JPH10275322A

JPH10275322A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH10275322A
Application number: JP7862497A
Authority: JP
Inventors: Akira Ishikawa; 彰石川; Noriyuki Kitaori; 典之北折; Kazuhiko Nakayama; 和彦中山
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1997-03-28
Filing date: 1997-03-28
Publication date: 1998-10-13

Abstract

(57)【要約】【課題】総膜厚の薄い磁気記録媒体において、出力が
高く、ドロップアウトが少なく且つ高い耐久性を有する
磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】非磁性支持体と、該非磁性支持体上に設
けられた、磁性体粉末および結合剤を含有する磁性層と
を具備してなる本発明の磁気記録媒体は、上記非磁性支
持体と上記磁性層との間および上記非磁性支持体におけ
る上記磁性層と反対側の面それぞれに、金属性または半
金属性の薄膜層を設けたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関す
るものであり、更に詳しくは、スチル耐久性等の耐久性
が高く、且つ高出力・低ドロップアウトの磁気記録媒体
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】磁気テ
ープ等の磁気記録媒体においては、量産性、耐久性およ
びコストの面から、支持体としてポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）のフィルムが一般に使用されている。
しかしＰＥＴは強度（ヤング率）が小さいために、これ
を薄型の磁気記録媒体用の支持体（例えば４μｍ）とし
て使用した場合には、強度が不足し、スチル耐久性等の
耐久性が十分なものにならなかった。

【０００３】そこで現在では、強度の比較的高いポリア
ミド等が支持体用のフィルム材として使用されつつあ
る。しかし、ポリアミドはコストが高く、また量産に適
していないため、磁気記録媒体用の支持体としては満足
のいくものではなかった。

【０００４】一方、磁気特性の改善を目的として、支持
体上に薄膜を形成する技術としては、例えば、特開昭５
０−１１４２０６号公報、特開平６−１０３５５７号公
報および特開平４−３３５２０６号公報に記載のもの等
が知られている。しかし、特開昭５０−１１４２０６号
公報および特開平６−１０３５５７号公報に記載の技術
では、支持体上に金属薄膜層を１層のみ形成するだけな
ので、磁気記録媒体の剛性が十分ではなく、耐久性を高
めるには未だ満足のいくものではなかった。その上、こ
れらの公報に記載の技術は、磁気記録媒体の導電性の向
上や磁性層へのバックコート層の転写の防止を目的とす
るものであり、耐久性の改善については何ら言及されて
いない。また、特開平４−３３５２０６号公報に記載の
技術では、支持体と金属薄膜磁性層との間に金属酸化物
の層を形成するため、磁気記録媒体の剛性が高くなり過
ぎてしまい、高出力が得られなかった。

【０００５】従って、本発明の目的は、総膜厚の薄い磁
気記録媒体において、適度な剛性と高い耐久性とを併せ
持つ磁気記録媒体を提供することにある。また、本発明
の目的は、出力が高く、ドロップアウトが低減された磁
気記録媒体を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、支持体の両面おける特定の位置に特定の層を設
けた磁気記録媒体により、上記目的が達成され得ること
を知見した。

【０００７】本発明は上記知見基づきなされたもので、
非磁性支持体と、該非磁性支持体上に設けられた、磁性
体粉末および結合剤を含有する磁性層とを具備してなる
磁気記録媒体において、上記非磁性支持体と上記磁性層
との間および上記非磁性支持体における上記磁性層と反
対側の面それぞれに、金属性または半金属性の薄膜層を
設けたことを特徴とする磁気記録媒体を提供することに
より上記目的を達成したものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の好
ましい実施形態を、図面を参照して説明する。ここで、
図１は本発明の磁気記録媒体の第１の実施形態の構造を
示す模式図である。

【０００９】図１に示す磁気記録媒体１は、非磁性支持
体２と、該支持体２の一面側に設けられた磁性層３と、
該支持体２の他面側に設けられたバックコート層４とを
具備している。そして、上記支持体２と上記磁性層３と
の間には、第１薄膜層５が設けられており、上記支持体
２と上記バックコート層４との間には、第２薄膜層６が
設けられている。以下、上記支持体及び各層の詳細につ
いてそれぞれ説明する。

