JPH10312960A - 電子ビーム描画装置の試料恒温化装置 - Google Patents
電子ビーム描画装置の試料恒温化装置Info
- Publication number
- JPH10312960A JPH10312960A JP9137748A JP13774897A JPH10312960A JP H10312960 A JPH10312960 A JP H10312960A JP 9137748 A JP9137748 A JP 9137748A JP 13774897 A JP13774897 A JP 13774897A JP H10312960 A JPH10312960 A JP H10312960A
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- Japan
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- chamber
- lock chamber
- electron beam
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- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 エアーロックチャンバを真空引きする際の断
熱膨張による試料の温度降下を短時間で的確に補償す
る。 【解決手段】 真空かつ恒温の描画室１に第１ゲートバ
ルブ７を介して接続されているエヤーロックチャンバ８
に窓１２を設け、この窓１２を光透過部材１３により気
密に閉じ、この光透過部材１３の外側に赤外線を照射す
るランプ１４を取り付け、このランプ１４からの赤外線
をエアーロックチャンバ８内に置かれた試料５に照射し
て断熱膨張による試料５の温度降下を防ぐ。
熱膨張による試料の温度降下を短時間で的確に補償す
る。 【解決手段】 真空かつ恒温の描画室１に第１ゲートバ
ルブ７を介して接続されているエヤーロックチャンバ８
に窓１２を設け、この窓１２を光透過部材１３により気
密に閉じ、この光透過部材１３の外側に赤外線を照射す
るランプ１４を取り付け、このランプ１４からの赤外線
をエアーロックチャンバ８内に置かれた試料５に照射し
て断熱膨張による試料５の温度降下を防ぐ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置に係り、特に高真空でかつ例えば２０℃または２５℃
のような所定の室温程度の温度に高精度に制御されてい
る描画室に、エアーロックチャンバを介して試料を搬入
する際、試料を所定温度に制御するための試料恒温化装
置に関する。
置に係り、特に高真空でかつ例えば２０℃または２５℃
のような所定の室温程度の温度に高精度に制御されてい
る描画室に、エアーロックチャンバを介して試料を搬入
する際、試料を所定温度に制御するための試料恒温化装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム描画装置の描画室は高真空に
保たれており、この描画室への試料の搬入は、真空と大
気圧とに交互に切り換えられるエヤーロックチャンバを
介して行われる。すなわち、エアーロックチャンバを大
気に開放して、この中に試料を入れ、エアーロックチャ
ンバを閉じて真空引きし、描画室とほぼ等しい真空圧に
なったところで、エアーロックチャンバを描画室に接続
してエアーロックチャンバ内の試料を描画室へ搬入す
る。
保たれており、この描画室への試料の搬入は、真空と大
気圧とに交互に切り換えられるエヤーロックチャンバを
介して行われる。すなわち、エアーロックチャンバを大
気に開放して、この中に試料を入れ、エアーロックチャ
ンバを閉じて真空引きし、描画室とほぼ等しい真空圧に
なったところで、エアーロックチャンバを描画室に接続
してエアーロックチャンバ内の試料を描画室へ搬入す
る。
【０００３】この描画室へ搬入される試料は、描画精度
を高めるために、所定の設定温度に正確に保つ必要があ
る。ところが上記のようにエアーロックチャンバを真空
引きする際、断熱膨張による温度降下が生じる。この温
度降下は、短時間のうちに真空引きをするとき程、大き
くなるため、運転能率の向上にとって大きな障害となっ
ている。
を高めるために、所定の設定温度に正確に保つ必要があ
る。ところが上記のようにエアーロックチャンバを真空
引きする際、断熱膨張による温度降下が生じる。この温
度降下は、短時間のうちに真空引きをするとき程、大き
くなるため、運転能率の向上にとって大きな障害となっ
ている。
【０００４】そこで、従来、特開昭５７ー１９０３１８
号公報に示されているように、試料を保持するカセット
にヒータを内蔵させて温度降下を補償する方法や、特開
昭６１ー２３９６２４号公報に示されているように、エ
アーロックチャンバ内に恒温水により所定温度に保たれ
るプレート状の温度調整部材を設け、試料をこれに接触
させることにより、温度降下を小さく抑えると共に、短
時間で所定温度に復帰させる方法などが提案されてい
る。
号公報に示されているように、試料を保持するカセット
にヒータを内蔵させて温度降下を補償する方法や、特開
昭６１ー２３９６２４号公報に示されているように、エ
アーロックチャンバ内に恒温水により所定温度に保たれ
るプレート状の温度調整部材を設け、試料をこれに接触
させることにより、温度降下を小さく抑えると共に、短
