JPH1054936A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH1054936A5
JPH1054936A5 JP1996209892A JP20989296A JPH1054936A5 JP H1054936 A5 JPH1054936 A5 JP H1054936A5 JP 1996209892 A JP1996209892 A JP 1996209892A JP 20989296 A JP20989296 A JP 20989296A JP H1054936 A5 JPH1054936 A5 JP H1054936A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens group
lens
focal length
negative
optical system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1996209892A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3864399B2 (ja
JPH1054936A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP20989296A priority Critical patent/JP3864399B2/ja
Priority claimed from JP20989296A external-priority patent/JP3864399B2/ja
Priority to KR1019970034760A priority patent/KR19980018207A/ko
Priority to US08/908,662 priority patent/US5903400A/en
Publication of JPH1054936A publication Critical patent/JPH1054936A/ja
Publication of JPH1054936A5 publication Critical patent/JPH1054936A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3864399B2 publication Critical patent/JP3864399B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Claims (27)

  1. 第1物体の像を第2物体上に投影するための投影光学系において、
    前記第1物体側から順に、
    正の屈折力を有する第1レンズ群と、
    負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する一対の負レンズ成分を持つ第2レンズ群と、
    正の屈折力を有し、最も前記第2物体側に配置されて前記第2物体側に凹面を向けたレンズ成分を持つ第3レンズ群と、
    開口絞りと、
    正の屈折力を有し、最も前記第1物体側に配置されて前記第1物体側に凹面を向けたレンズ成分を持つ第4レンズ群と、
    負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する一対の負レンズ成分を持つ第5レンズ群と、
    正の屈折力を持つ第6レンズ群とを有することを特徴とする投影光学系。
  2. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    (1) 0.5<|f1/f2|<3.0
    (2) 0.5<|f6/f5|<3.0
    (3) 0.25< f3/f4 <4.0
    但し、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  3. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    (4) 0.5≦|β|≦1.1
    (5) 1.0<|f1/f2|<3.0
    (6) 0.5<|f6/f5|<2.0
    (7) 0.25< f3/f4 <2.0
    但し、
    β :前記投影光学系の横倍率、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  4. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    (8) 1.1<|β|≦2.0
    (9) 0.5<|f1/f2|<2.0
    (10) 1.0<|f6/f5|<3.0
    (11) 1.0< f3/f4 <4.0
    但し、
    β :前記投影光学系の横倍率、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  5. 前記第1レンズ群は、前記第2物体側に凹面を向けた形状の負レンズ成分を含み、前記第6レンズ群は、前記第1物体側に凹面を向けた形状の負レンズ成分を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項記載の投影光学系。
  6. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項記載の投影光学系。
    (12) (r2Rf+r2Fr)/(r2Rf−r2Fr) >0.0
    (13) −0.1<(r4Ff+r3Rr)/(r4Ff−r3Rr) <0.1
    (14) (r5Rf+r5Fr)/(r5Rf−r5Fr) <0.0
    但し、
    r2Rf:前記第2レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち前記第1物体側に向けられた凹面の曲率半径、
    r2Fr:前記第2レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち前記第2物体側に向けられた凹面の曲率半径、
    r3Ff:前記第3レンズ群中の最も開口絞り側に配置された負レンズ成分の第2物体側に向けられた凹面の曲率半径、
    r4Rr:前記第4レンズ群中の最も開口絞り側に配置された負レンズ成分の第1物体側に向けられた凹面の曲率半径、
    r5Fr:前記第5レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち前記第2物体側に向けられた凹面の曲率半径、
    r5Rf:前記第5レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち前記第1物体側に向けられた凹面の曲率半径、
    である。
  7. 前記第3レンズ群中の最も前記第2物体側に配置されて前記第2物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レンズ成分であり、
    前記第4レンズ群中の最も前記第1物体側に配置されて前記第1物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レンズ成分であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項記載の投影光学系。
  8. 前記第1レンズ群は、前記第1物体側から順に、負屈折力を持つ負サブレンズ群と、正屈折力を持つ正サブレンズ群とを有し、
    前記第6レンズ群は、前記第1物体側から順に、正屈折力を持つ正サブレンズ群と、負屈折力を持つ負サブレンズ群とを有し、
