JPH1027389A - Method of manufacturing plastic substrate for optical disk - Google Patents
Method of manufacturing plastic substrate for optical diskInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外周縁部に複屈折異常部分のない光ディスク
用プラスチック基板を提供する。
【解決手段】 射出成形後のアニール処理を基板を揺動
しながら行なうことにより、基板支持部分を特定部分に
固定しない。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a plastic substrate for an optical disk having no birefringence abnormal portion on the outer peripheral edge. SOLUTION: A substrate supporting portion is not fixed to a specific portion by performing an annealing process after injection molding while oscillating the substrate.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光学的手段によって
情報の記録或いは再生を行う光ディスクに用いる基板の
製造方法に関するものである。詳しくは、合成樹脂を成
形して得たディスク用基板をアニール処理する事により
複屈折の小さな基板を得る方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a substrate used for an optical disk for recording or reproducing information by optical means. More specifically, the present invention relates to a method for obtaining a substrate having small birefringence by annealing a disk substrate obtained by molding a synthetic resin.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、大容量、高速のメモリ媒体として
光記録媒体が注目されている。光記録媒体としては再生
専用型光ディスク(CD、CD−ROM等)、記録再生
型光ディスク(リライタブル型)等が知られている。こ
れらの光記録媒体の基板としては一般に合成樹脂製基板
(ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等)が用いられ
ている。2. Description of the Related Art In recent years, optical recording media have attracted attention as large-capacity, high-speed memory media. As an optical recording medium, a read-only optical disk (CD, CD-ROM, etc.), a read / write optical disk (rewritable type) and the like are known. As a substrate of these optical recording media, a substrate made of a synthetic resin (polycarbonate resin, acrylic resin, or the like) is generally used.
【0003】これらのディスク基板は生産性の面から通
常、射出成形法や射出圧縮成形法を用いて行われてい
る。この方法は、固定金型と可動金型との間に型締め状
態で形成されるキャビティー内にプリフォーマット情報
を有する環状の平坦なスタンパーを取付け、キャビティ
ー内に溶融樹脂材を導入する事によってスタンパーの信
号(ピット)やレーザー案内溝等のプリフォーマット情
報が転写されたディスク基板を成形する方法である。[0003] These disk substrates are usually formed by injection molding or injection compression molding in terms of productivity. According to this method, an annular flat stamper having preformat information is mounted in a cavity formed between a fixed mold and a movable mold in a mold clamped state, and a molten resin material is introduced into the cavity. In this method, a disk substrate on which preformat information such as a signal (pit) of a stamper and a laser guide groove is transferred is formed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに成形して得られた合成樹脂製のディスク用基板は、
主として射出成形時の分子配向歪による複屈折が大き
く、ガラス基板を用いた場合より信号特性(例えば、C
/N比)が劣るという問題があり、この成形時の複屈折
を下げる事が種々の方法で検討されている。However, the disk substrate made of synthetic resin obtained in this manner is:
The birefringence due to molecular orientation distortion during injection molding is large, and signal characteristics (for example, C
/ N ratio) is inferior, and reduction of birefringence during molding has been studied by various methods.
【0005】この基板の複屈折は、主として成形時にお
ける分子配向(せん断応力)による複屈折と熱応力によ
る複屈折の総和として観察される。射出成形時における
成形条件や金型圧縮代の最適化によってせん断応力によ
る複屈折を低減させることができる。又、射出成形によ
って得られたディスク用基板を加熱処理(アニール処
理)によって成形時の熱応力による歪は緩和され、熱応
力による複屈折を低減させることができる。[0005] The birefringence of the substrate is mainly observed as the sum of birefringence due to molecular orientation (shear stress) and birefringence due to thermal stress during molding. Birefringence due to shear stress can be reduced by optimizing molding conditions and mold compression allowance during injection molding. In addition, distortion due to thermal stress during molding is reduced by heat treatment (annealing treatment) of the disk substrate obtained by injection molding, and birefringence due to thermal stress can be reduced.
