JPH10294304A - 基板保持装置およびこれを利用した基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】切欠き部を有するほぼ円形の基板が処理対象で
ある場合でも、当該基板を安定に保持することができる
基板保持装置を提供する。 【解決手段】このウエハ保持装置は、６つの保持ローラ
13a 〜13c ，33a 〜33c を備えている。このうち保持ロ
ーラ33a 〜33c はウエハＷに回転力を与える駆動ローラ
であり、保持ローラ13a 〜13c はウエハＷの回転に伴っ
て回転する従動ローラである。これらの保持ローラ13a
〜13c ，33a 〜33c は、オリフラOFを有するウエハＷを
保持する場合に、オリフラOFに掛かる保持ローラ以外の
保持ローラとウエハＷとの当接点同士を隣り合う順に結
んで形成される多角形内にウエハＷの重心が位置するよ
うに配置されている。これにより、ウエハＷを安定保持
できる。また、２つの駆動ローラ33a および33b の間の
間隔d1は、オリフラOFの幅d0よりも広く設定されてい
る。これにより、ウエハＷを安定回転させることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハなど
のほぼ円形の基板を保持し、かつ回転させることができ
る基板保持装置、および基板保持装置により保持された
基板に対して処理するための基板処理装置に関する。

【０００２】

【背景技術】半導体装置の製造工程には、半導体ウエハ
（以下、単に「ウエハ」という。）の表面に成膜やエッ
チングなどの処理を繰り返し施して微細パターンを形成
していく工程が含まれる。微細加工のためにはウエハ自
体の表面およびウエハ表面に形成された薄膜の表面を清
浄に保つ必要があるから、必要に応じてウエハの洗浄が
行われる。たとえば、ウエハの表面上に形成された薄膜
を研磨剤（スラリー）を用いて研磨した後には、スラリ
ーがウエハ表面に残留しているから、このスラリーを除
去する必要がある。

【０００３】図７は、上述のようなウエハの洗浄を行う
ためのウエハ洗浄装置の構成例を示す平面図であり、図
８は、図７に示される構成を図７のＺ方向から見た側面
図である。このウエハ洗浄装置は、ウエハＷの両面を洗
浄するためのもので、ウエハＷの端面に当接してウエハ
Ｗを水平に保持し、かつ回転させる３つの保持ローラ２
５１，２５２および２５３と、これら保持ローラ２５
１，２５２および２５３によって保持されたウエハＷの
両面に洗浄液をそれぞれ供給する２つの洗浄ノズル２１
０とを備えている。

【０００４】３つの保持ローラ２５１，２５２および２
５３は、支持部２６１，２６２および２６３に鉛直軸ま
わりの回転が自在であるように支持されたローラ軸２７
１，２７２および２７３の上端にそれぞれ固定されてい
る。このうち、保持ローラ２５１は、モータＭで発生さ
れた駆動力が駆動ベルトＶを介して伝達される駆動ロー
ラであり、残りの保持ローラ２５２および２５３は、ウ
エハＷの回転に伴って回転する従動ローラである。

【０００５】洗浄が行われる際には、保持ローラ２５
１，２５２および２５３にウエハＷが保持された状態で
駆動ローラ２５１に駆動力が与えられ、ウエハＷが回転
させられる。そして、この状態のウエハＷの上面および
下面に各洗浄ノズル２１０から洗浄液が供給される。こ
のようにして、ウエハＷの上面および下面が洗浄され
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のウエ
ハ洗浄装置では、オリエンテーションフラット（以下
「オリフラ」という。）およびノッチなどの切欠き部が
形成されているウエハＷが処理対象である場合、ウエハ
Ｗを安定に保持することができず、その結果ウエハＷを
良好に洗浄することができないという問題があった。

