JPH10318576A - 還気設備およびこれが一体化された製造装置 - Google Patents
還気設備およびこれが一体化された製造装置Info
- Publication number
- JPH10318576A JPH10318576A JP13127497A JP13127497A JPH10318576A JP H10318576 A JPH10318576 A JP H10318576A JP 13127497 A JP13127497 A JP 13127497A JP 13127497 A JP13127497 A JP 13127497A JP H10318576 A JPH10318576 A JP H10318576A
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- Japan
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- chamber
- air
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Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体製造用等のクリーンルームにおいて、床
下チャンバや天井チャンバを小さくすることができ、製
造装置の増設等にも柔軟に対応することができ、設備コ
ストが低減できるようにする。 【解決手段】製造装置1は、層流式クリーンルーム2に
隣接する乱流式クリーンルーム3内に、部品や製品の出
し入れ口15を層流式クリーンルーム2に向けて設置さ
れる。製造装置1のハウジング12の一面を、両クリー
ンルーム2,3の境界壁11と一体化した。この境界壁
11の層流式クリーンルーム2側の面に、還気ダクト1
3を固定した。
下チャンバや天井チャンバを小さくすることができ、製
造装置の増設等にも柔軟に対応することができ、設備コ
ストが低減できるようにする。 【解決手段】製造装置1は、層流式クリーンルーム2に
隣接する乱流式クリーンルーム3内に、部品や製品の出
し入れ口15を層流式クリーンルーム2に向けて設置さ
れる。製造装置1のハウジング12の一面を、両クリー
ンルーム2,3の境界壁11と一体化した。この境界壁
11の層流式クリーンルーム2側の面に、還気ダクト1
3を固定した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム内
への還気設備およびクリーンルームで使用される製造装
置に関する。
への還気設備およびクリーンルームで使用される製造装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】最近の半導体製造工場においては、例え
ば、図6および図7(図6のB−B線断面図)に示すよ
うに、清浄度の異なる乱流式クリーンルーム3と層流式
クリーンルーム2とを隣接させ、多数の製造装置10
を、より清浄度の低い乱流式クリーンルーム3内に設置
し、その前面(部品や製品の出し入れを行う出し入れ口
側の面)が、より清浄度の高い層流式クリーンルーム2
側に向くように配置している。
ば、図6および図7(図6のB−B線断面図)に示すよ
うに、清浄度の異なる乱流式クリーンルーム3と層流式
クリーンルーム2とを隣接させ、多数の製造装置10
を、より清浄度の低い乱流式クリーンルーム3内に設置
し、その前面(部品や製品の出し入れを行う出し入れ口
側の面)が、より清浄度の高い層流式クリーンルーム2
側に向くように配置している。
【0003】そして、層流式クリーンルーム2の床下チ
ャンバ5と天井チャンバ4は、この層流式クリーンルー
ム2の奥行き方向一端に設けた還気ダクト130で連結
されている。なお、各クリーンルーム2,3の天井に
は、清浄度に応じたエアフィルタaとファンfとを備え
たファンフィルタユニットFが、それぞれ設置されてい
る。
ャンバ5と天井チャンバ4は、この層流式クリーンルー
ム2の奥行き方向一端に設けた還気ダクト130で連結
されている。なお、各クリーンルーム2,3の天井に
は、清浄度に応じたエアフィルタaとファンfとを備え
たファンフィルタユニットFが、それぞれ設置されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、奥行き
が30m程度と長いクリーンルームでは、前述のように
還気ダクト130が奥行き方向一端に設けてあると、天
井チャンバや床下チャンバ内で還気が他端側に到達する
までの圧力損失が大きいため、循環空気の利用効率が低
くなる。また、広いクリーンルームで必要な循環空気量
を確保するために、床下チャンバ5や天井チャンバ4を
大きくする必要がある。
が30m程度と長いクリーンルームでは、前述のように
還気ダクト130が奥行き方向一端に設けてあると、天
井チャンバや床下チャンバ内で還気が他端側に到達する
までの圧力損失が大きいため、循環空気の利用効率が低
くなる。また、広いクリーンルームで必要な循環空気量
