JPH10319608A - 画像形成方法およびそれに用いられる材料 - Google Patents
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- IPRMRKQXBQEFHW-UHFFFAOYSA-L zinc;3-carboxynaphthalen-2-olate Chemical compound [Zn+2].C1=CC=C2C=C(C([O-])=O)C(O)=CC2=C1.C1=CC=C2C=C(C([O-])=O)C(O)=CC2=C1 IPRMRKQXBQEFHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MLVWCBYTEFCFSG-UHFFFAOYSA-L zinc;dithiocyanate Chemical compound [Zn+2].[S-]C#N.[S-]C#N MLVWCBYTEFCFSG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MTYHLWRUYCUTPA-UHFFFAOYSA-L zinc;naphthalene-1-carboxylate Chemical compound [Zn+2].C1=CC=C2C(C(=O)[O-])=CC=CC2=C1.C1=CC=C2C(C(=O)[O-])=CC=CC2=C1 MTYHLWRUYCUTPA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 画像様に露光することで、高濃度で保存性の
よい画像形成が可能な画像形成方法を提供する。 【解決手段】 第1の支持体上に顕色成分を含有する転
写層を設けた転写材料と、第2の支持体上に発色成分を
含有する受容層を設けた受容材料を、転写層側と受容層
側を対面するように設け、第1の支持体側から高密度エ
ネルギー光を像様に露光することによって、露光部の支
持体と転写層の結合力をアブレーションにより低下さ
せ、転写材料と受容材料を引き離して、転写層の露光部
を受容層上に転写し、画像を形成することを特徴とする
画像形成方法。
よい画像形成が可能な画像形成方法を提供する。 【解決手段】 第1の支持体上に顕色成分を含有する転
写層を設けた転写材料と、第2の支持体上に発色成分を
含有する受容層を設けた受容材料を、転写層側と受容層
側を対面するように設け、第1の支持体側から高密度エ
ネルギー光を像様に露光することによって、露光部の支
持体と転写層の結合力をアブレーションにより低下さ
せ、転写材料と受容材料を引き離して、転写層の露光部
を受容層上に転写し、画像を形成することを特徴とする
画像形成方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高濃度で且つ高解
像度の画像形成が可能な画像形成材料に関し、さらに該
画像形成材料を用いた、画像情報に応じてエネルギーを
加えることによる新規な画像形成方法およびそれらに用
いられる画像形成材料に関する。
像度の画像形成が可能な画像形成材料に関し、さらに該
画像形成材料を用いた、画像情報に応じてエネルギーを
加えることによる新規な画像形成方法およびそれらに用
いられる画像形成材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、処理液現像の不要なドライ画像形
成方法の1つとして染料又は顔料をビヒクル中に含有さ
せた転写層を塗設した転写材料を像様に加熱して、受像
材料上に画像形成する溶融型熱転写方式や熱拡散色素転
写方式などが知られている。しかしながら、これらの方
式では、十分な画像濃度を得るためには、顔料、染料を
相当量転写しなければならないために転写に要するエネ
ルギーが高いという問題が生じていた。そのような欠点
を改善するために、微量のエネルギーで高濃度のモノク
ロ画像を得るための画像形成方法がいくつか提案されて
いる。
成方法の1つとして染料又は顔料をビヒクル中に含有さ
せた転写層を塗設した転写材料を像様に加熱して、受像
材料上に画像形成する溶融型熱転写方式や熱拡散色素転
写方式などが知られている。しかしながら、これらの方
式では、十分な画像濃度を得るためには、顔料、染料を
相当量転写しなければならないために転写に要するエネ
ルギーが高いという問題が生じていた。そのような欠点
を改善するために、微量のエネルギーで高濃度のモノク
ロ画像を得るための画像形成方法がいくつか提案されて
いる。
【0003】例えば、特開昭50−139722号、同
50−139723号、同50−139724号、同5
2−101026号、同57−63527号等には、ア
ンモニアを配位子として有する3価のコバルト錯体と光
還元剤を用いて、像様に露光することにより潜像を形成
した後に加熱処理して、アンモニアとフタルアルデヒド
との反応によって生じるモノクロのポリマー色素画像を
形成する方法が提案されている。これは、像様な画像露
光により潜像を形成し、次いで加熱することで画像を形
成するという方式で、簡易な乾式処理で画像が形成でき
る点で優れている。しかしながら、これらの画像形成材
料では、光による像様な画像露光が必要であることか
ら、露光前に遮光する必要が有ったり、出来た画像の保
存性が不十分な場合が有った。
50−139723号、同50−139724号、同5
2−101026号、同57−63527号等には、ア
ンモニアを配位子として有する3価のコバルト錯体と光
還元剤を用いて、像様に露光することにより潜像を形成
した後に加熱処理して、アンモニアとフタルアルデヒド
との反応によって生じるモノクロのポリマー色素画像を
形成する方法が提案されている。これは、像様な画像露
光により潜像を形成し、次いで加熱することで画像を形
成するという方式で、簡易な乾式処理で画像が形成でき
る点で優れている。しかしながら、これらの画像形成材
料では、光による像様な画像露光が必要であることか
ら、露光前に遮光する必要が有ったり、出来た画像の保
存性が不十分な場合が有った。
【0004】又、別の方法として、特表昭54−500
062号、特開昭56−72436号には、光酸発生剤
を用いて発色を抑制又は不活性化し、非抑制部を還元剤
を用いて発色させる方法が記載され、特開昭57−51
489号、同57−63527号には、錯体の不安定化
剤を添加し、加熱により画像形成を行う方法が記載され
ている。この方法によれば、形成された画像への定着処
理が不要という利点を有しているが、未だ十分であると
はいえない。
062号、特開昭56−72436号には、光酸発生剤
を用いて発色を抑制又は不活性化し、非抑制部を還元剤
を用いて発色させる方法が記載され、特開昭57−51
489号、同57−63527号には、錯体の不安定化
剤を添加し、加熱により画像形成を行う方法が記載され
ている。この方法によれば、形成された画像への定着処
理が不要という利点を有しているが、未だ十分であると
はいえない。
【0005】又、別の方法としては、例えば特開平6−
317870号、同7−5619号、同7−5620号
等に記載されている方法では画像形成後や画像形成前に
銀源と還元剤が同一要素内に存在するため、経時や高温
での保存で濃度が上昇する不都合がある。
317870号、同7−5619号、同7−5620号
等に記載されている方法では画像形成後や画像形成前に
銀源と還元剤が同一要素内に存在するため、経時や高温
での保存で濃度が上昇する不都合がある。
【0006】また、ロイコ染料などの発色性染料と顕色
剤を用いた感熱記録材料が従来から良く知られている
が、発色性染料と顕色剤を同一要素中で分散した状態で
存在させると、白濁してしまい透過画像としての使用が
難しいことや、経時や高温での保存で濃度が上昇するな
どの欠点を有している。
剤を用いた感熱記録材料が従来から良く知られている
が、発色性染料と顕色剤を同一要素中で分散した状態で
存在させると、白濁してしまい透過画像としての使用が
難しいことや、経時や高温での保存で濃度が上昇するな
どの欠点を有している。
【0007】又、従来から、レーザー光線などの光エネ
ルギーを集束させ、記録を行わせる材料に光照射して、
材料の一部を融解変形させたり、飛散、燃焼あるいは蒸
発除去する記録方法が知られている。この方法は、薬品
などの処理液を必要としないドライタイプであること
や、光照射部のみを融解変形、あるいは飛散または蒸発
除去することから、高コントラストが得られるという利
点を有している。そのために、この記録方法を用いた種
々の材料が提案され、レジスト材料や光ディスクなどの
光学的記録材料、さらにはそれ自身を可視化画像として
みる画像形成材料などに利用されている。
ルギーを集束させ、記録を行わせる材料に光照射して、
材料の一部を融解変形させたり、飛散、燃焼あるいは蒸
発除去する記録方法が知られている。この方法は、薬品
などの処理液を必要としないドライタイプであること
や、光照射部のみを融解変形、あるいは飛散または蒸発
除去することから、高コントラストが得られるという利
点を有している。そのために、この記録方法を用いた種
々の材料が提案され、レジスト材料や光ディスクなどの
光学的記録材料、さらにはそれ自身を可視化画像として
みる画像形成材料などに利用されている。
【0008】たとえば、レジスト材料としては、特開昭
59−5447号、同59−105638号、同62−
115153号等ではパターン露光によりバインダー樹
脂を光分解させてレジストパターンを形成する方法およ
び材料が、また、光ディスクなどの光学的記録材料にお
いては、特開昭55−132536号、同57−277
88号、同57−103137号等では、蒸着法により
設けた無機化合物薄膜を画像露光することにより、金属
を融解変形させて情報を記録したり、また、特開昭64
−56591号、特開平1−99887号、同6−40
163号等では、光エネルギーを熱エネルギーに変換す
る、染料−バインダー樹脂除去システムに関する材料が
提案されている。
59−5447号、同59−105638号、同62−
115153号等ではパターン露光によりバインダー樹
脂を光分解させてレジストパターンを形成する方法およ
び材料が、また、光ディスクなどの光学的記録材料にお
いては、特開昭55−132536号、同57−277
88号、同57−103137号等では、蒸着法により
設けた無機化合物薄膜を画像露光することにより、金属
を融解変形させて情報を記録したり、また、特開昭64
−56591号、特開平1−99887号、同6−40
163号等では、光エネルギーを熱エネルギーに変換す
る、染料−バインダー樹脂除去システムに関する材料が
提案されている。
【0009】一方、画像形成材料としては、米国特許
4,245,003号等ではグラファイトあるいはカー
ボンブラックを含有する画像形成層を画像露光と同時に
燃焼および/または飛散除去することにより画像形成を
行う方法が提案されている。
4,245,003号等ではグラファイトあるいはカー
ボンブラックを含有する画像形成層を画像露光と同時に
燃焼および/または飛散除去することにより画像形成を
行う方法が提案されている。
【0010】また、特表平4−506709号、特開平
6−43635号、米国特許5,156,938号、同
5,171,650号、同5,256,506号等で
は、支持体上にレーザー光を吸収し、該光エネルギーを
熱エネルギーに変換する化合物(光熱変換化合物)と、
この発生した熱により分解しうるバインダー樹脂を必須
成分としてなる画像形成層を備えた材料が提案されてい
る。さらに、この中で、特表平4−506709号、米
国特許5,156,938号、同5,171,650
号、同5,256,506号では、バインダー樹脂が分
解することによって飛ばされる画像形成層を、画像形成
層と接する受像シートで受容するという画像形成材料が
提案されている。
6−43635号、米国特許5,156,938号、同
5,171,650号、同5,256,506号等で
は、支持体上にレーザー光を吸収し、該光エネルギーを
熱エネルギーに変換する化合物(光熱変換化合物)と、
この発生した熱により分解しうるバインダー樹脂を必須
成分としてなる画像形成層を備えた材料が提案されてい
る。さらに、この中で、特表平4−506709号、米
国特許5,156,938号、同5,171,650
号、同5,256,506号では、バインダー樹脂が分
解することによって飛ばされる画像形成層を、画像形成
層と接する受像シートで受容するという画像形成材料が
提案されている。
【0011】しかしながら、いずれの方法もそれ自身を
可視化画像として用いるため、透過濃度の高い画像や高
解像度の画像を得ようとした場合には、高いエネルギー
を要するという問題があった。
可視化画像として用いるため、透過濃度の高い画像や高
解像度の画像を得ようとした場合には、高いエネルギー
を要するという問題があった。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来技術の問題点改良にある。即ち、安全で簡易な乾式
処理で高感度、高解像度の画像を形成できる画像形成方
法、経時保存性の良好な画像を形成する画像形成方法、
すなわち経時保存性が良好で、かつ明室での取扱いが可
能であり、現像後の定着処理が不要な画像形成方法およ
びそれらに用いられる材料を提供することにある。
従来技術の問題点改良にある。即ち、安全で簡易な乾式
処理で高感度、高解像度の画像を形成できる画像形成方
法、経時保存性の良好な画像を形成する画像形成方法、
すなわち経時保存性が良好で、かつ明室での取扱いが可
能であり、現像後の定着処理が不要な画像形成方法およ
びそれらに用いられる材料を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。
記構成により達成された。
【0014】(1) 第1の支持体上に顕色成分を含有
する転写層を設けた転写材料と、第2の支持体上に発色
成分を含有する受容層を設けた受容材料を、転写層側と
受容層側を対面するように設け、第1の支持体側から高
密度エネルギー光を像様に露光することによって、露光
部の支持体と転写層の結合力をアブレーションにより低
下させ、転写材料と受容材料を引き離して、転写層の露
光部を受容層上に転写し、画像を形成することを特徴と
する画像形成方法。
する転写層を設けた転写材料と、第2の支持体上に発色
成分を含有する受容層を設けた受容材料を、転写層側と
受容層側を対面するように設け、第1の支持体側から高
密度エネルギー光を像様に露光することによって、露光
部の支持体と転写層の結合力をアブレーションにより低
下させ、転写材料と受容材料を引き離して、転写層の露
光部を受容層上に転写し、画像を形成することを特徴と
する画像形成方法。
【0015】(2) 第1の支持体上に発色成分を含有
する転写層を設けた転写材料と、第2の支持体上に顕色
成分を含有する受容層を設けた受容材料を、転写層側と
受容層側を対面するように設け、第1の支持体側から高
密度エネルギー光を像様に露光することによって、露光
部の支持体と転写層の結合力をアブレーションにより低
下させ、転写材料と受容材料を引き離して、転写層の露
光部を受容層上に転写し、画像を形成することを特徴と
する画像形成方法。
する転写層を設けた転写材料と、第2の支持体上に顕色
成分を含有する受容層を設けた受容材料を、転写層側と
受容層側を対面するように設け、第1の支持体側から高
密度エネルギー光を像様に露光することによって、露光
部の支持体と転写層の結合力をアブレーションにより低
下させ、転写材料と受容材料を引き離して、転写層の露
光部を受容層上に転写し、画像を形成することを特徴と
する画像形成方法。
【0016】(3) 転写層の露光部を受容層上に転写
した後、熱を付与することにより画像を形成することを
特徴とする前記1又は2記載の画像形成方法。
した後、熱を付与することにより画像を形成することを
特徴とする前記1又は2記載の画像形成方法。
【0017】(4) 転写材料と受容材料が、あらかじ
め転写層側と受容層側で貼合されて用いられることを特
徴とする前記1又は2記載の画像形成方法。
め転写層側と受容層側で貼合されて用いられることを特
徴とする前記1又は2記載の画像形成方法。
【0018】(5) 転写材料と受容材料が、露光前に
転写層側と受容層側で重ねられて用いられることを特徴
とする前記1又は2記載の画像形成方法。
転写層側と受容層側で重ねられて用いられることを特徴
とする前記1又は2記載の画像形成方法。
【0019】(6) 第1の支持体上に顕色成分を含有
する転写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した
剥離材料を転写層側と対面するように設け、第1の支持
体側から高密度エネルギー光を像様に露光することによ
って、露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーショ
ンにより低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、
転写層の露光部を剥離材料上に転写した後、転写材料の
未露光部の転写層と、第2の支持体上に発色成分を含有
する受容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画
像を形成することを特徴とする画像形成方法。
する転写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した
剥離材料を転写層側と対面するように設け、第1の支持
体側から高密度エネルギー光を像様に露光することによ
って、露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーショ
ンにより低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、
転写層の露光部を剥離材料上に転写した後、転写材料の
未露光部の転写層と、第2の支持体上に発色成分を含有
する受容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画
像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【0020】(7) 第1の支持体上に発色成分を含有
する転写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した
剥離材料を転写層側と対面するように設け、第1の支持
体側から高密度エネルギー光を像様に露光することによ
って、露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーショ
ンにより低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、
転写層の露光部を剥離材料上に転写した後、転写材料の
未露光部の転写層と、第2の支持体上に顕色成分を含有
する受容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画
像を形成することを特徴とする画像形成方法。
する転写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した
剥離材料を転写層側と対面するように設け、第1の支持
体側から高密度エネルギー光を像様に露光することによ
って、露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーショ
ンにより低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、
転写層の露光部を剥離材料上に転写した後、転写材料の
未露光部の転写層と、第2の支持体上に顕色成分を含有
する受容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画
像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【0021】(8) 第1の支持体上に顕色成分を含有
する転写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した
剥離材料を転写層側と対面するように設け、第1の支持
体側から高密度エネルギー光を像様に露光することによ
って、露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーショ
ンにより低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、
転写層の露光部を剥離材料上に転写した後、剥離材料の
露光部の転写層と、第2の支持体上に発色成分を含有す
る受容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画像
を形成することを特徴とする画像形成方法。
する転写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した
剥離材料を転写層側と対面するように設け、第1の支持
体側から高密度エネルギー光を像様に露光することによ
って、露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーショ
ンにより低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、
転写層の露光部を剥離材料上に転写した後、剥離材料の
露光部の転写層と、第2の支持体上に発色成分を含有す
る受容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画像
を形成することを特徴とする画像形成方法。
【0022】(9) 第1の支持体上に発色成分を含有
する転写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した
剥離材料を転写層側と対面するように設け、第1の支持
体側から高密度エネルギー光を像様に露光することによ
って、露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーショ
ンにより低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、