【００１０】上記支持体２を構成する非磁性材料として
は、ポリエチレンテレフタレート，ポリブチレンテレフ
タレート，ポリエチレンナフタレート，ポリシクロヘキ
シレンジメチレンテレフタレート，ポリエチレンビスフ
ェノキシカルボキシレート等のポリエステル類、ポリエ
チレン，ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロ
ースアセテートブチレート，セルロースアセテートプロ
ピオネート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル，ポ
リ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリアミド、ポリ
カーボネート等のプラスチック材料が挙げられる。これ
らの材料から構成される上記支持体には、必要に応じて
一軸または二軸の延伸処理や、コロナ放電処理等が施さ
れていてもよい。

【００１１】特に、薄型で且つ高耐久性の磁気記録媒体
を得る観点から、上記支持体２として、３５０〜１００
０ｋｇ／ｍｍ²のヤング率および１．０〜５．８μｍの
厚みを有するポリエステル製フィルムを用いることが好
適である。即ち、ヤング率が３５０ｋｇ／ｍｍ²が満た
ないと、磁気記録媒体の耐久性等を改善することが困難
な場合があり、仮に改善できたとしても、その場合には
薄膜層５，６を非常に厚くする必要があるので現実的で
なく、１０００ｋｇ／ｍｍ²を超えると、逆に剛性およ
び強度が強くなりすぎるため却って好ましくない場合が
あるので上記範囲内とすることが好ましい。また、上記
厚みが１．０μｍに満たないと、支持体２の厚みと薄膜
層５，６の厚みとの比が大きくなり過ぎて該支持体２の
剛性よりも該薄膜層５，６そのものの剛性がつよく出
て、却って磁気記録媒体が硬くなってしまうことがあ
り、５．８μｍを超えると、支持体２の厚みと薄膜層
５，６の厚みとの比が小さすぎて、該薄膜層５，６を設
けた効果が小さくなる場合があるので上記範囲内とする
ことが好ましい。上記ポリエステル製フィルムの支持体
を用いる場合、そのヤング率は５００〜１０００ｋｇ／
ｍｍ²であることが更に好ましく、６００〜９５０ｋｇ
／ｍｍ²であることが一層好ましい。また、厚みは２〜
５．５μｍであることが更に好ましく、２．５〜５．３
μｍであることが一層好ましい。また、上記ポリエステ
ル製フィルム上には高密度記録に適応する磁性層が塗布
される関係上、平滑な表面を有する必要があり、且つ、
適切な走行性も有する必要があるため、適度の凹凸を有
する必要がある。従って、該ポリエステル製フィルムの
中心線表面粗さＲａは、下限値が好ましくは０．００１
５μｍ、更に好ましくは０．００２μｍ、最も好ましく
は０．００３μｍであり、上限値が好ましくは０．０２
５μｍ、更に好ましくは０．０２０μｍ、最も好ましく
は０．０１８μｍである。また、該ポリエステル製フィ
ルムの十点平均粗さＲｚは、下限値が好ましくは０．０
２０μｍ、更に好ましくは０．０２５μｍ、最も好まし
くは０．０３０μｍであり、上限値が好ましくは０．１
２μｍ、更に好ましくは０．１０μｍ、最も好ましくは
０．０９μｍである。上記ポリエステルとしてはＰＥＴ
（ポリエチレンテレフタレート）やＰＥＮ（ポリエチレ
ンナフタレート）等が好適に用いられる。

【００１２】上記磁性層３は、上述の通り磁性体粉末お
よび結合剤を含有している。上記磁性体粉末としては、
磁気記録媒体に通常用いられるもの、例えば金属酸化物
磁性粉末、金属磁性粉末及び六方晶系フェライト磁性粉
末等を特に制限無く用いることができる。同様に上記結
合剤も磁気記録媒体に通常用いられるもの、例えば熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂および反応型樹脂ならびにこれ
らの混合物等を特に制限無く用いることができる。

【００１３】上記磁性層３は、上記磁性体粉末および上
記結合剤ならびに必要に応じて用いられる各種添加剤等
が溶剤に分散・溶解してなる磁性塗料を塗布することに
より形成されている。上記溶剤としては、ケトン系溶
剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、芳香族炭化水素
系溶剤、塩素化炭化水素系溶剤等を適宜選択して使用で
きる。また、特開昭５７−１６２１２８号公報に記載の
各種溶剤等を使用することもできる。上記添加剤として
は、帯電防止剤、潤滑剤および研磨剤等を適宜選択して
使用できる。また、特開昭５７−１６２１２８号公報に
記載の各種添加剤を使用することもできる。

