JPH10291908A - 除草剤組成物 - Google Patents
除草剤組成物Info
- Publication number
- JPH10291908A JPH10291908A JP1038498A JP1038498A JPH10291908A JP H10291908 A JPH10291908 A JP H10291908A JP 1038498 A JP1038498 A JP 1038498A JP 1038498 A JP1038498 A JP 1038498A JP H10291908 A JPH10291908 A JP H10291908A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- chloro
- parts
- trifluoromethyl
- weeds
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
草剤組成物を提供する。 【解決手段】2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メ
チル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2
−イル)フェノキシ酢酸エステル誘導体と、アシフルオ
ロフェン−ソディウム、ラクトフェン又はフォメサフェ
ンの1種とを有効成分として含有する除草剤組成物。雑
草に茎葉処理して、農耕地や非農耕地に発生する雑草を
効果的に除草でき、除草効力は単独使用に比較して相乗
的に増大し、低薬量で施用でき、殺草スペクトルが拡大
し、特にダイズ畑においては広範囲の雑草を選択的に除
草できる。
Description
に詳しくは、茎葉処理用除草剤組成物及びそれを雑草に
茎葉処理することによる除草方法に関するものである。
在、数多くの除草剤が市販され、 使用されているが、防
除の対象となる雑草は種類も多く、発生も長期間にわた
るため、より除草効果が高く、幅広い殺草スペクトラム
を有し、かつ作物には安全な除草剤が求められている。
を見出すべく鋭意検討した結果、2−クロロ−4−フル
オロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3
−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸エステル誘
導体と、5−[2−クロロ−4−(トリフルオロメチ
ル)フェノキシ]−2−ニトロベンゾイックアシッドナ
トリウム塩(一般名アシフルオロフェン−ソディウム、
以下アシフルオロフェン−ソディウムと記す)、エチル
O−[5−(2−クロロ−α, α, α, −トリフルオロ
−p−トリルオキシ)−2−ニトロベンゾイル]−DL
−ラクテ−ト(一般名ラクトフェン、以下ラクトフェン
と記す)及び5−[2−クロロ−4−(トリフルオロメ
チル)フェノキシ]−N−(メチルスルフォニル)−2
−ニトロベンゾアミド(一般名フォメサフェン、以下フ
ォメサフェンと記す)からなる群より選ばれる1種とを
有効成分として含有する除草剤組成物を、雑草に茎葉処
理することにより、農耕地あるいは非農耕地に発生する
種々の雑草を効果的に除草でき、しかもその除草効力
は、それらを単独で用いる場合に比較して相乗的に増大
し、低薬量で施用でき、更に殺草スペクトルが拡大し、
特にダイズ畑においては広範囲の雑草を選択的に除草で
きることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明は2
−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリ
フルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノ
キシ酢酸エステル誘導体と、アシフルオロフェン−ソデ
ィウム、ラクトフェン及びフォメサフェンからなる群よ
り選ばれる1種とを有効成分として含有する茎葉処理用
除草剤組成物(以下、本発明組成物と記す.)及びそれ
を雑草に茎葉処理する除草方法を提供する。
ある2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5
−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)
フェノキシ酢酸エステル誘導体において、エステルと
は、C1〜C7アルキルエステル、C5〜C6シクロア
ルキルエステル、C2〜C6アルケニルエステルを意味
し、これらの化合物は、以下の製造例に示す方法により
製造することができる。 製造例1 酢酸ナトリウム5.3g(53.3mmol)と水約100mlを混合し
た溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリ
フルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、70℃で2
0分間攪拌した。該反応液を室温に冷却し、これに2−
フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフェニルヒ
ドラジン5.8g(21.5mmol)をジエチルエ−テル約20mlに
溶解した溶液を加え、室温で1時間攪拌した。エ−テル
層を分離して、濃縮し、残渣にテトラヒドロフラン(以
下「THF」と記す。)約60mlを加え、これにカルボエ
トキシエチリデントリフェニルホスホラン8.3g(23.0mm
ol)を加え、2時間加熱還流した。減圧下にTHFを留
去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
に付し、2−[2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプ
ロポキシフェニル]−4−メチル−5−トリフルオロメ
チルピリダジン−3−オンを3.8g(10.5mmol)得た。2
−[2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフ
ェニル]−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダ
ジン−3−オン3.5g(9.7mmol)を氷冷下、濃硫酸約10m
lに溶解し、室温まで昇温した。10分後、反応液に約1
00mlの水を加え、生じた結晶をろ集し、水20mlで2回、
ヘキサン10mlで1回順次洗浄した。得られた結晶をイソ
プロパノ−ルから再結晶して、2−[2−フルオロ−4
−クロロ−5−ヒドロキシフェニル]−4−メチル−5
−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン3.2g(9.9m
mol)を得た。2−[2−フルオロ−4−クロロ−5−
ヒドロキシフェニル]−4−メチル−5−トリフルオロ
メチルピリダジン−3−オン3.2g(9.9mmol)をDMF
約50mlに溶解し、室温で水素化ナトリウム(60重量%
オイルディスパ−ジョン0.44g(11mmol)を加え、30
分間室温で放置後、氷冷し、ブロモ酢酸エチル1.8g(11
mmol)を加えた。1時間室温で攪拌した後、ジエチルエ
−テル、水を順次加え、抽出した。有機層を10%塩酸
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
に付し、2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル
−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イ
ル)フェノキシ酢酸エチル(以下、化合物Aと記す。)
2.4g(5.5mmol )を得た。融点102.0℃
の反応試剤を用いる以外は、同様の操作を行うことによ
り、夫々、目的の2−クロロ−4−フルオロ−5−(4
−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン
−2−イル)フェノキシ酢酸エステル誘導体を得ること
ができる。
わす)
MHz、CDCl3、TMS、δ(ppm)) 化合物E 0.88(3H,t,J=7Hz)、1.2−1.4
(4H,m)、1.55−1.70(2H,m)、2.
43(3H,q,J=2Hz)、4.19(2H,t,
J=7Hz)、4.68(2H,s)、6.98(1
H,d,J=7Hz)、7.33(1H,d,J=8H
z)、7.99(1H,s) 化合物H 1.26(6H,d,J=6.3Hz)、2.43(3
H,q,J=2Hz)、4.65(2H,s)、5.0
5−5.18(1H,m)、6.98(1H,d,J=
7Hz)、7.33(1H,d,J=8Hz)、7.9
8(1H,s) 化合物I 0.90(6H,d,J=6.6Hz)、1.85−
2.03(1H,m)、2.42(3H,q,J=1.
8Hz)、3.98(2H,d,J=6.5Hz)、
4.70(2H,s)、6.99(1H,d,J=6.
3Hz)、7.33(1H,d,J=9.1Hz)、
7.98(1H,s) 化合物J 1.45−1.53(9H,m)、2.39−2.45
(3H,m)、4.58−4.60(2H,m)、6.
96−7.00(1H,m)、7.30−7.36(1
H,m)、7.96−8.00(1H,m) 化合物K 1.5−1.9(8H,m)、2.43(3H,q,J
=2Hz)、4.65(2H,s)、5.2−5.4
(1H,m)、6.97(1H,d,J=7Hz)、
7.33(1H,d,J=8Hz)、7.98(1H,
s) 化合物M 2.42(3H,q,J=1.9Hz)、4.67−
4.72(2H,m)、5.23−5.37(2H,
m)、5.84−5.98(1H,m)、7.00(1
H,d,J=6.3Hz)、7.33(1H,d,J=
9.2Hz)、7.99(1H,s) 化合物N 2.42(3H,q,J=1.8Hz)、4.68−
4.71(1H,m)、4.77(2H,s)、4.9
4−5.01(1H,m),7.03(1H,d,J=
6.3Hz)、7.26−7.31(1H,m)、7.