【0006】上記アニール処理としては種々の方法が提
案されている。 (1)基板を保持ケースに立て掛けて入れ、該ケースの
内側で基板の外周二点を支持した状態でアニール処理を
行う方法(例えば特開平3−248345号参照)。 (2)基板の中心孔に支持体を貫通させ、その支持体で
基板を支持してアニール処理する方法(例えば特開平3
−248345号参照)。Various methods have been proposed for the annealing treatment. (1) A method in which a substrate is leaned against a holding case and an annealing process is performed in a state where two outer peripheral points of the substrate are supported inside the case (for example, see JP-A-3-248345). (2) A method in which a support is penetrated through a center hole of a substrate, and the substrate is supported by the support and an annealing process is performed (for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
-248345).
【0007】しかしながら、上記(1)の方法でアニー
ル処理すると、基板がケースと接触している部分、すな
わち、基板外周部の支持位置における複屈折の周方向分
布が局所的に変化し、この複屈折の局所的変化の為、光
ディスクを製造した場合、再生信号を読み出した時に再
生信号のエンベロープが変化するという不具合がある。
又、上記(2)の方法では基板の中心孔を支持体で支持
する為、基板の中心孔の支持体と接触部に自重による歪
が発生し、垂直複屈折低減に必要な比較的高い温度でア
ニール処理する際、基板が変形し、光ディスクの機械特
性が悪化する問題がある。However, when annealing is performed by the method (1), the circumferential distribution of birefringence in the portion where the substrate is in contact with the case, that is, the supporting position of the outer peripheral portion of the substrate is locally changed. When an optical disc is manufactured due to local change in refraction, there is a problem that the envelope of the reproduced signal changes when the reproduced signal is read.
In the above method (2), since the center hole of the substrate is supported by the support, distortion occurs due to its own weight in the support and the contact portion of the center hole of the substrate, and a relatively high temperature required for reducing the vertical birefringence. When the annealing process is performed, there is a problem that the substrate is deformed and the mechanical characteristics of the optical disc are deteriorated.
【0008】本発明は、このような問題点に鑑みて、光
ディスク用プラスチック基板のアニール処理に際して、
光ディスク用プラスチック基板を揺動させながらアニー
ル処理を行なうことにより、保持ケースに接触する光デ
ィスク用プラスチック基板の位置と、光ディスク用プラ
スチック基板の外周部の同じ位置にかかる力が常には同
じにならないようにした。すなわち、光ディスク用プラ
スチック基板のある部分にのみ常に同じ大きさの荷重が
加わることを避ける事により、局部的な複屈折の異常を
無くした光ディスク用プラスチック基板を製造する方法
を提供する事を目的とする。[0008] In view of the above problems, the present invention provides a method for annealing plastic substrates for optical discs.
By performing the annealing process while rocking the plastic substrate for the optical disk, the position of the plastic substrate for the optical disk in contact with the holding case and the force applied to the same position on the outer peripheral portion of the plastic substrate for the optical disk are not always the same. did. That is, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a plastic substrate for an optical disk in which local birefringence abnormality is eliminated by avoiding that a load of the same magnitude is always applied only to a certain portion of the plastic substrate for an optical disk. I do.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、光ディ
スク用プラスチック基板を成形した後、アニール処理を
行う光ディスク用プラスチック基板の製造方法におい
て、基板にアニール処理を行う際、基板を揺動させなが
ら行うことを特徴とする光ディスク用プラスチック基板
の製造方法に存する。SUMMARY OF THE INVENTION The gist of the present invention is to provide a method of manufacturing an optical disk plastic substrate in which a plastic substrate for an optical disk is molded and then annealed. A method for manufacturing a plastic substrate for an optical disk, characterized in that
【0010】本発明に係る製造方法によれば、光ディス
ク用プラスチック基板のアニール処理の際、光ディスク
用プラスチック基板の自重を常に限られた一点又は数点
で同じ力で支持することを避けて、局部的な力が限られ
た一点又は数点にのみ光ディスク用プラスチック基板に
掛かる事が避けられ、局部的な複屈折異常の発生を防止
する事ができる。即ち、アニール処理中光ディスク用プ
ラスチック基板上の点の定点に同じ加重がかかる時間を
10分程度以下にして、局部的複屈折異常の発生を防止
するというものである。According to the manufacturing method of the present invention, when annealing the plastic substrate for an optical disk, the weight of the plastic substrate for the optical disk is not always supported at a limited point or several points by the same force, and the local weight is reduced. It is possible to avoid applying to a plastic substrate for an optical disk only at one or a few points where the local force is limited, and it is possible to prevent the occurrence of local birefringence abnormality. That is, the time during which the same weight is applied to a fixed point on the plastic substrate for an optical disk during the annealing process is set to about 10 minutes or less to prevent the occurrence of local birefringence abnormality.