転写層の露光部を剥離材料上に転写した後、剥離材料の
露光部の転写層と、第2の支持体上に顕色成分を含有す
る受容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画像
を形成することを特徴とする画像形成方法。
する転写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した
剥離材料を転写層側と対面するように設け、第1の支持
体側から高密度エネルギー光を像様に露光することによ
って、露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーショ
ンにより低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、
転写層の露光部を剥離材料上に転写した後、剥離材料の
露光部の転写層と、第2の支持体上に顕色成分を含有す
る受容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画像
を形成することを特徴とする画像形成方法。
【0023】(10) 露光後の転写層と受容層を重ね
合わせ後、熱を付与することにより画像を形成すること
を特徴とする前記6〜9のいずれか1項記載の画像形成
方法。
合わせ後、熱を付与することにより画像を形成すること
を特徴とする前記6〜9のいずれか1項記載の画像形成
方法。
【0024】(11) 転写材料と剥離材料が、あらか
じめ転写層側で貼合されて用いられることを特徴とする
前記6〜9のいずれか1項記載の画像形成方法。
じめ転写層側で貼合されて用いられることを特徴とする
前記6〜9のいずれか1項記載の画像形成方法。
【0025】(12) 転写材料と剥離材料が、露光前
に転写層側で重ねられて用いられることを特徴とする前
記6〜9のいずれか1項記載の画像形成方法。
に転写層側で重ねられて用いられることを特徴とする前
記6〜9のいずれか1項記載の画像形成方法。
【0026】(13) 高密度エネルギー光としてレー
ザー光を走査して画像露光することを特徴とする前記1
〜12のいずれか1項記載の画像形成方法。
ザー光を走査して画像露光することを特徴とする前記1
〜12のいずれか1項記載の画像形成方法。
【0027】(14) レーザー光が600〜1200
nmの波長であることを特徴とする前記13記載の画像
形成方法。
nmの波長であることを特徴とする前記13記載の画像
形成方法。
【0028】(15) 前記1〜14のいずれか1項記
載の画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成
分がアンモニア又は1級アミンを放出させる化合物、発
色成分が放出されたアンモニア又は1級アミンにより吸
収波長の変化する化合物であることを特徴とする画像形
成材料。
載の画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成
分がアンモニア又は1級アミンを放出させる化合物、発
色成分が放出されたアンモニア又は1級アミンにより吸
収波長の変化する化合物であることを特徴とする画像形
成材料。
【0029】(16) 前記1〜14のいずれか1項記
載の画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成
分が有機還元剤、発色成分が前記有機還元剤により発色
する銀源であることを特徴とする画像形成材料。
載の画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成
分が有機還元剤、発色成分が前記有機還元剤により発色
する銀源であることを特徴とする画像形成材料。
【0030】(17) 前記1〜14のいずれか1項記
載の画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成
分がロイコ染料を加熱発色せしめる顕色剤、発色成分が
ロイコ染料であることを特徴とする画像形成材料。
載の画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成
分がロイコ染料を加熱発色せしめる顕色剤、発色成分が
ロイコ染料であることを特徴とする画像形成材料。
【0031】(18) 前記1〜14のいずれか1項記
載の画像形成方法に用いられる画像形成材料で、転写層
が光吸収物質を含有することを特徴とする画像形成材
料。
載の画像形成方法に用いられる画像形成材料で、転写層
が光吸収物質を含有することを特徴とする画像形成材
料。
【0032】(19) 光吸収物質が鉄、クロム、マン
ガン、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、銀、ア
ルミニウム、金、白金またはその酸化物の微粉末の少な
くとも1種から選ばれた金属含有粉末であることを特徴
とする前記18記載の画像形成材料。
ガン、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、銀、ア
ルミニウム、金、白金またはその酸化物の微粉末の少な
くとも1種から選ばれた金属含有粉末であることを特徴
とする前記18記載の画像形成材料。
【0033】(20) 光吸収物質が金属蒸着層である
ことを特徴とする前記18記載の画像形成材料。
ことを特徴とする前記18記載の画像形成材料。
【0034】(21) 光吸収物質が二酸化チタン、カ
ーボンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カ
ドミウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカル
シウムのクロム酸塩の少なくとも1種から選ばれた無機
顔料であることを特徴とする前記18記載の画像形成材
料。
ーボンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カ
ドミウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカル
シウムのクロム酸塩の少なくとも1種から選ばれた無機
顔料であることを特徴とする前記18記載の画像形成材
料。
【0035】(22) 光吸収物質がアゾ系、チオイン
ジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリ
フェンジオキサジン系、バット染料系、フタロシアニン
系、キナクリドン系の顔料の少なくとも1種から選ばれ
た有機顔料であることを特徴とする前記18記載の画像
形成材料。
ジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリ
フェンジオキサジン系、バット染料系、フタロシアニン
系、キナクリドン系の顔料の少なくとも1種から選ばれ
た有機顔料であることを特徴とする前記18記載の画像
形成材料。
【0036】(23) 光吸収物質が酸性染料、直接染
料、分散染料の少なくとも1種から選ばれた有機染料で
あることを特徴とする前記18記載の画像形成材料。
料、分散染料の少なくとも1種から選ばれた有機染料で
あることを特徴とする前記18記載の画像形成材料。
【0037】本発明の画像形成方法は、顕色成分、発色
成分を必須成分として含有する材料を種々組み合わせ、
画像情報に応じてエネルギーを加えることにより、安全
で簡易な乾式処理で高感度、高解像度の画像を形成で
き、画像保存性の良好な画像を形成することができる。
すなわち、明室での取扱いが可能であり、現像後の定着
処理が不要となるなどの効果を奏するものである。
成分を必須成分として含有する材料を種々組み合わせ、
画像情報に応じてエネルギーを加えることにより、安全
で簡易な乾式処理で高感度、高解像度の画像を形成で
き、画像保存性の良好な画像を形成することができる。
すなわち、明室での取扱いが可能であり、現像後の定着
処理が不要となるなどの効果を奏するものである。
【0038】以下、本発明の画像形成方法と、それに用
いる為の材料について詳述する。
いる為の材料について詳述する。
【0039】〔1〕画像形成方法 本発明の画像形成方法は、露光により潜像形成を行う工
程と、顕色成分と発色成分を混合し画像形成する工程か
ら構成される。
程と、顕色成分と発色成分を混合し画像形成する工程か
ら構成される。
【0040】潜像形成は、支持体上に光吸収物質と顕色
成分または発色成分を含有した転写層を高密度エネルギ
ー光を用いて像様に露光し、アブレーションを生じせし
め、支持体と転写層の結合力の強弱をつけることにより
行われる。
成分または発色成分を含有した転写層を高密度エネルギ
ー光を用いて像様に露光し、アブレーションを生じせし
め、支持体と転写層の結合力の強弱をつけることにより
行われる。
【0041】ここで言うアブレーションとは、画像露光
部分の転写層の破壊は起こらず、支持体と転写層間の結
合力のみが低下するあるいはなくなる、あるいは画像露
光部分の転写層の一部が熱破壊して飛散する等の他に、
画像露光部分の転写層に亀裂が生じる現象まで含む。
部分の転写層の破壊は起こらず、支持体と転写層間の結
合力のみが低下するあるいはなくなる、あるいは画像露
光部分の転写層の一部が熱破壊して飛散する等の他に、
画像露光部分の転写層に亀裂が生じる現象まで含む。
【0042】画像露光は、アブレーションが起こる光源
であれば特に制限なく用いることができる。その中で、
高解像度を得るためには、エネルギー印加面積が絞り込
める電磁波、特に波長が1nm〜1mmの紫外線、可視
光線、赤外線が好ましく、このような光エネルギーを印
加し得る光源としては、例えばレーザー、発光ダイオー
ド、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カー
ボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンラ
ンプ、石英水銀ランプ、高圧水銀ランプ等を挙げること
ができる。この際加えられるエネルギーは、画像形成材
料の種類により、露光距離、時間、強度を調整すること
により適時選択することができる。
であれば特に制限なく用いることができる。その中で、
高解像度を得るためには、エネルギー印加面積が絞り込
める電磁波、特に波長が1nm〜1mmの紫外線、可視
光線、赤外線が好ましく、このような光エネルギーを印
加し得る光源としては、例えばレーザー、発光ダイオー
ド、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カー
ボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンラ
ンプ、石英水銀ランプ、高圧水銀ランプ等を挙げること
ができる。この際加えられるエネルギーは、画像形成材
料の種類により、露光距離、時間、強度を調整すること
により適時選択することができる。
【0043】上記エネルギーを一括露光する場合には、
所望露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマ
スク材料を重ね合わせ露光すればよい。
所望露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマ
スク材料を重ね合わせ露光すればよい。
【0044】発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等
の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像
信号に応じたデジタル露光をすることが可能で、この場
合にはマスク材料を使用せず、直接書込みを行うことが
できる。
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等
の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像
信号に応じたデジタル露光をすることが可能で、この場
合にはマスク材料を使用せず、直接書込みを行うことが
できる。
【0045】しかしながら、この方法では、光源の他に
新たに光学的シャッター材料が必要であることから、デ
ジタル露光する場合にはレーザーを光源として用いるの
が好ましい。
新たに光学的シャッター材料が必要であることから、デ
ジタル露光する場合にはレーザーを光源として用いるの
が好ましい。
【0046】光源としてレーザー光を用いた場合には、
光をビーム状に絞り、画像データに応じた走査露光で潜
像形成を行うことが可能であり、さらに、レーザーを光
源として用いると、露光面積を微小サイズに絞ることが
容易で高解像度の画像形成が可能となる。
光をビーム状に絞り、画像データに応じた走査露光で潜
像形成を行うことが可能であり、さらに、レーザーを光
源として用いると、露光面積を微小サイズに絞ることが
容易で高解像度の画像形成が可能となる。
【0047】本発明で用いられるレーザー光源として
は、一般によく知られている、ルビーレーザー、YAG
レーザー、ガラスレーザーなどの固体レーザー;He−
Neレーザー、Arイオンレーザー、Krイオンレーザ
ー、CO2レーザー、COレーザー、He−Cdレーザ
ー、N2レーザー、エキシマーレーザーなどの気体レー
ザー;InGaPレーザー、AlGaAsレーザー、G
aAsPレーザー、InGaAsレーザー、InAsP
レーザー、CdSnP2レーザー、GaSbレーザーな
どの半導体レーザー;化学レーザー、色素レーザー等を
挙げることができ、これらの中でも効率的にアブレーシ
ョンを起こさせるためには、波長が600〜1200n
mの可視光から近赤外領域のレーザーを用いるのが、効
率的に光エネルギーを熱エネルギーに変換できることか
ら、感度の面で好ましい。
は、一般によく知られている、ルビーレーザー、YAG
レーザー、ガラスレーザーなどの固体レーザー;He−
Neレーザー、Arイオンレーザー、Krイオンレーザ
ー、CO2レーザー、COレーザー、He−Cdレーザ
ー、N2レーザー、エキシマーレーザーなどの気体レー
ザー;InGaPレーザー、AlGaAsレーザー、G
aAsPレーザー、InGaAsレーザー、InAsP
レーザー、CdSnP2レーザー、GaSbレーザーな
どの半導体レーザー;化学レーザー、色素レーザー等を
挙げることができ、これらの中でも効率的にアブレーシ
ョンを起こさせるためには、波長が600〜1200n
mの可視光から近赤外領域のレーザーを用いるのが、効
率的に光エネルギーを熱エネルギーに変換できることか
ら、感度の面で好ましい。
【0048】画像形成は、潜像形成時または潜像形成後
に発色成分と顕色成分を混合させることにより行われ、
更に加熱または加熱加圧することが好ましい。この場合
の加熱処理は、均一に十分に熱が掛かるものであれば特
に制限はなく用いることができる。
に発色成分と顕色成分を混合させることにより行われ、
更に加熱または加熱加圧することが好ましい。この場合
の加熱処理は、均一に十分に熱が掛かるものであれば特
に制限はなく用いることができる。
【0049】加熱処理手段としては、オーブン、サーマ
ルヘッド、ヒートロール、ホットスタンプ、熱ペン等温
度のみを掛けるものでも、温度を掛けると同時に圧力を
掛けるものでも適時選択して用いることができるが、発
色成分と顕色成分を均一に効率良く混ぜ合わせるため
に、加熱と同時に圧力を掛けることができるヒートロー
ルやホットスタンプがより好ましい。ヒートロールを用
いる場合の加熱温度は、通常60〜200℃、好ましく
は80〜180℃の範囲であり、搬送速度は、通常0.
1〜100mm/秒、好ましくは0.5〜50mm/
秒、圧力は、通常0.1〜20kg/cm、好ましくは
0.5〜10kg/cmである。更に、ホットスタンプ
を用いる場合の加熱温度は、通常60〜200℃、好ま
しくは80〜150℃の範囲で、圧力としては、通常
0.05〜10kg/cm2、好ましくは0.5〜5k
g/cm2、又加熱時間は、通常0.1〜300秒、好
ましくは0.5〜100秒である。
ルヘッド、ヒートロール、ホットスタンプ、熱ペン等温
度のみを掛けるものでも、温度を掛けると同時に圧力を
掛けるものでも適時選択して用いることができるが、発
色成分と顕色成分を均一に効率良く混ぜ合わせるため
に、加熱と同時に圧力を掛けることができるヒートロー
ルやホットスタンプがより好ましい。ヒートロールを用
いる場合の加熱温度は、通常60〜200℃、好ましく
は80〜180℃の範囲であり、搬送速度は、通常0.
1〜100mm/秒、好ましくは0.5〜50mm/
秒、圧力は、通常0.1〜20kg/cm、好ましくは
0.5〜10kg/cmである。更に、ホットスタンプ
を用いる場合の加熱温度は、通常60〜200℃、好ま
しくは80〜150℃の範囲で、圧力としては、通常
0.05〜10kg/cm2、好ましくは0.5〜5k
g/cm2、又加熱時間は、通常0.1〜300秒、好
ましくは0.5〜100秒である。
【0050】以下、本発明における画像形成方法につい
て図をもとに説明する。
て図をもとに説明する。
【0051】1)第1の態様 本態様では図1(a)のように、第1の支持体1に光吸
収物質と顕色成分または発色成分を含有した転写層2を
有した転写材料5と、第2の支持体4に顕色成分または
発色成分のうち転写層に含まれない成分を含有した受容
層3を有した受容材料6からなる画像形成材料7を用い
て画像形成が成される。この画像形成材料に支持体1側
から高密度エネルギー光LDを像様に照射し、露光部の
支持体と転写層の結合力をアブレーションにより低下せ
しめた後、図1(b)のように、転写材料5と受容材料
6を剥離して転写層の露光部分2aのみを受容材料6上
に転写し、顕色成分または発色成分を混合することによ
り画像形成を行う。図1(c)では、更に加熱処理する
ことにより画像形成を行い、画像2a′を得た。
収物質と顕色成分または発色成分を含有した転写層2を
有した転写材料5と、第2の支持体4に顕色成分または
発色成分のうち転写層に含まれない成分を含有した受容
層3を有した受容材料6からなる画像形成材料7を用い
て画像形成が成される。この画像形成材料に支持体1側
から高密度エネルギー光LDを像様に照射し、露光部の
支持体と転写層の結合力をアブレーションにより低下せ
しめた後、図1(b)のように、転写材料5と受容材料
6を剥離して転写層の露光部分2aのみを受容材料6上
に転写し、顕色成分または発色成分を混合することによ
り画像形成を行う。図1(c)では、更に加熱処理する
ことにより画像形成を行い、画像2a′を得た。
【0052】本態様では、さらに、画像を形成させた画
像表面の耐久性を持たせるために、保護層を設けても良
く、この場合は、例えば、図1(d)に示すような第4
の支持体8に接着層9を設けた保護層転写材料10を用
いて、保護層転写材料の接着層9と受容材料の受容層の
露光部分2aとを対面させて加圧処理、場合によっては
加熱加圧処理することによって図1(e)に示す、保護
層を設けた画像2a′を形成することができる。この場
合に、加圧処理する手段としては、圧力ロールや圧色ス
タンプなどを適時選択して用いることができる。加圧処
理する条件は、それぞれの装置の表面の材質などにより
一概に規定することはできないが、圧力ロールを用いる
場合には、搬送速度は、通常0.1〜200mm/秒、
好ましくは0.5〜100mm/秒、圧力としては、通
常0.1〜20kg/cm、好ましくは0.5〜10k
g/cmである。また、圧力スタンプを用いる場合に
は、圧力としては、通常0.05〜10kg/cm2、
好ましくは0.5〜5kg/cm2、加圧時間として
は、通常0.1〜20秒、好ましくは0.5〜10秒で
ある。
像表面の耐久性を持たせるために、保護層を設けても良
く、この場合は、例えば、図1(d)に示すような第4
の支持体8に接着層9を設けた保護層転写材料10を用
いて、保護層転写材料の接着層9と受容材料の受容層の
露光部分2aとを対面させて加圧処理、場合によっては
加熱加圧処理することによって図1(e)に示す、保護
層を設けた画像2a′を形成することができる。この場
合に、加圧処理する手段としては、圧力ロールや圧色ス
タンプなどを適時選択して用いることができる。加圧処
理する条件は、それぞれの装置の表面の材質などにより
一概に規定することはできないが、圧力ロールを用いる
場合には、搬送速度は、通常0.1〜200mm/秒、
好ましくは0.5〜100mm/秒、圧力としては、通
常0.1〜20kg/cm、好ましくは0.5〜10k
g/cmである。また、圧力スタンプを用いる場合に
は、圧力としては、通常0.05〜10kg/cm2、
好ましくは0.5〜5kg/cm2、加圧時間として
は、通常0.1〜20秒、好ましくは0.5〜10秒で
ある。
【0053】なお、図1(d)では保護層として支持体
と接着層を付したものを使用したが、樹脂層のみを転写
する転写箔のようなものも適時選択して用いることがで
きる。また、保護層の設置は潜像形成後であれば、画像
形成前後のいずれでも良く、より効率的には画像形成時
の加熱処理と保護層転写材料を転写する加熱加圧処理を
同一の工程で行っても良い。
と接着層を付したものを使用したが、樹脂層のみを転写
する転写箔のようなものも適時選択して用いることがで
きる。また、保護層の設置は潜像形成後であれば、画像
形成前後のいずれでも良く、より効率的には画像形成時
の加熱処理と保護層転写材料を転写する加熱加圧処理を
同一の工程で行っても良い。
【0054】2)第2の態様 本態様では図2(a)のように、第1の支持体1に光吸
収物質と顕色成分または発色成分を含有した転写層2を
設けた転写材料5と、第3の支持体12に剥離層11を
設けた剥離材料13からなる画像形成材料14と、第2
の支持体4に顕色成分または発色成分のうち転写層に含
まれない成分を含有した受容層3を有した受容材料6を
用いて、画像形成が成される。本態様では以下の2つの
方法に大別される。
収物質と顕色成分または発色成分を含有した転写層2を
設けた転写材料5と、第3の支持体12に剥離層11を
設けた剥離材料13からなる画像形成材料14と、第2
の支持体4に顕色成分または発色成分のうち転写層に含
まれない成分を含有した受容層3を有した受容材料6を
用いて、画像形成が成される。本態様では以下の2つの
方法に大別される。
