JPH1029921A

JPH1029921A - 日焼け止め化粧料

Info

Publication number: JPH1029921A
Application number: JP4459497A
Authority: JP
Inventors: Tomiyuki Nanba; 富幸難波; Sadako Kadowaki; 貞子門脇
Original assignee: Shiseido Co Ltd
Current assignee: Shiseido Co Ltd
Priority date: 1996-05-16
Filing date: 1997-02-12
Publication date: 1998-02-03
Anticipated expiration: 2017-02-12
Also published as: JP3515873B2

Abstract

(57)【要約】【課題】有機紫外線吸収剤を配合した日焼け止め化粧
料において、紫外線吸収効果及び皮膚安全性が高く、且
つ耐水性にも優れる日焼け止め化粧料を提供する。【解決手段】化１のシリコーン化多糖化合物と、有機
紫外線吸収剤を配合したことを特徴とする。【化１】（化１中、Ｇｌｕは多糖化合物の糖残基、Ｘは２価の結
合基、Ｙは２価脂肪族基を意味し、Ｒ¹は炭素数１〜８
の１価有機基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ炭素数１〜８
の１価有機基又は−ＯＳｉＲ⁵Ｒ⁶Ｒ⁷で示されるシロキ
シ基を意味する。ただし、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ炭
素数１〜８の１価有機基、ａは０、１又は２を意味す
る。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は日焼け止め化粧料、特に
紫外線吸収効果、安全性等の改善に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、紫外線から肌を保護する意識が高
まり、ひぶくれ、紅斑、黒化等の原因となる紫外線を吸
収したり、散乱する紫外線防止剤が化粧料中に配合され
るようになってきている。このような紫外線防止剤は、
紫外線に過敏な人や、長時間太陽光線に肌を晒したこと
のない人はもちろん、健常人が真夏の強烈な太陽光線で
日焼けしないようにしたり、日焼けを適度なものにする
ためにも、化粧料中に多量に配合しなければならない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機紫
外線吸収剤の多くは皮膚刺激性を有する場合があること
が知られており、このような有機紫外線吸収剤を多量に
配合した製品を繰り返し塗布すると、まれに皮膚に炎症
を起こしたり、色素沈着を起こしてしまうことがあっ
た。よって、皮膚刺激性の点からは有機紫外線吸収剤の
配合量を制限せざるを得ず、これを多量に配合して紫外
線吸収効果を高めることは困難であった。

【０００４】さらに、日焼け止め化粧料は真夏に使用す
る頻度が非常に高く、このため、海水浴や水泳などで水
中に入った場合や、汗で流れ落ちしない耐水性の高いも
のが望まれる。また、耐水性が低い日焼け止め化粧料を
プールにおいて使用すると、基剤に含まれる油分が流出
し、これが水質汚染の一因となることからも耐水性の高
い日焼け止め化粧料が好ましい。本発明は前記従来技術
の課題に鑑みなされたものであり、その目的は有機紫外
線吸収剤を配合した日焼け止め化粧料において、紫外線
吸収効果及び皮膚安全性が高く、且つ耐水性にも優れる
日焼け止め化粧料を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明者らが鋭意検討を行った結果、特定のシリコー
ン化多糖化合物を有機紫外線吸収剤とともに併用する
と、該紫外線吸収剤を増量しなくとも紫外線吸収効果が
著しく向上し、且つ耐水性も非常に優れる日焼け止め化
粧料が得られることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち、本発明にかかる日焼け止め化粧料は、下
記一般式化３の構造を有するシリコーン化多糖化合物
と、有機紫外線吸収剤を配合したことを特徴とする。

【０００６】

【化３】（化３中、Ｇｌｕは多糖化合物の糖残基、Ｘは２価の結
合基、Ｙは２価脂肪族基を意味し、Ｒ¹は炭素数１〜８
の１価有機基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ炭素数１〜８
の１価有機基又は−ＯＳｉＲ⁵Ｒ⁶Ｒ⁷で示されるシロキ
シ基を意味する。ただし、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ炭
素数１〜８の１価有機基、ａは０、１又は２を意味す
る。）また、本発明にかかる化粧料において、シリコーン化多
糖化合物が下記一般式化４で示されることが好適であ
る。