【００１４】上記磁性層３の厚みは、上記支持体２より
も薄いことが好ましい。更に、高Ｃ／Ｎ、高出力の点か
ら、後述する第３の実施形態のように、該磁性層３を多
層にしたり、多層にした磁性層の上層を特に薄くする等
の工夫をすることが好ましい。特に、出力及び耐久性の
向上の点から、該磁性層３の厚みは０．１〜２．５μｍ
であることが好ましく、０．１５〜２．０μｍであるこ
とが更に好ましい。尚、該磁性層３と上記第１薄膜層５
との間に、該磁性層３に対するアンダーコート層（結合
剤、フィラー等を含む）を設けてもよい。

【００１５】上記バックコート層４は、任意に用いられ
る層であり、通常公知のバックコート塗料を塗布するこ
とにより形成されている。該バックコート塗料に含まれ
る成分には、結合剤、帯電防止剤、潤滑剤および研磨剤
等がある。これらの成分としては、上記磁性塗料に含ま
れる成分と同様のものが用いられる。

【００１６】而して、図１に示す磁気記録媒体１におい
ては、上述の通り、上記支持体２と上記磁性層３との間
に、第１薄膜層５が設けられており、上記支持体２と上
記バックコート層４との間に、第２薄膜層６が設けられ
ている。

【００１７】上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜層６を
設けることによって、磁気記録媒体に適度な剛性と高い
耐久性が付与される。特に、後述する実施例から明らか
なように、スチル耐久性が向上する。また、上記両層は
に導電性があるので、帯電防止効果が発現する。その結
果、上記第１薄膜層５上に上記磁性層３を塗工によって
形成する際や、磁気記録媒体の使用時におけるチャージ
アップ及びそれに伴う静電気によるゴミの付着が防止さ
れ、ドロップアウトの発生が低減される。その上、上記
チャージアップを防止するために従来磁性層中に配合さ
れていた導電性カーボンの配合量を低減することができ
るので、磁性層中における磁性体粉末の分散性が向上
し、磁気記録媒体の出力が高くなる。

【００１８】上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜層６
は、それぞれ金属性または半金属性であり、好ましくは
金属もしくは半金属またはそれらの合金から形成されて
いる。該金属としてはＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍ
ｏ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ及びＳｎから
なる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく用いら
れ、該半金属としてはＢ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＳｂからなる
群より選ばれる少なくとも１種が好ましく用いられる
が、これらに限定されるものではない。また、上記第１
薄膜層５及び上記第２薄膜層６は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、
Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚ
ｒ、Ｓｎ、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＳｂからなる群より選ば
れた合金から形成されていてもよい。上記第１薄膜層５
及び上記第２薄膜層６をこれらの材料から形成すること
によって、特に磁気記録媒体の剛性、強度および硬度の
適正化という利点がある。これらの材料のうち、特に好
ましく用いられるものはＣｏ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ及びＮ
ｉ等の金属の単体、Ｓｉ及びＧｅ等の半金属の単体又は
それらの合金もしくは化合物であり、とりわけ好ましく
用いられるものはＣｏ、Ｔｉ、Ｎｉ及びＣｕ等の金属の
単体、Ｓｉ及びＧｅ等の半金属の単体又はそれらの合金
もしくは化合物である。尚、上記第１薄膜層５を形成す
る材料と、上記第２薄膜層６を形成する材料とは同一で
もよく、或いは異なっていてもよい。

【００１９】また、上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜
層６は、磁性を有する金属またはその合金、及び磁性を
有しない金属もしくは半金属またはそれらの合金の何れ
から形成されていてもよく、磁気記録媒体を使用するシ
ステムによって異なるが、記録波長が短い場合には出力
向上の点から非磁性の方が好ましい。

【００２０】上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜層６
は、公知の薄膜形成手段によってそれぞれ形成されてい
る。斯かる薄膜形成手段としては、湿式メッキ法や真空
蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の真空
製膜法（乾式メッキ法）が挙げられ、特に耐食性の点か
ら真空製膜法を用いることが好ましい。

【００２１】上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜層６の
厚みに特に制限はなく、使用する支持体の材質や厚み等
に応じて適宜選択されるが、一般にそれぞれ０．０５〜
１μｍであることが好ましく、０．０８〜０．３μｍで
あることが更に好ましい。この場合、両者の厚みは同一
でもよく、或いは異なっていてもよいが、両者の厚みの
比率（第１薄膜層５／第２薄膜層６）は０．６〜１．２
であることが好ましく、０．７〜１．１であることが更
に好ましい。

