JPH10275325A - ディスク状磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁変換特性が良好でデジタル記録に最適な大
容量のディスク状磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】支持体上に強磁性粉末とを結合剤とを主
体とする磁性層を形成してなるディスク状磁気記録媒体
において、該強磁性粉末は平均長軸長が０．０１〜０．
１８μｍで、結晶子サイズが５０〜１８０Å、針状比２
〜９であり、磁性層は抗磁力Ｈｃが１７００〜３０００
エルステッド（Ｏｅ）、該磁性層面内での配向度比が
０．８５以上、磁性層の面に対して垂直な方向の角形比
が０．３０以下であることを特徴とするディスク状磁気
記録媒体。支持体上に実質的に非磁性である下地層と
その上に強磁性金属粉末を結合剤中に分散してなる厚み
０．０２〜０．５μｍの磁性層が形成されていることを
特徴とする上記記載のディスク状磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
のディスク状磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピーディス
クがパーソナルコンピュータに標準搭載されようになっ
た。しかし扱うデータ容量が急激に増加している今日に
おいて、その容量は十分とは言えなくなり、フロッピー
ディスクの大容量化が望まれていた。

【０００３】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト粉末を結合剤中に分散した磁性層を支持体に塗設した
ものが広く用いられる。この中でも強磁性金属微粉末と
六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優れてい
ることが知られている。デイスクの場合、高密度記録特
性に優れる強磁性金属微粉末を用いた大容量ディスクと
しては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ−２Ｓ
Ｄまたは六方晶フェライトを用いた大容量ディスクとし
ては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティカルな
どがあるが、容量、性能的に十分とは言えなかった。こ
のような状況に対し、高密度記録特性を向上させる試み
が多くなされている。その開発の過程で磁性体の配向に
関して、最近以下の知見が得られている。

【０００４】強磁性粉末は、その形状異方性による高抗
磁力を実現するために強磁性粉末粒子自身は、針状比を
高くして、また、テープ状媒体の場合は、磁性層自身は
ヘッドの走行方向と順方向に磁気的な配向度を高め、フ
ロッピーディスクのような回転記録媒体にあっては、デ
ジタル記録であるので、出力の大きさよりも円周方向で
の出力変動をできるだけ小さくすることが重要であり、
そのために磁性層内の磁気的配向は異方性のない、いわ
ゆるランダム配向する（配向度比を１に近づける）こと
が重要であった。

【０００５】例えば、以下の方法が提案されてきてい
る。特開平６−３６２６１号公報は、湿潤状態中に無配
向、かつ斜め配向することにより面内及び垂直方向の配
向度比が０．８５以上、垂直方向の角形比が０．３〜
０．６５のＡＴＯＭＭ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｓｕｐｅｒ
Ｔｈｉｎ Ｌａｙｅｒ ＆ Ｈｉｇｈ Ｏｕｔｐｕｔ
Ｍｅｔａｌ Ｍｅｄｉａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）を
用いた下層非磁性層と薄層磁性層を有する記録媒体を開
示している。これは、従来の無配向化処理に比較し、円
周の出力が均一でしかも高出力であり、重ね書き特性の
優れた磁気ディスクとその製造方法を提供するものであ
るが、実施例で使用している強磁性金属粉末も長軸長0.
20μｍ、結晶子サイズ195Åとサイズが大きかった。

【０００６】特開平１−２４８３２１号公報は、垂直配
向直後にランダム配向する方法を開示している。この発
明は、垂直配向＋ランダム配向により、機械配向が少な
く配向度比が高く、モジュレーションが良好なメディア
を提供するものである。同公報の実施例では、長軸0.25
μｍと粒子サイズが大きく、針状比10と針状比が高いメ
タル磁性粉を使用している。このように比較的粒子サイ
ズが大きく、針状比が大きい磁性粉は面内に並びやす
い。ところが、高密度記録を行う上で重要な高S/Nを確
保するために、磁性体の長軸径が小さく針状比も小さい
メタル磁性粉では十分な配向条件とは言えない。さらに
は、層構成は単層磁性層に関するもので、磁気ディスク
の高容量化には不十分であった。

【０００７】特開昭６３−１７１４２７号公報は、一定
方向の磁場で強磁性粒子を配向させた後、前記磁場とほ
ぼ直交方向に弱い交流磁場で配向してランダム配向化す
る方法を開示している。同公報の実施例で使用している
磁性粉はγ-Fe₂O₃であり、金属磁性粉末に比較して磁化
量が小さいため、十分な電磁変換特性を得ることができ
ない。また、高S/Nを得るのに十分とは言えなかった。

【０００８】特開平１−１０５３２８号公報は幅方向に
配向後、ソレノイドに交流磁界をかけて均一に無配向化
する方法を開示している。同公報では、確かに面内の配
向度比は改善されているが、高S/Nを得るのには十分と
は言えなかった。また、実施例の層構成はFe系メタル磁
性粉を用いた単層磁性層であり、この面でも十分な電磁
変換特性を得ることができないものである。 特開平５
−５３００９号公報は、複数の棒状配向磁石を支持体の
搬送方向に互いに間隔をおき、支持体を向く側の磁極が
隣り合う磁石において互いに異なるように並置し、これ
ら配向磁石が搬送方向に対して斜めでかつ交互に反対向
きとなるように配し、ランダム配向を行う方法を開示し
ている。

【０００９】ところで、高密度記録を実現するために
は、磁性体粉末の粒子サイズをより小さくすることが、
重要である。粒子サイズを小さくしようとすると粒子の
幅の大きさには自ずと限界があるために必然的に長さが
短い即ち針状比が小さい粒子となって行く。例えば、面
記録密度０．２Ｇbit/inch² を越える大容量のフロッピ
ーディスクを開発する中で特に 磁性体粒子の粒子サイ
ズが小さくなるとノイズが大きくなるという問題が生じ
てきた。そして、このノイズは、抗磁力を高めるほど顕
著になってきた。

