JPH10275323A

JPH10275323A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH10275323A
Application number: JP7862597A
Authority: JP
Inventors: Akira Ishikawa; 彰石川; Noriyuki Kitaori; 典之北折; Kazuhiko Nakayama; 和彦中山
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1997-03-28
Filing date: 1997-03-28
Publication date: 1998-10-13

Abstract

(57)【要約】【課題】製造時におけるスリット性が高く、且つエラ
ーレートが低減した磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】非磁性支持体と、該非磁性支持体上に設
けられた、磁性体粉末および結合剤を含有する磁性層と
を具備してなる本発明の磁気記録媒体は、上記非磁性支
持体と上記磁性層との間および上記非磁性支持体におけ
る上記磁性層と反対側の面それぞれに、互いに異なる材
料からなる薄膜層を設けたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関す
るものであり、更に詳しくは、その製造時におけるスリ
ット性が高く、且つエラーレートが低減した磁気記録媒
体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気テープ等の磁気記録媒体は、一般に
支持体上に磁性体粉末および結合剤を含有する磁性層が
塗布により形成された構造を有している。このようなタ
イプの磁気テープを所定規格のテープカートリッジに収
容して用いる場合に、その記録容量を高めるためには、
磁気テープの厚み、特に支持体の厚みを小さくせざるを
得ない。

【０００３】しかしながら、支持体の厚みを小さくする
と、磁気テープの剛性が低下するため、その製造時にお
けるスリット工程が不安定となり、スリット幅に振れが
生じたり、磁気テープに含まれている各種粉末がスリッ
ト端面からこぼれ落ちて、これがエラーレート増加の原
因になるという欠点があった。また、高速スリットが困
難になるという欠点もあった。

【０００４】一方、磁気特性の改善を目的として、支持
体上に薄膜を形成する技術としては、例えば、特開昭５
０−１１４２０６号公報および特開平６−１０３５５７
号公報に記載のもの等が知られている。しかし、上記公
報に記載の技術では、支持体上に金属薄膜層を１層のみ
形成するだけなので、磁気記録媒体の剛性が十分ではな
く、スリット工程を安定化させるには未だ満足のいくも
のではなかった。その上、上記公報に記載の技術は、磁
気記録媒体の導電性の向上や磁性層へのバックコート層
の転写の防止を目的とするものであり、スリット工程の
安定化については何ら言及されていない。

【０００５】従って、本発明の目的は、製造時における
スリット性が高く、且つエラーレートが低減した磁気記
録媒体を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、支持体の両面おける特定の位置に特定の層を設
けた磁気記録媒体により、上記目的が達成され得ること
を知見した。

【０００７】本発明は上記知見基づきなされたもので、
非磁性支持体と、該非磁性支持体上に設けられた、磁性
体粉末および結合剤を含有する磁性層とを具備してなる
磁気記録媒体において、上記非磁性支持体と上記磁性層
との間および上記非磁性支持体における上記磁性層と反
対側の面それぞれに、互いに異なる材料からなる薄膜層
を設けたことを特徴とする磁気記録媒体を提供すること
により上記目的を達成したものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の好
ましい実施形態を、図面を参照して説明する。ここで、
図１は本発明の磁気記録媒体の第１の実施形態の構造を
示す模式図である。

【０００９】図１に示す磁気記録媒体１は、非磁性支持
体２と、該支持体２の一面側に設けられた磁性層３と、
該支持体２の他面側に設けられたバックコート層４とを
具備している。そして、上記支持体２と上記磁性層３と
の間には、第１薄膜層５が設けられており、上記支持体
２と上記バックコート層４との間には、第２薄膜層６が
設けられている。以下、上記支持体及び各層の詳細につ
いてそれぞれ説明する。

【００１０】上記支持体２を構成する非磁性材料として
は、ポリエチレンテレフタレート，ポリブチレンテレフ
タレート，ポリエチレンナフタレート，ポリシクロヘキ
シレンジメチレンテレフタレート，ポリエチレンビスフ
ェノキシカルボキシレート等のポリエステル類、ポリエ
チレン，ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロ
ースアセテートブチレート，セルロースアセテートプロ
ピオネート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル，ポ
リ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリアミド、ポリ
カーボネート等のプラスチック材料が挙げられる。これ
らの材料から構成される上記支持体には、必要に応じて
一軸または二軸の延伸処理や、コロナ放電処理等が施さ
れていてもよい。