    前記第1レンズ群中の負サブレンズ群は、前記第2物体側に凹面を向けた負レンズ成分を有し、
    前記第6レンズ群中の負サブレンズ群は、前記第1物体側に凹面を向けた負レンズ成分を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項記載の投影光学系。
  9. 前記第3レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも2枚の正レンズ成分は第1の硝材で構成され、
    前記第4レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも2枚の正レンズ成分は第1の硝材で構成され、
    以下の条件を満足することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項記載の投影光学系。
    (15) νt>120
    但し、
    νt:前記第1の硝材の分散値、
    であり、該分散値は、
    波長λに対する屈折率をn(λ)とするとき、
    ν={n(436)−1}/{n(400)−n(440)}
    で定義される。
  10. 前記第3レンズ群中の最も第2物体側に配置されたレンズ成分は第2の硝材で構成され、
    前記第4レンズ群中の最も第1物体側に配置されたレンズ成分は第2の硝材で構成され、
    以下の条件を満足することを特徴とする請求項9記載の投影光学系。
    (16) νc<110
    但し、
    νc:前記第2の硝材の分散値、
    である。
  11. 前記第2レンズ群中の前記一対の負レンズ成分のうちの少なくとも一方の負レンズ成分に隣接して配置される正レンズ成分と、
    前記第5レンズ群中の前記一対の負レンズ成分のうちの少なくとも一方の負レンズ成分に隣接して配置される正レンズ成分とをさらに有し、
    前記第2レンズ群中の前記少なくとも一方の負レンズ成分と前記第2レンズ群中の前記正レンズ成分とは全体としてメニスカス形状であり、
    前記第5レンズ群中の少なくとも一方の負レンズ成分と前記第5レンズ群中の正レンズ成分とは全体としてメニスカス形状であることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項記載の投影光学系。
  12. 前記第2レンズ群中における全体としてメニスカス形状を形成する負レンズ成分と正レンズ成分とのうち、前記負レンズ成分は第3の硝材で構成され、前記正レンズ成分は前記第2の硝材で構成され、
    前記第5レンズ群中における全体としてメニスカス形状を形成する負レンズ成分と正レンズ成分とのうち、前記負レンズ成分は前記第3の硝材で構成され、前記正レンズ成分は前記第2の硝材で構成され、
    以下の条件を満足することを特徴とする請求項11記載の投影光学系。
    (16) νc<110
    (17) νf<75
    但し、
    νc:前記第2の硝材の分散値、
    νf:前記第3の硝材の分散値、
    である。
  13. 前記第1レンズ群中の前記正サブレンズ群のうちの少なくとも1枚の正レンズ成分は第3の硝材で構成され、
    前記第1レンズ群中の前記負サブレンズ群のうちの少なくとも1枚の負レンズ成分は第2の硝材で構成され、
    前記第6レンズ群中の前記正サブレンズ群のうちの少なくとも1枚の正レンズ成分は第3の硝材で構成され、
    前記第6レンズ群中の前記負サブレンズ群のうちの少なくとも1枚の負レンズ成分は第2の硝材で構成され、
    以下の条件を満足することを特徴とする請求項8乃至12のいずれか一項記載の投影光学系。
    (16) νc<110
    (17) νf<75
    但し、
    νc:前記第2の硝材の分散値、
    νf:前記第3の硝材の分散値、
    である。
  14. 前記第2レンズ群中の前記一対の負レンズ成分の間には、負レンズ成分が配置され、
    前記第5レンズ群中の前記一対の負レンズ成分の間には、負レンズ成分が配置されることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか一項記載の投影光学系。
  15. 前記第2レンズ群中の負レンズ成分のうち前記第3の硝材で構成される前記負レンズとは異なる負レンズ成分は前記第2の硝材で構成され、
    前記第5レンズ群中の負レンズ成分のうち前記第3の硝材で構成される前記負レンズとは異なる負レンズ成分は前記第2の硝材で構成されることを特徴とする請求項12記載の投影光学系。
  16. 前記第2レンズ群中における全体としてメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分とは、前記第1物体側に凹面を向けて配置され、
    前記第5レンズ群中における全体としてメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分とは、前記第2物体側に凹面を向けて配置されることを特徴とする請求項9乃至15のいずれか一項記載の投影光学系。
  17. 前記第6レンズ群中の正サブレンズ群は、以下の条件を満足するレンズ面を有することを特徴とする請求項8乃至16のいずれか一項記載の投影光学系。
    (18) RG6/DG6<2
    但し、
    RG6:前記第6レンズ群を構成する正レンズ成分のレンズ面のうち前記第2物体側に凹面を向けたレンズ面の曲率半径、
    DG6:前記レンズ面と前記第2物体との距離、
    である。
  18. 前記投影光学系の投影倍率βは以下の条件を満足することを特徴とする請求項1、2および5乃至17のいずれか一項記載の投影光学系。
    (19) 0.5≦|β|≦2.0
  19. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    0.8<|f1/f2|<3.0
    0.5<|f6/f5|<3.0
    0.25< f3/f4 <4.0
    但し、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  20. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    0.5<|f1/f2|<1.4
    0.5<|f6/f5|<3.0
    0.25< f3/f4 <4.0
    但し、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  21. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    0.5<|f1/f2|<3.0
    1.8<|f6/f5|<3.0
    0.25< f3/f4 <4.0
    但し、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  22. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    0.5<|f1/f2|<3.0
    0.5<|f6/f5|<2.4
    0.25< f3/f4 <4.0
    但し、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  23. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    0.5<|f1/f2|<3.0
    0.5<|f6/f5|<3.0
    2.0< f3/f4 <4.0
