JPH10255676A - シャドウマスクおよびシャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクおよびシャドウマスクの製造方法Info
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- JPH10255676A JPH10255676A JP7086397A JP7086397A JPH10255676A JP H10255676 A JPH10255676 A JP H10255676A JP 7086397 A JP7086397 A JP 7086397A JP 7086397 A JP7086397 A JP 7086397A JP H10255676 A JPH10255676 A JP H10255676A
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- JP
- Japan
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- shadow mask
- grill
- thickness
- mask
- peripheral portion
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精度の微細加工ができるシャドウマスクの
提供する。特に、スリットタイプのシャドウマスクで、
ＣＲＴへ組み込むためのフレームへシャドウマスクを固
定する際のテンションにより、グリルの根本において、
切断が発生しずらく、マスク周辺部の強度が十分で、高
精度であるマスクを提供する。 【解決手段】 カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用
いられるスリットタイプのシャドウマスクであって、開
孔領域の外周部のグリルの根本部をシャドウマスク素材
の厚さとし、グリルの他の部分をシャドウマスクの素材
の厚さより薄くしている。
提供する。特に、スリットタイプのシャドウマスクで、
ＣＲＴへ組み込むためのフレームへシャドウマスクを固
定する際のテンションにより、グリルの根本において、
切断が発生しずらく、マスク周辺部の強度が十分で、高
精度であるマスクを提供する。 【解決手段】 カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用
いられるスリットタイプのシャドウマスクであって、開
孔領域の外周部のグリルの根本部をシャドウマスク素材
の厚さとし、グリルの他の部分をシャドウマスクの素材
の厚さより薄くしている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，カラー陰極線管
（ＣＲＴ）の色選別に用いられるシドウマスクに関す
る。
（ＣＲＴ）の色選別に用いられるシドウマスクに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用
いられるシャドウマスクは、高い解像性の要求に対し、
当初はシャドウマスク自体の高精度な加工にて対応して
きたが、近年、シャドウマスクを陰極線管（ＣＲＴ）に
組み込み色選別に用いた際の、電子ビームによる熱膨張
による色ズレが無視できないことが認識され、シャドウ
マスクの素材として低膨張のインバー材を使用したり、
シヤドウマスクのフレームへの固定に際してシャドウマ
スクにテンションをかけて用いるスリットタイプのもの
が採用されるようになってきた。スリットタイプのシャ
ドウマスクは、通常、図５に示すような形状をしてお
り、エッチング加工により作製されている。尚、図５
（ａ）は全体の概略図で、図５（ｂ）は図１（ａ）の点
線丸部Ｃ０を拡大して示した図であり、図５（ｃ）
（イ）、図５（ｃ）（ロ）は、それぞれ図５（ｂ）のＣ
１−Ｃ２、Ｃ５−Ｃ６における断面を示した図である。
いられるシャドウマスクは、高い解像性の要求に対し、
当初はシャドウマスク自体の高精度な加工にて対応して
きたが、近年、シャドウマスクを陰極線管（ＣＲＴ）に
組み込み色選別に用いた際の、電子ビームによる熱膨張
による色ズレが無視できないことが認識され、シャドウ
マスクの素材として低膨張のインバー材を使用したり、
シヤドウマスクのフレームへの固定に際してシャドウマ
スクにテンションをかけて用いるスリットタイプのもの
が採用されるようになってきた。スリットタイプのシャ
ドウマスクは、通常、図５に示すような形状をしてお
り、エッチング加工により作製されている。尚、図５
（ａ）は全体の概略図で、図５（ｂ）は図１（ａ）の点
線丸部Ｃ０を拡大して示した図であり、図５（ｃ）
（イ）、図５（ｃ）（ロ）は、それぞれ図５（ｂ）のＣ
１−Ｃ２、Ｃ５−Ｃ６における断面を示した図である。
【０００３】このスリットタイプのシャドウマスクの、
カラー陰極線管（ＣＲＴ）への組み込みのためのフレー
