JPH1031282A - 熱現像感光材料 - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 感度、Dmaxの高い特に製版用として適し
た熱現像感光材料を提供する。 【解決手段】 有機銀塩とハロゲン化銀を含む熱現像感
光材料において、還元剤と特定のヒドラジン誘導体例え
ば下式の化合物を含有する熱現像感光材料。
た熱現像感光材料を提供する。 【解決手段】 有機銀塩とハロゲン化銀を含む熱現像感
光材料において、還元剤と特定のヒドラジン誘導体例え
ば下式の化合物を含有する熱現像感光材料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像感光材料に
関し、特に印刷製版用に適している熱現像感材に関する
ものである。
関し、特に印刷製版用に適している熱現像感材に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】熱現像処理法を用いて写真画像を形成す
る熱現像感光材料は、例えば米国特許第3152904
号、同第3457075号、およびD.モーガン(Morg
an)とB.シェリー(Shely )による「熱によって処理
される銀システム(ThermallyProcessed Silver System
s)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテ
リアルズ(Imaging Processes and Materials )Neblet
te第8版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワース
(Walworth)、A.シェップ(Shepp )編集、第2頁、
1969年に開示されている。
る熱現像感光材料は、例えば米国特許第3152904
号、同第3457075号、およびD.モーガン(Morg
an)とB.シェリー(Shely )による「熱によって処理
される銀システム(ThermallyProcessed Silver System
s)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテ
リアルズ(Imaging Processes and Materials )Neblet
te第8版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワース
(Walworth)、A.シェップ(Shepp )編集、第2頁、
1969年に開示されている。
【0003】このような熱現像感光材料は、還元可能な
銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例えば
ハロゲン化銀)、銀の色調を制御する色調剤および還元
剤を通常のバインダーマトリックス中に分散した状態で
含有している。熱現像感光材料は常温で安定であるが、
露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場合に還
元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元剤との間
の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反
応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促進され
る。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は
黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画
像の形成がなされる。
銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例えば
ハロゲン化銀)、銀の色調を制御する色調剤および還元
剤を通常のバインダーマトリックス中に分散した状態で
含有している。熱現像感光材料は常温で安定であるが、
露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場合に還
元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元剤との間
の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反
応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促進され
る。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は
黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画
像の形成がなされる。
【0004】このような熱現像感光材料は、マイクロ感
材や、レントゲンに使われてきたが、印刷感材としては
一部で使われているのみである。それは、得られる画像
のDmaxが低く、階調が軟調なために、印刷用感材と
しては画質が著しく悪いからであった。
材や、レントゲンに使われてきたが、印刷感材としては
一部で使われているのみである。それは、得られる画像
のDmaxが低く、階調が軟調なために、印刷用感材と
しては画質が著しく悪いからであった。
【0005】一方、近年レーザーや発光ダイオードの発
達により、600〜800nmに発振波長を有するスキ
ャナーやイメージセッターが広く普及し、これらの出力
機に適正を有する、感度、Dmaxが高く、かつ硬調な
感材の開発が強く望まれていた。また、簡易処理、ドラ
イ化への要求も強くなっている。
達により、600〜800nmに発振波長を有するスキ
ャナーやイメージセッターが広く普及し、これらの出力
機に適正を有する、感度、Dmaxが高く、かつ硬調な
感材の開発が強く望まれていた。また、簡易処理、ドラ
イ化への要求も強くなっている。
【0006】ところで、米国特許第3667958号に
は、ポリヒドロキシベンゼン類とヒドロキシルアミン
類、レダクトン類またはヒドラジン類を併用した熱現像
感光材料が高い画質識別性と解像力を有することが記載
されているが、この還元剤の組合せはカブリの上昇を引
き起しやすいことが判った。また米国特許第54966
95号にトリチルヒドラジン系化合物を用いた有機酸銀
とハロゲン化銀を含む熱現像感光材料が記載されている
が、活性と黒ポツ抑制両立の点で改良が求められてい
た。
は、ポリヒドロキシベンゼン類とヒドロキシルアミン
類、レダクトン類またはヒドラジン類を併用した熱現像
感光材料が高い画質識別性と解像力を有することが記載
されているが、この還元剤の組合せはカブリの上昇を引
き起しやすいことが判った。また米国特許第54966
95号にトリチルヒドラジン系化合物を用いた有機酸銀
とハロゲン化銀を含む熱現像感光材料が記載されている
が、活性と黒ポツ抑制両立の点で改良が求められてい
た。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、感
度、Dmaxの高い熱現像感光材料を提供することであ
る。
度、Dmaxの高い熱現像感光材料を提供することであ
る。
【0008】本発明の目的は画質がよい印刷製版用感光
材料を提供することである。
材料を提供することである。
【0009】本発明の別の目的は、湿式処理が必要ない
完全ドライ処理の印刷製版用感光材料と提供することで
ある。
完全ドライ処理の印刷製版用感光材料と提供することで
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明のこれらの目的
は、有機銀塩とハロゲン化銀を含む熱現像感光材料にお
いて、還元剤と一般式(1)で表される化合物を含有す
ることを特徴とする熱現像感光材料によって達成でき
た。
は、有機銀塩とハロゲン化銀を含む熱現像感光材料にお
いて、還元剤と一般式(1)で表される化合物を含有す
ることを特徴とする熱現像感光材料によって達成でき
た。
【0011】一般式(1)
【0012】
【化2】
【0013】式中、R1 およびR2 はアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロ環基
を表し、X1 は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバ
モイル基、ヘテロ環基、シアノ基、酸素原子で結合する
基、窒素原子で結合する基または硫黄原子で結合する基
を表し、R3 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基
またはヒドラジン基を表し、A1 およびA2 は共に水素
原子、あるいは一方が水素原子で他方がアルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基またはアシル基を表す。
ケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロ環基
を表し、X1 は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバ
モイル基、ヘテロ環基、シアノ基、酸素原子で結合する
基、窒素原子で結合する基または硫黄原子で結合する基
を表し、R3 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基
またはヒドラジン基を表し、A1 およびA2 は共に水素
原子、あるいは一方が水素原子で他方がアルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基またはアシル基を表す。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の化合物についてさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
【0015】一般式(1)においてR1 およびR2 はア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表す。R1 およびR2 のアルキル基と
しては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10の直
鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t
−ブチル、2,4,4−トリメチルペンチル、2−ブテ
ニル、2−ヒドロキシエチル、ベンジル、4−メチルベ
ンジル、2−メトキシエチル、シクロペンチル、2−ア
セトアミドエチルである。アルケニル基としては炭素数
2〜18好ましくは2〜10のもので、例えばビニル、
2−スチリルである。アルキニル基としては炭素数2〜
18好ましくは2〜10のもので、例えばエチニル、フ
ェニルエチニルである。
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表す。R1 およびR2 のアルキル基と
しては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10の直
鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t
−ブチル、2,4,4−トリメチルペンチル、2−ブテ
ニル、2−ヒドロキシエチル、ベンジル、4−メチルベ
ンジル、2−メトキシエチル、シクロペンチル、2−ア
セトアミドエチルである。アルケニル基としては炭素数
2〜18好ましくは2〜10のもので、例えばビニル、
2−スチリルである。アルキニル基としては炭素数2〜
18好ましくは2〜10のもので、例えばエチニル、フ
ェニルエチニルである。
【0016】R1 およびR2 のアリール基としては炭素
数6〜24、好ましくは炭素数6〜12のアリール基で
例えば、フェニル、ナフチル、p−メトキシフェニルで
ある。ヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素原子、窒
素原子、もしくは、硫黄原子を1個以上含む5員または
6員の飽和または不飽和のヘテロ環であって環を構成す
るヘテロ原子の数および種類は1つでも複数であっても
よく、例えば、2−フリル、2−チエニル、4−ピリジ
ル、2−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、イミダゾリ
ノ、2−テトラヒドロフラニルである。R1 およびR2
は置換基を有していてもよい。置換基としてはアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、メ
ルカプト基、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、(窒素原子が四
級化されたものを含む)、メルカプト置換ヘテロ環基、
アルコキシ基(エチレンオキシ基またはプロピレンオキ
シ基を繰り返し単位として含む基を含む)、アリールオ
キシ基、アシルアミノ基、チオアミド基、アルキルアミ
ノ基、アニリノ基、四級アンモニウム基、ウレイド基、
チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、三級スルホニウム基、アルコキ
シカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイ
ル基、チオカルバモイル基、スルファモイル基、スルホ
ニル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、
アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリ
ル基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホ
スホニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、
チオカルボニル基およびこれらの組み合わせからなる基
が挙げられる。
数6〜24、好ましくは炭素数6〜12のアリール基で
例えば、フェニル、ナフチル、p−メトキシフェニルで
ある。ヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素原子、窒
素原子、もしくは、硫黄原子を1個以上含む5員または
6員の飽和または不飽和のヘテロ環であって環を構成す
るヘテロ原子の数および種類は1つでも複数であっても
よく、例えば、2−フリル、2−チエニル、4−ピリジ
ル、2−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、イミダゾリ
ノ、2−テトラヒドロフラニルである。R1 およびR2
は置換基を有していてもよい。置換基としてはアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、メ
ルカプト基、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、(窒素原子が四
級化されたものを含む)、メルカプト置換ヘテロ環基、
アルコキシ基(エチレンオキシ基またはプロピレンオキ
シ基を繰り返し単位として含む基を含む)、アリールオ
キシ基、アシルアミノ基、チオアミド基、アルキルアミ
ノ基、アニリノ基、四級アンモニウム基、ウレイド基、
チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、三級スルホニウム基、アルコキ
シカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイ
ル基、チオカルバモイル基、スルファモイル基、スルホ
ニル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、
アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリ
ル基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホ
スホニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、
チオカルボニル基およびこれらの組み合わせからなる基
が挙げられる。
【0017】好ましい置換基としては、アルキル基、ア
ルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレ
イド基、リン酸アミド基である。
ルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレ
イド基、リン酸アミド基である。
【0018】R1 とR2 は結合して環を形成しても良
い。R1 およびR2 として、好ましくはアルキル基、ア
リール基またはヘテロ環基であり、さらに好ましくはア
ルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基である。
い。R1 およびR2 として、好ましくはアルキル基、ア
リール基またはヘテロ環基であり、さらに好ましくはア
ルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基である。
【0019】X1 は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アシル基、オキシカルボニル基、カ
ルボニル基、ヘテロ環基、シアノ基、酸素原子で結合す
る基、窒素原子で結合する基または硫黄原子で結合する
基を表す。
基、アルキニル基、アシル基、オキシカルボニル基、カ
ルボニル基、ヘテロ環基、シアノ基、酸素原子で結合す
る基、窒素原子で結合する基または硫黄原子で結合する
基を表す。
【0020】X1 のアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、ヘテロ環基としては、R1として述べたものが
挙げられる。
ニル基、ヘテロ環基としては、R1として述べたものが