【0011】本発明の方法の一例につき、図面を用いて
更に説明する。図1は本発明の方法に用いる装置の一例
の概略側面図、図2は揺動状態を示す図1と同様の図
面、図3は図1に示した装置の縦断概略正面図、図4は
本発明で得られた基板のTES波形、図5は従来の方法
で得られた基板のTES波形をそれぞれ示す。図中1は
光ディスク用プラスチック基板、2は保持ケース、3は
保持台、4は枠、5は走行輪、6はレール、7はベース
をそれぞれ示す。An example of the method of the present invention will be further described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic side view of an example of an apparatus used in the method of the present invention, FIG. 2 is a drawing similar to FIG. 1 showing a swinging state, FIG. 3 is a vertical schematic front view of the apparatus shown in FIG. FIG. 5 shows the TES waveform of the substrate obtained by the present invention, and FIG. 5 shows the TES waveform of the substrate obtained by the conventional method. In the figure, 1 is a plastic substrate for an optical disk, 2 is a holding case, 3 is a holding table, 4 is a frame, 5 is a running wheel, 6 is a rail, and 7 is a base.
【0012】光ディスク用基板1は通常合成樹脂、例え
ばポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等を射出成形法
や射出圧縮法を用いて成形される。この成形方法は固定
金型と可動金型との間に形成されるキャビティー内にプ
リフォーマット情報を有する環状の平坦なスタンパーを
取付けて行なわれる。キャビティー内に溶融合成樹脂を
導入する事によってスタンパーの信号(ピット)やレー
ザー案内溝等のプリフォーマット情報が転写されたディ
スク用基板が成形される。成形後、離型用の空気を噴出
しつつ、金型が開かれ、基板が金型から取り出される。The optical disc substrate 1 is usually formed of a synthetic resin, for example, a polycarbonate resin or an acrylic resin, by using an injection molding method or an injection compression method. This molding method is performed by mounting an annular flat stamper having preformat information in a cavity formed between a fixed mold and a movable mold. By introducing the molten synthetic resin into the cavity, a disk substrate to which preformat information such as a signal (pit) of a stamper and a laser guide groove is transferred is formed. After molding, the mold is opened while blowing air for release, and the substrate is removed from the mold.
【0013】本発明は上記で得られたディスク用基板を
図1〜図3に示す装置に取付けてアニール処理を行う事
を特徴とするものである。アニール温度としては通常
は、基板樹脂のガラス転移点(TG)に対して10〜6
0℃低い温度が用いられ、好ましくはTGに対して10
〜50℃低い温度である。ポリカーボネート樹脂を用い
た場合は通常80〜120℃の範囲が好適である。アニ
ール処理がTGに対して10℃未満低い温度ではアニー
ル処理装置から基板を取り出す際、ディスク用基板が変
形したり、アニール処理中に基板の溝やピット形状が変
形する恐れがある。The present invention is characterized in that the disk substrate obtained above is mounted on the apparatus shown in FIGS. 1 to 3 and an annealing process is performed. The annealing temperature is usually 10 to 6 with respect to the glass transition point (TG) of the substrate resin.
A 0 ° C. lower temperature is used, preferably 10 to TG.
5050 ° C. lower temperature. When a polycarbonate resin is used, the temperature is preferably in the range of usually 80 to 120C. If the annealing process is performed at a temperature lower than the TG by less than 10 ° C., when the substrate is taken out from the annealing device, the disk substrate may be deformed, or the groove or pit shape of the substrate may be deformed during the annealing process.