ムによる固定方法としては、熱膨張を利用したものと、
フレーム加圧によるものが知られている。熱膨張を利用
したものは、ゼニス社のＦＴＭ（Ｆｌａｔ Ｔｅｎｓｉ
ｏｎ Ｍａｓｋ）と言われるもので、２５μｍ程度の厚
さをもつ金属製のスリットタイプのシャドウマスクとセ
ラミックフレームの熱膨張差を利用して、高温中に組立
て、常温で、金属の収縮に伴ってテンションがかかるよ
うにしたものである。また、フレーム加圧によるもの
は、１００μｍ程度の厚さを持つスリットタイプのシャ
ドウマスク（アパーチャグリルとも言う）を用いたもの
で、オタイコと呼ばれるＲ面をもつフレームとこれにマ
スクを介して嵌合するフレームとを用い、Ｒ面上にマス
クを挾み（チャッキング）、テンションを付与し、フレ
ーム位置決めによるＲ成形後、フレーム加圧を行い、マ
スクをこの加圧されたフレームに溶接固定するものであ
る。
カラー陰極線管（ＣＲＴ）への組み込みのためのフレー
ムによる固定方法としては、熱膨張を利用したものと、
フレーム加圧によるものが知られている。熱膨張を利用
したものは、ゼニス社のＦＴＭ（Ｆｌａｔ Ｔｅｎｓｉ
ｏｎ Ｍａｓｋ）と言われるもので、２５μｍ程度の厚
さをもつ金属製のスリットタイプのシャドウマスクとセ
ラミックフレームの熱膨張差を利用して、高温中に組立
て、常温で、金属の収縮に伴ってテンションがかかるよ
うにしたものである。また、フレーム加圧によるもの
は、１００μｍ程度の厚さを持つスリットタイプのシャ
ドウマスク（アパーチャグリルとも言う）を用いたもの
で、オタイコと呼ばれるＲ面をもつフレームとこれにマ
スクを介して嵌合するフレームとを用い、Ｒ面上にマス
クを挾み（チャッキング）、テンションを付与し、フレ
ーム位置決めによるＲ成形後、フレーム加圧を行い、マ
スクをこの加圧されたフレームに溶接固定するものであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】これら、スリットタイ
プのシャドウマスクにおいては、更に薄板化すること
が、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の高い解像性の要求から
求められているが、薄板化に伴い、スリットタイプのシ
ャドウマスクにおいては、フレームに固定する際のテン
ションにより、薄板化に伴い、グリルの根本において、
切断が発生し易いすくなると言う問題や、マスクの周辺
部において破損が発生すると言う問題が表面化してきた
ため、この対応が求められていた。本発明は、このよう
な状況のもと、特に、スリットタイプのシャドウマスク
であって、マスクの微細化を達成し、マスクをフレーム
に固定する際のテンションにより、グリルの根本におい
て、切断が発生しずらく、且つ、マスクの周辺において
も十分な強度を持つマスクを提供しようとするものであ
る。同時に、その製造方法を提供しようとするものであ
る。
プのシャドウマスクにおいては、更に薄板化すること
が、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の高い解像性の要求から
求められているが、薄板化に伴い、スリットタイプのシ
ャドウマスクにおいては、フレームに固定する際のテン
ションにより、薄板化に伴い、グリルの根本において、
切断が発生し易いすくなると言う問題や、マスクの周辺
部において破損が発生すると言う問題が表面化してきた
ため、この対応が求められていた。本発明は、このよう
な状況のもと、特に、スリットタイプのシャドウマスク
であって、マスクの微細化を達成し、マスクをフレーム
に固定する際のテンションにより、グリルの根本におい
て、切断が発生しずらく、且つ、マスクの周辺において
も十分な強度を持つマスクを提供しようとするものであ
る。同時に、その製造方法を提供しようとするものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のシャドウマスク
は、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるシ
ャドウマスクであって、開孔領域でないマスクの周辺
部、または開孔領域でないマスクの周辺部と開孔領域の
外周部とをシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、これ
以外の開孔領域をシャドウマスクの素材の厚さより薄く
したことを特徴とするものである。そして、上記におい
て、シャドウマスクがスリットタイプであることを特徴
とするものであり、開孔領域の外周部のグリルの根本部
をシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、グリルの他の
部分をシャドウマスクの素材の厚さより薄くしたことを
特徴とするものである。
は、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるシ
ャドウマスクであって、開孔領域でないマスクの周辺
部、または開孔領域でないマスクの周辺部と開孔領域の
外周部とをシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、これ
以外の開孔領域をシャドウマスクの素材の厚さより薄く
したことを特徴とするものである。そして、上記におい
て、シャドウマスクがスリットタイプであることを特徴
とするものであり、開孔領域の外周部のグリルの根本部
をシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、グリルの他の
部分をシャドウマスクの素材の厚さより薄くしたことを
特徴とするものである。
【０００６】本発明のシャドウマスクの製造方法は、カ
ラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるシャドウ
マスクで、開孔領域でないマスクの周辺部、または開孔
領域でないマスクの周辺部と開孔領域の外周部とをシャ
ドウマスク素材の厚さとし、且つ、これ以外の開孔領域
をシャドウマスクの素材の厚さより薄くしたシャドウマ
スクの製造方法であって、２段エッチング加工とハーフ
エッチング加工とを併用したことを特徴とするものであ
る。そして、上記において、シャドウマスクがスリット
タイプのシャドウマスクで、開孔領域の外周部のグリル
の根本部をシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、グリ
ルの他の部分をシャドウマスクの素材の厚さより薄く形
成することを特徴とするものである。尚、上記において
開孔領域とは、スリット等の電子線を透過させる孔を設
けた領域を言う。
ラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるシャドウ
マスクで、開孔領域でないマスクの周辺部、または開孔
領域でないマスクの周辺部と開孔領域の外周部とをシャ
ドウマスク素材の厚さとし、且つ、これ以外の開孔領域
をシャドウマスクの素材の厚さより薄くしたシャドウマ
スクの製造方法であって、２段エッチング加工とハーフ
エッチング加工とを併用したことを特徴とするものであ
る。そして、上記において、シャドウマスクがスリット
タイプのシャドウマスクで、開孔領域の外周部のグリル
の根本部をシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、グリ
ルの他の部分をシャドウマスクの素材の厚さより薄く形
成することを特徴とするものである。尚、上記において
開孔領域とは、スリット等の電子線を透過させる孔を設
けた領域を言う。
【０００７】
【作用】本発明のシャドウマスクは、上記のように構成
することにより、高精度の微細加工ができるシャドウマ
スクの提供を可能とするものであり、特に、スリットタ
イプのシャドウマスクにおいては、ＣＲＴへ組み込むた
めのフレームへシャドウマスクを固定する際に、テンシ
ョンにより、グリルの根本において、切断が発生しずら
いマスクで、且つ、高精度のマスクの提供を可能として
いる。詳しくは、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に
用いられるシャドウマスクであって、開孔領域でないマ
スクの周辺部、または開孔領域でないマスクの周辺部と
開孔領域の外周部とをシャドウマスク素材の厚さとし、
且つ、これ以外の開孔領域をシャドウマスクの素材の厚
さより薄くしたこにより、開孔領域において、高精度の
加工ができるものとしている。そして、シャドウマスク
がスリットタイプのシャドウマスクであることにより、
シャドウマスクをフレームへ固定する際、テンションに
より、グリルの根本における、切断が発生しずらいもの
としており、具体的には、開孔領域の外周部のグリルの
根本部をシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、グリル
の他の部分をシャドウマスクの素材の厚さより薄くした
ことにより、これを達成している。また、本発明のシャ
ドウマスクの製造方法は、上記のように構成することに
より、本発明のシャドウマスクの作製を可能とするもの
である。
することにより、高精度の微細加工ができるシャドウマ
スクの提供を可能とするものであり、特に、スリットタ
イプのシャドウマスクにおいては、ＣＲＴへ組み込むた
めのフレームへシャドウマスクを固定する際に、テンシ
ョンにより、グリルの根本において、切断が発生しずら
いマスクで、且つ、高精度のマスクの提供を可能として
いる。詳しくは、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に
用いられるシャドウマスクであって、開孔領域でないマ
スクの周辺部、または開孔領域でないマスクの周辺部と
開孔領域の外周部とをシャドウマスク素材の厚さとし、