挙げられる。
【0021】X1 のアシル基としては炭素数1〜18の
もので、例えばアセチル、ベンゾイルである。オキシカ
ルボニル基としてはアルコキシカルボニル基およびアリ
ールオキシカルボニル基であり、アルコキシカルボニル
基としては炭素数2〜18のもので、例えばメトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニルである。アリール
オキシカルボニル基としては炭素数7〜18のもので、
例えばフェノキシカルボニルである。カルバモイル基と
しては炭素数1〜18のもので、例えばカルバモイル、
N−エチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、
N−フェニルカルバモイルである。
もので、例えばアセチル、ベンゾイルである。オキシカ
ルボニル基としてはアルコキシカルボニル基およびアリ
ールオキシカルボニル基であり、アルコキシカルボニル
基としては炭素数2〜18のもので、例えばメトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニルである。アリール
オキシカルボニル基としては炭素数7〜18のもので、
例えばフェノキシカルボニルである。カルバモイル基と
しては炭素数1〜18のもので、例えばカルバモイル、
N−エチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、
N−フェニルカルバモイルである。
【0022】X1 の酸素原子で結合する基としては、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
シルオキシ基、カルバモイルオキシ基が挙げられる。こ
こでアルコキシ基としては炭素数1〜16、好ましくは
炭素数1〜10のもので例えば、メトキシ、2−メトキ
シエトキシである。アリールオキシ基としては炭素数6
〜24のもので例えば、フェノキシ、p−メトキシフェ
ノキシである。ヘテロ環オキシ基としては炭素数1〜5
の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含
む5員または6員または6員環の飽和または不飽和のヘ
テロ環オキシ基であって環を構成するヘテロ原子の数お
よび元素の種類は1つでも複数であってもよく例えば、
2−チアゾリルオキシ、2−テトラヒドロピラニルオキ
シ、2−ピリジルオキシである。アシルオキシ基として
は炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので
例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシである。カルバ
モイルオキシ基としては炭素数1〜16、好ましくは炭
素数1〜10のもので例えば、N,N−ジメチルカルバ
モイルオキシ、N−ヘキシルカルバモイルオキシ、N−
フェニルカルバモイルオキシである。
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
シルオキシ基、カルバモイルオキシ基が挙げられる。こ
こでアルコキシ基としては炭素数1〜16、好ましくは
炭素数1〜10のもので例えば、メトキシ、2−メトキ
シエトキシである。アリールオキシ基としては炭素数6
〜24のもので例えば、フェノキシ、p−メトキシフェ
ノキシである。ヘテロ環オキシ基としては炭素数1〜5
の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含
む5員または6員または6員環の飽和または不飽和のヘ
テロ環オキシ基であって環を構成するヘテロ原子の数お
よび元素の種類は1つでも複数であってもよく例えば、
2−チアゾリルオキシ、2−テトラヒドロピラニルオキ
シ、2−ピリジルオキシである。アシルオキシ基として
は炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので
例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシである。カルバ
モイルオキシ基としては炭素数1〜16、好ましくは炭
素数1〜10のもので例えば、N,N−ジメチルカルバ
モイルオキシ、N−ヘキシルカルバモイルオキシ、N−
フェニルカルバモイルオキシである。
【0023】X1 の窒素原子で結合するものとしてはア
シルアミノ基、それぞれモノまたはジ置換のアルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基が挙げら
れる。ここでアシルアミノ基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので例えば、アセトアミ
ド、p−クロロベンゾイルアミドである。アルキルアミ
ノ基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜1
0のもので例えばN,N−ジメチルアミノである。アリ
ールアミノ基としては炭素数6〜24のもので例えばア
ニリノである。ヘテロ環アミノ基としては炭素数1〜5
の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含
む5員または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環アミ
ノ基であって環を構成するヘテロ原子の数および種類は
1つでも複数であってもよく例えば、2−オキサゾリル
アミノ、2−テトラヒドロピラニルアミノ、4−ピラジ
ルアミノである。
シルアミノ基、それぞれモノまたはジ置換のアルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基が挙げら
れる。ここでアシルアミノ基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので例えば、アセトアミ
ド、p−クロロベンゾイルアミドである。アルキルアミ
ノ基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜1
0のもので例えばN,N−ジメチルアミノである。アリ
ールアミノ基としては炭素数6〜24のもので例えばア
ニリノである。ヘテロ環アミノ基としては炭素数1〜5
の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含
む5員または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環アミ
ノ基であって環を構成するヘテロ原子の数および種類は
1つでも複数であってもよく例えば、2−オキサゾリル
アミノ、2−テトラヒドロピラニルアミノ、4−ピラジ
ルアミノである。
【0024】X1 の硫黄原子で結合するものとしてはア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スル
ファモイル基、スルホニル基、スルフィニル基が挙げら
れる。ここでアルキルチオ基としては炭素数1〜16好
ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメチルチオ、
2−フェノキシエチルチオである。アリールチオ基とし
ては炭素数6〜24のもので、例えばフェニルチオ、2
−カルボキシフェニルチオである。ヘテロ環チオ基とし
ては炭素数1〜5の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄
原子を1個以上含む5員または6員環の飽和または不飽
和のヘテロ環チオ基であって環を構成するヘテロ原子の
数および種類は1つでも複数であってもよく、例えば2
−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチオである。ス
ルファモイル基としては炭素数0〜16、好ましくは炭
素数0〜10のもので、例えばメチルスルファモイル、
フェニルスルファモイルである。スルホニル基としては
炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので、
例えばメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルである。
スルフィニル基としては炭素数1〜16好ましくは炭素
数1〜10のもので、例えばメタンスルフィニル、ベン
ゼンスルフィニルである。
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スル
ファモイル基、スルホニル基、スルフィニル基が挙げら
れる。ここでアルキルチオ基としては炭素数1〜16好
ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメチルチオ、
2−フェノキシエチルチオである。アリールチオ基とし
ては炭素数6〜24のもので、例えばフェニルチオ、2
−カルボキシフェニルチオである。ヘテロ環チオ基とし
ては炭素数1〜5の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄
原子を1個以上含む5員または6員環の飽和または不飽
和のヘテロ環チオ基であって環を構成するヘテロ原子の
数および種類は1つでも複数であってもよく、例えば2
−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチオである。ス
ルファモイル基としては炭素数0〜16、好ましくは炭
素数0〜10のもので、例えばメチルスルファモイル、
フェニルスルファモイルである。スルホニル基としては
炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので、
例えばメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルである。
スルフィニル基としては炭素数1〜16好ましくは炭素
数1〜10のもので、例えばメタンスルフィニル、ベン
ゼンスルフィニルである。
【0025】これらはR1 の置換基として述べた基でさ
らに置換されていてもよい。
らに置換されていてもよい。
【0026】X1 として好ましくは、アルキル基、カル
バモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アシル基、シアノ基、ヘテロ環基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、スル
ホニル基であり、さらに好ましくはアルキル基、カルバ
モイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環基、アル
コキシ基、であり、最も好ましくは、アルキル基、カル
バモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環基であ
る。
バモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アシル基、シアノ基、ヘテロ環基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、スル
ホニル基であり、さらに好ましくはアルキル基、カルバ
モイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環基、アル
コキシ基、であり、最も好ましくは、アルキル基、カル
バモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環基であ
る。
【0027】R3 は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ミノ基またはヒドラジン基を表し、これらはR1 の置換
基として述べた基でさらに置換されていてもよい。これ
らの基はX1 として述べた基と同義である。
基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ミノ基またはヒドラジン基を表し、これらはR1 の置換
基として述べた基でさらに置換されていてもよい。これ
らの基はX1 として述べた基と同義である。
【0028】R3 で表される基のうち好ましいものは、
水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、2−カルボキシテト
ラフルオロエチル基、ピリジニオメチル基、3−ヒドロ
キシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル
基、フェニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基
(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリール
基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル
基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、o−カルバ
モイルフェニル基、4−シアノフェニル基、2−ヒドロ
キシメチルフェニル基など)などであり、特に水素原
子、アルキル基が好ましい。
水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、2−カルボキシテト
ラフルオロエチル基、ピリジニオメチル基、3−ヒドロ
キシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル
基、フェニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基
(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリール
基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル
基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、o−カルバ
モイルフェニル基、4−シアノフェニル基、2−ヒドロ
キシメチルフェニル基など)などであり、特に水素原
子、アルキル基が好ましい。
【0029】また、R3 は−CO−R3 の部分を残余分
子から分裂させ、−CO−R3 部分の原子を含む環式構
造を生成させる環化反応を生起するようなものであって
もよく、その例としては、例えば特開昭63−2975
1号などに記載のものが挙げられる。
子から分裂させ、−CO−R3 部分の原子を含む環式構
造を生成させる環化反応を生起するようなものであって
もよく、その例としては、例えば特開昭63−2975
1号などに記載のものが挙げられる。
【0030】A1 およびA2 は共に水素原子、あるいは
一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基またはアシル基を表す。
一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基またはアシル基を表す。
【0031】A1 およびA2 のアルキルスルホニル基と
しては炭素数20以下、好ましくは10以下のもので、
例えばメタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニ
ルである。アリールスルホニル基としては炭素数20以
下、好ましくは12以下のもので、例えばベンゼンスル
ホニル、ハメットの置換基定数σmの和が0以上となる
ように置換されたベンゼンスルホニル、である。アシル
基としては炭素数20以下、好ましくは12以下のもの
で、脂肪族アシル基および芳香族アシル基が挙げられ
る。脂肪族アシル基としては、直鎖、分岐状または環状
の無置換もしくは置換脂肪族アシル基であり、置換基と
しては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミ
ド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スル
ホン酸基であり、アセチル、トリフルオロアセチルが挙
げられる。芳香族アシル基としては無置換もしくは置換
のベンゾイル基で、置換基されたものとしてはハメット
の置換基定数σmの和が0以上となるように置換された
ベンゾイルである。
しては炭素数20以下、好ましくは10以下のもので、
例えばメタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニ
ルである。アリールスルホニル基としては炭素数20以
下、好ましくは12以下のもので、例えばベンゼンスル
ホニル、ハメットの置換基定数σmの和が0以上となる
ように置換されたベンゼンスルホニル、である。アシル
基としては炭素数20以下、好ましくは12以下のもの
で、脂肪族アシル基および芳香族アシル基が挙げられ
る。脂肪族アシル基としては、直鎖、分岐状または環状
の無置換もしくは置換脂肪族アシル基であり、置換基と
しては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミ
ド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スル
ホン酸基であり、アセチル、トリフルオロアセチルが挙
げられる。芳香族アシル基としては無置換もしくは置換
のベンゾイル基で、置換基されたものとしてはハメット
の置換基定数σmの和が0以上となるように置換された
ベンゾイルである。
【0032】A1 およびA2 としては水素原子が最も好
ましい。
ましい。
【0033】一般式(1)のR1 ないしR3 およびX1
はその中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常
用されているバラスト基またはポリマーが組み込まれて
いるものでもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有す
