JPH10275845A - 基板の搬送装置および処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は基板のサイズが変更になっても、
それに容易に対応することができるようにした搬送装置
を提供することを目的とする。 【解決手段】 基板を所定方向に搬送する搬送装置にお
いて、上記基板の搬送方向に沿って所定間隔で配置され
上記基板の下面を所定の幅寸法で支持する支持ロ−ラ８
が設けられた搬送軸５と、この搬送軸を回転駆動して上
記基板を所定方向に搬送する駆動源２６と、上記搬送軸
の上方に互いの軸線を平行にして配置され上記支持ロ−
ラに支持された基板の上面の幅方向両端部を押える一対
の押えロ−ラ１５が軸方向にスライド自在に設けられた
押え軸１１と、上記押えロ−ラを上記基板の幅寸法に応
じて上記押え軸の軸方向に沿ってスライドさせて位置決
めする係合体４７とを具備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は液晶用ガラス基板
や半導体ウエハなどの基板を搬送するための基板の搬送
装置およびその搬送装置が用いられた基板の処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶表示装置や半導体装置の製
造工程においては、基板としての液晶用ガラス基板や半
導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求される工
程がある。このような基板を洗浄する方式としては、洗
浄液中に複数枚の基板を浸漬するデイップ方式や基板に
向けて洗浄液を噴射して一枚づつ洗浄する枚葉方式があ
り、最近では高い清浄度が得られるとともに、コスト的
に有利な枚葉方式が採用されることが多くなってきてい
る。

【０００３】枚葉方式の１つとして基板を搬送装置で搬
送しながらその上下面にシャワ−ノズルから洗浄液を噴
射して洗浄する洗浄方式が知られている。上記搬送装置
は処理チャンバを有し、この処理チャンバ内に上記基板
の搬送方向に沿って複数の搬送ロ−ラを所定間隔で回転
自在に設け、これらの搬送ロ−ラを回転駆動すること
で、上記基板を搬送するようになっている。

【０００４】搬送ロ−ラによって搬送される基板に洗浄
液を噴射すると、洗浄液の圧力で基板がずれ動くため、
基板を確実に搬送することができないということがあ
る。そこで、搬送される基板がずれ動くのを防止するた
めに、基板の上面の幅方向両端部を押えロ−ラで押えて
上記基板を搬送するということが行われている。

【０００５】ところで、基板には種々のサイズのものが
ある。そのため、搬送ロ−ラには軸方向に所定の長さ寸
法を有する、いわゆるフラットロ−ラが用いられ、サイ
ズの変更に対応できるようにしている。

【０００６】しかしながら、押えロ−ラにフラットロ−
ラを用いてサイズの変更に対応できるようにすると、こ
の押えロ−ラが基板の上面に形成された回路パタ−ンを
押圧することになるから、基板の損傷を招いたり、基板
との接触面積が増大し、基板の上面が汚染されてしまう
などの不都合が生じる。

【０００７】そこで、押えロ−ラにはフラットロ−ラに
比べて基板に接触する幅寸法ができるだけ小さなロ−ラ
を用い、基板の幅方向のパタ−ンが形成されていない両
端部だけを押えることが望まれる。しかしながら、幅寸
法の小さな押えロ−ラを用いた場合には、基板のサイズ
が変更になったときに、そのサイズに応じて上記押えロ
−ラを位置決めしなければならない。

【０００８】そのため、サイズの異なる複数種の基板に
対応できるようにするためには、サイズの変更に応じて
上記押えロ−ラを基板の幅方向にスライド位置決めでき
る構成の搬送装置が必要となる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このように、基板の上
面の幅方向両端部を押えて搬送する場合、基板を単に搬
送するだけでなく、サイズの変更に応じて基板の上面の
パタ−ンが形成されていない両端部を確実に押えること
ができるよう、押えロ−ラをスライド位置決めできるよ
うにしなければならないということがあった。

【００１０】この発明は、基板のサイズ変更に応じてそ
の上面の幅方向両端部を押えることができるよう押えロ
−ラを自動的にスライド位置決めできるようにした基板
の搬送装置および処理装置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を所定方向に搬送する搬送装置において、上記基板の搬
送方向に沿って配置され上記基板の下面を所定の幅寸法
で支持する支持ロ−ラが設けられた搬送軸と、この搬送
軸を回転駆動して上記基板を所定方向に搬送する駆動手
段と、上記搬送軸の上方に互いの軸線を平行にして配置
され上記支持ロ−ラに支持された基板の上面の幅方向両
端部を押える一対の押えロ−ラが軸方向にスライド自在
に設けられた押え軸と、上記押えロ−ラを上記基板の幅
寸法に応じて上記押え軸の軸方向に沿ってスライドさせ
て位置決めする位置決め手段とを具備したことを特徴と
する。