34(1H,d,J=9.0Hz)、7.99(1H,
s)
hemicals Handbook ,1995(Meister ,Publishing
Co. 発行、1995年)C55頁に記載の化合物であ
る。ラクトフェンはFarm Chemicals Handbook ,199
5(Meister ,PublishingCo. 発行、1995年)C
93頁に記載の化合物である。フォメサフェンはFarm C
hemicals Handbook ,1995(Meister ,Publishing
Co. 発行、1995年)C177頁に記載の化合物で
ある
防除する上で、また、不耕起栽培のような新しい栽培方
法への適用をする上で効果的な除草組成物を提供するも
のであり、殊に、ダイズ畑における主要な雑草、例えば
ソバカズラ、サナエタデ、アメリカサナエタデ、スベリ
ヒユ、シロザ、アオゲイトウ、ノハラガラシ、アメリカ
ツノクサネム、エビスグサ、イチビ、アメリカキンゴジ
カ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、マルバアメリ
カアサガオ、ヨウシュチョウセンアサガオ、イヌホオズ
キ、オナモミ、ヒマワリ、セイヨウヒルガオ、トウダイ
グサ、アメリカセンダングサ、ブタクサ等の双子葉植物
および、イヌビエ、エノコログサ、アキノエノコログ
サ、キンノエノコロ、メヒシバ、オヒシバ、セイバンモ
ロコシ、シバムギ、シャッタ−ケ−ン等の単子葉植物を
有効に除草する一方、作物であるダイズやダイズの後作
物であるトウモロコシに対して問題となるような薬害を
生じない。
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−ト
リフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェ
ノキシ酢酸エステル誘導体と、アシフルオロフェン−ソ
ディウム、ラクトフェン及びフォメサフェンからなる群
より選ばれる1種との混合割合は対象とする雑草種、施
用場面、施用条件等により変わり得るが、重量比で、通
常1:1〜100の範囲である。
等と混合し、必要により界面活性剤、その他の製剤用補
助剤等を添加して、乳剤、水和剤、懸濁剤等に製剤化し
て用いられる。これらの製剤中には2−クロロ−4−フ
ルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−
3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸エステル
誘導体と、アシフルオロフェン−ソディウム、ラクトフ
ェン及びフォメサフェンからなる群より選ばれる1種の
合計量が一般に0. 5〜90重量%、好ましくは1〜8
0重量%含有される。
しては、例えば粘土類(カオリナイト、珪藻土、合成含
水酸化珪素、フバサミクレ−、ベントナイト、酸性白土
等)、タルク、その他の無機鉱物(セリサイト、石英粉
末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム等)、化学肥料
(硫安、燐安、硝安、塩安、尿素等)などの微粉末や粒
状物が挙げられ、液体担体としては、例えば水、アルコ
−ル類(メタノ−ル、エタノ−ル等)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、芳
香族炭化水素類(トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、メチルナフタレン等)、非芳香族炭化水素類(ヘキ
サン、シクロヘキサン、ケロシン等)、エステル類(酢
酸エチル、酢酸ブチル等)、ニトリル類(アセトニトリ
ル、イソブチロニトリル等)、エ−テル類(ジオキサ
ン、ジイソプロピルエ−テル等)、酸アミド類(ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)、ハロゲン
化炭化水素類(ジクロロエタン、トリクロロエチレン
等)などが挙げられる。
エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ル
スルホン酸塩、アルキルアリ−ルエ−テル類およびその
ポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコ−ルエ−
テル類、多価アルコ−ルエステル類、糖アルコ−ル誘導
体などが挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、
例えばカゼイン、ゼラチン、多糖類(澱粉、アラビアガ
ム、セルロ−ス誘導体、アルギン酸等)、リグニン誘導
体、ベントナイト、合成水溶性高分子(ポリビニルアル
コ−ル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸等)な
どの固着剤や分散剤、PAP(酸性リン酸イソプロピ
ル)、BHT(2、6−tert−ブチル−4−メチル
フェノ−ル)、BHA(2−/3−tert−ブチル−
4−メトキシフェノ−ル)、植物油、鉱物油、脂肪酸、
脂肪酸エステルなどの安定剤が挙げられる。
製剤手法により製剤した後、これらを混合することによ
り調製することもできる。このようにして製剤化された
本発明組成物は、そのままでまたは水等で希釈して植物
体に施用される。本発明組成物は、さらに、他の除草剤
と混合して用いることにより除草効力の増強を期待で
き、さらに殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土
壌改良剤等と併用することもできる。
である、2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル
−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イ
ル)フェノキシ酢酸エステル誘導体と、アシフルオロフ
ェン−ソディウム、ラクトフェン及びフォメサフェンか
らなる群より選ばれる1種との混合比、気象条件、製剤
形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対象雑草、
対象作物により変わり得るが、1ヘクタ−ル当り有効成
分化合物の合計量として、通常10〜200gである。
乳剤、水和剤、懸濁剤等は、その所定量を1ヘクタ−ル
当り通常100〜1000リットルの水で希釈して施用
する。
重量部を表す。 製剤例1 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N10部、ラ
クトフェン50部、リグニンスルホン酸カルシウム3
部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水酸化珪