【０００７】すなわち、オリフラを有するウエハＷが処
理対象である場合、たとえば図９に示すように、当該オ
リフラＯＦが保持ローラ２５２に掛かると、ウエハＷは
実質的に残りの保持ローラ２５１および２５３の２点で
支持されることになるから、ウエハＷの保持状態が非常
に不安定になり、ウエハＷを保持できない状態となる場
合すらある。その結果、ウエハＷの表面の全域に洗浄液
を万遍なく供給することが非常に困難になったり、ウエ
ハＷが脱落し処理を続行できない場合すらあるから、ウ
エハＷを良好に洗浄することができなかった。

【０００８】しかも、オリフラＯＦが駆動ローラ２５１
にかかる位置までくると、それ以上ウエハＷを回転させ
ることができないという問題もある。そこで、本発明の
目的は、上述の技術的課題を解決し、周縁部に切欠き部
を有するほぼ円形の基板が処理対象である場合でも、当
該基板を安定に保持することができる基板保持装置を提
供することである。

【０００９】また、本発明の他の目的は、周縁部に切欠
き部を有するほぼ円形の基板が処理対象である場合で
も、当該基板を安定に回転させることができる基板保持
装置を提供することである。さらに、本発明の他の目的
は、上記基板保持装置を備えることによって、基板を良
好に処理できる基板処理装置を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記目
的を達成するための請求項１記載の発明は、回転駆動力
を発生する回転駆動源と、この回転駆動源から回転駆動
力が伝達される駆動ローラを含み、切欠き部を有するほ
ぼ円形の基板の端面に当接して当該基板を保持し回転す
る少なくとも４つの保持ローラとを備え、上記少なくと
も４つの保持ローラは、上記基板がどの回転位置にあっ
ても上記基板の切欠き部に掛かる保持ローラ以外の保持
ローラと基板との当接点同士を隣り合う順に結んで形成
される多角形内に上記基板の重心が位置するように配置
されていることを特徴とする基板保持装置である。

【００１１】本発明によれば、基板の切欠き部が４つの
保持ローラのうちいずれの保持ローラに掛かっても、基
板の重心は、当該切欠き部が掛かっていない保持ローラ
と基板との当接点同士を隣り合う順に結んで形成される
多角形内に位置する。したがって、切欠き部を有する基
板であっても、当該基板を安定に保持することができ
る。そのため、たとえば本発明を基板処理装置に適用す
る場合には、基板を良好に処理することができる。

【００１２】請求項２記載の発明は、上記駆動ローラ
は、上記切欠き部の幅よりも広い間隔だけ空けて配置さ
れた少なくとも２つの駆動ローラを含むものであること
を特徴とする請求項１に記載の基板保持装置である。本
発明によれば、回転駆動力を基板に伝達する駆動ローラ
が少なくとも２つ備えられており、しかもこれらの間の
間隔は切欠き部の幅よりも広いから、保持されている基
板の切欠き部がこれら駆動ローラに同時に掛かることは
ない。したがって、基板には、２つの駆動ローラのうち
少なくとも１つから回転駆動力が伝達される。そのた
め、切欠き部を有する基板が処理対象であっても、当該
基板を確実に回転させることができる。よって、たとえ
ば本発明を基板処理装置に適用する場合には、基板の安
定保持だけでなく、基板の安定回転をも確保することが
できるから、基板を一層良好に処理することができる。

【００１３】請求項３記載の発明は、上記請求項１また
は２に記載の基板保持装置と、上記保持ローラに保持さ
れている基板の両面を洗浄するための両面洗浄手段とを
含むことを特徴とする基板処理装置である。本発明によ
れば、基板を安定に保持することができる基板保持装置
によって保持された基板の両面を洗浄することができ
る。しかも、保持ローラと基板との当接位置は逐一変わ
るから、基板の表面全域を洗浄することができる。その
ため、基板の両面を良好に洗浄することができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発
明の第１実施形態の基板処理装置であるウエハ洗浄装置
の構成を示す平面図である。また、図２は、図１のII-I
I 断面図であり、一部を省略し、かつ一部を概念的に示
している。

