JPH10255681A - スリットタイプのシャドウマスクおよびその製造方法 - Google Patents
スリットタイプのシャドウマスクおよびその製造方法Info
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- JPH10255681A JPH10255681A JP7668497A JP7668497A JPH10255681A JP H10255681 A JPH10255681 A JP H10255681A JP 7668497 A JP7668497 A JP 7668497A JP 7668497 A JP7668497 A JP 7668497A JP H10255681 A JPH10255681 A JP H10255681A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 シャドウマスクの製造、フレームへの固定だ
けで、ダンパーを設ける工程を別に必要としないリット
タイプのシャドウマスクを提供する。同時に、その製造
方法を提供する。 【解決手段】 グリルを横切るダンパーをグリルと一体
的に連結して設けた、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選
別に用いられるスリットタイプのシャドウマスクで、シ
ャドウマスクのスリット開孔領域でない周辺部、または
シャドウマスクのスリット開孔領域でない周辺部とスリ
ット開孔領域の外周部をシャドウマスク素材の厚さと
し、これ以外のスリット開孔領域のグリルをシャドウマ
スクの素材よりも薄肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さ
とグリルの厚さの和をシャドウマスクの素材の厚さとし
ている。
けで、ダンパーを設ける工程を別に必要としないリット
タイプのシャドウマスクを提供する。同時に、その製造
方法を提供する。 【解決手段】 グリルを横切るダンパーをグリルと一体
的に連結して設けた、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選
別に用いられるスリットタイプのシャドウマスクで、シ
ャドウマスクのスリット開孔領域でない周辺部、または
シャドウマスクのスリット開孔領域でない周辺部とスリ
ット開孔領域の外周部をシャドウマスク素材の厚さと
し、これ以外のスリット開孔領域のグリルをシャドウマ
スクの素材よりも薄肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さ
とグリルの厚さの和をシャドウマスクの素材の厚さとし
ている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，カラー陰極線管
（ＣＲＴ）の色選別に用いられるスリットタイプのシャ
ドウマスクとその製造方法に関する。
（ＣＲＴ）の色選別に用いられるスリットタイプのシャ
ドウマスクとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用
いられるシドウマスクは、高い解像性の要求に対し、当
初はシャドウマスク自体の高精度な加工にて対応してき
たが、近年、シャドウマスクを陰極線管（ＣＲＴ）に組
み込み色選別に用いた際の、電子ビームによる熱膨張に
よる色ズレが無視できないことが認識され、シャドウマ
スクの素材として、低膨張のインバー材を使用したり、
シヤドウマスクのフレームへの固定に際してシャドウマ
スクにテンションをかけて用いるスリットタイプのもの
が採用されるようになってきた。スリットタイプのシャ
ドウマスクは、通常、図５に示すような形状をしてお
り、エッチング加工により作製されている。尚、図５
（ａ）は全体の概略図で、図５（ｂ）は図５（ａ）の点
線丸部Ｃ０を拡大して示した図であり、図５（ｃ）は、
それぞれ図５（ｂ）のＣ１−Ｃ２における断面を示した
図である。そして、このようなシャドウマスクは、図６
（ａ）に示すように、シャドウマスク６６０をカラー陰
極線管（ＣＲＴ）６００に、フレーム６７０に固定され
て、組み込まれる。カラー陰極線管（ＣＲＴ）６００
は、偏向ヨーク６２０にて偏向制御されながら走査され
る電子銃６１０からの電子線６１５を、シャドウマスク
６６０のスリット部にて通過させ、螢光面６５０へ当て
発光させるもので、螢光面の発光をパネル６４０前の人
が観る。
いられるシドウマスクは、高い解像性の要求に対し、当
初はシャドウマスク自体の高精度な加工にて対応してき
たが、近年、シャドウマスクを陰極線管（ＣＲＴ）に組
み込み色選別に用いた際の、電子ビームによる熱膨張に
よる色ズレが無視できないことが認識され、シャドウマ
スクの素材として、低膨張のインバー材を使用したり、
シヤドウマスクのフレームへの固定に際してシャドウマ
スクにテンションをかけて用いるスリットタイプのもの
が採用されるようになってきた。スリットタイプのシャ
ドウマスクは、通常、図５に示すような形状をしてお
り、エッチング加工により作製されている。尚、図５
（ａ）は全体の概略図で、図５（ｂ）は図５（ａ）の点
線丸部Ｃ０を拡大して示した図であり、図５（ｃ）は、
