JPH10275588A - イオン化装置 - Google Patents
イオン化装置Info
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- JPH10275588A JPH10275588A JP9095266A JP9526697A JPH10275588A JP H10275588 A JPH10275588 A JP H10275588A JP 9095266 A JP9095266 A JP 9095266A JP 9526697 A JP9526697 A JP 9526697A JP H10275588 A JPH10275588 A JP H10275588A
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Abstract
持したままエミッタを交換する。 【解決手段】 真空室10と第一バルブ21を隔てて予
備真空室20を設け、予備真空室20と外部との間に設
けたガスケット24と第一バルブ21とを貫通して、先
端にエミッタ31を設けたプローブ30を挿入する。エ
ミッタ31を交換する際には、まず、プローブ30先端
を予備真空室20の位置迄引き抜き、第一バルブ21を
閉塞して真空室10を気密にした後に第二バルブ22を
閉塞し、それからプローブ30を完全に引き抜く。これ
により、予備真空室20は大気圧になる。その後、エミ
ッタ交換後のプローブ30を挿入して第二バルブ22を
開放して予備真空室20を所定の真空度に高め、それか
ら第一バルブ21を開放してプローブ30先端をイオン
化室11へ挿入する。
Description
いて気体試料をイオン化するためのイオン化装置に関す
る。
原子をイオン化し、そのイオンを質量数(質量m/電荷
数z)に応じて分離して検出する構成を有する。試料分
子又は原子をイオン化する方法としては、電子衝撃法、
化学イオン化法等種々のものが用いられている。表面電
離法はその一方法であって、適度に加熱した固体表面に
試料分子又は原子を衝突させ、表面電離作用により該試
料分子又は原子をイオン化する。
載の、従来の表面電離型イオン化装置の一例の構成図で
ある。試料ガス流路40に導入された試料成分の分子又
は原子を含む試料ガスと補助ガス流路41に供給された
水素、ヘリウム等の比重の軽いガスとは、合流してノズ
ル42からイオン化室43内に噴出される。ノズル42
の先端には直径が1〜150μm程度の微小径のガス噴
出口42aが取り付けられると共に、ノズル42に供給
されたガスを加熱するために加熱制御部47に接続され
たヒータ42bがその先端周囲に設けられる。また、ノ
ズル42に対向する位置には、加熱された固体表面を成
すエミッタ44が配置されている。試料分子又は原子が
正イオンになるものである場合には、エミッタ44は仕
事関数の高い固体表面を成すものとされ、例えば白金、
レニウム、タングステン等の金属又はその金属酸化物を
用いる。
真空排気される一方、ノズル42の先端及びエミッタ4
4は適度に加熱される。試料ガス及び補助ガスをそれぞ
れ試料ガス流路40及び補助ガス流路41に供給する
と、両者は混じり合ってノズル42に到達する。ガス噴
出口42aは極く微小径であり且つガスは連続的に供給
されるため、ノズル42内のガス圧は次第に高まる。イ
オン化室43内は真空雰囲気であるため、ガス噴出口4
2aの内側と外側とでは大きな圧力差が生じる。その結
果、軽い補助ガスは勢い良くイオン化室43内に噴出
し、重い試料成分の分子又は原子も補助ガスの噴出流に
乗って真空中に飛び出す。そして、試料成分の分子又は
原子は二体衝突を繰り返しながら超音速領域の速度に到
達する。この超音速自由噴流となった試料成分の分子又
は原子はエミッタ44に衝突し、表面電離作用によりイ
オン化される。発生したイオンはコレクタ45に捕集さ
れ、イオン数に応じた電流を測定することにより試料成
分の濃度が検出される。
の従来技術のように、上述の如く表面電離作用により生
成したイオンを加速した後に四重極フィルタ等の質量分
離器に導入し、イオンを質量数毎に分離して検出器に導
く構成とすることもできる。
のイオン化装置では、エミッタ44は真空に維持される
イオン化室43内に固定的に設置されているため、例え
ば、エミッタ44の表面等に汚染物質が付着する或るい
はイオン化する対象に合わせて固体表面の材料を変更す
る、等のためにエミッタ44を交換したい場合には、イ
オン化室43を大気圧に戻さなければならない。しかし
ながら、イオン化室43を一旦大気圧にすると再び高真
空状態に戻すために時間を要するため、分析効率が良く
ないという問題があった。
たものであり、その目的とするところは、イオン化室の
真空状態を維持したままエミッタの交換が可能なイオン
化装置を提供することである。
に成された本発明に係るイオン化装置は、 a)真空室中に配置され、外部より気体試料が導入される
イオン化室と、 b)開閉自在な弁を有する隔壁を介して前記真空室に隣接
して設けられ、前記イオン化室と前記弁との略一直線上
に外部と連通する開口部を有する予備真空室と、 c)前記開口部と開放状態にある前記弁を貫通して側部が
該開口部と弁により略気密に支持され、前記イオン化室
内に突出した先端部に表面電離用の固体表面を有して成
るプローブと、 を備えることを特徴としている。
表面電離作用を利用してイオン化を行なう場合、表面電
離用の固体表面を先端に備えるプローブが外部より予備
真空室を介して真空室中に挿入され、その先端部は真空
室中のイオン化室内に突出した状態で保持される。この
とき、プローブの後方は外部に突出した状態になってい
るが、プローブの側部と弁及び開口部とは密着している
ため、真空室及び予備真空室はそれぞれ略気密状態にな
っている。このような状態において、イオン化室に気体
試料が導入されると、該気体試料中の成分分子又は原子
は固体表面に接触し、表面電離作用によりイオン化され
る。
先端部が予備真空室に後退する迄該プローブを引き抜い