【００１１】特に、薄型で且つ高耐久性の磁気記録媒体
を得る観点から、上記支持体２として、３５０〜１００
０ｋｇ／ｍｍ²のヤング率および１．０〜５．８μｍの
厚みを有するポリエステル製フィルムを用いることが好
適である。即ち、ヤング率が３５０ｋｇ／ｍｍ²が満た
ないと、磁気記録媒体の耐久性等を改善することが困難
な場合があり、仮に改善できたとしても、その場合には
薄膜層５，６を非常に厚くする必要があるので現実的で
なく、１０００ｋｇ／ｍｍ²を超えると、逆に剛性およ
び強度が強くなりすぎるため却って好ましくない場合が
あるので上記範囲内とすることが好ましい。また、上記
厚みが１．０μｍに満たないと、支持体２の厚みと薄膜
層５，６の厚みとの比が大きくなり過ぎて該支持体２の
剛性よりも該薄膜層５，６そのものの剛性がつよく出
て、却って磁気記録媒体が硬くなってしまうことがあ
り、５．８μｍを超えると、支持体２の厚みと薄膜層
５，６の厚みとの比が小さすぎて、該薄膜層５，６を設
けた効果が小さくなる場合があるので上記範囲内とする
ことが好ましい。上記ポリエステル製フィルムの支持体
を用いる場合、そのヤング率は５００〜１０００ｋｇ／
ｍｍ²であることが更に好ましく、６００〜９５０ｋｇ
／ｍｍ²であることが一層好ましい。また、厚みは２〜
５．５μｍであることが更に好ましく、２．５〜５．３
μｍであることが一層好ましい。また、上記ポリエステ
ル製フィルム上には高密度記録に適応する磁性層が塗布
される関係上、平滑な表面を有する必要があり、且つ、
適切な走行性も有する必要があるため、適度の凹凸を有
する必要がある。従って、該ポリエステル製フィルムの
中心線表面粗さＲａは、下限値が好ましくは０．００１
５μｍ、更に好ましくは０．００２μｍ、最も好ましく
は０．００３μｍであり、上限値が好ましくは０．０２
５μｍ、更に好ましくは０．０２０μｍ、最も好ましく
は０．０１８μｍである。また、該ポリエステル製フィ
ルムの十点平均粗さＲｚは、下限値が好ましくは０．０
２０μｍ、更に好ましくは０．０２５μｍ、最も好まし
くは０．０３０μｍであり、上限値が好ましくは０．１
２μｍ、更に好ましくは０．１０μｍ、最も好ましくは
０．０９μｍである。上記ポリエステルとしてはＰＥＴ
（ポリエチレンテレフタレート）やＰＥＮ（ポリエチレ
ンナフタレート）等が好適に用いられる。

【００１２】上記磁性層３は、上述の通り磁性体粉末お
よび結合剤を含有している。上記磁性体粉末としては、
磁気記録媒体に通常用いられるもの、例えば金属酸化物
磁性粉末、金属磁性粉末及び六方晶系フェライト磁性粉
末等を特に制限無く用いることができる。同様に上記結
合剤も磁気記録媒体に通常用いられるもの、例えば熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂および反応型樹脂ならびにこれ
らの混合物等を特に制限無く用いることができる。

【００１３】上記磁性層３は、上記磁性体粉末および上
記結合剤ならびに必要に応じて用いられる各種添加剤等
が溶剤に分散・溶解してなる磁性塗料を塗布することに
より形成されている。上記溶剤としては、ケトン系溶
剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、芳香族炭化水素
系溶剤、塩素化炭化水素系溶剤等を適宜選択して使用で
きる。また、特開昭５７−１６２１２８号公報に記載の
各種溶剤等を使用することもできる。上記添加剤として
は、帯電防止剤、潤滑剤および研磨剤等を適宜選択して
使用できる。また、特開昭５７−１６２１２８号公報に
記載の各種添加剤を使用することもできる。