を確保するために、床下チャンバ5や天井チャンバ4を
大きくする必要がある。
【0005】さらに、還気ダクト130を層流式クリー
ンルーム2の奥行き方向一端に設けると、例えば図8に
示すように、製造装置10を増設する際に還気ダクト1
30を移動しなければならない場合もあり、その場合に
は、一時的に層流式クリーンルーム2の稼働を停止しな
ければならない。
ンルーム2の奥行き方向一端に設けると、例えば図8に
示すように、製造装置10を増設する際に還気ダクト1
30を移動しなければならない場合もあり、その場合に
は、一時的に層流式クリーンルーム2の稼働を停止しな
ければならない。
【0006】また、図9に示すように、層流式クリーン
ルーム2の3つの壁面に製造装置10を配置する場合に
は、還気ダクト130を層流式クリーンルーム2から離
れた位置に設置している。この場合に、乱流式クリーン
ルーム3の還気が層流式クリーンルーム2内に混入しな
いようにするためには、図10(図9のC−C線断面
図)に示すように、天井チャンバ4および床下チャンバ
5に仕切り板6を設けるとともに、水平ダクト7によ
り、層流式クリーンルーム2の還気ダクト130と層流
式クリーンルーム2の天井チャンバ4および床下チャン
バ5とを接続する必要があり、設備コストが高くなる。
ルーム2の3つの壁面に製造装置10を配置する場合に
は、還気ダクト130を層流式クリーンルーム2から離
れた位置に設置している。この場合に、乱流式クリーン
ルーム3の還気が層流式クリーンルーム2内に混入しな
いようにするためには、図10(図9のC−C線断面
図)に示すように、天井チャンバ4および床下チャンバ
5に仕切り板6を設けるとともに、水平ダクト7によ
り、層流式クリーンルーム2の還気ダクト130と層流
式クリーンルーム2の天井チャンバ4および床下チャン
バ5とを接続する必要があり、設備コストが高くなる。
【0007】本発明は、このような従来技術の問題点に
着目してなされたものであり、半導体製造用等のクリー
ンルームにおいて、床下チャンバや天井チャンバを小さ
くすることができ、製造装置の増設等にも柔軟に対応す
ることができ、設備コストが低減できるようにすること
を課題とする。
着目してなされたものであり、半導体製造用等のクリー
ンルームにおいて、床下チャンバや天井チャンバを小さ
くすることができ、製造装置の増設等にも柔軟に対応す
ることができ、設備コストが低減できるようにすること
を課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、異なる調和空気が導入され
る隣り合う二室の境界壁に、一方の室の床下チャンバか
らの還気を天井チャンバへ向かわせる還気ダクトを一体
化したことを特徴とする還気設備を提供するものであ
る。
に、請求項1に係る発明は、異なる調和空気が導入され
る隣り合う二室の境界壁に、一方の室の床下チャンバか
らの還気を天井チャンバへ向かわせる還気ダクトを一体
化したことを特徴とする還気設備を提供するものであ
る。
【0009】請求項2に係る発明は、異なる清浄度の空
気が導入される隣り合う二室の境界壁の、より清浄度の
高い空気が導入される室側に、この室の床下チャンバか
らの還気を天井チャンバへ向かわせる還気ダクトを一体
化したことを特徴とする還気設備を提供する。
気が導入される隣り合う二室の境界壁の、より清浄度の
高い空気が導入される室側に、この室の床下チャンバか
らの還気を天井チャンバへ向かわせる還気ダクトを一体
化したことを特徴とする還気設備を提供する。
【0010】請求項3に係る発明は、異なる清浄度の空
気が導入される隣り合う二室のより清浄度の低い室内に
配置され、より清浄度の高い室側から部品や製品の出し
入れを行う製造装置であって、ハウジングの一面を二室
の境界壁と一体化し、この境界壁に部品や製品の出し入
れ口を設け、境界壁のより清浄度の高い空気が導入され
る室側に、この室の床下チャンバからの還気を天井チャ
ンバへ向かわせる還気ダクトを一体化したことを特徴と
する製造装置を提供する。
気が導入される隣り合う二室のより清浄度の低い室内に
配置され、より清浄度の高い室側から部品や製品の出し
入れを行う製造装置であって、ハウジングの一面を二室
の境界壁と一体化し、この境界壁に部品や製品の出し入
れ口を設け、境界壁のより清浄度の高い空気が導入され
る室側に、この室の床下チャンバからの還気を天井チャ
ンバへ向かわせる還気ダクトを一体化したことを特徴と
する製造装置を提供する。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づき説明する。図1は、本発明の一実施形態に相当す
る製造装置を示す斜視図であり、図2は、この装置が設
置されたクリーンルームを示す概略平面図であり、図3
は、図2のA−A線断面図である。
基づき説明する。図1は、本発明の一実施形態に相当す
る製造装置を示す斜視図であり、図2は、この装置が設
置されたクリーンルームを示す概略平面図であり、図3
は、図2のA−A線断面図である。
