JPH10278040A - 結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方法 - Google Patents

結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方法

Info

Publication number
JPH10278040A
JPH10278040A JP9082623A JP8262397A JPH10278040A JP H10278040 A JPH10278040 A JP H10278040A JP 9082623 A JP9082623 A JP 9082623A JP 8262397 A JP8262397 A JP 8262397A JP H10278040 A JPH10278040 A JP H10278040A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal material
semiconductor single
attaching
single crystal
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9082623A
Other languages
English (en)
Inventor
Masashi Nagatsuka
真史 永塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP9082623A priority Critical patent/JPH10278040A/ja
Publication of JPH10278040A publication Critical patent/JPH10278040A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】加工空間への結晶材料の設置作業の簡易化を図
ることができる結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方
法を提供する。 【解決手段】結晶材料加工装置の取付け部に結晶材料1
を取り付けるための取付け用着脱部50が、前記取付け
部に着脱される基板51と、基板51に対して回転位置
決め自在に連結された回転板52とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は結晶材料の結晶軸の
方位を所定方位に設定して加工する結晶材料加工装置及
び結晶材料の設置方法に係り、特に、加工空間への結晶
材料の設置作業の簡易化を図ることができる結晶材料加
工装置及び結晶材料の設置方法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体材料に回路を形成したい
わゆる半導体チップを製造する過程では、結晶材料の一
つである丸棒状の半導体単結晶材料を、その結晶軸に直
交する方向に切断して、多数の半導体ウェーハに切り分
ける工程がある。この工程では、従来、次のような結晶
材料加工装置が用いられる。
【0003】その結晶材料加工装置はワイヤソー切断機
であり、半導体単結晶材料を加工する加工空間と、加工
空間に配置されるワイヤと、半導体単結晶材料を支持し
加工空間に配置させる結晶材料支持機構とを備えてい
る。この結晶材料支持機構は、半導体単結晶材料が固定
される取付け用着脱部材(ワークブロック)と、取付け
用着脱部材が着脱され、装着時には半導体単結晶材料を
加工空間に設置させる取付け部とを備えている。
【0004】そして、このワイヤソー切断機は、半導体
単結晶材料を、その結晶軸を所定方位に設定して加工空
間に設置し、ワイヤで切断するものである。このワイヤ
ソー切断機の加工空間への半導体単結晶材料の設置は、
次のように行われる。まず、取付け用着脱部材を取付け
部から取り外しておき、その取付け用着脱部材に対し、
半導体単結晶材料の形状に対応するスライスベースを介
して、半導体単結晶材料を所定の姿勢で接着固定し、そ
の半導体単結晶材料が固定された取付け用着脱部材を、
ワイヤソー切断機の取付け部に装着する。尚、取付け部
の方位を調整自在、即ち半導体単結晶材料の結晶軸の方
位を調整する結晶軸方位調整部を備えたものでは、装着
の後、結晶軸方位調整部により、半導体単結晶材料の結
晶軸の方位の微調整を行う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのよ
うな従来のワイヤソー切断機等の結晶材料加工装置で
は、半導体単結晶材料を所定の姿勢で取付け用着脱部材
に固定する作業が煩雑であるという問題を有している。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、加
工空間への結晶材料の設置作業の簡易化を図ることがで
きる結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方法を提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決する為の手段】本発明の結晶材料加工装置
は前記目的を達成するために、結晶材料を加工する加工
空間と、前記結晶材料を支持し前記加工空間に配置させ
る結晶材料支持機構とを備え、該結晶材料支持機構は、