【００１４】上記磁性層３の厚みは、上記支持体２より
も薄いことが好ましい。更に、高Ｃ／Ｎ、高出力の点か
ら、後述する第３の実施形態のように、該磁性層３を多
層にしたり、多層にした磁性層の上層を特に薄くする等
の工夫をすることが好ましい。特に、出力及び耐久性の
向上の点から、該磁性層３の厚みは０．１〜２．５μｍ
であることが好ましく、０．１５〜２．０μｍであるこ
とが更に好ましい。尚、該磁性層３と上記第１薄膜層５
との間に、該磁性層３に対するアンダーコート層（結合
剤、フィラー等を含む）を設けてもよい。

【００１５】上記バックコート層４は、任意に用いられ
る層であり、通常公知のバックコート塗料を塗布するこ
とにより形成されている。該バックコート塗料に含まれ
る成分には、結合剤、帯電防止剤、潤滑剤および研磨剤
等がある。これらの成分としては、上記磁性塗料に含ま
れる成分と同様のものが用いられる。

【００１６】而して、図１に示す磁気記録媒体１におい
ては、上述の通り、上記支持体２と上記磁性層３との間
に、第１薄膜層５が設けられており、上記支持体２と上
記バックコート層４との間に、第２薄膜層６が設けられ
ている。これら２つの薄膜層は互いに異なる材料から形
成されている。

【００１７】上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜層６を
設けることによって、磁気記録媒体自身の剛性を最適化
することができ、磁気記録媒体（特に磁気テープ）の幅
方向の伸びの変位を抑えることが出来る。その結果、ス
リットの際の幅振れが小さくなり、スリット工程が安定
化される。特に、後述する実施例から明らかなように、
高速スリットも可能となる。また、スリット性が向上す
ることによって、スリット端面が平滑なものとなり、磁
気記録媒体に含まれている磁性体粉末等の各種粉末が該
スリット端面からこぼれ落ちることが防止され、磁気記
録媒体のエラーレートが大幅に低減する。

【００１８】上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜層６を
形成する材料は、磁気記録媒体の剛性を最適化し得るも
のであり且つ互いに異なる材料であれば、その種類に特
に制限は無いが、特に、成膜性、剛性、強度、硬度の適
正化の点から、上記第１薄膜層５は金属もしくは半金属
またはそれらの合金から形成されており、上記第２薄膜
層６は金属または半金属の酸化物、窒化物、炭化物、ケ
イ化物またはそれらの複合物から形成されていることが
好ましい。該第１薄膜層５及び該第２薄膜層６を形成す
る材料として斯かる材料を用いることによって、剛性の
バランスを適正なものとすることができる。

【００１９】上記第１薄膜層５を形成する金属Ｆｅ、Ｎ
ｉ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｕ、
Ｚｎ、Ｚｒ及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも
１種が好ましく用いられ、該半金属としてはＢ、Ｓｉ、
Ｇｅ及びＳｂからなる群より選ばれる少なくとも１種が
好ましく用いられるが、これらに限定されるものではな
い。また、上記第１薄膜層５は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｔ
ｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、
Ｓｎ、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＳｂからなる群より選ばれた
合金から形成されていてもよい。これらの材料のうち、
特に好ましく用いられるものはＣｏ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ
及びＮｉ等の金属の単体、Ｓｉ及びＧｅ等の半金属の単
体又はそれらの合金であり、とりわけ好ましく用いられ
るものはＣｏ、Ｔｉ、Ｎｉ及びＣｕ等の金属の単体、Ｓ
ｉ及びＧｅ等の半金属の単体又はそれらの合金である。
一方、上記第２薄膜層６を形成する金属または半金属の
酸化物、窒化物、炭化物、ケイ化物またはそれらの複合
物は、上記第１薄膜層５の形成に用いられる金属または
半金属から形成されることが好ましい。上記第２薄膜層
６を斯かる材料から形成することによって、特に、該第
２薄膜層６がセラミックス化して磁気記録媒体の剛性を
更に最適化し得るという利点がある。