    但し、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  24. 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
    0.5<|f1/f2|<3.0
    0.5<|f6/f5|<3.0
    0.25< f3/f4 <3.5
    但し、
    f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
    f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
    f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
    f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
    f5:前記第5レンズ群の焦点距離
    f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
    である。
  25. 前記第1物体を照明する照明光学系と、
    前記第1物体を支持する第1支持部材と、
    請求項1乃至24のいずれか一項記載の投影光学系と、
    前記第2物体を支持する第2支持部材とを備えることを特徴とする投影露光装置。
  26. 前記投影光学系の投影倍率βが1.25であることを特徴とする請求項25記載の投影露光装置。
  27. 所定の回路パターンが描かれたマスクを紫外域の露光光で照明する工程と、
    請求項1乃至24のいずれか一項記載の投影光学系を用いて前記照明されたマスクの像を基板上に形成する工程とを含むデバイス製造方法。
JP20989296A 1996-08-08 1996-08-08 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 Expired - Fee Related JP3864399B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20989296A JP3864399B2 (ja) 1996-08-08 1996-08-08 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法
KR1019970034760A KR19980018207A (ko) 1996-08-08 1997-07-24 투영 노광 장치 및 그 투영 노광 장치에 사용되는 투영 광하계 및 디바이스 제조 방법
US08/908,662 US5903400A (en) 1996-08-08 1997-08-07 Projection-optical system for use in a projection-exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20989296A JP3864399B2 (ja) 1996-08-08 1996-08-08 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPH1054936A JPH1054936A (ja) 1998-02-24
JPH1054936A5 true JPH1054936A5 (ja) 2004-11-04
JP3864399B2 JP3864399B2 (ja) 2006-12-27

Family

ID=16580383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20989296A Expired - Fee Related JP3864399B2 (ja) 1996-08-08 1996-08-08 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5903400A (ja)
JP (1) JP3864399B2 (ja)
KR (1) KR19980018207A (ja)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3925576B2 (ja) 1997-07-24 2007-06-06 株式会社ニコン 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
JPH1195095A (ja) 1997-09-22 1999-04-09 Nikon Corp 投影光学系
JPH11214293A (ja) 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
US6700645B1 (en) 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
DE19855157A1 (de) * 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
US6600550B1 (en) * 1999-06-03 2003-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, a photolithography method, and a device manufactured by the same
US6710930B2 (en) 1999-12-01 2004-03-23 Nikon Corporation Illumination optical system and method of making exposure apparatus
TW448307B (en) * 1999-12-21 2001-08-01 Zeiss Stiftung Optical projection system
US6815129B1 (en) * 2000-09-26 2004-11-09 Euv Llc Compensation of flare-induced CD changes EUVL
JP2002244034A (ja) 2001-02-21 2002-08-28 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP2002323652A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系,該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
JP4228130B2 (ja) * 2001-11-05 2009-02-25 株式会社ニコン 投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
US8208198B2 (en) * 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151364A1 (en) * 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR101376931B1 (ko) 2004-05-17 2014-03-25 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
DE102005024290A1 (de) * 2005-05-27 2006-11-30 Carl Zeiss Smt Ag Abbildungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
JP4952182B2 (ja) 2006-03-20 2012-06-13 株式会社ニコン 走査型露光装置、マイクロデバイスの製造方法、走査露光方法、及びマスク