且つ、これ以外の開孔領域をシャドウマスクの素材の厚
さより薄くしたこにより、開孔領域において、高精度の
加工ができるものとしている。そして、シャドウマスク
がスリットタイプのシャドウマスクであることにより、
シャドウマスクをフレームへ固定する際、テンションに
より、グリルの根本における、切断が発生しずらいもの
としており、具体的には、開孔領域の外周部のグリルの
根本部をシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、グリル
の他の部分をシャドウマスクの素材の厚さより薄くした
ことにより、これを達成している。また、本発明のシャ
ドウマスクの製造方法は、上記のように構成することに
より、本発明のシャドウマスクの作製を可能とするもの
である。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明のシャドウマスクを図にも
とづいて説明する。図１（ａ）は、本発明のシャドウマ
スクの１例の斜視図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）に
おける点線丸部Ａ０の拡大平面図であり、図１（ｃ）
（イ）、図１（ｃ）（ロ）、図１（ｃ）（ハ）は、それ
ぞれ図１（ｂ）のＡ１−Ａ２、Ａ３−Ａ４、Ａ５−Ａ６
における断面図である。図１中、１００はシャドウマス
ク、１００Ａは薄肉部、１００Ｂは厚肉部、１１０はグ
リル、１１１はグリル根本、１１５はスリット、１２０
は周辺部、１２０は薄肉部、１２２はノッチ、１３０は
開孔領域である。本発明のシャドウマスクは、カラー陰
極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるシャドウマスク
であって、開孔領域でないマスクの周辺部、または開孔
領域でないマスクの周辺部と開孔領域の外周部とをシャ
ドウマスク素材の厚さとし、且つ、これ以外の開孔領域
をシャドウマスクの素材の厚さより薄くしたものであ
り、図１に示すシャドウマスク１００の場合は、スリッ
トタイプのシャドウマスクで、グリル１１０と、開孔領
域１３０でないマスクの周辺部１２０で、このグリル１
１０の延長上に設けられた領域１２０Ａとをシャドウマ
スクの素材の厚さより薄くし、それ以外のマスクの周辺
部１２０をシャドウマスクの素材と同じ厚さとしてい
る。即ち、開孔領域１３０のグリル１１０の厚みはシャ
ドウマスク素材よりも薄肉であり、開孔領域１３０のグ
リル１１０、スリット１１５の加工を高精度にできるも
のとしている。また、グリル１１０の根本１１１は、グ
リル１１０の延長上にに設けられた薄肉部１２０Ａに連
なるが、この薄肉部１２０Ａの両側がスリットではな
く、シャドウマスクの素材と同じ厚さの周辺部１２０に
連結した構造に形成されているため、シャドウマスクを
フレームに固定する際に、テンションによりグリル１１
０の根本１１１における切断の発生が起こりずらく、且
つ、マスク周辺部の強度が十分に保てる。
とづいて説明する。図１（ａ）は、本発明のシャドウマ
スクの１例の斜視図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）に
おける点線丸部Ａ０の拡大平面図であり、図１（ｃ）
（イ）、図１（ｃ）（ロ）、図１（ｃ）（ハ）は、それ
ぞれ図１（ｂ）のＡ１−Ａ２、Ａ３−Ａ４、Ａ５−Ａ６
における断面図である。図１中、１００はシャドウマス
ク、１００Ａは薄肉部、１００Ｂは厚肉部、１１０はグ
リル、１１１はグリル根本、１１５はスリット、１２０
は周辺部、１２０は薄肉部、１２２はノッチ、１３０は
開孔領域である。本発明のシャドウマスクは、カラー陰
極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるシャドウマスク
であって、開孔領域でないマスクの周辺部、または開孔
領域でないマスクの周辺部と開孔領域の外周部とをシャ
ドウマスク素材の厚さとし、且つ、これ以外の開孔領域
をシャドウマスクの素材の厚さより薄くしたものであ
り、図１に示すシャドウマスク１００の場合は、スリッ
トタイプのシャドウマスクで、グリル１１０と、開孔領
域１３０でないマスクの周辺部１２０で、このグリル１
１０の延長上に設けられた領域１２０Ａとをシャドウマ
スクの素材の厚さより薄くし、それ以外のマスクの周辺
部１２０をシャドウマスクの素材と同じ厚さとしてい
る。即ち、開孔領域１３０のグリル１１０の厚みはシャ
ドウマスク素材よりも薄肉であり、開孔領域１３０のグ
リル１１０、スリット１１５の加工を高精度にできるも
のとしている。また、グリル１１０の根本１１１は、グ
リル１１０の延長上にに設けられた薄肉部１２０Ａに連
なるが、この薄肉部１２０Ａの両側がスリットではな
く、シャドウマスクの素材と同じ厚さの周辺部１２０に
連結した構造に形成されているため、シャドウマスクを
フレームに固定する際に、テンションによりグリル１１