時間で所定温度に復帰させる方法などが提案されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、断熱膨張に
よる温度降下は、０．２℃程度のわずかな量であるた
め、ヒータによりこれを正確に温度補償することは非常
に困難であり、ハンチングを起こして誤差が拡大した
り、試料面内の温度分布が悪くなったりするなどの問題
を生じ、また、恒温水によるものは正確さは優れている
が、温度差がわずかであるため、時間が掛かる欠点があ
る。
よる温度降下は、０．２℃程度のわずかな量であるた
め、ヒータによりこれを正確に温度補償することは非常
に困難であり、ハンチングを起こして誤差が拡大した
り、試料面内の温度分布が悪くなったりするなどの問題
を生じ、また、恒温水によるものは正確さは優れている
が、温度差がわずかであるため、時間が掛かる欠点があ
る。
【０００６】本発明は、上記のようなエアーロックチャ
ンバ内における断熱膨張による温度降下を短時間で的確
に補償することのできる電子ビーム描画装置の試料恒温
化装置を提供することを目的としている。
ンバ内における断熱膨張による温度降下を短時間で的確
に補償することのできる電子ビーム描画装置の試料恒温
化装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、電子ビーム鏡筒を取り付けた真空かつ恒温
の描画室と、この描画室に第１ゲートバルブを介して接
続され真空と大気圧とに交互に切り換えられるエヤーロ
ックチャンバと、このエヤーロックチャンバに設けられ
た外部からの試料搬出入用の第２ゲートバルブとを有
し、前記エヤーロックチャンバを介して試料を描画室へ
搬入する電子ビーム描画装置の試料恒温化装置におい
て、前記エヤーロックチャンバに設けられた窓と、この
窓を気密に閉じる光透過部材と、この光透過部材の外側
に取り付けられエアーロックチャンバ内に置かれた試料
に前記光透過部材を通して赤外線を照射するランプとを
備えたものである。
の本発明は、電子ビーム鏡筒を取り付けた真空かつ恒温
の描画室と、この描画室に第１ゲートバルブを介して接
続され真空と大気圧とに交互に切り換えられるエヤーロ
ックチャンバと、このエヤーロックチャンバに設けられ
た外部からの試料搬出入用の第２ゲートバルブとを有
し、前記エヤーロックチャンバを介して試料を描画室へ
搬入する電子ビーム描画装置の試料恒温化装置におい
て、前記エヤーロックチャンバに設けられた窓と、この
窓を気密に閉じる光透過部材と、この光透過部材の外側
に取り付けられエアーロックチャンバ内に置かれた試料
に前記光透過部材を通して赤外線を照射するランプとを
備えたものである。
【０００８】この構成によれば、ハンチングの最も大き
な原因となる熱源であるランプはエアーロックチャンバ
外にあり、赤外線が光透過部材を通してエアーロックチ
ャンバ内の試料に照射されるのみであり、この赤外線は
熱量を微細に制御することができるため、試料に対する
わずかな温度補償を的確に行うことができる。また、試
料に照射する赤外線の分布は、反射鏡やレンズなどの光
学系により均一にすることができるため、試料全体をよ
り均一に加熱することができ、的確な温度補償が可能で
ある。
な原因となる熱源であるランプはエアーロックチャンバ
外にあり、赤外線が光透過部材を通してエアーロックチ
ャンバ内の試料に照射されるのみであり、この赤外線は
熱量を微細に制御することができるため、試料に対する
わずかな温度補償を的確に行うことができる。また、試
料に照射する赤外線の分布は、反射鏡やレンズなどの光
学系により均一にすることができるため、試料全体をよ
り均一に加熱することができ、的確な温度補償が可能で
ある。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図１に
より説明する。１は描画室で、第１真空ポンプ２により
１０ー７Ｔｏｒｒないしそれ以上の高真空に保たれ、さ
らに描画室１を構成する壁内などに図示省略した恒温水
を流すことにより、２０℃または２５℃などの所定のい
わゆる室温に正確に保たれている。
より説明する。１は描画室で、第１真空ポンプ２により
１０ー７Ｔｏｒｒないしそれ以上の高真空に保たれ、さ
らに描画室１を構成する壁内などに図示省略した恒温水
を流すことにより、２０℃または２５℃などの所定のい
わゆる室温に正確に保たれている。
【００１０】描画室１の上には電子ビーム鏡筒３が取り
付けられ、描画室１内には描画ステージ４が配置されて
いる。これらの電子ビーム鏡筒３及び描画ステージ４
は、公知のものと同様であるため、詳細な説明は省略す
るが、描画ステージ４の上には試料５がセットされ、描
画ステージ４の移動と電子ビーム鏡筒３からの電子ビー
ム６の走査により、試料５の表面に所望のパターンを描
画するようになっている。
付けられ、描画室１内には描画ステージ４が配置されて
いる。これらの電子ビーム鏡筒３及び描画ステージ４
は、公知のものと同様であるため、詳細な説明は省略す
るが、描画ステージ４の上には試料５がセットされ、描
画ステージ４の移動と電子ビーム鏡筒３からの電子ビー
ム６の走査により、試料５の表面に所望のパターンを描
画するようになっている。
【００１１】描画室１には第１ゲートバルブ７を介して
エアーロックチャンバ８が接続されている。このエアー
ロックチャンバ８は、描画室１と同様に恒温水により、
描画室１と等しい温度に正確に保たれるようになってい
る。このエアーロックチャンバ８には、これを大気に開
放するための第２ゲートバルブ９が設けられている。エ