【０００７】

【化４】（化４中、Ｇｌｕ、Ｙ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びａは前
記化３と同じである。）また、Ｇｌｕがプルランのグルコース残基であることが
好適である。また、ａ＝０で、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がメチ
ル基であることが好適である。また、Ｙが−（ＣＨ₂）₃
−で示される基であることが好適である。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明において用いられるシリコ
ーン化多糖化合物は前記化３で示される。化３におい
て、Ｇｌｕは多糖化合物の糖残基を表すが、このような
多糖化合物としては、公知の各種多糖化合物を用いるこ
とができ、例えば、セルロース、ヘミセルロース、アラ
ビアガム、トラガントガム、タマリンドガム、ペクチ
ン、デンプン、マンナン、グアーガム、ローカストビー
ンガム、クインスシードガム、アルギン酸、カラギーナ
ン、寒天、キサンタンガム、デキストラン、プルラン、
キチン、キトサン、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸
の他、これら多糖化合物の誘導体、例えば、カルボキシ
メチル化、硫酸化、リン酸化、メチル化、エチル化、エ
チレンオキサイドやプロピレンオキサイド等のアルキレ
ンオキサイドの付加、アシル化、カチオン化、低分子量
化等を行った多糖化合物誘導体が挙げられる。これらの
内、好ましくはエチルセルロース又はプルランであり、
特に好ましくはプルランである。なお、本発明において
多糖化合物の平均分子量は多糖化合物の種類により異な
るが、通常約1,000〜5,000,000が好ましい。

【０００９】これらの多糖化合物はその種類に応じて水
酸基、カルボキシル基等の反応性官能基の１種又は２種
以上を少なくとも１つ以上含有している。Ｘで示される
２価結合基は、この多糖化合物の有する反応性官能基
と、下記一般式化５で示されるシリコーン化合物とを反
応させることにより形成されるＡ由来の結合基である。
なお、このようなシリコーン化合物と多糖化合物との反
応には、従来より公知の方法を用いることができる。

【００１０】

【化５】上記化５中、Ｙ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びａは前記化３
と同じである。また、Ａは多糖化合物の反応性官能基と
反応しうる官能基であり、例えば、イソシアネート基、
エポキシ基、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、アミノ基、イミノ基、水酸基、カルボキシル基、
メルカプト基等が挙げられる。Ｘを例示すると、カルバ
モイル基、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）−、カルボニル基、ア
ミノ基、エーテル基等が挙げられるが、反応性の点か
ら、Ａがイソシアネート基（Ｏ＝Ｃ＝Ｎ−）である前記
化５の化合物と、多糖化合物の水酸基が反応して形成さ
れるカルバモイル基（−ＣＯＮＨ−）が好ましい。な
お、この場合の多糖化合物の糖残基はイソシアネート基
と反応している水酸基の水素原子を除いた多糖化合物の
残り部分を意味する。また、その他の反応の場合にも、
多糖化合物の糖残基とはこれに準ずるものを意味する。

【００１１】Ｙで示される２価の脂肪族基としては、ア
ルキレン基、主鎖中に酸素原子、窒素原子、硫黄原子等
を有するアルキレン基、主鎖中にフェニレン基等のアリ
ーレン基を有するアルキレン基、主鎖中にカルボニルオ
キシ基又はオキシカルボニル基を有するアルキレン基を
挙げることができる。これらの２価脂肪族基はヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アルキル基等の置換基を有するこ
とができ、また、脂肪族基の末端原子が酸素原子、窒素
原子、硫黄原子等のヘテロ原子であってもよい。Ｙを例
示すると、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ
₂）₄−、−（ＣＨ₂）₆−、−（ＣＨ₂）₈−、−［ＣＨ₂
ＣＨ（ＣＨ₃）］−、−（ＣＨ₂）₂Ｏ（ＣＨ₂）₃−、−
ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−等が挙げられるが、好まし
くは−（ＣＨ₂）₃−で示されるプロピレン基である。

【００１２】前記化３において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、
Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷に見られる炭素数１〜８の１価有機基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベ
ンジル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基等のア
ルケニル基、3,3,3-トルフロロプロピル基等のフッ化ア
ルキル基等を例示することができる。