【００２０】上記第１薄膜層５は磁性を有する金属また
はその合金から形成されていてもよく、或いは磁性を有
しない金属もしくは半金属またはそれらの合金から形成
されていてもよい。また、上記第２薄膜層６は、磁性を
有する、金属の酸化物から形成されていてもよく、或い
は磁性を有しない、金属または半金属の酸化物、窒化
物、炭化物またはケイ化物から形成されていてもよい。

【００２１】上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜層６
は、公知の薄膜形成手段によってそれぞれ形成されてい
る。斯かる薄膜形成手段としては、湿式メッキ法や真空
蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の真空
製膜法（乾式メッキ法）が挙げられ、特に耐食性の点か
ら真空製膜法を用いることが好ましい。

【００２２】上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜層６の
厚みに特に制限はなく、使用する支持体の材質や厚み等
に応じて適宜選択されるが、一般にそれぞれ０．０５〜
１μｍであることが好ましく、０．０８〜０．３μｍで
あることが更に好ましい。この場合、両者の厚みは同一
でもよく、或いは異なっていてもよいが、両者の厚みの
比率（第１薄膜層５／第２薄膜層６）は０．６〜１．２
であることが好ましく、０．７〜１．１であることが更
に好ましい。

【００２３】また、上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜
層６の厚みの合計は０．０５〜１μｍであることが好ま
しく、０．０８〜０．６μｍであることが更に好まし
く、０．１〜０．４μｍであることが一層好ましい。上
記厚みの合計が０．０５μｍに満たないと該薄膜層５，
６を設けたことによる効果が十分に発現しないことがあ
り、１μｍを超えると、用いる材料にもよるが一般に磁
気記録媒体の剛性が強くなり過ぎてヘッドとの当たりが
不良になり、出力が低下したりヘッドの偏摩耗を招く等
の問題が起きる場合があるので上記範囲内とすることが
好ましい。

【００２４】上述の構成を有する本実施形態の磁気記録
媒体１においては、その全体の厚みは２．５〜８．０μ
ｍであることが好ましく、３．０〜７．０μｍであるこ
とが更に好ましい。

【００２５】次に、本発明の磁気記録媒体の第２及び第
３の実施形態を図２及び図３を参照して説明する。ここ
で、図２及び図３は、それぞれ本発明の磁気記録媒体の
第２及び第３の実施形態の構造を示す模式図（それぞれ
図１相当図）である。尚、第２及び第３の実施形態につ
いては、上述の第１の実施形態と異なる点についてのみ
説明し、特に説明しない点については上述の第１の実施
形態に関して詳述した説明が適宜適用される。また、図
２及び図３において図１と同じ部材には同じ符号を付し
てある。

【００２６】図２に示す実施形態の磁気記録媒体１にお
いては、上記第１及び第２薄膜層５，６の少なくとも何
れか一方（図２においては両方）の表面（外表面）にカ
ーボンを主成分とする薄膜（以下、単に「カーボン薄
膜」という）が連続して設けられている。即ち、上記第
１薄膜層５と上記磁性層３との間に第１カーボン薄膜７
が設けられており、上記第２薄膜層６と上記バックコー
ト層４との間に第２カーボン薄膜８が設けられている。
斯かるカーボン性膜を設けることによって、各層間の膜
密着性が向上し、磁気記録媒体の耐久性が向上すると共
に、記録再生特性が向上するという利点がある。

【００２７】上記第１カーボン薄膜７および上記第２カ
ーボン薄膜８は、それぞれ炭素質材料、例えばダイヤモ
ンドライクカーボン（ＤＬＣ）やガラス状カーボン、グ
ラファイトライクカーボン（ＧＬＣ）等から形成されて
いる。この場合、上記第１カーボン薄膜７および上記第
２カーボン薄膜８を形成する材料は同一でもよく、或い
は異なっていてもよいが、特に、良好なヘッド当たりを
実現させて高い出力を得るためには、両層がＤＬＣから
形成されていることが好ましい。

【００２８】上記第１カーボン薄膜７および上記第２カ
ーボン薄膜８は、それぞれ蒸着法、直流スパッタ法、交
流スパッタ法、高周波マグネトロンスパッタ法、イオン
ビームスパッタ法等の各種のＰＶＤ（フィジカルベーパ
ーディポジション）手段および／またはＣＶＤ（ケミカ
ルベーパーディポジション）手段により形成されてい
る。

