には、絶縁性の保護膜５が連接して形成されて
おり、このような保護膜５により覆われていない走査線
１上の一部１ａには段差が形成されている。またさら
に、この段差の低い部分には、段差の高さに相当する高
さを有する突起６が設けられ、この突起６を含む走査線
１上の領域内に柱状スペーサ７が設置されている。
ＦＴアレイ基板の概略を説明する。このＴＦＴアレイ基
板は、図１に示すように、絶縁基板上に複数本の走査線
１と信号線２とが交差して形成され、その交差した各区
画の画素ごとに、スイッチング素子としてＴＦＴ３が形
成されている。そして、各画素において、ＴＦＴ３のゲ
ート電極とドレイン電極は、それぞれ走査線１および信
号線２に突出して一体に形成されており、ソース電極は
画素電極４に接続されている。さらに、走査線１上の所
定の一部１ａを除いて、走査線１と信号線２およびＴＦ
Ｔ３の上には、絶縁性の保護膜５が連接して形成されて
おり、このような保護膜５により覆われていない走査線
１上の一部１ａには段差が形成されている。またさら
に、この段差の低い部分には、段差の高さに相当する高
さを有する突起６が設けられ、この突起６を含む走査線
１上の領域内に柱状スペーサ７が設置されている。
【００１５】このようなＴＦＴアレイ基板の構造を、さ
らに詳細に説明する。
らに詳細に説明する。
【００１６】実施例の液晶表示装置のＴＦＴアレイ基板
では、図２および図３にそれぞれ示すように、ガラス基
板のような透明な絶縁基板８上に、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔ
ａ、Ｔｉ等の金属からなる走査線１とゲート電極９とが
一体的に形成され、それらの上に、酸化シリコン等から
なるゲート絶縁膜１０が形成されている。そして、この
ゲート絶縁膜１０上に、インジウム・ティン・オキサイ
ド（ＩＴＯ）等の透明材料からなる画素電極４が形成さ
れている。また、ゲート電極９の上方のゲート絶縁膜１
０上に、ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）のような半
導体層１１と低抵抗半導体層（コンタクト層）１２、お
よびチッ化ケイ素等からなるエッチング保護膜１３が順
に設けられており、さらに低抵抗半導体層１２に接続し
てドレイン電極１４と島状のソース電極１５とが、それ
ぞれ信号線２と同層に形成され、チャネル保護型のＴＦ
Ｔ３が形成されている。また、走査線１上の所定の一部
１ａには、ＴＦＴ３を構成する半導体層１１とエッチン
グ保護膜１３とが島状に積層され、小サイズ（例えば15
μm ×15μm ）の突起６が形成されている。さらに、こ
の突起６の周囲の領域を除き、走査線１と信号線２およ
びＴＦＴ３の上には、絶縁性の保護膜５が被覆形成され
ており、さらにその上にはポリイミド等からなる配向膜
（図示を省略。）が塗布され、ラビングによる配向処理
がなされている。
では、図２および図３にそれぞれ示すように、ガラス基
板のような透明な絶縁基板８上に、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔ
ａ、Ｔｉ等の金属からなる走査線１とゲート電極９とが
一体的に形成され、それらの上に、酸化シリコン等から
なるゲート絶縁膜１０が形成されている。そして、この
ゲート絶縁膜１０上に、インジウム・ティン・オキサイ
ド（ＩＴＯ）等の透明材料からなる画素電極４が形成さ
れている。また、ゲート電極９の上方のゲート絶縁膜１
０上に、ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）のような半
導体層１１と低抵抗半導体層（コンタクト層）１２、お
よびチッ化ケイ素等からなるエッチング保護膜１３が順
に設けられており、さらに低抵抗半導体層１２に接続し
てドレイン電極１４と島状のソース電極１５とが、それ
ぞれ信号線２と同層に形成され、チャネル保護型のＴＦ
Ｔ３が形成されている。また、走査線１上の所定の一部
１ａには、ＴＦＴ３を構成する半導体層１１とエッチン
グ保護膜１３とが島状に積層され、小サイズ（例えば15
μm ×15μm ）の突起６が形成されている。さらに、こ
の突起６の周囲の領域を除き、走査線１と信号線２およ
びＴＦＴ３の上には、絶縁性の保護膜５が被覆形成され
ており、さらにその上にはポリイミド等からなる配向膜