【００１０】しかし、この問題を解決する有効な手段を
見出すことができなかった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好でデジタル記録に最適な大容量のディスク状磁気
記録媒体を提供することを目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、以下のようなディスク状磁気記録媒体とするこ
とで、本発明の目的である優れた電磁変換特性の大容量
高密度記録特性と優れた耐久性が得られることを見いだ
し、本発明に至ったものである。すなわち、請求項１の
本発明は支持体上に強磁性粉末とを結合剤とを主体とす
る磁性層を形成してなるディスク状磁気記録媒体におい
て、該強磁性粉末は平均長軸長が０．０１〜０．１８μ
ｍで、結晶子サイズが５０〜１８０Å、針状比が２〜９
であり、磁性層は抗磁力Ｈｃが１７００〜３０００エル
ステッド（Ｏｅ）、該磁性層面内での配向度比が０．８
５以上、磁性層の面に対して垂直な方向の角形比が０．
３０以下であることを特徴とするディスク状磁気記録媒
体に関する。

【００１３】また、請求項３の発明は支持体上に実質的
に非磁性である下地層とその上に強磁性金属粉末を結合
剤中に分散してなる磁性層が形成されているディスク状
磁気記録媒体において、該強磁性金属粉末は平均長軸長
が０．０１〜０．１８μｍで、結晶子サイズが５０〜１
８０Å、針状比が２〜９であり、磁性層は抗磁力Ｈｃが
１７００〜３０００エルステッド（Ｏｅ）、該磁性層面
内での配向度比が０．８５以上、磁性層の面に対して垂
直な方向の角形比が０．３０以下であり、厚みが０．０
２〜０．５μｍであることを特徴とするディスク状磁気
記録媒体に関する。

【００１４】ここで実質的に非磁性である下地層とは記
録に関与しない程度に磁性を持っていても良いという意
味であり、以降単に下層または非磁性層ともいう。本発
明の好ましい態様は、請求項１の発明では前記強磁性粉
末が強磁性金属粉末であり、前記磁性層の厚さが０．０
２〜０．５μｍであること、及び請求項１及び３の発明
では面記録密度が０．２〜２Ｇbit/inch² である磁気記
録システム用に用いられことが挙げられる。

【００１５】面記録密度とは、線記録密度とトラック密
度を掛け合わせたものである。線記録密度とは記録方向
１インチ当たりに記録する信号のビット数である。これ
ら線記録密度、トラック密度、面記録密度はシステムに
よって決まる値である。請求項１の発明は、磁性層単層
のディスク状磁気記録媒体に関し、請求項３の発明は前
記ＡＴＯＭＭ型ディスク状磁気記録媒体に関する。両者
の関係は、後者の発明が、磁性層の下層として下地層を
設けたこと及び磁性層厚を０．０２〜０．５μｍに限定
したこと、強磁性粉末として強磁性金属粉末に限定した
こと以外は、共通の要素を有するものである。

【００１６】共通要素は、強磁性粉末の平均長軸長、強
磁性粉末の結晶子サイズ、強磁性粉末の針状比、磁性層
の抗磁力（Ｈｃ）、磁性層面内での配向度比（Ｏｒ）、
磁性層の面に対して垂直な方向の角形比（ＳＱｎ）であ
り、本発明では各々特定範囲としたものである。主とし
て、平均長軸長、結晶子サイズ、Ｈｃの限定は、電磁変
換特性、特に出力を確保するために必要であり、Ｏｒ及
びＳＱｎの限定はＳ／Ｎ比及びモジュレーションの低減
に寄与するものである。

【００１７】平均長軸長は、０．０１〜０．１８μｍ、
好ましくは０．０４〜０．１５μｍ、更に好ましくは
０．０６〜０．１２μｍの範囲である。平均長軸長が
０．１８より大きい場合は、ディスク状磁気記録媒体
（以下、メディアともいう）のノイズが上昇して好まし
くない。また、０．０１μｍよりも小さい場合は、十分
な分散ができず、磁性体微粒子化のノイズ低減効果が現
れず、逆に磁性層の表面粗さが増大して好ましくない。

【００１８】結晶子サイズは、５０〜１８０Å、好まし
くは８０〜１６０Å、更に好ましくは１００〜１５０Å
の範囲である。結晶子サイズが１８０Åより大きい場合
は、メディアのノイズが上昇して好ましくない。また、
５０Åよりも小さい場合は、十分な分散ができず、磁性
体微粒子化のノイズ低減効果が現れず、逆に磁性層の表
面粗さが増大して好ましくない。

【００１９】針状比は、２〜９、好ましくは４〜７であ
る。針状比が９より大きい場合は、磁性層の充填度が低
下して再生出力が低下する。さらにはメディアのノイズ
が上昇して好ましくない。また、針状比が２よりも小さ
い場合は、十分な抗磁力を確保することができず、高密
度記録には適さない。また、磁性体が３次元ランダム配
向し易く垂直磁化成分が増加し、ノイズが上昇する。

【００２０】Ｈｃは、１７００〜３０００Ｏｅ、好まし
くは１８００〜２７００Ｏｅ、更に好ましくは２０００
〜２５００Ｏｅの範囲である。Ｈｃが１７００Ｏｅより
小さい場合は、高い線記録密度の記録が十分されず、高
容量を記録するメディアとして十分な特性を得ることが
できない。また、３０００Ｏｅよりも大きい場合は、現
行の記録ヘッドでは十分に信号を記録することができず
好ましくない。