【００１５】この装置は、オリエンテーションフラット
（以下「オリフラ」という。）ＯＦを有するウエハＷを
処理対象とし、当該ウエハＷの表面に形成された薄膜を
研磨するＣＭＰ(Chemical Mechanical Polishing) 処理
が行われた後にウエハＷの表面に残っているスラリーお
よび余分な薄膜を除去するためのもので、側壁１，２，
３および４によって囲まれた平面視においてほぼ矩形の
処理室５と、この処理室５内においてウエハＷを水平に
保持し、かつ回転させることができるウエハ保持装置６
と、ウエハ保持装置６により保持されたウエハＷの上面
および下面に洗浄液供給ノズル７，８から洗浄液を供給
しつつウエハＷの上面および下面をスクラブ洗浄するた
めの両面洗浄装置９とを備えている。

【００１６】ウエハ保持装置６は、処理室５の側壁２お
よび４に直交する方向（以下「保持方向」という。）Ａ
に関して対向配置された一対の保持ハンド１０，３０を
有している。保持ハンド１０，３０は、保持方向Ａに沿
って移動可能なもので、ベース取付部１１，３１に取り
付けられたベース部１２，３２と、ベース部１２，３２
の上方に配置され、ウエハＷを保持するための各々３つ
の保持ローラ１３，３３とをそれぞれ有している。これ
らの保持ローラ１３，３３は、ウエハＷの端面形状に対
応した円周上に配置されている。ウエハＷは、保持ロー
ラ１３，３３の側面にその端面が当接した状態で保持さ
れる。

【００１７】ベース取付部１１，３１には、保持方向Ａ
に沿って長く形成され、側壁２，４に形成された穴１
４，３４を挿通して側壁２，４の外側まで延びたハンド
軸１５，３５の一端が連結されている。ハンド軸１５，
３５の他端には、側壁２，４の外側の取付板１６，３６
上に固定されたシリンダ１７，３７のロッド１８，３８
が連結板１９，３９を介して取り付けられている。ロッ
ド１８，３８は、保持方向Ａに沿って突出したり引っ込
んだりできるようになっている。この構成により、シリ
ンダ１７，３７を駆動することによって、保持ハンド１
０，３０を保持方向Ａに沿って互いに反対方向に進退さ
せることができ、ウエハＷを保持用ローラ１３，３３の
間で挾持したり、この挾持を解放したりすることができ
る。

【００１８】なお、参照符号２０，４０は、保持ハンド
１０，３０の移動とともに伸縮可能なベローズである。
ベローズ２０，４０は、両面洗浄装置９の洗浄液供給ノ
ズル７，８からウエハＷに供給される洗浄液およびその
雰囲気が、ハンド軸１５，３５に影響を与えないように
するとともに、上記洗浄液や雰囲気が処理室５の外部に
漏れるのを防ぐ。さらに、ベローズ２０，４０は、シリ
ンダ１７，３７のロッド１８，３８やハンド軸１５，３
５から発生するパーティクルが処理室５の内部に侵入す
るのを防止する。

【００１９】保持ローラ１３，３３は、ウエハＷを保持
した状態で回転させるために、ベース部１２，３２に回
転可能に設けられている。すなわち、保持ローラ１３，
３３は、ベース部１２，３２に鉛直軸まわりの回転が自
在であるように支持されたローラ軸２１，４１の上端に
固定されている。ウエハＷを回転させるために必要な駆
動力は、保持ローラ３３に与えられるようになってい
る。すなわち、３つの保持ローラ３３のうち中央の保持
ローラ３３ｂには、側壁２の外側に設けられたモータ取
付板４２に取り付けられたモータＭの駆動力がベルト４
３を介して伝達されるようになっている。さらに、中央
の保持ローラ３３ｂに伝達されてきた駆動力は、ベルト
４４，４５を介して他の２つの保持ローラ３３ａ，３３
ｃにも伝達されるようになっている。