【００１２】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記位置決め手段は、上記押えロ−ラに形成された
係合部に係合する係合体と、この係合体を上記押え軸の
軸方向に沿って駆動して所定の位置で位置決めする駆動
機構とからなることを特徴とする。

【００１３】請求項３の発明は、基板を所定方向に搬送
しながら処理する基板の処理装置において、処理チャン
バと、この処理チャンバン内に上記基板の搬送方向に沿
って配置され上記基板の下面を所定の幅寸法で支持する
支持ロ−ラが設けられた搬送軸と、上記処理チャンバの
外部に配置され上記搬送軸を回転駆動して上記基板を所
定方向に搬送する駆動手段と、上記搬送軸の上方に互い
の軸線を平行にして配置され上記支持ロ−ラに支持され
た基板の上面の幅方向両端部を押える一対の押えロ−ラ
が軸方向にスライド自在に設けられた押え軸と、上記処
理チャンバの外部に配置され上記押えロ−ラを上記基板
の幅寸法に応じて上記押え軸の軸方向に沿ってスライド
させて位置決めする位置決め手段とを具備したことを特
徴とする。

【００１４】請求項１の発明によれば、支持ロ−ラが設
けられた搬送軸の上方に、軸線を平行にして押え軸を配
置し、この押え軸に押えロ−ラをスライド自在に設け、
この押えロ−ラを基板の幅寸法に応じて上記押え軸の軸
方向に沿ってスライド位置決めできるようにしたので、
搬送される基板の上面の両端部を確実に押えることがで
きる。

【００１５】請求項２の発明によれば、押えロ−ラに係
合した係合体を駆動機構によって押え軸の軸方向に沿う
所定の位置で位置決めできるようにしたので、基板のサ
イズが変更されても、その基板の上面の両端部を上記押
えロ−ラによって確実に押圧することができる。

【００１６】請求項３の発明によれば、処理チャンバ内
を搬送される基板のサイズが変更になっても、その基板
の上面の幅方向両端部を確実に押圧することができ、し
かも搬送軸の駆動手段や押えロ−ラをスライドさせて位
置決めする機構をチャンバの外部に設けたことで、機械
的なスライド部分で発生する塵埃がチャンバ内の基板に
付着するのを防止でき、さらには薬液によりスライド部
分が腐食するのを防止できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。図５は液晶用ガラス基板や半
導体ウエハなどの基板Ｗを、たとえば洗浄処理するため
の処理装置の一部断面し、かつ一部省略した平面図で、
この処理装置は処理チャンバ１を有する。この処理チャ
ンバ１は箱型状に形成されていて、一端面には搬入口
２、他端面には搬出口３が形成されている。上記搬入口
２から送り込まれた基板Ｗは後述する搬送装置によって
上記搬出口３へ搬送されるようになっており、その間に
上記基板Ｗが処理、たとえば基板Ｗの上下面が図示しな
い洗浄ノズルから噴射される洗浄液や洗浄ブラシなどに
よって洗浄されるようになっている。

【００１８】上記搬送装置は上記基板Ｗの搬送方向に沿
って所定間隔で平行に配置された複数の搬送軸５を有す
る。搬送軸５の両端部は上記処理チャンバ１の側壁を貫
通して両側壁の外側に隔別形成された機械室１ａ、１ｂ
に突出し、図１に示すようにそれぞれ第１の軸受６によ
って回転自在に支持されている。

【００１９】上記搬送軸５の側壁を貫通した部分はシ−
ル部材７によって液密にシ−ルされ、また上記搬送軸５
の上記処理チャンバ１内に位置する部分の両端部にはそ
れぞれ軸方向に所定の長さを有するフラットロ−ラタイ
プの支持ロ−ラ８が設けられている。上記基板Ｗはこの
支持ロ−ラ８に下面の幅方向両端部が接触して搬送され
るようになっている。なお、支持ロ−ラ８は弗素系の合
成樹脂によって形成されており、また支持ロ−ラ８は基
板Ｗの幅方向全長を支持する長さであっても差し支えな
い。