（図示を省略。）が塗布され、ラビングによる配向処理
がなされている。
【００１７】一方、対向基板側においては、ガラス基板
のような透明な絶縁基板８上に遮光層（ブラックマトリ
クス）１６が形成され、またＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、
Ｂ（青色）の各着色層を所定のパターンで形成すること
により、カラーフィルタ（図示を省略。）が形成されて
いる。そして、カラーフィルタの形成において、赤色着
色層１７Ｒ、緑色着色層１７Ｇおよび青色着色層１７Ｂ
を、それぞれ遮光層１６上の所定の位置に順に積層形成
することにより、例えば15μm ×30μm の柱状のスペー
サ７が形成されている。
のような透明な絶縁基板８上に遮光層（ブラックマトリ
クス）１６が形成され、またＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、
Ｂ（青色）の各着色層を所定のパターンで形成すること
により、カラーフィルタ（図示を省略。）が形成されて
いる。そして、カラーフィルタの形成において、赤色着
色層１７Ｒ、緑色着色層１７Ｇおよび青色着色層１７Ｂ
を、それぞれ遮光層１６上の所定の位置に順に積層形成
することにより、例えば15μm ×30μm の柱状のスペー
サ７が形成されている。
【００１８】ここで、遮光層１６とカラーフィルタの形
成、並びに柱状スペーサ７の形成は、例えば以下に示す
方法で行なわれる。まず、絶縁基板８上に、感光性の黒
色樹脂を塗布し、露光・現像・焼成を順に行なうことに
より遮光層１６を形成した後、赤色の顔料を分散させた
紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを塗布し、露光・現
像・焼成を順に行なって赤色の着色層を形成する。この
とき遮光層１６上の所定の位置にも、同様な方法で赤色
の着色層１７Ｒを形成し、赤色スペーサ部を形成する。
次いで、緑色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル
樹脂レジストにより、同様にして緑色の着色層を形成
し、同時に先に形成された赤色スペーサ部の上にも緑色
の着色層１７Ｇを積層して、赤色−緑色積層スペーサ部
を形成し、さらに、青色の顔料を分散させた紫外線硬化
型アクリル樹脂レジストにより、青色の着色層を形成す
ると同時に、先に形成された赤色−緑色積層スペーサ部
の上にも青色の着色層１７Ｂを積層して、赤色−緑色−
青色の３色の着色層が順に積層された柱状スペーサ７を
形成する。
成、並びに柱状スペーサ７の形成は、例えば以下に示す
方法で行なわれる。まず、絶縁基板８上に、感光性の黒
色樹脂を塗布し、露光・現像・焼成を順に行なうことに
より遮光層１６を形成した後、赤色の顔料を分散させた
紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを塗布し、露光・現
像・焼成を順に行なって赤色の着色層を形成する。この
とき遮光層１６上の所定の位置にも、同様な方法で赤色
の着色層１７Ｒを形成し、赤色スペーサ部を形成する。
次いで、緑色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル
樹脂レジストにより、同様にして緑色の着色層を形成
し、同時に先に形成された赤色スペーサ部の上にも緑色
の着色層１７Ｇを積層して、赤色−緑色積層スペーサ部
を形成し、さらに、青色の顔料を分散させた紫外線硬化
型アクリル樹脂レジストにより、青色の着色層を形成す
ると同時に、先に形成された赤色−緑色積層スペーサ部
の上にも青色の着色層１７Ｂを積層して、赤色−緑色−
青色の３色の着色層が順に積層された柱状スペーサ７を
形成する。
【００１９】さらに、こうして形成されたカラーフィル
タ上には、ＩＴＯからなる対向電極（図示を省略。）が
形成され、さらにその上にポリイミドからなる配向膜
（図示を省略。）が塗布形成されて、ラビングによる配
向処理がなされている。そして、このような対向基板と
前記したＴＦＴアレイ基板とが、配向膜が形成された面
を内側にし、かつ対向基板側に突出形成された柱状スペ
ーサ７がＴＦＴアレイ基板側の突起６が形成された走査
線１上の段差領域に設置されるように、対向配置されて
おり、これらの基板間にＴＮ液晶のような液晶組成物１
８が挟持されている。