【0055】まず1つめの方法は、画像形成材料14に
第1の態様と同様にアブレーションせしめた後、図2
(b)に示すように、転写材料5と剥離材料13を剥離
して、転写層の露光部分を剥離体上に除去し、転写材料
上に潜像2bの形成を行う。その後、図2(d)のよう
に転写材料上の転写層上の潜像2bと受容材料6の受容
層3を重ね合せ第1の態様と同様に加熱処理することに
より図2(e)に示すようにポジ画像2b′の形成を行
う。
第1の態様と同様にアブレーションせしめた後、図2
(b)に示すように、転写材料5と剥離材料13を剥離
して、転写層の露光部分を剥離体上に除去し、転写材料
上に潜像2bの形成を行う。その後、図2(d)のよう
に転写材料上の転写層上の潜像2bと受容材料6の受容
層3を重ね合せ第1の態様と同様に加熱処理することに
より図2(e)に示すようにポジ画像2b′の形成を行
う。
【0056】2つめの方法は、画像形成材料14に第1
の態様と同様にアブレーションせしめた後、図2(c)
に示すように、転写材料5と剥離材料13を剥離して、
転写層の露光部分2aを剥離材料上に転写し潜像形成を
行う。その後、図2(f)のように剥離材料の転写層に
露光部分2aを保持したまま、受容材料6の受容層3を
重ね合せ、第1の態様と同様に加熱処理することにより
図2(g)に示すようにネガ画像2a′の形成を行う。
の態様と同様にアブレーションせしめた後、図2(c)
に示すように、転写材料5と剥離材料13を剥離して、
転写層の露光部分2aを剥離材料上に転写し潜像形成を
行う。その後、図2(f)のように剥離材料の転写層に
露光部分2aを保持したまま、受容材料6の受容層3を
重ね合せ、第1の態様と同様に加熱処理することにより
図2(g)に示すようにネガ画像2a′の形成を行う。
【0057】なお、図2では受容材料と転写材料または
剥離材料を一体化させたが、必要に応じて加熱処理前に
転写材料または剥離材料の支持体を剥離し、転写層のみ
を受容材料に転写した後、加熱処理を行っても良い。ま
た、一体化のまま、加熱処理を行った後、転写材料また
は剥離材料の支持体を剥離しても良い。
剥離材料を一体化させたが、必要に応じて加熱処理前に
転写材料または剥離材料の支持体を剥離し、転写層のみ
を受容材料に転写した後、加熱処理を行っても良い。ま
た、一体化のまま、加熱処理を行った後、転写材料また
は剥離材料の支持体を剥離しても良い。
【0058】また、上記剥離の方法としては、剥離板、
剥離ロールによる剥離角度固定方法、手で剥離体と画像
形成材料を固定せずに引き剥がす手剥離方法など、画像
形成に影響を与えなければ種々の剥離方法を用いること
ができる。
剥離ロールによる剥離角度固定方法、手で剥離体と画像
形成材料を固定せずに引き剥がす手剥離方法など、画像
形成に影響を与えなければ種々の剥離方法を用いること
ができる。
【0059】上述の説明は、支持体上に転写層のみが積
層された画像形成材料で説明したが、支持体と転写層と
の間に中間層が積層されている場合には、アブレーショ
ン位置は中間層と転写層との間でも良いし、支持体と中
間層との間でも良く、また場合によっては中間層の一部
熱破壊でも良い。
層された画像形成材料で説明したが、支持体と転写層と
の間に中間層が積層されている場合には、アブレーショ
ン位置は中間層と転写層との間でも良いし、支持体と中
間層との間でも良く、また場合によっては中間層の一部
熱破壊でも良い。
【0060】〔2〕画像形成材料 以下に本発明に用いられる材料について詳述する。
【0061】〈顕色成分・発色成分〉本発明に用いられ
る顕色成分と発色成分の組合せとしては、発色成分に顕
色成分を加えることにより発色成分の吸収波長が変化す
るような組合せであれば、特に制限することなく用いる
ことができる。
る顕色成分と発色成分の組合せとしては、発色成分に顕
色成分を加えることにより発色成分の吸収波長が変化す
るような組合せであれば、特に制限することなく用いる
ことができる。
【0062】本発明に用いられる組合せとしては、
(1)顕色成分がアンモニア又は1級アミンを放出させ
る化合物、発色成分が放出されたアンモニア又は1級ア
ミンにより吸収波長の変化する化合物の組合せ、(2)
顕色成分が有機還元剤、発色成分が前記有機還元剤によ
り発色する銀源の組合せ、(3)顕色成分がロイコ染料
を加熱発色せしめる顕色剤、発色成分がロイコ染料の組
合せなどが挙げられる。
(1)顕色成分がアンモニア又は1級アミンを放出させ
る化合物、発色成分が放出されたアンモニア又は1級ア
ミンにより吸収波長の変化する化合物の組合せ、(2)
顕色成分が有機還元剤、発色成分が前記有機還元剤によ
り発色する銀源の組合せ、(3)顕色成分がロイコ染料
を加熱発色せしめる顕色剤、発色成分がロイコ染料の組
合せなどが挙げられる。
【0063】以下にこれらの組合せについて詳述する。
【0064】組合せ(1)のケース アンモニア又は1級アミンを放出させる化合物は、例え
ば、アンモニア又は1級アミンから選ばれる少なくとも
1つを配位子として有する金属錯体などに作用し、アン
モニア又は1級アミンを放出させる化合物から選ばれ。
そのような化合物としては、還元剤、ラジカル発生剤、
酸化防止剤、キレート交換剤、グアニジン誘導体及び下
記一般式(1)で表される化合物が挙げられる。
ば、アンモニア又は1級アミンから選ばれる少なくとも
1つを配位子として有する金属錯体などに作用し、アン
モニア又は1級アミンを放出させる化合物から選ばれ。
そのような化合物としては、還元剤、ラジカル発生剤、
酸化防止剤、キレート交換剤、グアニジン誘導体及び下
記一般式(1)で表される化合物が挙げられる。
【0065】
【化1】
【0066】(式中、Zは、5〜7員環を形成する原子
群を表す。) 上述の具体的な化合物としては、還元剤としては、キノ
ン類、ジスルフィド類、ジアゾアントロン類、ジアゾフ
ェナントロン類、カルバジド類、ジアゾスルホネート
類、ジアゾニウム塩、芳香族アジド類、ベンズイミダゾ
ール類及びアジリジン類などが、ラジカル発生剤として
は、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、ジ−
tert−ブチルパーオキシド等の過酸化物、テトラア
ルキルチウラムジスルフィド等のジスルフィド化合物、
AgC2H5及びPb(C2H5)4等の有機金属化合物、
アセチルアセトンのマンガン錯体等の有機金属錯体な
ど、ベンゾイルパーオキシドとジメチルアニリン、4価
のセリウム塩とポリビニルアルコールなどが、酸化防止
剤としては、エリソルビン酸、クエン酸イソプロピル、
ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソ
ール、メチルガレート、メチルガレートとテトラブチル
アンモニウムとの1:1の塩等のガーリック酸エステル
及びその誘導体などが、コバルト(III)錯体に対して
キレート交換可能な配位子となる化合物は、2−アミノ
−1,3−プロピレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミ
ン、2,2′−ビピリジン、2,2′,2″−ターピリ
ジン、1,10−フェナントロリン、ジメチルグリオキ
シム、アセチルアセトンなどを挙げることができる。
又、グアニジン誘導体としては、1,3−ジメチルグア
ニジン、1,3−ジフェニルグアニジン、1,1,3,
3−テトラメチルグアニジンなどを挙げることができ、
更に、一般式(1)で表される化合物としては、スクシ
ンイミド、フタルイミド、2−メチルスクシンイミド、
ジチオウラシル、5−メチル−5−n−ペンチルヒダン
トイン、フタルイミド、ニトロフタルイミド、2,3,
4,5−テトラクロロフタルイミド、5,5′−ジメチ
ルオキサゾロン、5,5−ジメチルヒダントイン、5−
イソプロピルヒダントイン、1−メチロール−5,5−
ジフェニルヒダントイン、5,5−ジフェニルヒダント
イン、マレンイミド、グルタルイミド、ピロメリットイ
ミド、N−(トリメチルシリル)フタルイミド、ヒダン
トイン、3−メチルフタルイミド及び4−n−オクチル
フタルイミド等の化合物が挙げられる。この中で、医療
画像のように透過画像として用いる場合には、画像の色
調の点で、一般式(1)で表される化合物を用いるのが
冷黒調の画像が得られることから好ましい。
群を表す。) 上述の具体的な化合物としては、還元剤としては、キノ
ン類、ジスルフィド類、ジアゾアントロン類、ジアゾフ
ェナントロン類、カルバジド類、ジアゾスルホネート
類、ジアゾニウム塩、芳香族アジド類、ベンズイミダゾ
ール類及びアジリジン類などが、ラジカル発生剤として
は、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、ジ−
tert−ブチルパーオキシド等の過酸化物、テトラア
ルキルチウラムジスルフィド等のジスルフィド化合物、
AgC2H5及びPb(C2H5)4等の有機金属化合物、
アセチルアセトンのマンガン錯体等の有機金属錯体な
ど、ベンゾイルパーオキシドとジメチルアニリン、4価
のセリウム塩とポリビニルアルコールなどが、酸化防止
剤としては、エリソルビン酸、クエン酸イソプロピル、
ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソ
ール、メチルガレート、メチルガレートとテトラブチル
アンモニウムとの1:1の塩等のガーリック酸エステル
及びその誘導体などが、コバルト(III)錯体に対して
キレート交換可能な配位子となる化合物は、2−アミノ
−1,3−プロピレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミ
ン、2,2′−ビピリジン、2,2′,2″−ターピリ
ジン、1,10−フェナントロリン、ジメチルグリオキ
シム、アセチルアセトンなどを挙げることができる。
又、グアニジン誘導体としては、1,3−ジメチルグア
ニジン、1,3−ジフェニルグアニジン、1,1,3,
3−テトラメチルグアニジンなどを挙げることができ、
更に、一般式(1)で表される化合物としては、スクシ
ンイミド、フタルイミド、2−メチルスクシンイミド、
ジチオウラシル、5−メチル−5−n−ペンチルヒダン
トイン、フタルイミド、ニトロフタルイミド、2,3,
4,5−テトラクロロフタルイミド、5,5′−ジメチ
ルオキサゾロン、5,5−ジメチルヒダントイン、5−
イソプロピルヒダントイン、1−メチロール−5,5−
ジフェニルヒダントイン、5,5−ジフェニルヒダント
イン、マレンイミド、グルタルイミド、ピロメリットイ
ミド、N−(トリメチルシリル)フタルイミド、ヒダン
トイン、3−メチルフタルイミド及び4−n−オクチル
フタルイミド等の化合物が挙げられる。この中で、医療
画像のように透過画像として用いる場合には、画像の色
調の点で、一般式(1)で表される化合物を用いるのが
冷黒調の画像が得られることから好ましい。
【0067】尚、コバルト(III)錯体から配位子であ
るアンモニア又は1級アミンを放出させる化合物及びそ
の前駆体の添加量は、コバルト(III)錯体の配位子や
安定度により一概に決めることはできないが、通常コバ
ルト(III)錯体1モル量に対して0.01〜20モ
ル、好ましくは0.1〜10モルの範囲で添加するのが
好ましい。
るアンモニア又は1級アミンを放出させる化合物及びそ
の前駆体の添加量は、コバルト(III)錯体の配位子や
安定度により一概に決めることはできないが、通常コバ
ルト(III)錯体1モル量に対して0.01〜20モ
ル、好ましくは0.1〜10モルの範囲で添加するのが
好ましい。
【0068】アンモニア又は1級アミンから選ばれる少
なくとも1つを配位子として有する金属錯体としては、
アンモニア又は1級アミンを放出することが可能な錯体
であれば制限なく使用できるが、コバルト(III)錯体
がより好ましい。この様なコバルト(III)錯体の一つ
の形態は陰イオン又は陽イオンのいずれも有しない中性
の化合物であってもよく、別の形態では電荷の中和則に
よって決められた様に1個または複数の陽イオン或いは
陰イオンを含むものであってもよいが、本発明で用いら
れるコバルト錯体は次の一般式(2)で表されるコバル
ト(III)錯体がより好ましい。
なくとも1つを配位子として有する金属錯体としては、
アンモニア又は1級アミンを放出することが可能な錯体
であれば制限なく使用できるが、コバルト(III)錯体
がより好ましい。この様なコバルト(III)錯体の一つ
の形態は陰イオン又は陽イオンのいずれも有しない中性
の化合物であってもよく、別の形態では電荷の中和則に
よって決められた様に1個または複数の陽イオン或いは
陰イオンを含むものであってもよいが、本発明で用いら
れるコバルト錯体は次の一般式(2)で表されるコバル
ト(III)錯体がより好ましい。
【0069】一般式(2) 〔CoIII(Lig)p〕X-q 式中、Ligはコバルトと錯体を形成する配位化合物
で、少なくとも一つはNH3又は1級アミン類を表す。
1級アミン類とは、NH2基を少なくとも一つ有する配
位化合物(例えばメチルアミン、エチルアミン、ブチル
アミン)であり、特にNH2基を少なくとも一つの配位
子とする2座以上の配位化合物(例えばエチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
グリシンアミド及びピコリンアミド)でもよい。pは1
〜6の整数を表し、pが2以上の時、複数個のLigは
同じでも異なっていてもよい。X-は対アニオンを表
し、qは1、2又は3を表す。X-で表される代表的な
対アニオンとしては、ベンジレート、チオシアナート、
アセテート、パークロレート、ヘキサフルオロホスフェ
ート、ナイトレート、サリシネート、クロライド、フル
オライド、アイオダイド、ブロマイド及びボレート等が
挙げられるが、特に好ましくはカルボキシアニオンを含
む錯体である。
で、少なくとも一つはNH3又は1級アミン類を表す。
1級アミン類とは、NH2基を少なくとも一つ有する配
位化合物(例えばメチルアミン、エチルアミン、ブチル
アミン)であり、特にNH2基を少なくとも一つの配位
子とする2座以上の配位化合物(例えばエチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
グリシンアミド及びピコリンアミド)でもよい。pは1
〜6の整数を表し、pが2以上の時、複数個のLigは
同じでも異なっていてもよい。X-は対アニオンを表
し、qは1、2又は3を表す。X-で表される代表的な
対アニオンとしては、ベンジレート、チオシアナート、
アセテート、パークロレート、ヘキサフルオロホスフェ
ート、ナイトレート、サリシネート、クロライド、フル
オライド、アイオダイド、ブロマイド及びボレート等が
挙げられるが、特に好ましくはカルボキシアニオンを含
む錯体である。
【0070】コバルト(III)錯体の具体例としては、
例えばヘキサアンミンコバルト(III)トリフルオロア
セテート、ヘキサアンミンコバルト(III)ペンタフル
オロプロピオネート、ヘキサアンミンコバルト(III)
ベンジレート、ヘキサアンミンコバルト(III)チオシ
アネート、ヘキサアンミンコバルト(III)アセテー
ト、ヘキサアンミンコバルト(III)クロライド、ヘキ
サアンミンコバルト(III)パークロレート、クロロペ
ンタアンミンコバルト(III)パークロレート、ブロモ
ペンタアンミンコバルト(III)パークロレート、アク
アペンタアンミンコバルト(III)ナイトレート、アク
アペンタアンミンコバルト(III)ジクロロアセテー
ト、ニトロペンタアンミンコバルト(III)クロライ
ド、ニトロペンタアンミンコバルト(III)パークロレ
ート、カルボナートテトラアンミンコバルト(III)ク
ロライド、トリス(エチレンジアミン)コバルト(II
I)パークロレート、ビス(エチレンジアミン)ビスア
ジドコバルト(III)パークロレート、トリス(1,3
−プロパンジアミン)コバルト(III)トリフルオロア
セテート、トリスグリシンアミドコバルト(III)クロ
ライドなどを挙げることができる。
例えばヘキサアンミンコバルト(III)トリフルオロア
セテート、ヘキサアンミンコバルト(III)ペンタフル
オロプロピオネート、ヘキサアンミンコバルト(III)
ベンジレート、ヘキサアンミンコバルト(III)チオシ
アネート、ヘキサアンミンコバルト(III)アセテー
ト、ヘキサアンミンコバルト(III)クロライド、ヘキ
サアンミンコバルト(III)パークロレート、クロロペ
ンタアンミンコバルト(III)パークロレート、ブロモ
ペンタアンミンコバルト(III)パークロレート、アク
アペンタアンミンコバルト(III)ナイトレート、アク
アペンタアンミンコバルト(III)ジクロロアセテー
ト、ニトロペンタアンミンコバルト(III)クロライ
ド、ニトロペンタアンミンコバルト(III)パークロレ
ート、カルボナートテトラアンミンコバルト(III)ク
ロライド、トリス(エチレンジアミン)コバルト(II
I)パークロレート、ビス(エチレンジアミン)ビスア
ジドコバルト(III)パークロレート、トリス(1,3
−プロパンジアミン)コバルト(III)トリフルオロア
セテート、トリスグリシンアミドコバルト(III)クロ
ライドなどを挙げることができる。
【0071】尚、一般式(2)で表されるコバルト(II
I)錯体は一種単独で用いても良いし、二種以上混合し
て用いても良い。又、コバルト(III)錯体の添加量
は、その種類及び使用形態により異なるが、層形成組成
物中0.1〜30重量%、好ましくは2〜20重量%の
範囲で用いるのが好ましい。
I)錯体は一種単独で用いても良いし、二種以上混合し
て用いても良い。又、コバルト(III)錯体の添加量
は、その種類及び使用形態により異なるが、層形成組成
物中0.1〜30重量%、好ましくは2〜20重量%の
範囲で用いるのが好ましい。
【0072】放出されたアンモニア又は1級アミンによ
り吸収波長の変化する化合物とは、放出されたアンモニ
ア又は1級アミンとの反応により、a)実質的無色から
着色する化合物、b)予め着色していたものが無色化す
る化合物、c)予め着色していた色調が異なる色調に変
化する化合物を表す。
り吸収波長の変化する化合物とは、放出されたアンモニ
ア又は1級アミンとの反応により、a)実質的無色から
着色する化合物、b)予め着色していたものが無色化す
る化合物、c)予め着色していた色調が異なる色調に変
化する化合物を表す。
【0073】次に、放出された配位子により光吸収波長
が変化する化合物について詳述する。上記放出された配
位子により光吸収波長が変化する化合物とは、コバルト
(III)錯体から放出されたアンモニア又は1級アミン
との反応により、a)実質的無色から着色する化合物、
b)あらかじめ着色していたものが無色化する化合物、
c)あらかじめ着色していた色調が異なる色調に変化す
る化合物、を表す。更に具体的に詳述すれば、上記a)
は、可視領域に実質的に分光吸収を持たない化合物がア
ンモニア又はアミン、特に1級アミンと反応することに
より可視領域に分光吸収が生じる様な化合物であり、又
上記b)は、本来可視領域に分光吸収を有する化合物が
アンモニア又は1級アミンと反応することにより可視領
域の分光吸収が実質的に消滅する様な化合物であり、更
に上記c)は、本来可視領域の一定領域に分光吸収を有
する化合物がアンモニア又は1級アミンと反応すること
により可視領域の分光吸収が長波側或いは短波側にシフ
トする様な化合物である。
が変化する化合物について詳述する。上記放出された配
位子により光吸収波長が変化する化合物とは、コバルト
(III)錯体から放出されたアンモニア又は1級アミン
との反応により、a)実質的無色から着色する化合物、
b)あらかじめ着色していたものが無色化する化合物、
c)あらかじめ着色していた色調が異なる色調に変化す
る化合物、を表す。更に具体的に詳述すれば、上記a)
は、可視領域に実質的に分光吸収を持たない化合物がア
ンモニア又はアミン、特に1級アミンと反応することに
より可視領域に分光吸収が生じる様な化合物であり、又
上記b)は、本来可視領域に分光吸収を有する化合物が
アンモニア又は1級アミンと反応することにより可視領
域の分光吸収が実質的に消滅する様な化合物であり、更
に上記c)は、本来可視領域の一定領域に分光吸収を有
する化合物がアンモニア又は1級アミンと反応すること
により可視領域の分光吸収が長波側或いは短波側にシフ
トする様な化合物である。
【0074】上記放出された配位子により光吸収波長が
変化する化合物の中で、吸収波長を長波化させる化合物
としては、例えばo−フタルアルデヒド等の芳香族ジア
ルデヒドやニンヒドリン等が挙げられ、又逆に吸収波長
を短波化させる化合物としては、或る種のシアニン色
素、スチリル色素、ローダミン色素、アゾ色素、ピリリ
ウム色素等が挙げられるが、形成された画像のコントラ
ストの点から、a)又はb)の化合物を選択するのが好
ましい。この中で、b)に属する代表的な化合物として
は、ピリリウム色素が挙げられ、具体的には、2,6−
ジフェニル−4−(3−メトキシフェニル)ピリリウム
パークロレート、4−フェニル−2,6−ジエチルピリ
リウムパークロレート、4−(4−モルホリノフェニ
ル)−2,6−ジフェニルピリリウムパークロレート、
2,6−ビス(p−メトキシフェニル)−4−フェニル
ピリリウムテトラフルオロボレート、2,4−ジフェニ
ル−6−(β−メチル−3,4−ジエトキシチリル)ピ
リリウムテトラフルオロボレート、4−(4−ジメチル
アミノビニル)−2,6−ジフェニルピリリウムパーク
ロレート、2−(2−ナフチル)−4,6−ジフェニル
ピリリウムパークロレート、2,6−ジフェニル−4−
〔2−(10−メチルフェノチアジル)〕ピリリウムパ
ークロレート、2−ブチル−3−〔β−(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)ビニル〕−ナフト〔2,1−b〕ピ
リリウムパークロレート、4−(2−ヒドロキシベンジ
リデン)−1,2,3,4−テトラヒドロキシキサンチ
リウムパークロレート、4−(4−メチルメルカプトフ
ェニル)−2,6−ジフェニルピリリウムパークロレー
ト、9−フェニルジベンゾ〔a・j〕キサンチリウムパ
ークロレート、2,6−ジフェニル−4−(4−メトキ
シカルボニルフェニル)ピリリウムパークロレート、