【００２２】また、上記第１薄膜層５及び上記第２薄膜
層６の厚みの合計は０．０５〜１μｍであることが好ま
しく、０．０８〜０．６μｍであることが更に好まし
く、０．１〜０．４μｍであることが一層好ましい。上
記厚みの合計が０．０５μｍに満たないと該薄膜層５，
６を設けたことによる効果が十分に発現しないことがあ
り、１μｍを超えると、用いる材料にもよるが一般に磁
気記録媒体の剛性が強くなり過ぎてヘッドとの当たりが
不良になり、出力が低下したりヘッドの偏摩耗を招く等
の問題が起きる場合があるので上記範囲内とすることが
好ましい。

【００２３】上述の構成を有する本実施形態の磁気記録
媒体１においては、その全体の厚みを２．５〜８．０μ
ｍとすることが好ましく、３．０〜６．５μｍとするこ
とが更に好ましい。この理由は、本発明の効果、即ち、
磁気記録媒体の剛性および出力の向上は、特に薄い支持
体を用いた場合に顕著に発揮されるが、厚い支持体を用
いた場合（即ち、磁気記録媒体の全厚が大きすぎる場
合）には該支持体の影響が大きすぎて、大きな効果を発
揮し難い場合があるからである。

【００２４】次に、本発明の磁気記録媒体の第２及び第
３の実施形態を図２及び図３を参照して説明する。ここ
で、図２及び図３は、それぞれ本発明の磁気記録媒体の
第２及び第３の実施形態の構造を示す模式図（それぞれ
図１相当図）である。尚、第２及び第３の実施形態につ
いては、上述の第１の実施形態と異なる点についてのみ
説明し、特に説明しない点については上述の第１の実施
形態に関して詳述した説明が適宜適用される。また、図
２及び図３において図１と同じ部材には同じ符号を付し
てある。

【００２５】図２に示す実施形態の磁気記録媒体１にお
いては、上記第１及び第２薄膜層５，６の少なくとも何
れか一方（図２においては両方）の表面（外表面）にカ
ーボンを主成分とする薄膜（以下、単に「カーボン薄
膜」という）が連続して設けられている。即ち上記第１
薄膜層５と上記磁性層３との間に第１カーボン薄膜７が
設けられており、上記第２薄膜層６と上記バックコート
層４との間に第２カーボン薄膜８が設けられている。斯
かるカーボンを主成分とする薄膜を設けることによっ
て、各層間の膜密着性が向上し、磁気記録媒体の耐久性
が一層向上すると共に、記録再生特性が向上するという
利点がある。

【００２６】上記第１カーボン薄膜７および上記第２カ
ーボン薄膜８は、それぞれ炭素質材料、例えばダイヤモ
ンドライクカーボン（ＤＬＣ）やガラス状カーボン、グ
ラファイトライクカーボン（ＧＬＣ）等から形成されて
いる。この場合、上記第１カーボン薄膜７および上記第
２カーボン薄膜８を形成する材料は同一でもよく、或い
は異なっていてもよいが、特に、良好なヘッド当たりを
実現させて高い出力を得るためには、両層がＤＬＣから
形成されていることが好ましい。

【００２７】上記第１カーボン薄膜７および上記第２カ
ーボン薄膜８は、それぞれ蒸着法、直流スパッタ法、交
流スパッタ法、高周波マグネトロンスパッタ法、イオン
ビームスパッタ法等の各種のＰＶＤ（フィジカルベーパ
ーディポジション）手段および／またはＣＶＤ（ケミカ
ルベーパーディポジション）手段により形成されてい
る。

【００２８】上記第１カーボン薄膜７および上記第２カ
ーボン薄膜８の厚みは、同一或いは異なっていてもよ
く、好ましくは適度な剛性を得る点からそれぞれ０．０
６〜１μｍであり、更に好ましくは０．０８〜０．６μ
ｍである。また、両者の厚みの合計は、良好なヘッド当
たりを実現させて高い出力を得る点から０．０８〜０．
８μｍであることが好ましく、０．１〜０．４μｍであ
ることが更に好ましい。

【００２９】図３に示す実施形態の磁気記録媒体１にお
いては、上記第１薄膜層５と上記磁性層３との間に非磁
性または磁性の塗膜層９が設けられている。斯かる塗膜
層９を設けることによって、層間の結着性が向上して磁
気記録媒体の耐久性が良好になるという利点がある。