【００２０】以上の構成により、モータＭによって中央
の保持ローラ３３ｂが駆動されると、保持ローラ３３ｂ
が回転し、これに伴って他の２つの保持ローラ３３ａ，
３３ｃも回転する。その結果、保持ローラ１３，３３に
保持されているウエハＷは回転する。このとき、保持ロ
ーラ１３は、ウエハＷの回転に従動して回転する。この
ようにして、ウエハＷは保持ローラ１３，３３に保持さ
れた状態で回転方向Ｂに沿って回転する。この場合にお
けるウエハＷの回転速度は、たとえば約１０〜２０（回
転／分）である。

【００２１】このように、保持ローラ３３はウエハＷに
回転力を与えるのに対して、保持ローラ１３はウエハＷ
の回転に伴って回転するだけである。そこで、以下で
は、説明の便宜上、必要に応じて、保持ローラ３３を
「駆動ローラ３３」、保持ローラ１３を「従動ローラ１
３」ということにする。両面洗浄装置９は、ウエハ保持
装置６により保持されたウエハＷの上方および下方に配
置された上面洗浄部６０および下面洗浄部８０を備えて
いる。上面洗浄部６０および下面洗浄部８０は、それぞ
れ、保持ハンド１０，３０に干渉しない位置に、ウエハ
Ｗの中心部から周縁部に至るウエハＷの表面領域であっ
て、全表面領域の一部を覆うように設けられれた洗浄ブ
ラシ６６，６８を備えている。

【００２２】上面洗浄部６０および下面洗浄部８０は、
ウエハＷに対向する側に取付面６１，８１を有するベー
ス部６２，８２と、ベース部６２，８２に取り付けられ
た回転軸６３，８３とを有し、回転駆動部６４，８４に
より鉛直方向に沿う回転軸線Ｏを中心に回転方向Ｃに沿
って回転できるようにされている。さらに、上面洗浄部
６０および下面洗浄部８０は、それぞれ、昇降駆動部６
５，８５によって上下方向に移動できるようになってい
る。これにより、ウエハ洗浄時においてはウエハＷを上
面洗浄部６０および下面洗浄部８０で挟み込むことがで
き、また、ウエハ洗浄後においては、ウエハＷから上面
洗浄部６０および下面洗浄部８０を離すことができるよ
うになっている。

【００２３】上面ベース部６２および下面ベース部８２
の各取付面６１，８１には、洗浄ブラシ６６，８６が設
けられている。洗浄ブラシ６６，８６の中央付近には、
ウエハＷに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル
７，８がそれぞれ配置されている。洗浄液供給ノズル
７，８には、洗浄用パイプ６７，８７が連結されてい
る。洗浄用パイプ６７，８７は、回転軸６３，８３内に
回転しないように挿通されており、その他端には、三方
弁６８，８８を介して、フッ酸、硝酸、塩酸、リン酸、
酢酸、アンモニアなどの薬液が図示しない薬液タンクか
ら導かれる薬液供給路６９，８９、および図示しない純
水タンクから純水が導かれる純水供給路７０，９０が接
続されている。この構成により、三方弁６８，８８の切
換えを制御することによって、洗浄用パイプ６７，８７
に薬液および純水を選択的に供給でき、したがって洗浄
液供給ノズル７，８から薬液および純水を選択的に吐出
させることができる。

【００２４】図３は、ウエハ保持装置６の構成をより詳
細に説明するための図である。ウエハ保持装置６に備え
られる６つの保持ローラ１３，３３は、オリフラＯＦを
有するウエハＷを保持する場合に、オリフラＯＦに掛か
る保持ローラ以外の保持ローラとウエハＷとの当接点同
士を隣り合う順に結んで形成される多角形内にウエハＷ
の重心ＯＧが位置するように、配置されている。ウエハ
Ｗの重心ＯＧは、周縁部にオリフラＯＦを有していた場
合、ウエハＷの外周円の中心ＯＷの近傍にある。正確に
言うと、ウエハＷの重心ＯＧは、ウエハＷの外周円の中
心ＯＷのオリフラＯＦとは反対側の近傍に位置する。