【0014】又、アニール処理時間は30分以上、好ま
しくは30分〜5時間の範囲である。該アニール処理時
間が30分未満では基板の複屈折や基板のそり(Til
t)が変化している過程にあり、高温高湿度の加速試験
において特性が変化する恐れがある。図1〜図3に示す
装置は本発明の方法を実施する装置の一例である。光デ
ィスク用プラスチック基板1を保持ケース2で保持し、
光ディスク用プラスチック基板1を揺動させながらアニ
ール処理する。具体的には、図1〜図3に示した保持ケ
ース2に収容された光ディスク用プラスチック基板1を
加熱炉(オーブン)に投入する際に、加熱炉内に既に設
置されたレール6の上に乗せ、走行させながらアニール
を行なう。レール6は、図2に示すごとく、左右のレー
ル6の高さを異ならしめて保持ケース2を揺動するよう
にされており、図2では右側のレール6の高さが高くさ
れているが、他の位置では左側のレール6の高さが高く
されるように設けられている。[0014] The annealing time is 30 minutes or more, preferably 30 minutes to 5 hours. If the annealing time is less than 30 minutes, birefringence of the substrate and warpage of the substrate (Til)
Since t) is in the process of changing, the characteristics may change in an accelerated test at high temperature and high humidity. The apparatus shown in FIGS. 1 to 3 is an example of an apparatus for performing the method of the present invention. The plastic substrate 1 for the optical disk is held by the holding case 2,
Annealing is performed while rocking the optical disc plastic substrate 1. Specifically, when the optical disc plastic substrate 1 accommodated in the holding case 2 shown in FIGS. 1 to 3 is put into a heating furnace (oven), the plastic substrate 1 is placed on a rail 6 already installed in the heating furnace. Anneal while carrying and running. As shown in FIG. 2, the rails 6 are configured to swing the holding case 2 with different heights of the left and right rails 6, and in FIG. 2, the height of the right rail 6 is increased. At other positions, the height of the left rail 6 is increased.
【0015】ベース7上に設けられた左右のレール6の
高さを互い違いに異ならしめることにより保持ケース2
を揺動するようにした構造であるが、図に示すようなレ
ール6と走行輪5による揺動方式のほか、ローラーコン
ベア式、ベルトコンベア式、吊り下げ式等の方式が考え
られ、また、保持ケース2を設けた保持台3の下部に圧
力シリンダーを設け、この圧力シリンダーにより走行輪
5を上下させ、揺動させるようなことも考えられる。揺
動方式については、場合に応じ適宜選べば良く、いずれ
にしても保持ケース2の走路の高さを互い違いに異なら
しめれば良い。The height of the left and right rails 6 provided on the base 7 is alternately changed so that the holding case 2
Is swingable, but in addition to the swinging method using the rails 6 and the running wheels 5 as shown in the figure, a roller conveyor type, a belt conveyor type, a hanging type, and the like are conceivable. It is also conceivable that a pressure cylinder is provided below the holding table 3 on which the holding case 2 is provided, and the traveling wheel 5 is moved up and down by the pressure cylinder to swing. The swinging method may be appropriately selected depending on the case, and in any case, the height of the running path of the holding case 2 may be made different from each other.
【0016】保持ケース2は保持台3に設けられた枠4
中に置くような構造とし、保持台3と分離可能な構造と
しておけば、取扱い上も便利である。射出成形後の厚さ
1.2mmの光ディスク用プラスチック基板1を本発明
方法により炉内温度90℃で3時間アニール処理した。
最大傾き角度が交互に水平面に対して15度になるよう
にした。尚、角度変化は3分に一回行うようにした。そ
のアニール処理した直径130mm光ディスク用基板を
徐冷した後、基板の外周部TES波形を図4に示す。同
様にして揺動を加えずにアニール処理を行ったプラスチ
ック基板1の外周部のTESを示したグラフを図5に示
す。本発明によるアニール処理後のTES波形は従来法
によるものと比較して明らかに局部的な異常が改善され
ていることが分かる。これは、基板1を揺動させること
により基板1が保持ケース2と接触する部分に加わる自
重が集中しなくなるためと考えられる。The holding case 2 includes a frame 4 provided on a holding table 3.
If the structure is such that it is placed inside, and if it is a structure that can be separated from the holding table 3, it is convenient for handling. The plastic substrate 1 for an optical disk having a thickness of 1.2 mm after the injection molding was annealed by a method of the present invention at a furnace temperature of 90 ° C. for 3 hours.
The maximum inclination angle was alternately set to 15 degrees with respect to the horizontal plane. The angle change was performed once every three minutes. After the annealed optical disk substrate having a diameter of 130 mm is gradually cooled, an outer peripheral portion TES waveform of the substrate is shown in FIG. FIG. 5 is a graph showing the TES of the outer peripheral portion of the plastic substrate 1 that has been subjected to the annealing process without applying the swing in the same manner. It can be seen that the TES waveform after the annealing treatment according to the present invention is clearly improved in local anomalies as compared with that according to the conventional method. This is presumably because the swing of the substrate 1 prevents the weight of the substrate 1 from being concentrated on the portion where the substrate 1 contacts the holding case 2.