る、写真性に対して比較的不活性な基であり、例えばア
ルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、
アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキ
シ基などの中から選ぶことができる。またポリマーとし
ては、例えば特開平1−100530号に記載のものが
挙げられる。
はその中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常
用されているバラスト基またはポリマーが組み込まれて
いるものでもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有す
る、写真性に対して比較的不活性な基であり、例えばア
ルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、
アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキ
シ基などの中から選ぶことができる。またポリマーとし
ては、例えば特開平1−100530号に記載のものが
挙げられる。
【0034】一般式(1)のR1 ないしR3 およびX1
はその中にハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が
組み込まれているものでもよい。かかる吸着基として
は、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チ
オアミド基、チオウレタン基、メルカプトアルキル基、
メルカプトアリール基、メルカプト複素環基(例えば5
−メルカプトテトラゾール、3−メルカプト−1,2,
4−トリアゾール、2−メルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、2−メルカプト−1,3,4−オキサジア
ゾール)およびイミノ銀を生成する5ないし6員の含窒
素ヘテロ環(例えばベンゾトリアゾール)である。これ
らの基は米国特許第4385108号、同第44593
47号、特開昭59−195233号、同59−200
231号、同59−201045号、同59−2010
46号、同59−201047号、同59−20104
8号、同59−201049号、特開昭61−1707
33号、同61−270744号、同62−948号、
同63−234244号、同63−234245号、同
63−234246号に記載されている。またこれらハ
ロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化されていても
よい。そのようなプレカーサーとしては、特開平2−2
85344号に記載された基が挙げられる。
はその中にハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が
組み込まれているものでもよい。かかる吸着基として
は、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チ
オアミド基、チオウレタン基、メルカプトアルキル基、
メルカプトアリール基、メルカプト複素環基(例えば5
−メルカプトテトラゾール、3−メルカプト−1,2,
4−トリアゾール、2−メルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、2−メルカプト−1,3,4−オキサジア
ゾール)およびイミノ銀を生成する5ないし6員の含窒
素ヘテロ環(例えばベンゾトリアゾール)である。これ
らの基は米国特許第4385108号、同第44593
47号、特開昭59−195233号、同59−200
231号、同59−201045号、同59−2010
46号、同59−201047号、同59−20104
8号、同59−201049号、特開昭61−1707
33号、同61−270744号、同62−948号、
同63−234244号、同63−234245号、同
63−234246号に記載されている。またこれらハ
ロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化されていても
よい。そのようなプレカーサーとしては、特開平2−2
85344号に記載された基が挙げられる。
【0035】一般式(1)は置換基としてヒドラジノ基
を複数個含んでいてもよく、この時一般式(1)で表さ
れる化合物はヒドラジノ基に関して多量体を表す。
を複数個含んでいてもよく、この時一般式(1)で表さ
れる化合物はヒドラジノ基に関して多量体を表す。
【0036】一般式(1)で示される本発明の化合物の
うち好ましくは下記一般式(2)で表されるものであ
る。
うち好ましくは下記一般式(2)で表されるものであ
る。
【0037】一般式(2)
【0038】
【化3】
【0039】式中R11およびR12は置換基を有していて
もよいアルキル基またはフェニル基を表し、X11はアル
キル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、ヘテロ
環基を表し、R13は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基を表す。置換
基としては一般式(1)のR1 の置換基として述べたも
のが挙げられる。
もよいアルキル基またはフェニル基を表し、X11はアル
キル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、ヘテロ
環基を表し、R13は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基を表す。置換
基としては一般式(1)のR1 の置換基として述べたも
のが挙げられる。
【0040】以下に本発明で用いられる一般式(1)で
表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
【0041】
【化4】
【0042】
【化5】
【0043】
【化6】
【0044】
【化7】
【0045】
【化8】
【0046】本発明の一般式(1)で表される化合物は
特開昭62−198849号に記載の方法に準じて合成
できる。すなわち適当な有機溶媒、例えばアルコール類
(メタノール、エタノール、2−プロパノール、メチル
セルソルブ)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ン)、アミド類(N,N−ジメチルホルムアミド、N−
メチルピロリドン)、エ−テル類(テトラヒドロフラ
ン、エーテル)、エステル類(酢酸エチル)、ジメチル
スルホキシドなどの溶媒中、適当な塩基(例えばトリエ
チルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチル
モルホリン等の有機塩基や炭酸カリウム、重炭酸ナトリ
ウム等の無機塩基)存在下、(R1 )(R2 )(X1 )
C−XとHNA1 −NA2 −COR3 とを反応させて合
成することができる。ここでXはハロゲン原子、スルホ
ニルオキシ基である。
特開昭62−198849号に記載の方法に準じて合成
できる。すなわち適当な有機溶媒、例えばアルコール類
(メタノール、エタノール、2−プロパノール、メチル
セルソルブ)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ン)、アミド類(N,N−ジメチルホルムアミド、N−
メチルピロリドン)、エ−テル類(テトラヒドロフラ
ン、エーテル)、エステル類(酢酸エチル)、ジメチル
スルホキシドなどの溶媒中、適当な塩基(例えばトリエ
チルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチル
モルホリン等の有機塩基や炭酸カリウム、重炭酸ナトリ
ウム等の無機塩基)存在下、(R1 )(R2 )(X1 )
C−XとHNA1 −NA2 −COR3 とを反応させて合
成することができる。ここでXはハロゲン原子、スルホ
ニルオキシ基である。
【0047】(R1 )(R2 )(X3 )C−Xは対応す
るアルコール体(X=OH)のハロゲン化(SOCl
2 、PBr3 との反応)やスルホニル化(スルホニルク
ロリドとの反応)で合成できる。
るアルコール体(X=OH)のハロゲン化(SOCl
2 、PBr3 との反応)やスルホニル化(スルホニルク
ロリドとの反応)で合成できる。
【0048】本発明のヒドラジン系化合物は、適当な水
混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブな
どに溶解して用いることができる。
混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブな
どに溶解して用いることができる。
【0049】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセルトリアセートあるいはジエチルフタレー
トなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの
補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製し
て用いることができる。あるいは固体分散法として知ら
れている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を水の
中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によっ
て分散し用いることができる。
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセルトリアセートあるいはジエチルフタレー
トなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの
補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製し
て用いることができる。あるいは固体分散法として知ら
れている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を水の
中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によっ
て分散し用いることができる。
【0050】本発明のヒドラジン系化合物は、支持体に
対してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あ
るいは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。
対してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あ
るいは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。
【0051】本発明の造核剤添加量はハロゲン化銀1モ
ルに対し1×10-5〜1×10-2モルが好ましく、1×
10-5〜5×10-3モルがより好ましく、5×10-5〜
1×10-3モルが最も好ましい。
ルに対し1×10-5〜1×10-2モルが好ましく、1×
10-5〜5×10-3モルがより好ましく、5×10-5〜
1×10-3モルが最も好ましい。
【0052】さらに本発明においては、1991年3月
22日発行の「公知技術」(1〜207頁、アズテック
社刊)の25〜34頁に記載の種々のヒドラジン誘導体
を本発明の化合物と併用することができる。
22日発行の「公知技術」(1〜207頁、アズテック
社刊)の25〜34頁に記載の種々のヒドラジン誘導体
を本発明の化合物と併用することができる。
【0053】有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金
属銀に還元する任意の物質、好ましくは有機物質であっ
てよい。フェニドン、ハイドロキノンおよびカテコール
などの従来の写真現像剤は有用であるが、ヒンダードフ
ェノール還元剤が好ましい。還元剤は、画像形成層の1
〜10重量%として存在すべきである。多層構成におい
て、還元剤をエマルジョン層以外の層に加える場合は、
わずかに高い割合である約2〜15%がより望ましい傾
向がある。
属銀に還元する任意の物質、好ましくは有機物質であっ
てよい。フェニドン、ハイドロキノンおよびカテコール
などの従来の写真現像剤は有用であるが、ヒンダードフ
ェノール還元剤が好ましい。還元剤は、画像形成層の1
〜10重量%として存在すべきである。多層構成におい
て、還元剤をエマルジョン層以外の層に加える場合は、
わずかに高い割合である約2〜15%がより望ましい傾
向がある。
【0054】有機銀塩を利用した熱現像写真感光材料に
おいては広範囲の還元剤が開示されている。例えば、フ
ェニルアミドオキシム、2−チエニルアミドオキシムお
よびp−フエノキシフェニルアミドオキシムなどのアミ
ドオキシム;例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキ
シベンズアルデヒドアジンなどのアジン;2,2′−ビ
ス(ヒドロキシメチル)プロピオニル−β−フェニルヒ
ドラジンとアスコルビン酸との組合せのような脂肪族カ
ルボン酸アリールヒドラジドとアスコルビン酸との組合
せ;ポリヒドロキシベンゼンと、ヒドロキシルアミン、
レダクトンおよび/またはヒドラジンの組合せ(例えば
ハイドロキノンと、ビス(エトキシエチル)ヒドロキシ
ルアミン、ピペリジノヘキソースレダクトンまたはホル
ミル−4−メチルフェニルヒドラジンの組合せなど);
フェニルヒドロキサム酸、p−ヒドロキシフェニルヒド
ロキサム酸およびβ−アリニンヒドロキサム酸などのヒ
ドロキサム酸;アジンとスルホンアミドフェノールとの
組合せ(例えば、フェノチアジンと2,6−ジクロロ−
4−ベンゼンスルホンアミドフェノールなど);エチル
−α−シアノ−2−メチルフェニルアセテート、エチル
−α−シアノフェニルアセテートなどのα−シアノフェ
ニル酢酸誘導体;2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、6,6′−ビブロモ−2,2′−ジヒドロ
キシ−1,1′−ビナフチルおよびビス(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)メタンに例示されるようなビス−β
−ナフトール;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒド
ロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンまたは2′,4′−ジヒドロキシアセト
フェノンなど)の組合せ;3−メチル−1−フェニル−
5−ピラゾロンなどの、5−ピラゾロン;ジメチルアミ
ノヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘ
キソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリド
ンヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクト
ン;2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフ
ェノールおよびp−ベンゼンスルホンアミドフェノール
などのスルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニル
インダン−1,3−ジオンなど;2,2−ジメチル−7
−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマンなどのクロマ
ン;2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエトキシ−
1,4−ジヒドロピリジンなどの1,4−ジヒドロピリ
ジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2−ヒドロキシ
−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロ
パン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6
−メチルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチ
ルヘキサンおよび2,2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパンなど);アスコルビン
酸誘導体(例えば、パルミチン酸1−アスコルビル、ス
テアリン酸アスコルビルなど);ならびにベンジルおよ
びビアセチルなどのアルデヒドおよびケトン;3−ピラ
ゾリドンおよびある種のインダン−1,3−ジオンなど
がある。
おいては広範囲の還元剤が開示されている。例えば、フ
ェニルアミドオキシム、2−チエニルアミドオキシムお
よびp−フエノキシフェニルアミドオキシムなどのアミ
ドオキシム;例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキ
シベンズアルデヒドアジンなどのアジン;2,2′−ビ
ス(ヒドロキシメチル)プロピオニル−β−フェニルヒ
ドラジンとアスコルビン酸との組合せのような脂肪族カ
ルボン酸アリールヒドラジドとアスコルビン酸との組合
せ;ポリヒドロキシベンゼンと、ヒドロキシルアミン、
レダクトンおよび/またはヒドラジンの組合せ(例えば
ハイドロキノンと、ビス(エトキシエチル)ヒドロキシ
ルアミン、ピペリジノヘキソースレダクトンまたはホル
ミル−4−メチルフェニルヒドラジンの組合せなど);
フェニルヒドロキサム酸、p−ヒドロキシフェニルヒド
ロキサム酸およびβ−アリニンヒドロキサム酸などのヒ
ドロキサム酸;アジンとスルホンアミドフェノールとの