【００２５】たとえば、図３(a) に示すように、オリフ
ラＯＦが保持ローラ３３ｂに掛かっている場合には、残
り５つの保持ローラ１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，３３ｃお
よび３３ａとウエハＷとの当接点A1，B1，C1，C3および
A3を隣り合う順に結んで形成される五角形PE1 内に、ウ
エハＷの重心ＯＧが位置する。また、図３(b) に示すよ
うに、オリフラＯＦが保持ローラ１３ｃに掛かっている
場合には、残りの５つの保持ローラ１３ａ，１３ｂ，３
３ｃ，３３ｂおよび３３ａとウエハＷとの当接点A1，B
1，C3，B3およびA3を隣り合う順に結んで形成される五
角形PE2 内にウエハＷの重心ＯＧが位置する。

【００２６】このように、ウエハＷがどの回転位置にあ
っても常にバランスのとれた状態で保持されるから、当
該ウエハＷを安定に保持することができる。また、図３
(c) に示すように、３つの駆動ローラ３３のうち２つの
駆動ローラ３３ａおよび駆動ローラ３３ｂのウエハＷと
の当接点A3およびB3の間隔d1は、オリフラＯＦの幅d0よ
りも広く設定されている。すなわち、オリフラＯＦが２
つの駆動ローラ３３ａおよび３３ｂに同時に掛からない
ようにされている。これにより、２つの駆動ローラ３３
ａおよび３３ｂのうち少なくともいずれか一方からは、
ウエハＷに回転力を与えることができるようになってい
る。したがって、オリフラＯＦがたとえば駆動ローラ３
３ａに掛かっても、残りの駆動ローラ３３ｂおよび３３
ｃによってウエハＷに回転力が付与される。そのため、
当該ウエハＷを確実に回転させることができる。

【００２７】次に、図２を参照しつつ、スクラブ洗浄処
理について説明する。洗浄前においては、保持ハンド１
０，３０はウエハＷを保持する保持位置から退避した待
機位置で待機し、かつ上面洗浄部６０および下面洗浄部
８０はウエハＷを洗浄する洗浄位置から退避した待機位
置で待機している。前工程が終了し図示しない搬送アー
ムによってウエハＷが搬送されてくると、シリンダ１
７，３７のロッド１８，３８が引っ込む。その結果、保
持ハンド１０，３０は互いに近づく。これにより、ウエ
ハＷがその端面において保持ローラ１３，３３に保持さ
れる。その後、回転駆動部６４，８４によって上面洗浄
部６０および下面洗浄部８０が回転させられる。これと
同時に、三方弁６８，８８によって薬液供給路６９，８
９と洗浄用パイプ６７，８７とが接続される。その結
果、洗浄液供給ノズル７，８から薬液がそれぞれウエハ
Ｗの上面および下面に供給される。

【００２８】その後、モータＭが駆動され、保持ローラ
３３が回転駆動される。これに伴って、ウエハＷが低速
回転する。さらに、ウエハＷの回転に従って従動ローラ
１３も回転する。この場合、上述のとおり、ウエハ保持
装置６は下記およびの条件を満足するような構成で
あるから、ウエハＷは安定に保持され、かつ回転させら
れる。 保持ローラ１３，３３のうちオリフラＯＦに掛からな
い保持ローラとウエハＷとの当接点を隣り合う順に結ん
で形成される多角形内に、保持されているウエハＷの重
心ＯＧが位置する。 オリフラＯＦの幅d0よりも広い間隔d1で２つの駆動ロ
ーラ３３ａおよび３３ｂを配置している。