【００２９】上記第１カーボン薄膜７および上記第２カ
ーボン薄膜８の厚みは、同一或いは異なっていてもよ
く、好ましくは適度な剛性を得る点からそれぞれ０．０
６〜１μｍであり、更に好ましくは０．０８〜０．６μ
ｍである。また、両者の厚みの合計は、良好なヘッド当
たりを実現させて高い出力を得る点から０．０８〜０．
８μｍであることが好ましく、０．１〜０．４μｍであ
ることが更に好ましい。

【００３０】図３に示す実施形態の磁気記録媒体１にお
いては、上記第１薄膜層５と上記磁性層３との間に非磁
性または磁性の塗膜層９が設けられている。斯かる塗膜
層９を設けることによって、層間の結着性が向上して磁
気記録媒体の耐久性が良好になるという利点がある。

【００３１】上記塗膜層９が非磁性の場合、該塗膜層９
は、非磁性粉末を主成分とし、これに加えて、結合剤、
帯電防止剤、潤滑剤および研磨剤等が溶剤に分散・溶解
してなる非磁性塗料を塗布することにより形成される。
一方、上記塗膜層９が磁性の場合、該塗膜層９は、硬磁
性粉末や軟磁性粉末等の磁性体粉末を主成分とし、これ
に加えて結合剤、帯電防止剤、潤滑剤および研磨剤等が
溶剤に分散・溶解してなる磁性塗料を塗布することによ
り形成される。

【００３２】上記塗膜層９を設ける場合には、該塗膜層
９を上記磁性層３と共にウエット・オン・ウエット方式
による同時重層塗布法によって形成することが、両者の
境界面が滑らかになると共に上記磁性層３の表面性が良
好になる点から好ましい。

【００３３】上記塗膜層９の厚みは、磁気記録媒体の曲
げ剛性、カッピングやカーリング発生防止等の点から
０．０５〜２μｍであることが好ましく、０．１〜０．
５μｍであることが更に好ましい。

【００３４】以上、本発明の磁気記録媒体をその好まし
い実施形態に基づき説明したが、本発明は上記実施形態
に制限されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において
種々の変更が可能である。例えば、本発明の磁気記録媒
体は、上記実施形態の他に、図４に示すような構成、即
ち、非磁性支持体２と、該支持体２の一面側に設けられ
た磁性層３と、該支持体２の他面側に設けられたバック
コート層４とを具備し；該支持体２と該磁性層３との間
に第１薄膜層５が設けられていると共に該支持体２と該
バックコート層４との間に第２薄膜層６が設けられてお
り；また、該第１薄膜層５と該磁性層３との間に第１カ
ーボン薄膜７が設けられていると共に該第２薄膜層６と
該バックコート層４との間に第２カーボン薄膜８が設け
られており；更に、該第１薄膜層５と該磁性層３との間
に非磁性または磁性の塗膜層９が設けられている構成で
もよい。また、上記支持体２と上記第１薄膜層５又は上
記第２薄膜層６との間にプライマー層を設けたり、或い
は、磁気記録媒体における何れかの層間に長波長信号を
使用するハードシステムに対応してサーボ信号等を記録
するための他の磁性層及びその他の層を設けてもよい。
また、図１〜図４に示す磁気記録媒体においては、バッ
クコート層を形成しなくてもよい。また、図２および図
４に示す磁気記録媒体においては、第１カーボン薄膜お
よび第２カーボン薄膜の両方が形成されているが、これ
らの層のうちの何れか一方は形成しなくてもよい。ま
た、本発明の磁気記録媒体は、８ｍｍビデオテープやＤ
ＡＴテープ、ＤＬＴテープ、ＤＶＣテープ等の磁気テー
プとして好適であるが、特にこれらのうち総厚が薄い磁
気テープとして好適である。