０の根本１１１における切断の発生が起こりずらく、且
つ、マスク周辺部の強度が十分に保てる。
【０００９】図２（ａ）は、本発明のシャドウマスクの
他の例の要部を示した斜視図、図２（ｂ）は図２（ａ）
のＢ１−Ｂ２における断面図、図２（ｃ）は図２（ａ）
のＢ５−Ｂ６における断面である。図２に示すシャドウ
マスクもスリットタイプのものであり、図２（ａ）は図
１（ｂ）に相当する箇所を図示したものである。図２に
示すシャドウマスクにおいては、グリルの根本１１１部
をシャドウマスク素材と同じ厚さにし、その両側にスリ
ット１１５を設けており、グリルの根本１１１部以外の
グリルはシャドウマスクの素材より薄く形成している。
図２に示すシャドウマスク１０１の場合も、開孔領域１
３０の外周部を除く領域において、グリル１１０はシャ
ドウマスク素材よりも薄肉に形成されており、この部分
の加工を高精度でできるものとしている。また、マスク
の周辺部１２０はシャドウマスク素材と同じ厚さとし、
且つ、グリルの根本１１１をシャドウマスク素材と同じ
厚さとしていることにより、シャドウマスクをフレーム
に固定する際に、テンションによりグリル１１０の根本
１１１における切断の発生が起こりずらく、且つ、マス
ク周辺部の強度が十分に保てる。
他の例の要部を示した斜視図、図２（ｂ）は図２（ａ）
のＢ１−Ｂ２における断面図、図２（ｃ）は図２（ａ）
のＢ５−Ｂ６における断面である。図２に示すシャドウ
マスクもスリットタイプのものであり、図２（ａ）は図
１（ｂ）に相当する箇所を図示したものである。図２に
示すシャドウマスクにおいては、グリルの根本１１１部
をシャドウマスク素材と同じ厚さにし、その両側にスリ
ット１１５を設けており、グリルの根本１１１部以外の
グリルはシャドウマスクの素材より薄く形成している。
図２に示すシャドウマスク１０１の場合も、開孔領域１
３０の外周部を除く領域において、グリル１１０はシャ
ドウマスク素材よりも薄肉に形成されており、この部分
の加工を高精度でできるものとしている。また、マスク
の周辺部１２０はシャドウマスク素材と同じ厚さとし、
且つ、グリルの根本１１１をシャドウマスク素材と同じ
厚さとしていることにより、シャドウマスクをフレーム
に固定する際に、テンションによりグリル１１０の根本
１１１における切断の発生が起こりずらく、且つ、マス
ク周辺部の強度が十分に保てる。
【００１０】図４は、本発明のシャドウマスクをフレー
ムに固定してＣＲＴに組み込んだ状態を簡略化して示し
たものである。図４中、４００はＣＲＴ部、４１０はシ
ャドウマスク、４１１はグリル、４１３はスリット、４
１５は曲げ部、４２０、４２５はフレーム、４３０はパ
ネル、４３５は螢光塗料部、４４０は電子銃、４４５は
電子線、４５０は偏向電極である。シャドウマスク４１
０は、一面が、電子銃４４０側になるようにして、平板
状の状態からフレーム４２０に沿わせるように折り曲げ
られ、フレーム４２０、４２５に挟まれるようにして、
フレーム４２０に固定される。本発明のシャドウマスク
においては、図４中の曲げ部４１５の板厚をシャドウマ
スク素材のままとし、有効領域のグリル４１１をシャド
ウマスク素材の厚さよりも薄くしている。これにより、
図５に示すようなシャドウマスクは、板厚の薄肉化によ
りシャドウマスクの微細化を達成した場合、フレームへ
の固定の際の、グリル根本での切断の発生や、マスク周
辺部での破損の発生が問題となるのに対し、本発明のシ
ャドウマスクにおいては、有効領域の微細加工を確保
し、且つ、フレームへの固定に対する機械的強度の確保
を可能としている。尚、電子銃４４０からの電子線４４
５は、偏向電極４５０等により偏向走査されて、所定の
位置におけるシャドウマスク４１０の開口（スリット４
１３）を通り、螢光塗料４３５に当たることにより、そ
の螢光塗料４３５の色に対応した色を発するもので、こ
れをパネル４３０の前面で人が観るのである。
ムに固定してＣＲＴに組み込んだ状態を簡略化して示し
たものである。図４中、４００はＣＲＴ部、４１０はシ
ャドウマスク、４１１はグリル、４１３はスリット、４
１５は曲げ部、４２０、４２５はフレーム、４３０はパ
ネル、４３５は螢光塗料部、４４０は電子銃、４４５は
電子線、４５０は偏向電極である。シャドウマスク４１
０は、一面が、電子銃４４０側になるようにして、平板
状の状態からフレーム４２０に沿わせるように折り曲げ
られ、フレーム４２０、４２５に挟まれるようにして、
フレーム４２０に固定される。本発明のシャドウマスク
においては、図４中の曲げ部４１５の板厚をシャドウマ
スク素材のままとし、有効領域のグリル４１１をシャド
ウマスク素材の厚さよりも薄くしている。これにより、
図５に示すようなシャドウマスクは、板厚の薄肉化によ
りシャドウマスクの微細化を達成した場合、フレームへ
の固定の際の、グリル根本での切断の発生や、マスク周
辺部での破損の発生が問題となるのに対し、本発明のシ
ャドウマスクにおいては、有効領域の微細加工を確保