【0012】図2に示すように、製造装置1は、層流式
クリーンルーム2に隣接する乱流式クリーンルーム3内
に設置されている。層流式クリーンルーム2の清浄度は
乱流式クリーンルーム3より高く設定されている。な
お、層流式クリーンルーム2および乱流式クリーンルー
ム3の天井には、清浄度に応じたエアフィルタaとファ
ンfとを備えたファンフィルタユニットFが設置されて
いる。
クリーンルーム2に隣接する乱流式クリーンルーム3内
に設置されている。層流式クリーンルーム2の清浄度は
乱流式クリーンルーム3より高く設定されている。な
お、層流式クリーンルーム2および乱流式クリーンルー
ム3の天井には、清浄度に応じたエアフィルタaとファ
ンfとを備えたファンフィルタユニットFが設置されて
いる。
【0013】この製造装置1は、図1に示すように、層
流式クリーンルーム2と乱流式クリーンルーム3を分離
する境界壁11と、この境界壁11の乱流式クリーンル
ーム3側に固定されたハウジング12と、この境界壁1
1の層流式クリーンルーム2側に固定された還気ダクト
13とを備えている。
流式クリーンルーム2と乱流式クリーンルーム3を分離
する境界壁11と、この境界壁11の乱流式クリーンル
ーム3側に固定されたハウジング12と、この境界壁1
1の層流式クリーンルーム2側に固定された還気ダクト
13とを備えている。
【0014】ハウジング12の高さは境界壁11より少
し低く、境界壁11の所定高さから下側がハウジング1
2の一面を構成している。そして、この面の所定高さ
に、製造装置1の操作盤14と、製造装置1内への部品
や製品の出し入れ口15が、境界壁11の幅方向に隣り
合わせて設けてある。
し低く、境界壁11の所定高さから下側がハウジング1
2の一面を構成している。そして、この面の所定高さ
に、製造装置1の操作盤14と、製造装置1内への部品
や製品の出し入れ口15が、境界壁11の幅方向に隣り
合わせて設けてある。
【0015】還気ダクト13は、境界壁11の幅方向で
操作盤14の位置に、高さ方向全体に渡って(床面位置
から天井面位置まで)固定されている。還気ダクト13
は透明な板材で形成され、境界壁11に設けた操作盤1
4が層流式クリーンルーム2側から見えるようになって
いる。
操作盤14の位置に、高さ方向全体に渡って(床面位置
から天井面位置まで)固定されている。還気ダクト13
は透明な板材で形成され、境界壁11に設けた操作盤1
4が層流式クリーンルーム2側から見えるようになって
いる。
【0016】還気ダクト13の正面板には扉16が設け
てあり、この扉16を開いて操作盤14を操作できるよ
うになっている。境界壁11の還気ダクト13が固定さ
れた横の位置には、操作盤14と同じ高さで、部品や製
品の出し入れ口15が設けてある。
てあり、この扉16を開いて操作盤14を操作できるよ
うになっている。境界壁11の還気ダクト13が固定さ
れた横の位置には、操作盤14と同じ高さで、部品や製
品の出し入れ口15が設けてある。
【0017】この製造装置1を複数個、図2に示すよう
に、還気ダクト13を層流式クリーンルーム2側に向け
て並べて、隣り合う境界壁11を連結し、還気ダクト1
3の上下を天井チャンバ4および床下チャンバ5の開口
部に連結すれば、室内が層流式クリーンルーム2と乱流
式クリーンルーム3とに区画されると同時に、製造装置
1が乱流式クリーンルーム3内に配置される。また、製
造装置1の出し入れ口15が、層流式クリーンルーム2
側に向く。
に、還気ダクト13を層流式クリーンルーム2側に向け
て並べて、隣り合う境界壁11を連結し、還気ダクト1
3の上下を天井チャンバ4および床下チャンバ5の開口
部に連結すれば、室内が層流式クリーンルーム2と乱流
式クリーンルーム3とに区画されると同時に、製造装置
1が乱流式クリーンルーム3内に配置される。また、製
造装置1の出し入れ口15が、層流式クリーンルーム2
側に向く。
【0018】したがって、図3に示すように、層流式ク
リーンルーム2の還気は、床下チャンバ5から還気ダク
ト13を通って天井チャンバ4に入る。ここで、図2に
示すように、層流式チャンバ2の奥行き方向全体に渡っ
て幅方向両側で対向する位置に、製造装置1と同じ数の
還気ダクト13が配置されているため、床下チャンバ5
の空気はすぐ近くの還気ダクト13を通って天井チャン
バ4に導入される。これにより、循環空気の圧力損失が
小さく抑えられるため、循環空気の利用効率が高くな
る。また、広いクリーンルームであっても、小さな床下
チャンバ5および天井チャンバ4で、必要な循環空気量
を確保することができる。
リーンルーム2の還気は、床下チャンバ5から還気ダク
ト13を通って天井チャンバ4に入る。ここで、図2に
示すように、層流式チャンバ2の奥行き方向全体に渡っ
て幅方向両側で対向する位置に、製造装置1と同じ数の
還気ダクト13が配置されているため、床下チャンバ5
の空気はすぐ近くの還気ダクト13を通って天井チャン
バ4に導入される。これにより、循環空気の圧力損失が
小さく抑えられるため、循環空気の利用効率が高くな