タ上には、ＩＴＯからなる対向電極（図示を省略。）が
形成され、さらにその上にポリイミドからなる配向膜
（図示を省略。）が塗布形成されて、ラビングによる配
向処理がなされている。そして、このような対向基板と
前記したＴＦＴアレイ基板とが、配向膜が形成された面
を内側にし、かつ対向基板側に突出形成された柱状スペ
ーサ７がＴＦＴアレイ基板側の突起６が形成された走査
線１上の段差領域に設置されるように、対向配置されて
おり、これらの基板間にＴＮ液晶のような液晶組成物１
８が挟持されている。
【００２０】このように構成される実施例の液晶表示装
置においては、ＴＦＴアレイ基板の走査線１上の段差の
低部に突起６が形成され、この突起６により平坦化され
た領域に柱状スペーサ７が設置されているので、基板間
に均一なギャップを得ることができる。したがって、表
示むらがなくなり、良好な画質の表示を達成することが
できる。また、開口率を低下させることなく柱状スペー
サ７を設置することができる領域が拡大する。
置においては、ＴＦＴアレイ基板の走査線１上の段差の
低部に突起６が形成され、この突起６により平坦化され
た領域に柱状スペーサ７が設置されているので、基板間
に均一なギャップを得ることができる。したがって、表
示むらがなくなり、良好な画質の表示を達成することが
できる。また、開口率を低下させることなく柱状スペー
サ７を設置することができる領域が拡大する。
【００２１】次に、本発明の液晶表示装置の別の実施例
を、図４乃至図６に基づいて説明する。なお、これらの
図において、図１乃至図３と同一の部分には同一の符号
を付して説明を省略する。
を、図４乃至図６に基づいて説明する。なお、これらの
図において、図１乃至図３と同一の部分には同一の符号
を付して説明を省略する。
【００２２】この実施例の液晶表示装置では、ＴＦＴア
レイ基板において、ＴＦＴ３に極めて近接した走査線１
上の位置に、ａ−Ｓｉからなる半導体層１１とエッチン
グ保護膜１３、および信号線２と同じ金属層１９が順に
島状に積層され、例えば15μm ×20μm のサイズの突起
６が形成されており、さらにその上に絶縁性の保護膜５
が被覆形成されている。
レイ基板において、ＴＦＴ３に極めて近接した走査線１
上の位置に、ａ−Ｓｉからなる半導体層１１とエッチン
グ保護膜１３、および信号線２と同じ金属層１９が順に
島状に積層され、例えば15μm ×20μm のサイズの突起
６が形成されており、さらにその上に絶縁性の保護膜５
が被覆形成されている。
【００２３】一方、対向基板側では、前記実施例と同様
に、絶縁基板８上に形成された遮光層１６上に、赤色着
色層１７Ｒ、緑色着色層１７Ｇおよび青色着色層１７Ｂ
をそれぞれ順に積層することにより、例えば20μm ×40
μm のサイズの柱状スペーサ７が形成されている。そし
て、このような対向基板と前記したＴＦＴアレイ基板と
が、対向基板側に形成された柱状スペーサ７が、ＴＦＴ
アレイ基板側のＴＦＴ３および走査線１上に形成された
突起６を含む段差領域に設置されるように、対向配置さ
れている。すなわち、柱状スペーサ７の先端面が、保護
膜５を介してＴＦＴ３の上面および突起６の上面に当接
されるように、対向基板とＴＦＴアレイ基板とが対向配
置され、これらの基板間にＴＮ液晶のような液晶組成物
１８が挟持されている。
に、絶縁基板８上に形成された遮光層１６上に、赤色着
色層１７Ｒ、緑色着色層１７Ｇおよび青色着色層１７Ｂ
をそれぞれ順に積層することにより、例えば20μm ×40
μm のサイズの柱状スペーサ７が形成されている。そし
て、このような対向基板と前記したＴＦＴアレイ基板と
が、対向基板側に形成された柱状スペーサ７が、ＴＦＴ
アレイ基板側のＴＦＴ３および走査線１上に形成された
突起６を含む段差領域に設置されるように、対向配置さ
れている。すなわち、柱状スペーサ７の先端面が、保護
膜５を介してＴＦＴ３の上面および突起６の上面に当接
されるように、対向基板とＴＦＴアレイ基板とが対向配
置され、これらの基板間にＴＮ液晶のような液晶組成物
１８が挟持されている。
【００２４】このような実施例の液晶表示装置において
は、柱状スペーサ７が設置されるＴＦＴ３を含む領域の
段差が突起６により平坦化されているため、基板間に均
一なギャップを得ることができ、表示むらのない良好な
表示を得ることができる。また、前記した実施例に比べ
て、開口率を下げることなく、ＴＦＴ３とそれに近接す