【００３０】上記塗膜層９が非磁性の場合、該塗膜層９
は、非磁性粉末を主成分とし、これに加えて、結合剤、
帯電防止剤、潤滑剤および研磨剤等が溶剤に分散・溶解
してなる非磁性塗料を塗布することにより形成される。
一方、上記塗膜層９が磁性の場合、該塗膜層９は、硬磁
性粉末や軟磁性粉末等の磁性体粉末を主成分とし、これ
に加えて結合剤、帯電防止剤、潤滑剤および研磨剤等が
溶剤に分散・溶解してなる磁性塗料を塗布することによ
り形成される。

【００３１】上記塗膜層９を設ける場合には、該塗膜層
９を上記磁性層３と共にウエット・オン・ウエット方式
による同時重層塗布法によって形成することが、両者の
境界面が滑らかになると共に上記磁性層３の表面性が良
好になる点から好ましい。

【００３２】上記塗膜層９の厚みは、磁気記録媒体の曲
げ剛性、カッピングやカーリング発生防止等の点から
０．０５〜２μｍであることが好ましく、０．１〜０．
５μｍであることが更に好ましい。

【００３３】以上、本発明の磁気記録媒体をその好まし
い実施形態に基づき説明したが、本発明は上記実施形態
に制限されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において
種々の変更が可能である。例えば、本発明の磁気記録媒
体は、上記実施形態の他に、図４に示すような構成、即
ち、非磁性支持体２と、該支持体２の一面側に設けられ
た磁性層３と、該支持体２の他面側に設けられたバック
コート層４とを具備し；該支持体２と該磁性層３との間
に第１薄膜層５が設けられていると共に該支持体２と該
バックコート層４との間に第２薄膜層６が設けられてお
り；また、該第１薄膜層５と該磁性層３との間に第１カ
ーボン薄膜７が設けられていると共に該第２薄膜層６と
該バックコート層４との間に第２カーボン薄膜８が設け
られており；更に、該第１薄膜層５と該磁性層３との間
に非磁性または磁性の塗膜層９が設けられている構成で
もよい。また、上記支持体２と上記第１薄膜層５又は上
記第２薄膜層６との間にプライマー層を設けたり、或い
は、磁気記録媒体における何れかの層間に長波長信号を
使用するハードシステムに対応してサーボ信号等を記録
するための他の磁性層及びその他の層を設けてもよい。
また、図１〜図４に示す磁気記録媒体においては、バッ
クコート層を形成しなくてもよい。また、図２および図
４に示す磁気記録媒体においては、第１カーボン薄膜お
よび第２カーボン薄膜の両方が形成されているが、これ
らの層のうちの何れか一方は形成しなくてもよい。ま
た、本発明の磁気記録媒体は、８ｍｍビデオテープやＤ
ＡＴテープ、ＤＬＴテープ、ＤＶＣテープ等の磁気テー
プとして好適であるが、特にこれらのうち総厚が薄い磁
気テープとして好適である。

【００３４】

【実施例】以下、実施例により本発明の有効性を例証す
る。しかしながら、本発明の範囲は斯かる実施例に制限
されるものではない。

【００３５】〔実施例１〕厚み５．１μｍのＰＥＴフィ
ルム（支持体；Ｒａ＝０．００８μｍ、Ｒｚ＝０．０５
５μｍ）の一面に真空蒸着によってＣｏからなる第１薄
膜層（厚み０．２５μｍ）を形成すると共に、該ＰＥＴ
フィルムの他面に真空蒸着によってＣｒ−Ｎｉ（８０−
２０ａｔ％）合金からなる第２薄膜層（厚み０．１５μ
ｍ）を形成した。上記第１薄膜層上に下記配合からなる
磁性塗料を塗布してカレンダー処理（ロール温度９５
℃、線圧３５０ｋｇ／ｃｍ）を施し、厚み０．７μｍの
磁性層を形成すると共に、上記第２薄膜層上に下記配合
からなるバックコート塗料を塗布して厚み０．５μｍの
バックコート層を形成した。この後、所定条件下でエー
ジングした後、８ｍｍ幅に裁断し、８ｍｍビデオカセッ
トにローディングして評価用カセットを得た。