【００２９】さらに、昇降駆動部６５，８５によって上
面洗浄部６０および下面洗浄部８０を互いに近づく方向
に移動させられる。その結果、保持ローラ１３，３３に
保持されているウエハＷは、洗浄ブラシ６６，８６によ
って挟み込まれ、洗浄ブラシ６６，８６によりウエハＷ
の上面および下面が擦られる。このようにして、ウエハ
Ｗの上面および下面が薬液が供給されつつ洗浄ブラシ６
６，８６によってスクラブ洗浄される。

【００３０】薬液によるスクラブ洗浄が終了すると、昇
降駆動部６５，８５によって上面洗浄部６０および下面
洗浄部８０が互いにウエハＷから離反する方向に移動さ
せられ、ウエハＷから洗浄ブラシ６６，８６が離れる。
その後、三方弁６８，８８によって洗浄用パイプ６７，
８７と純水供給路７０，９０とが接続される。その結
果、洗浄液供給ノズル７，８から純水が供給され、ウエ
ハＷの上面および下面に残留している薬液等が洗い流さ
れる。

【００３１】以上のようにこの実施形態によれば、ウエ
ハ保持装置６が上記およびの条件を満足する構成で
あるから、ウエハＷをバランス良く保持することがで
き、かつ３つの駆動ローラ３３のうち少なくとも１つか
ら回転力をウエハＷに与えることができる。したがっ
て、オリフラＯＦを有するウエハＷが処理対象であって
も、当該ウエハＷを安定に保持することができ、かつ回
転させることができる。そのため、両面洗浄装置９によ
ってウエハＷの両面を一様に洗浄できる。よって、当該
ウエハＷを良好に洗浄することができるから、高品質な
ウエハＷを提供できる。

【００３２】また、ウエハＷの端面に当接して当該ウエ
ハＷを回転させつつ洗浄処理を行うようにしているか
ら、ウエハＷの表面全域を良好に洗浄することができ
る。さらに、上述の実施形態によれば、オリフラＯＦを
有するウエハＷだけでなく、ノッチを有するウエハＷを
処理対象とする場合でも、ウエハＷの安定保持および安
定回転を図ることができる。すなわち、ノッチは通常オ
リフラＯＦの幅よりも狭いから、ノッチが駆動ローラ３
３ａおよび３３ｂに同時にかかることはなく、したがっ
てウエハＷに回転力を確実に付与できるからである。

【００３３】本発明の実施の一形態の説明は以上のとお
りであるが、本発明は上述の実施形態に限定されるもの
ではない。たとえば上記実施形態では、保持ローラ間の
間隔としては、駆動ローラ３３ａおよび３３ｂ間の２つ
の駆動ローラの間隔を規定しているだけである。しか
し、図４に示すように、たとえば、互いに隣接する６つ
の保持ローラの間隔d1を、オリフラＯＦの幅d0よりも広
く設定し、かつ相互に相等しくするのが最も好ましい。
つまり、６つの保持ローラとウエハＷとの当接点は、ほ
ぼ正六角形上に配置される形となる。

【００３４】すなわち、この構成では、オリフラＯＦが
保持ローラに掛かる場合であっても、６つあるうちの１
つにしか掛からないから、残りの５つの保持ローラとウ
エハＷとの当接点によって五角形が形成され、さらにこ
の五角形の中には正三角形が常に存在することになる。
たとえば、二点鎖線で示すように、オリフラＯＦが保持
ローラ１３ｂに掛かっている場合には、五角形PE3 が形
成され、さらにこの五角形PE3 の中に正三角形TRが存在
する。よって、ウエハＷの回転中心でもあるウエハＷの
外周円の中心ＯＷは、ウエハがどの回転位置にあっても
常に、この正三角形の重心に一致する。このため、ウエ
ハＷの重心ＯＧは、ウエハがどの回転位置にあっても常
に、この正三角形内の重心の近傍に位置することにな
る。そのため、ウエハＷを最も安定に保持することがで
きる。また、すべての保持ローラ間の間隔はオリフラＯ
Ｆの幅d0よりも広いから、ウエハＷの安定回転も実現で
きる。