【００３５】

【実施例】以下、実施例により本発明の有効性を例証す
る。しかしながら、本発明の範囲は斯かる実施例に制限
されるものではない。

【００３６】〔実施例１〕厚み４．５μｍのＰＥＴフィ
ルム（支持体；Ｒａ＝０．００６μｍ、Ｒｚ＝０．０４
５μｍ）の一面に真空蒸着によってＣｏからなる第１薄
膜層（厚み０．１５μｍ）を形成すると共に、該ＰＥＴ
フィルムの他面に真空蒸着によってＣｏ−Ｏからなる第
２薄膜層（厚み０．１５μｍ）を形成した。次いで、上
記第１薄膜層および第２薄膜層上に、それぞれマイクロ
波でプラズマＣＶＤ法によってＤＬＣからなる第１カー
ボン薄膜（厚み０．０３μｍ）および第２カーボン薄膜
（厚み０．０３μｍ）を形成した。上記第１カーボン薄
膜上に下記配合からなる磁性塗料を塗布して厚み０．８
μｍの磁性層を形成し、引き続き９０℃、３００ｋｇ／
ｃｍの条件でカレンダー処理した後、上記第２カーボン
薄膜上に下記配合からなるバックコート塗料を塗布して
厚み０．５μｍのバックコート層を形成した。この後、
５０℃にて１２時間でエージングした後、速度３００ｍ
／ｍｉｎで３．８１ｍｍ幅にスリットし、ＤＤＳ−２用
カセットに装填してサンプルカセットとした。

【００３７】＜磁性塗料の配合＞・鉄を主体とする針状金属磁性粉末１００重量部（長軸長：０．０６５μｍ、軸比：５、Ｈｃ：１９８０Ｏｅ、飽和磁化：１４３ｅｍｕ／ｇ）・アルミナ（研磨剤、平均粒子径：０．１８μｍ）７重量部・カーボンブラック（帯電防止剤）２重量部（平均一次粒子径：０．０２μｍ）・塩化ビニル系共重合体（結合剤）１０重量部・ポリウレタン樹脂（結合剤）７重量部・ステアリン酸（潤滑剤）１．５重量部・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤）３重量部・イソシアネート系硬化剤４重量部・メチルエチルケトン１２０重量部・トルエン８０重量部・シクロヘキサノン４０重量部

【００３８】＜バックコート塗料の配合＞・カーボンブラック（帯電防止剤）４０重量部（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）・ニッポラン２３０１（結合剤）５０重量部〔商品名日本ポリウレタン工業（株）のポリウレタン〕・ポリイソシアネート（硬化剤）４重量部〔武田薬品工業（株）製、商品名（Ｄ−２５０Ｎ）〕・ニトロセルロース２０重量部・ステアリン酸１重量部・メチルエチルケトン１４０重量部・トルエン１４０重量部・シクロヘキサノン１４０重量部

【００３９】〔実施例２〕厚み５．５μｍのＰＥＴフィ
ルム（支持体；Ｒａ＝０．００５μｍ、Ｒｚ＝０．０４
８μｍ）の一面に真空蒸着によってＮｉ−Ｆｅ（８０−
２０ａｔ％）からなる第１薄膜層（厚み０．１μｍ）を
形成すると共に、該ＰＥＴフィルムの他面に真空蒸着に
よってＳｉＯ_xからなる第２薄膜層（厚み０．１５μ
ｍ）を形成した。次いで、上記第２薄膜層上に、マイク
ロ波プラズマＣＶＤ法によってＤＬＣからなる第２カー
ボン薄膜（厚み０．０４μｍ）を形成した。その後の操
作は、スリット速度を４００ｍ／ｍｉｎとする以外は実
施例１と同様にして磁気テープを得た。

【００４０】〔実施例３〕厚み４．５μｍのＰＥＴフィ
ルム（支持体；Ｒａ＝０．００６μｍ、Ｒｚ＝０．０４
５μｍ）の一面に真空蒸着によってＡｌ−Ｏからなる第
１薄膜層（厚み０．３μｍ）を形成すると共に、該ＰＥ
Ｔフィルムの他面に真空蒸着によってＣｕからなる第２
薄膜層（厚み０．１５μｍ）を形成した。その後の操作
は、実施例１と同様にして磁気テープを得た。