【００２０】さらに、処理チャンバ１には図１に示すよ
うに上記搬送軸５と対応する位置に押え軸１１が軸線を
平行にして配置されている。各押え軸１１の両端部は上
記処理チャンバ１の側壁を貫通し、第２の軸受１２によ
って回転自在に支持されている。押え軸１１の側壁を貫
通した部分はシ−ル部材１３によって液密にシ−ルされ
ている。

【００２１】上記第１の軸受６と第２の軸受１２は上記
処理チャンバ１の側壁外方に立設された支持部材１４に
保持されている。上記押え軸１１の上記処理チャンバ１
内に位置する部分の両端部にはそれぞれ押えロ−ラ１５
が軸方向に沿ってスライド自在かつ図示しないキ−によ
って回転不能に設けられている。この押えロ−ラ１５は
弗素系の合成樹脂によって図１に示すように大径部１５
ａと小径部１５ｂとが連設されてなる。

【００２２】上記大径部１５ａの外周面には耐薬品性に
優れたゴムなどの弾性材料からなる押圧リング１６が取
着された取付け溝１７が形成され、小径部１５ｂの外周
面には係合溝１８が形成されている。この係合溝１８に
は押えロ−ラ１５を押え軸１１の軸方向にスライドさせ
て所定の位置に位置決めする、後述する位置決め装置２
０の係合体４７が係合する。上記押圧リング１６は上記
支持ロ−ラ８によって搬送される基板Ｗの上面の幅方向
両端部に所定の圧力で接触するようになっている。

【００２３】上記搬送軸５と押え軸１１との一端部は上
記第１の軸受６と第２の軸受１２からそれぞれ突出し、
その突出端には図１に示すように互いに噛合した平歯車
からなる第１の歯車２１と第２の歯車２２とが嵌着され
ている。さらに、上記搬送軸５にはヘリカル歯車２１ａ
が嵌着され、このヘリカル歯車２１ａにはピニオンから
なる第３の歯車２３が噛合している。

【００２４】上記処理チャンバ１の側壁外方の一方の機
械室１ａには、図１および図５に示すように搬送軸５と
軸線を直交させ、両端部を第３の軸受２５によって回転
自在に支持された駆動軸２４が設けられ、この駆動軸２
４に上記第３の歯車２３が嵌着されている。また、駆動
軸２４の一端部には従動スプロケット２９が嵌着されて
いる。

【００２５】上記機械室１ａの外面には図５に示すよう
に駆動源２６が設けられている。この駆動源２６の出力
軸には駆動スプロケット２７が嵌着されている。この駆
動スプロケット２７と上記従動スプロケット２９にはチ
ェ−ン２８が張設されている。したがって、駆動源２６
が作動して駆動スプロケット２７が回転駆動されると、
チェ−ン２８および従動スプロケット２９を介して駆動
軸２４が回転駆動される。駆動軸２４が回転すれば、そ
れに連動する第３の歯車２３によってヘリカル歯車２１
ａを介して第１の歯車２１が回転されるから、この第１
の歯車２１と噛合した第２の歯車２２が第１の歯車２１
と逆方向に回転する。

【００２６】第１、第２の歯車２１、２２が回転する
と、その回転に搬送軸５と押え軸１１とが連動するか
ら、これらの軸５、１１に設けられた支持ロ−ラ８と押
えロ−ラ１５とによって幅方向端部の上下面が挟持され
た基板Ｗが所定方向に搬送されることになる。すなわ
ち、基板Ｗは駆動力を付与された支持ロ−ラ８と押えロ
−ラ１５とによって上下面が挟持されて搬送されるか
ら、基板Ｗに外力が加わっても、その搬送方向や速度な
どの搬送状態が損なわれることがない。

【００２７】たとえば、基板Ｗをブラシ洗浄する処理装
置の場合、洗浄ブラシが基板Ｗに接触して回転するた
め、基板Ｗに加わる外力が大きくなるが、そのような場
合であっても、基板Ｗの搬送状態が損なわれることがな
い。

【００２８】一方、上記位置決め装置２０は上記処理チ
ャンバ１の側方に形成された機械室１ａ、１ｂにそれぞ
れ配置され（機械室１ａ、１ｂに配置された状態は図示
しない）、押え軸１１に設けられた軸方向一端側と他端
側の押えロ−ラ１５をそれぞれ軸方向にスライドさせて
位置決めする。