【００３５】また、上記実施形態では、６つの保持ロー
ラ１３，３３によってウエハＷを保持する構成について
説明しているが、６つの保持ローラを備えていなければ
ウエハＷを安定に保持することができないというわけで
はなく、上記およびに記したような条件を満足する
ことを条件に、少なくとも４つの保持ローラを備えてい
れば足りる。

【００３６】図５は、４つの保持ローラ１３０ａ，１３
０ｂ，３３０ａおよび３３０b を備える構成を図示して
いる。４つの保持ローラ１３０ａ，１３０ｂ，３３０ａ
および３３０ｂは、互いに隣接する保持ローラの間隔d1
を、オリフラＯＦの幅d0よりも広く設定し、かつ相互に
相等しく配置され、オリフラＯＦが掛かっていない保持
ローラとウエハＷとの当接点を隣り合う順に結んで形成
される三角形内にウエハＷの重心ＯＧが位置するように
配置されている。つまり、４つの保持ローラとウエハＷ
との当接点は、ほぼ正方形上に配置される形となる。

【００３７】したがって、たとえば二点鎖線で示すよう
に、オリフラＯＦが保持ローラ１３０ｂに掛かっている
場合には、ウエハＷの重心ＯＧは、残りの３つの保持ロ
ーラ１３０ａ，３３０ｂおよび３３０ａとウエハＷとの
当接点A10 ，B30 およびA30を隣り合う順に結んで形成
される三角形TR1 内に位置する。より詳しく説明する
と、ウエハＷの外周円の中心ＯＷは、A10 とB30 とを結
ぶ直線L1上に位置する。ここで、ウエハＷの重心ＯＧ
は、ウエハＷがどの回転位置にあっても常に、ウエハＷ
の外周円の中心ＯＷのオリフラＯＦとは反対側に位置す
るので、直線L1よりも三角形TR1 の内部側に位置するこ
とになる。このことより、オリフラＯＦがどの保持ロー
ラに掛かった場合でも、ウエハＷの重心ＯＧは他の保持
ローラが形成する三角形の内部にあることがわかる。し
たがって、この構成であっても、ウエハＷを安定に保持
することができる。

【００３８】また、図５では、４つの保持ローラ１３０
ａ，１３０ｂ，３３０ａおよび３３０のうち、２つを駆
動ローラとしており、この２つの駆動ローラ３３０ａお
よび３３０ｂの間の間隔d1は、オリフラＯＦの幅d0より
も広く設定されている。したがって、ウエハＷの安定回
転を実現できる。なお、２つの駆動ローラ３３０ａおよ
び３３０ｂの駆動は、図示のように、１つのモータＭか
らそれぞれ別個のベルト４３１および４３２を介して駆
動力を伝達することによって達成することができる。

【００３９】さらに、保持ローラは少なくとも４つ以上
備えられていればよいから、たとえば７つ以上であって
もよい。図６には、７つの保持ローラ１３１ａ，１３１
ｂ，１３１ｃ，１３１ｄ，３３１ａ，３３１ｂおよび３
３１ｃを備える構成を示しており、このうちの３つの保
持ローラ３３１ａ，３３１ｂおよび３３１ｃが駆動ロー
ラ、残りの４つの保持ローラ１３１ａ，１３１ｂ，１３
１ｃ，１３１ｄが従動ローラとなっている。これら保持
ローラ１３１ａ〜１３１ｄ，３３１ａ〜３３１ｃは、オ
リフラＯＦが掛かっていない保持ローラとウエハＷとの
当接点同士を隣り合う順に結んで形成される多角形内に
ウエハＷの重心ＯＧが位置するように配置されている。
したがって、たとえば二点鎖線で示すように、オリフラ
ＯＦが２つの保持ローラ１３１ｃおよび１３１ｄに掛か
ったとしても、残りの保持ローラ１３１ａ，１３１ｂ，
３３１ｃ，３３１ｂおよび３３１ａとウエハＷとの当接
点A11 ，B11 ，C31 ，B31 およびA31 を隣り合う順に結
んで形成される五角形PE4内にウエハＷの重心ＯＧが位
置する。そのため、ウエハＷを安定に保持することがで
きる。