それぞれ図５（ｂ）のＣ１−Ｃ２における断面を示した
図である。そして、このようなシャドウマスクは、図６
（ａ）に示すように、シャドウマスク６６０をカラー陰
極線管（ＣＲＴ）６００に、フレーム６７０に固定され
て、組み込まれる。カラー陰極線管（ＣＲＴ）６００
は、偏向ヨーク６２０にて偏向制御されながら走査され
る電子銃６１０からの電子線６１５を、シャドウマスク
６６０のスリット部にて通過させ、螢光面６５０へ当て
発光させるもので、螢光面の発光をパネル６４０前の人
が観る。
【０００３】このスリットタイプのシャドウマスクの、
カラー陰極線管（ＣＲＴ）への組み込みのためのフレー
ムによる固定方法としては、熱膨張を利用したものと、
フレーム加圧によるものが知られている。熱膨張を利用
したものは、ゼニス社のＦＴＭ（Ｆｌａｔ Ｔｅｎｓｉ
ｏｎ Ｍａｓｋ）と言われるもので、２５μｍ程度の厚
さをもつ金属製のスリットタイプのシャドウマスクとセ
ラミックフレームの熱膨張差を利用して、高温中に組立
て、常温で、金属の収縮に伴ってテンションがかかるよ
うにしたものである。また、フレーム加圧によるもの
は、１００μｍ程度の厚さを持つスリットタイプのシャ
ドウマスク（アパーチャグリルとも言う）を用いたもの
で、オタイコと呼ばれるＲ面をもつフレームとこれにマ
スクを介して嵌合するフレームとを用い、Ｒ面上にマス
クを挾み（チャッキング）、テンションを付与し、フレ
ーム位置決めによるＲ成形後、フレーム加圧を行い、マ
スクをこの加圧されたフレームに溶接固定するものであ
る。
カラー陰極線管（ＣＲＴ）への組み込みのためのフレー
ムによる固定方法としては、熱膨張を利用したものと、
フレーム加圧によるものが知られている。熱膨張を利用
したものは、ゼニス社のＦＴＭ（Ｆｌａｔ Ｔｅｎｓｉ
ｏｎ Ｍａｓｋ）と言われるもので、２５μｍ程度の厚
さをもつ金属製のスリットタイプのシャドウマスクとセ
ラミックフレームの熱膨張差を利用して、高温中に組立
て、常温で、金属の収縮に伴ってテンションがかかるよ
うにしたものである。また、フレーム加圧によるもの
は、１００μｍ程度の厚さを持つスリットタイプのシャ
ドウマスク（アパーチャグリルとも言う）を用いたもの
で、オタイコと呼ばれるＲ面をもつフレームとこれにマ
スクを介して嵌合するフレームとを用い、Ｒ面上にマス
クを挾み（チャッキング）、テンションを付与し、フレ
ーム位置決めによるＲ成形後、フレーム加圧を行い、マ
スクをこの加圧されたフレームに溶接固定するものであ
る。
【０００４】これらスリットタイプのシャドウマスクに
おいては、テンションをグリル方向にかけ、図６（ａ）
に示すフレーム６７０に固定されているが、単にシャド
ウマスクをレーム６７０に固定しただけの場合には、外
部衝撃によりグリル素体が振動し、これが電子線のミス
ランディング（色ずれ）を引き起こす。この為、図６
（ｂ）に示すように、グリル６６１の振動を防止するた
めに、シャドウマスク６６０をフレーム６７０に固定し
た後、グリル６６１を抑えるようダンパー６９０を設け
る方法が一般には採られていた。更に、特開平５−２６
６８１９号公報にも開示されている、図６（ｃ）に示す
ような、グリル６６１の振動を防止するため、隣接する
グリル６６１の長さを変え、その両端部が波形（６６
５）となるようにし、且つダンパー６９０によりグリル
６６１を抑える方法も採られている。図６（ｃ）に示す
ようにする理由は、隣接するグリル６６１で共振する固
有振動数を異ならせ、外部衝撃により生じたグリル素体
の振動をダンパー６９０により、互いに相殺するためで
ある。
おいては、テンションをグリル方向にかけ、図６（ａ）
に示すフレーム６７０に固定されているが、単にシャド
ウマスクをレーム６７０に固定しただけの場合には、外
部衝撃によりグリル素体が振動し、これが電子線のミス
ランディング（色ずれ）を引き起こす。この為、図６
（ｂ）に示すように、グリル６６１の振動を防止するた
めに、シャドウマスク６６０をフレーム６７０に固定し
た後、グリル６６１を抑えるようダンパー６９０を設け
る方法が一般には採られていた。更に、特開平５−２６
６８１９号公報にも開示されている、図６（ｃ）に示す
ような、グリル６６１の振動を防止するため、隣接する
グリル６６１の長さを変え、その両端部が波形（６６
５）となるようにし、且つダンパー６９０によりグリル
６６１を抑える方法も採られている。図６（ｃ）に示す
ようにする理由は、隣接するグリル６６１で共振する固
有振動数を異ならせ、外部衝撃により生じたグリル素体
の振動をダンパー６９０により、互いに相殺するためで
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように、スリット
タイプのシャドウマスクにおいては、フレーム固定し、
カラー陰極線管（ＣＲＴ）に組み込んだ際、グリッド部
の振動を防止することが必要で、図６（ｂ）や図６
（ｃ）に示すようなダンパーを設ける方法が採られお
り、種々の工夫がされている。しかし、図６（ｂ）や図
６（ｃ）に示す方法では、シャドウマスクを製造し、フ
レームに固定した後に、別にダンパーを設ける工程が必
要であり、図６（ｃ）に示す方法においては、シャドウ
マスクのエッチング領域をグリル両端の波形形状にあわ