し、且つ、フレームへの固定に対する機械的強度の確保
を可能としている。尚、電子銃４４０からの電子線４４
５は、偏向電極４５０等により偏向走査されて、所定の
位置におけるシャドウマスク４１０の開口（スリット４
１３）を通り、螢光塗料４３５に当たることにより、そ
の螢光塗料４３５の色に対応した色を発するもので、こ
れをパネル４３０の前面で人が観るのである。
【００１１】本発明のシャドウマスクとしては、図１、
図２に示すスリットタイプのものに特に限定はされな
い。スリット状の開孔でなく、丸孔やスロットタイプの
ものにも適用できる。また、スリットタイプのシャドウ
マスクにおいても、図１や図２に示す形状に特に限定は
されない。
図２に示すスリットタイプのものに特に限定はされな
い。スリット状の開孔でなく、丸孔やスロットタイプの
ものにも適用できる。また、スリットタイプのシャドウ
マスクにおいても、図１や図２に示す形状に特に限定は
されない。
【００１２】次に、本発明のシャドウマスクの製造方法
を図３に基づいて簡単に説明する。本発明のシャドウマ
スクの製造方法は、図３に示すような、２段エッチング
加工と、ハーフエッチング加工を併用したエッチング加
工方法である。尚、図３は、図１や図２に示すスリット
タイプのシャドウマスクの製造方法で、且つ、図１
（ｂ）のＡ３−Ａ４方向や図２（ａ）のＢ１−Ｂ２方向
に相当する箇所での各工程の断面図を示したもので、分
かり易くするため、グリル数を少なくして示してある。
図３において、３１０はシャドウマスク素材、３１０は
第一の面、３１０Ｂは第二の面、３２０Ａは第一のレジ
ストパターン、３２０Ｂは第二のレジストパターン、３
２１Ａは第一のレジスト開口、３２１Ｂは第二のレジス
ト開口、３３０Ａは第一の凹部、３３０Ｂは第二の凹
部、３４０はエッチング抵抗層、３５０はグリル、３６
０は周辺部である。先ず、シャドウマスク素材３１０を
脱脂、洗浄処理等を施した後、その両面に外形加工にあ
った所定形状のレジストパターン３２０Ａ、３２０Ｂを
形成する。（図３（ａ）） シャドウマスク素材３１０の第一の面３１０Ａには、グ
リル領域にはレジストが無く、周辺部のみにレジストを
設ける第一のレジストパターン３２０Ａを形成する。シ
ャドウマスク素材３１０の第二の面３１０Ｂには、形成
するグリルに形状に合ったレジストパターン３２０Ｂを
形成する。第一のレジスト開口３２１Ａは、エッチング
により厚さを薄くするための開口であり、第二のレジス
ト開口３２１Ｂは外形加工を施すための開口である。レ
ジストパターン３２０Ａ、３２０Ｂは、カゼインあるい
はＰＶＡに重クロム酸塩を数％添加し、感光性を持たせ
た水溶性レジストを塗布、乾燥した後、所定のパターン
版（図示していない）を用いて露光、現像処理等を行い
得る。尚、温水ないし水による現像処理後に、クロム酸
処理し、熱処理を行っておく。
を図３に基づいて簡単に説明する。本発明のシャドウマ
スクの製造方法は、図３に示すような、２段エッチング
加工と、ハーフエッチング加工を併用したエッチング加
工方法である。尚、図３は、図１や図２に示すスリット
タイプのシャドウマスクの製造方法で、且つ、図１
（ｂ）のＡ３−Ａ４方向や図２（ａ）のＢ１−Ｂ２方向
に相当する箇所での各工程の断面図を示したもので、分
かり易くするため、グリル数を少なくして示してある。
図３において、３１０はシャドウマスク素材、３１０は
第一の面、３１０Ｂは第二の面、３２０Ａは第一のレジ
ストパターン、３２０Ｂは第二のレジストパターン、３
２１Ａは第一のレジスト開口、３２１Ｂは第二のレジス
ト開口、３３０Ａは第一の凹部、３３０Ｂは第二の凹
部、３４０はエッチング抵抗層、３５０はグリル、３６
０は周辺部である。先ず、シャドウマスク素材３１０を
脱脂、洗浄処理等を施した後、その両面に外形加工にあ
った所定形状のレジストパターン３２０Ａ、３２０Ｂを
形成する。（図３（ａ）） シャドウマスク素材３１０の第一の面３１０Ａには、グ
リル領域にはレジストが無く、周辺部のみにレジストを
設ける第一のレジストパターン３２０Ａを形成する。シ
ャドウマスク素材３１０の第二の面３１０Ｂには、形成
するグリルに形状に合ったレジストパターン３２０Ｂを
形成する。第一のレジスト開口３２１Ａは、エッチング
により厚さを薄くするための開口であり、第二のレジス
ト開口３２１Ｂは外形加工を施すための開口である。レ
ジストパターン３２０Ａ、３２０Ｂは、カゼインあるい
はＰＶＡに重クロム酸塩を数％添加し、感光性を持たせ
た水溶性レジストを塗布、乾燥した後、所定のパターン
版（図示していない）を用いて露光、現像処理等を行い
得る。尚、温水ないし水による現像処理後に、クロム酸
処理し、熱処理を行っておく。
【００１３】次いで、シャドウマスク素材３１０の両面
から、レジストパターンの開口３２１Ａ、３２１Ｂから
露出した領域を、所定の深さにエッチング液にて第一の
エッチングを行い、第一の凹部３３０Ａ、第二の凹部３