【００２１】Ｏｒは０．８５以上、好ましくは０．９０
以上、更に好ましくは０．９５以上で理想的には１であ
る。Ｏｒが０．８５未満ではモジュレーションが許容レ
ベル以となり、エラーレートが増大して好ましくない。
ＳＱｎは０．３０以下、好ましくは０．２８以下、更に
好ましくは０．２６以下０．１５以上の範囲である。

【００２２】Ｏｒ及びＳＱｎを制御するための方法は、
特に制限されるべきものではないが、好ましくは強磁性
粉末の配向を制御することが挙げられる。好ましくは以
下の配向法が挙げられる。 磁性層を通常の方法で支持体の長手方向に塗布し、
磁性層が乾燥固化する以前に交流磁場を印加してランダ
ム配向処理を行うこと。

【００２３】 磁性層が乾燥固化する以前に支持体の
搬送方向に同極対向磁石による磁力線を印加して長手配
向した後に、交流磁界を印加してランダム配向処理を行
うこと。 磁性層が乾燥固化する以前に複数の同極対向磁石を
支持体の搬送方向に対して斜めでかつ交互に反対向きと
なるように配し、ランダム配向処理を行うこと。

【００２４】〜において、ＡＴＯＭＭ型の場合、塗
布法は、ｗｅｔ ｏｎ ｄｒｙ（下層乾燥後磁性層塗
布、Ｗ／Ｄと略す）でもｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔ（両層未
乾、Ｗ／Ｗと略す）でもよい。の場合、交流周波数は
好ましくは２０〜２００Ｈｚ、更に好ましくは４０〜１
００Ｈｚであり、磁界強度は、好ましくは５０〜３００
０Ｏｅ、更に好ましくは２００〜１０００Ｏｅの範囲で
ある。

【００２５】の場合、長手配向のギャップ中心の磁界
強度は、好ましくは１０００〜８０００Ｏｅ、更に好ま
しくは３０００〜６０００Ｏｅの範囲である。ランダム
配向処理の交流周波数は好ましくは２０〜２００Ｈｚ、
更に好ましくは４０〜１００Ｈｚであり、磁界強度は、
好ましくは５０〜３０００Ｏｅ、更に好ましくは２００
〜１０００Ｏｅの範囲である。

【００２６】の場合、ギャップ中心の磁界強度は、好
ましくは１０００〜８０００Ｏｅ、更に好ましくは３０
００〜６０００Ｏｅの範囲である。また、磁石の向き
は、支持体長手方向軸と磁石長手方向軸がなす鋭角が好
ましくは３０〜６０度、更に好ましくは４０〜５０度の
範囲である。また、反対向き同士の磁石の各々の長手方
向軸のなす角は、好ましくは８０〜１００度の範囲であ
る。同極対向磁石の組は、１〜３組の範囲が好ましい。
磁石同士が互いに反対向きとは、支持体面に対し平行に
かつ長手方向が上下方向となるように見た場合、磁石長
手方向軸が支持体の幅方向に対して一方が右上がりで他
方が右下がりであるような位置関係を言う。

【００２７】及びで使用される磁石の形状・サイズ
は特に制限されるべきものではないが、支持体の幅方向
がカバー可能な長さの棒磁石が好ましく、例えば、ヨー
クによりシールドされたものが好ましい。〜におい
て、環境温度は適宜選定され得るが、通常、４０〜１２
０℃の範囲から選択される。

【００２８】Ｏｒ及びＳＱｎを制御するための配向法
は、上記方法に制限されず、従来公知の種々の配向法が
適用し得る。

【００２９】マルチメデイア化が進むパソコンの分野で
はこれまでのフロッピーデイスクに代わる大容量の記録
メデイアが注目され始め、米国ＩＯＭＥＧＡ（アイオメ
ガ）社からＺＩＰデイスク（面記録密度：９６Ｍbit/in
ch² ）として販売された。これは本件出願人が開発した
ＡＴＯＭＭ型であり、3.7インチで１００ＭＢ以上の記
録容量を持った製品が販売されている。１００〜１２０
ＭＢの容量はＭＯ（3.5インチ）とほぼ同じ容量であ
り、１枚で新聞記事なら７〜８月分収まるものである。
データ（情報）の書き込み・読み出し時間を示す転送レ
ートは、１秒当たり２ＭＢ以上とハードデイスク並であ
り、これまでのＦＤの２０倍、ＭＯの２倍以上の早さを
有し非常に大きな利点を持つ。さらに下層と薄層磁性層
を有するこの記録媒体は現在のＦＤと同じ塗布型メデイ
アで大量生産が可能であり、ＭＯやハードデイスクに比
べて低価格で有るというメリットを有する。

【００３０】本発明者らは、この様な媒体の知見をもと
に鋭意研究を行った結果、前記ＺＩＰデイスクやＭＯ
（3.5インチ）よりも格段に記録容量の大きい面記録密
度が０．２〜２Ｇbit/inch² というディスク状磁気記録
媒体が得られたものである。請求項３の発明は厚味０．
０２〜０．５μｍと超薄層の磁性層に高出力、高分散性
に優れた超微粒子の強磁性金属粉末を含み、下地層に球
状又は針状などの無機粉末を含み、磁性層を薄くするこ
とで磁性層内の磁力相殺を低減し、高周波領域での出力
を大幅に高め、更に重ね書き特性も向上させたものであ
る。