せて大きくする必要があり、問題となっていた。本発明
は、このような状況のもと、シャドウマスクの製造、フ
レームへの固定だけで、ダンパーを設ける工程を別に必
要としないスリットタイプのシャドウマスクを提供しよ
うとするものである。また、図６（ｃ）に示す方法のよ
うに、シャドウマスクのエッチング領域をグリル両端の
波形形状にあわせて大きくすることが必ずしも必要でな
いスリットタイプのシャドウマスクを提供しようとする
ものである。同時に、これらのスリットシャドウマスク
の製造方法を提供しようとするものである。
タイプのシャドウマスクにおいては、フレーム固定し、
カラー陰極線管（ＣＲＴ）に組み込んだ際、グリッド部
の振動を防止することが必要で、図６（ｂ）や図６
（ｃ）に示すようなダンパーを設ける方法が採られお
り、種々の工夫がされている。しかし、図６（ｂ）や図
６（ｃ）に示す方法では、シャドウマスクを製造し、フ
レームに固定した後に、別にダンパーを設ける工程が必
要であり、図６（ｃ）に示す方法においては、シャドウ
マスクのエッチング領域をグリル両端の波形形状にあわ
せて大きくする必要があり、問題となっていた。本発明
は、このような状況のもと、シャドウマスクの製造、フ
レームへの固定だけで、ダンパーを設ける工程を別に必
要としないスリットタイプのシャドウマスクを提供しよ
うとするものである。また、図６（ｃ）に示す方法のよ
うに、シャドウマスクのエッチング領域をグリル両端の
波形形状にあわせて大きくすることが必ずしも必要でな
いスリットタイプのシャドウマスクを提供しようとする
ものである。同時に、これらのスリットシャドウマスク
の製造方法を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のシャドウマスク
は、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるス
リットタイプのシャドウマスクであって、グリルを横切
るダンパーをグリルと一体的に連結して設けたことを特
徴とするものである。そして、上記において、シャドウ
マスクのスリット開孔領域でない周辺部、またはシャド
ウマスクのスリット開孔領域でない周辺部とスリット開
孔領域の外周部をシャドウマスク素材の厚さとし、これ
以外のスリット開孔領域のグリルをシャドウマスクの素
材よりも薄肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さとグリル
の厚さの和がシャドウマスクの素材の厚さであることを
特徴とするものである。
は、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるス
リットタイプのシャドウマスクであって、グリルを横切
るダンパーをグリルと一体的に連結して設けたことを特
徴とするものである。そして、上記において、シャドウ
マスクのスリット開孔領域でない周辺部、またはシャド
ウマスクのスリット開孔領域でない周辺部とスリット開
孔領域の外周部をシャドウマスク素材の厚さとし、これ
以外のスリット開孔領域のグリルをシャドウマスクの素
材よりも薄肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さとグリル
の厚さの和がシャドウマスクの素材の厚さであることを
特徴とするものである。
【０００７】本発明のシャドウマスクの製造方法は、グ
リルを横切るダンパーをグリルと一体的に連結して設け
た、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるス
リットタイプのシャドウマスクで、シャドウマスクのス
リット開孔領域でない周辺部、またはシャドウマスクの
スリット開孔領域でない周辺部とスリット開孔領域の外
周部をシャドウマスク素材の厚さとし、これ以外のスリ
ット開孔領域のグリルをシャドウマスクの素材よりも薄
肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さとグリルの厚さの和
がシャドウマスクの素材の厚さであるスリットタイプの
シャドウマスクの製造方法であって、２段エッチング加
工と、加工部の板厚をシャドウマスク素材の板厚よりも
薄くするハーフエッチング加工とを併用して、エッチン
グにより外形加工することを特徴とするものである。
リルを横切るダンパーをグリルと一体的に連結して設け
た、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用いられるス
リットタイプのシャドウマスクで、シャドウマスクのス
リット開孔領域でない周辺部、またはシャドウマスクの
スリット開孔領域でない周辺部とスリット開孔領域の外
周部をシャドウマスク素材の厚さとし、これ以外のスリ
ット開孔領域のグリルをシャドウマスクの素材よりも薄
肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さとグリルの厚さの和
がシャドウマスクの素材の厚さであるスリットタイプの
シャドウマスクの製造方法であって、２段エッチング加
工と、加工部の板厚をシャドウマスク素材の板厚よりも
薄くするハーフエッチング加工とを併用して、エッチン