【００２９】左右一対の位置決め装置２０は同じ構成で
あるから、以下、一方について説明する。すなわち、位
置決め装置２０は図２と図３に示すように機械室１ａ、
１ｂに立設された架台３１を有する。この架台３１の上
端には第１のベ−ス板３２が水平に支持されている。こ
のベ−ス板３２の上面の幅方向中央部には第１のシリン
ダ３３が軸線を上記押え軸１１の軸線と同一方向に平行
にして配置されている。この第１のシリンダ３３の両側
には一対の第１のガイド体３４が平行に配設されてい
る。

【００３０】ベ−ス板３２の上方には第１の可動板３５
が配設される。この第１の可動板３５の下面には上記各
第１のガイド体３４にそれぞれスライド自在に係合した
一対の第１のスライダ３６が設けられている。また、第
１の可動板３５の下面には第１の舌片３７が垂設され、
この第１の舌片３７には上記第１のシリンダ３３のロッ
ド３３ａが連結されている。したがって、第１のシリン
ダ３３のロッド３３ａが駆動されれば、図２にＳ1 で示
すストロ−クだけ第１の可動板３５が前進方向に駆動さ
れるようになっている。

【００３１】上記第１の可動板３５の上面には幅方向ほ
ぼ中央部分に第２のシリンダ３８が上記第１のシリンダ
３３と軸線をほぼ平行にして設けられている。この第２
のシリンダ３８の両側には一対の第２のガイド３９が平
行に配置されている。この第２のガイド３９には第２の
可動板４１の下面に設けられた一対の第２のスライダ４
２がスライド自在に係合されている。

【００３２】上記第２の可動板４１の下面には第２の舌
片４３が垂設されていて、この第２の舌片４３は上記第
２のシリンダ３８のロッド３８ａに連結されている。し
たがって、第２のシリンダ３８のロッド３８ａが駆動さ
れれば、第２の可動板４１は図２にＳ2 で示すストロ−
クだけ上記第１の可動板３５と同じ前進方向に駆動され
るようになっている。この実施の形態では、Ｓ1 ＜Ｓ2
に設定されている。

【００３３】上記第２の可動板４１の幅方向両端部下面
には図２と図３に示すようにそれぞれ保持体４４が設け
られ、各保持体４４には取付軸４５の一端部が固着され
ている。各取付軸４５は処理チャンバ１の側壁を貫通し
ている。この貫通部分はシ−ル材４６によってスライド
自在な状態で液密にシ−ルされている。

【００３４】上記取付軸４５の処理チャンバ１内に突出
した先端には係合体４７が取付けられている。この係合
体４７の下端部には、図４に示すように上記押え軸１１
と同じ間隔で複数の係合凹部４８が形成されている。そ
して、係合体４７は図２に示すようにその係合凹部４８
を上記押えロ−ラ１５の係合溝１８に係合させている。
したがって、上記係合体４７が図２に矢印で示す前進方
向に駆動されれば、その動きに連動して押え軸１１に設
けられた押えロ−ラ１５がこの押え軸１１に沿ってスラ
イドするようになっている。

【００３５】つぎに、上記構成の処理装置の作用につい
て説明する。まず、基板Ｗのサイズに応じて位置決め装
置２０により、押えロ−ラ１５の押圧リング１６が上記
基板Ｗの上面の幅方向両端部の回路パタ−ンが形成され
ていない部分を押圧するよう位置決めする。上記位置決
め装置２０は第１のシリンダ３３と第２のシリンダ３８
とによって係合体４７を２段階に前進させることができ
る。

【００３６】すなわち、係合体４７は図２に示すよう
に、第１のシリンダ３３と第２のシリンダ３８とを作動
させていない実線で示す第１の位置と、第２のシリンダ
３８を作動させてストロ−クＳ2 の距離で前進させた鎖
線で示す第２の位置と、さらに第１のシリンダ３３を作
動させてストロ−ク（Ｓ2 ＋Ｓ1 ）の距離で前進させた
同じく鎖線で示す第３の位置とで位置決めでき、その動
きに押えロ−ラ１５を連動させて位置決めできる。