【００４１】〔比較例１〕第１カーボン薄膜、第１薄膜
層、第２カーボン薄膜および第２薄膜層を設けず、厚み
４．５μｍのＰＥＴフィルム（支持体；Ｒａ＝０．００
６μｍ、Ｒｚ＝０．０４５μｍ）をそのまま用いる以外
は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

【００４２】〔性能評価〕実施例および比較例で得られ
た磁気テープの性能を評価するために、１）スリット幅
の振れ、２）スリット端面からの粉末のこぼれ落ち、
３）スリット端面の状態及び４）エラーレートを下記の
方法で測定した。その結果を表１に示す。

【００４３】＜スリット幅の振れ＞光学顕微鏡でテープ
幅を測定した。

【００４４】＜スリット端面からの粉末のこぼれ落ちお
よびスリット端面の状態＞走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）に
て観察した。

【００４５】＜エラーレート＞ＤＤＳ−２ドライブを用
いて測定した。

【００４６】

【表１】

【００４７】表１に示す結果から明らかなように、実施
例で得られた磁気テープは、比較例で得られた磁気テー
プに比して、良好にスリットされており、エラーレート
の低いものであることが分かる。

【００４８】

【発明の効果】以上、詳述した通り、本発明によれば、
上記薄膜層を用いることによって、磁気記録媒体自身の
剛性が最適なものになり、磁気記録媒体（特に磁気テー
プ）の幅方向の伸びの変位を抑えることが出来る。その
結果、スリットの際の幅振れが小さくなり、スリット工
程が安定化される。また、高速スリットも可能となる。
また、スリット性が向上することによってスリット端面
からの各種粉末のこぼれ落ちが防止され、エラーレート
が大幅に低減した磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の第１の実施形態の構造
を示す模式図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の第２の実施形態の構造
を示す模式図（図１相当図）である。

【図３】本発明の磁気記録媒体の第３の実施形態の構造
を示す模式図（図１相当図）である。

【図４】本発明の磁気記録媒体の他の実施形態の構造を
示す模式図（図１相当図）である。

【符号の説明】

１磁気記録媒体２非磁性支持体３磁性層４バックコート層５第１薄膜層６第２薄膜層７第１カーボン薄膜８第２カーボン薄膜９非磁性または磁性の塗膜層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体と、該非磁性支持体上に設
けられた、磁性体粉末および結合剤を含有する磁性層と
を具備してなる磁気記録媒体において、上記非磁性支持体と上記磁性層との間および上記非磁性
支持体における上記磁性層と反対側の面それぞれに、互
いに異なる材料からなる薄膜層を設けたことを特徴とす
る磁気記録媒体。
【請求項２】上記非磁性支持体が、３５０〜１０００
ｋｇ／ｍｍ²のヤング率および１．０〜５．８μｍの厚
みを有するポリエステル製フィルムである、請求項１記
載の磁気記録媒体。
【請求項３】上記薄膜層の厚みの合計が０．１〜１μ
ｍである、請求項１又は２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】上記非磁性支持体と上記磁性層との間に
設けられた薄膜層が金属もしくは半金属またはそれらの
合金から形成されており、上記非磁性支持体における上
記磁性層と反対側の面に設けられた薄膜層が金属または
半金属の酸化物、窒化物、炭化物、ケイ化物またはそれ
らの複合物から形成されている、請求項１〜３の何れか
に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】上記金属が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｔｉ、
Ｗ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ及びＳ
ｎからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求
項４記載の磁気記録媒体。
【請求項６】上記半金属が、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＳｂ
からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項
４記載の磁気記録媒体。
【請求項７】上記金属または半金属が、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｃｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚ
ｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＳｂからなる群よ
り選ばれた合金である、請求項４の何れかに記載の磁気
記録媒体。
【請求項８】上記薄膜層の少なくとも何れか一方の表
面に、カーボンを主成分とする薄膜が設けられている、
請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体。
【請求項９】上記カーボンを主成分とする薄膜がダイ
ヤモンドライクカーボン膜である、請求項１〜８の何れ
か記載の磁気記録媒体
【請求項１０】上記薄膜層と上記磁性層との間に非
磁性または磁性の塗膜層が設けられている、請求項１〜
９の何れかに記載の磁気記録媒体。