グにより外形加工することを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】本発明のシャドウマスクは、上記のように構成
することにより、シャドウマスクの製造、フレームへの
固定だけで、ダンパーを設ける工程を別に必要としない
スリットタイプのシャドウマスクの提供を可能とするも
のである。同時に、図６（ｃ）の方法のように、シャド
ウマスクのエッチング領域をグリル両端の波形形状にあ
わせて大きくすることが必ずしも必要でないスリットタ
イプのシャドウマスクの提供を可能とするものである。
具体的には、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用い
られるスリットタイプのシャドウマスクであって、グリ
ルを横切るダンパーをグリルと一体的に連結して設けた
ことによりこれを達成している。更に具体的には、シャ
ドウマスクのスリット開孔領域でない周辺部、またはシ
ャドウマスクのスリット開孔領域でない周辺部とスリッ
ト開孔領域の外周部をシャドウマスク素材の厚さとし、
これ以外のスリット開孔領域のグリルをシャドウマスク
の素材よりも薄肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さとグ
リルの厚さの和がシャドウマスクの素材の厚さとするこ
とにより、高精細のスリットタイプであって、シャドウ
マスクの製造、フレームへの固定の他に、特別にダンパ
ー工程を必要せず、且つ、図６（ｃ）に示す方法のよう
に、シャドウマスクのエッチング領域をグリル両端の波
形形状にあわせて大きくすることが必ずしも必要でない
スリットタイプのシャドウマスクの提供を可能とするも
のである。
することにより、シャドウマスクの製造、フレームへの
固定だけで、ダンパーを設ける工程を別に必要としない
スリットタイプのシャドウマスクの提供を可能とするも
のである。同時に、図６（ｃ）の方法のように、シャド
ウマスクのエッチング領域をグリル両端の波形形状にあ
わせて大きくすることが必ずしも必要でないスリットタ
イプのシャドウマスクの提供を可能とするものである。
具体的には、カラー陰極線管（ＣＲＴ）の色選別に用い
られるスリットタイプのシャドウマスクであって、グリ
ルを横切るダンパーをグリルと一体的に連結して設けた
ことによりこれを達成している。更に具体的には、シャ
ドウマスクのスリット開孔領域でない周辺部、またはシ
ャドウマスクのスリット開孔領域でない周辺部とスリッ
ト開孔領域の外周部をシャドウマスク素材の厚さとし、
これ以外のスリット開孔領域のグリルをシャドウマスク
の素材よりも薄肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さとグ
リルの厚さの和がシャドウマスクの素材の厚さとするこ
とにより、高精細のスリットタイプであって、シャドウ
マスクの製造、フレームへの固定の他に、特別にダンパ
ー工程を必要せず、且つ、図６（ｃ）に示す方法のよう
に、シャドウマスクのエッチング領域をグリル両端の波
形形状にあわせて大きくすることが必ずしも必要でない
スリットタイプのシャドウマスクの提供を可能とするも
のである。
【０００９】本発明のシャドウマスクの製造方法は、上
記のように、エッチングにより、シャドウマスク素材か
ら、シャドウマスクを外形加工する際に、ダンパー部を
同時に、グリルに一体的に連結させ設けることにより、
図６（ｂ）や図６（ｃ）に示す方法のように、特別にダ
ンパーを設ける工程を必要としないため、カラー陰極線
管（ＣＲＴ）作製工程を短縮できるものとしている。ま
た、工程短縮により、生産性が向上するとともに全体の
歩留りを上げることを可能としている。
記のように、エッチングにより、シャドウマスク素材か
ら、シャドウマスクを外形加工する際に、ダンパー部を
同時に、グリルに一体的に連結させ設けることにより、
図６（ｂ）や図６（ｃ）に示す方法のように、特別にダ
ンパーを設ける工程を必要としないため、カラー陰極線
管（ＣＲＴ）作製工程を短縮できるものとしている。ま
た、工程短縮により、生産性が向上するとともに全体の
歩留りを上げることを可能としている。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明のシャドウマスクを図１に
もとづいて説明する。図１（ａ）は、本発明のシャドウ
マスクの第１の例の全体を示した斜視図であり、図１
（ｂ）（イ）は図１（ａ）における点線丸部Ａ０の拡大
斜視図であり、図１（ｃ）（イ）は、図１（ａ）の点線
丸部Ａ１の拡大平面図であり、図１（ｂ）（ロ）は図１
（ｂ）（イ）のＡ２−Ａ３における断面図で、図１
（ｃ）（ロ）は図１（ｃ）（イ）におけるＡ８−Ａ９に
おける断面図である。そして、図２は本発明シャドウマ
スクの第２の例の全体の斜視図であり、図３は本発明シ
ャドウマスクの第３の例の全体の斜視図である。図１、
図２、図３中、１００、１０１、１０２はシャドウマス
ク、１１０はグリル、１１５はスリット、１２０は周辺
部、１２５はノッチ、１３０は開孔領域、１５０はダン
パー部である。本発明のシャドウマスクは、グリルを横
切るダンパーをグリルと一体的に連結して設けたもので
ある。図１に示すシャドウマスクは、スリット開孔領域