組合せ(例えば、フェノチアジンと2,6−ジクロロ−
4−ベンゼンスルホンアミドフェノールなど);エチル
−α−シアノ−2−メチルフェニルアセテート、エチル
−α−シアノフェニルアセテートなどのα−シアノフェ
ニル酢酸誘導体;2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、6,6′−ビブロモ−2,2′−ジヒドロ
キシ−1,1′−ビナフチルおよびビス(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)メタンに例示されるようなビス−β
−ナフトール;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒド
ロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンまたは2′,4′−ジヒドロキシアセト
フェノンなど)の組合せ;3−メチル−1−フェニル−
5−ピラゾロンなどの、5−ピラゾロン;ジメチルアミ
ノヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘ
キソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリド
ンヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクト
ン;2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフ
ェノールおよびp−ベンゼンスルホンアミドフェノール
などのスルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニル
インダン−1,3−ジオンなど;2,2−ジメチル−7
−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマンなどのクロマ
ン;2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエトキシ−
1,4−ジヒドロピリジンなどの1,4−ジヒドロピリ
ジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2−ヒドロキシ
−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロ
パン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6
−メチルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチ
ルヘキサンおよび2,2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパンなど);アスコルビン
酸誘導体(例えば、パルミチン酸1−アスコルビル、ス
テアリン酸アスコルビルなど);ならびにベンジルおよ
びビアセチルなどのアルデヒドおよびケトン;3−ピラ
ゾリドンおよびある種のインダン−1,3−ジオンなど
がある。
【0055】本発明で特に好ましい還元剤として下記一
般式(R−I)、一般式(R−II)、一般式(R−I
II)、一般式(R−IV)で表される化合物が挙げら
れる。
般式(R−I)、一般式(R−II)、一般式(R−I
II)、一般式(R−IV)で表される化合物が挙げら
れる。
【0056】
【化9】
【0057】なお、一般式(R−III)においてZが
形成する環構造は下記のものである。
形成する環構造は下記のものである。
【0058】
【化10】
【0059】また、一般式(R−IV)においてZが形
成する環構造は下記のものである。
成する環構造は下記のものである。
【0060】
【化11】
【0061】式中、L1 、L2 は、CH−R6 で表され
る基もしくは硫黄原子である。nは自然数を表す。
る基もしくは硫黄原子である。nは自然数を表す。
【0062】R(R1 〜R10、R1'〜R5'、R11〜
R13、R11' 〜R13' 、R21〜R26、R21' 〜R24' を
含む)は、水素原子、アルキル基(炭素数1〜30)、
アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、アミノ基も
しくは−O−Aで表される置換基である。ただし、R1
〜R5 の少なくとも一つおよびR1'〜R5'の少なくとも
一つおよびR7 〜R10の少なくとも一つは−O−Aで表
される基である。また、R同士で環を形成しても良い。
A,A′は、水素原子、アルキル基(炭素数1〜3
0)、アシル基(炭素数1〜30)、アリール基、リン
酸基、スルホニル基を表す。R,A,A′は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
(活性メチン基を含む)、ニトロ基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、複素環を含む基、4級化され
た窒素原子を含むヘテロ環(例えばピリジニオ基)を含
む基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基
もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含
む)、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、カルバモイル基、ウレタン基、カルボキシル基、イ
ミド基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルアミ
ノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒド
ラジノ基を含む基、4級のアンモニオ基を含む基、メル
カプト基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)チ
オ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(ア
ルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基、ス
ルファモイル基、アシルスルファモイル基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルウレイド基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルカルバモイル基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、リン酸アミド基、リン酸エステル構
造を含む基、アシルウレア構造を持つ基、セレン原子ま
たはテルル原子を含む基、3級スルホニウム構造または
4級スルホニウム構造を持つ基などが挙げられる。R,
A,A′の置換基はさらに置換されていても良く、好ま
しい例としてはRの置換基として例示したものが挙げら
れる。さらにその置換基、その置換基の置換基、置換基
の置換基の置換基・・・、というように多重に置換され
ていても良く、好ましい例はやはりR,A,A′の置換
基として例示したものがあてはまる。
R13、R11' 〜R13' 、R21〜R26、R21' 〜R24' を
含む)は、水素原子、アルキル基(炭素数1〜30)、
アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、アミノ基も
しくは−O−Aで表される置換基である。ただし、R1
〜R5 の少なくとも一つおよびR1'〜R5'の少なくとも
一つおよびR7 〜R10の少なくとも一つは−O−Aで表
される基である。また、R同士で環を形成しても良い。
A,A′は、水素原子、アルキル基(炭素数1〜3
0)、アシル基(炭素数1〜30)、アリール基、リン
酸基、スルホニル基を表す。R,A,A′は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
(活性メチン基を含む)、ニトロ基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、複素環を含む基、4級化され
た窒素原子を含むヘテロ環(例えばピリジニオ基)を含
む基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基
もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含
む)、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、カルバモイル基、ウレタン基、カルボキシル基、イ
ミド基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルアミ
ノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒド
ラジノ基を含む基、4級のアンモニオ基を含む基、メル
カプト基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)チ
オ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(ア
ルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基、ス
ルファモイル基、アシルスルファモイル基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルウレイド基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルカルバモイル基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、リン酸アミド基、リン酸エステル構
造を含む基、アシルウレア構造を持つ基、セレン原子ま
たはテルル原子を含む基、3級スルホニウム構造または
4級スルホニウム構造を持つ基などが挙げられる。R,
A,A′の置換基はさらに置換されていても良く、好ま
しい例としてはRの置換基として例示したものが挙げら
れる。さらにその置換基、その置換基の置換基、置換基
の置換基の置換基・・・、というように多重に置換され
ていても良く、好ましい例はやはりR,A,A′の置換
基として例示したものがあてはまる。
【0063】以下に、一般式(R−I)、一般式(R−
II)、一般式(R−III)、一般式(R−IV)で
表される化合物の具体例を示す。ただし、本発明は以下
の化合物に限定されるものではない。
II)、一般式(R−III)、一般式(R−IV)で
表される化合物の具体例を示す。ただし、本発明は以下
の化合物に限定されるものではない。
【0064】
【表1】
【0065】
【表2】
【0066】
【化12】
【0067】
【化13】
【0068】
【表3】
【0069】
【化14】
【0070】
【表4】
【0071】
【表5】
【0072】
【表6】
【0073】
【表7】
【0074】本発明で使用される還元剤の使用料は、好
ましくは銀1モル当たり1×10-3〜10モルであり、
より好ましくは1×10-2〜1.5モルである。
ましくは銀1モル当たり1×10-3〜10モルであり、
より好ましくは1×10-2〜1.5モルである。
【0075】本発明ではヒドラジン誘導体と併用して、
カブリ防止剤としてインダゾール類(例えばニトロイン
ダゾール)を使用することが好ましい。
カブリ防止剤としてインダゾール類(例えばニトロイン
ダゾール)を使用することが好ましい。
【0076】本発明には、造核促進剤を含有してもよ
い。造核促進剤としては、アミン誘導体、オニウム塩、
ジスルフィド誘導体またはヒドロキシメチル誘導体など
が挙げられる。以下にその例を列挙する。特開平7−7
7783号公報48頁2行〜37行に記載の化合物で、
具体的には49頁〜58頁に記載の化合物A−1)〜A
−73)。特開平7−84331号に記載の(化2
1)、(化22)および(化23)で表される化合物
で、具体的には同公報6頁〜8頁に記載の化合物。特開
平7−104426号に記載の一般式〔Na〕および一
般式〔Nb〕で表される化合物で、具体的には同公報1
6頁〜20頁に記載のNa−1〜Na−22の化合物お
よびNb−1〜Nb−12の化合物。特願平7−378
17号に記載の一般式(1)、一般式(2)、一般式
(3)、一般式(4)、一般式(5)、一般式(6)お
よび一般式(7)で表される化合物で、具体的には同明
細書に記載の1−1〜1−19の化合物、2−1〜2−
22の化合物、3−1〜3−36の化合物、4−1〜4
−5の化合物、5−1〜5−41の化合物、6−1〜6
−58の化合物および7−1〜7−38の化合物。
い。造核促進剤としては、アミン誘導体、オニウム塩、
ジスルフィド誘導体またはヒドロキシメチル誘導体など
が挙げられる。以下にその例を列挙する。特開平7−7
7783号公報48頁2行〜37行に記載の化合物で、
具体的には49頁〜58頁に記載の化合物A−1)〜A
−73)。特開平7−84331号に記載の(化2
1)、(化22)および(化23)で表される化合物
で、具体的には同公報6頁〜8頁に記載の化合物。特開
平7−104426号に記載の一般式〔Na〕および一
般式〔Nb〕で表される化合物で、具体的には同公報1
6頁〜20頁に記載のNa−1〜Na−22の化合物お
よびNb−1〜Nb−12の化合物。特願平7−378
17号に記載の一般式(1)、一般式(2)、一般式
(3)、一般式(4)、一般式(5)、一般式(6)お
よび一般式(7)で表される化合物で、具体的には同明
細書に記載の1−1〜1−19の化合物、2−1〜2−
22の化合物、3−1〜3−36の化合物、4−1〜4
−5の化合物、5−1〜5−41の化合物、6−1〜6
−58の化合物および7−1〜7−38の化合物。
【0077】本発明の造核促進剤は、適当な有機溶媒、
例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、
メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用い
ることができる。
例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、
メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用い
ることができる。
【0078】また、すでによく知られている乳化分散法
によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフ
ェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフ
タレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノン
などの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を
作製して用いることができる。あるいは固体分散法とし
て知られている方法によって、造核促進剤の粉末を水の
中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によっ
て分散し用いることができる。
によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフ
ェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフ
タレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノン
などの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を
作製して用いることができる。あるいは固体分散法とし
て知られている方法によって、造核促進剤の粉末を水の
中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によっ
て分散し用いることができる。
【0079】本発明の造核促進剤は、支持体に対して感
光層側の該感光層あるいは非感光層のどの層に添加して
もよいが、該感光層あるいはそれに隣接する非感光層に
添加することが好ましい。
光層側の該感光層あるいは非感光層のどの層に添加して
もよいが、該感光層あるいはそれに隣接する非感光層に
添加することが好ましい。
【0080】本発明の造核促進剤添加量は銀1モルに対
し1×10-6〜2×10-2モルが好ましく、1×10-5
〜2×10-2モルがより好ましく、2×10-5〜1×1
0-2モルが最も好ましい。
し1×10-6〜2×10-2モルが好ましく、1×10-5
〜2×10-2モルがより好ましく、2×10-5〜1×1
0-2モルが最も好ましい。
【0081】造核促進剤の化合物例を以下に挙げる。
【0082】
【化15】
【0083】
【化16】
【0084】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理法
を用いて写真画像を形成するものである。このような熱
現像感光材料としては前述のとおり例えば米国特許第3
152904号、同3457075号、及びD.モーガ
ン(Morgan)とB.シェリー(Shely) による「熱によって
処理される銀システム(Thermally Processed SilverSys
tems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マ
テリアルズ(Imaging Processes and Materials) Neblet
te 第8版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワース(W
alworth)、A.シェップ(Shepp) 編集、第2頁、196
9年)等に開示されている。
を用いて写真画像を形成するものである。このような熱
現像感光材料としては前述のとおり例えば米国特許第3