【００３１】磁気ヘッドの改良により、狭ギャップヘッ
ドとの組合せにより超薄層磁性層の効果が一層発揮で
き、デジタル記録特性の向上が図れる。磁性層の厚みは
高密度記録の磁気記録方式や磁気ヘッドから要求される
性能にマッチするように０．０２〜０．５μｍの薄層で
ある。均一でかつ薄層にしたこのような超薄層磁性層は
微粒子の磁性粉や非磁性粉を分散剤の使用と分散性の高
い結合剤の組み合わせにより高度に分散させ、高充填化
を図ることができた。使用される磁性体は大容量、高出
力の適性を最大限に引き出すために、非常に微粒子で且
つ高出力を達成できる強磁性金属粉末で、更にＣｏを多
く含み、焼結防止剤としてＡｌやＹを含むものを使用す
ることができる。高転送レートを実現するために超薄層
磁性層に適した３次元ネットワークバインダーシステム
を用い、高速回転時における走行の安定性、耐久性を確
保することができる。また広範囲な温湿度条件下での使
用や高速回転使用時でも、その効力を維持できる複合潤
滑剤を上下２層に配し、更に下層には潤滑剤のタンクと
しての役割を持たせ、上層磁性層に常に適量の潤滑剤を
供給できるようにし、上層磁性層の耐久性を高め、信頼
性を向上させることができる。また下層のクッション効
果は良好なヘッドタッチと安定した走行性をもたらすこ
とができる。

【００３２】ＡＴＯＭＭ構成にするメリットは次のよう
に考えられる。 （１）磁性層の薄層構造化による電磁変換特性の向上、 ａ）記録減磁特性の改良による高周波領域での出力向
上、 ｂ）重ね書き（オーバーライト）特性の改良 ｃ）ウインドウマージンの確保 （２）上層磁性層の平滑化による高出力 （３）磁性層の機能分離による要求機能付与が容易 （４）潤滑剤の安定供給による耐久性の向上 これらの機能は、単に磁性層を重層化するだけでは達成
できない。重層構造を構成するには、下層、上層を塗布
し、通常、硬化処理、カレンダー処理等の表面処理を行
う。ＦＤは磁気テープと異なり、通常、両面に同様な処
理を施す。塗布工程後スリット工程、パンチ工程、シェ
ル組み込み工程、サーテファイ工程を経て最終製品とし
て完成する。尚、必要に応じ、ディスク状に打ち抜いた
後、高温でのサーモ処理（通常、５０〜９０℃）を行い
塗布層の硬化を促進させる、研磨テープでバーニッシュ
処理を行い、表面の突起を削るなどの後処理を行っても
よい。

【００３３】耐久性は磁気デイスクにとって重要な要素
である。媒体の耐久性を向上させる手段には、デイスク
自身の膜強度を上げるバインダー処方と、磁気ヘッドと
の滑り性を維持する潤滑剤処方を調整する手段がある。
潤滑剤は、使用される種々の温・湿度環境下でそれぞれ
優れた効果を発揮する潤滑剤を複数組み合わせて使用
し、広範囲な温度（低温、室温、高温）、湿度（低湿、
高湿）環境下でも各潤滑剤がそれぞれ機能を発揮し、総
合的に安定した潤滑効果を維持できるものである。

【００３４】また上下２層の構造を活用し、下層に潤滑
剤のタンク効果を持たせることで磁性層に常に適量の潤
滑剤が供給されるようにし、磁性層の耐久性を向上でき
る。下層には潤滑剤の保持機能の他に表面電気抵抗のコ
ントロール機能を付与できる。一般に電気抵抗のコント
ロールには、磁性層中にカーボンブラック等の固体導電
材料を加えることが多い。これらは磁性体の充填密度を
上げることの制約となるほか、磁性層が薄層になるに従
い、表面粗さにも影響を与える。下層に導電材料を加え
ることによってこれらの欠点を除くことができる。

【００３５】

【発明の実施の形態】

［磁性層］本発明の磁性層は支持体の片面だけでも、両
面に設けても良い。磁性層は単独でも下地層上に設けら
れたものでも良い。また、処理により磁性層を複層化し
てもよい。この場合、本明細書において磁性層の厚味と
は各磁性層の総和を指す。ＡＴＯＭＭ型の場合、Ｗ／Ｗ
でも、Ｗ／Ｄでも設けることが出来る。生産得率の点か
らＷ／Ｗが好ましいが、Ｗ／Ｄも十分使用できる。本発
明の重層構成でＷ／Ｗでは上層／下層が同時に形成でき
るため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に活
用でき、超薄層でも磁性層の表面粗さを良化できる。磁
性層の抗磁力Ｈｃは前記の通りであり、Ｂｍは２０００
〜５０００Ｇであることが好ましい。

【００３６】［強磁性粉末］本発明の磁性層に使用する
強磁性粉末としては、特に制限されるべきものではない
が、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末が好まし
い。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓ
ｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍ
ｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂな
どの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃ
ａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくと
も１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、
Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことがさらに好まし
い。Ｃｏの含有量はＦｅに対して０原子％以上４０原子
％以下が好ましく、さらに好ましくは１５原子％以上３
５％以下、より好ましくは２０原子％以上３５原子％以
下である。Ｙの含有量は１．５原子％以上１２原子％以
下が好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原子
％以下、より好ましくは４原子％以上９原子％以下であ
る。Ａｌは５原子％以上３０原子％以下が好ましく、更
に好ましくは１１原子％以上２０原子％以下、より好ま
しくは１２原子％以上１８原子％以下である。

【００３７】これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散
剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあ
らかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公
昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特
公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、
特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５
号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２
号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０
９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３
０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２
６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４
号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記
載されている。

【００３８】強磁性合金微粉末には少量の水酸化物、ま
たは酸化物が含まれてもよい。強磁性合金微粉末の公知
の製造方法により得られたものを用いることができ、下
記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主とし
てシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方
法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅある
いはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化
合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホ
ウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなど
の還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性
気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。この
ようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処
理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、
有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面
に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用
いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化
皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いるこ
とができる。