る走査線１上の段差領域により大きなサイズ（断面積）
の柱状スペーサ７を設置することができるので、パネル
の強度をさらに向上させることができる。なお、この第
二の実施例においては、ＴＦＴ３に近接する走査線１上
に突起６を形成したが、ＴＦＴ３に近接する信号線２上
に突起６を形成し、その突起６とＴＦＴ３を含む段差領
域に柱状スペーサ７を設置しても、同様な効果を上げる
ことができる。
は、柱状スペーサ７が設置されるＴＦＴ３を含む領域の
段差が突起６により平坦化されているため、基板間に均
一なギャップを得ることができ、表示むらのない良好な
表示を得ることができる。また、前記した実施例に比べ
て、開口率を下げることなく、ＴＦＴ３とそれに近接す
る走査線１上の段差領域により大きなサイズ（断面積）
の柱状スペーサ７を設置することができるので、パネル
の強度をさらに向上させることができる。なお、この第
二の実施例においては、ＴＦＴ３に近接する走査線１上
に突起６を形成したが、ＴＦＴ３に近接する信号線２上
に突起６を形成し、その突起６とＴＦＴ３を含む段差領
域に柱状スペーサ７を設置しても、同様な効果を上げる
ことができる。
【００２５】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の液晶表示装置においては、アレイ基板の柱状スペーサ
が設置される非開口領域内の段差部に、段差の高さに応
じた突起が設けられ、段差が解消され平坦化されている
ので、開口率を下げることなく均一なセルギャップを得
ることができる。したがって、セルギャップむらに起因
する表示むらがなくなり、高輝度で良好な表示を得るこ
とができる。
の液晶表示装置においては、アレイ基板の柱状スペーサ
が設置される非開口領域内の段差部に、段差の高さに応
じた突起が設けられ、段差が解消され平坦化されている
ので、開口率を下げることなく均一なセルギャップを得
ることができる。したがって、セルギャップむらに起因
する表示むらがなくなり、高輝度で良好な表示を得るこ
とができる。
【００２６】また、柱状スペーサの設置可能な平坦な領
域が拡大し、設計の自由度も広がるため、最適設計によ
り高性能、低コストの液晶表示装置を得ることができ
る。
域が拡大し、設計の自由度も広がるため、最適設計によ
り高性能、低コストの液晶表示装置を得ることができ
る。
【図１】本発明の液晶表示装置の一実施例において、液
晶セルを対向基板側から透視した平面図。
晶セルを対向基板側から透視した平面図。
【図２】図１における柱状スペーサ設置部のＡ−Ａ線に
沿った断面図。
沿った断面図。
【図３】図１におけるＴＦＴ部のＢ−Ｂ線に沿った断面
図。
図。
【図４】本発明の液晶表示装置の別の実施例において、
液晶セルを対向基板側から透視した平面図。
液晶セルを対向基板側から透視した平面図。
【図５】図４における柱状スペーサ設置部のＡ−Ａ線に
沿った断面図。
沿った断面図。
【図６】図４におけるＴＦＴ部のＢ−Ｂ線に沿った断面
図。
図。
１………走査線 ２………信号線 ３………ＴＦΤ ４………画素電極 ５………絶縁性保護膜 ６………突起 ７………柱状スペーサ ８………絶縁基板 ９………ゲート電極 １０………ゲート絶縁膜 １１………半導体層 １２………低抵抗半導体層、 １３………エッチング保護膜層、 １４………ドレイン電極 １５………ソース電極 １６………遮光層 １７Ｒ………赤色着色層 １７Ｇ………緑色着色層 １７Ｂ………青色着色層 １８………液晶組成物 １９………金属層
Claims (3)
- 【請求項１】 絶縁基板上に複数本の走査線と複数本の
信号線とがそれぞれ交差するように形成され、各交差部
にスイッチング素子が設けられた第１の基板と、絶縁基
板上に対向電極が形成された第２の基板と、前記第１の
基板と第２の基板との間隙を保つために設置された柱状
スペーサと、前記第１の基板と第２の基板との間に挟持
された液晶層とを備え、前記第１の基板の前記柱状スペ
ーサが設置される領域内に段差を有する液晶表示装置に
おいて、 前記段差の低部に、該段差を低減する高さを有する少な
くとも一個の突起が形成され、該突起の上面および前記
段差の高部の上面に、前記柱状スペーサの端面が当接さ
れることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 前記柱状スペーサが設置される前記第１