３０Ｂを形成する。（図３（ｂ）） この第一の面３１０Ａ側の第一の凹部３３０Ａのエッチ
ングの深ｈさは、製品の薄肉部の厚さを決定するもので
ある。同時に、これはグリル作製の際の加工精度に影響
するものである。
から、レジストパターンの開口３２１Ａ、３２１Ｂから
露出した領域を、所定の深さにエッチング液にて第一の
エッチングを行い、第一の凹部３３０Ａ、第二の凹部３
３０Ｂを形成する。（図３（ｂ）） この第一の面３１０Ａ側の第一の凹部３３０Ａのエッチ
ングの深ｈさは、製品の薄肉部の厚さを決定するもので
ある。同時に、これはグリル作製の際の加工精度に影響
するものである。
【００１４】次いで、第一の凹部３３０Ａを埋め、且つ
第一のレジストパターン３２０Ａを覆うように、エッチ
ング抵抗層３４０を塗膜する。（図３（ｃ）） エッチング抵抗層３４０は、後述する第二のエッチング
において、塗膜された部分のエッチングが進行しないよ
うに保護するものである。
第一のレジストパターン３２０Ａを覆うように、エッチ
ング抵抗層３４０を塗膜する。（図３（ｃ）） エッチング抵抗層３４０は、後述する第二のエッチング
において、塗膜された部分のエッチングが進行しないよ
うに保護するものである。
【００１５】この後、第二の凹部３３０Ｂ側から第二の
エッチングを行い、貫通させ、グリル３５０部を形成す
る。（図３（ｄ））
エッチングを行い、貫通させ、グリル３５０部を形成す
る。（図３（ｄ））
【００１６】第二のエッチング後、エッチング抵抗層３
４０およびレジストパターン３２０Ａ、３２０Ｂを、ア
ルカリ溶液で剥膜し、洗浄、乾燥し、所望のシャドウマ
スク１００（ないし１０１）を得る。（図３（ｅ））
４０およびレジストパターン３２０Ａ、３２０Ｂを、ア
ルカリ溶液で剥膜し、洗浄、乾燥し、所望のシャドウマ
スク１００（ないし１０１）を得る。（図３（ｅ））
【００１７】上記のように、素材に対し、その片面ない
し両面から、貫通させないようにして、第一のエッチン
グを行った後、エッチングにて作成された凹部に、エッ
チング抵抗層を埋め込み、第二のエッチングをエッチン
グ抵抗層の埋め込んでいない側から行い貫通させる、２
段階エッチング方法を、一般には、２段エッチング方法
と言っており、高精度のシャドウマスクの製造等に用い
られる。また、ハーフエッチングとは、通常、加工され
る素材（板材）の厚さを薄くするためのエッチングを言
っており、図３においては、グリル形成領域の第一の面
側からのエッチングを言う。
し両面から、貫通させないようにして、第一のエッチン
グを行った後、エッチングにて作成された凹部に、エッ
チング抵抗層を埋め込み、第二のエッチングをエッチン
グ抵抗層の埋め込んでいない側から行い貫通させる、２
段階エッチング方法を、一般には、２段エッチング方法
と言っており、高精度のシャドウマスクの製造等に用い
られる。また、ハーフエッチングとは、通常、加工され
る素材（板材）の厚さを薄くするためのエッチングを言
っており、図３においては、グリル形成領域の第一の面
側からのエッチングを言う。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、上記のように、高精度でエッ
チング加工されたャドウマスクの提供を可能とするもの
であり、特に、スリットタイプのシャドウマスクであっ
て、ＣＲＴへ組み込むためのフレームへ固定する際のテ
ンションにより、グリルの根本において、切断が発生し
ずらく、マスク周辺部の強度を十分とれるシャドウマス
クの提供を可能としている。
チング加工されたャドウマスクの提供を可能とするもの
であり、特に、スリットタイプのシャドウマスクであっ
て、ＣＲＴへ組み込むためのフレームへ固定する際のテ
ンションにより、グリルの根本において、切断が発生し
ずらく、マスク周辺部の強度を十分とれるシャドウマス
クの提供を可能としている。
【図１】本発明のシヤドウマスクの１例を示した概略図
【図２】本発明のシヤドウマスクの他の例の要部を示し
た概略図
た概略図
【図３】本発明のシヤドウマスクの製造方法を説明する
ための工程図
ための工程図
【図４】本発明のシャドウマスクをフレームに固定して
ＣＲＴに組み込んだ状態を示した図
ＣＲＴに組み込んだ状態を示した図
【図５】従来のシャドウマスクの概略図
１００、１０１ シャドウマスク １００Ａ、１０１Ａ 薄肉部 １００Ｂ、１０１Ｂ 厚肉部 １１０ グリル １１１ グリル根本 １１５ スリット １２０ 周辺部 １２０Ａ 薄肉部 １２２ ノッチ １３０ 開孔領域 ３１０ シャドウマスク素材 ３１０Ａ 第一の面 ３１０Ｂ 第二の面 ３２０Ａ 第一のレジストパターン ３２０Ｂ 第二のレジストパターン ３２１Ａ 第一のレジストパターンの開
口 ３２１Ｂ 第二のレジストパターンの開