る。また、広いクリーンルームであっても、小さな床下
チャンバ5および天井チャンバ4で、必要な循環空気量
を確保することができる。
【0019】なお、天井チャンバ4および床下チャンバ
5に仕切り板6を設ければ、層流式クリーンルーム2の
循環空気と乱流式クリーンルーム3の循環空気を分離し
て、清浄度の高い層流式クリーンルーム2に導入する空
気が汚染されないようにすることができる。
5に仕切り板6を設ければ、層流式クリーンルーム2の
循環空気と乱流式クリーンルーム3の循環空気を分離し
て、清浄度の高い層流式クリーンルーム2に導入する空
気が汚染されないようにすることができる。
【0020】また、図4に示すように、製造装置1を増
設する際には、層流式クリーンルーム2と乱流式クリー
ンルーム3を仕切る仕切り壁8を移動して、増設する製
造装置1を既設の製造装置1および仕切り壁8と連結す
れば良く、既設の還気ダクト13を移動する必要はな
い。すなわち、製造装置10の増設に伴って、一時的に
層流式クリーンルーム2の稼働を停止する必要はない。
設する際には、層流式クリーンルーム2と乱流式クリー
ンルーム3を仕切る仕切り壁8を移動して、増設する製
造装置1を既設の製造装置1および仕切り壁8と連結す
れば良く、既設の還気ダクト13を移動する必要はな
い。すなわち、製造装置10の増設に伴って、一時的に
層流式クリーンルーム2の稼働を停止する必要はない。
【0021】また、図5に示すように、層流式クリーン
ルーム2の3つの壁面に製造装置1を配置する場合に
も、層流式クリーンルーム2側に還気ダクト13が設置
されるため、従来のような水平ダクト7(図10参照)
を必要としないで、乱流式クリーンルーム3の還気が層
流式クリーンルーム2内に混入しないようにすることが
できる。これにより、設備コストを低減することができ
る。
ルーム2の3つの壁面に製造装置1を配置する場合に
も、層流式クリーンルーム2側に還気ダクト13が設置
されるため、従来のような水平ダクト7(図10参照)
を必要としないで、乱流式クリーンルーム3の還気が層
流式クリーンルーム2内に混入しないようにすることが
できる。これにより、設備コストを低減することができ
る。
【0022】なお、前記実施形態では、クリーンルーム
2,3間の境界壁11に還気ダクト13が固定され、こ
の境界壁11の一部がハウジングの一面をなす製造装置
1について述べてあるが、還気設備として、還気ダクト
が境界壁の少なくともいずれか一方の面に一体化された
ものも本発明に含まれる。これにより、図10のような
水平ダクト7を設けなくても、境界壁によって分離され
た一方の室に、他方の室とは異なる調和空気を効率的に
循環させることが可能となる。
2,3間の境界壁11に還気ダクト13が固定され、こ
の境界壁11の一部がハウジングの一面をなす製造装置
1について述べてあるが、還気設備として、還気ダクト
が境界壁の少なくともいずれか一方の面に一体化された
ものも本発明に含まれる。これにより、図10のような
水平ダクト7を設けなくても、境界壁によって分離され
た一方の室に、他方の室とは異なる調和空気を効率的に
循環させることが可能となる。
【0023】また、この還気設備において境界壁が分離
する二室は、導入される空気の清浄度が異なる二室に限
定されず、導入される空気の温度や湿度が異なるもので
あってもよい。
する二室は、導入される空気の清浄度が異なる二室に限
定されず、導入される空気の温度や湿度が異なるもので
あってもよい。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の還気設
備によれば、境界壁によって分離された一方の室に、他
方の室とは異なる調和空気を効率的に循環させることが
可能となる。
備によれば、境界壁によって分離された一方の室に、他
方の室とは異なる調和空気を効率的に循環させることが
可能となる。
【0025】請求項2の還気設備によれば、境界壁によ
って分離されたより清浄度の高い空気が導入される室に
おいて、空気の循環効率を高くすることができる。請求
項3の製造装置によれば、その境界壁を連結して二室を
形成することにより、より清浄度の高い室が広いクリー
ンルームであっても、小さな床下チャンバおよび天井チ
ャンバで必要な循環空気量を確保することができる。ま
た、製造装置の増設等にも柔軟に対応することができる
ため、設備コストが低減できる。
って分離されたより清浄度の高い空気が導入される室に
おいて、空気の循環効率を高くすることができる。請求
項3の製造装置によれば、その境界壁を連結して二室を
形成することにより、より清浄度の高い室が広いクリー
ンルームであっても、小さな床下チャンバおよび天井チ
ャンバで必要な循環空気量を確保することができる。ま
た、製造装置の増設等にも柔軟に対応することができる
ため、設備コストが低減できる。
【図1】本発明の一実施形態に相当する製造装置を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図2】図1の製造装置が設置されたクリーンルームを
