JPH10282411A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 少なくともホタル石と石英の２種類のガラス材を使用し、物体側より順に、正のパワーを持つ第１レンズ群Ｇ₁と、負のパワーを待つ第２レンズ群Ｇ₂と、正のパワーを持つ第３レンズ群Ｇ₃とを含む構成をとり、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
   ｜Ｌ／ｆ｜＜２ ‥‥（１）
   ０．７≦ｆ₃／ｆ_3C≦２．８ ‥‥（２）
   但し、Ｌ：物体面から像面までの距離
   ｆ：全系の焦点距離
   ｆ₃：前記第３レンズ群Ｇ₃の焦点距離
   ｆ_3C：前記第３レンズ群Ｇ₃に含まれるホタル石レンズエレメントのみによる 合成焦点距離であり、且つ、
   ｈ_3max：前記第３レンズ群Ｇ₃における近軸光線高の最大値
   ｆ_k：各レンズエレメントの焦点距離
   ｈ_k：各レンズエレメントの前面と後面での近軸光線高の平均値
   Σ_3C：前記第３レンズ群Ｇ₃に含まれる全てのホタル石レンズエレメント についての和である。
2. 以下の条件を満足する請求項１記載の投影光学系。
   ０．８≦ｈ_3Cmax／ｈ_3max ‥‥（３）
   但し、ｈ_3Cmax：前記第３レンズ群Ｇ₃に含まれる全てのホタル石レンズエレメント における近軸光線高の最大値である。
3. 以下の条件を満足する請求項１又は２記載の投影光学系。
   ０．８≦ｈ_3Qmax／ｈ_3max ‥‥（４）
   但し、ｈ_3Qmax：前記第３レンズ群Ｇ₃に含まれる全ての石英レンズエレメント における近軸光線高の最大値である。
4. 以下の条件を満足する請求項１、２又は３記載の投影光学系。
   ０．０７≦ｆ₃／Ｌ≦０．１５ ‥‥（５）
5. 以下の条件を満足する請求項１、２、３又は４記載の投影光学系。
   ０．１５≦ｆ_3Cmax／Ｌ≦１ ‥‥（６）
   但し、ｆ_3Cmax：前記第３レンズ群Ｇ₃に含まれる正のパワーのホタル石レンズ エレメントのうちの近軸光線高が最も高いところに配置され たエレメントの焦点距離である。
6. 以下の条件を満足する請求項１、２、３、４又は５記載の投影光学系。
   ０．２≦｜ｆ_3Qmax／Ｌ｜≦１ ‥‥（７）
   但し、ｆ_3Qmax：前記第３レンズ群Ｇ₃に含まれる負のパワーの石英レンズエレ メントのうちの近軸光線高が最も高いところに配置されたエ レメントの焦点距離である。
7. 以下の条件を満足する請求項１〜６のいずれか１項記載の投影光学系。
   ０．８≦ｈ_3Cave／ｈ_3max ‥‥（８）
   但し、ｈ_3Cave：前記第３レンズ群Ｇ₃に含まれる全てのホタル石レンズエレメ ントにおける近軸光線高の平均値である。
8. 前記第１レンズ群Ｇ₁にホタル石レンズエレメントを含み、以下の条件を満足する請求項１〜７のいずれか１項記載の投影光学系。
   ０．７≦ｆ₁／ｆ_1C≦２．５ ‥‥（９）
   但し、ｆ₁：前記第１レンズ群Ｇ₁の焦点距離
   ｆ_1C：前記第１レンズ群Ｇ₁に含まれるホタル石レンズエレメントのみ による合成焦点距離であり、且つ、
   ｈ_1max：前記第１レンズ群Ｇ₁における近軸光線高の最大値
   Σ_1C：前記第１レンズ群Ｇ₁に含まれる全てのホタル石レンズエレメン トについての和である。
9. 投影原版の像を基板上に投影露光する投影露光装置において、
   前記投影原版を照明する照明光学装置と、
   請求項１〜８のいずれか１項記載の投影光学系とを備えることを特徴とする投影露光装置。
10. 集積回路の製造方法において、
    請求項９記載の投影露光装置を用いて回路パターンを露光転写する工程を備えていることを特徴とする方法。