た後に弁を閉鎖して真空室を気密状態にし、その後に予
備真空室を大気圧にする。そして、プローブを予備真空
室から引き抜く。別のプローブ又は固体表面を交換した
同一プローブを挿入して予備真空室を略気密状態にした
後に該予備真空室を所定の真空度迄高め、弁を開放して
プローブを真空室内へと押し入れる。
撃によるイオン化装置として使用する場合には、電子流
発生手段をイオン化室に付設し、プローブを用いずに、
真空室を気密状態に保ってイオン化室に気体試料を導入
し、該気体試料中の成分分子に電子を衝突させてイオン
化を行なうように構成することもできる。
量分析装置の一実施例について図1及び図2を参照して
説明する。本実施例の質量分析装置は、ガスクロママト
グラフ装置等により成分分離された試料ガスをイオン化
室に直接導入してイオン化した後、発生したイオンの質
量分析を行なう直接試料導入部を備えた質量分析装置の
例であり、表面電離法によるイオン化と電子衝撃法によ
るイオン化とを選択的に行なうことができる。
う場合の本実施例の質量分析装置の構成を示す断面図で
ある。真空室10内部には、イオン化室11、イオンレ
ンズ13、四重極フィルタ14、検出器15等が配置さ
れており、イオン化室11には真空室10外部より試料
を導入するための試料導入管12が連結されている。真
空室10は真空ポンプ16により真空排気され、その内
部は高真空状態(1×10-5Torr程度)に維持され
るようになっている。予備真空室20は、真空室10に
隣接して第一バルブ21にて仕切られて設けられ、第二
バルブ22を介して真空ポンプ23により真空排気され
るようになっている。また、予備真空室20の側壁に
は、ガスケット24が取り付けられた開口部25を有し
ている。
部25とイオン化室11とを結ぶ直線上に所定の大きさ
の孔が開口するようになっており、開口部25及び第一
バルブ21の開口孔に嵌挿されたプローブ30の先端部
がイオン化室11内の適宜の位置に突出するようなって
いる。プローブ30の先端部には表面電離のためのエミ
ッタ31を成す固体表面が取り付けられている。また、
エミッタ31を適宜の温度に加熱するためにプローブ3
0には図示しないヒータが組み込まれており、ヒータ用
電源線32を介して供給される加熱電力により該ヒータ
は加熱される。また、エミッタ31には適当な電圧が印
加されるように図示しない電圧印加用の電源線も設けら
れている。
ため、測定者は該後部を把持して真空室10及び予備真
空室20に該プローブ30を押し込んだり逆に引き出し
たりすることが可能である。しかしながら、該プローブ
30は先端部を除いて一定の径を有しているため、その
外周側部とガスケット24の内周面及び第一バルブ21
の内周面とは密着し、真空室10及び予備真空室20は
それぞれ気密に保たれる。
構成において、試料ガスが試料導入管12を通してイオ
ン化室11内に導入されると、試料ガス中の成分分子又
は原子は適度に加熱されているエミッタ31に接触し、
表面電離作用によりイオン化される。エミッタ31には
イオンと同極性の電圧が印加され、これにより、エミッ
タ31表面で生成したイオンは反発してイオン化室11
から飛び出す。該イオンはイオンレンズ13により収束
されると共に適宜に加速されて、四重極フィルタ14に
導入される。四重極フィルタ14には直流電圧と高周波
電圧とを重畳した電圧が印加され、該印加電圧に応じた
所定の質量数を有するイオンのみが四重極フィルタ14
を通過して検出器15に到達する。検出器15は、到達
したイオン数に応じた電流を検出する。
内へのエミッタ31の突出量や試料の成分分子の進行方
向に対するエミッタ31の傾き角度によって、イオン化
効率が相違する。このため、例えば、標準試料をイオン
化室11内へ導入し、このとき検出器15にて検出した
電流をモニタしながら該電流が最大となるようにプロー
ブ30の押込量や傾きを調整するとよい。勿論、プロー
ブ30の後部は開口部25から外部に露出しているの
で、この露出した部分の長さや傾きによりイオン化室1
1内でのエミッタ31の突出量や傾き角度を推定するこ
ともできる。
衝撃法によるイオン化装置として使用する場合の構成を
示す側面断面図(a)及びA1−A2線断面図(b)であ
る。この場合、プローブ30は抜去されて第一バルブ2
1は閉塞される。また、開口部25には閉塞栓33が嵌
挿され、これにより真空室10及び予備真空室20は気
密に保たれる。
電離によるイオン化時よりも真空度を高めておく(1×
10-6Torr程度)。イオン化室11の側面に配置さ
れたフィラメント11bとその反対側に配置された電極
11cにそれぞれ所定の電圧を印加し、フィラメント1
1bから電極11cへ向かう電子流を生成する。試料導
入管12を通して気体試料がイオン化室11に導入され
ると、成分分子又は原子に電子流が衝突して電子を叩き
出し、該分子又は原子をイオン化する。このイオンがイ
オン化室11から飛び出してイオンレンズ13、四重極
フィルタ14に導入され質量分析される。
1内で発生したイオンがイオンレンズ13側(図2で右
方向)へ進むようにするためには、イオン化室11のプ
ローブ挿入用開口の近傍に設けた電極11aに、イオン
と同極性の電圧を印加するようにしておくとよい。
化から図2に示したような電子衝撃によるイオン化に切
り換える場合、或いは、表面電離によるイオン化時にエ
ミッタ31の交換を行なう場合には、次のようにする。
まず、プローブ30の先端部をイオン化室11内から引
き抜き、予備真空室20内に迄後退させる。そして、第
一バルブ21を閉塞し真空室10を気密にする。次に、
第二バルブ22を閉塞し予備真空室20からの真空排気
を中断した後に、プローブ30を予備真空室20から引
き抜く。これにより、開口部25を通して大気が予備真
空室20に流入するため、該予備真空室20内は大気圧
になる。
には、開口部25に閉塞栓33を嵌挿し、その後第二バ
ルブ22を開放して予備真空室20の真空排気を再開す
る。また、エミッタ31を交換する場合には、まず、予