5,6−ジヒドロ−2,4−ジフェニルナフト〔1,2
−b〕ピリリウムテトラフルオロボレート、8−(ベン
ゾ〔b〕−3H−1,2−ジチオール−3−イリジン)
−9,10,11,12−テトラヒドロ−8H−シクロ
ヘプタ〔e〕ナフト〔2,1−b〕ピリリウムパークロ
レート等を挙げることができる。
変化する化合物の中で、吸収波長を長波化させる化合物
としては、例えばo−フタルアルデヒド等の芳香族ジア
ルデヒドやニンヒドリン等が挙げられ、又逆に吸収波長
を短波化させる化合物としては、或る種のシアニン色
素、スチリル色素、ローダミン色素、アゾ色素、ピリリ
ウム色素等が挙げられるが、形成された画像のコントラ
ストの点から、a)又はb)の化合物を選択するのが好
ましい。この中で、b)に属する代表的な化合物として
は、ピリリウム色素が挙げられ、具体的には、2,6−
ジフェニル−4−(3−メトキシフェニル)ピリリウム
パークロレート、4−フェニル−2,6−ジエチルピリ
リウムパークロレート、4−(4−モルホリノフェニ
ル)−2,6−ジフェニルピリリウムパークロレート、
2,6−ビス(p−メトキシフェニル)−4−フェニル
ピリリウムテトラフルオロボレート、2,4−ジフェニ
ル−6−(β−メチル−3,4−ジエトキシチリル)ピ
リリウムテトラフルオロボレート、4−(4−ジメチル
アミノビニル)−2,6−ジフェニルピリリウムパーク
ロレート、2−(2−ナフチル)−4,6−ジフェニル
ピリリウムパークロレート、2,6−ジフェニル−4−
〔2−(10−メチルフェノチアジル)〕ピリリウムパ
ークロレート、2−ブチル−3−〔β−(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)ビニル〕−ナフト〔2,1−b〕ピ
リリウムパークロレート、4−(2−ヒドロキシベンジ
リデン)−1,2,3,4−テトラヒドロキシキサンチ
リウムパークロレート、4−(4−メチルメルカプトフ
ェニル)−2,6−ジフェニルピリリウムパークロレー
ト、9−フェニルジベンゾ〔a・j〕キサンチリウムパ
ークロレート、2,6−ジフェニル−4−(4−メトキ
シカルボニルフェニル)ピリリウムパークロレート、
5,6−ジヒドロ−2,4−ジフェニルナフト〔1,2
−b〕ピリリウムテトラフルオロボレート、8−(ベン
ゾ〔b〕−3H−1,2−ジチオール−3−イリジン)
−9,10,11,12−テトラヒドロ−8H−シクロ
ヘプタ〔e〕ナフト〔2,1−b〕ピリリウムパークロ
レート等を挙げることができる。
【0075】上記ピリリウム色素の添加量は、コバルト
(III)錯体の配位子や安定度により一概に決めること
はできないが、通常コバルト(III)錯体1モル量に対
して0.1〜10モル、好ましくは0.5〜6モルの範
囲で添加するのが好ましい。
(III)錯体の配位子や安定度により一概に決めること
はできないが、通常コバルト(III)錯体1モル量に対
して0.1〜10モル、好ましくは0.5〜6モルの範
囲で添加するのが好ましい。
【0076】又、OHP、印刷などのマスクフィルム、
或いはMRIやCTのような医療画像のように黒色の透
過画像で且つ濃度が必要な場合には、a)の化合物を選
択するのが好ましく、a)に属する代表的な化合物とし
ては、芳香族ジアルデヒドが挙げられ、具体的な化合物
としては、以下の化合物を挙げることができる。
或いはMRIやCTのような医療画像のように黒色の透
過画像で且つ濃度が必要な場合には、a)の化合物を選
択するのが好ましく、a)に属する代表的な化合物とし
ては、芳香族ジアルデヒドが挙げられ、具体的な化合物
としては、以下の化合物を挙げることができる。
【0077】
【化2】
【0078】
【化3】
【0079】上記芳香族ジアルデヒドの添加量は、コバ
ルト(III)錯体の配位子や安定度により一概に決める
ことはできないが、通常コバルト(III)錯体1モル量
に対して1〜20モル、好ましくは3〜10モルの範囲
で添加するのが好ましい。
ルト(III)錯体の配位子や安定度により一概に決める
ことはできないが、通常コバルト(III)錯体1モル量
に対して1〜20モル、好ましくは3〜10モルの範囲
で添加するのが好ましい。
【0080】組合せ(2)のケース 有機還元剤の具体的な化合物としては、アミドオキシム
(例えばフェニルアミドオキシム、2−チエニル−アミ
ドオキシム、p−フェノキシ−フェニルアミドキシム
等)、アジン(例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジメト
キシ−ベンズアルデヒドアジン等)のようなアミドオキ
シム、2,2′−ビス−(ヒドロキシメチル)プロピオ
ニル−β−フェニルヒドラジドとアスコルビン酸との組
み合わせのような脂肪族カルボン酸アリールヒドラジド
とアスコルビン酸との組み合わせ、ポリヒドロキシベン
ゼンとヒドロキシルアミン、リダクトン及び/又はヒド
ラジンとの組み合わせ(例えばヒドロキノンとビス(エ
トキシエチル)−ヒドロキシルアミン、ピペリジノヘキ
ソースリダクトンまたはホルミル−4−メチルフェニル
ヒドラジン、フェニルヒドロキサム酸、p−ヒドロキシ
フェニルヒドロキサム酸およびβ−アラニンヒドロキサ
ム酸のようなヒドロキサム酸との組み合わせ)、アジン
とスルホンアミドフェノール誘導体との組み合わせ(例
えばフェノチアジンと2,6−ジクロロ−4−ベンゼン
アミドフェノール、エチル−α−シアノ−2−メチルフ
ェニルアセテート、エチル−α−シアノフェニルアセテ
ートのようなα−シアノフェニルアセテート誘導体)、
ビス−β−ナフトール誘導体(例えば2,2′−ジヒド
ロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−
2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチルおよび
ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタン等)、ビ
ス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロキシベンゼン誘
導体(例えば2,4−ヒドロキシ−ベンゾフェノンまた
は2′,4′−ジヒドロキシアセトフェノン)との組み
合わせ、5−ピラゾロン類(例えば3−メチル−1−フ
ェニル−5−ピラゾロン等)、ジメチルアミノヘキソー
スリダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘキソースリ
ダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリドンヘキソー
スリダクトのようなリダクトン、スルホンアミドフェノ
ール誘導体(例えば2,6−ジクロロ−4−ベンゼンス
ルホンアミノフェノール、p−ベンゼンスルホンアミド
フェノール等)、クロマン類(例えば2,2−ジメチル
−7−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマン等)、1,
4−ジヒドロピリジン誘導体(例えば2,6−ジメトキ
シ−3,5−カルボエトキシ−1,4−ジヒドロピリジ
ン等)、ビスフェノール類(例えばビス(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロパン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール)および2,2′−ビス(3,
5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン
等)、アスコルビン酸誘導体(例えば1−アスコロビル
パルミテート、アスコロビルステアレート等)、ベンジ
ルおよびジアセチルのような不飽和アルデヒドおよびケ
トン、3−ピラゾリドンおよびある種のインダン−1,
3−ジオン(例えば2−フェニルインダン−1,3−ジ
オン等)などを挙げることができる。
(例えばフェニルアミドオキシム、2−チエニル−アミ
ドオキシム、p−フェノキシ−フェニルアミドキシム
等)、アジン(例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジメト
キシ−ベンズアルデヒドアジン等)のようなアミドオキ
シム、2,2′−ビス−(ヒドロキシメチル)プロピオ
ニル−β−フェニルヒドラジドとアスコルビン酸との組
み合わせのような脂肪族カルボン酸アリールヒドラジド
とアスコルビン酸との組み合わせ、ポリヒドロキシベン
ゼンとヒドロキシルアミン、リダクトン及び/又はヒド
ラジンとの組み合わせ(例えばヒドロキノンとビス(エ
トキシエチル)−ヒドロキシルアミン、ピペリジノヘキ
ソースリダクトンまたはホルミル−4−メチルフェニル
ヒドラジン、フェニルヒドロキサム酸、p−ヒドロキシ
フェニルヒドロキサム酸およびβ−アラニンヒドロキサ
ム酸のようなヒドロキサム酸との組み合わせ)、アジン
とスルホンアミドフェノール誘導体との組み合わせ(例
えばフェノチアジンと2,6−ジクロロ−4−ベンゼン
アミドフェノール、エチル−α−シアノ−2−メチルフ
ェニルアセテート、エチル−α−シアノフェニルアセテ
ートのようなα−シアノフェニルアセテート誘導体)、
ビス−β−ナフトール誘導体(例えば2,2′−ジヒド
ロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−
2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチルおよび
ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタン等)、ビ
ス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロキシベンゼン誘
導体(例えば2,4−ヒドロキシ−ベンゾフェノンまた
は2′,4′−ジヒドロキシアセトフェノン)との組み
合わせ、5−ピラゾロン類(例えば3−メチル−1−フ
ェニル−5−ピラゾロン等)、ジメチルアミノヘキソー
スリダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘキソースリ
ダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリドンヘキソー
スリダクトのようなリダクトン、スルホンアミドフェノ
ール誘導体(例えば2,6−ジクロロ−4−ベンゼンス
ルホンアミノフェノール、p−ベンゼンスルホンアミド
フェノール等)、クロマン類(例えば2,2−ジメチル
−7−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマン等)、1,
4−ジヒドロピリジン誘導体(例えば2,6−ジメトキ
シ−3,5−カルボエトキシ−1,4−ジヒドロピリジ
ン等)、ビスフェノール類(例えばビス(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロパン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール)および2,2′−ビス(3,
5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン
等)、アスコルビン酸誘導体(例えば1−アスコロビル
パルミテート、アスコロビルステアレート等)、ベンジ
ルおよびジアセチルのような不飽和アルデヒドおよびケ
トン、3−ピラゾリドンおよびある種のインダン−1,
3−ジオン(例えば2−フェニルインダン−1,3−ジ
オン等)などを挙げることができる。
【0081】本発明に用いられる有機還元剤により発色
する銀源としては、前記画像形成方法により付与された
有機還元剤で還元される銀源であれば特に制限なく用い
ることができる。
する銀源としては、前記画像形成方法により付与された
有機還元剤で還元される銀源であれば特に制限なく用い
ることができる。
【0082】銀源としては有機銀塩や無機銀塩などを材
料の構成に応じて適時選択して用いることが出来るが、
光に安定である有機銀源が好ましい。このような有機銀
源としては、例えば脂肪族カルボン酸との銀塩(例えば
ベヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン
酸銀、カプリン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸
銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、フロン酸
銀、リノール酸銀、酪酸銀、ショウノウ酸銀等)、芳香
族カルボン酸及びその他のカルボキシル基含有化合物の
銀塩(例えば安息香酸銀、3,5−ジヒドロ安息香酸
銀、O−メチル安息香酸銀、m−メチル安息香酸銀、p
−メチル安息香酸銀、2,6−ジクロル安息香酸銀、ア
セトアミド安息香酸銀、p−フェニル安息香酸銀、タン
ニン酸銀、フタル酸銀、テレフタル酸銀、サリチル酸
銀、フェニル酢酸銀、ピロメリト酸銀、3−カルボキシ
メチル−4−メチル−チアゾリン−2−チオンのような
銀塩等)、メルカプトまたはチオン基を含む化合物およ
びそれらの誘導体の銀塩(例えば3−メルカプト−4−
フェニル−1,2,4,−トリアゾールの銀塩、2−メ
ルカプトベンズイミダゾールの銀塩、2−メルカプト−
5−アミノチアジアゾールの銀塩、2−(2−エチルグ
リコールアミド)ベンゾチアゾールの銀塩、S−アルキ
ルチオグリコール酸の銀塩のようなチオグリコール酸の
銀塩、ジチオ酢酸の銀塩のようなジチオカルボン酸の銀
塩、チオアミドの銀塩、5−カルボキシル−1−メチル
−2−フェニル−4−チオピリジンの銀塩、メルカプト
トリアジンの銀塩、2−メルカプトベンズオキサゾール
の銀塩、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−
チアゾール銀のような1,2,4−メルカプトチアゾー
ル誘導体の銀塩、3−(2−カルボキシエチル)−4−
メチル−4−チアゾリン−2−チオンのようなチオン化
合物の銀塩等)、ベンゾチアゾールおよびその誘導体の
銀塩(例えばメチルベンゾトリアゾールの銀塩のような
ベンゾチアゾールの銀塩、5−クロロベンゾトリアゾー
ルの銀塩のようなハロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀
塩1,2,4−トリアゾール、1−H−テトラゾールの
銀塩、イミダゾールおよびイミダゾール誘導体の銀塩
等)などを挙げることができる。
料の構成に応じて適時選択して用いることが出来るが、
光に安定である有機銀源が好ましい。このような有機銀
源としては、例えば脂肪族カルボン酸との銀塩(例えば
ベヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン
酸銀、カプリン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸
銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、フロン酸
銀、リノール酸銀、酪酸銀、ショウノウ酸銀等)、芳香
族カルボン酸及びその他のカルボキシル基含有化合物の
銀塩(例えば安息香酸銀、3,5−ジヒドロ安息香酸
銀、O−メチル安息香酸銀、m−メチル安息香酸銀、p
−メチル安息香酸銀、2,6−ジクロル安息香酸銀、ア
セトアミド安息香酸銀、p−フェニル安息香酸銀、タン
ニン酸銀、フタル酸銀、テレフタル酸銀、サリチル酸
銀、フェニル酢酸銀、ピロメリト酸銀、3−カルボキシ
メチル−4−メチル−チアゾリン−2−チオンのような
銀塩等)、メルカプトまたはチオン基を含む化合物およ
びそれらの誘導体の銀塩(例えば3−メルカプト−4−
フェニル−1,2,4,−トリアゾールの銀塩、2−メ
ルカプトベンズイミダゾールの銀塩、2−メルカプト−
5−アミノチアジアゾールの銀塩、2−(2−エチルグ
リコールアミド)ベンゾチアゾールの銀塩、S−アルキ
ルチオグリコール酸の銀塩のようなチオグリコール酸の
銀塩、ジチオ酢酸の銀塩のようなジチオカルボン酸の銀
塩、チオアミドの銀塩、5−カルボキシル−1−メチル
−2−フェニル−4−チオピリジンの銀塩、メルカプト
トリアジンの銀塩、2−メルカプトベンズオキサゾール
の銀塩、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−
チアゾール銀のような1,2,4−メルカプトチアゾー
ル誘導体の銀塩、3−(2−カルボキシエチル)−4−
メチル−4−チアゾリン−2−チオンのようなチオン化
合物の銀塩等)、ベンゾチアゾールおよびその誘導体の
銀塩(例えばメチルベンゾトリアゾールの銀塩のような
ベンゾチアゾールの銀塩、5−クロロベンゾトリアゾー
ルの銀塩のようなハロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀
塩1,2,4−トリアゾール、1−H−テトラゾールの
銀塩、イミダゾールおよびイミダゾール誘導体の銀塩
等)などを挙げることができる。
【0083】上述した有機銀源のうち発色濃度や、塗工
液を調整した際の分散の安定性などの面から脂肪族カル
ボン酸との銀塩、あるいは芳香族カルボン酸及びその他
のカルボキシル基含有化合物の銀塩を用いるのが好まし
い。
液を調整した際の分散の安定性などの面から脂肪族カル
ボン酸との銀塩、あるいは芳香族カルボン酸及びその他
のカルボキシル基含有化合物の銀塩を用いるのが好まし
い。
【0084】このような銀源の添加量は、通常画像形成
層形成成分のうち通常10〜90重量%、さらには30
〜70重量%の範囲にするのが好ましい。
層形成成分のうち通常10〜90重量%、さらには30
〜70重量%の範囲にするのが好ましい。
【0085】さらに、本態様では、形成された銀画像の
色調を調整する意味で色調調整剤を添加しても良く、そ
のような色調調整剤としては例えば、フタラジン、置換
フタラジン−5−オン、2,3−ジヒドロ−1,4−フ
タラジンジオン、2−置換−3−ピラゾリン−5−オン
などを挙げることができ、これらの具体的な化合物およ
びその他の色調調整剤の具体的なものとしては、特開昭
49−22928号、同49−5019号、同49−5
020号、同50−2524号、同50−67132
号、同50−671641号、同50−114217
号、同55−4060号、同55−32015号などを
挙げることができる。このような色調調整剤を添加する
場合の添加量は、通常画像形成層形成成分のうち通常
0.1〜20重量%、さらには0.5〜10重量%の範
囲にするのが好ましい。
色調を調整する意味で色調調整剤を添加しても良く、そ
のような色調調整剤としては例えば、フタラジン、置換
フタラジン−5−オン、2,3−ジヒドロ−1,4−フ
タラジンジオン、2−置換−3−ピラゾリン−5−オン
などを挙げることができ、これらの具体的な化合物およ
びその他の色調調整剤の具体的なものとしては、特開昭
49−22928号、同49−5019号、同49−5
020号、同50−2524号、同50−67132
号、同50−671641号、同50−114217
号、同55−4060号、同55−32015号などを
挙げることができる。このような色調調整剤を添加する
場合の添加量は、通常画像形成層形成成分のうち通常
0.1〜20重量%、さらには0.5〜10重量%の範
囲にするのが好ましい。
【0086】組合せ(3)のケース 本発明に用いられる、ロイコ染料を加熱発色せしめる顕
色剤としては、フェノール類、カルボン酸類、チオフェ
ノール類及びそれらの金属塩などが使用できるが、芳香
族カルボン酸の金属塩、芳香族スルホン酸の金属塩など
が好ましく、例えば、置換基を有しても良い安息香酸金
属塩、置換基を有しても良いナフトエ酸金属塩、置換基
を有しても良いフタル酸金属塩などを用いて形成された
画像形成材料の保存安定性が良好となるので好ましい。
このときの金属原子はカルシウム、アルミニウム、亜鉛
が好ましい。以下に本発明で用いられる顕色剤化合物の
具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけで
はない。
色剤としては、フェノール類、カルボン酸類、チオフェ
ノール類及びそれらの金属塩などが使用できるが、芳香
族カルボン酸の金属塩、芳香族スルホン酸の金属塩など
が好ましく、例えば、置換基を有しても良い安息香酸金
属塩、置換基を有しても良いナフトエ酸金属塩、置換基
を有しても良いフタル酸金属塩などを用いて形成された
画像形成材料の保存安定性が良好となるので好ましい。
このときの金属原子はカルシウム、アルミニウム、亜鉛
が好ましい。以下に本発明で用いられる顕色剤化合物の
具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけで
はない。
【0087】p−ニトロ安息香酸亜鉛 3,5−ジ−t−ブチルサリチル酸亜鉛 フタル酸モノベンジルエステルモノカルシウム 1−アセチルオキシ−2−ナフトエ酸亜鉛 2−アセチルオキシ−1−ナフトエ酸亜鉛 2−アセチルオキシ−3−ナフトエ酸亜鉛 1−エチルカルボニルオキシ−3−ナフトエ酸亜鉛 2−エチルカルボニルオキシ−1−ナフトエ酸亜鉛 2−エチルカルボニルオキシ−3−ナフトエ酸亜鉛 5−クロロ香酸亜鉛 4−エトキシサリチル酸亜鉛 4−(2−フェノキシエトキシ)サリチル酸亜鉛 4−(2−p−メトキシフェノキシ)サリチル酸亜鉛 4−(2−p−メチルフェノキシ)サリチル酸亜鉛 また、本発明で用いる顕色剤としては、上記金属塩化合
物が好ましく用いられるが、必要に応じ下記ロイコ染料
を接触時発色させる電子受容性の種々の化合物、例えば
フェノール性化合物、チオフェノール性化合物、チオ尿
素誘導体、有機酸及びその金属塩等を併用することがで
き、その具体例としては以下に示すようなものが挙げら
れる。
物が好ましく用いられるが、必要に応じ下記ロイコ染料
を接触時発色させる電子受容性の種々の化合物、例えば
フェノール性化合物、チオフェノール性化合物、チオ尿
素誘導体、有機酸及びその金属塩等を併用することがで
き、その具体例としては以下に示すようなものが挙げら
れる。
【0088】4,4′−イソプロピリデンビスフェノー
ル、4,4′−イソプロピリデンビス(o−メチルフェ