【００１３】また、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ−ＯＳｉ
Ｒ⁵Ｒ⁶Ｒ⁷で示されるシロキシ基であってもよい。この
ようなシロキシ基としては、トリメチルシロキシ基、エ
チルジメチルシロキシ基、フェニルジメチルシロキシ
基、ビニルジメチルシロキシ基、3,3,3-トリフルオロプ
ロピルジメチルシロキシ基等が例示される。なお、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は同一又は異なっ
ていても良いが、本発明のシリコーン化多糖化合物にお
いては、ａ＝０で、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴がメチル基であるこ
とが特に好ましい。本発明において用いるシリコーン化
多糖化合物として、特に好ましいものは下記化６で示さ
れるシリコーン化プルランである。なお、化６中、ＰＬ
はプルランのグルコース残基を表す。

【００１４】

【化６】なお、本発明のシリコーン化多糖化合物において、多糖
化合物の反応性官能基に対するシリコーン化合物の結合
割合は、必ずしも１００％である必要はないが、多糖化
合物に対するシリコーン化合物の結合割合が低すぎると
本発明の効果が十分に発揮されない。また、シリコーン
化多糖化合物を化粧料に配合する際に下記化７又は化８
で示される低分子量シリコーン油、又は軽質イソパラフ
ィンに溶解して用いると、化粧料への配合のしやすさが
高まるとともに、これら油分が揮発後はシリコーン化多
糖化合物の被膜が強固に形成されるため、耐水性、耐油
性等をより高めることができ、また、使用感も向上する
ので好ましい。従って、本発明の化粧料において用いる
シリコーン化多糖化合物は、少なくとも化７又は化８の
低分子量シリコーン油、又は軽質イソパラフィンに溶解
する程度にシリコーン化合物が結合していることが望ま
しい。具体的には、その種類によって異なるが、通常、
多糖化合物の構成糖１単位当たりのシリコーン化合物の
平均結合数（置換度）が０．５〜２．５であることが好
適である。なお、本発明において置換度は化合物中のＳ
ｉ含有量（重量％）から換算したものである。

【００１５】

【化７】（化７中、ｍは０〜５の整数を示す。）

【化８】（化８中、ｎは３〜７の整数を示す。）本発明の化粧料中、シリコーン化多糖化合物の配合量は
化粧料の形態によって異なるが、通常０．１〜５０重量
％、好ましくは１〜２０重量％、特に好ましくは３〜１
０重量％である。シリコーン化多糖化合物の配合量が少
なすぎると本発明の効果が得られず、多すぎる場合には
べたつきを生じたり、使用感が重くなることがある。

【００１６】本発明のもう一つの必須成分である有機紫
外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤の１種又は２
種以上を用いることができる。代表的な有機紫外線吸収
剤を以下に記述する。

【００１７】安息香酸系；パラアミノ安息香酸（以下Ｐ
ＡＢＡと略す）、グリセリルＰＡＢＡ、エチルジヒドロ
キシプロピルＰＡＢＡ、N-エトキシレートＰＡＢＡエチ
ルエステル、N-ジメチルＰＡＢＡエチルエステル、N-ジ
メチルＰＡＢＡブチルエステル、N-ジメチルＰＡＢＡア
ミノエステル、オクチルジメチルＰＡＢＡ等。アントラニリック酸系；ホモメンチル-N-アセチルアン
トラニレート等。サリチル酸系；アミノサリシレート、メンチルサリシレ
ート、ホモメンチルサリシレート、オクチルサリシレー
ト、フェニルサリシレート、ベンジルサリシレート、p-
イソプロパノールフェニルサリシレート等。

【００１８】桂皮酸系；オクチルシンナメート、エチル
−４−イソプロピルシンナメート、エチル−２，４−ジ
イソプロピルシンナメート、メチル−２，４−ジイソプ
ロピルシンナメート、プロピル−ｐ−メトキシシンナメ
ート、イソプロピル−ｐ−メトキシシンナメート、イソ
アミル−ｐ−メトキシシンナメート、２−エチルヘキシ
ル−ｐ−メトキシシンナメート、２−エトキシエチル−
ｐ−メトキシシンナメート、シクロヘキシル−ｐ−メト
キシシンナメート、エチル−α−シアノ−β−フェニル
シンナメート、２−エチルヘキシル−α−シアノ−β−
フェニルシンナメート、グリセリルモノ−２−エチルヘ
キシルジパラメトキシシンナメート、トリメトキシ桂皮
酸メチルビス（トリメチルシロキシ）シリルイソペンチ
ル等。