【００３６】＜磁性塗料の配合＞・鉄を主体とする針状金属磁性粉末１００重量部（長軸長：０．０７μｍ、軸比：６、Ｈｃ：２０２０Ｏｅ、飽和磁化：１４２ｅｍｕ／ｇ）・アルミナ（研磨剤；平均粒子径０．１５μｍ）８重量部・カーボンブラック（帯電防止剤）０．５重量部（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）・塩化ビニル系共重合体（結合剤）１０重量部・ポリウレタン樹脂（結合剤）７重量部・ステアリン酸（潤滑剤）１．５重量部・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤）３重量部・イソシアネート系硬化剤４重量部・メチルエチルケトン１２０重量部・トルエン８０重量部・シクロヘキサノン４０重量部

【００３７】＜バックコート塗料の配合＞・カーボンブラック（帯電防止剤）４０重量部（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）・ニッポラン２３０１（結合剤）５０重量部〔商品名日本ポリウレタン工業（株）のポリウレタン〕・ポリイソシアネート（硬化剤）４重量部〔武田薬品工業（株）製、商品名（Ｄ−２５０Ｎ）〕・ニトロセルロース２０重量部・ステアリン酸１重量部・メチルエチルケトン１４０重量部・トルエン１４０重量部・シクロヘキサノン１４０重量部

【００３８】〔実施例２〕厚み４．６μｍのＰＥＴフィ
ルム（支持体；Ｒａ＝０．００７μｍ、Ｒｚ＝０．０６
２μｍ）の一面に真空蒸着によってＣｏ−Ｎｉ（８０−
２０ａｔ％）合金からなる第１薄膜層（厚み０．２μ
ｍ）を形成すると共に、該ＰＥＴフィルムの他面に真空
蒸着によってＳｉからなる第２薄膜層（厚み０．２５μ
ｍ）を形成した。次いで、上記第１薄膜層上に、マイク
ロ波プラズマＣＶＤ法によってＤＬＣからなる第１カー
ボン薄膜（厚み０．０２μｍ）を形成した。その後の操
作は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

【００３９】〔実施例３〕厚み４．５μｍのＰＥＮフィ
ルム（支持体；Ｒａ＝０．００６μｍ、Ｒｚ＝０．０４
５μｍ）の一面に真空蒸着によってＧｅからなる第１薄
膜層（厚み０．１μｍ）を形成すると共に、該ＰＥＮフ
ィルムの他面に真空蒸着によってＣｕからなる第２薄膜
層（厚み０．１μｍ）を形成した。次いで、上記第２薄
膜層上に、マイクロ波プラズマＣＶＤ法によってＤＬＣ
からなる第２カーボン薄膜（厚み０．０３μｍ）を形成
した。その後の操作は実施例１と同様にして磁気テープ
を得た。

【００４０】〔実施例４〕厚み５．１μｍのＰＥＴフィ
ルム（支持体；Ｒａ＝０．００７μｍ、Ｒｚ＝０．０５
５μｍ）の一面に真空蒸着によってＮｉからなる第１薄
膜層（厚み０．３μｍ）を形成すると共に、該ＰＥＴフ
ィルムの他面に真空蒸着によってＮｉからなる第２薄膜
層（厚み０．３μｍ）を形成した。次いで、上記第１薄
膜層及び第２薄膜層上に、それぞれマイクロ波プラズマ
ＣＶＤ法によってＤＬＣからなる第１カーボン薄膜（厚
み０．０１μｍ）及び第２カーボン薄膜（厚み０．０１
μｍ）を形成した。その後の操作は実施例１と同様にし
て磁気テープを得た。

【００４１】〔比較例１〕第１カーボン薄膜、第１薄膜
層、第２カーボン薄膜および第２薄膜層を設けず、厚み
４．６μｍのＰＥＴフィルム（支持体；Ｒａ＝０．００
７μｍ、Ｒｚ＝０．０６２μｍ）を用いる以外は実施例
１と同様にして磁気テープを得た。

【００４２】〔性能評価〕実施例および比較例で得られ
た磁気テープの性能を評価するために、１）表面の電気
抵抗、２）スチル後の出力の低下、３）ドロップアウト
及び４）出力を下記の方法で測定した。その結果を表１
に示す。

【００４３】＜表面の電気抵抗＞EUROPEAN COMPUTER MA
NUFACTURERS ASSOCIATION (ECMA)の規格集、STANDARD E
CMA-170 の "Electrical Resistance of Coated Surfac
es" の項に記載された方法に準じて測定した。尚、本方
法においては、表面電気抵抗ρは、磁気テープの幅を
ｗ、電極間隔をｌ、測定抵抗値をｒとした際、ρ＝ｒｗ
／ｌにより算出される。尚、磁気テープは幅ｗ＝８ｍｍ
のものを用いた。