【００３９】強磁性粉末の抗磁力は１７００Oe以上３５
００Oe以下が好ましく、更に好ましくは１，８００Oe以
上３０００Oe以下である。強磁性粉末の含水率は０．０
１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強
磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉
末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化する
ことが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好まし
くは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、Ａｌ、
Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施して
もかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０
％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が
１００ｍｇ／ｍ² 以下になり好ましい。強磁性粉末には
可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオ
ンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ま
しいが、２００ppm以下であれば特に特性に影響を与え
ることは少ない。また、本発明に用いられる強磁性粉末
は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以
下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状に
ついては先に示した粒子サイズについての特性を満足す
れば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強
磁性粉末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以
下が好ましい。強磁性粉末のＨｃの分布を小さくする必
要がある。尚、ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換
特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープ
でピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録
に好適である。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁
性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くす
る、焼結を防止するなどの方法がある。

【００４０】［非磁性層］次に下層に関する詳細な内容
について説明する。本発明の下層に用いられる無機粉末
は、非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸
塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化
物、等の無機質化合物から選択することができる。無機
化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミ
ナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化
ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、、ヘ
マタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタン
カーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化
マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、
窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または
組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小
ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ま
しいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら非磁性
粉末の粒子サイズは０．００５〜２μmが好ましいが、
必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わ
せたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様
の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは
非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μm〜０．２μmであ
る。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、
平均粒子径０．０８μm以下が好ましく、針状金属酸化
物である場合は、長軸長が０．３μm以下が好ましく、
０．２μm以下がさらに好ましい。タップ密度は０．０
５〜２g/ml、好ましくは０．２〜１．５g/mlである。非
磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好ましくは０．
２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重量％で
ある。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは
５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面
積は１〜１００m² /g、好ましくは５〜８０m² /g、更に
好ましくは１０〜７０m² /gである。非磁性粉末の結晶
子サイズは０．００４μm〜１μmが好ましく、０．０４
μm〜０．１μmが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタ
レート）を用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好まし
くは１０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/
100gである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６であ
る。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良
い。モース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。
非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μ
mol／m² 、好ましくは２〜１５μmol/m² 、さらに好ま
しくは３〜８μmol/m²である。ｐＨは３〜６の間にある
ことが好ましい。これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ₂
Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ
₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、Ｙ₂ Ｏ₃ で表面処理することが好まし
い。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ ₃ 、ＳｉＯ₂ 、
ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ であるが、更に好ましいのはＡｌ₂
Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ である。これらは組み合わせ
て使用しても良いし、単独で用いることもできる。ま
た、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良い
し、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処
理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。
また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わ
ないが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００４１】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイ
トＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４
５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ
−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴ
Ｏ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ
−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１
００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ
３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ
−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイ
トα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００
Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００
Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩ
ＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，Ｓ
Ｔ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、
日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興
産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙
げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα
−酸化鉄である。

【００４２】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。

【００４３】下層のカーボンブラックの比表面積は１０
０〜５００m² ／ｇ、好ましくは１５０〜４００m² ／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g、好ましくは
３０〜４００ml/100gである。カーボンブラックの粒子
径は５mμ〜８０mμ、好ましく１０〜５０mμ、さらに
好ましくは１０〜４０mμである。カーボンブラックの
ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度
は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカ
ーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製
ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１００
０，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ，＃３１
５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，
＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ
−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コ
ロンビアンカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、
ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７０００，５７５
０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８０
０，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッ
チェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラッ
クを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化し
て使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを
使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料
に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわな
い。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対し
て５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０重
量％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブ
ラックは単独、または組合せで使用することができる。
本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボ
ンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考に
することができる。

【００４４】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００４５】下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加
剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそ
れが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、
分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技
術が適用できる。 ［結合剤］本発明に使用される結合剤としては従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物が使用される。

【００４６】熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が
−１００〜１５０℃、数平均分子量が１,０００〜２０
０,０００、好ましくは１０,０００〜１００,０００、
重合度が約５０〜１０００程度のものである。このよう
な例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコ
ール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、
塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メ
タクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレ
ン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエー
テル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、
ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬
化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルム
アルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミ
ド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマ
ーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネ
ートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混
合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店
発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載され
ている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用す
ることも可能である。これらの例とその製造方法につい
ては特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載されてい
る。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好
ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共
重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合
体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わ
せたものがあげられる。

【００４７】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂ 、Ｎ⁺ Ｒ
₃ （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、など
から選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合ま
たは付加反応で導入したものをもちいることが好まし
い。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであ
り、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４８】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５
１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三
菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０など
があげられる。

【００４９】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は非磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０重
量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用い
られる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量
％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、
ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを
組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の
脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタン
のみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用す
ることも可能である。本発明において、ポリウレタンを
用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ま
しくは０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００
％、破断応力は０．０５〜１０Kg/mm² 、降伏点は０．
０５〜１０Kg/mm² が好ましい。

【００５０】本発明の磁気記録媒体は二層以上からな
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ非磁性層、磁性層とで変えることはもちろ
ん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層
磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層で
バインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減ら
すためには磁性層のバインダー量を増量することが有効
であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするため
には、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持た
せることができる。

【００５１】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ，ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ
−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ，デスモジュールＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。

【００５２】［カーボンブラック、研磨剤］本発明の磁
性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０m² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ／１００
ｇ、粒子径は５mμ〜３００mμ、ｐＨは２〜１０、含水
率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／cc、
が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具
体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、９０
５、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ
ーボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３
５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃
９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コロン
ビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡ
ＶＥＮ １５０、５０，４０，１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ
−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥＣ、などが
あげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボン
ブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する
量の０．１〜３０％でもちいることが好ましい。カーボ
ンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性
付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ
ーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用され
るこれらのカーボンブラックは磁性層、下層でその種
類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、
ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い
分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化
すべきものである。本発明の磁性層で使用できるカーボ
ンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボン
ブラック協会編 を参考にすることができる。