【００３７】したがって、押えロ−ラ１５は幅寸法の異
なる３種類の基板Ｗの幅方向両端部の上面を押圧保持す
ることができる。なお、基板Ｗの下面は搬送軸５に設け
られた支持ロ−ラ８に支持される。この支持ロ−ラ８は
軸方向に所定の長さ寸法を有するフラットロ−ラとなっ
ている。そのため、基板Ｗのサイズが変更になっても、
それぞれのサイズの基板Ｗの下面の幅方向両端部を支持
することができる。支持ロ−ラ８がフラットロ−ラであ
ることで、基板Ｗとの接触長さが大きくなり、基板Ｗを
汚染する虞があるが、支持ロ−ラ８との接触は基板Ｗの
下面であるから、とくに問題になることはない。

【００３８】押えロ−ラ１５を基板Ｗの幅寸法に応じて
位置決めしたならば、駆動源２６を作動させて搬送軸５
と押え軸１１を回転駆動し、処理チャンバ１の搬入口２
から所定のサイズの基板Ｗを供給する。それによって、
処理チャンバ１内に供給された基板Ｗは幅方向両端部が
支持ロ−ラ８と、押えロ−ラ１５に設けられた押圧リン
グ１６とで挟持されて図５に矢印で示す方向に搬送され
る。

【００３９】つまり、位置決め装置２０によって押え軸
１１に設けられた押えロ−ラ１５をスライドさせて位置
決めできるようにしたから、基板Ｗのサイズが変更にな
っても、そのサイズ変更に容易かつ確実に対応すること
ができる。

【００４０】このようにして処理チャンバ１の搬入口２
から供給された基板Ｗは搬出口３から搬出されるまでの
間に図示しない洗浄処理などが行われることになる。基
板Ｗの洗浄処理を、たとえば洗浄ブラシなどで行う場
合、基板Ｗには大きな外力が加わることになる。

【００４１】しかしながら、基板Ｗの幅方向両端部の上
下面を挟持した支持ロ−ラ８と押えロ−ラ１５とが設け
られた搬送軸５および押え軸１１は、それぞれ駆動源２
６によって駆動されているから、その駆動力によって基
板Ｗを外力により搬送状態が損なわれることなく、確実
に搬送できる。

【００４２】上記搬送軸５や押え軸１１を回転自在に支
持した軸受６、１２、さらには駆動源２６、第１乃至第
３の歯車２１〜２３などの機械的摩擦力によって塵埃の
発生する虞のある部分は処理チャンバ１の外部に設ける
ようにした。

【００４３】そのため、上記各部分で発生する塵埃が処
理チャンバ１内を搬送される基板Ｗに付着することがな
いから、処理チャンバ１内で処理された基板Ｗが汚染さ
れることがない。

【００４４】この発明は上記一実施の形態に限定され
ず、発明の要旨を逸脱しない範囲で変形可能である。た
とえば、押えロ−ラを位置決めする位置決め手段として
第１のシリンダと第２のシリンダとを用いて係合体を段
階的に駆動するようにしたが、リニアモ−タや駆動ねじ
などを用いて係合体を無段階で駆動できるようにしても
よく、要は係合体を基板のサイズに応じて所定の位置で
位置決めできる構成であればよい。

【００４５】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、支持ロ−ラが
設けられた搬送軸の上方に、軸線を平行にして押え軸を
配置し、この押え軸に押えロ−ラをスライド自在に設
け、この押えロ−ラを基板の幅寸法に応じて上記押え軸
の軸方向に沿ってスライド位置決めできるようにした。

【００４６】そのため、搬送される基板のサイズが変更
になっても、上記押えロ−ラにより、基板の上面の両端
部を確実に押えることができ、しかも押えロ−ラの位置
決めを自動的に行うことができる。つまり、基板のサイ
ズ変更に対し容易かつ確実に対応できる。

【００４７】請求項２の発明によれば、押えロ−ラに係
合した係合体を駆動機構によって押え軸の軸方向に沿う
所定の位置で位置決めできるようにした。そのため、基
板のサイズが変更されても、その基板の上面の両端部を
上記押えロ−ラによって確実に押圧することができるば
かりか、上記押圧ロ−ラを簡単な構成で確実に位置決め
できる。

【００４８】請求項３の発明によれば、処理チャンバ内
を搬送される基板のサイズが変更になっても、その基板
の上面の幅方向両端部を確実に押圧することができる。
しかも、搬送軸の駆動手段や押えロ−ラをスライドさせ
て位置決めする機構をチャンバの外部に設けたことで、
機械的なスライド部分で発生する塵埃がチャンバ内の基
板に付着するのを防止でき、さらに薬液によりスライド
部分が腐食するのを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態を示す処理チャンバの
一部分の拡大断面図。