【００４４】＜スチル後の出力の低下＞試験用８ｍｍカ
セットを、市販のＨｉ８デッキを改造した８ｍｍビデオ
デッキに装填し、２時間スチルモードで走行させた。試
験環境は２０℃、６０％ＲＨであった。２時間スチルモ
ードで走行させた後の出力を求め、初期出力からの変化
をｄＢ単位で表した。

【００４５】＜ドロップアウト＞ドロップアウトカウン
タにより、ドロップアウト（１０μｓの間に出力が１６
ｄＢ低下）の発生数を測定した。

【００４６】＜出力＞比較例１の値を基準（０ｄＢ）と
して表した。測定は、市販のＨｉ８ＶＴＲを改造したア
ンプを用いて行った。

【００４７】

【表１】

【００４８】表１に示す結果から明らかなように、実施
例で得られた磁気テープは、比較例で得られた磁気テー
プに比して、出力が高く、ドロップアウトが少ない、即
ち、電磁変換特性に優れ且つスチル試験後の出力低下も
少ない、耐久性に優れた媒体であることが分かる。

【００４９】

【発明の効果】以上、詳述した通り、本発明によれば、
上記薄膜層を用いることによって、高耐久性を有する磁
気記録媒体が得られる。特に、本発明の磁気記録媒体に
よればスチルによる出力の低下が低減される。また、本
発明の磁気記録媒体によれば、上記薄膜層を用いること
によってチャージアップが防止され、磁性層の塗工時
や、磁気記録媒体の使用時におけるゴミの付着に起因す
るドロップアウトの発生が低減される。更に、本発明の
磁気記録媒体によれば、上記薄膜層を用いることによっ
て、磁性層中の帯電防止剤（導電性カーボン等）の配合
量を低減することができ、その結果、磁性体粉末の分散
性が向上し、高い出力が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の第１の実施形態の構造
を示す模式図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の第２の実施形態の構造
を示す模式図（図１相当図）である。

【図３】本発明の磁気記録媒体の第３の実施形態の構造
を示す模式図（図１相当図）である。

【図４】本発明の磁気記録媒体の他の実施形態の構造を
示す模式図（図１相当図）である。

【符号の説明】

１磁気記録媒体２非磁性支持体３磁性層４バックコート層５第１薄膜層６第２薄膜層７第１カーボン薄膜８第２カーボン薄膜９非磁性または磁性の塗膜層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体と、該非磁性支持体上に設
けられた、磁性体粉末および結合剤を含有する磁性層と
を具備してなる磁気記録媒体において、上記非磁性支持体と上記磁性層との間および上記非磁性
支持体における上記磁性層と反対側の面それぞれに、金
属性または半金属性の薄膜層を設けたことを特徴とする
磁気記録媒体。
【請求項２】上記非磁性支持体が、３５０〜１０００
ｋｇ／ｍｍ²のヤング率および１．０〜５．８μｍの厚
みを有するポリエステル製フィルムである、請求項１記
載の磁気記録媒体。
【請求項３】上記薄膜層の厚みの合計が０．０５〜１
μｍである、請求項１又は２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】上記薄膜層が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｔ
ｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ及
びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属又
はそれらの合金から形成されている、請求項１〜３の何
れかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】上記薄膜層が、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＳｂ
からなる群より選ばれる少なくとも１種の半金属又はそ
れらの合金から形成されている、請求項１〜３の何れか
に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】上記薄膜層が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｔ
ｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、
Ｓｎ、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＳｂからなる群より選ばれた
合金から形成されている、請求項１〜３の何れかに記載
の磁気記録媒体。
【請求項７】上記薄膜層の少なくとも何れか一方の表
面に、カーボンを主成分とする薄膜が設けられている、
請求項１〜６の何れかに記載の磁気記録媒体。
【請求項８】上記カーボンを主成分とする薄膜がダイ
ヤモンドライクカーボン膜である、請求項１〜７の何れ
か記載の磁気記録媒体
【請求項９】上記薄膜層と上記磁性層との間に非磁性
または磁性の塗膜層が設けられている、請求項１〜８の
何れかに記載の磁気記録媒体。