１３０でない周辺部１２０、またはシャドウマスクのス
リット開孔領域１３０でない周辺部１２０とスリット開
孔領域１３０の外周部をシャドウマスク素材の厚さと
し、これ以外のスリット開孔領域のグリル１１０をシャ
ドウマスクの素材よりも薄肉に設け、且つ、ダンパー部
１５０の厚さとグリル１１０の厚さの和がシャドウマス
クの素材の厚さである。
もとづいて説明する。図１（ａ）は、本発明のシャドウ
マスクの第１の例の全体を示した斜視図であり、図１
（ｂ）（イ）は図１（ａ）における点線丸部Ａ０の拡大
斜視図であり、図１（ｃ）（イ）は、図１（ａ）の点線
丸部Ａ１の拡大平面図であり、図１（ｂ）（ロ）は図１
（ｂ）（イ）のＡ２−Ａ３における断面図で、図１
（ｃ）（ロ）は図１（ｃ）（イ）におけるＡ８−Ａ９に
おける断面図である。そして、図２は本発明シャドウマ
スクの第２の例の全体の斜視図であり、図３は本発明シ
ャドウマスクの第３の例の全体の斜視図である。図１、
図２、図３中、１００、１０１、１０２はシャドウマス
ク、１１０はグリル、１１５はスリット、１２０は周辺
部、１２５はノッチ、１３０は開孔領域、１５０はダン
パー部である。本発明のシャドウマスクは、グリルを横
切るダンパーをグリルと一体的に連結して設けたもので
ある。図１に示すシャドウマスクは、スリット開孔領域
１３０でない周辺部１２０、またはシャドウマスクのス
リット開孔領域１３０でない周辺部１２０とスリット開
孔領域１３０の外周部をシャドウマスク素材の厚さと
し、これ以外のスリット開孔領域のグリル１１０をシャ
ドウマスクの素材よりも薄肉に設け、且つ、ダンパー部
１５０の厚さとグリル１１０の厚さの和がシャドウマス
クの素材の厚さである。
【００１１】図１に示す第１の例では、図１（ａ）に示
すように、ダンパー部１５０は、グリル１１０に斜交す
るようにして、グリルと連結して一体的に設けている
が、これにより、グリル１１０のダンパー１５０により
分けられる長さを、隣接するグリルでは異なるようにし
て、互いに外部衝撃によるグリルの振動を抑制できるよ
うにしている。図１（ｂ）（ロ）に示すように、グリル
部はシャドウマスク素材の厚さよりも薄肉の厚さｔ１に
形成されており、高精細な加工に対応できる。図１
（ｂ）（ロ）に示すように、ダンパー１５０は、グリル
１１０に一体的に形成されており、ダンパー１５０の厚
さｔ２とグリル１１０の厚さｔ１との和が、シャドウマ
スク素材の厚さｔ０である。
すように、ダンパー部１５０は、グリル１１０に斜交す
るようにして、グリルと連結して一体的に設けている
が、これにより、グリル１１０のダンパー１５０により
分けられる長さを、隣接するグリルでは異なるようにし
て、互いに外部衝撃によるグリルの振動を抑制できるよ
うにしている。図１（ｂ）（ロ）に示すように、グリル
部はシャドウマスク素材の厚さよりも薄肉の厚さｔ１に
形成されており、高精細な加工に対応できる。図１
（ｂ）（ロ）に示すように、ダンパー１５０は、グリル
１１０に一体的に形成されており、ダンパー１５０の厚
さｔ２とグリル１１０の厚さｔ１との和が、シャドウマ
スク素材の厚さｔ０である。
【００１２】図２に示す第２の例は、ジグザグ状にダン
パー１５０を設けたもので、この場合も、ダンパー１５
０は、基本的には、図１に示す例と同じ働きをする。図
２に示す第２の例の場合も、図１に示す第１の例と同
様、グリル部はシャドウマスク素材の厚さよりも薄肉に
形成され、高精細な加工に対応できる。そして、ダンパ
ー１５０の厚さとグリル１１０の厚さとの和が、シャド
ウマスク素材の厚さである。
パー１５０を設けたもので、この場合も、ダンパー１５
０は、基本的には、図１に示す例と同じ働きをする。図
２に示す第２の例の場合も、図１に示す第１の例と同
様、グリル部はシャドウマスク素材の厚さよりも薄肉に
形成され、高精細な加工に対応できる。そして、ダンパ
ー１５０の厚さとグリル１１０の厚さとの和が、シャド
ウマスク素材の厚さである。
【００１３】図３に示す第３の例は、図６（ｃ）に示す
方法と同じように、グリルの長さを変え、グリル両端部
で波形となるように開孔領域１３０を設けたものであ
り、更に、ダンパ１５０をグリルと直交する方向に１
本、グリルと一体的に連結して設けている。この第３の
例の場合は、図６（ｃ）に示す方法と同じく、グリル両
端部で波形となるように開孔領域１３０を設けることに
より、隣接するグリルの長さを変化させ、グリルの共振
する固有振動数を少しずつ変え、互いに振動をダンパー
１５０を介して抑制する。第３の例の場合も、図１に示
す第１の例や図２に示す第２の例と同様、グリル部はシ
ャドウマスク素材の厚さよりも薄肉に形成され、高精細
な加工に対応できる。そして、ダンパー１５０の厚さと
グリル１１０の厚さとの和が、シャドウマスク素材の厚
さである。尚、本発明のシャドウマスクの素材として
は、インバー材他、各種材料の使用が可能である。
方法と同じように、グリルの長さを変え、グリル両端部
で波形となるように開孔領域１３０を設けたものであ
り、更に、ダンパ１５０をグリルと直交する方向に１
本、グリルと一体的に連結して設けている。この第３の
例の場合は、図６（ｃ）に示す方法と同じく、グリル両
端部で波形となるように開孔領域１３０を設けることに