備真空室20にエミッタ31を交換したプローブ30を
挿入し、第二バルブ22を開放して予備真空室20の真
空排気を再開する。そして、予備真空室20の真空度が
適度に高まった後に、第一バルブ21を開放してプロー
ブ30を真空室10内に押し入れて、その先端部をイオ
ン化室11内の所定位置迄突出させる。これにより、真
空室10を大気圧にすることなく、電子衝撃によるイオ
ン化に変更したりエミッタ31を交換したりすることが
できる。
の趣旨の範囲で適宜変更や修正を行なえることは明らか
である。
ン化装置によれば、真空室に隣接して予備真空室を設
け、該予備真空室を介して外部より固体表面を先端に設
けたプローブを真空室中のイオン化室内に着脱自在に配
設している。このため、エミッタの交換等の場合には、
予備真空室のみを大気圧に戻し真空室は高真空状態に維
持したままにしておくことができるので、エミッタ交換
後に次の分析迄に要する準備時間を短縮することができ
る。
ば、表面電離法によるイオン化と電子衝撃法によるイオ
ン化とを容易に切り換えることができるので、分析目的
或いは試料の種類に応じて適当な方法を選択して適切な
分析が行なえる。
ン化室内へのエミッタの突出量の調整や傾き角度の調整
が容易に行なえるので、最適なイオン化効率の状態を得
られ易い。
装置の一実施例であって、表面電離によるイオン化の場
合の構成図。
析装置の一実施例であって、電子衝撃によるイオン化の
場合の構成図。
プ 20…予備真空室 21…第一バルブ 22…第二バルブ 24…ガスケット 25…開口部 30…プローブ 31…エミッタ
Claims (1)
- 【請求項1】 a)真空室中に配置され、外部より気体試
料が導入されるイオン化室と、 b)開閉自在な弁を有する隔壁を介して前記真空室に隣接
して設けられ、前記イオン化室と前記弁との略一直線上
に外部と連通する開口部を有する予備真空室と、 c)前記開口部と開放状態にある前記弁を貫通して側部が
該開口部と弁により略気密に支持され、前記イオン化室
内に突出した先端部に表面電離用の金属表面を有して成
るプローブと、 を備えることを特徴とするイオン化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9095266A JPH10275588A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | イオン化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9095266A JPH10275588A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | イオン化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10275588A true JPH10275588A (ja) | 1998-10-13 |
Family
ID=14132971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9095266A Pending JPH10275588A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | イオン化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10275588A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130320207A1 (en) * | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mass spectrometer |
-
1997
- 1997-03-28 JP JP9095266A patent/JPH10275588A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130320207A1 (en) * | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mass spectrometer |
| CN103456596A (zh) * | 2012-06-04 | 2013-12-18 | 株式会社日立高新技术 | 质量分析装置 |
| US9006679B2 (en) * | 2012-06-04 | 2015-04-14 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mass spectrometer |
| US9281169B2 (en) | 2012-06-04 | 2016-03-08 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mass spectrometer |
| EP2672505A3 (en) * | 2012-06-04 | 2016-03-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mass spectrometer |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20031224 |
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| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040210 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041208 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041221 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050315 |