素35部をよく粉砕混合して水和剤を得る。 製剤例2 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N5部、アシ
フルオルフェン−ソディウム70部、リグニンスルホン
酸カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および
合成含水酸化珪素20部をよく粉砕混合して水和剤を得
る。 製剤例3 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N5部、フォ
メサフェン70部、リグニンスルホン酸カルシウム3
部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水酸化珪
素20部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N5部、ラク
トフェン25部、ポリオキシエチレンソルビタンモノオ
レエ−ト3部、CMC(カルボキシメチルセルロ−ス)
3部および水64部を混合し、粒度が5ミクロン以下に
なるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。 製剤例5 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N2部、アシ
フルオルフェン−ソディウム30部、ポリオキシエチレ
ンソルビタンモノオレエ−ト3部、CMC(カルボキシ
メチルセルロ−ス)3部および水62部を混合し、粒度
が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得
る。 製剤例6 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N2部、フォ
メサフェン30部、ポリオキシエチレンソルビタンモノ
オレエ−ト3部、CMC(カルボキシメチルセルロ−
ス)3部および水64部を混合し、粒度が5ミクロン以
下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。
の状態が無処理のそれと比較して全く乃至ほとんど違い
がないものを「0」とし、供試植物が完全枯死または出
芽もしくは生育が完全に抑制されているものを「10」
として、0〜10の11段階に区分し、0、1、2、
3、4、5、6、7、8、9、10で示す。除草効力の
評価値「7」、「8」、「9」、「10」は優れた除草
効力を意味し、評価値「6」以下は不十分な除草効力を
意味する。薬害の評価は、薬害がほとんど認められない
場合は「無害」、軽度の薬害が認められる場合は
「小」、中程度の薬害が認められる場合は「中」、強度
の薬害が認められる場合は「大」で示す。
ポットに畑地土壌を詰めダイズ、アキノエノコログサ、
メヒシバを播種し温室内で23日間育成させた。化合物
A10部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テ
ル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6
部、キシレン35部およびシクロヘキサノン35部をよ
く混合して得られる化合物Aの乳剤、ラクトフェン製剤
品(商品名Cobra:ヴェ−レント社製)、及び該化
合物A乳剤とラクトフェン製剤品との混合剤の各々所定
量を水で希釈し、小型噴霧器で植物体上方より均一に散
布した。処理後4日間温室内で育成し、除草効力及びダ
イズへの安全性を調査した。また、化合物Eについても
同様の試験を行った。結果を表2に示す。
ポットに畑地土壌をつめダイズ、アキノエノコログサ、
メヒシバ、イヌビエを播種し温室内で23日間育成させ
た。化合物A10部、ポリオキシエチレンスチリルフェ
ニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カル
シウム6部、キシレン35部、およびシクロヘキサノン
35部をよく混合して得られる化合物Aの乳剤、アシフ
ルオルフェン−ソディウム製剤品(商品名Blaze
r:BASF社製)、フォメサフェン製剤品(商品名R
eflex:ゼネカアグプロダクツ社製)、該化合物A
とアシフルオルフェン−ソディウム製剤品との混合剤、
該化合物Aとフォメサフェン製剤品との混合剤の各々所
定量を水で希釈し、小型噴霧器で植物体上方より均一に
散布した。処理後5日間温室内で育成し、除草効力及び
ダイズへの安全性を調査した。結果を表3に示す。
雑草等、特に、ダイズ畑における広範囲の雑草を選択的
に除草できる。
Claims (4)
- 【請求項1】2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メ
チル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2
−イル)フェノキシ酢酸エステル誘導体と、5−[2−
クロロ−4−(トリフルオロメチル)フェノキシ]−2
−ニトロベンゾイックアシッドナトリウム塩、エチルO
−[5−(2−クロロ−α, α, α, −トリフルオロ−
p−トリルオキシ)−2−ニトロベンゾイル]−DL−
ラクテ−ト及び5−[2−クロロ−4−(トリフルオロ
メチル)フェノキシ]−N−(メチルスルフォニル)−
2−ニトロベンゾアミドからなる群より選ばれる1種と
を有効成分として含有することを特徴とする茎葉処理用
除草剤組成物。 - 【請求項2】ダイズ畑における雑草を防除するための請
求項1に記載の除草剤組成物。 - 【請求項3】2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メ
チル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2
−イル)フェノキシ酢酸エステル誘導体と、5−[2−
クロロ−4−(トリフルオロメチル)フェノキシ]−2
−ニトロベンゾイックアシッドナトリウム塩、エチルO
−[5−(2−クロロ−α, α, α, −トリフルオロ−
p−トリルオキシ)−2−ニトロベンゾイル]−DL−
ラクテ−ト及び5−[2−クロロ−4−(トリフルオロ
メチル)フェノキシ]−N−(メチルスルフォニル)−
2−ニトロベンゾアミドからなる群より選ばれる1種と
を有効成分として含有する除草剤を、雑草に茎葉処理す
ることを特徴とする除草方法。 - 【請求項4】ダイズ畑における雑草に処理する請求項3
に記載の除草方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1038498A JP4038857B2 (ja) | 1997-02-18 | 1998-01-22 | 除草剤組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-34147 | 1997-02-18 | ||