示す概略平面図である。
示す概略平面図である。
【図3】図2のA−A線断面図である。
【図4】図1の製造装置の場合の、製造装置の増設によ
るクリーンルーム内の変化を示す概略平面図である。
るクリーンルーム内の変化を示す概略平面図である。
【図5】本発明の製造装置の配置の別の実施形態を示す
概略平面図である。
概略平面図である。
【図6】従来の製造装置が設置されたクリーンルームを
示す概略平面図である。
示す概略平面図である。
【図7】図6のB−B線断面図である。
【図8】従来例の場合の、製造装置の増設によるクリー
ンルーム内の変化を示す概略平面図である。
ンルーム内の変化を示す概略平面図である。
【図9】製造装置の配置の別の従来例を示す概略平面図
である。
である。
【図10】図9のC−C線断面図である。
1 製造装置 2 層流式クリーンルーム(より清浄度の高い空気が導
入される室) 3 乱流式クリーンルーム(より清浄度の低い空気が導
入される室) 4 天井チャンバ 5 床下チャンバ 6 仕切り板 7 水平ダクト 11 境界壁 12 ハウジング 13 還気ダクト 15 出し入れ口
入される室) 3 乱流式クリーンルーム(より清浄度の低い空気が導
入される室) 4 天井チャンバ 5 床下チャンバ 6 仕切り板 7 水平ダクト 11 境界壁 12 ハウジング 13 還気ダクト 15 出し入れ口
Claims (3)
- 【請求項1】 異なる調和空気が導入される隣り合う二
室の境界壁に、一方の室の床下チャンバからの還気を天
井チャンバへ向かわせる還気ダクトを一体化したことを
特徴とする還気設備。 - 【請求項2】 異なる清浄度の空気が導入される隣り合
う二室の境界壁の、より清浄度の高い空気が導入される
室側に、この室の床下チャンバからの還気を天井チャン
バへ向かわせる還気ダクトを一体化したことを特徴とす
る還気設備。 - 【請求項3】 異なる清浄度の空気が導入される隣り合
う二室のより清浄度の低い室内に配置され、より清浄度
の高い室側から部品や製品の出し入れを行う製造装置で
あって、 ハウジングの一面を二室の境界壁と一体化し、この境界
壁に部品や製品の出し入れ口を設け、境界壁のより清浄
度の高い空気が導入される室側に、この室の床下チャン
バからの還気を天井チャンバへ向かわせる還気ダクトを
一体化したことを特徴とする製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13127497A JPH10318576A (ja) | 1997-05-21 | 1997-05-21 | 還気設備およびこれが一体化された製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13127497A JPH10318576A (ja) | 1997-05-21 | 1997-05-21 | 還気設備およびこれが一体化された製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10318576A true JPH10318576A (ja) | 1998-12-04 |
Family
ID=15054110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13127497A Pending JPH10318576A (ja) | 1997-05-21 | 1997-05-21 | 還気設備およびこれが一体化された製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10318576A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030094438A (ko) * | 2002-06-04 | 2003-12-12 | 주식회사선양테크 | 이동식 공기청정실 |
| JP2019161120A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efem |
-
1997
- 1997-05-21 JP JP13127497A patent/JPH10318576A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030094438A (ko) * | 2002-06-04 | 2003-12-12 | 주식회사선양테크 | 이동식 공기청정실 |
| JP2019161120A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efem |
| JP2022162003A (ja) * | 2018-03-15 | 2022-10-21 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efem |
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