152904号、同3457075号、及びD.モーガ
ン(Morgan)とB.シェリー(Shely) による「熱によって
処理される銀システム(Thermally Processed SilverSys
tems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マ
テリアルズ(Imaging Processes and Materials) Neblet
te 第8版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワース(W
alworth)、A.シェップ(Shepp) 編集、第2頁、196
9年)等に開示されている。
【0085】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理を
用いて写真画像を形成するものであればよいが、還元可
能な銀源(有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハ
ロゲン化銀)、銀の色調を抑制する色調剤及び還元剤を
通常(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態
で含有している熱現像感光材料であることが好ましい。
本発明の熱現像感光材料は常温で安定であるが、露光後
高温(例えば、80℃以上)に加熱することで現像され
る。加熱することで還元可能な銀源(酸化剤として機能
する)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成
する。この酸化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作
用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応に
よって生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領
域と対照をなし、画像の形成がなされる。
用いて写真画像を形成するものであればよいが、還元可
能な銀源(有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハ
ロゲン化銀)、銀の色調を抑制する色調剤及び還元剤を
通常(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態
で含有している熱現像感光材料であることが好ましい。
本発明の熱現像感光材料は常温で安定であるが、露光後
高温(例えば、80℃以上)に加熱することで現像され
る。加熱することで還元可能な銀源(酸化剤として機能
する)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成
する。この酸化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作
用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応に
よって生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領
域と対照をなし、画像の形成がなされる。
【0086】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。
【0087】感光層に通過する光の量または波長分布を
制御するために感光層と同じ側または反対側にフィルタ
ー層を形成しても良いし、感光層に染料または顔料を含
ませても良い。染料としては特願平7−11184号の
化合物が好ましい。
制御するために感光層と同じ側または反対側にフィルタ
ー層を形成しても良いし、感光層に染料または顔料を含
ませても良い。染料としては特願平7−11184号の
化合物が好ましい。
【0088】感光層は複数層にしても良く、また階調の
調節のため感度を高感層/低感層または低感層/高感層
にしても良い。
調節のため感度を高感層/低感層または低感層/高感層
にしても良い。
【0089】各種の添加剤は感光層、非感光層、または
その他の形成層のいずれに添加しても良い。
その他の形成層のいずれに添加しても良い。
【0090】本発明の熱現像感光材料には例えば、界面
活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、被覆助剤等を用いても良い。
活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、被覆助剤等を用いても良い。
【0091】好適なバインダーは透明又は半透明で、一
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポ
リ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒また
はエマルジョンから被覆形成してもよい。
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポ
リ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒また
はエマルジョンから被覆形成してもよい。
【0092】色調剤の添加は非常に望ましい。好適な色
調剤の例は調査報告第17029号に開示されており、
次のものがある:イミド類(例えば、フタルイミド);
環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリ
ノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピ
ラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾ
リン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイ
ミド類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタール
イミド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミ
ントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例え
ば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N
−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例
えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);
ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium) 誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ
(例えば、N,N′ヘキサメチレン(1−カルバモイル
−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−(3,6−
ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオ
ロアセテート)、及び2−(トリブロモメチルスルホニ
ル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロシアニン染
料(例えば、3−エチル−5−((3−エチル−2−ベ
ンゾチアゾリニリデン(benzothiazolinylidene))−1
−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4−オキサゾリ
ジンジオン(oxazolidinedione));フタラジノン、フタ
ラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、
4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラ
ジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び
2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタ
ラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、
6−クロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリ
ウム又は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸
ナトリウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フ
タラジン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無
水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸
又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、
フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及
びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なく
とも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン
類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズ
オキサジン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベン
ズオキサジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不
斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリ
ミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、
3,6−ジメロカプト−1,4−ジフェニル−1H、4
H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン。
調剤の例は調査報告第17029号に開示されており、
次のものがある:イミド類(例えば、フタルイミド);
環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリ
ノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピ
ラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾ
リン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイ
ミド類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタール
イミド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミ
ントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例え
ば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N
−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例
えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);
ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium) 誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ
(例えば、N,N′ヘキサメチレン(1−カルバモイル
−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−(3,6−
ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオ
ロアセテート)、及び2−(トリブロモメチルスルホニ
ル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロシアニン染
料(例えば、3−エチル−5−((3−エチル−2−ベ
ンゾチアゾリニリデン(benzothiazolinylidene))−1
−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4−オキサゾリ
ジンジオン(oxazolidinedione));フタラジノン、フタ
ラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、
4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラ
ジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び
2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタ
ラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、
6−クロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリ
ウム又は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸
ナトリウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フ
タラジン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無
水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸
又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、
フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及
びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なく
とも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン
類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズ
オキサジン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベン
ズオキサジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不
斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリ
ミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、
3,6−ジメロカプト−1,4−ジフェニル−1H、4
H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン。
【0093】好ましい色調剤としてはフタラゾンであ
る。
る。
【0094】触媒活性量の光触媒として有用なハロゲン
化銀は感光性のいかなるハロゲン化銀(例えば、臭化
銀、ヨウ化銀、銀化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ
臭化銀等)であってもよいがヨウ素イオンを含むことが
好ましい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像形成
層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元可
能な銀源に近接するように配置する。一般にハロゲン化
銀は還元可能銀源に対して0.75〜30重量%の量を
含有することが好ましい。ハロゲン化銀は、ハロゲンイ
オンとの反応による銀石鹸部の変換によって調製しても
よく、予備形成して石鹸の発生時にこれを添加してもよ
く、またはこれらの方法の組み合わせも可能である。後
者が好ましい。
化銀は感光性のいかなるハロゲン化銀(例えば、臭化
銀、ヨウ化銀、銀化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ
臭化銀等)であってもよいがヨウ素イオンを含むことが
好ましい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像形成
層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元可
能な銀源に近接するように配置する。一般にハロゲン化
銀は還元可能銀源に対して0.75〜30重量%の量を
含有することが好ましい。ハロゲン化銀は、ハロゲンイ
オンとの反応による銀石鹸部の変換によって調製しても
よく、予備形成して石鹸の発生時にこれを添加してもよ
く、またはこれらの方法の組み合わせも可能である。後
者が好ましい。
【0095】還元可能な銀源は還元可能な銀イオン源を
含有する有機及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10
〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族
カルボン酸が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の
銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀
塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Research Dis
closure 第17029及び29963に記載されてお
り、次のものがある:有機酸の塩(例えば、没食子酸、
シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラ
ウリン酸等);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例
えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−
(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿
素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸
とのポリマー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアル
デヒド)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、
安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チ
オジサリチル酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例え
ば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメ
チル−4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カル
ボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イミ
ダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チア
ゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベン
ジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリア
ゾールから選択される窒素酸と銀との錯体また塩;サッ
カリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及
びメルカプチド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀で
ある。還元可能な銀源は好ましくは銀量として3g/m2
以下である。さらに好ましくは2g/m2以下である。
含有する有機及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10
〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族
カルボン酸が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の
銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀
塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Research Dis
closure 第17029及び29963に記載されてお
り、次のものがある:有機酸の塩(例えば、没食子酸、
シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラ
ウリン酸等);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例
えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−
(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿
素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸
とのポリマー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアル
デヒド)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、
安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チ
オジサリチル酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例え
ば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメ
チル−4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カル
ボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イミ
ダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チア
ゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベン
ジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリア
ゾールから選択される窒素酸と銀との錯体また塩;サッ
カリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及
びメルカプチド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀で
ある。還元可能な銀源は好ましくは銀量として3g/m2
以下である。さらに好ましくは2g/m2以下である。
【0096】このような感光材料中にはかぶり防止剤が
含まれて良い。最も有効なかぶり防止剤は水銀イオンで
あった。感光材料中にかぶり防止剤として水銀化合物を
使用することについては、例えば米国特許第35899
03号に開示されている。しかし、水銀化合物は環境的
に好ましくない。非水銀かぶり防止剤としては例えば米
国特許第4546075号及び4452885号及び日
本特許公開第59−57234号に開示されているよう
なかぶり防止剤が好ましい。
含まれて良い。最も有効なかぶり防止剤は水銀イオンで
あった。感光材料中にかぶり防止剤として水銀化合物を
使用することについては、例えば米国特許第35899
03号に開示されている。しかし、水銀化合物は環境的
に好ましくない。非水銀かぶり防止剤としては例えば米
国特許第4546075号及び4452885号及び日
本特許公開第59−57234号に開示されているよう
なかぶり防止剤が好ましい。
【0097】特に好ましい非水銀かぶり防止剤は、米国
特許第3874946号及び4756999号に開示さ
れているような化合物、−C(X1 )(X2 )(X3 )
(ここでX1 およびX2 はハロゲン(例えば、F、C
l、BrおよびI)でX3 は水素又はハロゲン)で表さ
れる1以上の置換基を備えたヘテロ環状化合物である。
好適なかぶり防止剤の例としては次のものがある。
特許第3874946号及び4756999号に開示さ
れているような化合物、−C(X1 )(X2 )(X3 )
(ここでX1 およびX2 はハロゲン(例えば、F、C
l、BrおよびI)でX3 は水素又はハロゲン)で表さ
れる1以上の置換基を備えたヘテロ環状化合物である。
好適なかぶり防止剤の例としては次のものがある。
【0098】
【化17】
【0099】
【化18】
【0100】更により好適なかぶり防止剤は米国特許第
5028523号及び英国特許出願第9222138
3.4号、9300147.7号、9311790.1
号に開示されている。
5028523号及び英国特許出願第9222138
3.4号、9300147.7号、9311790.1
号に開示されている。
【0101】本発明の熱現像感光材料には、例えば特開
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
4639414号、同4740455号、同47419
66号、同4751175号、同4835096号に記
載された増感色素が使用できる。
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
4639414号、同4740455号、同47419
66号、同4751175号、同4835096号に記
載された増感色素が使用できる。
【0102】本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばRESEARCH DISCLOSURE Item 17643IV−A項(1
978年12月p.23)、同Item 1831X項(1
978年8月p.437)に記載もしくは引用された文
献に記載されている。
ばRESEARCH DISCLOSURE Item 17643IV−A項(1
978年12月p.23)、同Item 1831X項(1
978年8月p.437)に記載もしくは引用された文
献に記載されている。
【0103】特に各種スキャナー光源の分光特性に適し
た分光感度を有する増感色素を有利に選択することがで
きる。
た分光感度を有する増感色素を有利に選択することがで
きる。
【0104】例えばA)アルゴンレーザー光源に対して
は、特開昭60−162247号、特開平2−4865
3号、米国特許2,161,331号、西独特許93
6,071号、特願平3−189532号記載のシンプ
ルメロシアニン類、B)ヘリウム−ネオンレーザー光源
に対しては、特開昭50−62425号、同54−18
726号、同59−102229号に示された三核シア
ニン色素類、特願平6−103272号に示されたメロ
シアニン類、C)LED光源及び赤色半導体レーザーに
対しては特公昭48−42172号、同51−9609
号、同55−39818号へ特開昭62−284343
号、特開平2−105135号に記載されたチアカルボ
シアニン類、D)赤外半導体レーザー光源に対しては特
開昭59−191032号、特開昭60−80841号
に記載されたトリカルボシアニン類、特開昭59−19
2242号、特開平3−67242号の一般式(III
a)、一般式(IIIb)に記載された4−キノリン核を含
有するジカルボシアニン類などが有利に選択される。
は、特開昭60−162247号、特開平2−4865
3号、米国特許2,161,331号、西独特許93
6,071号、特願平3−189532号記載のシンプ
ルメロシアニン類、B)ヘリウム−ネオンレーザー光源
に対しては、特開昭50−62425号、同54−18
726号、同59−102229号に示された三核シア
ニン色素類、特願平6−103272号に示されたメロ
シアニン類、C)LED光源及び赤色半導体レーザーに
対しては特公昭48−42172号、同51−9609
号、同55−39818号へ特開昭62−284343
号、特開平2−105135号に記載されたチアカルボ
シアニン類、D)赤外半導体レーザー光源に対しては特
開昭59−191032号、特開昭60−80841号
に記載されたトリカルボシアニン類、特開昭59−19
2242号、特開平3−67242号の一般式(III
a)、一般式(IIIb)に記載された4−キノリン核を含
有するジカルボシアニン類などが有利に選択される。
【0105】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
【0106】本発明の熱現像感光材料の露光は、Arレ
ーザー(488nm)、He−Neレーザー(633n
m)、赤色半導体レーザー(670nm)、赤外半導体レ
ーザー(780nm、830nm)などが好ましい。
ーザー(488nm)、He−Neレーザー(633n
m)、赤色半導体レーザー(670nm)、赤外半導体レ
ーザー(780nm、830nm)などが好ましい。
【0107】本発明の熱現像感光材料にはハレーション
防止層として、染料を含有する層を設ける事ができる。
Arレーザー、He−Neレーザー、赤色半導体レーザ
ー用には400nm〜750nmの範囲で、露光波長に少な
くとも0.3以上、好ましくは0.8以上の吸収となる
ように染料を添加する。赤外半導体レーザー用には75
0nm〜1500nmの範囲で、露光波長に少なくとも0.
3以上、好ましくは0.8以上の吸収となるように染料
を添加する。染料は1種でも数種を組み合わせても良
い。
防止層として、染料を含有する層を設ける事ができる。
Arレーザー、He−Neレーザー、赤色半導体レーザ
ー用には400nm〜750nmの範囲で、露光波長に少な
くとも0.3以上、好ましくは0.8以上の吸収となる
ように染料を添加する。赤外半導体レーザー用には75
0nm〜1500nmの範囲で、露光波長に少なくとも0.
3以上、好ましくは0.8以上の吸収となるように染料
を添加する。染料は1種でも数種を組み合わせても良
い。
【0108】該染料は感光層と同じ側の支持体に近い染
料層あるいは、感光層と反対側の染料層に添加する事が
できる。
料層あるいは、感光層と反対側の染料層に添加する事が
できる。
【0109】本発明で用いられる支持体は、紙、合成
紙、合成樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン)をラミネートした紙、プラスチック
フィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリ
アセテート)、金属板(例えば、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、亜鉛、鉄、銅)、上記のような金属がラミ
ネートあるいは蒸着された紙やプラスチックフィルムな
どが用いられる。
紙、合成樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン)をラミネートした紙、プラスチック
フィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリ
アセテート)、金属板(例えば、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、亜鉛、鉄、銅)、上記のような金属がラミ
ネートあるいは蒸着された紙やプラスチックフィルムな
どが用いられる。
【0110】一方、プラスチックフィルムを熱現像機に
通すとフィルムの寸法が伸縮する。印刷感光材料として
使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を行う時に重大
な問題となる。よって本発明では寸法変化の小さいフィ
ルムを用いることが好ましい。例えば、シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体や熱処理したポリエ
チレンなどがある。ガラス転移点の高いものも好まし
く、ポリエーテルエチルケトン、ポリスチレン、ポリス
ルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート等
が使用できる。
通すとフィルムの寸法が伸縮する。印刷感光材料として
使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を行う時に重大
な問題となる。よって本発明では寸法変化の小さいフィ
ルムを用いることが好ましい。例えば、シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体や熱処理したポリエ
チレンなどがある。ガラス転移点の高いものも好まし
く、ポリエーテルエチルケトン、ポリスチレン、ポリス
ルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート等
が使用できる。
【0111】
実施例1 (有機酸銀乳剤Aの調製)ベヘン酸840g 、ステアリ
ン酸95g を12リットルの水に添加し90℃に保ちな
がら、水酸化ナトリウム48g 、炭酸ナトリウム63g
を1.5リットルの水に溶解したものを添加した。30
分攪拌した後50℃とし、N−ブロモスクシンイミド1
%水溶液1.1リットルを添加し、次いで硝酸銀17%
水溶液2.3リットルを攪拌しながら徐々に添加した。
さらに液温を35℃とし、攪拌しながら臭化カリウム2
%水溶液1.5リットルを2分間かけて添加した後30
分間攪拌し、N−ブロモスクシンイミド1%水溶液2.
4リットルを添加した。この水系混合物に攪拌しながら
1.2重量%ポリ酢酸ビニルの酢酸ブチル溶液3300
g を加えた後10分間静置し2層に分離させ水層を取り
除き、さらに残されたゲルを水で2回洗浄した。こうし
て得られたゲル状のベヘン酸/ステアリン酸銀および臭
化銀の混合物をポリビニルブチラール(電気化学工業
(株)製デンカブチラール#3000−K)の2.6%
2−ブタノン溶液1800g で分散し、さらにポリビニ
ルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブチラール
#4000−2)600g 、イソプロピルアルコール3
00g と共に分散し有機酸銀塩乳剤(平均短径0.05
μm 、平均長径1.2μm 、変動係数25%の針状粒
子)を得た。
ン酸95g を12リットルの水に添加し90℃に保ちな
がら、水酸化ナトリウム48g 、炭酸ナトリウム63g
を1.5リットルの水に溶解したものを添加した。30
分攪拌した後50℃とし、N−ブロモスクシンイミド1
%水溶液1.1リットルを添加し、次いで硝酸銀17%
水溶液2.3リットルを攪拌しながら徐々に添加した。
さらに液温を35℃とし、攪拌しながら臭化カリウム2
%水溶液1.5リットルを2分間かけて添加した後30
分間攪拌し、N−ブロモスクシンイミド1%水溶液2.
4リットルを添加した。この水系混合物に攪拌しながら
1.2重量%ポリ酢酸ビニルの酢酸ブチル溶液3300
g を加えた後10分間静置し2層に分離させ水層を取り
除き、さらに残されたゲルを水で2回洗浄した。こうし
て得られたゲル状のベヘン酸/ステアリン酸銀および臭
化銀の混合物をポリビニルブチラール(電気化学工業
(株)製デンカブチラール#3000−K)の2.6%
2−ブタノン溶液1800g で分散し、さらにポリビニ
ルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブチラール
#4000−2)600g 、イソプロピルアルコール3
00g と共に分散し有機酸銀塩乳剤(平均短径0.05
μm 、平均長径1.2μm 、変動係数25%の針状粒
子)を得た。
【0112】(乳剤層塗布液Aの調製)上記で得た有機
銀塩乳剤に銀1モル当たり以下の量となるように各薬品
を添加した。25℃でフェニルチオスルホン酸ナトリウ
ム10mg、増感色素Aを75mg、2−メルカプト−5−
メチルベンゾイミダゾール2g、2−メルカプト−5−
メチルベンゾチアゾール1g,4−クロロベンゾフェノ
ン−2−カルボン酸21.5gと2−ブタノン580
g、ジメチルホルムアミド220gを撹拌しながら添加
し3時間放置した。ついで、4,6−ジトリクロロメチ
ル−2−フェニルトリアジン4.5g、ジスルフィド化
合物Aを2g、1,1ビス(2−ヒドロキシ−3,5−
ジメチルフェニル)3,5,5−トリメチルエキサン1
60g、フタラジン15g、テトラクロロフタル酸5
g、表に記載のヒドラジン誘導体を表に記載の量、メガ
ファックスF−176P(大日本インキ化学工業(株)
製フッ素系界面活性剤)1.1g、2−ブタノン590
g、メチルイソブチルケトン10gを撹拌しながら添加
した。
銀塩乳剤に銀1モル当たり以下の量となるように各薬品
を添加した。25℃でフェニルチオスルホン酸ナトリウ
ム10mg、増感色素Aを75mg、2−メルカプト−5−
メチルベンゾイミダゾール2g、2−メルカプト−5−
メチルベンゾチアゾール1g,4−クロロベンゾフェノ
ン−2−カルボン酸21.5gと2−ブタノン580
g、ジメチルホルムアミド220gを撹拌しながら添加
し3時間放置した。ついで、4,6−ジトリクロロメチ
ル−2−フェニルトリアジン4.5g、ジスルフィド化
合物Aを2g、1,1ビス(2−ヒドロキシ−3,5−
ジメチルフェニル)3,5,5−トリメチルエキサン1
60g、フタラジン15g、テトラクロロフタル酸5
g、表に記載のヒドラジン誘導体を表に記載の量、メガ
ファックスF−176P(大日本インキ化学工業(株)
製フッ素系界面活性剤)1.1g、2−ブタノン590
g、メチルイソブチルケトン10gを撹拌しながら添加
した。
【0113】(乳剤面保護層塗布液Aの調整)CAB1
71−15S(イーストマンケミカル(株)製酢酸酪酸
セルロース)75g、4−メチルフタル酸5.7g、テ
トラクロロフタル酸無水物1.5g、2−トリブロモメ
チルフォニルベンゾチアゾール10g,フタラゾン2
g、0.3gのメガファックスF−176P0.3g、
シルデックスH31(洞海化学社製真球状シリカ平均サ
イズ3μm)2g、sumidur N3500(住友バイエル
ウレタン社製ポリイソシアネート)5gを2−ブタノン
3070gと酢酸エチル30gに溶解したものを調製し
た。
71−15S(イーストマンケミカル(株)製酢酸酪酸
セルロース)75g、4−メチルフタル酸5.7g、テ
トラクロロフタル酸無水物1.5g、2−トリブロモメ
チルフォニルベンゾチアゾール10g,フタラゾン2
g、0.3gのメガファックスF−176P0.3g、
シルデックスH31(洞海化学社製真球状シリカ平均サ
イズ3μm)2g、sumidur N3500(住友バイエル
ウレタン社製ポリイソシアネート)5gを2−ブタノン
3070gと酢酸エチル30gに溶解したものを調製し
た。
【0114】(バック面を有した支持体の作成)ポリビ
ニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブチラー
ル#4000−2)6g、シルデックスH121(洞海
化学社製真球状シリカ平均サイズ12μm )0.2g、
シルデックスH51(洞海化学社製真球状シリカ平均サ
イズ5μm )0.2g、0.1gのメガファックスF−
176P2−プロパノール64gに攪拌しながら添加し
溶解および混合させた。さらに、420mgの染料Aをメ
タノール10gとアセトン20gに溶かした混合溶液お
よび3−イソシアナトメチル−3,5,5−トリメチル
ヘキシルイソシアネート0.8gを酢酸エチル6gに溶
かした溶液を添加し塗布液を調製した。
ニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブチラー
ル#4000−2)6g、シルデックスH121(洞海
化学社製真球状シリカ平均サイズ12μm )0.2g、
シルデックスH51(洞海化学社製真球状シリカ平均サ
イズ5μm )0.2g、0.1gのメガファックスF−
176P2−プロパノール64gに攪拌しながら添加し
溶解および混合させた。さらに、420mgの染料Aをメ
タノール10gとアセトン20gに溶かした混合溶液お
よび3−イソシアナトメチル−3,5,5−トリメチル
ヘキシルイソシアネート0.8gを酢酸エチル6gに溶
かした溶液を添加し塗布液を調製した。
【0115】両面が塩化ビニリデンを含む防湿下塗りか
らなるポリエチレンテレフタレートフィルム上にバック
面塗布液を633nmの光学濃度0.7となるように塗布
した。
らなるポリエチレンテレフタレートフィルム上にバック
面塗布液を633nmの光学濃度0.7となるように塗布
した。
【0116】上記のごとく調整した支持体上に乳剤層塗
布液を銀が2g/m2となるように塗布した後、乳剤面上に
乳剤面保護層塗布液を乾燥厚さ5μm となるように塗布
した。
布液を銀が2g/m2となるように塗布した後、乳剤面上に
乳剤面保護層塗布液を乾燥厚さ5μm となるように塗布
した。
【0117】(写真性能の評価)大日本スクリーン
(株)製のヘリウム−ネオン光源カラースキャナーSG
−608を使用して写真材料を露光した後、写真材料を
ヒートドラムを使用して115℃で25秒間処理(現
像)し、さらにハロゲンランプで15秒曝光した後、得
られた画像の評価を濃度計により行った。測定の結果
は、Dmax、感度(Dminより1.5高い濃度を与
える露光量の比の逆数)で評価した。また、特性曲線で
濃度0.3と3.0の点を結ぶ直線の傾きを階調γとし
て示した。結果を表8に示す。
(株)製のヘリウム−ネオン光源カラースキャナーSG
−608を使用して写真材料を露光した後、写真材料を
ヒートドラムを使用して115℃で25秒間処理(現
像)し、さらにハロゲンランプで15秒曝光した後、得
られた画像の評価を濃度計により行った。測定の結果
は、Dmax、感度(Dminより1.5高い濃度を与
える露光量の比の逆数)で評価した。また、特性曲線で
濃度0.3と3.0の点を結ぶ直線の傾きを階調γとし
て示した。結果を表8に示す。
【0118】(黒ポツの評価)未露光の感光材料を、ヒ
ートドラムを使用して120℃で60秒間現像処理し、
発生した黒ポツの数を目視評価した。「5」が最もよく
「1」が最も悪い品質を表す。「3」が実用可能限界
で、「2」、「1」は実用不可である。結果を表8に示
す。
ートドラムを使用して120℃で60秒間現像処理し、
発生した黒ポツの数を目視評価した。「5」が最もよく
「1」が最も悪い品質を表す。「3」が実用可能限界
で、「2」、「1」は実用不可である。結果を表8に示
す。
【0119】また下記に実施例1で用いた化合物の構造
を示す。
を示す。
【0120】
【表8】
【0121】
【化19】
【0122】(結果)本発明のヒドラジン化合物を使用
することにより、高Dmax、硬調性、黒ポツ抑制性を
すべて満足する熱現像感光材料を得ることができた。
することにより、高Dmax、硬調性、黒ポツ抑制性を
すべて満足する熱現像感光材料を得ることができた。
【0123】実施例2 (ハロゲン化銀粒子Bの調製)水900mlにイナートゼ
ラチン7.5gおよび臭化カリウム10mgを溶解して温
度35℃にてpHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを
含む水溶液370mlと臭化カリウムと沃化カリウムとを
94:6のモル比で含みK4 〔Fe(CN)6〕を含む
水溶液をpAg 7.7に保ちながらコントロールダブルジ
ェット法で10分間かけて添加した。〔Fe(CN)
6 〕4-は銀1モルに対して3×10-5モルになるように
添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル1,3,
3a,7−テトラザインデン0.3gを添加し、NaO
HでpHを5に調整して平均サイズ0.06μm 投影面積
変動係数8%、{100}面比率87%の立方体沃臭化
銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集
沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加
え、pH5.9、pAg 7.5に調整した。
ラチン7.5gおよび臭化カリウム10mgを溶解して温
度35℃にてpHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを
含む水溶液370mlと臭化カリウムと沃化カリウムとを
94:6のモル比で含みK4 〔Fe(CN)6〕を含む
水溶液をpAg 7.7に保ちながらコントロールダブルジ
ェット法で10分間かけて添加した。〔Fe(CN)
6 〕4-は銀1モルに対して3×10-5モルになるように
添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル1,3,
3a,7−テトラザインデン0.3gを添加し、NaO
HでpHを5に調整して平均サイズ0.06μm 投影面積
変動係数8%、{100}面比率87%の立方体沃臭化
銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集
沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加
え、pH5.9、pAg 7.5に調整した。
【0124】(有機酸銀乳剤Bの調製)ベヘン酸10.