【図２】同じく位置決め装置と押えロ−ラとの関係を示
す断面図。

【図３】同じく位置決め装置の正面図。

【図４】同じく係合体と押えロ−ラとの一部を示す斜視
図。

【図５】同じく押え軸を除去して処理チャンバの一部を
断面して示す平面図。

【符号の説明】

１…処理チャンバ ５…搬送軸 ８…支持ロ−ラ １１…押え軸 １５…押えロ−ラ １８…係合溝（係合部） ２０…位置決め装置（位置決め手段） ２１〜２２…歯車（駆動手段） ２６…駆動源（駆動手段） ３３…第１のシリンダ（駆動機構） ３８…第２のシリンダ（駆動機構） ４７…係合体 Ｗ…基板

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【手続補正書】

【提出日】平成９年４月２３日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を所定方向に搬送する搬送装置において、上記基板の搬
送方向に沿って所定間隔で配置され上記基板の下面を所
定の幅寸法で支持する支持ロ−ラが設けられた搬送軸
と、この搬送軸を回転駆動して上記基板を所定方向に搬
送する駆動手段と、上記搬送軸の上方に互いの軸線を平
行にして配置され上記支持ロ−ラに支持された基板の上
面の幅方向両端部を押える一対の押えロ−ラが軸方向に
スライド自在に設けられた押え軸と、上記押えロ−ラを
上記基板の幅寸法に応じて上記押え軸の軸方向に沿って
スライドさせて位置決めする位置決め手段とを具備した
ことを特徴とする。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１３】請求項３の発明は、基板を所定方向に搬送
しながら処理する基板の処理装置において、処理チャン
バと、この処理チャンバ内に上記基板の搬送方向に沿っ
て所定間隔で配置され上記基板の下面を所定の幅寸法で
支持する支持ロ−ラが設けられた搬送軸と、上記処理チ
ャンバの外部に配置され上記搬送軸を回転駆動して上記
基板を所定方向に搬送する駆動手段と、上記搬送軸の上
方に互いの軸線を平行にして配置され上記支持ロ−ラに
支持された基板の上面の幅方向両端部を押える一対の押
えロ−ラが軸方向にスライド自在に設けられた押え軸
と、上記処理チャンバの外部に配置され上記押えロ−ラ
を上記基板の幅寸法に応じて上記押え軸の軸方向に沿っ
てスライドさせて位置決めする位置決め手段とを具備し
たことを特徴とする。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を所定方向に搬送する搬送装置にお
   いて、 上記基板の搬送方向に沿って所定間隔で配置され上記基
   板の下面を所定の幅寸法で支持する支持ロ−ラが設けら
   れた搬送軸と、 この搬送軸を回転駆動して上記基板を所定方向に搬送す
   る駆動手段と、 上記搬送軸の上方に互いの軸線を平行にして配置され上
   記支持ロ−ラに支持された基板の上面の幅方向両端部を
   押える一対の押えロ−ラが軸方向にスライド自在に設け
   られた押え軸と、 上記押えロ−ラを上記基板の幅寸法に応じて上記押え軸
   の軸方向に沿ってスライドさせて位置決めする位置決め
   手段とを具備したことを特徴とする基板の搬送装置。
2. 【請求項２】 上記位置決め手段は、上記押えロ−ラに
   形成された係合部に係合する係合体と、この係合体を上
   記押え軸の軸方向に沿って駆動して所定の位置で位置決
   めする駆動機構とからなることを特徴とする請求項１記
   載の基板の搬送装置。
3. 【請求項３】 基板を所定方向に搬送しながら処理する
   基板の処理装置において、 処理チャンバと、 この処理チャンバ内に上記基板の搬送方向に沿って所定
   間隔で配置され上記基板の下面を所定の幅寸法で支持す
   る支持ロ−ラが設けられた搬送軸と、 上記処理チャンバの外部に配置され上記搬送軸を回転駆
   動して上記基板を所定方向に搬送する駆動手段と、 上記搬送軸の上方に互いの軸線を平行にして配置され上
   記支持ロ−ラに支持された基板の上面の幅方向両端部を
   押える一対の押えロ−ラが軸方向にスライド自在に設け
   られた押え軸と、 上記処理チャンバの外部に配置され上記押えロ−ラを上
   記基板の幅寸法に応じて上記押え軸の軸方向に沿ってス
   ライドさせて位置決めする位置決め手段とを具備したこ
   とを特徴とする基板の処理装置。