【００４０】また、２つの駆動ローラ３３１ａおよび３
３１ｂの間隔d1は、オリフラＯＦの幅d0よりも広く設定
されているから、ウエハＷの安定保持を実現できる。さ
らにまた、上記実施形態では、オリフラＯＦを有するウ
エハＷを処理対象とする場合について説明しているが、
本発明は、たとえばノッチを有するウエハＷのみを処理
対象とする場合においても適用することができる。この
場合、２つの駆動ローラの間隔は、当該ノッチの幅より
も広く設定しておけばよい。

【００４１】さらにまた、上記実施形態では、ウエハＷ
を洗浄する装置について本発明を適用する場合を例にと
っているが、たとえばウエハＷを回転させつつ処理を行
う装置であれば、本発明を適用することが可能である。
さらに、上記実施形態では、基板としてウエハＷを例に
とって説明しているが、これに限定されることはなく、
形状がほぼ円形であれば基板として適用することができ
る。

【００４２】その他、特許請求の範囲に記載された範囲
で種々の設計変更を施すことが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態の基板処理装置であるウエ
ハ洗浄装置の構成を示す平面図である。

【図２】図１のII-II 断面図である。

【図３】ウエハ保持機構の構成をより詳述するための平
面図である。

【図４】本発明の他の実施形態のウエハ洗浄におけるウ
エハ保持装置の構成を示す平面図である。

【図５】本発明のさらに他の実施形態にかかるウエハ洗
浄装置におけるウエハ保持装置の構成を示す平面図であ
る。

【図６】本発明のさらに他の実施形態にかかるウエハ洗
浄装置におけるウエハ保持装置の構成を示す平面図であ
る。

【図７】ウエハの洗浄を行うための従来のウエハ洗浄装
置の構成を示す平面図である。

【図８】図７に示した構成を図７のＺ方向から見た側面
図である。

【図９】オリフラを有するウエハを処理対象とした場合
におけるウエハ洗浄装置の構成を示す平面図である。

【符号の説明】

６ ウエハ保持装置（基板保持装置） ９ 両面洗浄装置（両面洗浄手段） １３，３３ 保持ローラ ３３ａ，３３ｂ 駆動ローラ Ｍ モータ（回転駆動源） ＯＦ オリフラ（切欠き部） Ｗ ウエハ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】回転駆動力を発生する回転駆動源と、 この回転駆動源から回転駆動力が伝達される駆動ローラ
   を含み、切欠き部を有するほぼ円形の基板の端面に当接
   して当該基板を保持し回転する少なくとも４つの保持ロ
   ーラとを備え、 上記少なくとも４つの保持ローラは、上記基板がどの回
   転位置にあっても、上記基板の切欠き部に掛かる保持ロ
   ーラ以外の保持ローラと基板との当接点同士を隣り合う
   順に結んで形成される多角形内に上記基板の重心が位置
   するように配設されていることを特徴とする基板保持装
   置。
2. 【請求項２】上記駆動ローラは、上記切欠き部の幅より
   も広い間隔だけ空けて配置された少なくとも２つの駆動
   ローラを含むものであることを特徴とする請求項１に記
   載の基板保持装置。
3. 【請求項３】上記請求項１または２に記載の基板保持装
   置と、 上記保持ローラに保持されている基板の両面を洗浄する
   ための両面洗浄手段とを含むことを特徴とする基板処理
   装置。