US8654307B2 (en) * 2006-03-20 2014-02-18 Nikon Corporation Scanning type exposure apparatus, method of manufacturing micro-apparatus, mask, projection optical apparatus, and method of manufacturing mask
CN101438196B (zh) * 2006-05-05 2011-03-02 卡尔·蔡司Smt股份公司 用于微光刻的具有四个透镜组的对称物镜
CN100547448C (zh) * 2007-11-21 2009-10-07 上海微电子装备有限公司 一种投影光学系统及投影曝光装置
TW201113553A (en) * 2009-10-13 2011-04-16 Young Optics Inc Fixed-focus lens
JP5903809B2 (ja) * 2011-09-06 2016-04-13 リソテック株式会社 投影光学系
CN109856915B (zh) * 2017-11-30 2020-07-14 上海微电子装备(集团)股份有限公司 光刻投影物镜、边缘曝光系统和边缘曝光装置
CN110068910B (zh) * 2018-01-24 2021-08-13 信泰光学(深圳)有限公司 镜头组
CN109656092B (zh) * 2019-01-07 2024-04-12 中国科学院福建物质结构研究所 一种紫外中继分幅光学系统以及紫外分幅相机

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3504961A (en) * 1968-04-01 1970-04-07 Perkin Elmer Corp Modified double gauss objective
US3897138A (en) * 1971-11-24 1975-07-29 Canon Kk Projection lens for mask pattern printing
JPS5336326B2 (ja) * 1972-12-26 1978-10-02
JPS581763B2 (ja) * 1978-06-19 1983-01-12 旭光学工業株式会社 回折限界の解像力を有する等倍複写用レンズ
JPS58147708A (ja) * 1982-02-26 1983-09-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 照明用光学装置
US4666273A (en) * 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
GB2153543B (en) * 1983-12-28 1988-09-01 Canon Kk A projection exposure apparatus
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
JPH0812329B2 (ja) * 1986-11-06 1996-02-07 株式会社シグマ 投影レンズ
US4770477A (en) * 1986-12-04 1988-09-13 The Perkin-Elmer Corporation Lens usable in the ultraviolet
US4918583A (en) * 1988-04-25 1990-04-17 Nikon Corporation Illuminating optical device
US5105075A (en) * 1988-09-19 1992-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JP3041939B2 (ja) * 1990-10-22 2000-05-15 株式会社ニコン 投影レンズ系
JP3353902B2 (ja) * 1990-12-12 2002-12-09 オリンパス光学工業株式会社 投影レンズ系
US5172275A (en) * 1990-12-14 1992-12-15 Eastman Kodak Company Apochromatic relay lens systems suitable for use in a high definition telecine apparatus
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
JP3298131B2 (ja) * 1991-10-24 2002-07-02 株式会社ニコン 縮小投影レンズ
JPH06313845A (ja) * 1993-04-28 1994-11-08 Olympus Optical Co Ltd 投影レンズ系
JP3396935B2 (ja) * 1993-11-15 2003-04-14 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JP3360387B2 (ja) * 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
US5696631A (en) * 1996-02-22 1997-12-09 Anvik Corporation Unit magnification projection lens system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1054936A5 (ja)
KR960029823A (ko) 투영 광학계 및 이를 이용한 노광 장치
KR970071147A (ko) 투영 광학계 및 노광 장치
EP1059550A4 (en) REFRACTION REFLECTION IMAGE FORMING SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS INCLUDING THE OPTICAL SYSTEM
US6084723A (en) Exposure apparatus
EP1091230A3 (en) Projection optical system that projects an image of a pattern formed on a reticle onto a substrate
JPH10115779A5 (ja) 投影光学系、露光装置及び露光方法
JPH0378607B2 (ja)
EP0770895A2 (en) Projection optical system and exposure apparatus provided therewith
JPH10161021A5 (ja)
JPH10189427A5 (ja)
JPH10172904A5 (ja)
EP1094350A2 (en) Optical projection lens system
JPH11214293A5 (ja)
KR960032097A (ko) 투영 노광 장치
KR960024506A (ko) 반사굴절 광학계
JPH09292568A5 (ja)
KR960024688A (ko) 노광 장치
JPH116957A (ja) 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
JPH1197344A5 (ja)
KR950014993A (ko) 투영광학계 및 투영 조정기
JPH10282411A5 (ja)
JP2997351B2 (ja) 照明光学装置
JPH1010431A5 (ja)
KR960029907A (ko) 노광 장치