【００１９】ベンゾフェノン系；２，４−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−
テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシ−４’−メチルベンゾフェノン、４−フェニルベン
ゾフェノン、２−エチルヘキシル−４’−フェニルベン
ゾフェノン−２−カルボキシレート、２−ヒドロキシ−
４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシ−
３−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
［（２−グルコキシ−２−メチル）エトキシ］ベンゾフ
ェノン等。

【００２０】その他の紫外線吸収剤；３−（４’−メチ
ルベンジリデン）−ｄ，ｌ−カンファー、３−ベンジリ
デン−ｄ，ｌ−カンファー、ウロカニン酸、ウロカニン
酸エチルエステル、２−フェニル−５−メチルベンゾキ
サゾール、２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル
ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５−ｔ
−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、ジベンザラ
ジン、ジアニソイルメタン、４−メトキシ−４’−ｔ−
ブチルジベンゾイルメタン、５−（３，３−ジメチル−
２−ノルボニリデン）−３−ペンタン−２−オン、２，
４，６−トリアニリノ−ｐ−（カルボ−２’−エチル−
ヘキシルオキシ）−１，３，５−トリアジン等。

【００２１】紫外線吸収剤の配合量及び組み合わせは求
める紫外線防止効果に応じて決定されるが、通常０．０
５重量％以上である。上限は皮膚に対する安全性の面か
ら個々に異なるが、例えばホモメンチルサリシレートで
は１５重量％、オクチルジメチルＰＡＢＡでは８重量
％、２，２−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ンでは３重量％、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシ
ンナメートでは１５重量％である。

【００２２】本発明の日焼け止め化粧料は、上記有機紫
外線吸収剤とともにシリコーン化多糖化合物を併用する
ことにより、有機紫外線吸収剤の吸収能が向上する。そ
の作用機作は明らかではないが、シリコーン化多糖化合
物とともに有機紫外線吸収剤を溶解して用いると、皮膚
に塗布した際に有機紫外線吸収剤がシリコーン化多糖化
合物によって皮膚上に強固に固定化されるためと考えら
れる。従って、本発明によれば有機紫外線吸収剤を増量
せずとも紫外線吸収効果の高い日焼け止め化粧料を得る
ことができ、皮膚刺激性の低減が可能である。

【００２３】また、本発明に用いるシリコーン化多糖化
合物は、皮膚等に塗布すると耐水性、耐油性に優れる強
固な皮膜を形成し、有機紫外線吸収剤はこの皮膜中に良
好に保持される。よって、有機紫外線吸収剤やその他の
化粧料成分が水や汗で流れにくくその効果が持続して発
揮される。また、本発明にかかる日焼け止め化粧料は使
用感においてもべたつきがなく、さっぱりとして良好で
ある。さらに、本発明にかかるシリコーン化多糖化合物
は多糖化合物と低分子シロキサンを基体としているの
で、生分解性に優れ、生体に対する安全性も高い。

【００２４】本発明の日焼け止め化粧料には上記の必須
成分の他に、通常化粧料に用いられる成分を本発明の効
果を損なわない範囲で配合することができる。例えば、
油分としては、スクワラン、流動パラフィン、ワセリ
ン、マイクロクリスタリンワックス、オゾケライト、セ
レシン等の各種炭化水素油、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、オレイン酸、イソステアリン酸、ベ
ヘン酸等の高級脂肪酸、セチルアルコール、ステアリル
アルコール、オレイルアルコール、バチルアルコール等
の高級アルコール、セチル−２−エチルヘキサノエー
ト、２−エチルヘキシルパルミテート、２−オクチルド
デシルミリステート、ネオペンチルグリコール−２−エ
チルヘキサノエート、トリオクタン酸グリセリド、２−
オクチルドデシルオレート、イソプロピルミリステー
ト、ミリスチルミリステート、トリイソステアリン酸グ
リセリド、トリオレイン酸グリセリド、トリヤシ油脂肪
酸グリセリド等のエステル類、オリーブ油、アボガド
油、ホホバ油、ヒマワリ油、サフラワー油、椿油、シア
脂、マカデミアナッツ油、ミンク油、ラノリン、酢酸ラ
ノリン、液状ラノリン、ヒマシ油等の油脂、モクロウ等
のロウ類、ジメチルポリシロキサン、環状ジメチルポリ
シロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエー
テル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、アルキル
変性シリコーン、フッ素変性シリコーン等のシリコーン
油、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロカーボン
等のフッ素系油分、トリメチルシロキシケイ酸、ＭＤＱ
レジン等のシリコーンレジン、高分子シリコーンゴム、
アクリル変性シリコーン共重合体等の高分子類等であ
る。

【００２５】その他、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、１，３−ブチレングリコール、グリセリ
ン、ヘキサメチレングリコール、イソプレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ジグリセリン、ポリグリセリ
ン、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キチン、キト
サン等の保湿剤、界面活性剤、酸化防止剤、防腐剤、増
粘剤、香料の他、ビタミン、ホルモン、美白剤、消炎剤
等の薬剤等が挙げられる。

【００２６】また、粉末成分としては例えば、タルク、
カオリン、雲母、絹雲母（セリサイト）、白雲母、金雲
母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、バーミキ
ュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸
アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケ
イ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステ
ン酸金属塩、マグネシウム、シリカ、ゼオライト、硫酸
バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、リン酸
カルシウム、フッ素アパタイト、ヒドロキシアパタイ
ト、セラミックパウダー、金属石鹸（ミリスチン酸亜
鉛、パルミチン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウ
ムなど）、窒化ホウ素等の無機粉末；二酸化チタン、酸
化亜鉛等の無機白色系顔料；酸化鉄（ベンガラ）、チタ
ン酸鉄等の無機赤色系顔料；γ−酸化鉄等の無機褐色系
顔料；黄酸化鉄、黄土等の無機黄色系顔料；黒酸化鉄、
カーボンブラック、低次酸化チタン等の無機黒色系顔
料；マンゴバイオレット、バルトバイオレット等の無機
紫色系顔料；酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバ
ルト等の無機緑色系顔料；群青、紺青等の無機青色系顔
料；酸化チタンコーテッドマイカ、酸化チタンコーテッ
ドオキシ塩化ビスマス、酸化チタンコーテッドタルク、
着色酸化チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマ
ス、魚鱗箔等の無機パール顔料；アルミニウムパウダ
ー、カッパーパウダー等の金属粉末顔料；赤色２０１
号、赤色２０２号、赤色２０４号、赤色２０５号、赤色
２２０号、赤色２２６号、赤色２２８号、赤色４０５
号、橙色２０３号、橙色２０４号、黄色２０５号、黄色
４０１号、青色４０４号等の有機顔料；赤色３号、赤色
１０４号、赤色１０６号、赤色２２７号、赤色２３０
号、赤色４０１号、赤色５０５号、橙色２０５号、黄色
４号、黄色５号、黄色２０２号、黄色２０３号、緑色３
号、青色１号等のジルコニウムレーキ、バリウムレー
キ、アルミニウムレーキ等の有機レーキ顔料；クロロフ
ィル、β−カロチン等の天然色素等が挙げられる。

【００２７】また、本発明においては通常化粧料に配合
される無機紫外線防御剤を配合することも可能である。
代表的な無機紫外線防御剤としては、酸化チタン、微粒
子酸化チタン、酸化亜鉛、微粒子酸化亜鉛、酸化鉄、微
粒子酸化鉄等が挙げられる。また、ポリビニルピロリド
ン、ＰＶＰ−ＶＡ、ビニルメチルエーテル−無水マレイ
ン酸共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸重合体、ビニル
ピロリドン−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリル
酸共重合体ジエチル硫酸塩、Ｎ−メタクロイルオキシエ
チル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウム−Ｎ−α−メチル
カルボキシベタイン−メタクリル酸アルキル共重合体、
ビニルピロリドン−アクリル酸ステアリル−ステアロイ
ルオキシエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン共重合体等の
セット剤ポリマーを配合することも可能である。

【００２８】本発明の日焼け止め化粧料としては油性ベ
ースの他に、精製水及び水溶性成分ならびに適切な界面
活性剤を配合して乳化技術を駆使することによって、本
発明の効果を失わない範囲で油中水型あるいは水中油型
の乳化組成物とすることも可能である。具体的には、サ
ンスクリーンオイル、乳液、クリーム等の他、ファンデ
ーション、口紅、頬紅等のメークアップ化粧料、ヘアク
リーム、ディップ、ヘアスプレー等の毛髪化粧料が挙げ
られる。また、剤型としては種々の形態とすることがで
き、例えば、液状、クリーム状、ゲル状、固形状、粉末
状、スティック状、スプレー、ムース、エアゾール、ロ
ールオンタイプ等とすることが可能である。以下具体例
を挙げて本発明を説明する。なお、配合量は特に指定の
無い限り全て重量％で示す。

【００２９】製造例１分子量約２０万のプルラン（商品名プルランＰＦ２０、
林原商事（株）製）１０ｇをＮ−メチルピロリドン３０
０ｍｌに溶解し、触媒としてトリエチルアミン１ｇを加
え、トリストリメチルシロキシシリルプロピルイソシア
ネート７０ｇを滴下し、１００℃で２時間反応させた。
反応液を水に注ぎ、生じた析出物をメタノールで洗浄
し、乾燥して前記一般式化６で示されるトリストリメチ
ルシロキシシリルプロピルカルバミド酸プルラン５８ｇ
を得た。なお、この生成物の単位グルコース当たりのシ
リコーン化合物の置換度は１．７であった。

【００３０】製造例２分子量約５万のエチルセルロース（商品名エチルセルロ
ースＮ−７、ハーキュレス社製）１０ｇをジメチルホ
ルムアミド１，０００ｍｌに溶解し、触媒としてトリエ
チルアミン５ｇを加え、トリストリメチルシロキシシリ
ルプロピルグリシジルエーテル５０ｇを滴下した。１１
０℃で８時間反応させた後、反応液を水に注ぎ、生じた
析出物を水及びメタノールで洗浄し、乾燥して下記一般
式化９で示されるシリコーン化エチルセルロース１８ｇ
を得た。なお、生成物の単位グルコース当たりのシリコ
ーン化合物の置換度は０．６であった。

【化９】（化９中、ＥＣはエチルセルロースのグルコース残基を
表す。）

【００３１】試験例１紫外線吸収能向上効果下記の表１及び表２の処方で日焼け止め化粧料を調製
し、動物を用いたＳＰＦ測定法にて紫外線防止効果を評
価した。方法は、背部毛を脱毛クリームにて除去したモ
ルモットに、試料を２μｌ／ｃｍ²になるように塗布し
た。１５分後に東芝ＦＬ−ＳＥランプ１２灯で紫外線を
２４時間照射した。試料塗布部及び無塗布部の紅斑を観
察し、かすかな紅斑を起こすのに要した最小の紫外線量
を求め、次式に従ってＳＰＦ（Sun Protection Facto
r）の値を計算により求めた。ＳＰＦ＝（試料塗布部皮膚に紅斑を起こすのに要した最
少紫外線量）／（無塗布部皮膚に紅斑を起こすのに要し
た最少紫外線量）

【００３２】

【表１】サンスクリーンオイル ──────────────────────────────────── 成分試験例1-1 試験例1-2 試験例1-3 ──────────────────────────────────── (1)シ゛メチルホ゜リシロキサン(1CS/25℃) ３３．０３３．０３３．０ (2)シ゛メチルホ゜リシロキサン(2CS/25℃) ２３．０２３．０２３．０ (3)シリコーン化多糖化合物(製造例1) ３０．０ − ３４．０ (4)シ゛メチルホ゜リシロキサン(100CS/25℃) − ３０．０ − (5)ク゛リセリルトリ-2-エチルヘキサノエート１０．０１０．０１０．０ (6)2-エチルヘキシル-p-メトキシシンナメート４．０４．０ − (7)香料適量適量適量 ──────────────────────────────────── ＳＰＦ６．４４．１１．０ ──────────────────────────────────── （製法）８０℃で（６）を（５）に溶解して冷却したも
のに、（１）〜（４）及び（７）を撹拌溶解した溶液を
混合し、容器に充填して目的とするサンスクリーンオイ
ルを得た。

【００３３】

【表２】日焼け止め乳液 ──────────────────────────────────── 成分試験例1-4 試験例1-5 ──────────────────────────────────── (1)テ゛カメチルシクロヘ゜ンタシロキサン１３．０１３．０ (2)シリコーン化多糖化合物(製造例2) １０．０ − (3)シ゛メチルホ゜リシロキサン(100CS/25℃) − １０．０ (4)メチルフェニルホ゜リシロキサン(15CS/25℃) ４．０４．０ (5)コハク酸シ゛-2-エチルヘキシル３．０３．０ (6)ホ゜リオキシエチレン変性メチルホ゜リシロキサン３．０３．０ (EO70重量%、粘度150CS/25℃) (7)イオン交換水４７．０４７．０ (8)グリセリン３．０３．０ (9)トリメトキシ桂皮酸メチルヒ゛ス(トリメチルシロキシ) シリルイソヘ゜ンチル１５．０１５．０ (10)4-メトキシ-4'-t-フ゛チルシ゛ヘ゛ンソ゛イルメタン２．０２．０ (11)防腐剤適量適量 (12)酸化防止剤適量適量 (13)香料適量適量 ──────────────────────────────────── ＳＰＦ２５．３１２．４ ──────────────────────────────────── （製法）（１）〜（６）、（９）、（１０）、（１２）
及び（１３）を７０℃で撹拌溶解する。これに、予め７
０℃で溶解した（７）、（８）、（１１）を添加し、乳
化分散後冷却して、目的とする日焼け止め乳液を得た。

【００３４】上記表１及び表２から解るように、紫外線
吸収剤の配合量が同じであるにも関わらず、シリコーン
化多糖化合物を配合した場合（試験例１−１、試験例１
−４）には、配合しなかった場合（試験例１−２、試験
例１−５）に比してＳＰＦ値が非常に高くなった。ま
た、シリコーン化多糖化合物単独（試験例１−３）では
紫外線防止効果は全く発揮されない。以上のことから、
シリコーン化多糖化合物を有機紫外線防御剤と併用する
と、特異的に有機紫外線吸収剤の吸収能が向上すること
が理解される。従って、本発明によれば少ない紫外線吸
収剤配合量で高い紫外線防止効果を得ることができ、日
焼け止め化粧料の皮膚刺激性を低減することが可能であ
る。

【００３５】試験例２耐水性試験前記試験例１−１〜１−２及び試験例１−４〜１−５を
用いて耐水性試験を行った。すなわち、腕に試料を塗布
した直後と、一定量の流水で水洗した後の皮膚上の紫外
線吸収剤量を、エタノールによる抽出で定量し、紫外線
吸収剤の残存率（％）を次式によって算出した。紫外線吸収剤残存率（％）＝（水洗後の皮膚上の紫外線
吸収剤量）／（水洗前の皮膚上の紫外線吸収剤量）×１
００結果を表３に示す。

【表３】 ─────────────────────── 試料紫外線吸収剤残存率（％） ─────────────────────── 試験例１−１９０試験例１−２２０ ─────────────────────── 試験例１−４６０試験例１−５４０ ───────────────────────

【００３６】上記表３から明らかなように、シリコーン
化多糖化合物を配合した場合（試験例１−１及び試験例
１−３）にはシリコーン化多糖化合物を配合しなかった
場合（試験例１−２及び試験例１−５）に比して耐水性
に優れ、水洗後の紫外線吸収剤残存率が高い。よって、
本発明の日焼け止め化粧料はその紫外線防御能を持続し
て発揮することができる。

【００３７】

【実施例】以下、本発明の実施例を挙げるが、本発明は
これらに限定されるものではない。

【００３８】実施例１化粧下地乳液 (1)ジメチルポリシロキサン（２ＣＳ／２５℃）１４．０重量％ (2)シリコーン化多糖化合物（製造例１）５．０ (3)アイソゾール（登録商標）４００５．０ (4)グリセリルトリ−２−エチルヘキサノエート１０．０ (5)ソルビタンセスキオレエート１．０ (6)ポリオキシエチレン変性メチルポリシロキサン３．０（ＥＯ５０重量％、粘度１００ＣＳ／２５℃） (7)イオン交換水４５．０ (8)1,3-ブチレングリコール５．０ (9)微粒子酸化チタン１０．０ (10)２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン２．０ (11)防腐剤適量 (12)酸化防止剤適量 (13)香料適量（製法）（１）〜（６）及び（１０）、（１２）、（１
３）を７０℃で撹拌溶解し、これに（９）を分散した。
これに、予め７０℃で溶解した（７）、（８）、（１
２）を添加し、乳化分散後冷却して、目的とする化粧下
地乳液を得た。