ノール)、4,4′−セカンダリ−ブチリデンビスフェ
ノール、4,4′−イソプロピリデンビス(2−ターシ
ャリ−ブチルフェノール)、4,4′−シクロヘキシリ
デンジフェノール、4,4′−イソプロピリデンビス
(2−クロロフェノール)、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−ターシャリ−ブチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(4−エチル−6−ターシャリ
−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6
−ターシャリ−ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−タ
ーシャリブチルフェニル)ブタン、1,1,3−トリス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフ
ェニル)ブタン、4,4′−チオビス(6−ターシャリ
−ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′−ジフェ
ノールスルホン、4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキ
シジフェニルスルホン、4−ベンジルオキシ−4′−ヒ
ドロキシジフェニルスルホン、4,4′−ジフェノール
スルホキシド、p−ヒドロキシ安息香酸イソプロピル、
p−ヒドロキシ安息香酸ベンジル、プロトカテキユ酸ベ
ンジル、没食子酸ステアリル、没食子酸ラウリル、没食
子酸オクチル、1,7−ビス(4−ヒドロキシフェニル
チオ)−3,5−ジオキサヘプタン、1,5−ビス(4
−ヒドロキシフェニルチオ)−3−オキサペンタン、
1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオ)−プロパ
ン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオ)−2
−ヒドロキシプロパン、N,N′−ジフェニルチオ尿
素、N,N′−ジ(m−クロロフェニル)チオ尿素、サ
リチルアニリド、5−クロロ−サリチルアニリド、2−
ヒドロキシ−3−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナ
フトエ酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、ヒドロキ
シナフトエ酸の亜鉛、アルミニウム、カルシウム等の金
属塩、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)酢酸メチルエ
ステル、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)酢酸ベンジ
ルエステル、1,3−ビス(4−ヒドロキシクミル)ベ
ンゼン、1,4−ビス(4−ヒドロキシクミル)ベンゼ
ン、2,4′−ジフェノールスルホン、3,3′−ジア
リル−4,4′−ジフェノールスルホン、α,α−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−α−メチルトルエン、チ
オシアン酸亜鉛のアンチピリン錯体、テトラプロモビス
フェノールA、テトラブロモビスフェノールS、4,
4′−チオビス(2−メチルフェノール)、4,4′−
チオビス(2−クロロフェノール)、4−(4′フェノ
キシブトキシ)フタル酸、4−(2′−フェノキシエト
キシ)フタル酸等。
ル、4,4′−イソプロピリデンビス(o−メチルフェ
ノール)、4,4′−セカンダリ−ブチリデンビスフェ
ノール、4,4′−イソプロピリデンビス(2−ターシ
ャリ−ブチルフェノール)、4,4′−シクロヘキシリ
デンジフェノール、4,4′−イソプロピリデンビス
(2−クロロフェノール)、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−ターシャリ−ブチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(4−エチル−6−ターシャリ
−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6
−ターシャリ−ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−タ
ーシャリブチルフェニル)ブタン、1,1,3−トリス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフ
ェニル)ブタン、4,4′−チオビス(6−ターシャリ
−ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′−ジフェ
ノールスルホン、4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキ
シジフェニルスルホン、4−ベンジルオキシ−4′−ヒ
ドロキシジフェニルスルホン、4,4′−ジフェノール
スルホキシド、p−ヒドロキシ安息香酸イソプロピル、
p−ヒドロキシ安息香酸ベンジル、プロトカテキユ酸ベ
ンジル、没食子酸ステアリル、没食子酸ラウリル、没食
子酸オクチル、1,7−ビス(4−ヒドロキシフェニル
チオ)−3,5−ジオキサヘプタン、1,5−ビス(4
−ヒドロキシフェニルチオ)−3−オキサペンタン、
1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオ)−プロパ
ン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオ)−2
−ヒドロキシプロパン、N,N′−ジフェニルチオ尿
素、N,N′−ジ(m−クロロフェニル)チオ尿素、サ
リチルアニリド、5−クロロ−サリチルアニリド、2−
ヒドロキシ−3−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナ
フトエ酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、ヒドロキ
シナフトエ酸の亜鉛、アルミニウム、カルシウム等の金
属塩、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)酢酸メチルエ
ステル、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)酢酸ベンジ
ルエステル、1,3−ビス(4−ヒドロキシクミル)ベ
ンゼン、1,4−ビス(4−ヒドロキシクミル)ベンゼ
ン、2,4′−ジフェノールスルホン、3,3′−ジア
リル−4,4′−ジフェノールスルホン、α,α−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−α−メチルトルエン、チ
オシアン酸亜鉛のアンチピリン錯体、テトラプロモビス
フェノールA、テトラブロモビスフェノールS、4,
4′−チオビス(2−メチルフェノール)、4,4′−
チオビス(2−クロロフェノール)、4−(4′フェノ
キシブトキシ)フタル酸、4−(2′−フェノキシエト
キシ)フタル酸等。
【0089】ロイコ染料としては、トリフェニルメタン
類、トリアリルメタン類、フルオラン類、フェノチアジ
ン類、チオフルオラン類、キサンデン類、インドフタリ
ル酸、スピロピラン類、アザフタリド類、メチン類、ロ
ーダミンアミノラクタム類、キナゾリン類、ジアザキサ
ンテン類が好ましく用いられ、このようなロイコ染料と
しては次のようなものが挙げられる。
類、トリアリルメタン類、フルオラン類、フェノチアジ
ン類、チオフルオラン類、キサンデン類、インドフタリ
ル酸、スピロピラン類、アザフタリド類、メチン類、ロ
ーダミンアミノラクタム類、キナゾリン類、ジアザキサ
ンテン類が好ましく用いられ、このようなロイコ染料と
しては次のようなものが挙げられる。
【0090】3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニ
ル)−フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフ
ェニル)−6−ジメチルアミノフタリド(別名クリスタ
ルバイオレットラクトン)、3,3−ビス(p−ジメチ
ルアミノフェニル)−5−ジエチルアミノフタリド、
3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ク
ロルフタリド、3,3−ビス(p−ジブチルアミノフェ
ニル)フタリド、3−シクロヘキシルアミノ−6−クロ
ルフルオラン、3−ジメチルアミノ−5,7−ジメチル
フルオラン、3−N−メチル−N−イソブチル−6−メ
チル−7−アニリノフルオラン、3−N−エチル−N−
イソアミル−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3
−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラン、3−ジエチ
ルアミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ
−7,8−ベンズフルオラン、3−ジエチルアミノ−6
−メチル−7−クロルフルオラン、3−(N−p−トリ
ル−N−エチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフ
ルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオラン、2−{N−(3′−トリフルオルメチルフ
ェニル)アミノ}−6−ジエチルアミノフルオラン、2
−{3,6−ビス−(ジエチルアミノ)−9−(o−ク
ロルアニリノ)キサンチル安息香酸ラクタム}、3−ジ
エチルアミノ−6−メチル−7−(m−トリクロロメチ
ルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−
(o−クロルアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミ
ノ−7−(o−クロルアニリノ)フルオラン、3−N−
メチル−N−アミルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオラン、3−N−メチル−N−シクロヘキシルアミ
ノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチ
ルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−
ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2′,4′−ジメ
チルアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルア
ミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミ
ノ)フルオラン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、
6′−クロロ−8′−メトキシ−ベンゾインドリノ−ス
ピロピラン、6′−ブロモ−3′−メトキシ−ベンゾイ
ンドリノ−スピロピラン、3−(2′−ヒドロキシ−
4′−ジメチルアミノフェニル)−3−(2′−メトキ
シ−5′−クロルフェニル)フタリド、3−(2′−ヒ
ドロキシ−4′−ジメチルアミノフェニル)−3−
(2′−メトキシ−5′−ニトロフェニル)フタリド、
3−(2′−ヒドロキシ−4′−ジエチルアミノフェニ
ル)−3−(2′−メトキシ−5′−メチルフェニル)
フタリド、3−(2′−メトキシ−4′−ジメチルアミ
ノフェニル)−3−(2′−ヒドロキシ−4′−クロル
−5′−メチルフェニル)フタリド、3−モルホリノ−
7−(N−プロピル−トリフルオロメチルアニリノ)フ
ルオラン、3−ピロリジノ−7−トリフルオロメチルア
ニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−5−クロロ−
7−(N−ベンジル−トリフルオロメチルアニリノ)フ
ルオラン、3−ピロリジノ−7−(ジ−p−クロルフェ
ニル)メチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−
5−クロル−7−(α−フェニルエチルアミノ)フルオ
ラン、3−(N−エチル−p−トルイジノ)−7−(α
−フェニルエチルアミノ)フルオラン、3−ジエチルア
ミノ−7−(o−メトキシカルボニルフェニルアミノ)
フルオラン、3−ジエチルアミノ−5−メチル−7−
(α−フェニルエチルアミノ)フルオラン、3−ジエチ
ルアミノ−7−ピペリジノフルオラン、2−クロロ−3
−(N−メチルトルイジノ)−7−(p−n−ブチルア
ニリノ)フルオラン、3−(N−メチル−N−イソプロ
ピルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、
3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオ
ラン、3−(N−ベンジル−N−シクロヘキシルアミ
ノ)−5,6−ベンゾ−7−α−ナフチルアミノ−4′
−ブロモフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロル
−7−アニリノフルオラン、3−N−エチル−N−(2
−エトキシプロピル)アミノ−6−メチル−7−アニリ
ノフルオラン、3−N−エチル−N−テトラヒドロフル
フリルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、
3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−メシチジノ−
4′,5′−ベンゾフルオラン、3−(p−ジメチルア
ミノフェニル)−3−(1−p−ジメチルアミノフェニ
ル−1−フェニルエチレン−2−イル)フタリド、3−
(p−ジメチルアミノフェニル)−3−(1−p−ジメ
チルアミノフェニル−1−p−クロロフェニルエチレン
−2−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−ジメ
チルアミノ−6−ジメチルアミノ−フルオレン−9−ス
ピロ−3′(6′ジメチルアミノ)フタリド、3,3−
ビス{2−(p−ジメチルアミノフェニル)−2−(p
−メトキシフェニル)エテニル}−4,5,6,7−テ
トラクロロフタリド、3−ビス{1,1−ビス(4−ピ
ロリジノフェニル)エチレン−2−イル}−5,6−ジ
クロロ−4,7−ジブロモフタリド、ビス(p−ジメチ
ルアミノスチリル)−1−ナフタレンスルホニルメタ
ン、ビス(p−ジメチルアミノスチリル)−1−p−ト
リルスルホニルメタン等。
ル)−フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフ
ェニル)−6−ジメチルアミノフタリド(別名クリスタ
ルバイオレットラクトン)、3,3−ビス(p−ジメチ
ルアミノフェニル)−5−ジエチルアミノフタリド、
3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ク
ロルフタリド、3,3−ビス(p−ジブチルアミノフェ
ニル)フタリド、3−シクロヘキシルアミノ−6−クロ
ルフルオラン、3−ジメチルアミノ−5,7−ジメチル
フルオラン、3−N−メチル−N−イソブチル−6−メ
チル−7−アニリノフルオラン、3−N−エチル−N−
イソアミル−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3
−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラン、3−ジエチ
ルアミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ
−7,8−ベンズフルオラン、3−ジエチルアミノ−6
−メチル−7−クロルフルオラン、3−(N−p−トリ
ル−N−エチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフ
ルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオラン、2−{N−(3′−トリフルオルメチルフ
ェニル)アミノ}−6−ジエチルアミノフルオラン、2
−{3,6−ビス−(ジエチルアミノ)−9−(o−ク
ロルアニリノ)キサンチル安息香酸ラクタム}、3−ジ
エチルアミノ−6−メチル−7−(m−トリクロロメチ
ルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−
(o−クロルアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミ
ノ−7−(o−クロルアニリノ)フルオラン、3−N−
メチル−N−アミルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオラン、3−N−メチル−N−シクロヘキシルアミ
ノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチ
ルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−
ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2′,4′−ジメ
チルアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルア
ミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミ
ノ)フルオラン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、
6′−クロロ−8′−メトキシ−ベンゾインドリノ−ス
ピロピラン、6′−ブロモ−3′−メトキシ−ベンゾイ
ンドリノ−スピロピラン、3−(2′−ヒドロキシ−
4′−ジメチルアミノフェニル)−3−(2′−メトキ
シ−5′−クロルフェニル)フタリド、3−(2′−ヒ
ドロキシ−4′−ジメチルアミノフェニル)−3−
(2′−メトキシ−5′−ニトロフェニル)フタリド、
3−(2′−ヒドロキシ−4′−ジエチルアミノフェニ
ル)−3−(2′−メトキシ−5′−メチルフェニル)
フタリド、3−(2′−メトキシ−4′−ジメチルアミ
ノフェニル)−3−(2′−ヒドロキシ−4′−クロル
−5′−メチルフェニル)フタリド、3−モルホリノ−
7−(N−プロピル−トリフルオロメチルアニリノ)フ
ルオラン、3−ピロリジノ−7−トリフルオロメチルア
ニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−5−クロロ−
7−(N−ベンジル−トリフルオロメチルアニリノ)フ
ルオラン、3−ピロリジノ−7−(ジ−p−クロルフェ
ニル)メチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−
5−クロル−7−(α−フェニルエチルアミノ)フルオ
ラン、3−(N−エチル−p−トルイジノ)−7−(α
−フェニルエチルアミノ)フルオラン、3−ジエチルア
ミノ−7−(o−メトキシカルボニルフェニルアミノ)
フルオラン、3−ジエチルアミノ−5−メチル−7−
(α−フェニルエチルアミノ)フルオラン、3−ジエチ
ルアミノ−7−ピペリジノフルオラン、2−クロロ−3
−(N−メチルトルイジノ)−7−(p−n−ブチルア
ニリノ)フルオラン、3−(N−メチル−N−イソプロ
ピルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、
3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオ
ラン、3−(N−ベンジル−N−シクロヘキシルアミ
ノ)−5,6−ベンゾ−7−α−ナフチルアミノ−4′
−ブロモフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロル
−7−アニリノフルオラン、3−N−エチル−N−(2
−エトキシプロピル)アミノ−6−メチル−7−アニリ
ノフルオラン、3−N−エチル−N−テトラヒドロフル
フリルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、
3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−メシチジノ−
4′,5′−ベンゾフルオラン、3−(p−ジメチルア
ミノフェニル)−3−(1−p−ジメチルアミノフェニ
ル−1−フェニルエチレン−2−イル)フタリド、3−
(p−ジメチルアミノフェニル)−3−(1−p−ジメ
チルアミノフェニル−1−p−クロロフェニルエチレン
−2−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−ジメ
チルアミノ−6−ジメチルアミノ−フルオレン−9−ス
ピロ−3′(6′ジメチルアミノ)フタリド、3,3−
ビス{2−(p−ジメチルアミノフェニル)−2−(p
−メトキシフェニル)エテニル}−4,5,6,7−テ
トラクロロフタリド、3−ビス{1,1−ビス(4−ピ
ロリジノフェニル)エチレン−2−イル}−5,6−ジ
クロロ−4,7−ジブロモフタリド、ビス(p−ジメチ
ルアミノスチリル)−1−ナフタレンスルホニルメタ
ン、ビス(p−ジメチルアミノスチリル)−1−p−ト
リルスルホニルメタン等。
【0091】〈転写材料〉本発明の転写材料は、透明支
持体上に、上記記載の顕色成分または発色成分のどちら
かの成分と、露光光源の波長光を吸収できる光吸収物質
を含有した転写層を有して構成される。また、転写層
は、顕色成分または発色成分のいずれかと光吸収物質を
同一層に含有した単層で構成しても良いし、それぞれを
別層に含有した2層以上の複数層で構成しても良い。
持体上に、上記記載の顕色成分または発色成分のどちら
かの成分と、露光光源の波長光を吸収できる光吸収物質
を含有した転写層を有して構成される。また、転写層