アーロックチャンバ８内は、第２真空ポンプ１０により
描画室１とほぼ等しい真空圧まで真空引きされると共
に、図示省略したリーク手段により窒素ガスなどを導入
して大気圧に戻すことができるようになっている。
エアーロックチャンバ８が接続されている。このエアー
ロックチャンバ８は、描画室１と同様に恒温水により、
描画室１と等しい温度に正確に保たれるようになってい
る。このエアーロックチャンバ８には、これを大気に開
放するための第２ゲートバルブ９が設けられている。エ
アーロックチャンバ８内は、第２真空ポンプ１０により
描画室１とほぼ等しい真空圧まで真空引きされると共
に、図示省略したリーク手段により窒素ガスなどを導入
して大気圧に戻すことができるようになっている。
【００１２】エアーロックチャンバ８内には、試料５を
載置するための台１１が設けられている。この台１１上
の試料５は、図示しない搬送装置により描画ステージ４
上に移載されるようになっている。
載置するための台１１が設けられている。この台１１上
の試料５は、図示しない搬送装置により描画ステージ４
上に移載されるようになっている。
【００１３】エアーロックチャンバ８の上壁には、試料
５より若干大きな窓１２が設けられ、この窓１２は、ガ
ラス、好ましくは石英ガラス等の赤外線に対する透過率
が高い光透過部材１３により気密に閉じられている。
５より若干大きな窓１２が設けられ、この窓１２は、ガ
ラス、好ましくは石英ガラス等の赤外線に対する透過率
が高い光透過部材１３により気密に閉じられている。
【００１４】光透過部材１３の外側には、光透過部材１
３の透過率が高い波長の赤外線、例えば光透過部材１３
が石英ガラスの場合には波長が１μｍ程度の近赤外線を
より多く発生するランプ１４が台１１に向けて設けられ
ている。このランプ１４の背面側には反射鏡１５が取り
付けられ、ランプ１４の前面側にはレンズ１６が取り付
けられ、これらの光学系によりランプ１４からの赤外線
を試料５の全面に均一な分布で照射するように形成され
ている。
３の透過率が高い波長の赤外線、例えば光透過部材１３
が石英ガラスの場合には波長が１μｍ程度の近赤外線を
より多く発生するランプ１４が台１１に向けて設けられ
ている。このランプ１４の背面側には反射鏡１５が取り
付けられ、ランプ１４の前面側にはレンズ１６が取り付
けられ、これらの光学系によりランプ１４からの赤外線
を試料５の全面に均一な分布で照射するように形成され
ている。
【００１５】次いで本装置の作用について説明する。エ
アーロックチャンバ８内を図示省略したリーク手段によ
り窒素ガスなどを導入して大気圧に戻す。第２ゲートバ
ルブ９を開き、図示省略した外部からの試料搬送装置に
より台１１の上に試料５を載せる。第２ゲートバルブ９
を閉じ、エアーロックチャンバ８内を第２真空ポンプ１
０により描画室１とほぼ等しい真空圧まで真空引きす
る。
アーロックチャンバ８内を図示省略したリーク手段によ
り窒素ガスなどを導入して大気圧に戻す。第２ゲートバ
ルブ９を開き、図示省略した外部からの試料搬送装置に
より台１１の上に試料５を載せる。第２ゲートバルブ９
を閉じ、エアーロックチャンバ８内を第２真空ポンプ１
０により描画室１とほぼ等しい真空圧まで真空引きす
る。
【００１６】このとき、エアーロックチャンバ８内は、
断熱膨張により温度が低下し、試料５の温度が、前述し
たように通常では０．２℃程度低下する。そこで、上記
真空引きと同時にランプ１５を所定の出力もしくは試料
５の温度に応じた出力で点灯し、ランプ５からの赤外線
を試料５に照射して試料５の温度低下を抑える。試料５
に照射される赤外線は前述したように試料５の全面にわ
たり均一な分布となるように設定されているため、試料
５は全体が一様に加熱され、的確に温度補償される。
断熱膨張により温度が低下し、試料５の温度が、前述し
たように通常では０．２℃程度低下する。そこで、上記
真空引きと同時にランプ１５を所定の出力もしくは試料
５の温度に応じた出力で点灯し、ランプ５からの赤外線
を試料５に照射して試料５の温度低下を抑える。試料５
に照射される赤外線は前述したように試料５の全面にわ
たり均一な分布となるように設定されているため、試料
５は全体が一様に加熱され、的確に温度補償される。
【００１７】なお、ランプ１４から試料５に至る赤外線
は窓１２の光透過部材１２を１００％透過しないため、
光透過部材１２は比較的わずかではあるが加熱される。
この加熱に対しては、光透過部材１２に冷風を吹き付け
ることなどによる昇温防止対策等を施すことにより、光
透過部材１２の温度を一定に保つようにすることが好ま
しい。
は窓１２の光透過部材１２を１００％透過しないため、
光透過部材１２は比較的わずかではあるが加熱される。
この加熱に対しては、光透過部材１２に冷風を吹き付け
ることなどによる昇温防止対策等を施すことにより、光
透過部材１２の温度を一定に保つようにすることが好ま
しい。
【００１８】こうして試料５の温度を一定に保ちつつエ
アーロックチャンバ８内を所定の真空圧まで真空引きし
たならば、第１ゲートバルブ７を開いて台１１上の試料
５を描画室１内の描画ステージ４上に搬入して描画す
る。
アーロックチャンバ８内を所定の真空圧まで真空引きし
たならば、第１ゲートバルブ７を開いて台１１上の試料
５を描画室１内の描画ステージ４上に搬入して描画す
る。
【００１９】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、加熱