【００５３】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカー
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
０．０１〜２μが好ましく、特に電磁変換特性を高める
ためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久
性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研
磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広
くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ
密度は０．３〜２g/cc、含水率は０．１〜５％、ｐＨは
２〜１１、比表面積は１〜３０m²/g 、が好ましい。本
発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ
状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するもの
が研磨性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫ
Ｐ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３
０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ
−５５、ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ
１００、レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢ
Ｍ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１０００
０、上村工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−
５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社
製、ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータラ
ンダムウルトラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが
挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添
加することもできる。非磁性層に添加することで表面形
状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりするこ
とができる。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤
の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。

【００５４】［添加剤］本発明の磁性層と非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫
化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒
化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をも
つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリ
コーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、
ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェ
ニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフ
ェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリン
グ剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸
エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の
一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素
数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２
の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのい
ずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ
脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレン
オキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステ
ル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の
脂肪族アミン、などが使用できる。

【００５５】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
ート、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。

【００５６】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を下層で多くして潤滑効果を向上させるなど
考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものでは
ない。一般には潤滑剤の総量として強磁性粉末または非
磁性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜
２５％の範囲で選択される。

【００５７】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８
４５３に記載の溶剤を用いることができる。

【００５８】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が２〜１００μm、好ましくは１０〜８０μm
である。磁性層を単独で設ける場合、磁性層厚は、好ま
しくは０．０２〜２．０μｍ、更に好ましくは０．０２
〜０．５μｍの範囲である。支持体と非磁性層また磁性
層の間に密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわ
ない。本下塗層厚みは０．０１〜０．５μm、好ましく
は０．０２〜０．５μmである。

【００５９】また、片面のみに磁性層を設けた場合、帯
電防止やカール補正などの効果を出すために磁性層側と
反対側にバックコート層を設けてもかまわない。この厚
みは０．１〜４μm、好ましくは０．３〜２．０μmであ
る。これらの下塗層、バックコート層は公知のものが使
用できる。本発明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッド
の飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域によ
り最適化されるものである。磁性層は、異なる磁気特性
を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁
性層に関する構成が適用できる。

【００６０】本発明になる媒体の下層である非磁性層の
厚みは通常、０．２μm以上５．０μm以下、好ましくは
０．３μm以上３．０μｍ以下、さらに好ましくは１．
０μm以上２．５μm以下である。なお、本発明媒体の下
層は実質的に非磁性層であればその効果を発揮するもの
であり、たとえば不純物としてあるいは意図的に少量の
磁性体を含んでも、本発明の効果を示すものであり、本
発明と実質的に同一の構成と見なすことができることは
言うまでもない。実質的に非磁性層とは下層の残留磁束
密度が３００Ｇ以下または抗磁力が３００Oe以下である
ことを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力をもたな
いことを示す。

【００６１】［支持体］本発明に用いられる支持体はポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロー
ストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリア
ラミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾールな
どの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレンナフタ
レート、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが
好ましい。また必要に応じ、磁性面とベース面の表面粗
さを変えるため特開平３−２２４１２７に示されるよう
な積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの
支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、
易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良
い。また本発明の支持体としてアルミまたはガラス基板
を適用することも可能である。

【００６２】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で測定し
た中心面平均表面粗さはＳＲａは８．０nm以下、好まし
くは４．０nm以下、さらに好ましくは２．０nm以下のも
のを使用することが好ましい。これらの支持体は単に中
心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μm以
上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形
状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさ
と量により自由にコントロールされるものである。これ
らのフィラーとしては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉな
どの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末
があげられる。支持体の最大高さＳＲmaxは１μm以下、
十点平均粗さＳＲzは０．５μm以下、中心面山高さはＳ
Ｒpは０．５μm以下、中心面谷深さＳＲvは０．５μm以
下、中心面面積率ＳＳrは１０％以上、９０％以下、平
均波長Ｓλaは５μm以上、３００μm以下が好ましい。
所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体
の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールで
きるものであり、０．０１μmから１μmの大きさのもの
各々を０．１mm² あたり０個から２０００個の範囲でコ
ントロールすることができる。

【００６３】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは５〜５０Kg/mm² 、また、支持体の１００℃３
０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好まし
くは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好まし
くは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
破断強度は５〜１００Kg/mm² 、弾性率は１００〜２０
００Kg/mm² が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１０
^-8/℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。
湿度膨張係数は１０^-4/RH%以下であり、好ましくは１０
^-5/RH％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械
強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差で
ほぼ等しいことが好ましい。

【００６４】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、お
よびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれて
いてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉
体、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、
潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または
途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ
以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、
ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整
のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の
目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部
の工程として用いることができる。混練工程ではオープ
ンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダな
ど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニ
ーダを用いる場合は磁性体または非磁性粉体と結合剤の
すべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が
好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５００部
の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につ
いては特願昭６２−２６４７２２、特願昭６２−２３６
８７２に記載されている。また、磁性層液および非磁性
層液を分散させるにはガラスビーズを用ることができる
が、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チ
タニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分
散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分
散機は公知のものを使用することができる。

【００６５】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特願平１−３１２６５９に開示さ
れている数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成
を実現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に
磁性層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわ
ず、本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗
布欠陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上さ
せるためには、前述の同時重層塗布を用いることが好ま
しい。

【００６６】配向は、乾燥風の温度、風量、塗布速度を
制御することで塗膜の乾燥位置を制御できる様にするこ
とが好ましく、塗布速度は２０m/分〜１０００m/分、乾
燥風の温度は６０℃以上が好ましい、また磁石ゾーンに
入る前に適度の予備乾燥を行なうこともできる。カレン
ダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ
ールまたは金属ロールで処理するが、特に両面磁性層と
する場合は金属ロール同志で処理することが好ましい。
処理温度は、好ましくは５０℃以上、さらに好ましくは
１００℃以上である。線圧力は好ましくは２００Kg/cm
以上、さらに好ましくは３００Kg/cm以上である。