前記結晶材料が固定される取付け用着脱部と、該取付け
用着脱部が着脱され、装着時には前記結晶材料を前記加
工空間に設置させる取付け部とを有する結晶材料加工装
置において、前記取付け用着脱部は、前記取付け部に着
脱される基部と、回転部と、前記回転部を前記基部に対
して回転位置決め自在に連結する回転連結手段とを有す
ることを特徴とする。従って、従来の接着固定の場合に
比して、取付け用着脱部の回転部側に結晶材料を固定し
た後にも、その基部に対する結晶材料の姿勢の調整、即
ち、結晶軸の方位の調整が可能なので、その結晶軸の方
位の調整作業が容易である。
【0007】また、回転部を前記基部に係止、係止解除
自在な係止手段を設けることにより、回転位置決めの仮
止め乃至本止めがより容易となる。即ち、基部に対する
結晶材料の姿勢の調整がより容易となる。本発明の結晶
材料の設置方法は前記目的を達成するために、上記結晶
材料加工装置を用いた結晶材料加工方法における結晶材
料の設置方法において、前記結晶材料を前記取付け用着
脱部の前記回転部に対して固定し、該回転部を前記基部
に対して回転位置決めして当該結晶材料の結晶軸の方位
を調整し、この取付け用着脱部を前記取付け部に装着す
ることを特徴とする。よって、上記同様、結晶軸の方位
の調整作業が容易となる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る結晶材料加工装置の好ましい実施の形態について詳説
する。図3は、本発明の結晶材料加工装置の一実施形態
としてのワイヤソー切断機100を示す斜視図である。
【0009】このワイヤソー切断機100は、同図に示
すように、丸棒状の半導体単結晶材料1を加工する加工
空間Sと、加工空間Sに配置され半導体単結晶材料1を
切断するワイヤ11を有する切断機本体10と、半導体
単結晶材料1を支持し加工空間Sに配置させる結晶材料
支持機構30とを備えている。切断機本体10は、加工
空間Sに配置され、ワイヤ11が巻き掛けられて張られ
るワイヤ巻掛け躯体12と、ワイヤ11の両端部にそれ
ぞれ設けられ、ワイヤ11を往復走行させるワイヤ走行
駆動リール20、20と、ワイヤ11に砥粒を含むスラ
リーを供給するスラリー供給機構25とを有している。
【0010】ワイヤ巻掛け躯体12は、水平方向に平行
に設けられた一対の上部溝付ローラ13、14と、一対
の上部溝付ローラ13、14の下方に平行に配置された
下部溝付ローラ15とを有しており、ワイヤ11は、こ
の一対の上部溝付ローラ13、14及び下部溝付ローラ
15に巻き掛けられ、一対の上部溝付ローラ13、14
間に上部溝付ローラ13、14の軸方向(図中矢印X
1、X2方向)に等間隔に離間するワイヤ列17を形成
している。
【0011】一方、結晶材料支持機構30は、半導体単
結晶材料1が後述するスライスベース5を介して、固定
される取付け用着脱部50と、取付け用着脱部50が着
脱され、装着時には半導体単結晶材料1を加工空間Sに
設置させる取付け部70と、取付け部70の方位を調整
駆動自在、即ち半導体単結晶材料1の結晶軸CT1の方
位を装着後に微調整する結晶軸方位調整部40と、結晶
軸方位調整部40を昇降駆動自在、即ち、半導体単結晶
材料1をワイヤ列17に押し付ける押し付け駆動機構8
0とを有している。
【0012】取付け用着脱部50は、取付け部70に着
脱される図1に示す基部としての基板51と、図2に示
す基板51の表面51a側に配置された回転部としての
回転板52と、回転板52を基板51に対して回転中心
軸線CL1を中心として回転位置決め自在に連結する回
転連結手段54と、回転板52を基板51に係止、係止
解除自在な係止手段58とを有する。
【0013】回転連結手段54は、基板51と回転板5
2とのいずれか一方に設けられる軸55と、基板51と
回転板52とのいずれか他方に設けられ、軸55を回転
自在に支持する軸受け部56とからなり、係止手段58
は、基板51の回転中心軸線CL1回りの周縁近傍部に
間隔を空けて四箇所配置され、表面51a側に開口した
雌ねじ59と、回転板52の、前記各雌ねじ59に対応
する位置にそれぞれ設けられ、回転中心軸線CL1回り
の円弧状に延在する長穴60と、各長穴60を通じて、
前記雌ねじ59に螺着され、回転板52と基板51を係
止する締付けねじ61とを有している。
【0014】また、図3の半導体単結晶材料1を取付け
用着脱部50に取り付け、固定する際には、図4のスラ
イスベース5、図5の回転支承装置110、X線結晶軸
方位測定装置120、図6の挟着駆動装置130、図7
の仮止め用ジグ140を用いる。図4に示すように、ス
ライスベース5は、取付け用着脱部50の回転板52の
表面52aに接着される裏面5aと図1の半導体単結晶
材料1の外周面3の一部に接着される図4の断面円弧状
の表面5bを有するものである。
【0015】図5に示すように回転支承装置110は、
半導体単結晶材料1の外周面3を回転自在に支持するも
のである。X線結晶軸方位測定装置120は、半導体単
結晶材料1の端面2に向けてX線Lを射出し、その端面
2で反射したX線Lを受光し、その強度を検出するもの
である。
【0016】図6に示すように挟着駆動装置130は、
取付け用着脱部50の回転板52、スライスベース5、
及び半導体単結晶材料1の接着時に、基板51と共にそ
れらを挟み込むものである。図7に示すように仮止め用
ジグ140は、挟着駆動装置130で挟み付けた回転板