は、顕色成分または発色成分のいずれかと光吸収物質を
同一層に含有した単層で構成しても良いし、それぞれを
別層に含有した2層以上の複数層で構成しても良い。
【0092】支持体 透明支持体としては、アクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカ
ーボネート、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナイロン、芳
香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリス
ルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエー
テルイミド等の各樹脂フィルム、更には前記樹脂を2層
以上積層してなる樹脂フィルム等を挙げることができ
る。
酸エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカ
ーボネート、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナイロン、芳
香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリス
ルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエー
テルイミド等の各樹脂フィルム、更には前記樹脂を2層
以上積層してなる樹脂フィルム等を挙げることができ
る。
【0093】本発明において透明支持体は、フィルム状
に延伸しヒートセットしたものが寸法安定性の点で好ま
しく、本発明の効果を阻害しない範囲で酸化チタン、酸
化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等のフィラーを
添加してもよい。
に延伸しヒートセットしたものが寸法安定性の点で好ま
しく、本発明の効果を阻害しない範囲で酸化チタン、酸
化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等のフィラーを
添加してもよい。
【0094】透明支持体の厚みは、10〜500μm程
度、好ましくは25〜250μmである。
度、好ましくは25〜250μmである。
【0095】光吸収物質 転写層に含有される光吸収物質としては、本発明の画像
形成方法において高密度エネルギー光を吸収することに
よりアブレーションを生ぜしめることができれば、特に
制限無く用いることができる。
形成方法において高密度エネルギー光を吸収することに
よりアブレーションを生ぜしめることができれば、特に
制限無く用いることができる。
【0096】上記光吸収物質の例としては、金属含有粉
末、金属の蒸着層、カーボンブラック、グラファイト、
無機顔料、有機顔料、有機染料等を挙げることが出来
る。これらの物質はそれぞれ単独で用いても良いし、二
種以上混合して用いても良い。
末、金属の蒸着層、カーボンブラック、グラファイト、
無機顔料、有機顔料、有機染料等を挙げることが出来
る。これらの物質はそれぞれ単独で用いても良いし、二
種以上混合して用いても良い。
【0097】金属含有粉末とは鉄、クロム、マンガン、
コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、銀、アルミニ
ウム、金、白金等の金属またはその酸化物等の化合物を
総称している。
コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、銀、アルミニ
ウム、金、白金等の金属またはその酸化物等の化合物を
総称している。
【0098】本発明に好ましく用いられる金属含有粉末
は、強磁性酸化鉄粉末、強磁性金属粉末、立方晶板状粉
末等が挙げられ、中でも、強磁性金属粉末を好適に用い
ることができる。
は、強磁性酸化鉄粉末、強磁性金属粉末、立方晶板状粉
末等が挙げられ、中でも、強磁性金属粉末を好適に用い
ることができる。
【0099】強磁性酸化鉄としては、γ−Fe2O3、F
e3O4、又はこれらの中間酸化鉄でFeOx(1.33
<x<1.50)で表されるものを挙げることができ
る。
e3O4、又はこれらの中間酸化鉄でFeOx(1.33
<x<1.50)で表されるものを挙げることができ
る。
【0100】強磁性金属粉末としては、Fe、Coを始
め、Fe−Al系、Fe−Al−Ni系、Fe−Al−
Zn系、Fe−Al−Co系、Fe−Al−Ca系、F
e−Ni系、Fe−Ni−Al系、Fe−Ni−Co
系、Fe−Ni−Zn系、Fe−Ni−Mn系、Fe−
Ni−Si系、Fe−Ni−Si−Al−Mn系、Fe
−Ni−Si−Al−Zn系、Fe−Ni−Si−Al
−Co系、Fe−Al−Si系、Fe−Al−Zn系、
Fe−Co−Ni−P系、Fe−Co−Al−Ca系、
Ni−Co系、Fe、Ni、Co等を主成分とするメタ
ル磁性粉末等の強磁性金属粉末が挙げられ、中でもFe
系金属粉末が好ましく、例えばCo含有γ−Fe2O3、
Co被着γ−Fe2O3、Co含有Fe3O4、Co被着F
e3O4、Co含有磁性FeOx(4/3<x<3/2)
粉末等のコバルト含有酸化鉄系磁性粉末が挙げられる。
又、耐蝕性及び分散性の点から見ると、Fe系金属粉末
の中で、Fe−Al系、Fe−Al−Ca系、Fe−A
l−Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe−Al−Co
系、Fe−Ni−Si−Al−Co系、Fe−Co−A
l−Ca系等のFe−Al系強磁性粉末が好ましく、更
にこの中では、強磁性粉末に含有されるFe原子とAl
原子との含有量比が原子数比でFe:Al=100:1
〜100:20であり、かつ強磁性粉末のESCA(X
線光電子分光分析法)による分析深度で100Å以下の
表面域に存在するFe原子とAl原子との含有量比が原
子数比でFe:Al=30:70〜70:30である構
造を有するもの、或いはFe原子とNi原子とAl原子
とSi原子、更にCo原子とCa原子の少なくとも1つ
とが強磁性粉末に含有され、Fe原子の含有量が90原
子%以上、Ni原子の含有量が1〜10原子%、Al原
子の含有量が0.1〜5原子%、Si原子の含有量が
0.1〜5原子%、Co原子又はCa原子の含有量(両
者を含有する場合は合計量)が0.1〜13原子%であ
り、かつ強磁性粉末のESCA(X線光電子分光分析
法)による分析深度で100Å以下の表面域に存在する
Fe原子とNi原子とAl原子とSi原子と、Co原子
及び/又はCa原子との含有量比が原子数比でFe:N
i:Al:Si:(Co及び/又はCa)=100:
(4以下):(10〜60):(10〜70):(20
〜80)である構造を有するものが好ましい。
め、Fe−Al系、Fe−Al−Ni系、Fe−Al−
Zn系、Fe−Al−Co系、Fe−Al−Ca系、F
e−Ni系、Fe−Ni−Al系、Fe−Ni−Co
系、Fe−Ni−Zn系、Fe−Ni−Mn系、Fe−
Ni−Si系、Fe−Ni−Si−Al−Mn系、Fe
−Ni−Si−Al−Zn系、Fe−Ni−Si−Al
−Co系、Fe−Al−Si系、Fe−Al−Zn系、
Fe−Co−Ni−P系、Fe−Co−Al−Ca系、
Ni−Co系、Fe、Ni、Co等を主成分とするメタ
ル磁性粉末等の強磁性金属粉末が挙げられ、中でもFe
系金属粉末が好ましく、例えばCo含有γ−Fe2O3、
Co被着γ−Fe2O3、Co含有Fe3O4、Co被着F
e3O4、Co含有磁性FeOx(4/3<x<3/2)
粉末等のコバルト含有酸化鉄系磁性粉末が挙げられる。
又、耐蝕性及び分散性の点から見ると、Fe系金属粉末
の中で、Fe−Al系、Fe−Al−Ca系、Fe−A
l−Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe−Al−Co
系、Fe−Ni−Si−Al−Co系、Fe−Co−A
l−Ca系等のFe−Al系強磁性粉末が好ましく、更
にこの中では、強磁性粉末に含有されるFe原子とAl
原子との含有量比が原子数比でFe:Al=100:1
〜100:20であり、かつ強磁性粉末のESCA(X
線光電子分光分析法)による分析深度で100Å以下の
表面域に存在するFe原子とAl原子との含有量比が原
子数比でFe:Al=30:70〜70:30である構
造を有するもの、或いはFe原子とNi原子とAl原子
とSi原子、更にCo原子とCa原子の少なくとも1つ
とが強磁性粉末に含有され、Fe原子の含有量が90原
子%以上、Ni原子の含有量が1〜10原子%、Al原
子の含有量が0.1〜5原子%、Si原子の含有量が
0.1〜5原子%、Co原子又はCa原子の含有量(両
者を含有する場合は合計量)が0.1〜13原子%であ
り、かつ強磁性粉末のESCA(X線光電子分光分析
法)による分析深度で100Å以下の表面域に存在する
Fe原子とNi原子とAl原子とSi原子と、Co原子
及び/又はCa原子との含有量比が原子数比でFe:N
i:Al:Si:(Co及び/又はCa)=100:
(4以下):(10〜60):(10〜70):(20
〜80)である構造を有するものが好ましい。
【0101】尚、強磁性粉末の形状は、長軸径が0.3
0μm以下、好ましくは0.20μm以下である。この
ような強磁性粉末によれば転写層の表面性が向上する。
0μm以下、好ましくは0.20μm以下である。この
ような強磁性粉末によれば転写層の表面性が向上する。
【0102】六方晶板状粉末としては、バリウムフェラ
イトやストロンチウムフェライト等の六方晶系フェライ
トを挙げることができ、鉄元素の一部が他の原子(T
i、Co、Zn、In、Mn、Ge、Hb等)で置換さ
れていてもよく、このようなフェライト磁性体はIEE
E trans on MAG,p18,16(198
2)に記載されたものを挙げることができる。この中
で、バリウムフェライト磁性粉末の例としては、Feの
一部が少なくともCo及びZnで置換された平均粒径
(六方晶系フェライトの板面の対角線の高さ)が400
〜900Åであり、板状比(六方晶系フェライトの板面
の対角線の長さを板厚で除した値)が2.0〜10.0
である。又、バリウムフェライト磁性粉末は、さらにF
eの一部をTi、In、Mn、Cu、Ge、Sn等の遷
移金属で置換されていてもよい。
イトやストロンチウムフェライト等の六方晶系フェライ
トを挙げることができ、鉄元素の一部が他の原子(T
i、Co、Zn、In、Mn、Ge、Hb等)で置換さ
れていてもよく、このようなフェライト磁性体はIEE
E trans on MAG,p18,16(198
2)に記載されたものを挙げることができる。この中
で、バリウムフェライト磁性粉末の例としては、Feの
一部が少なくともCo及びZnで置換された平均粒径
(六方晶系フェライトの板面の対角線の高さ)が400
〜900Åであり、板状比(六方晶系フェライトの板面
の対角線の長さを板厚で除した値)が2.0〜10.0
である。又、バリウムフェライト磁性粉末は、さらにF
eの一部をTi、In、Mn、Cu、Ge、Sn等の遷
移金属で置換されていてもよい。
【0103】立方晶系の磁性粉末を製造する方法は、例
えば、目的とするバリウムフェライトを形成するのに必
要な各原子の酸化物、炭酸化物を、硼酸の様なガラス形
成物質とともに溶融し、得られた融液を急冷してガラス
を形成し、次いでこのガラスを所定温度で熱処理して目
的とするバリウムフェライトの結晶粉末を析出させ、最
後にガラス成分を熱処理によって除去するという方法の
ガラス結晶化法の他、共沈−焼成法、水熱合成法、フラ
ックス法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があ
る。
えば、目的とするバリウムフェライトを形成するのに必
要な各原子の酸化物、炭酸化物を、硼酸の様なガラス形
成物質とともに溶融し、得られた融液を急冷してガラス
を形成し、次いでこのガラスを所定温度で熱処理して目
的とするバリウムフェライトの結晶粉末を析出させ、最
後にガラス成分を熱処理によって除去するという方法の
ガラス結晶化法の他、共沈−焼成法、水熱合成法、フラ
ックス法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があ
る。
【0104】転写層に含有される金属含有粉体の含有量
は、転写層形成成分の50〜99重量%程度、好ましく
は60〜95重量%である。
は、転写層形成成分の50〜99重量%程度、好ましく
は60〜95重量%である。
【0105】金属の蒸着層を形成する方法としては、真
空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法
などの公知の方法によって金属蒸着薄膜として、金属の
単結晶又は多結晶として設けることができる。蒸着する
金属としては、アルミニウム、亜鉛、アンチモン、イン
ジウム、セレン、錫、タンタル、クロム、鉛、金、銀、
白金、ニッケル、ニオブ、ゲルマニウム、ケイ素、モリ
ブデン、マンガン、タングステン、パラジウム等の金属
を1種あるいは2種以上併用などにより形成することが
できる。この金属薄膜層の厚みは金属や蒸着条件、蒸着
下層の平面性などで異なるが、50〜2000Å、好ま
しくは500〜1500Åである。
空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法
などの公知の方法によって金属蒸着薄膜として、金属の
単結晶又は多結晶として設けることができる。蒸着する
金属としては、アルミニウム、亜鉛、アンチモン、イン
ジウム、セレン、錫、タンタル、クロム、鉛、金、銀、
白金、ニッケル、ニオブ、ゲルマニウム、ケイ素、モリ
ブデン、マンガン、タングステン、パラジウム等の金属
を1種あるいは2種以上併用などにより形成することが
できる。この金属薄膜層の厚みは金属や蒸着条件、蒸着
下層の平面性などで異なるが、50〜2000Å、好ま
しくは500〜1500Åである。
【0106】無機顔料としては、二酸化チタン、カーボ
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩などが挙げられる。有機顔料としては、
アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントア
ンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット
染料顔料、フタロシアニン顔料(銅フタロシアニン及び
その誘導体)、キナクリドン顔料などが挙げられる。
又、有機染料としては、酸性染料、直接染料、分散染料
などが挙げられる。
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩などが挙げられる。有機顔料としては、
アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントア
ンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット
染料顔料、フタロシアニン顔料(銅フタロシアニン及び
その誘導体)、キナクリドン顔料などが挙げられる。
又、有機染料としては、酸性染料、直接染料、分散染料
などが挙げられる。
【0107】露光光源の波長が近赤外線の場合、近赤外
光吸収剤としては、シアニン系、ポリメチン系、アズレ
ニウム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナフト
キノン系、アントラキノン系色素等の有機化合物、フタ
ロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体な
どが好適に用いられ、具体的には特開昭63−1391
91号、同64−33547号、特開平1−16068
3号、同1−280750号、同1−293342号、
同2−2074号、同3−26593号、同3−309
91号、同3−34891号、同3−36093号、同
3−36094号、同3−36095号、同3−422
81号、同3−97589号、同3−103476号等
に記載の化合物が挙げられる。
光吸収剤としては、シアニン系、ポリメチン系、アズレ
ニウム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナフト
キノン系、アントラキノン系色素等の有機化合物、フタ
ロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体な
どが好適に用いられ、具体的には特開昭63−1391
91号、同64−33547号、特開平1−16068
3号、同1−280750号、同1−293342号、
同2−2074号、同3−26593号、同3−309
91号、同3−34891号、同3−36093号、同
3−36094号、同3−36095号、同3−422
81号、同3−97589号、同3−103476号等
に記載の化合物が挙げられる。
【0108】更に上記光吸収物質は一般に着色物質であ
り、最終的に形成される画像の濃度の一部となることよ
り、目的とする最終画像の色調を考慮して選択すること
が好まれる。
り、最終的に形成される画像の濃度の一部となることよ
り、目的とする最終画像の色調を考慮して選択すること
が好まれる。
【0109】また、転写層中には、更に適当な色材を含
有させることができる。この色材としては、その光熱変
換性を考慮することなく、目的とする最終画像の色調に
対応させて、多数の顔料、染料、金属微粉末などの中か
ら任意に選択することができる。
有させることができる。この色材としては、その光熱変
換性を考慮することなく、目的とする最終画像の色調に
対応させて、多数の顔料、染料、金属微粉末などの中か
ら任意に選択することができる。
【0110】バインダー樹脂 本発明で用いられる画像形成材料において、発色層ある
いは転写層には、上述の必須成分を保持するためにバイ
ンダー樹脂を添加するのが好ましく、このようなバイン
ダー樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体など
のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルや塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体などの塩化ビニル系樹脂、アクリ
ル樹脂やメタクリル樹脂などのアクリル系樹脂、ポリス
チレンやスチレン−アクリロニトリル共重合体などのス
チレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリ
エーテルスルホン、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラ
ールやポリビニルアセトアセタールなどのポリビニルア
セタール系樹脂、ニトロセルロースやエチルセルロース
などのセルロース系樹脂等の有機溶剤可溶性ポリマー
や、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアル
コール、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性ポリ
マーを用いることができる。これらのバインダーは、1
種又は2種以上を各種溶媒に溶解して用いるだけでな
く、ラテックス分散の形で使用してもよい。バインダー
樹脂は、本発明の画像形成材料の目的に応じて、単層構
成であるか、重層構成であるかにより異なるが、層形成
組成物中通常10〜99重量%、さらには20〜80重
量%にするのが好ましい。
いは転写層には、上述の必須成分を保持するためにバイ
ンダー樹脂を添加するのが好ましく、このようなバイン
ダー樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体など
のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルや塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体などの塩化ビニル系樹脂、アクリ
ル樹脂やメタクリル樹脂などのアクリル系樹脂、ポリス
チレンやスチレン−アクリロニトリル共重合体などのス
チレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリ
エーテルスルホン、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラ
ールやポリビニルアセトアセタールなどのポリビニルア
セタール系樹脂、ニトロセルロースやエチルセルロース
などのセルロース系樹脂等の有機溶剤可溶性ポリマー
や、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアル
コール、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性ポリ
マーを用いることができる。これらのバインダーは、1
種又は2種以上を各種溶媒に溶解して用いるだけでな
く、ラテックス分散の形で使用してもよい。バインダー
樹脂は、本発明の画像形成材料の目的に応じて、単層構
成であるか、重層構成であるかにより異なるが、層形成
組成物中通常10〜99重量%、さらには20〜80重
量%にするのが好ましい。
【0111】また、前記金属含有粉末を光吸収物質とし
て用いた場合のバインダー樹脂としては、ポリウレタ
ン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂が代表的なものであり、これらの樹脂は−SO
3M、−OSO3M、−COOM及び−PO(OM1)
2〔ここに、Mは水素原子又はアルカリ金属を、M1は水
素原子、アルカリ金属又はアルキル基を表す。〕から選
ばれる少なくとも1種の極性基を有する繰り返し単位を
含むことが好ましく、このような極性基を導入した樹脂
を用いることにより、磁性粉末の分散性を向上させるこ
とができる。尚、この極性基の各樹脂中の含有比率は
0.1〜8.0モル%程度、好ましくは0.2〜6.0
モル%である。
て用いた場合のバインダー樹脂としては、ポリウレタ
ン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂が代表的なものであり、これらの樹脂は−SO