【００６７】［物理特性］本発明のディスク状磁気記録
媒体の表面固有抵抗は、好ましくは磁性面１０⁴〜１０
¹²オーム/sq、帯電位は−５００Vから＋５００V以内が
好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方
向で好ましくは１００〜２０００Kg/mm²、破断強度は好
ましくは１０〜７０Kg/mm² 、磁気記録媒体の弾性率は
面内各方向で好ましくは１００〜１５００Kg/mm² 、残
留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあら
ゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好
ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以
下である。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１
００mg/m² 以下、さらに好ましくは１０mg/m² 以下であ
る。塗布層が有する空隙率は下層、磁性層とも好ましく
は３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下で
ある。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ま
しいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合
がある。また、繰り返し用途が重視されるので、空隙率
が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。

【００６８】磁性層のＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で
測定した中心面表面粗さＲａは４．０nm以下、好ましく
は３．８nm以下、さらに好ましくは３．５nm以下であ
る。磁性層の最大高さＳＲmaxは０．５μm以下、十点平
均粗さＳＲzは０．３μm以下、中心面山高さＳＲpは
０．３μm以下、中心面谷深さＳＲvは０．３μm以下、
中心面面積率ＳＳrは２０％以上、８０％以下、平均波
長Ｓλaは５μm以上、３００μm以下が好ましい。磁性
層の表面突起は０．０１μmから１μmの大きさのものを
０個から２０００個の範囲で任意に設定することが可能
であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化す
ることが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表
面性のコントロールや磁性層に添加する粉体の粒径と
量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコント
ロールすることができる。カールは±３mm以内とするこ
とが好ましい。

【００６９】本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。

【００７０】

【実施例】 ＜塗料の作製＞ 磁性塗料 強磁性金属微粉末 １００部 組成：Ｆｅ７０％、Ｃｏ３０％、 Ｈｃ、結晶子サイズ、平均長軸長、針状比：表１、２参照 σs：１５０emu/g 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 １４％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ７％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） ５部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート ３部 ブトキシエチルステアレート ３部 エチレングリコールジオレート ６部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １４０部 シクロヘキサノン ２００部 非磁性塗料１ 非磁性粉体 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル １００部 平均一次粒子径０．０３５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面処理剤Ａｌ₂ Ｏ₃ ，ＳｉＯ₂ カーボンブラック ケッチェンブラックＥＣ １３部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １７部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８６００（東洋紡社製） ６部 フェニルホスホン酸 ３部 エチレングリコールジオレート ８部 ｎ−ブチルステアレート ４部 ブトキシエチルステアレート ４部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １２０部 シクロヘキサノン １８０部 非磁性塗料２ 非磁性粉体 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト １００部 長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９ 表面処理剤Ａｌ₂ Ｏ₃ ８重量％ カーボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） １８部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０ １６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 エチレングリコールジオレート ８部 ブトキシエチルステアレート ４部 ｎ−ブチルステアレート ４部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 シクロヘキサノン ２００部 メチルエチルケトン １４０部 製法１ 上記塗料のそれぞれについて、各成分をニーダで混練し
たのち、サンドミルをもちいて分散させた。得られた分
散液にポリイソシアネートを非磁性層１の塗布液には１
３部、非磁性層２の塗布液には６部、磁性層の塗布液に
は４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン３０
部を加え，１μmの平均孔径を有するフィルターを用い
て濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液
をそれぞれ調製した。

【００７１】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μmになるようにさらにその直後にその上に磁
性層の厚さが０．１５μmになるように、厚さ６２μmで
中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレ
ート支持体上に同時重層塗布をおこない、両層がまだ湿
潤状態にあるうちに、以下の配向条件１〜３の方法に従
ってランダム配向処理をおこない乾燥後、７段のカレン
ダで温度９０℃、線圧３００Kg/cmにて処理を行い、
３．７吋に打ち抜き表面研磨処理を施した後、ライナー
が内側に設置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍ
ｅｇａ社製 ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、
所定の機構部品を付加し、３．７吋フロッピーディスク
を得た。

【００７２】製法２ 製法１と同様な方法で非磁性層形成用および磁性層形成
用塗布液を準備し、非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが
１．５μmになるよう、厚さ６２μmで中心面平均表面粗
さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に塗
布をおこない乾燥後、非磁性層上に上記磁性層形成用塗
布液を厚さ０．１５μmになるように塗布し、磁性層が
湿潤状態にあるうちに、以下の配向条件１〜３の方法に
従ってランダム配向処理をおこない乾燥後、７段のカレ
ンダで温度９０℃、線圧３００Kg/cmにて処理を行い、
３．７吋に打ち抜き表面研磨処理を施した後、ライナー
が内側に設置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍ
ｅｇａ社製 ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、
所定の機構部品を付加し、３．７吋フロッピーディスク
を得た。

【００７３】製法３ 製法１と同様な方法で得られた磁性層形成用塗布液を、
乾燥後の厚さが０．３μmになるよう、厚さ６２μmで中
心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に塗布をおこない、上記磁性層がまだ湿潤状
態にあるうちに、以下の配向条件１〜３の方法に従って
ランダム配向処理をおこない乾燥後、７段のカレンダで
温度９０℃、線圧３００Kg/cmにて処理を行い、３．７
吋に打ち抜き表面研磨処理を施した後、ライナーが内側
に設置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍｅｇａ
社製 ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、所定の
機構部品を付加し、３．７吋フロッピーディスクを得
た。