52、スライスベース5、及び半導体単結晶材料1を仮
止めするものである。
【0017】以下に、ワイヤソー切断機100などを用
いた結晶材料加工方法における、加工空間Sへの半導体
単結晶材料1の設置方法について説明する。図4に示す
ように、取付け用着脱部50を、その回転板52の表面
52aが水平となるように設置し、その表面52aの中
央部に接着剤を塗布し、スライスベース5の裏面5aを
回転板52の表面52aに接着する。
【0018】一方、半導体単結晶材料1は、回転支承装
置110に乗せ、その半導体単結晶材料1の端面2に向
けて水平にX線Lが射出されるようにX線結晶軸方位測
定装置120を所定の相対位置に設置する。設置後、ま
ず、その設置位置で、前記X線結晶軸方位測定装置12
0により、半導体単結晶材料1の結晶軸方位を検出す
る。すなわち、半導体単結晶材料1の端面2に向けてX
線Lを射出し、その端面2で反射したX線Lを受光し
て、半導体単結晶材料1の結晶軸方位を検出する。
【0019】前記結晶軸方位の検出後、前記半導体単結
晶材料1を前記回転支承装置110によって図中矢印C
又はD方向に90度回転させる。そして、その90度回
転させた位置で、再びX線結晶軸方位測定装置120に
より、半導体単結晶材料1の結晶軸方位を検出する。以
上2回の検出結果から、半導体単結晶材料1の結晶軸の
最大傾き方向を演算により算出する。そして、その算出
結果に基づき、前記半導体単結晶材料1の結晶軸の最大
傾き方向が水平になるように、前記半導体単結晶材料1
を前記回転支承装置110によって回転させる。
【0020】そこで、図6に示すように、水平な回転板
52上のスライスベース5の、接着剤を塗布した表面5
bに、半導体単結晶材料1を、その結晶軸CT1の垂直
方位が角度0度の状態で、図4のスライスベース5の表
面5bに載置する。また、図6の挟着駆動装置130に
より、基板51と共に回転板52、スライスベース5、
及び半導体単結晶材料1を挟み込んで圧着し、図7に示
すように仮止め用ジグ140で、回転板52、スライス
ベース5、及び半導体単結晶材料1を仮止めする。これ
により、取付け用着脱部50に対する結晶軸CT1の垂
直方位を高精度に設定できる。
【0021】次に、図1に示すように、回転板52を基
板51に対して回転位置決めして半導体単結晶材料1の
結晶軸CT1の水平方位を調整する。即ち、半導体単結
晶材料1の端面2に向けて垂直面PLV内にX線Lが射
出されるようにX線結晶軸方位測定装置120を所定の
相対位置に設置する。そこで、係止手段58の締付けね
じ61を緩め、回転板52と基板51との係止を解除
し、半導体単結晶材料1を回転板52と共に、回転中心
軸線CL1を中心として図中矢印A、B方向に所定角度
範囲回転させながら、X線結晶軸方位測定装置120に
より、半導体単結晶材料1の端面2にX線Lを射出し、
その端面2で反射したX線Lを受光して、その強度を検
出する。更に、そのX線Lの強度に基づいて、半導体単
結晶材料1が所定角度範囲回転する内で、最も強くX線
Lが受光される回転角度位置において半導体単結晶材料
1の回転を止める。ここで、X線Lの受光の強度が最大
になるときとは、X線Lの射出経路と受光点P2を含む
垂直面PLVに、反射したX線Lの中心経路が一致した
ときであるので、半導体単結晶材料1の長手方向に延在
する結晶軸CT1はその垂直面PLV内に収まり、結晶
軸CT1の水平方位が基板51に対して角度0度に定ま
る。そこで、係止手段58の締付けねじ61を締め、回
転板52を基板51に係止する。これにより、基板51
に対する回転板52の回転位置決めのための仮止め或い
は本止めを容易に行うことができる。尚、仮止め後、回
転板52と基板51を接着剤で接着するようにしてもよ
い。
【0022】そして、半導体単結晶材料1及び取付け用
着脱部50を、仮止め用ジグ140をつけたまま、乾燥
炉(図示略)に入れて接着剤を硬化させ、その後、仮止
め用ジグ140を取り外す。以上のようにして取付け用
着脱部50の基板51に対して半導体単結晶材料1を、
その結晶軸CT1の方位が所定の方位に向けられるよう
に固定することができる。
【0023】そして、その取付け用着脱部50を、図3
の結晶材料支持機構30の取付け部70に装着する。こ
れにより、半導体単結晶材料1の切断開始状態となる。
従って、本実施形態では、従来の接着固定の場合に比し
て、回転板52側に半導体単結晶材料1を固定した後に
も、基板51に対する半導体単結晶材料1の姿勢の調
整、即ち、結晶軸CT1の方位の調整が可能なので、そ
の結晶軸CT1の方位の調整作業が容易であり、加工空
間Sへの半導体単結晶材料1の設置作業の簡易化、高精
度化を図ることができる。
【0024】尚、本実施形態では、結晶軸方位調整部4
0により、取付け部70への装着後にも結晶軸CT1の
方位の微調整が可能であるが、本発明は、上記実施形態
において結晶軸方位調整部40を有しない構成を含む。
また、本発明は、上記実施形態において図2の回転連結
手段54を省き、上記係止手段58が回転連結手段も兼
ねる構成を含む。その場合には回転板52は、基板51
に螺着された締付けねじ61が回転板52の長穴60の
内壁に接触して回転板52を案内することで、回転中心
軸線CL1回りに回転する。
【0025】また、上記実施形態では図3に示すように
丸棒状の半導体単結晶材料1を用いたが、本発明は、半