| JP3414797 | 1997-02-18 | ||
| JP1038498A JP4038857B2 (ja) | 1997-02-18 | 1998-01-22 | 除草剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10291908A true JPH10291908A (ja) | 1998-11-04 |
| JP4038857B2 JP4038857B2 (ja) | 2008-01-30 |
Family
ID=26345642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1038498A Expired - Fee Related JP4038857B2 (ja) | 1997-02-18 | 1998-01-22 | 除草剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4038857B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025229645A1 (en) * | 2024-05-03 | 2025-11-06 | Adama Agan Ltd. | Efficient herbicidal formulation system of fomesafen |
-
1998
- 1998-01-22 JP JP1038498A patent/JP4038857B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025229645A1 (en) * | 2024-05-03 | 2025-11-06 | Adama Agan Ltd. | Efficient herbicidal formulation system of fomesafen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4038857B2 (ja) | 2008-01-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4038857B2 (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP4062760B2 (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP4045629B2 (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP4062759B2 (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP4035874B2 (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP4062758B2 (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10226611A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP2001058905A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10231213A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10226610A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10226609A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP2001058907A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP2001058909A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10231221A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP2001058904A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10231225A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10231207A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10226607A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10231206A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JP2001058908A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10226603A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10226604A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10226608A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10231223A (ja) | 除草剤組成物 | |
| JPH10231204A (ja) | 除草剤組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041220 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071016 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071029 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101116 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101116 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101116 Year of fee payment: 3 |
|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |