JPH10306101A

JPH10306101A - 変性セルロース化合物およびこれを含有する光重合性樹脂組成物

Info

Publication number: JPH10306101A
Application number: JP9132916A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Obitani; 洋之帯谷; Shunji Nakazato; 俊二中里; Kimitoku Oshio; 公徳押尾
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 1997-05-07
Filing date: 1997-05-07
Publication date: 1998-11-17

Abstract

(57)【要約】【課題】基板との密着性に優れ、柔軟性が高く、剥離
液に対する剥離性も良好で、焼成した場合であっても分
解、揮散しやすい性質を有し、紫外線硬化型塗料、プラ
ズマディスプレイパネルのプライミングリブ、導電性パ
ターンの形成等に好適な変性セルロースおよびこれを用
いた光重合性樹脂組成物を提供する。【解決手段】セルロースまたはセルロース誘導体のヒ
ドロキシル基の１〜５０％を、ウレタン（メタ）アクリ
レート基により置換して変性セルロースとする。該変性
セルロースと光重合開始剤、さらにはエチレン性化合
物、無機または金属粉末を含有させて光重合性樹脂組成
物とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は変性セルロース化合
物およびこれを含有する光重合性樹脂組成物に関し、特
に、光硬化性を有し、基板との密着性に優れ、柔軟性が
高く、剥離液に対する剥離性も良好であり、焼成した場
合であっても分解、揮散しやすい性質を有する変性セル
ロース化合物およびこれを含有する光重合性樹脂組成物
に関する。本発明の変性セルロース化合物は、紫外線硬
化型塗料、感光性スクリーン印刷版、リフトオフ用レジ
ストや、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）のプラ
イミングリブ、抵抗パターン、導電性パターンの形成等
に使用される光重合性樹脂組成物に適用可能である。

【０００２】

【従来の技術】従来よりメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒ
ドロキシメチルプロピルセルロース、カルボキシメチル
セルロース等で代表されるセルロース誘導体は、エマル
ジョン系塗料、紙塗工剤、各種接着剤、紫外線硬化型塗
料、感光性スクリーン印刷用レジスト、リフトオフ用レ
ジストや、ペースト組成物等に広く使用されているが、
これにはいくつかの未解決の問題がある。

【０００３】例えば、エマルジョン系塗料、紙塗工剤、
各種接着剤、紫外線硬化型塗料、感光性スクリーン印刷
用レジスト、リフトオフ用レジスト、ペースト組成物等
にセルロース誘導体を用いると、塗布後、乾燥して得ら
れる被膜は耐水性に乏しくなる。また、これらの用途で
は基板との密着性に乏しく、被膜を形成した後に剥がれ
や欠けを生ずることがあった。

【０００４】これらの問題点を解決するための手段とし
て、所定の置換基の単位グルコース環あたりの平均置換
度が特定の値にあるセルロース誘導体の残存ヒドロキシ
ル基の水素原子をＮ−メチレンアクリルアミド基で置換
した化合物が知られている（特開平２−２９８５０１号
公報）が、基板との密着性や柔軟性、剥離液に対する剥
離性、焼成した場合の分解、揮散性などについて、さら
に向上した材料が望まれていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたもので、その目的は、基板との密着性に優
れ、柔軟性が高く、剥離液に対する剥離性も良好であ
り、焼成した場合であっても分解、揮散しやすい性質を
有し、紫外線硬化型塗料、感光性スクリーン印刷版、リ
フトオフ用レジストや、プラズマディスプレイパネルの
プライミングリブ、抵抗パターン、導電性パターンの形
成等に使用される光重合性樹脂組成物に適用可能な変性
セルロース化合物およびこれを含有する光重合性樹脂組
成物を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、セルロースまたは
セルロース誘導体のヒドロキシル基が特定の反応率でウ
レタン（メタ）アクリル酸エステル基により置換された
変性セルロース化合物を光重合性樹脂組成物に用いるこ
とにより上記問題点を解決し得ることを見出し、本発明
を完成するに至った。

【０００７】すなわち本発明は、セルロースまたはセル
ロース誘導体のヒドロキシル基の１〜５０％が、ウレタ
ン（メタ）アクリレート基により置換されてなる、変性
セルロース化合物に関する。

【０００８】また本発明は、（ａ）上記変性セルロース
化合物と、（ｂ）光重合開始剤を含有してなる光重合性
樹脂組成物に関する。

【０００９】上記光重合性樹脂組成物は、さらに（ｃ）
エチレン性化合物を含有するのが好ましい。

【００１０】上記光重合性樹脂組成物は、さらに（ｄ）
無機および／または金属粉末を含有するのが好ましい。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明について説明する。

【００１２】本発明に用いられる（ａ）成分としての変
性セルロース化合物は、セルロースまたはセルロース誘
導体のヒドロキシル基の１〜５０％が、ウレタン（メ
タ）アクリレート基により置換されている。このような
置換は、例えばセルロースまたはセルロース誘導体のヒ
ドロキシル基の１〜５０％とヒドロキシル基を有する
（メタ）アクリレート化合物とをジイソシアネート化合
物を介して結合させることによって行われる。

【００１３】上記ヒドロキシル基のウレタン（メタ）ア
クリレート基の置換の好ましい具体的態様としては、
（Ｉ）ジイソシアネート化合物と、ヒドロキシル基を有
する（メタ）アクリレート化合物とを、一方のイソシア
ネート基のみがウレタン化するように反応させる工程、
および（ＩＩ）ジイソシアネート化合物の他方のイソシ
アネート基とセルロースまたはセルロース誘導体中のヒ
ドロキシル基とを、該ヒドロキシル基の反応率１〜５０
％の範囲で反応させる工程、とによって行うことが挙げ
られる。なお上記において、（Ｉ）工程の後に（ＩＩ）
工程を行ってもよく、あるいは（ＩＩ）工程の後に
（Ｉ）工程を行ってもよい。

【００１４】より具体的には、ジイソシアネート化合物
と、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化合
物とを、一方のイソシアネート基のみがウレタン化する
ように反応させた後、該反応物の他方の残存イソシアネ
ート基とセルロースまたはセルロース誘導体中のヒドロ
キシル基とを、該ヒドロキシル基の反応率１〜５０％の
範囲で反応させることによって得ることができる。

【００１５】ジイソシアネート化合物の一方のイソシア
ネート基を、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレー
ト化合物で反応させてウレタン化させる方法としては、
有機金属触媒（例えば、有機スズ化合物、等）、有機ア
ミン触媒等の触媒の存在下に、ジイソシアネート化合物
およびヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化
合物を反応容器中に入れ、温度６０〜９０℃、反応時間
２〜２４時間で行う方法等が挙げられる。

【００１６】また、このウレタン化された反応物の他方
の残存イソシアネート基と上記セルロースまたはセルロ
ース誘導体のヒドロキシル基とを反応させる方法として
は、上記と同様に有機金属触媒（例えば、有機スズ化合
物、等）、有機アミン触媒等の触媒の存在下に、上記ウ
レタン化された反応物と、セルロースまたはセルロース
誘導体を反応容器中に入れ、温度６０〜９０℃、反応時
間２〜２４時間で合成する方法等が挙げられる。

【００１７】ここで、ヒドロキシル基を有する（メタ）
アクリレート化合物としては、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２
−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルメタクリレート、
２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルアクリレート、
２−ヒドロキシシクロヘキシルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシシクロヘキシルアクリレート、（１−ヒドロキ
シシクロヘキシル）メチルメタクリレート、（１−ヒド
ロキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、２−（２
−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエトキシ）−１，１−
ジメチルエチルメタクリレート、２−（２−ヒドロキシ
−１，１−ジメチルエトキシ）−１，１−ジメチルエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル
メタクリレート、２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプ
ロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキ
シ）プロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−
（２−プロペニルオキシ）プロピルアクリレート、２−
ヒドロキシ−３−プロポキシプロピルメタクリレート、
２−ヒドロキシ−３−プロポキシプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシ−２−メトキシプロピルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシ−２−メトキシプロピルアクリレ
ート、３−ヒドロキシ−２−（メトキシメチル）−４−
ペンテニルメタクリレート、３−ヒドロキシ−２−（メ
トキシメチル）−４−ペンテニルアクリレート等を挙げ
ることができる。中でも２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート等が好ましく用いられる。

【００１８】ジイソシアネート化合物としては、イソシ
アネート基（−ＮＣＯ）を２個持つものであれば、芳香
族ジイソシアネート化合物、環式脂肪族ジイソシアネー
ト化合物等、任意に用いられ得る。具体的には、例えば
シクロヘキサン−１，２−ジイソシアネート、シクロヘ
キサン−１，３−ジイソシアネート、１−メチルシクロ
ヘキサン−２，４−ジイソシアネート、１−エチルシク
ロヘキサン−２，４−ジイソシアネート、４，５−ジメ
チルシクロヘキサン−１，３−ジイソシアネート、１，
２−ジメチルシクロヘキサン−ω，ω’−イソホロンジ
イソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−
ジイソシアネート、２，２’−ジメチルジシクロヘキシ
ルメタン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’−ジ
メチルジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシア
ネート、３，３’−５，５’テトラメチルジシクロヘキ
シルメタン−４，４’−ジイソシアネート、２−（γ−
イソシアナートプロピル）シクロヘキシルイソシアネー
ト、５−ジメチル−１，３−シクロヘキシレンジイソシ
アネート、１，３−ジフェニルプロパン−１，３−ジイ
ソシアネート、１，４−ジメチルナフタリン−ω，ω’
−ジイソシアネート、１，５−ジメチルナフタリン−
ω，ω’−ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−
４，４’−ビスメチルイソシアネート、４，４’−ｎ−
プロピルビフェニル−ω，ω’−ジイソシアネート、ビ
ス（２−イソシアネートエチル）テレフタレート、ビス
（２−イソシアネートエチル）イソフタレート、４−フ
ェニルイソシアネート−メチルイソシアネート、４−フ
ェニルイソシアネート−β−エチルイソシアネート、４
−フェニルイソシアネート−α−エチルイソシアネー
ト、４−フェニルイソシアネート−γ−プロピルイソシ
アネート、３−フェニルイソシアネート−γ−プロピル
イソシアネート、４−フェニルイソシアネート−γ−ブ
チルイソシアネート、テトラヒドロナフチレン−１，５
−ジイソシアネート、ヘキサヒドロベンジジン−４，
４’−ジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシ
アネート、１−メチル−２，４−フェニレンジイソシア
ネート、１−メチル−２，６−フェニレンジイソシアネ
ート、１−メチル−３，５−フェニレンジイソシアネー
ト、１−エチル−２，４−フェニレンジイソシアネー
ト、１−イソプロピル−２，４−フェニレンジイソシア
ネート、１，３−ジメチル−２，４−フェニレンジイソ
シアネート、１，３−ジメチル−２，６−フェニレンジ
イソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネー
ト、ｍ−フェニレンビス（イソプロピルイソシアネー
ト）等が挙げられる。特に、互いに反応性の異なるイソ
シアネート基を有するものは、一方のイソシアネート基
のみをヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化
合物と選択的に反応させてウレタン化することが容易で
あり、好適である。

【００１９】本発明では、セルロースまたはセルロース
誘導体中のヒドロキシル基の反応率は１〜５０％の範囲
であり、好ましくは５〜４０％である。ヒドロキシル基
の反応率が１％未満では被処理体への密着性が低下し、
一方、５０％超では剥離性が低下し、好ましくない。

【００２０】なお、上記ヒドロキシル基は変性されたヒ
ドロキシル基も含む。すなわち、例えば、セルロース誘
導体において、セルロースのヒドロキシル基がエーテル
化されている場合も含む。

【００２１】このように、セルロース骨格を主鎖にも
ち、側鎖に特定のウレタン（メタ）アクリル酸エステル
基を所定の割合で導入させることにより、弾性、柔軟性
を高めることができ、被処理体への密着性が良好で、焼
成した場合にあっても分解、揮散しやすい性質を有し、
剥離性に優れることから、本発明の変性セルロース化合
物は、紫外線硬化型塗料、感光性スクリーン印刷版、リ
フトオフ用レジストや、ＰＤＰのプライミングリブ、抵
抗パターン、導電性パターンの形成等に適用される光重
合性樹脂組成物に好適に用いられる。

【００２２】変性セルロース化合物の前駆体としてのセ
ルロースまたはセルロース誘導体としては、セルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセル
ロース、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセ
ルロース、カルボキシメチルエチルセルロース、酢酸フ
タル酸セルロース等を挙げることができる。これらの中
から１種または２種以上が用いられる。

【００２３】変性セルロース化合物の重量平均分子量は
８，０００〜５００，０００が好ましく、より好ましく
は１０，０００〜１５０，０００である。分子量が８，
０００未満では塗膜性が低下することがあり、一方、５
００，０００を超えると粘度が高くなり、好ましくな
い。

【００２４】（ｂ）成分としての光重合開始剤として
は、特に限定されるものでなく、例えば、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ
−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−
１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ
プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミ
ノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、１−［４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−プロパン−１−オン、２，４−ジエチルチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチル
チオキサントン、３，３−ジメチル−４−メトキシベン
ゾフェノン、ベンゾフェノン、１−クロロ−４−プロポ
キシチオキサントン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−
２−メチルプロパン−１−オン、４−ベンゾイル−４’
−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息
香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキ
シル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−イソアミル、
２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチル
ケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、
１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エ
トキシカルボニル）オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸
メチル、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、
４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，
４’−ジクロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−
ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、
ベンゾインブチルエーテル、ｐ−ジメチルアミノアセト
フェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェ
ノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、
チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α，α−
ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−
４−ジメチルアミノベンゾエート等が挙げられる。これ
らは１種または２種以上が用いられる。中でも、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キシド、２，４−ジエチルチオキサントン等が好ましく
用いられる。

【００２５】光重合開始剤は、変性セルロース化合物１
００重量部に対し、０．１〜２５重量部の範囲で配合す
るのが好ましい。０．１重量部未満では露光硬化不良を
起こすことがあり、一方、２５重量部を超えると、塗膜
性や露光硬化後の被膜の耐摩耗性や耐薬品性が低下する
ことがあり、好ましくない。

【００２６】本発明では光重合性樹脂組成物の感度や耐
薬品性を向上させるために、上記（ａ）、（ｂ）成分に
加えて、さらに（ｃ）成分としてエチレン性化合物を配
合することができる。このエチレン性化合物は、付加重
合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個含
有する化合物であり、光重合性樹脂組成物がエネルギー
線の照射を受けた場合、光重合開始剤の作用により付加
重合硬化するよう働く。

【００２７】エチレン性化合物としては、例えば、不飽
和カルボン酸、脂肪族（ポリ）ヒドロキシ化合物と不飽
和カルボン酸とのエステル；芳香族（ポリ）ヒドロキシ
化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；不飽和カルボ
ン酸、多価カルボン酸と、前述の脂肪族（ポリ）ヒドロ
キシ化合物、芳香族（ポリ）ヒドロキシ化合物等の多価
ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエ
ステル；不飽和カルボン酸アミド；不飽和カルボン酸ニ
トリル等が挙げられる。

【００２８】具体的には、メチルアクリレート、メチル
メタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、エチレングリコールモノ
メチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノ
メチルエーテルメタクリレート、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルメタクリレート、グリセロールアクリ
レート、グリセロールメタクリレート、アクリル酸アミ
ド、メタクリル酸アミド、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エ
チルヘキシルメタクリレート、ベンジルアクリレート、
ベンジルメタクリレート等の単官能モノマー、エチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチ
レングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリ
レート、プロピレングリコールジアクリレート、プロピ
レングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタ
ントリアクリレート、トリメチロールエタントリメタク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメ
チロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロー
ルプロパンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメ
タクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、カル
ドエポキシジアクリレート、カルドエポキシジメタクリ
レート等の多官能モノマーの他、これら化合物の「〜ア
クリレート」、「〜メタクリレート」を、「〜フマレー
ト」、「〜マレエート」、「〜クロトネート」、「〜イ
タコネート」に代えた、フマル酸エステル、マレイン酸
エステル、クロトン酸エステル、イタコン酸エステル
や、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン
酸、クロトン酸、イタコン酸、ヒドロキノンモノアクリ
レート、ヒドロキノンモノメタクリレート、ヒドロキノ
ンジアクリレート、ヒドロキノンジメタクリレート、レ
ゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレー
ト、ピロガロールジアクリレート、ピロガロールトリア
クリレート、アクリル酸とフタル酸およびジエチレング
リコールとの縮合物、アクリル酸とマレイン酸およびジ
エチレングリコールとの縮合物、メタクリル酸とテレフ
タル酸およびペンタエリスリトールとの縮合物、アクリ
ル酸とアジピン酸およびブタンジオールとグリセリンと
の縮合物、エチレンビスアクリルアミド、エチレンビス
メタクリルアミド、フタル酸ジアリルのアリルエステ
ル、ジビニルフタレート等が例示される。

【００２９】また、側鎖にヒドロキシル基やハロゲン化
アルキル基等の反応活性を有する官能基を有する重合
体、例えばポリビニルアルコール、ポリ（２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート）、ポリエピクロルヒドリン等
と、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン
酸、クロトン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸との
高分子反応により得られる重合体等も好ましく用いられ
る。これらは１種または２種以上が用いられる。

【００３０】上記エチレン性化合物のうち、エチレン性
不飽和二重結合を有する単量体、特にアクリル酸エステ
ルまたはメタクリル酸エステルの単量体が好ましく用い
られる。なお、ここで「単量体」とは、狭義の単量体に
とどまらず、二量体、三量体、オリゴマーも包含するも
のである。

【００３１】エチレン性化合物は、変性セルロース化合
物１００重量部に対し、１５０重量部までの範囲で配合
するのが好ましい。配合量が１５０重量部を超えると塗
膜性が低下することがある。

【００３２】本発明では、上記（ａ）、（ｂ）成分、あ
るいは（ａ）〜（ｃ）成分に加えて、さらに（ｄ）無機
および／または金属粉末を適宜、配合することができ
る。このような無機および／または金属粉末としては、
具体的には、ＰｂＯ−ＳｉＯ₂系、ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−Ｓ
ｉＯ₂系、ＺｎＯ−ＳｉＯ₂系、ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ
₂系、ＢｉＯ−ＳｉＯ₂系、ＢｉＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系
のホウ珪酸鉛ガラス、ホウ珪酸亜鉛ガラス、ホウ珪酸ビ
スマスガラス等のガラス粉末や、酸化コバルト、酸化
鉄、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化銅、酸化マンガ
ン、酸化ネオジウム、酸化バナジウム、酸化セリウムチ
ペークイエロー、酸化カドミウム、アルミナ、シリカ、
マクネシア、スピネルなどＮａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂ
ａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等の各酸化物、ＺｎＯ：Ｚｎ、Ｚ
ｎ₃（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、Ｙ₂ＳｉＯ₅：Ｃｅ、ＣａＷＯ₄：
Ｐｂ、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ、ＺｎＳ：（Ａｇ，Ｃ
ｄ）、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、Ｙ₂ＳｉＯ₅：Ｅｕ、Ｙ₃Ａｌ
₅Ｏ₁₂：Ｅｕ、ＹＢＯ₃：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅ
ｕ、ＧｄＢＯ₃：Ｅｕ、ＳｃＢＯ₃：Ｅｕ、ＬｕＢＯ₃：
Ｅｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＢａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ、Ｓ
ｒＡｌ₁₃Ｏ₁₉：Ｍｎ、ＣａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ、ＹＢ
Ｏ₃：Ｔｂ、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｍｎ、ＬｕＢＯ₃：Ｔ
ｂ、ＧｄＢＯ₃：Ｔｂ、ＳｃＢＯ₃：Ｔｂ、Ｓｒ₆Ｓｉ₃Ｏ
₃Ｃｌ₄：Ｅｕ、ＺｎＳ：（Ｃｕ，Ａｌ）、ＺｎＳ：Ａ
ｇ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ｚｎ、（Ｙ，Ｃｄ）ＢＯ
₃：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ₁₂Ｏ₂₃：Ｅｕ等の蛍光体粉末等
の他、特に、導電性パターン形成のために、鉄、ニッケ
ル、銅、アルミニウム、銀、金等の導電性粒子を添加す
ることもできる。これらは１種または２種以上が用いら
れる。

【００３３】（ｄ）成分である無機および／または金属
粉末は、光重合性樹脂組成物の総和１００重量部中に５
０〜９５重量部の範囲で配合するのが好ましい。５０重
量部未満では塗布性や焼成後のシュリンク等の問題が生
じることがあり、一方、９５重量部を超えると光硬化性
が低下することがある。

【００３４】なお、本発明では、上記成分の他に、通
常、感光性樹脂組成物中に含有される高分子バインダー
を本発明の効果を損なわない範囲で適宜、配合してもよ
い。このような高分子バインダーとしては、例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、メ
チルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアク
リレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレー
ト、プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、Ｎ−ブチルアクリレ
ート、Ｎ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルア
クリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ベンジルアク
リレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリ
レート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアク
リレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメ
タクリレート、スチレン、アクリルアミド、メタクリル
アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等から
選ばれた単量体を共重合させたものや、イタコン酸、プ
ロピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等の不飽和二
価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応によ
り得られるポリエステル、イタコン酸、プロピリデンコ
ハク酸、エチリデンマロン酸等の不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミドの
他、フェノールノボラック型エポキシアクリレート、フ
ェノールノボラック型エポキシメタクリレート、クレゾ
ールノボラック型エポキシアクリレート、クレゾールノ
ボラック型エポキシメタクリレート、ビスフェノールＡ
型エポキシアクリレート、ビスフェノールＳ型エポキシ
アクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、ウレ
タンメタクリレートオリゴマー等が挙げられる。また、
上記エポキシ（メタ）アクリレートにさらに多塩基酸無
水物を反応させたものを配合してもよい。このような多
塩基酸無水物としては、例えばヘキサヒドロフタル酸無
水物、３−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、４−メ
チルヘキサヒドロフタル酸無水物、３−エチルヘキサヒ
ドロフタル酸無水物、４−エチルヘキサヒドロフタル酸
無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、３−メチルテト
ラヒドロフタル酸無水物、４−メチルテトラヒドロフタ
ル酸無水物、３−エチルテトラヒドロフタル酸無水物、
４−エチルテトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無
水物等が挙げられ、中でもヘキサヒドロフタル酸無水
物、テトラヒドロフタル酸無水物等が好適に用いられ
る。

【００３５】さらに本発明の光重合性樹脂組成物は塗布
性の改善のために溶剤を添加してもよい。このような溶
剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレング
リコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテ
ルアセテート、２−メトキシブチルアセテート、３−メ
トキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテー
ト、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−
メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−
３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルア
セテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポ
キシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセテー
ト、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキシペ
ンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペンチル
アセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルアセテ
ート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、
４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルシソ
ブチルケトン、エチルイソブチルケトン、テトラヒドロ
フラン、シクロヘキサノン、プロピオン酸メチル、プロ
ピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸
イソプロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２
−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２
−メチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、エチ
ル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキ
シプロピオネート、エチル−３−プロポキシプロピオネ
ート、プロピル−３−メトキシプロピオネート、イソプ
ロピル−３−メトキシプロピオネート、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸ブチ
ル、乳酸アミル、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、炭酸メチル、炭酸エ
チル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、
ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブ
チル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンジル
メチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシル
エーテル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジ
エチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキ
サノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン等を挙げることがで
きる。

【００３６】該溶剤は、光重合性樹脂組成物の総和１０
０重量部に対し２０００重量部以下、好ましくは１００
０重量部以下の範囲で含有させることができる。

【００３７】本発明では上記成分以外に、さらに必要に
応じて増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、消
泡剤、その他の添加剤を添加することができる。

【００３８】増感剤としては、具体的にはエオシンＢ
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４００）、エオシンＪ（Ｃ．Ｉ．
Ｎｏ．４５３８０）、アルコール可溶性エオシン（Ｃ．
Ｉ．Ｎｏ．４５３８６）、シアノシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．
４５４１０）、ベンガルローズ、エリスロシン（Ｃ．
Ｉ．Ｎｏ．４５４３０）、２，３，７−トリヒドロキシ
−９−フェニルキサンテン−６−オン、およびローダミ
ン６Ｇ等のキサンテン色素；チオニン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．
５２０００）、アズレＡ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２００
５）、およびアズレＣ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２００２）等
のチアジン色素；ピロニンＢ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５００
５）、およびピロニンＧＹ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５００
５）等のピロニン色素の他、３−アセチルクマリン、３
−アセチル７−ジエチルアミノクマリン等のクマリン化
合物が挙げられる。

【００３９】熱重合禁止剤としてはヒドロキノン、ヒド
ロキノンモノエチルエーテル、ｐ−メトキシフェノー
ル、ピロガロール、カテコール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−ｐ−クレゾール、β−ナフトール等が挙げら
れる。

【００４０】可塑剤としては、ジオクチルフタレート、
ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプ
リレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジ
ルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバ
ケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。

【００４１】界面活性剤としては、アニオン系、カチオ
ン系、ノニオン系の各種活性剤等が挙げられる。

【００４２】消泡剤としてはシリコーン系、フッ素系
等、各種消泡剤が挙げられる。

【００４３】本発明の変性セルロース化合物およびこれ
を含有する光重合性樹脂組成物は、紫外線硬化塗料、光
重合性スクリーン印刷版、リフトオフ用レジストにも好
適に使用することができる。さらに無機および／または
金属粉末を配合した光重合性樹脂組成物は、基板上にス
クリーン印刷法等により塗布、乾燥し、ネガマスクを密
着させて露光した後、現像、乾燥、焼成を行うことによ
りペーストパターンの形成が行われる。絶縁性のペース
トパターン上に、導電性ペーストパターン、さらに絶縁
性ペーストパターンを順次形成していくことにより多層
配線パターンを製造することができる。

【００４４】以下に、本発明の光重合性樹脂組成物を用
いたパターン形成方法について、図１を参照して説明す
る。

【００４５】図１は本発明の光重合性樹脂組成物を用い
たパターン形成方法の一例を示す。まず、基板１上に本
発明の光重合性樹脂組成物を溶剤に溶解した溶液をスピ
ンナー等を用いて塗布、乾燥させ、ホトレジスト層２を
設ける（図１（ａ））。基板１としては、例えば液晶パ
ネルの製造においては、偏光板、さらには必要によりブ
ラックマトリックス層およびカラーフィルタ層を設け、
さらに透明導電回路層が設けられたガラス基板等が挙げ
られる。

【００４６】次いで、所定のネガマスクパターン３を介
して、ホトレジスト層２を選択的に露光する（図１
（ｂ））。露光は、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水
銀灯、ケミカルランプ、エキシマレーザー発生装置など
を用いて、ネガ画像を形成するに十分な量まで照射する
ことにより行う。本発明では、露光時、活性光線が照射
された部分で光重合反応が起こり、光硬化を生じ、アル
カリ水溶液に対して不溶となる。そこでこれを現像液に
浸漬すると、未露光部分が選択的に溶解除去されてマス
クパターン３に忠実なホトレジストパターン４を得るこ
とができる（図１（ｃ））。

【００４７】上記現像液としては、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム等アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭
酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩；ベンジルアミン、ブチ
ルアミン等の第１級アミン；ジメチルアミン、ジベンジ
ルアミン、ジエタノールアミン等の第２級アミン；トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミ
ン等の第３級アミン；モルホリン、ピペラジン、ピリジ
ン等の環状アミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン等のポリアミン；テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロ
キシド等のアンモニウムヒドロキシド類；トリメチルス
ルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウム
ヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキ
シド等のスルホニウムヒドロキシド類；その他コリン等
の、１〜１０重量％水溶液が用いられる。

【００４８】なお、所望により、例えばＰＤＰのプライ
ミングリブ形成等においては、温度３５０〜７００℃、
０．５〜８時間程度焼成するのが好ましい。本発明の光
重合性組成物では、焼成後であっても、変性セルロース
化合物が分解、揮散しやすい性質を有し、剥離性に優
れ、マスクパターンに忠実なパターンを形成することが
できる。

【００４９】さらに、このように形成されたホトレジス
トパターン上に、導電性ペーストパターン、さらに絶縁
性ペーストパターンを順次形成していくことにより多層
配線パターンを製造することができる。

【００５０】

【実施例】下記の合成例１〜８の方法によりセルロース
ウレタン（メタ）アクリレート化合物（変性セルロース
化合物）を合成した。

【００５１】（合成例１）２−ヒドロキシエチルメタク
リレート３．９重量部、ジフェニル錫ジアセテート０．
０３重量部およびメチルエチルケトン３重量部を反応器
中に入れ温度８０℃に加温しながらイソホロンジイソシ
アネート６．６７重量部を順次滴下し、さらに７５℃で
５時間反応を行い、ウレタンメタクリレート化合物を得
た。

【００５２】次に、ヒドロキシプロピルセルロース（重
量平均分子量約５０，０００、ヒドロキシプロピルエー
テル化度５５％（セルロース中に結合した−ＯＣＨ（Ｃ
Ｈ₃）ＣＨ₂−セグメントの繰り返し度を１としたとき、
ヒドロキシプロピルセルロース５５％がエーテル化され
ていることを表す））１２重量部、メチルエチルケトン
４重量部、およびジフェニル錫ジアセテート０．０１重
量部反応器中に入れ、温度８０℃に加温しながら前記ウ
レタンメタクリレート化合物反応液を順次滴下し、さら
に８０℃で７時間反応を行った。

【００５３】反応物を冷却後、ろ過し、得られた粗製品
を９０℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得
た。得られた変性セルロース化合物（Ａ−１）は、その
ヒドロキシル基の１５％がイソシアネート化合物と反応
していた。

【００５４】（比較合成例１）合成例１において、ウレ
タンメタクリレート化合物とヒドロキシプロピルセルロ
ースとの反応の際、ヒドロキシプロピルセルロース２４
０重量部、メチルエチルケトン４０重量部とした以外
は、合成例１と同様にして反応後、ろ過し、得られた粗
製品を９０℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を
得た。得られた変性セルロース化合物（Ｂ−１）は、そ
のヒドロキシル基の０．７％がイソシアネート化合物と
反応していた。

【００５５】（合成例２）合成例１において、ウレタン
メタクリレート化合物とヒドロキシプロピルセルロース
との反応の際、ヒドロキシプロピルセルロース３６重量
部、メチルエチルケトン１２重量部とした以外は、合成
例１と同様にして反応後、ろ過し、得られた粗製品を９
０℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得た。得
られた変性セルロース化合物（Ａ−２）は、そのヒドロ
キシル基の４．９５％がイソシアネート化合物と反応し
ていた。

【００５６】（合成例３）合成例１において、ウレタン
メタクリレート化合物とヒドロキシプロピルセルロース
との反応の際、ヒドロキシプロピルセルロース５重量
部、メチルエチルケトン１重量部とした以外は、合成例
１と同様にして反応後、ろ過し、得られた粗製品を９０
℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得た。得ら
れた変性セルロース化合物（Ａ−３）は、そのヒドロキ
シル基の３６．３％がイソシアネート化合物と反応して
いた。

【００５７】（比較合成例２）合成例１において、ウレ
タンメタクリレート化合物とヒドロキシプロピルセルロ
ースとの反応の際、ヒドロキシプロピルセルロース３重
量部、メチルエチルケトン１重量部とした以外は、合成
例１と同様にして反応後、ろ過し、得られた粗製品を９
０℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得た。得
られた変性セルロース化合物（Ｂ−２）は、そのヒドロ
キシル基の５５．８％がイソシアネート化合物と反応し
ていた。

【００５８】（合成例４）２−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート４．３２重量部、ジフェニル錫ジアセテート
０．０１重量部、およびメチルエチルケトン１重量部を
反応器中に入れ、温度８０℃に加温しながらシクロヘキ
サン−１，３−ジイソシアネート４．９２重量部を順次
滴下し、さらに７５℃で５時間反応を行い、ウレタンメ
タクリレート化合物を得た。

【００５９】次いで、ヒドロキシエチルセルロース（重
量平均分子量約３５０，０００、ヒドロキシエチルエー
テル化度６０％（セルロース中に結合した−ＯＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂−セグメントの繰り返し度を１としたとき、該セル
ロース中のヒドロキシル基の６０％がエーテル化されて
いることを表す））１２重量部、メチルエチルケトン４
重量部、およびジフェニル錫ジアセテート０．０１重量
部反応器中に入れ、温度８０℃に加温しながら前記ウレ
タンメタクリレート化合物反応液を順次滴下し、さらに
８０℃で７時間反応を行った。

【００６０】反応物を冷却後、ろ過し、得られた粗製品
を９０℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得
た。得られた変性セルロース化合物（Ａ−４）は、その
ヒドロキシル基の１４．７％がイソシアネート化合物と
反応していた。

【００６１】（合成例５）トリエチレングリコールモノ
メタクリレート６．５４重量部、ジフェニル錫ジアセテ
ート０．０１重量部、およびメチルエチルケトン１重量
部を反応器中に入れ、温度８０℃に加温しながら２，４
−トリレンジイソシアネート５．２３重量部を順次滴下
し、さらに７５℃で５時間反応を行い、ウレタンメタク
リレート化合物を得た。

【００６２】次いでメチルセルロース（重量平均分子量
約１０，０００、メチルエーテル化度２０％（セルロー
ス中に結合した−ＯＣＨ₂ＣＨ₂−セグメントの繰り返し
度を１としたとき、該セルロース中のヒドロキシル基の
２０％がエーテル化されていることを表す））１２重量
部、メチルエチルケトン４重量部、およびジフェニル錫
ジアセテート０．０１重量部反応器中に入れ、温度８０
℃に加温しながら前記ウレタンメタクリレート化合物反
応液を順次滴下し、さらに８０℃で７時間反応を行っ
た。

【００６３】反応物を冷却後、ろ過し、得られた粗製品
を９０℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得
た。得られた変性セルロース化合物（Ａ−５）は、その
ヒドロキシル基の２６．７％がイソシアネート化合物と
反応していた。

【００６４】（実施例１）以下に示す（１）〜（５）の
化合物をよく撹拌、混練し、光重合性樹脂組成物を調製
した。（１）合成例１にて合成した変性セルロース化合物（Ａ−１）２０重量部（２）２，４−ジエチルチオキサントン１重量部（３）２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド３重量部（４）ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃系ガラス粉末（平均粒径１０μｍ）１００重量部（５）ジメチルベンジルケタール（重合禁止剤）０．３重量部次いで、この光重合性樹脂組成物を１２５メッシュ／イ
ンチのスクリーンを用いて、あらかじめ配線パターンが
形成されたＰＤＰ用ガラス基板上に、乾燥後の膜厚が２
５μｍとなるように全面塗布し、８０℃で１時間乾燥し
た。乾燥後、所要のネガマスクを介して１５０ｍＪ／ｃ
ｍ²の活性エネルギー線量で露光し、６０℃の温水で３
０秒間スプレー現像した。このときの、光重合性組成物
の塗布性、露光、現像後のパターンの欠け、剥がれにつ
いて観察した。結果を表１に示す。

【００６５】次に、得られたプラズマディスプレイ（Ｐ
ＤＰ）用ガラス基板を、電気炉中で、温度５４０〜５６
０℃、５時間焼成しＰＤＰのプライミングリブを形成し
た。形成後のプライミングリブの欠けや剥がれ、変色、
およびこれを用いて製造したＰＤＰの画素の表示ムラに
ついて評価した。結果を表１に示す。

【００６６】（比較例１）実施例１において、（１）成
分として、合成例１にて合成した変性セルロース化合物
（Ａ−１）２０重量部の代わりに、比較合成例１にて合
成した変性セルロース化合物（Ｂ−１）２０重量部を用
いた以外は、実施例１と同様にして試験、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【００６７】（実施例２）実施例１において、（１）成
分として、合成例１にて合成した変性セルロース化合物
（Ａ−１）２０重量部の代わりに、合成例２にて合成し
た変性セルロース化合物（Ａ−２）２０重量部を用いた
以外は、実施例１と同様にして試験、評価を行った。結
果を表１に示す。

【００６８】（実施例３）実施例１において、（１）成
分として、合成例１にて合成した変性セルロース化合物
（Ａ−１）２０重量部の代わりに、合成例２にて合成し
た変性セルロース化合物（Ａ−３）２０重量部を用いた
以外は、実施例１と同様にして試験、評価を行った。結
果を表１に示す。