導体に限らず、あらゆる結晶材料の結晶軸の方位設定に
適用することができ、その形状も角棒状など如何なる形
状であってもよい。また、上記実施形態では、加工空間
Sに半導体単結晶材料1を切断するワイヤ11を有する
切断機本体10を設けた結晶材料加工装置について説明
したが、本発明は、切断機本体10に代えて、研磨装置
などの本体を設けた結晶材料加工装置であってもよいこ
とは勿論である。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の結晶材料
加工装置によれば、取付け用着脱部の回転部側に結晶材
料を固定した後にも、その基部に対する結晶材料の姿勢
の調整、即ち、結晶軸の方位の調整が可能なので、その
結晶軸の方位の調整作業が容易である。よって、加工空
間への結晶材料の設置作業の簡易化を図ることができ
る。
【0027】また、回転部を基部に係止、係止解除自在
な係止手段を設けることにより、基部に対する結晶材料
の姿勢の調整のための回転位置決めの仮止め乃至本止め
がより容易となるので、結晶軸の方位の調整作業を一層
容易にすることができる。また、本発明の結晶材料の設
置方法によれば、結晶軸の方位の調整作業が容易となる
ので、加工空間への結晶材料の設置作業の簡易化を図る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の結晶材料加工装置の取付け用着脱部の
一実施形態を示す斜視図であり、固定された半導体単結
晶材料の水平方位を調整している図
【図2】図1の取付け用着脱部の回転連結手段及び係止
手段を示す平面拡大図
【図3】図1の結晶材料加工装置としてのワイヤソー切
断機を示す斜視図
【図4】図1の取付け用着脱部の回転部にスライスベー
スを接着固定している図
【図5】図1の半導体単結晶材料での、その結晶軸の垂
直方位を検出している図
【図6】図5の半導体単結晶材料を図4の取付け用着脱
部の回転板側に、その結晶方位の垂直方位が所定の方位
になるように調整しながら接着している図
【図7】図6の半導体単結晶材料と取付け用着脱部の回
転板側とを仮止め用ジグを用いて固定している図
【符号の説明】
1…半導体単結晶材料(結晶材料) 30…結晶材料支持機構 50…取付け用着脱部 51…基板(基部) 52…回転板(回転部) 54…回転連結手段 58…係止手段 70…取付け部 100…ワイヤソー切断機(結晶材料加工装置) S…加工空間 L…X線(電磁波) CT1…結晶軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G01N 23/20 G01N 1/28 G

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 結晶材料を加工する加工空間と、前記結
    晶材料を支持し前記加工空間に配置させる結晶材料支持
    機構とを備え、該結晶材料支持機構は、前記結晶材料が
    固定される取付け用着脱部と、該取付け用着脱部が着脱
    され、装着時には前記結晶材料を前記加工空間に設置さ
    せる取付け部とを有する結晶材料加工装置において、 前記取付け用着脱部は、前記取付け部に着脱される基部
    と、回転部と、前記回転部を前記基部に対して回転位置
    決め自在に連結する回転連結手段とを有することを特徴
    とする結晶材料加工装置。
  2. 【請求項2】 前記回転部を前記基部に係止、係止解除
    自在な係止手段を有することを特徴とする請求項1記載
    の結晶材料加工装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の結晶材料加工装置を用い
    た結晶材料加工方法における結晶材料の設置方法におい
    て、 前記結晶材料を前記取付け用着脱部の前記回転部に対し
    て固定し、該回転部を前記基部に対して回転位置決めし
    て当該結晶材料の結晶軸の方位を調整し、この取付け用
    着脱部を前記取付け部に装着することを特徴とする結晶
    材料の設置方法。
JP9082623A 1997-04-01 1997-04-01 結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方法 Pending JPH10278040A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9082623A JPH10278040A (ja) 1997-04-01 1997-04-01 結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9082623A JPH10278040A (ja) 1997-04-01 1997-04-01 結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10278040A true JPH10278040A (ja) 1998-10-20

Family

