JPH1054936A5 - - Google Patents
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- JPH1054936A5 JPH1054936A5 JP1996209892A JP20989296A JPH1054936A5 JP H1054936 A5 JPH1054936 A5 JP H1054936A5 JP 1996209892 A JP1996209892 A JP 1996209892A JP 20989296 A JP20989296 A JP 20989296A JP H1054936 A5 JPH1054936 A5 JP H1054936A5
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Claims (27)
- 第1物体の像を第2物体上に投影するための投影光学系において、
前記第1物体側から順に、
正の屈折力を有する第1レンズ群と、
負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する一対の負レンズ成分を持つ第2レンズ群と、
正の屈折力を有し、最も前記第2物体側に配置されて前記第2物体側に凹面を向けたレンズ成分を持つ第3レンズ群と、
開口絞りと、
正の屈折力を有し、最も前記第1物体側に配置されて前記第1物体側に凹面を向けたレンズ成分を持つ第4レンズ群と、
負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する一対の負レンズ成分を持つ第5レンズ群と、
正の屈折力を持つ第6レンズ群とを有することを特徴とする投影光学系。 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
(1) 0.5<|f1/f2|<3.0
(2) 0.5<|f6/f5|<3.0
(3) 0.25< f3/f4 <4.0
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
(4) 0.5≦|β|≦1.1
(5) 1.0<|f1/f2|<3.0
(6) 0.5<|f6/f5|<2.0
(7) 0.25< f3/f4 <2.0
但し、
β :前記投影光学系の横倍率、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
(8) 1.1<|β|≦2.0
(9) 0.5<|f1/f2|<2.0
(10) 1.0<|f6/f5|<3.0
(11) 1.0< f3/f4 <4.0
但し、
β :前記投影光学系の横倍率、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 前記第1レンズ群は、前記第2物体側に凹面を向けた形状の負レンズ成分を含み、前記第6レンズ群は、前記第1物体側に凹面を向けた形状の負レンズ成分を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項記載の投影光学系。
- 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項記載の投影光学系。
(12) (r2Rf+r2Fr)/(r2Rf−r2Fr) >0.0
(13) −0.1<(r4Ff+r3Rr)/(r4Ff−r3Rr) <0.1
(14) (r5Rf+r5Fr)/(r5Rf−r5Fr) <0.0
但し、
r2Rf:前記第2レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち前記第1物体側に向けられた凹面の曲率半径、
r2Fr:前記第2レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち前記第2物体側に向けられた凹面の曲率半径、
r3Ff:前記第3レンズ群中の最も開口絞り側に配置された負レンズ成分の第2物体側に向けられた凹面の曲率半径、
r4Rr:前記第4レンズ群中の最も開口絞り側に配置された負レンズ成分の第1物体側に向けられた凹面の曲率半径、
r5Fr:前記第5レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち前記第2物体側に向けられた凹面の曲率半径、
r5Rf:前記第5レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち前記第1物体側に向けられた凹面の曲率半径、
である。 - 前記第3レンズ群中の最も前記第2物体側に配置されて前記第2物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レンズ成分であり、
前記第4レンズ群中の最も前記第1物体側に配置されて前記第1物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レンズ成分であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項記載の投影光学系。 - 前記第1レンズ群は、前記第1物体側から順に、負屈折力を持つ負サブレンズ群と、正屈折力を持つ正サブレンズ群とを有し、
前記第6レンズ群は、前記第1物体側から順に、正屈折力を持つ正サブレンズ群と、負屈折力を持つ負サブレンズ群とを有し、
前記第1レンズ群中の負サブレンズ群は、前記第2物体側に凹面を向けた負レンズ成分を有し、
前記第6レンズ群中の負サブレンズ群は、前記第1物体側に凹面を向けた負レンズ成分を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項記載の投影光学系。 - 前記第3レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも2枚の正レンズ成分は第1の硝材で構成され、
前記第4レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも2枚の正レンズ成分は第1の硝材で構成され、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項記載の投影光学系。
(15) νt>120
但し、
νt:前記第1の硝材の分散値、
であり、該分散値は、
波長λに対する屈折率をn(λ)とするとき、
ν={n(436)−1}/{n(400)−n(440)}
で定義される。 - 前記第3レンズ群中の最も第2物体側に配置されたレンズ成分は第2の硝材で構成され、
前記第4レンズ群中の最も第1物体側に配置されたレンズ成分は第2の硝材で構成され、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項9記載の投影光学系。
(16) νc<110
但し、
νc:前記第2の硝材の分散値、
である。 - 前記第2レンズ群中の前記一対の負レンズ成分のうちの少なくとも一方の負レンズ成分に隣接して配置される正レンズ成分と、
前記第5レンズ群中の前記一対の負レンズ成分のうちの少なくとも一方の負レンズ成分に隣接して配置される正レンズ成分とをさらに有し、
前記第2レンズ群中の前記少なくとも一方の負レンズ成分と前記第2レンズ群中の前記正レンズ成分とは全体としてメニスカス形状であり、
前記第5レンズ群中の少なくとも一方の負レンズ成分と前記第5レンズ群中の正レンズ成分とは全体としてメニスカス形状であることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項記載の投影光学系。 - 前記第2レンズ群中における全体としてメニスカス形状を形成する負レンズ成分と正レンズ成分とのうち、前記負レンズ成分は第3の硝材で構成され、前記正レンズ成分は前記第2の硝材で構成され、
前記第5レンズ群中における全体としてメニスカス形状を形成する負レンズ成分と正レンズ成分とのうち、前記負レンズ成分は前記第3の硝材で構成され、前記正レンズ成分は前記第2の硝材で構成され、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項11記載の投影光学系。
(16) νc<110
(17) νf<75
但し、
νc:前記第2の硝材の分散値、
νf:前記第3の硝材の分散値、
である。 - 前記第1レンズ群中の前記正サブレンズ群のうちの少なくとも1枚の正レンズ成分は第3の硝材で構成され、