3M、−OSO3M、−COOM及び−PO(OM1)
2〔ここに、Mは水素原子又はアルカリ金属を、M1は水
素原子、アルカリ金属又はアルキル基を表す。〕から選
ばれる少なくとも1種の極性基を有する繰り返し単位を
含むことが好ましく、このような極性基を導入した樹脂
を用いることにより、磁性粉末の分散性を向上させるこ
とができる。尚、この極性基の各樹脂中の含有比率は
0.1〜8.0モル%程度、好ましくは0.2〜6.0
モル%である。
【0112】この場合のバインダー樹脂は、1種単独で
も2種以上を組み合わせて用いてもよく、2種以上混合
して用いる場合、例えばポリウレタン及び/又はポリエ
ステルと塩化ビニル系樹脂との比は、90:10〜1
0:90であり、好ましくは70:30〜30:70で
ある。
も2種以上を組み合わせて用いてもよく、2種以上混合
して用いる場合、例えばポリウレタン及び/又はポリエ
ステルと塩化ビニル系樹脂との比は、90:10〜1
0:90であり、好ましくは70:30〜30:70で
ある。
【0113】極性基含有塩化ビニルとしては、例えば、
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体等水酸基を有す
る樹脂と、Cl−CH2CH2SO3M、Cl−CH2CH
2OSO3M、Cl−CH2CO2M、Cl−CH2P(=
O)(OM1)2等の極性基及び塩素原子を有する化合物
との付加反応により合成することができる。
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体等水酸基を有す
る樹脂と、Cl−CH2CH2SO3M、Cl−CH2CH
2OSO3M、Cl−CH2CO2M、Cl−CH2P(=
O)(OM1)2等の極性基及び塩素原子を有する化合物
との付加反応により合成することができる。
【0114】1例を以下に示す。
【0115】 −CH2C(OH)H− + Cl−CH2CH2SO3Na → −CH2C(OCH2CH2SO3Na)H− 極性基含有塩化ビニル系樹脂は、極性基を含む繰り返し
単位が導入される不飽和結合を有する反応性モノマーを
所定量オートクレープ等の反応容器に仕込み、ベンゾイ
ルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル等の一
般的なラジカル重合開始剤や、レドックス重合開始剤、
カチオン重合開始剤等を用いて重合することにより得る
ことができ、スルホン酸又はその塩を導入するための反
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、p−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。又、カルボン酸もしくはその
塩を導入するときには、例えば(メタ)アクリル酸やマ
レイン酸を用い、リン酸もしくはその塩を導入するとき
には(メタ)アクリル−2−リン酸エステルを用いれば
よい。
単位が導入される不飽和結合を有する反応性モノマーを
所定量オートクレープ等の反応容器に仕込み、ベンゾイ
ルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル等の一
般的なラジカル重合開始剤や、レドックス重合開始剤、
カチオン重合開始剤等を用いて重合することにより得る
ことができ、スルホン酸又はその塩を導入するための反
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、p−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。又、カルボン酸もしくはその
塩を導入するときには、例えば(メタ)アクリル酸やマ
レイン酸を用い、リン酸もしくはその塩を導入するとき
には(メタ)アクリル−2−リン酸エステルを用いれば
よい。
【0116】更に、バインダー樹脂の熱安定性を向上さ
せるためには、塩化ビニル系共重合体にエポキシ基を導
入することが好ましい。この場合、エポキシ基を有する
繰り返し単位の共重合体中における含有率は1〜30モ
ル%程度、好ましくは1〜20モル%であり、エポキシ
基を導入するためのモノマーとしてはグリシジルアクリ
レート等を挙げることができる。
せるためには、塩化ビニル系共重合体にエポキシ基を導
入することが好ましい。この場合、エポキシ基を有する
繰り返し単位の共重合体中における含有率は1〜30モ
ル%程度、好ましくは1〜20モル%であり、エポキシ
基を導入するためのモノマーとしてはグリシジルアクリ
レート等を挙げることができる。
【0117】極性基を有するポリエステルは、ポリオー
ルと一部に極性基を有する多塩基酸との脱水縮合反応に
より合成することができ、極性基を有する多塩基酸とし
ては5−スルホイソフタル酸、2−スルホイソフタル
酸、4−スルホイソフタル酸、3−スルホフタル酸、5
−スルホイソフタル酸ジアルキル、2−スルホイソフタ
ル酸ジアルキル、4−スルホイソフタル酸ジアルキル、
3−スルホフタル酸ジアルキル及びこれらのアルカリ金
属塩等が挙げられ、ポリオールとしてはトリメチロール
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。
ルと一部に極性基を有する多塩基酸との脱水縮合反応に
より合成することができ、極性基を有する多塩基酸とし
ては5−スルホイソフタル酸、2−スルホイソフタル
酸、4−スルホイソフタル酸、3−スルホフタル酸、5
−スルホイソフタル酸ジアルキル、2−スルホイソフタ
ル酸ジアルキル、4−スルホイソフタル酸ジアルキル、
3−スルホフタル酸ジアルキル及びこれらのアルカリ金
属塩等が挙げられ、ポリオールとしてはトリメチロール
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。
【0118】極性基を有するポリウレタンは、ポリオー
ルとポリイソシアネートとを反応させることにより合成
することができ、具体的には、ポリオールとしてポリオ
ールと一部に極性基を有する多塩基酸との反応によって
得られるポリエステルポリオールを原料とすることによ
り合成する。又、ポリイソシアネートとしては、ジフェ
ニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、2,4−ト
リレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシア
ネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、リジン
イソシアネートメチルエステル等を挙げることができ
る。
ルとポリイソシアネートとを反応させることにより合成
することができ、具体的には、ポリオールとしてポリオ
ールと一部に極性基を有する多塩基酸との反応によって
得られるポリエステルポリオールを原料とすることによ
り合成する。又、ポリイソシアネートとしては、ジフェ
ニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、2,4−ト
リレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシア
ネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、リジン
イソシアネートメチルエステル等を挙げることができ
る。
【0119】尚、極性基を有するポリウレタンの他の合
成法としては、水酸基を有するポリウレタンと極性基及
び塩素原子を有するCl−CH2CH2SO3M、Cl−
CH2CH2OSO3M、Cl−CH2CO2M、Cl−C
H2P(=O)(OM1)2等の化合物との付加反応も有
効である。
成法としては、水酸基を有するポリウレタンと極性基及
び塩素原子を有するCl−CH2CH2SO3M、Cl−
CH2CH2OSO3M、Cl−CH2CO2M、Cl−C
H2P(=O)(OM1)2等の化合物との付加反応も有
効である。
【0120】その他のバインダー樹脂として、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、ブタジ
エン−アクリロニトリル共重合体等のポリオレフィン系
樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール
系樹脂、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、スチ
レン−ブタジエン共重合体等のスチレン系樹脂、ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリアミド、
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂等を併
用してもかまわないが、これらを併用する場合は全バイ
ンダー樹脂の20重量%以下とするのが好ましい。
ル−酢酸ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、ブタジ
エン−アクリロニトリル共重合体等のポリオレフィン系
樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール
系樹脂、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、スチ
レン−ブタジエン共重合体等のスチレン系樹脂、ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリアミド、
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂等を併
用してもかまわないが、これらを併用する場合は全バイ
ンダー樹脂の20重量%以下とするのが好ましい。
【0121】この場合の転写層中のバインダー樹脂の含
有率は、転写層形成成分中の1〜50重量%程度、好ま
しくは5〜40重量%である。
有率は、転写層形成成分中の1〜50重量%程度、好ま
しくは5〜40重量%である。
【0122】その他の添加剤転写層には、本発明の効果
を阻害しない範囲で、潤滑剤、耐久性向上剤、分散剤、
帯電防止剤、充填剤、フィラー、硬化剤等の添加剤を含
有せしめてもよい。
を阻害しない範囲で、潤滑剤、耐久性向上剤、分散剤、
帯電防止剤、充填剤、フィラー、硬化剤等の添加剤を含
有せしめてもよい。
【0123】潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステ
ル、脂肪酸アミド、(変性)シリコーンオイル、(変
性)シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ化カーボン等を
挙げることができ、耐久性向上剤としてはポリイソシア
ネート等を挙げることができる。分散剤としては、ラウ
リル酸やステアリン酸等の炭素原子数12〜18の脂肪
酸やそれらのアミド、アルカリ金属塩、アルカリ土類金
属塩;ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸塩、レ
シチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第4級アン
モニウム塩;カルボキシル基及びスルホン基を有するア
ゾ系化合物等を挙げることができ、帯電防止剤として
は、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、非
イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性微粒子
等の他「11290の化学商品」化学工業日報社、p.
875〜876等に記載の化合物、等を挙げることがで
きる。
ル、脂肪酸アミド、(変性)シリコーンオイル、(変
性)シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ化カーボン等を
挙げることができ、耐久性向上剤としてはポリイソシア
ネート等を挙げることができる。分散剤としては、ラウ
リル酸やステアリン酸等の炭素原子数12〜18の脂肪
酸やそれらのアミド、アルカリ金属塩、アルカリ土類金
属塩;ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸塩、レ
シチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第4級アン
モニウム塩;カルボキシル基及びスルホン基を有するア
ゾ系化合物等を挙げることができ、帯電防止剤として
は、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、非
イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性微粒子
等の他「11290の化学商品」化学工業日報社、p.
875〜876等に記載の化合物、等を挙げることがで
きる。
【0124】フィラーフィラーとしては、カーボンブラ
ック、グラファイト、TiO2、BaSO4、ZnS、M
gCO3、CaCO3、ZnO、CaO、WS2、Mo
S2、MgO、SnO2、Al2O3、α−Fe2O3、α−
FeOOH、SiC、CeO2、BN、SiN、Mo
C、BC、WC、チタンカーバイド、コランダム、人造
ダイアモンド、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、トリボ
リ、ケイソウ土、ドロマイト等の無機フィラーやポリエ
チレン樹脂粒子、フッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒
子、アクリル樹脂粒子、シリコン樹脂粒子、メラミン樹
脂粒子等の有機フィラーを挙げることができる。
ック、グラファイト、TiO2、BaSO4、ZnS、M
gCO3、CaCO3、ZnO、CaO、WS2、Mo
S2、MgO、SnO2、Al2O3、α−Fe2O3、α−
FeOOH、SiC、CeO2、BN、SiN、Mo
C、BC、WC、チタンカーバイド、コランダム、人造
ダイアモンド、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、トリボ
リ、ケイソウ土、ドロマイト等の無機フィラーやポリエ
チレン樹脂粒子、フッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒
子、アクリル樹脂粒子、シリコン樹脂粒子、メラミン樹
脂粒子等の有機フィラーを挙げることができる。
【0125】フィラーとしては、無機微粒子や有機樹脂
粒子を挙げることができ、これらは離型剤を兼ねても良
い。この無機微粒子としてはシリカゲル、炭酸カルシウ
ム、酸化チタン、酸性白土、活性白土、アルミナ等を挙
げることができ、有機微粒子としてはフッ素樹脂粒子、
グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコン樹脂
粒子等の樹脂粒子を挙げることができる。これらの無機
・有機樹脂粒子は比重により異なるが、0.1〜70重
量%の添加が好ましい。
粒子を挙げることができ、これらは離型剤を兼ねても良
い。この無機微粒子としてはシリカゲル、炭酸カルシウ
ム、酸化チタン、酸性白土、活性白土、アルミナ等を挙
げることができ、有機微粒子としてはフッ素樹脂粒子、
グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコン樹脂
粒子等の樹脂粒子を挙げることができる。これらの無機
・有機樹脂粒子は比重により異なるが、0.1〜70重
量%の添加が好ましい。
【0126】硬化剤さらに、硬化剤としては、転写層を
硬化できるものであれば特に制限なく用いることがで
き、このような硬化剤としては、例えば、前述のバイン
ダー樹脂の中のポリウレタンを合成する際に用いられる
ポリイソシアネートなどを挙げることができる。
硬化できるものであれば特に制限なく用いることがで
き、このような硬化剤としては、例えば、前述のバイン
ダー樹脂の中のポリウレタンを合成する際に用いられる
ポリイソシアネートなどを挙げることができる。
【0127】このような硬化剤を添加して転写層を硬化
させることにより、形成された画像の耐久性を高めるだ
けではなく、アブレーションを生じせしめた部分の地汚
れをなくすことができる。これら添加剤の添加量は0〜
20重量%程度、好ましくは0〜15重量%である。
させることにより、形成された画像の耐久性を高めるだ
けではなく、アブレーションを生じせしめた部分の地汚
れをなくすことができる。これら添加剤の添加量は0〜
20重量%程度、好ましくは0〜15重量%である。
【0128】転写層の形成方法 転写層は、層を形成する各種成分を溶媒に分散ないし溶
解してなる層形成用塗工液を調整し、この塗工液を積層
させる面に塗布し乾燥する塗工液や、剥離可能なシート
上に前記記載の層を形成した後、積層させる面上に加熱
及び/又は加圧することにより層のみを転写させる転写
法等により、形成することができる。
解してなる層形成用塗工液を調整し、この塗工液を積層
させる面に塗布し乾燥する塗工液や、剥離可能なシート
上に前記記載の層を形成した後、積層させる面上に加熱
及び/又は加圧することにより層のみを転写させる転写
法等により、形成することができる。
【0129】上記塗工法に用いる溶媒としては、アルコ
ール類(エタノール、プロパノール等)、セロソルブ類
(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ)、芳香族類
(トルエン、キシレン、クロルベンゼン等)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル系溶剤
(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等)、ハロゲン系溶剤(クロロ
ホルム、ジクロルベンゼン等)、アミド系溶剤(例えば
ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等)、等
を用いることができる。又、転写層成分の混練分散に
は、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペ
ブルミル、コボルミル、トロンミル、サンドミル、サン
ドグラインダー、Sqegvariアトライター、高速
インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミ
ル、ディスパー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音
波分散機、オープンニーダー、連続ニーダー等を用いる
事ができる。
ール類(エタノール、プロパノール等)、セロソルブ類
(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ)、芳香族類
(トルエン、キシレン、クロルベンゼン等)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル系溶剤
(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等)、ハロゲン系溶剤(クロロ
ホルム、ジクロルベンゼン等)、アミド系溶剤(例えば
ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等)、等
を用いることができる。又、転写層成分の混練分散に
は、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペ
ブルミル、コボルミル、トロンミル、サンドミル、サン
ドグラインダー、Sqegvariアトライター、高速
インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミ
ル、ディスパー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音
波分散機、オープンニーダー、連続ニーダー等を用いる
事ができる。
【0130】支持体上への転写層の形成は、エクストル
ージョン方式の押し出しコータにより塗布法、グラビア
ロール塗布法、ワイヤーバー塗布法、ロール塗布法等に
より塗布乾燥して行うことができ、転写層表面の平滑性
を上げるために、該表面をカレンダー処理しても良い。
ージョン方式の押し出しコータにより塗布法、グラビア
ロール塗布法、ワイヤーバー塗布法、ロール塗布法等に
より塗布乾燥して行うことができ、転写層表面の平滑性
を上げるために、該表面をカレンダー処理しても良い。
【0131】また、光熱変換物質として磁性粉末を用い
る場合、必要に応じて磁性粉末の配向を揃えてもよく、
特に高解像度の画像を得るためには、磁性粉末を配向さ
せる方が、層内の凝集力をコントロールすることが容易
になって好ましい。
る場合、必要に応じて磁性粉末の配向を揃えてもよく、
特に高解像度の画像を得るためには、磁性粉末を配向さ
せる方が、層内の凝集力をコントロールすることが容易
になって好ましい。
【0132】本発明の転写層は、前記顕色成分または発
色成分のいずれかと光熱変換物質を同一層に含有した単
層で構成しても良いし、それぞれを別層に含有した2層
以上の複数層で構成しても良く、この転写層の厚みは、
通常0.1〜10μmであり、好ましくは0.5〜5μ
mである。
色成分のいずれかと光熱変換物質を同一層に含有した単
層で構成しても良いし、それぞれを別層に含有した2層
以上の複数層で構成しても良く、この転写層の厚みは、
通常0.1〜10μmであり、好ましくは0.5〜5μ
mである。
【0133】さらに、支持体と転写層との間に接着性、
断熱性、クッション性等の性質を付与する目的として中
間層を設けても良く、転写層を設けた支持体の反対の面
に耐熱性付与、帯電防止、複数枚給仕防止、滑り性付
与、カール防止等を目的としてバッキング層を設けても
よい。
断熱性、クッション性等の性質を付与する目的として中
間層を設けても良く、転写層を設けた支持体の反対の面
に耐熱性付与、帯電防止、複数枚給仕防止、滑り性付
与、カール防止等を目的としてバッキング層を設けても
よい。
【0134】尚、転写層を複数層にする場合や、他の層