【００６９】（比較例２）実施例１において、（１）成
分として、合成例１にて合成した変性セルロース化合物
（Ａ−１）２０重量部の代わりに、比較合成例２にて合
成した変性セルロース化合物（Ｂ−２）２０重量部を用
いた以外は、実施例１と同様にして試験、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【００７０】（実施例４）以下に示す（１）〜（６）の
化合物をよく撹拌、混練し、光重合性樹脂組成物を調製
した。（１）合成例４にて合成した変性セルロース化合物（Ａ−４）２０重量部（２）２，４−ジエチルチオキサントン１重量部（３）２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド３重量部（４）ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃系ガラス粉末（平均粒径１０μｍ）５重量部（５）銀粉末（平均粒径１０μｍ）１００重量部（６）ジメチルベンジルケタール（重合禁止剤）０．３重量部次いで、この光重合性樹脂組成物を１２５メッシュ／イ
ンチのスクリーンを用いて、あらかじめ配線パターンが
形成されたＰＤＰ用ガラス基板上に、乾燥後の膜厚が２
５μｍとなるように全面塗布し、８０℃で１時間乾燥し
た。乾燥後、所要のネガマスクを介して４００ｍＪ／ｃ
ｍ²の活性エネルギー線量で露光し、６０℃の温水で３
０秒間スプレー現像した。このときの、光重合性組成物
の塗布性、露光、現像後のパターンの欠け、剥がれにつ
いて観察した。結果を表１に示す。

【００７１】次に、得られたＰＤＰ用ガラス基板を、電
気炉中で、温度５４０〜５６０℃、５時間焼成しＰＤＰ
のプライミングリブを形成した。形成後のプライミング
リブの欠けや剥がれ、変色、およびこれを用いて製造し
たプラズマディスプレイパネルの画素の表示ムラなどに
ついて調べた。結果を表１に示す。

【００７２】

【表１】

【００７３】（実施例５）以下に示す（１）〜（４）の
化合物を混合機で１時間混合した後、７０μｍのグラス
フィルターでろ過し、樹脂組成物を調製した。（１）合成例５にて合成した変性セルロース化合物（Ａ−５）２０重量部（２）ブチラール化ＰＶＡ（積水化学社製：エスレックＫＷ−１０、ブチラール化度８％）の１０％水溶液１００重量部（３）アクリル系重合体エマルション（大成化薬社製：ＡＣ−１２０Ｔ１）（固形分３０％）２５重量部（４）紫外線吸収剤（湘南化学社製：ＡＳＬ−２４Ｓ）０．０５重量部上記樹脂組成物１００重量部に、ジアゾ化合物として３
−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩と４，
４’−メトキシジフェニルエーテルのリン酸浴中での縮
合物（縮合比２：１）の１０％水溶液４重量部を加えて
かき混ぜた後、脱泡して光重合性樹脂組成物を得た。こ
の光重合性樹脂組成物を１２０メッシュのスクリーン枠
に印刷面、スキージ面の順に１回ずつ塗布し、それを４
０℃で２０分乾燥した。さらにもう１回同じ工程を繰り
返し、膜厚５μｍの感光性スクリーンを作成した。

【００７４】上記スクリーンに、画像部：開口部の比が
９：１の糸目パターンを再現できるネガマスクを介して
エネルギー量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、水
に２分間浸漬し、それにスプレー圧４０ｋｇ／ｃｍ²の
水でスプレー現像した。この現像操作を２回行った後、
４０℃で２０分間乾燥し、１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外
線で後露光を行った。画像部や開口部ににピンホール、
スカム等はみられなかった。この画像部に４％グルタル
アルデヒド水溶液と２％塩酸水溶液を１：１で混合した
ものをスポンジで塗布し、２分間エアブローした後、４
０℃で２０分乾燥し、スクリーン印刷版を完成した。得
られたスクリーン印刷版を捺染糊用印刷機にかけて印刷
したところ１万枚印刷することができた。

【００７５】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
焼成した場合にあっても分解、揮散しやすい性質を有
し、剥離性に優れるとともに、弾性、柔軟性を高めるこ
とができ、基板への密着性が良好なため、紫外線硬化型
樹脂塗料、スクリーン印刷版、リフトオフ用レジスト
や、ＰＤＰのプライミングリブ、抵抗パターン、導電性
パターンの形成などに使用するのに好適な光重合性樹脂
組成物を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光重合性樹脂組成物を用いたパターン
形成の工程を示す概念説明図である。

【符号の説明】

１基板２ホトレジスト層３マスクパターン４レジストパターン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】セルロースまたはセルロース誘導体のヒ
ドロキシル基の１〜５０％が、ウレタン（メタ）アクリ
レート基により置換されてなる、変性セルロース化合
物。
【請求項２】上記ウレタン（メタ）アクリレート基に
よるヒドロキシル基の置換を、（Ｉ）ジイソシアネート
化合物と、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレー
ト化合物とを、一方のイソシアネート基のみがウレタン
化するように反応させる工程、および（ＩＩ）ジイソシ
アネート化合物の他方のイソシアネート基とセルロース
またはセルロース誘導体中のヒドロキシル基とを、該ヒ
ドロキシル基の反応率１〜５０％の範囲で反応させる工
程、とによって行う、請求項１記載の変性セルロース化
合物。
【請求項３】重量平均分子量が８，０００〜５００，
０００である、請求項１または２記載の変性セルロース
化合物。
【請求項４】重量平均分子量が１０，０００〜１５
０，０００である、請求項１または２記載の変性セルロ
ース化合物。
【請求項５】（ａ）請求項１〜４のいずれか１項に記
載の変性セルロース化合物と、（ｂ）光重合開始剤、を
含有してなる光重合性樹脂組成物。
【請求項６】請求項１〜４のいずれか１項に記載の光
重合性樹脂組成物にさらに（ｃ）エチレン性化合物を含
有してなる光重合性樹脂組成物。
【請求項７】請求項１〜５のいずれか１項に記載の光
重合性樹脂組成物にさらに（ｄ）無機および／または金
属粉末を含有してなる光重合性樹脂組成物。