より、隣接するグリルの長さを変化させ、グリルの共振
する固有振動数を少しずつ変え、互いに振動をダンパー
１５０を介して抑制する。第３の例の場合も、図１に示
す第１の例や図２に示す第２の例と同様、グリル部はシ
ャドウマスク素材の厚さよりも薄肉に形成され、高精細
な加工に対応できる。そして、ダンパー１５０の厚さと
グリル１１０の厚さとの和が、シャドウマスク素材の厚
さである。尚、本発明のシャドウマスクの素材として
は、インバー材他、各種材料の使用が可能である。
【００１４】次いで、本発明のシャドウマスクの製造方
法を図４に基づいて説明する。図４は本発明のシャドウ
マスクの製造方法の工程図で、図１に示す本発明のシャ
ドウマスクの第１の例を作製する場合のものである。
尚、分かり易くするため、図１（ｂ）のＡ６−Ａ７方向
における断面図を図４（ａ）（イ）〜図４（ｆ）（イ）
で示し、これに対応する図１のＡ４−Ａ５方向からみた
断面図を、それぞれ図４（ａ）（ロ）〜図４（ｆ）
（ロ）で示している。尚、Ａ４−Ａ５方向はグリルに直
交する方向である。図４、４１０はシャドウマスク素
材、４１０Ａは第一の面、４１０Ｂは第二の面、４２０
はレジスト、４２０Ａは第一のレジストパターン、４２
０Ｂは第二のレジストパターン、４２１Ａは第一のレジ
ストパターン開口、４２１Ｂは第二のレジストパターン
開口、４３０Ａは第一の凹部、４３０Ｂは第二の凹部、
４４０はエッチング抵抗層、１１０はグリル、１５０は
ダンパーである。
法を図４に基づいて説明する。図４は本発明のシャドウ
マスクの製造方法の工程図で、図１に示す本発明のシャ
ドウマスクの第１の例を作製する場合のものである。
尚、分かり易くするため、図１（ｂ）のＡ６−Ａ７方向
における断面図を図４（ａ）（イ）〜図４（ｆ）（イ）
で示し、これに対応する図１のＡ４−Ａ５方向からみた
断面図を、それぞれ図４（ａ）（ロ）〜図４（ｆ）
（ロ）で示している。尚、Ａ４−Ａ５方向はグリルに直
交する方向である。図４、４１０はシャドウマスク素
材、４１０Ａは第一の面、４１０Ｂは第二の面、４２０
はレジスト、４２０Ａは第一のレジストパターン、４２
０Ｂは第二のレジストパターン、４２１Ａは第一のレジ
ストパターン開口、４２１Ｂは第二のレジストパターン
開口、４３０Ａは第一の凹部、４３０Ｂは第二の凹部、
４４０はエッチング抵抗層、１１０はグリル、１５０は
ダンパーである。
【００１５】先ず、シャドウマスク素材４１０を脱脂、
洗浄処理等を施した（図４（ａ）後、その両面にレジス
ト４２０を塗布し（図４（ｂ））、それぞれの面に外形
加工にあった所定形状のレジストパターン４２０Ａ、４
２０Ｂを形成する。（図４（ｃ）） シャドウマスク素材４１０の第一の面４１０Ａには、グ
リル形成領域にはレジストが無く、ダンパー形成領域、
シャドウマスクの開孔領域の周辺領域にのみにレジスト
を設ける第一のレジストパターン４２０Ａを形成する。
シャドウマスク素材４１０の第二の面４１０Ｂには、形
成するグリルに形状に合ったレジストパターン４２０Ｂ
を形成する。第一のレジスト開口４２１Ａは、エッチン
グにより厚さを薄くするための開口であり、第二のレジ
スト開口４２１Ｂは外形加工を施すための開口である。
レジストパターン４２０Ａ、４２０Ｂは、カゼインある
いはＰＶＡに重クロム酸塩を数％添加し、感光性を持た
せた水溶性レジストを塗布、乾燥した後、所定のパター
ン版（図示していない）を用いて露光、現像処理等を行
い得る。尚、温水ないし水による現像処理後に、クロム
酸処理し、熱処理を行っておく。
洗浄処理等を施した（図４（ａ）後、その両面にレジス
ト４２０を塗布し（図４（ｂ））、それぞれの面に外形
加工にあった所定形状のレジストパターン４２０Ａ、４
２０Ｂを形成する。（図４（ｃ）） シャドウマスク素材４１０の第一の面４１０Ａには、グ
リル形成領域にはレジストが無く、ダンパー形成領域、
シャドウマスクの開孔領域の周辺領域にのみにレジスト
を設ける第一のレジストパターン４２０Ａを形成する。
シャドウマスク素材４１０の第二の面４１０Ｂには、形
成するグリルに形状に合ったレジストパターン４２０Ｂ
を形成する。第一のレジスト開口４２１Ａは、エッチン
グにより厚さを薄くするための開口であり、第二のレジ
スト開口４２１Ｂは外形加工を施すための開口である。
レジストパターン４２０Ａ、４２０Ｂは、カゼインある
いはＰＶＡに重クロム酸塩を数％添加し、感光性を持た
せた水溶性レジストを塗布、乾燥した後、所定のパター
ン版（図示していない）を用いて露光、現像処理等を行
い得る。尚、温水ないし水による現像処理後に、クロム
酸処理し、熱処理を行っておく。
【００１６】次いで、シャドウマスク素材４１０の両面
から、レジストパターンの開口４２１Ａ、４２１Ｂから
露出した領域を、所定の深さにエッチング液にて第一の
エッチングを行い、第一の凹部４３０Ａ、第二の凹部４
３０Ｂを形成する。（図４（ｄ）） この第一の面４１０Ａ側の第一の凹部４３０Ａのエッチ
ングの深さｈは、ダンパー部の厚さであり、且つシャド
ウマスクのグリルの厚さを決定するものであり、これに
より、グリル作製の際の加工精度が影響される。
から、レジストパターンの開口４２１Ａ、４２１Ｂから
露出した領域を、所定の深さにエッチング液にて第一の