【００７４】配向条件１ 周波数５０Hz、磁場強度２５０ガウスの磁場強度で交流
磁場発生装置の中を通過させる方法。 配向条件２ ギャップ中心が表１、２に記した磁界強度になるように
同極対抗Ｃｏ磁石を設置して長手配向を施した後に、上
記交流磁場発生装置を通過させる方法。

【００７５】配向条件３ 交流磁場発生装置の代わりに、複数の同極対抗Ｃｏ磁石
を支持体の移送方向に対して斜めでかつ交互に反対向き
となるように配してランダム配向させる方法。なお、設
置した同極対抗Ｃｏ磁石の個数、ギャップ中心における
磁界強度は表１、２に記した。

【００７６】得られた試料を下記により評価し、表１、
２に示した。 電磁変換特性 出力・Ｓ／Ｎの測定 出力・Ｓ／Ｎの測定は、米 ＧＵＺＩＫ社製のＲＷＡ１
００１型ディスク評価装置及び協同電子システム（株）
製スピンスタンドＬＳ−９０にて、ギャップ長０．３μ
ｍのメタルインギャップヘッドを用い、半径２４．６ｍ
ｍの位置において線記録密度９０ＫＦＣＩ時での再生出
力（ＴＡＡ）とＤＣイレーズ後のノイズレベルを測定
し、出力・Ｓ／Ｎ値を求めた。

【００７７】モジュレーションの測定 再生出力と同一の条件、装置を使用し、再生波形の１周
における最大値ＶmaxとＶminから｛（Ｖmax−Ｖmin）／
（Ｖmax+Ｖmin）｝×１００（％）を求めた。 磁性層のＨｃ、ＳＱｎの測定 振動試料型磁束計（東英工業社製）を用い、Ｈｍ１０Ｋ
Ｏｅで測定した。なお、ＳＱｎについては反磁界補正は
行っていない。

【００７８】磁性層のＯｒの測定 振動試料型磁束計（東英工業製）を用い、Ｈｍ１０ＫＯ
ｅの磁場をかけ測定サンプルの水平方向に磁場を印加
し、１０度おきに０度〜３６０度まで磁場を回転させ角
形比を求め、その角形比の最小値を最大値で割った値を
算出し配向度比とした。

【００７９】

【表１】

【００８０】

【表２】

【００８１】本発明は強磁性粉末の平均長軸長、結晶子
サイズ、磁性層の抗磁力（Ｈｃ）、磁性層面内での配向
度比（Ｏｒ）、磁性層の面に対して垂直な方向の角形比
（ＳＱｎ）を各々特定範囲とし、好ましくはＡＴＯＭＭ
型とすることにより電磁変換特性が優れ、かつ大容量の
ディスク状磁気記録媒体を安定して提供することができ
る。

【００８２】尚、試料Ｎｏ．１（ＳＱｎ；出力、Ｓ／
Ｎ）、６（Ｏｒ；Ｓ／Ｎ、モジュレーション）、１３
（Ｈｃ；出力、Ｓ／Ｎ）、１７（平均長軸長、針状比、
Ｏｒ；出力、Ｓ／Ｎ、モジュレーション）、１８（針状
比、Ｏｒ；出力、Ｓ／Ｎ、モジュレーション）、２１
（結晶子サイズ；出力、Ｓ／Ｎ）、２５（ＳＱｎ；出
力、Ｓ／Ｎ）、３０（Ｏｒ；Ｓ／Ｎ、モジュレーショ
ン）、３５（Ｏｒ；Ｓ／Ｎ、モジュレーション）、３６
（ＳＱｎ；出力、Ｓ／Ｎ）及び４１（Ｏｒ；出力、Ｓ／
Ｎ、モジュレーション）は比較例でカッコ内は本発明範
囲外の要素及び改善されない特性を示した。そして、そ
の他の試料は実施例である。

【００８３】

【発明の効果】本発明は強磁性粉末の平均長軸長、結晶
子サイズ、磁性層の抗磁力（Ｈｃ）、磁性層面内での配
向度比（Ｏｒ）、磁性層の面に対して垂直な方向の角形
比（ＳＱｎ）を各々特定範囲とし、好ましくはＡＴＯＭ
Ｍ型とすることにより電磁変換特性が優れ、かつ大容量
のディスク状磁気記録媒体を安定して提供することがで
きる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に強磁性粉末とを結合剤とを主
   体とする磁性層を形成してなるディスク状磁気記録媒体
   において、該強磁性粉末は平均長軸長が０．０１〜０．
   １８μｍで、結晶子サイズが５０〜１８０Å、針状比が
   ２〜９であり、磁性層は抗磁力Ｈｃが１７００〜３００
   ０エルステッド（Ｏｅ）、該磁性層面内での配向度比が
   ０．８５以上、磁性層の面に対して垂直な方向の角形比
   が０．３０以下であることを特徴とするディスク状磁気
   記録媒体。
2. 【請求項２】 前記強磁性粉末が強磁性金属粉末であ
   り、前記磁性層の厚さが０．０２〜０．５μｍである請
   求項１に記載のディスク状磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 支持体上に実質的に非磁性である下地層
   とその上に強磁性金属粉末を結合剤中に分散してなる磁
   性層が形成されているディスク状磁気記録媒体におい
   て、該強磁性金属粉末は平均長軸長が０．０１〜０．１
   ８μｍで、結晶子サイズが５０〜１８０Å、針状比が２
   〜９であり、磁性層は抗磁力Ｈｃが１７００〜３０００
   エルステッド（Ｏｅ）、該磁性層面内での配向度比が
   ０．８５以上、磁性層の面に対して垂直な方向の角形比
   が０．３０以下であり、厚みが０．０２〜０．５μｍで
   あることを特徴とするディスク状磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 面記録密度が０．２〜２Ｇbit/inch² で
   ある磁気記録システム用の請求項１〜請求項３の何れか
   １項に記載のディスク状磁気記録媒体。