【0017】本発明によれば、顕著な局部的複屈折異常
の改善が見られ、実施例で得られた光ディスク用プラス
チック基板のサンプルテストの結果、局部的な複屈折異
常不良は0%であり、その効果を確認した。According to the present invention, a remarkable improvement in local birefringence abnormality was observed. As a result of a sample test of the plastic substrate for an optical disk obtained in the embodiment, the local birefringence abnormality was 0%. , Confirmed its effect.
【0018】[0018]
【発明の効果】本発明によれば、光ディスク用プラスチ
ック基板のアニール処理時に光ディスク用プラスチック
基板を揺動させることにより、光ディスク用プラスチッ
ク基板の限られた一点又は数点に同じ加重がかかること
を避けた事で、光ディスク用プラスチック基板の局部的
な複屈折異常を無くし、複屈折の均一な光ディスク用プ
ラスチック基板を得る事ができる。その光ディスク用プ
ラスチック基板を用いて作製した光ディスクは記録再生
信号及びTES波形に局所的な異常の無い光ディスクと
する事ができる。According to the present invention, the plastic substrate for an optical disk is swung during the annealing process of the plastic substrate for an optical disk, so that the same weight is not applied to one or several points of the plastic substrate for an optical disk. As a result, it is possible to eliminate the local birefringence abnormality of the plastic substrate for optical discs and obtain a plastic substrate for optical discs having uniform birefringence. An optical disk manufactured using the plastic substrate for an optical disk can be an optical disk having no local abnormality in a recording / reproducing signal and a TES waveform.
【図1】本発明の方法に用いる装置の一例の概略側面
図。FIG. 1 is a schematic side view of an example of an apparatus used in the method of the present invention.
【図2】揺動状態を示す概略側面図。FIG. 2 is a schematic side view showing a swinging state.
【図3】図1に示した装置の縦断概略正面図。FIG. 3 is a schematic vertical sectional front view of the apparatus shown in FIG. 1;
【図4】本発明で得られた基板の外周部におけるTES
波形。FIG. 4 shows TES at the outer peripheral portion of the substrate obtained by the present invention.
Waveform.
【図5】従来の方法により得られた基板の外周部におけ
るTES波形。FIG. 5 shows a TES waveform at an outer peripheral portion of a substrate obtained by a conventional method.
1 光ディスク用プラスチック基板 2 保持ケース 3 保持台 4 枠 5 走行輪 6 レール 7 ベース DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plastic substrate for optical disks 2 Holding case 3 Holding table 4 Frame 5 Running wheel 6 Rail 7 Base
Claims (2)
た後、アニール処理を行う光ディスク用プラスチック基
板の製造方法において、基板にアニール処理を行う際、
基板を揺動させながら行う事を特徴とする光ディスク用
プラスチック基板の製造方法。In a method for manufacturing a plastic substrate for an optical disk, the method comprises the steps of:
A method for producing a plastic substrate for an optical disk, wherein the method is performed while the substrate is rocked.
ースに保持して炉中で移動させながらアニール処理を行
なうに当り、保持ケースの走路の高さを互い違いに異な
らしめることにより保持ケースを揺動させつつ移動させ
る事を特徴とする請求項1に記載の光ディスク用プラス
チック基板の製造方法。2. When performing an annealing process while holding a plastic substrate for an optical disc in a holding case and moving the plastic substrate in a furnace, the height of the track of the holding case is alternately changed so as to swing the holding case. 2. The method according to claim 1, wherein the plastic substrate is moved.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18078096A JPH1027389A (en) | 1996-07-10 | 1996-07-10 | Method of manufacturing plastic substrate for optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18078096A JPH1027389A (en) | 1996-07-10 | 1996-07-10 | Method of manufacturing plastic substrate for optical disk |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1027389A true JPH1027389A (en) | 1998-01-27 |
Family
ID=16089208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18078096A Pending JPH1027389A (en) | 1996-07-10 | 1996-07-10 | Method of manufacturing plastic substrate for optical disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1027389A (en) |
-
1996
- 1996-07-10 JP JP18078096A patent/JPH1027389A/en active Pending
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