エッチングを行い、第一の凹部４３０Ａ、第二の凹部４
３０Ｂを形成する。（図４（ｄ）） この第一の面４１０Ａ側の第一の凹部４３０Ａのエッチ
ングの深さｈは、ダンパー部の厚さであり、且つシャド
ウマスクのグリルの厚さを決定するものであり、これに
より、グリル作製の際の加工精度が影響される。
【００１７】次いで、第一の凹部４３０Ａを埋め、且つ
第一のレジストパターン４２０Ａを覆うように、エッチ
ング抵抗層４４０を塗膜する。（図４（ｅ）） 図４（ｅ）（イ）に示すように、ダンパー４７０形成部
は、エッチング抵抗層４４０により、塗膜され、後述す
る第二のエッチングにおいて、エッチングされないよう
に保護される。
第一のレジストパターン４２０Ａを覆うように、エッチ
ング抵抗層４４０を塗膜する。（図４（ｅ）） 図４（ｅ）（イ）に示すように、ダンパー４７０形成部
は、エッチング抵抗層４４０により、塗膜され、後述す
る第二のエッチングにおいて、エッチングされないよう
に保護される。
【００１８】この後、第二の凹部４３０Ｂ側から第二の
エッチングを行い、貫通させ、グリル４６０部を形成す
る。（図４（ｆ））
エッチングを行い、貫通させ、グリル４６０部を形成す
る。（図４（ｆ））
【００１９】第二のエッチング後、エッチング抵抗層４
４０およびレジストパターン４２０Ａ、４２０Ｂを、ア
ルカリ溶液で剥膜し、洗浄、乾燥し、所望のシャドウマ
スク４００を得る。（図４（ｇ））
４０およびレジストパターン４２０Ａ、４２０Ｂを、ア
ルカリ溶液で剥膜し、洗浄、乾燥し、所望のシャドウマ
スク４００を得る。（図４（ｇ））
【００２０】上記のように、素材に対し、その片面ない
し両面から、貫通させないようにして、第一のエッチン
グを行った後、エッチングにて作成された凹部に、エッ
チング抵抗層を埋め込み、第二のエッチングをエッチン
グ抵抗層の埋め込んでいない側から行い貫通させる、２
段階エッチング方法を、一般には、２段エッチング方法
と言っており、高精度のシャドウマスクの製造等に用い
られる。また、ハーフエッチングとは、通常、加工され
る素材（板材）の厚さを薄くするためのエッチングを言
っており、図４においては、グリル形成領域の第一の面
側からのエッチングを言う。
し両面から、貫通させないようにして、第一のエッチン
グを行った後、エッチングにて作成された凹部に、エッ
チング抵抗層を埋め込み、第二のエッチングをエッチン
グ抵抗層の埋め込んでいない側から行い貫通させる、２
段階エッチング方法を、一般には、２段エッチング方法
と言っており、高精度のシャドウマスクの製造等に用い
られる。また、ハーフエッチングとは、通常、加工され
る素材（板材）の厚さを薄くするためのエッチングを言
っており、図４においては、グリル形成領域の第一の面
側からのエッチングを言う。
【００２１】尚、図４においては、図１に示す本発明の
シャドウマスクの第１の例を作製する場合についての述
べたが、図２に示す第２の例や図３に示す第３の例のシ
ャドウマスクを作製する場合についても、基本的には同
じである。
シャドウマスクの第１の例を作製する場合についての述
べたが、図２に示す第２の例や図３に示す第３の例のシ
ャドウマスクを作製する場合についても、基本的には同
じである。
【００２２】
【発明の効果】本発明は、上記のように、特に、高精度
の薄板化されスリットタイプのシャドウマスクにおい
て、シャドウマスクの製造、フレームへの固定だけで、
ダンパーを設ける工程を別に必要としないスリットタイ
プのシャドウマスクの提供を可能としており、また、図
６（ｃ）に示す方法のように、シャドウマスクのエッチ
ング領域をグリル両端の波形形状にあわせて大きくする
ことが必ずしも必要でないスリットタイプのシャドウマ
スクの提供を可能としている。結果として、カラー陰極
線管（ＣＲＴ）へのシャドウマスクの組み込み工程全体
を簡単なものとし、生産性を向上させるものである。
の薄板化されスリットタイプのシャドウマスクにおい
て、シャドウマスクの製造、フレームへの固定だけで、
ダンパーを設ける工程を別に必要としないスリットタイ
プのシャドウマスクの提供を可能としており、また、図
６（ｃ）に示す方法のように、シャドウマスクのエッチ
ング領域をグリル両端の波形形状にあわせて大きくする
ことが必ずしも必要でないスリットタイプのシャドウマ
スクの提供を可能としている。結果として、カラー陰極
線管（ＣＲＴ）へのシャドウマスクの組み込み工程全体
を簡単なものとし、生産性を向上させるものである。
【図１】本発明のシヤドウマスクの第１の例を示した概
略図
略図
【図２】本発明のシヤドウマスクの第２の例を示した概
略図
略図
【図３】本発明のシヤドウマスクの第３の例を示した概
略図
略図
【図４】本発明のシヤドウマスクの製造方法を示した工
程断面図
程断面図
【図５】従来のシャドウマスクの概略図
【図６】図６（ａ）はカラー陰極線管（ＣＲＴ）の概略
図、図６（ｂ）、図６（ｃ）は、ダンパーを設けた状態
を示した図である。
図、図６（ｂ）、図６（ｃ）は、ダンパーを設けた状態
を示した図である。
１００ シャドウマスク １１０ グリル １１５ スリット １２０ 周辺部 １２２ ノッチ １３０ 開孔領域 １５０ ダンパー ４００Ａ シャドウマスク ４１０ シャドウマスク