源であるランプがエアーロックチャンバ外にあり、エア
ーロックチャンバ内へは赤外線が入るのみであるため、
ハンチングを起こすことなく的確な温度制御を行うこと
ができ、この赤外線はランプの出力を制御することによ
りその熱量を微細に制御することができるため、試料に
対するわずかな温度補償を的確に行うことができ、真空
引き完了時の試料の温度低下を０．０５℃以下に抑える
ことができた。また、試料に照射する赤外線の分布は、
反射鏡やレンズなどの光学系により均一にすることがで
きるため、試料全体をより均一に加熱することができ、
試料の寸法変化を小さく抑えることができ、一辺が２０
０ｍｍのガラスの試料において変形量を０．００５μｍ
以下に抑えることができた。
源であるランプがエアーロックチャンバ外にあり、エア
ーロックチャンバ内へは赤外線が入るのみであるため、
ハンチングを起こすことなく的確な温度制御を行うこと
ができ、この赤外線はランプの出力を制御することによ
りその熱量を微細に制御することができるため、試料に
対するわずかな温度補償を的確に行うことができ、真空
引き完了時の試料の温度低下を０．０５℃以下に抑える
ことができた。また、試料に照射する赤外線の分布は、
反射鏡やレンズなどの光学系により均一にすることがで
きるため、試料全体をより均一に加熱することができ、
試料の寸法変化を小さく抑えることができ、一辺が２０
０ｍｍのガラスの試料において変形量を０．００５μｍ
以下に抑えることができた。
【図１】本発明の実施の形態を示す概要断面図。
１ 描画室 ２ 第１真空ポンプ ３ 電子ビーム鏡筒 ４ 描画ステージ ５ 試料 ６ 電子ビーム ７ 第１ゲートバルブ ８ エアーロックチャンバ ９ 第２ゲートバルブ １０ 第２真空ポンプ １１ 台 １２ 窓 １３ 光透過部材 １４ ランプ １５ 反射鏡 １６ レンズ
Claims (1)
- 【請求項１】 電子ビーム鏡筒を取り付けた真空かつ恒
温の描画室と、この描画室に第１ゲートバルブを介して
接続され真空と大気圧とに交互に切り換えられるエヤー
ロックチャンバと、このエヤーロックチャンバに設けら
れた外部からの試料搬出入用の第２ゲートバルブとを有
し、前記エヤーロックチャンバを介して試料を描画室へ
搬入する電子ビーム描画装置の試料恒温化装置におい
て、 前記エヤーロックチャンバに設けられた窓と、この窓を
気密に閉じる光透過部材と、この光透過部材の外側に取
り付けられエアーロックチャンバ内に置かれた試料に前
記光透過部材を通して赤外線を照射するランプとを備え
たことを特徴とする電子ビーム描画装置の試料恒温化装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9137748A JPH10312960A (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 電子ビーム描画装置の試料恒温化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9137748A JPH10312960A (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 電子ビーム描画装置の試料恒温化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10312960A true JPH10312960A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=15205917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9137748A Pending JPH10312960A (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 電子ビーム描画装置の試料恒温化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10312960A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003031470A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-31 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2008064694A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Canon Inc | 干渉計測装置 |
-
1997
- 1997-05-13 JP JP9137748A patent/JPH10312960A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003031470A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-31 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2008064694A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Canon Inc | 干渉計測装置 |
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