【００３９】実施例２サンスクリーンエアゾール (1)グリセリルモノ−２−エチルヘキシルパラメトキシシンナメート３．０重量％ (2)シリコーン化多糖化合物（製造例２）２０．０ (3)ミリスチン酸イソプロピル１０．０ (4)揮発性イソパラフィン１５．０ (5)香料適量 (6)ＬＰＧ５２．０（製法）（１）〜（５）を７０℃で撹拌溶解し、エアゾ
ール缶に充填後、バルブをクリンプし、（６）を充填し
て目的とするサンスクリーンエアゾールを得た。

【００４０】実施例３日焼け止め化粧料 (1)デカメチルシクロペンタシロキサン６８．０重量％ (2)シリコーンレジン５．０ (3)メチルフェニルポリシロキサン（２０ｃｓ／２５℃）１０．０ (4)ｐ−メトキシ桂皮酸−２−エチルヘキシル５．０ (5)４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン２．０ (6)シリコーン化多糖化合物１０．０（分子量約１０万のプルランを用い、前記製造例１と同様に製造したもの）（製法）（１）〜（６）を撹拌溶解して、目的とする日
焼け止めローションを得た。

【００４１】実施例４日焼け止めローション (1)ジメチルポリシロキサン（６ＣＳ／２５℃）５．０重量％ (2)フッ素変性メチルフェニルポリシロキサン３．０ (3)シリコーン化多糖化合物（製造例１）３．０ (4)ジメチルポリシロキサン（１．５ＣＳ／２５℃）１３．０ (5)ステアリン酸１．０ (6)２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン３．０ (7)香料０．２ (8)防腐剤０．２ (9)グリセリン５．０ (10)モンモリロナイト０．５ (11)水酸化カリウム０．２ (12)精製水６５．９（製法）（１）〜（７）を混合し、加熱溶解して７０℃
に保ち、油相部とする。別に、（８）〜（１２）を加熱
溶解して７０℃に保ち、水相部とする。この水相部に油
相部を添加して乳化機により十分に乳化する。乳化後、
かき混ぜながら冷却して、目的とする日焼け止めローシ
ョンを得た。

【００４２】上記実施例１〜４は何れも、シリコーン化
多糖化合物を配合しなかった場合に比して紫外線吸収能
が向上し、且つ耐水性にも優れ、その効果が持続して発
揮される日焼け止め化粧料であった。また、その使用感
もさっぱりしてべたつきがなく、良好であった。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば特
定のシリコーン化多糖化合物を有機紫外線吸収剤と併用
することにより、紫外線吸収剤を増量しなくても紫外線
吸収効果が向上する。また、耐水性にも優れるのでその
効果が持続して発揮される優れた日焼け止め化粧料を得
ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式化１の構造を有するシリコー
ン化多糖化合物と、有機紫外線吸収剤を配合したことを
特徴とする日焼け止め化粧料。【化１】（化１中、Ｇｌｕは多糖化合物の糖残基、Ｘは２価の結
合基、Ｙは２価脂肪族基を意味し、Ｒ¹は炭素数１〜８
の１価有機基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ炭素数１〜８
の１価有機基又は−ＯＳｉＲ⁵Ｒ⁶Ｒ⁷で示されるシロキ
シ基を意味する。ただし、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ炭
素数１〜８の１価有機基、ａは０、１又は２を意味す
る。）
【請求項２】請求項１記載の化粧料において、シリコ
ーン化多糖化合物が下記一般式化２で示されることを特
徴とする日焼け止め化粧料。【化２】（化２中、Ｇｌｕ、Ｙ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びａは前
記化１と同じである。）
【請求項３】請求項１又は２記載の化粧料において、
Ｇｌｕがプルランのグルコース残基であることを特徴と
する日焼け止め化粧料。
【請求項４】請求項１〜３の何れかに記載の化粧料に
おいて、ａ＝０で、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がメチル基である
ことを特徴とする日焼け止め化粧料。
【請求項５】請求項１〜４の何れかに記載の化粧料に
おいて、Ｙが−（ＣＨ₂）₃−で示される基であることを
特徴とする日焼け止め化粧料。