素材 ４１０Ａ 第一の面 ４１０Ｂ 第二の面 ４２０ レジスト ４２０Ａ 第一のレジスト
パターン ４２０Ｂ 第二のレジスト
パターン ４２１Ａ 第一のレジスト
パターン開口 ４２１Ｂ 第二のレジスト
パターン開口 ４３０Ａ 第一の凹部 ４３０Ｂ 第二の凹部 ４４０ エッチング抵抗
層 ５００ シャドウマスク ５１０ グリル ５１５ スリット ５２０ 周辺部 ５２２ ノッチ ５３０ 開孔領域 ６００ カラー陰極線管
（ＣＲＴ） ６１０ 電子銃 ６１５ 電子線 ６２０ 偏向ヨーク ６３０ ファンネル ６４０ パネル ６５０ 螢光面 ６６０ シャドウマスク ６６１ グリル ６６５ 波形 ６７０ フレーム ６９０ ダンパー
素材 ４１０Ａ 第一の面 ４１０Ｂ 第二の面 ４２０ レジスト ４２０Ａ 第一のレジスト
パターン ４２０Ｂ 第二のレジスト
パターン ４２１Ａ 第一のレジスト
パターン開口 ４２１Ｂ 第二のレジスト
パターン開口 ４３０Ａ 第一の凹部 ４３０Ｂ 第二の凹部 ４４０ エッチング抵抗
層 ５００ シャドウマスク ５１０ グリル ５１５ スリット ５２０ 周辺部 ５２２ ノッチ ５３０ 開孔領域 ６００ カラー陰極線管
（ＣＲＴ） ６１０ 電子銃 ６１５ 電子線 ６２０ 偏向ヨーク ６３０ ファンネル ６４０ パネル ６５０ 螢光面 ６６０ シャドウマスク ６６１ グリル ６６５ 波形 ６７０ フレーム ６９０ ダンパー
Claims (3)
- 【請求項１】 カラー陰極線管の色選別に用いられるス
リットタイプのシャドウマスクであって、グリルを横切
るダンパーをグリルと一体的に連結して設けたことを特
徴とするスリットタイプのシャドウマスク。 - 【請求項２】 請求項１において、シャドウマスクのス
リット開孔領域でない周辺部、またはシャドウマスクの
スリット開孔領域でない周辺部とスリット開孔領域の外
周部をシャドウマスク素材の厚さとし、これ以外のスリ
ット開孔領域のグリルをシャドウマスクの素材よりも薄
肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さとグリルの厚さの和
がシャドウマスクの素材の厚さであることを特徴とする
スリットタイプのシャドウマスク。 - 【請求項３】 グリルを横切るダンパーをグリルと一体
的に連結して設けた、カラー陰極線管の色選別に用いら
れるスリットタイプのシャドウマスクで、シャドウマス
クのスリット開孔領域でない周辺部、またはシャドウマ
スクのスリット開孔領域でない周辺部とスリット開孔領
域の外周部をシャドウマスク素材の厚さとし、これ以外
のスリット開孔領域のグリルをシャドウマスクの素材よ
りも薄肉に設け、且つ、ダンパー部の厚さとグリルの厚
さの和がシャドウマスクの素材の厚さであるスリットタ
イプのシャドウマスクの製造方法であって、２段エッチ
ング加工と、加工部の板厚をシャドウマスク素材の板厚
よりも薄くするハーフエッチング加工とを併用して、エ
ッチングにより外形加工することを特徴とするスリット
タイプのシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7668497A JPH10255681A (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | スリットタイプのシャドウマスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7668497A JPH10255681A (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | スリットタイプのシャドウマスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10255681A true JPH10255681A (ja) | 1998-09-25 |
Family
ID=13612279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7668497A Withdrawn JPH10255681A (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | スリットタイプのシャドウマスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10255681A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108489964A (zh) * | 2017-02-16 | 2018-09-04 | 爱科来株式会社 | 电解装置 |
-
1997
- 1997-03-13 JP JP7668497A patent/JPH10255681A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108489964A (zh) * | 2017-02-16 | 2018-09-04 | 爱科来株式会社 | 电解装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040601 |