前記第1レンズ群中の前記負サブレンズ群のうちの少なくとも1枚の負レンズ成分は第2の硝材で構成され、
前記第6レンズ群中の前記正サブレンズ群のうちの少なくとも1枚の正レンズ成分は第3の硝材で構成され、
前記第6レンズ群中の前記負サブレンズ群のうちの少なくとも1枚の負レンズ成分は第2の硝材で構成され、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項8乃至12のいずれか一項記載の投影光学系。
(16) νc<110
(17) νf<75
但し、
νc:前記第2の硝材の分散値、
νf:前記第3の硝材の分散値、
である。 - 前記第2レンズ群中の前記一対の負レンズ成分の間には、負レンズ成分が配置され、
前記第5レンズ群中の前記一対の負レンズ成分の間には、負レンズ成分が配置されることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか一項記載の投影光学系。 - 前記第2レンズ群中の負レンズ成分のうち前記第3の硝材で構成される前記負レンズとは異なる負レンズ成分は前記第2の硝材で構成され、
前記第5レンズ群中の負レンズ成分のうち前記第3の硝材で構成される前記負レンズとは異なる負レンズ成分は前記第2の硝材で構成されることを特徴とする請求項12記載の投影光学系。 - 前記第2レンズ群中における全体としてメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分とは、前記第1物体側に凹面を向けて配置され、
前記第5レンズ群中における全体としてメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分とは、前記第2物体側に凹面を向けて配置されることを特徴とする請求項9乃至15のいずれか一項記載の投影光学系。 - 前記第6レンズ群中の正サブレンズ群は、以下の条件を満足するレンズ面を有することを特徴とする請求項8乃至16のいずれか一項記載の投影光学系。
(18) RG6/DG6<2
但し、
RG6:前記第6レンズ群を構成する正レンズ成分のレンズ面のうち前記第2物体側に凹面を向けたレンズ面の曲率半径、
DG6:前記レンズ面と前記第2物体との距離、
である。 - 前記投影光学系の投影倍率βは以下の条件を満足することを特徴とする請求項1、2および5乃至17のいずれか一項記載の投影光学系。
(19) 0.5≦|β|≦2.0 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
0.8<|f1/f2|<3.0
0.5<|f6/f5|<3.0
0.25< f3/f4 <4.0
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
0.5<|f1/f2|<1.4
0.5<|f6/f5|<3.0
0.25< f3/f4 <4.0
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
0.5<|f1/f2|<3.0
1.8<|f6/f5|<3.0
0.25< f3/f4 <4.0
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
0.5<|f1/f2|<3.0
0.5<|f6/f5|<2.4
0.25< f3/f4 <4.0
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
0.5<|f1/f2|<3.0
0.5<|f6/f5|<3.0
2.0< f3/f4 <4.0
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 以下の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
0.5<|f1/f2|<3.0
0.5<|f6/f5|<3.0
0.25< f3/f4 <3.5
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離、
f3:前記第3レンズ群の焦点距離、
f4:前記第4レンズ群の焦点距離、
f5:前記第5レンズ群の焦点距離、
f6:前記第6レンズ群の焦点距離、
である。 - 前記第1物体を照明する照明光学系と、
前記第1物体を支持する第1支持部材と、
請求項1乃至24のいずれか一項記載の投影光学系と、
前記第2物体を支持する第2支持部材とを備えることを特徴とする投影露光装置。 - 前記投影光学系の投影倍率βが1.25であることを特徴とする請求項25記載の投影露光装置。
- 所定の回路パターンが描かれたマスクを紫外域の露光光で照明する工程と、
請求項1乃至24のいずれか一項記載の投影光学系を用いて前記照明されたマスクの像を基板上に形成する工程とを含むデバイス製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20989296A JP3864399B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 |
| KR1019970034760A KR19980018207A (ko) | 1996-08-08 | 1997-07-24 | 투영 노광 장치 및 그 투영 노광 장치에 사용되는 투영 광하계 및 디바이스 제조 방법 |
| US08/908,662 US5903400A (en) | 1996-08-08 | 1997-08-07 | Projection-optical system for use in a projection-exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20989296A JP3864399B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1054936A JPH1054936A (ja) | 1998-02-24 |
| JPH1054936A5 true JPH1054936A5 (ja) | 2004-11-04 |
| JP3864399B2 JP3864399B2 (ja) | 2006-12-27 |
Family
ID=16580383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20989296A Expired - Fee Related JP3864399B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5903400A (ja) |
| JP (1) | JP3864399B2 (ja) |
| KR (1) | KR19980018207A (ja) |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP3925576B2 (ja) | 1997-07-24 | 2007-06-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法 |
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| JPH11214293A (ja) | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Nikon Corp | 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法 |
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-
1996
- 1996-08-08 JP JP20989296A patent/JP3864399B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-24 KR KR1019970034760A patent/KR19980018207A/ko not_active Withdrawn
- 1997-08-07 US US08/908,662 patent/US5903400A/en not_active Expired - Lifetime
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