ID=13779589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9082623A Pending JPH10278040A (ja) 1997-04-01 1997-04-01 結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10278040A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004533347A (ja) * 2001-06-13 2004-11-04 フライベルガー・コンパウンド・マテリアルズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング 結晶外面に対する結晶面の方位を決定する装置及び方法、及び切断機にて単結晶を切断する装置及び方法
JP2007245340A (ja) * 2007-04-09 2007-09-27 Dowa Holdings Co Ltd 焼結希土類磁石合金の切断法
CN103048343A (zh) * 2012-12-18 2013-04-17 丹东奥龙射线仪器有限公司 X光实时成像无损检测锅炉焊管用的夹紧旋转装置
CN104149213A (zh) * 2014-08-06 2014-11-19 厦门润晶光电有限公司 一种蓝宝石单晶体多轴向定位及定位完成后晶体切割治具和定位方法
CN114559532A (zh) * 2022-03-07 2022-05-31 北京市市政工程研究院 一种混凝土中心裂隙的制备方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004533347A (ja) * 2001-06-13 2004-11-04 フライベルガー・コンパウンド・マテリアルズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング 結晶外面に対する結晶面の方位を決定する装置及び方法、及び切断機にて単結晶を切断する装置及び方法
JP2007245340A (ja) * 2007-04-09 2007-09-27 Dowa Holdings Co Ltd 焼結希土類磁石合金の切断法
CN103048343A (zh) * 2012-12-18 2013-04-17 丹东奥龙射线仪器有限公司 X光实时成像无损检测锅炉焊管用的夹紧旋转装置
CN104149213A (zh) * 2014-08-06 2014-11-19 厦门润晶光电有限公司 一种蓝宝石单晶体多轴向定位及定位完成后晶体切割治具和定位方法
CN104149213B (zh) * 2014-08-06 2015-11-18 厦门润晶光电有限公司 一种蓝宝石单晶体多轴向定位及定位完成后晶体切割治具和定位方法
CN114559532A (zh) * 2022-03-07 2022-05-31 北京市市政工程研究院 一种混凝土中心裂隙的制备方法
CN114559532B (zh) * 2022-03-07 2023-01-10 北京市市政工程研究院 一种混凝土中心裂隙的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4408351B2 (ja) アライメント装置
RU2004100543A (ru) Устройство и способ определения ориентации кристаллографической плоскости относительно поверхности кристалла, а также аппарат и способ резки монокристалла в режущей машине
KR100244108B1 (ko) 와이어 톱 및 와이어 톱에 의한 단결정재료의 절단방법
JP2005252288A (ja) ウェーハ・ノッチ研磨機およびウェーハの配向ノッチ研磨方法
JP5541657B2 (ja) 目立てボード
JP2001319906A5 (ja)
TWI330254B (en) Process and device for the measurement,alighment and fixation of at least a single crystal
JP2000026200A (ja) 円柱形単結晶の製造方法及び装置、並びに半導体ウェ―ハの切断方法
JPH10278040A (ja) 結晶材料加工装置及び結晶材料の設置方法
JPH04264241A (ja) 単結晶のof方位検出方法及び装置
JP3205402B2 (ja) 結晶方位決定方法及び装置
JPH10182299A (ja) 単結晶インゴットの方位設定方法
JP2012104631A (ja) 円筒状単結晶シリコンインゴットブロックを四角柱状ブロックに加工する方法
JP3802119B2 (ja) ウェハ搬送装置
JP4481597B2 (ja) ブレード間隔測定方法
JPH112614A (ja) 単結晶軸方位x線測定方法及び装置
JPH09325124A (ja) X線を利用したインゴットの結晶軸方位調整方法及び装置
JP3709664B2 (ja) 結晶軸の傾き角度測定方法
JPH1015795A (ja) 単結晶材料の方位修正用支持装置および研削装置
JPH11262917A (ja) 半導体単結晶インゴットのスライス方法
JPH06122119A (ja) 種棒切断方法
JPH0933456A (ja) 単結晶インゴットの方位測定方法
JPH07294400A (ja) X線回折装置の試料保持装置
JP2013091120A (ja) ブレードカバー装置
CN217224479U (zh) 焊接打磨夹具及焊接打磨设备