の基板の領域が、前記スイッチング素子を含む領域であ
り、このスイッチング素子に近接する前記走査線上に前
記突起が形成されていることを特徴とする請求項１記載
の液晶表示装置。 - 【請求項３】 前記スイッチング素子が薄膜トランジス
タであり、前記突起が該薄膜トランジスタを構成する層
の少なくとも一層により形成されていることを特徴とす
る請求項２記載の液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5320097A JPH10253967A (ja) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5320097A JPH10253967A (ja) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10253967A true JPH10253967A (ja) | 1998-09-25 |
Family
ID=12936242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5320097A Withdrawn JPH10253967A (ja) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10253967A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100421274B1 (ko) * | 1999-10-26 | 2004-03-11 | 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 | 리지/슬릿 프리틸트, 포스트 스페이서 및 댐 구조를구비한 광범위 가시각 액정 및 그 제조 방법 |
| KR20040040086A (ko) * | 2002-11-06 | 2004-05-12 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 기판 및 액정 표시 장치 |
| KR100833926B1 (ko) | 2005-12-07 | 2008-05-30 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 디스플레이의 제조 방법, 디스플레이, 및 전자 기기 |
| JP2010237503A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
| WO2012124699A1 (ja) * | 2011-03-17 | 2012-09-20 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
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| US8405813B2 (en) | 2003-10-27 | 2013-03-26 | Hitachi Displays, Ltd. | Liquid crystal display device |
-
1997
- 1997-03-07 JP JP5320097A patent/JPH10253967A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
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| US9575378B2 (en) | 2003-10-27 | 2017-02-21 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device |
| US10054826B2 (en) | 2003-10-27 | 2018-08-21 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device |
| US10371991B2 (en) | 2003-10-27 | 2019-08-06 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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