6g、蒸留水300mlを90℃で15分間混合し、激し
く攪拌しながら1N−NaOH水溶液31.1mlを15
分かけて添加し、そのまま1時間放置した後、30℃に
降温した。次に、1N−テトラクロロフタル酸5を添加
し、より激しく攪拌しながらN-ブロモスクシンイミド
0.13gを添加した後、あらかじめ調製したハロゲン
化銀粒子Bをハロゲン化銀量が2.5m モルとなるよう
に添加した。さらに、1N−硝酸銀水溶液25mlを2分
かけて連続添加し、そのまま90分間攪拌し続けた。こ
の水系混合物にポリ酢酸ビニルの1.2重量%の酢酸ブ
チル溶液37gを添加して分散物のフロックを形成後、
水を取り除き、更に2回の水洗と水の除去を行った後、
ポリビニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブ
チラール#3000−K)の2.5wt%の酢酸ブチルと
イソプロピルアルコール1:2混合溶液20gを攪拌し
ながら加えた後、こうして得られたゲル状の有機酸、ハ
ロゲン化銀の混合物にポリビニルブチラール(電気化学
工業(株)製デンカブチラール#4000−2)7.8
g、イソプロピルアルコール57gを添加しホモジナイ
ザーで分散し、ベヘン酸銀塩乳剤(平均短径0.04μ
m 、平均長径1μm 、変動係数30%の針状粒子)を得
た。
6g、蒸留水300mlを90℃で15分間混合し、激し
く攪拌しながら1N−NaOH水溶液31.1mlを15
分かけて添加し、そのまま1時間放置した後、30℃に
降温した。次に、1N−テトラクロロフタル酸5を添加
し、より激しく攪拌しながらN-ブロモスクシンイミド
0.13gを添加した後、あらかじめ調製したハロゲン
化銀粒子Bをハロゲン化銀量が2.5m モルとなるよう
に添加した。さらに、1N−硝酸銀水溶液25mlを2分
かけて連続添加し、そのまま90分間攪拌し続けた。こ
の水系混合物にポリ酢酸ビニルの1.2重量%の酢酸ブ
チル溶液37gを添加して分散物のフロックを形成後、
水を取り除き、更に2回の水洗と水の除去を行った後、
ポリビニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブ
チラール#3000−K)の2.5wt%の酢酸ブチルと
イソプロピルアルコール1:2混合溶液20gを攪拌し
ながら加えた後、こうして得られたゲル状の有機酸、ハ
ロゲン化銀の混合物にポリビニルブチラール(電気化学
工業(株)製デンカブチラール#4000−2)7.8
g、イソプロピルアルコール57gを添加しホモジナイ
ザーで分散し、ベヘン酸銀塩乳剤(平均短径0.04μ
m 、平均長径1μm 、変動係数30%の針状粒子)を得
た。
【0125】(乳剤層塗布液Bの調製)上記で得た有機
酸銀乳剤に銀1モル当たり以下の量となるように各薬品
を添加した。25℃でフェニルチオスルホン酸ナトリウ
ム10mg、増感色素Aを85mg、2−メルカプト−5−
メチルベンゾイミダゾール2g、4−クロロベンゾフェ
ノン−2−カルボン酸21.5gと2-ブタノン580
g、ジメチルホルムアミド220gを攪拌しながら添加
し3時間放置した。ついで、4,6−ジトリクロロメチ
ル−2−フェニルトリアジン4g、ジスルフィド化合物
Aを2g、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン1
70g、テトラクロロフタル酸5g、フタラジン15
g、表に記載のヒドラジン誘導体を表に記載の量、メガ
ファックスF−176P(大日本インキ化学工業(株)
製フッ素系界面活性剤)1.1g、2−ブタノン590
g、メチルイソブチルケトン10gを攪拌しながら添加
した。
酸銀乳剤に銀1モル当たり以下の量となるように各薬品
を添加した。25℃でフェニルチオスルホン酸ナトリウ
ム10mg、増感色素Aを85mg、2−メルカプト−5−
メチルベンゾイミダゾール2g、4−クロロベンゾフェ
ノン−2−カルボン酸21.5gと2-ブタノン580
g、ジメチルホルムアミド220gを攪拌しながら添加
し3時間放置した。ついで、4,6−ジトリクロロメチ
ル−2−フェニルトリアジン4g、ジスルフィド化合物
Aを2g、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン1
70g、テトラクロロフタル酸5g、フタラジン15
g、表に記載のヒドラジン誘導体を表に記載の量、メガ
ファックスF−176P(大日本インキ化学工業(株)
製フッ素系界面活性剤)1.1g、2−ブタノン590
g、メチルイソブチルケトン10gを攪拌しながら添加
した。
【0126】CAB171−15S(イーストマンケミ
カル(株)製酢酸酪酸セルロース)75g、4-メチルフ
タル酸5.7g、テトラクロロフタル酸無水物1.5
g、5−トリブロモメチルスルフォニル−2−メチルチ
アジアゾール8g、2−トリブロモメチルスルフォニル
ベンゾチアゾール6g、フタラゾン3g、0.3gのメ
ガファックスF−176P、シルデックスH31( 洞海
化学社製真球状シリカ平均サイズ3μm)2g、sumidur
N3500(住友バイエルウレタン社製ポリイソシアネ
ート)6gを2−ブタノン3070gと酢酸エチル30
gに溶解したものを調製した。
カル(株)製酢酸酪酸セルロース)75g、4-メチルフ
タル酸5.7g、テトラクロロフタル酸無水物1.5
g、5−トリブロモメチルスルフォニル−2−メチルチ
アジアゾール8g、2−トリブロモメチルスルフォニル
ベンゾチアゾール6g、フタラゾン3g、0.3gのメ
ガファックスF−176P、シルデックスH31( 洞海
化学社製真球状シリカ平均サイズ3μm)2g、sumidur
N3500(住友バイエルウレタン社製ポリイソシアネ
ート)6gを2−ブタノン3070gと酢酸エチル30
gに溶解したものを調製した。
【0127】(バック面を有した支持体の作成)ポリビ
ニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブチラー
ル#4000−2)6g、シルデックスH121(洞海
化学社製真球状シリカ平均サイズ12μm)0.2g、シ
ルデックスH51(洞海化学社製真球状シリカ平均サイ
ズ5μm)0.2g、0.1gのメガファックスF−1
76P2−プロパノール64gに攪拌しながら添加し溶
解および混合させた。さらに、420mgの染料Aをメタ
ノール10gとアセトン20gに溶かした混合溶液およ
び3−イソシアナトメチル−3,5,5,−トリメチル
ヘキシルイソシアネート0.8gを酢酸エチル6gに溶
かした溶液を添加し塗布液を調製した。
ニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカブチラー
ル#4000−2)6g、シルデックスH121(洞海
化学社製真球状シリカ平均サイズ12μm)0.2g、シ
ルデックスH51(洞海化学社製真球状シリカ平均サイ
ズ5μm)0.2g、0.1gのメガファックスF−1
76P2−プロパノール64gに攪拌しながら添加し溶
解および混合させた。さらに、420mgの染料Aをメタ
ノール10gとアセトン20gに溶かした混合溶液およ
び3−イソシアナトメチル−3,5,5,−トリメチル
ヘキシルイソシアネート0.8gを酢酸エチル6gに溶
かした溶液を添加し塗布液を調製した。
【0128】両面が塩化ビニリデンを含む防湿下塗りか
らなるポリエチレンテレフタレートフィルム上にバック
面塗布液を633nmの光学濃度0.7となるように塗布
した。
らなるポリエチレンテレフタレートフィルム上にバック
面塗布液を633nmの光学濃度0.7となるように塗布
した。
【0129】上記のごとく調整した支持体上に乳剤層塗
布液を銀が2g/m2となるように塗布した後、乳剤面上に
乳剤面保護層塗布液を乾燥厚さ5μm となるように塗布
した。
布液を銀が2g/m2となるように塗布した後、乳剤面上に
乳剤面保護層塗布液を乾燥厚さ5μm となるように塗布
した。
【0130】(写真性能の評価)実施例1と同様に評価
した。結果を表9に示す。
した。結果を表9に示す。
【0131】(黒ポツの評価)実施例1と同様に評価し
た。結果を表9に示す。
た。結果を表9に示す。
【0132】
【表9】
【0133】(結果)本発明のヒドラジン化合物を使用
することにより、高Dmax、硬調性、黒ポツ抑制性を
すべて満足する熱現像感光材料を得ることができた。
することにより、高Dmax、硬調性、黒ポツ抑制性を
すべて満足する熱現像感光材料を得ることができた。
【0134】
【発明の効果】本発明によれば、Dmaxが高く、画質
がよい印刷製版用感光材料が実現し、湿式処理が必要な
い完全ドライ処理の印刷製版用感光材料が実現する。
がよい印刷製版用感光材料が実現し、湿式処理が必要な
い完全ドライ処理の印刷製版用感光材料が実現する。
Claims (2)
- 【請求項1】 有機銀塩とハロゲン化銀を含む熱現像感
光材料において、還元剤と下記式(1)の化合物を含有
することを特徴とする熱現像感光材料。 一般式(1) 【化1】 式中、R1 およびR2 はアルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、X1
は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、
ヘテロ環基、シアノ基、酸素原子で結合する基、窒素原
子で結合する基または硫黄原子で結合する基を表し、R
3 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヒド
ラジン基を表し、A1 およびA2 は共に水素原子、ある
いは一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基またはアシル基を表す。 - 【請求項2】 熱現像処理後の階調γが、γ>5である
ことを特徴とする請求項1の熱現像感光材料。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28035696A JPH1031282A (ja) | 1996-05-17 | 1996-09-30 | 熱現像感光材料 |
| EP97108057A EP0807850B1 (en) | 1996-05-17 | 1997-05-16 | Photothermographic material |
| US08/857,459 US6306574B1 (en) | 1996-05-17 | 1997-05-16 | Photothermographic material |
| DE69703221T DE69703221T2 (de) | 1996-05-17 | 1997-05-16 | Photothermographisches Material |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-148113 | 1996-05-17 | ||
| JP14811396 | 1996-05-17 | ||
| JP28035696A JPH1031282A (ja) | 1996-05-17 | 1996-09-30 | 熱現像感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1031282A true JPH1031282A (ja) | 1998-02-03 |
Family
ID=26478438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28035696A Pending JPH1031282A (ja) | 1996-05-17 | 1996-09-30 | 熱現像感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1031282A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010501562A (ja) * | 2006-08-21 | 2010-01-21 | シンタ ファーマシューティカルズ コーポレーション | 増殖性障害を治療するための化合物 |
-
1996
- 1996-09-30 JP JP28035696A patent/JPH1031282A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010501562A (ja) * | 2006-08-21 | 2010-01-21 | シンタ ファーマシューティカルズ コーポレーション | 増殖性障害を治療するための化合物 |
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