口 ３３０Ａ 第一の凹部 ３３０Ｂ 第二の凹部 ３４０ エッチング抵抗層 ３５０ グリル ３６０ 周辺部 ４００ ＣＲＴ ４１０ シャドウマスク ４１１ グリル ４１２ 周辺部 ４１３ スリット ４１５ 曲げ部 ４２０、４２５ フレーム ４３０ パネル ４３５ 螢光塗料 ４４０ 電子銃 ４４５ 電子線 ４５０ 偏向電極 ５００ シャドウマスク ５１０ グリル ５１５ スリット ５２０ 周辺部 ５３０ 開孔領域
口 ３２１Ｂ 第二のレジストパターンの開
口 ３３０Ａ 第一の凹部 ３３０Ｂ 第二の凹部 ３４０ エッチング抵抗層 ３５０ グリル ３６０ 周辺部 ４００ ＣＲＴ ４１０ シャドウマスク ４１１ グリル ４１２ 周辺部 ４１３ スリット ４１５ 曲げ部 ４２０、４２５ フレーム ４３０ パネル ４３５ 螢光塗料 ４４０ 電子銃 ４４５ 電子線 ４５０ 偏向電極 ５００ シャドウマスク ５１０ グリル ５１５ スリット ５２０ 周辺部 ５３０ 開孔領域
Claims (5)
- 【請求項１】 カラー陰極線管の色選別に用いられるシ
ャドウマスクであって、開孔領域でないマスクの周辺
部、または開孔領域でないマスクの周辺部と開孔領域の
外周部とをシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、これ
以外の開孔領域をシャドウマスクの素材の厚さより薄く
したことを特徴とするシャドウマスク。 - 【請求項２】 シャドウマスクがスリットタイプである
ことを特徴とする請求項１記載のシャドウマスク。 - 【請求項３】 請求項２において、開孔領域の外周部の
グリルの根本部をシャドウマスク素材の厚さとし、且
つ、グリルの他の部分をシャドウマスクの素材の厚さよ
り薄くしたことを特徴とするシャドウマスク。 - 【請求項４】 カラー陰極線管の色選別に用いられるシ
ャドウマスクで、開孔領域でないマスクの周辺部、また
は開孔領域でないマスクの周辺部と開孔領域の外周部と
をシャドウマスク素材の厚さとし、且つ、これ以外の開
孔領域をシャドウマスクの素材の厚さより薄くしたシャ
ドウマスクの製造方法であって、２段エッチング加工と
ハーフエッチング加工とを併用したことを特徴とするシ
ャドウマスクの製造方法。 - 【請求項５】 請求項３において、シャドウマスクがス
リットタイプのシャドウマスクで、開孔領域の外周部の
グリルの根本部をシャドウマスク素材の厚さとし、且
つ、グリルの他の部分をシャドウマスクの素材の厚さよ
り薄く形成することを特徴とするシャドウマスクの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7086397A JPH10255676A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | シャドウマスクおよびシャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7086397A JPH10255676A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | シャドウマスクおよびシャドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10255676A true JPH10255676A (ja) | 1998-09-25 |
Family
ID=13443835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7086397A Pending JPH10255676A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | シャドウマスクおよびシャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10255676A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115572943A (zh) * | 2022-09-02 | 2023-01-06 | 南京国兆光电科技有限公司 | 一种有机蒸镀掩膜版及其制作方法 |
-
1997
- 1997-03-10 JP JP7086397A patent/JPH10255676A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115572943A (zh) * | 2022-09-02 | 2023-01-06 | 南京国兆光电科技有限公司 | 一种有机蒸镀掩膜版及其制作方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040308 |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050526 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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