を設ける場合、各層毎に塗布乾燥を繰り返してもよい
が、ウェット−オン−ウェット方式で重層塗布して乾燥
させてもよい。その場合、リバースロール、グラビアロ
ール、エアドクターコータ、ブレードコータ、エアナイ
フコータ、スクイズコータ、含浸コータ、バーコータ、
トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコー
タ或いはスプレーコータ等と押し出しコータとの組み合
わせにより塗布することができる。
を設ける場合、各層毎に塗布乾燥を繰り返してもよい
が、ウェット−オン−ウェット方式で重層塗布して乾燥
させてもよい。その場合、リバースロール、グラビアロ
ール、エアドクターコータ、ブレードコータ、エアナイ
フコータ、スクイズコータ、含浸コータ、バーコータ、
トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコー
タ或いはスプレーコータ等と押し出しコータとの組み合
わせにより塗布することができる。
【0135】尚、ウェット−オン−ウェット方式におけ
る重層塗布においては、下側の層が湿潤状態になったま
まで上側の層を塗布するので、上下層間の接着性が向上
する。
る重層塗布においては、下側の層が湿潤状態になったま
まで上側の層を塗布するので、上下層間の接着性が向上
する。
【0136】また、光吸収物質として金属を用いた場
合、蒸着膜として形成することも可能であり、カーボン
ブラック、特開昭52−20842号に記載の金、銀、
アルミニウム、クロム、ニッケル、アンチモン、テル
ル、ビスマス、セレン等のメタルブラックの蒸着層等を
挙げることができる。
合、蒸着膜として形成することも可能であり、カーボン
ブラック、特開昭52−20842号に記載の金、銀、
アルミニウム、クロム、ニッケル、アンチモン、テル
ル、ビスマス、セレン等のメタルブラックの蒸着層等を
挙げることができる。
【0137】〈受容材料〉本発明に用いられる受容材料
は、第2の支持体上に顕色成分または発色成分のうち、
前記転写層中に含有されない成分とバインダー樹脂を含
有した受容層からなり、アブレーションにより前記転写
層から像様に形成された発色成分または顕色成分を供給
し最終画像を形成することを特徴とする。
は、第2の支持体上に顕色成分または発色成分のうち、
前記転写層中に含有されない成分とバインダー樹脂を含
有した受容層からなり、アブレーションにより前記転写
層から像様に形成された発色成分または顕色成分を供給
し最終画像を形成することを特徴とする。
【0138】受容材料で用いられる支持体としては、前
記透明支持体以外に紙、合成紙(たとえばポリプロピレ
ンを主成分とする合成紙、片面あるいは両面に多孔質構
造の顔料塗工層を設けた合成紙など)、木材パルプやセ
ルロースパルプ、サルファイトパルプなどで抄造された
紙等に、前記記載の樹脂を積層したフィルムなどを挙げ
ることができる。
記透明支持体以外に紙、合成紙(たとえばポリプロピレ
ンを主成分とする合成紙、片面あるいは両面に多孔質構
造の顔料塗工層を設けた合成紙など)、木材パルプやセ
ルロースパルプ、サルファイトパルプなどで抄造された
紙等に、前記記載の樹脂を積層したフィルムなどを挙げ
ることができる。
【0139】この中で、本発明の画像形成方法では加熱
処理する場合が多いことから、フィルム状に延伸しヒー
トセットした樹脂フィルムが寸法安定性の面から好まし
く、OHPや印刷などのマスクフィルム、あるいはMR
IやCTのような医療画像のような透過画像、ガラスな
どに貼付けるシ−ル用途のように透明性を要求される場
合は、透過率70%以上の支持体が好ましく、これらの
支持体には、用途に応じて各種顔料、染料、色調調整
剤、蛍光増白剤等が添加されていてもよい。また、反射
画像を形成させる場合においては、形成される画像の鮮
明性を高めるために、白色顔料たとえばチタンホワイ
ト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリ
カ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等が添加されてい
るのが好ましい。
処理する場合が多いことから、フィルム状に延伸しヒー
トセットした樹脂フィルムが寸法安定性の面から好まし
く、OHPや印刷などのマスクフィルム、あるいはMR
IやCTのような医療画像のような透過画像、ガラスな
どに貼付けるシ−ル用途のように透明性を要求される場
合は、透過率70%以上の支持体が好ましく、これらの
支持体には、用途に応じて各種顔料、染料、色調調整
剤、蛍光増白剤等が添加されていてもよい。また、反射
画像を形成させる場合においては、形成される画像の鮮
明性を高めるために、白色顔料たとえばチタンホワイ
ト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリ
カ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等が添加されてい
るのが好ましい。
【0140】支持体の厚みは、通常25〜500μm程
度、好ましくは50〜250μmである。
度、好ましくは50〜250μmである。
【0141】受容層 本発明に用いられる受容層は、少なくとも顕色成分また
は発色成分のうち、前記転写層中に含有されない成分と
バインダー樹脂から形成される。
は発色成分のうち、前記転写層中に含有されない成分と
バインダー樹脂から形成される。
【0142】バインダー樹脂としては、前記転写層と同
様な樹脂を用いることができるが、受容材料と転写材料
をあらかじめ貼合して用いる場合は、特にそれ自身常温
で接着性または粘着性を有するもの、熱や圧力を掛ける
ことにより接着性または粘着性を発現するものが好まし
く、例えば、低軟化点の樹脂、接着性付与剤、熱溶剤を
適宜選択することにより形成することができる。
様な樹脂を用いることができるが、受容材料と転写材料
をあらかじめ貼合して用いる場合は、特にそれ自身常温
で接着性または粘着性を有するもの、熱や圧力を掛ける
ことにより接着性または粘着性を発現するものが好まし
く、例えば、低軟化点の樹脂、接着性付与剤、熱溶剤を
適宜選択することにより形成することができる。
【0143】低軟化点の樹脂としては、エチレン−酢酸
ビニル、エチレン−エチルアクリレート等のエチレン共
重合体;スチレン−ブタジエン、スチレン−イソプレ
ン、スチレン−エチレン−ブチレン等のポリスチレン系
樹脂;ポリエステル系樹脂;ポリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン系樹脂;ポリビニルエーテル系
樹脂;ポリブチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;
アイオノマー樹脂;セルロース系樹脂;エポキシ系樹
脂;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂等が挙げられ、接着性付与剤としては、ロジン、水
添ロジン、ロジンマレイン酸、重合ロジン及びロジンフ
ェノール等の未変性もしくは変性物、テルペン並びに石
油樹脂及びそれらの変性物等が挙げられる。熱溶剤とし
ては、常温で固体であり、加熱時に可逆的に液化または
軟化する化合物が挙げられ、具体的には、テルピネオー
ル、メントール、アセトアミド、ベンズアミド、クマリ
ン、ケイ皮酸ベンジル、ジフェニルエーテル、クラウン
エーテル、カンファー、p−メチルアセトフェノン、バ
ニリン、ジメトキシベンズアルデヒド、p−ベンジルビ
フェビル、スチルベン、マルガリン酸、エイコサノー
ル、パルミチン酸セチル、ステアリン酸アミド、ベヘニ
ルアミン等の単分子化合物、蜜ロウ、キャンデリラワッ
クス、パラフィンワックス、エステルワックス、モンタ
ンロウ、カルナバワックス、アミドワックス、ポリエチ
レンワックス、マイクロクリスタリンワックスなどのワ
ックス類、エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジ
ンフェノール樹脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、
ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、
テルペン系炭化水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどの
ポリオレフィンオキサイドなどに代表される高分子化合
物などを挙げることができる。
ビニル、エチレン−エチルアクリレート等のエチレン共
重合体;スチレン−ブタジエン、スチレン−イソプレ
ン、スチレン−エチレン−ブチレン等のポリスチレン系
樹脂;ポリエステル系樹脂;ポリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン系樹脂;ポリビニルエーテル系
樹脂;ポリブチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;
アイオノマー樹脂;セルロース系樹脂;エポキシ系樹
脂;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂等が挙げられ、接着性付与剤としては、ロジン、水
添ロジン、ロジンマレイン酸、重合ロジン及びロジンフ
ェノール等の未変性もしくは変性物、テルペン並びに石
油樹脂及びそれらの変性物等が挙げられる。熱溶剤とし
ては、常温で固体であり、加熱時に可逆的に液化または
軟化する化合物が挙げられ、具体的には、テルピネオー
ル、メントール、アセトアミド、ベンズアミド、クマリ
ン、ケイ皮酸ベンジル、ジフェニルエーテル、クラウン
エーテル、カンファー、p−メチルアセトフェノン、バ
ニリン、ジメトキシベンズアルデヒド、p−ベンジルビ
フェビル、スチルベン、マルガリン酸、エイコサノー
ル、パルミチン酸セチル、ステアリン酸アミド、ベヘニ
ルアミン等の単分子化合物、蜜ロウ、キャンデリラワッ
クス、パラフィンワックス、エステルワックス、モンタ
ンロウ、カルナバワックス、アミドワックス、ポリエチ
レンワックス、マイクロクリスタリンワックスなどのワ
ックス類、エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジ
ンフェノール樹脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、
ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、
テルペン系炭化水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどの
ポリオレフィンオキサイドなどに代表される高分子化合
物などを挙げることができる。
【0144】受容層は、転写層と同様の方法を用いて支
持体上に形成することができる。また、受容層は、単層
で構成しても良いし、2層以上の複数層で構成しても良
く、この受容層の厚みは、通常3〜20μmであり、好
ましくは5〜15μmである。
持体上に形成することができる。また、受容層は、単層
で構成しても良いし、2層以上の複数層で構成しても良
く、この受容層の厚みは、通常3〜20μmであり、好
ましくは5〜15μmである。
【0145】受容材料と転写材料をあらかじめ貼合、密
着させる方法としては加圧または加熱加圧手段により行
うことができる。加圧または加熱加圧処理するには、密
着性が稼げて気泡などが混入せずに加圧または加熱加圧
処理できるものであれば特に制限なく用いることがで
き、加圧する場合には圧力ロールやスタンパーなどを、
加熱加圧処理する場合にはサーマルヘッド、ヒートロー
ル、ホットスタンプなどを用いることができるが、加熱
する場合は画像形成温度より低い温度で貼合、密着する
必要がある。
着させる方法としては加圧または加熱加圧手段により行
うことができる。加圧または加熱加圧処理するには、密
着性が稼げて気泡などが混入せずに加圧または加熱加圧
処理できるものであれば特に制限なく用いることがで
き、加圧する場合には圧力ロールやスタンパーなどを、
加熱加圧処理する場合にはサーマルヘッド、ヒートロー
ル、ホットスタンプなどを用いることができるが、加熱
する場合は画像形成温度より低い温度で貼合、密着する
必要がある。
【0146】なお、圧力ロールを用いる場合の圧力は、
通常0.1〜20kg/cm、好ましくは0.5〜10
kg/cmであり、又、搬送速度は、通常0.1〜20
0mm/秒、好ましくは0.5〜100mm/秒であ
り、スタンパーを用いる場合の圧力としては、通常0.
05〜10kg/cm2、好ましくは0.5〜5kg/
cm2、又、加圧時間は、通常0.1〜50秒、好まし
くは0.5〜20秒である。また、サーマルヘッドは、
通常の溶融転写、昇華転写などに用いられる条件でその
まま使用することができる、ヒートロールを用いる場合
の加熱温度は、通常30〜200℃の範囲の画像形成温
度以下の温度であり、圧力は、通常0.1〜20kg/
cm、好ましくは0.5〜10kg/cmであり、又、
搬送速度は、通常0.1〜200mm/秒、好ましくは
0.5〜100mm/秒であり、更に、ホットスタンプ
を用いる場合の加熱温度は、通常60〜200℃、好ま
しくは80〜150℃の範囲、圧力としては、通常0.
05〜10kg/cm2、好ましくは0.5〜5kg/
cm2、又、加熱時間は、通常0.1〜50秒、好まし
くは0.5〜20秒である。
通常0.1〜20kg/cm、好ましくは0.5〜10
kg/cmであり、又、搬送速度は、通常0.1〜20
0mm/秒、好ましくは0.5〜100mm/秒であ
り、スタンパーを用いる場合の圧力としては、通常0.
05〜10kg/cm2、好ましくは0.5〜5kg/
cm2、又、加圧時間は、通常0.1〜50秒、好まし
くは0.5〜20秒である。また、サーマルヘッドは、
通常の溶融転写、昇華転写などに用いられる条件でその
まま使用することができる、ヒートロールを用いる場合
の加熱温度は、通常30〜200℃の範囲の画像形成温
度以下の温度であり、圧力は、通常0.1〜20kg/
cm、好ましくは0.5〜10kg/cmであり、又、
搬送速度は、通常0.1〜200mm/秒、好ましくは
0.5〜100mm/秒であり、更に、ホットスタンプ
を用いる場合の加熱温度は、通常60〜200℃、好ま
しくは80〜150℃の範囲、圧力としては、通常0.
05〜10kg/cm2、好ましくは0.5〜5kg/
cm2、又、加熱時間は、通常0.1〜50秒、好まし
くは0.5〜20秒である。
【0147】また、受容層には、本発明の目的を阻害し
ない範囲で他の添加剤を添加しても良く、このような添
加剤としては、剥離剤、UV吸収剤、光安定剤、フィラ
ー(無機微粒子、有機樹脂粒子)、顔料、帯電防止剤な
どを添加しても良く、さらに増感剤として可塑剤、熱溶
剤などが挙げられる。
ない範囲で他の添加剤を添加しても良く、このような添
加剤としては、剥離剤、UV吸収剤、光安定剤、フィラ
ー(無機微粒子、有機樹脂粒子)、顔料、帯電防止剤な
どを添加しても良く、さらに増感剤として可塑剤、熱溶
剤などが挙げられる。
【0148】受容層と転写層の剥離性を確保するために
剥離剤を含有させてもよく、このような剥離剤として
は、シリコーンオイル、シリコーン樹脂;ポリエチレン
ワックス、アミドワックス、テフロンパウダー等の固型
ワックス類;弗素系、燐酸エステル系の界面活性剤;ポ
リエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィ
ン系樹脂が挙げられる。
剥離剤を含有させてもよく、このような剥離剤として
は、シリコーンオイル、シリコーン樹脂;ポリエチレン
ワックス、アミドワックス、テフロンパウダー等の固型
ワックス類;弗素系、燐酸エステル系の界面活性剤;ポ
リエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィ
ン系樹脂が挙げられる。
【0149】UV吸収剤および光安定剤としては、特開
昭59−158287号、同63−74686号、同6
3−145089号、同59−196292号、同62
−229594号、同63−122596号、同61−
283595号、特開平1−204788号、「112
90の化学商品」化学工業日報社、p.869〜875
等などに記載の化合物、およびその他の画像記録材料に
おける画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を
挙げることができる。
昭59−158287号、同63−74686号、同6
3−145089号、同59−196292号、同62
−229594号、同63−122596号、同61−
283595号、特開平1−204788号、「112
90の化学商品」化学工業日報社、p.869〜875
等などに記載の化合物、およびその他の画像記録材料に
おける画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を
挙げることができる。
【0150】顔料としては、チタンホワイト、炭酸カル
シウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、ク
レー、カオリン、活性白土、酸性白土などを挙げること
ができる。
シウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、ク
レー、カオリン、活性白土、酸性白土などを挙げること
ができる。
【0151】帯電防止剤としては、カチオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子などのほか「11290
の化学商品」化学工業日報社、p.875〜p.876
などに記載の化合物なども好適に用いることができる。
可塑剤としてはフタル酸エステル類、トリメリット酸エ
ステル類、アジピン酸エステル類、その他飽和あるいは
不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸エステル類、エ
ポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステア
リン酸エポキシ類、正リン酸エステル類、亜燐酸エステ
ル類、グリコールエステル類などのほかに「11290
の化学商品」化学工業日報社、p.843〜857など
に記載の化合物なども好適に用いることができる。
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子などのほか「11290
の化学商品」化学工業日報社、p.875〜p.876
などに記載の化合物なども好適に用いることができる。
可塑剤としてはフタル酸エステル類、トリメリット酸エ
ステル類、アジピン酸エステル類、その他飽和あるいは
不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸エステル類、エ
ポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステア
リン酸エポキシ類、正リン酸エステル類、亜燐酸エステ
ル類、グリコールエステル類などのほかに「11290
の化学商品」化学工業日報社、p.843〜857など
に記載の化合物なども好適に用いることができる。
【0152】また、熱溶融性物質としては、ベンズアミ
ド等のアミド類、クマリン等のエステル類、ジフェニル
エーテル等のエーテル類、p−メチルアセトフェノン等
のケトン類、スチルベン等の炭化水素類、マルガリン酸
等の高級脂肪酸、エイコサノール等の高級アルコール、
パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル、ステアリ
ン酸アミド等の高級脂肪酸アミドなどに代表される単分
子化合物、カルナバロウ、蜜ロウ、パラフィンワック
ス、エステルワックス、モンタンロウ、アミドワックス
などのワックス類、エステルガム、ロジンマレイン酸樹
脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導体、フェノー
ル樹脂、ケトン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テルペ
ン樹脂、脂肪族系炭化水素樹脂、シクロペンタジエン樹
脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルなどのポリオレフィンオキサイドなどに代表される高
分子化合物などを挙げることができ、本発明において
は、上記記載の熱溶融性物質の融点あるいは軟化点が1
0〜150℃のものが好ましい。
ド等のアミド類、クマリン等のエステル類、ジフェニル
エーテル等のエーテル類、p−メチルアセトフェノン等
のケトン類、スチルベン等の炭化水素類、マルガリン酸
等の高級脂肪酸、エイコサノール等の高級アルコール、
パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル、ステアリ
ン酸アミド等の高級脂肪酸アミドなどに代表される単分
子化合物、カルナバロウ、蜜ロウ、パラフィンワック
ス、エステルワックス、モンタンロウ、アミドワックス
などのワックス類、エステルガム、ロジンマレイン酸樹
脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導体、フェノー
ル樹脂、ケトン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テルペ
ン樹脂、脂肪族系炭化水素樹脂、シクロペンタジエン樹
脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルなどのポリオレフィンオキサイドなどに代表される高
分子化合物などを挙げることができ、本発明において
は、上記記載の熱溶融性物質の融点あるいは軟化点が1
0〜150℃のものが好ましい。
【0153】上述の、受容層中の添加剤全体の添加量
は、通常、バインダー樹脂に対して0.1〜30重量%
の範囲に選定するのが好ましい。
は、通常、バインダー樹脂に対して0.1〜30重量%
の範囲に選定するのが好ましい。
【0154】また、受容層と支持体との間に接着性、断
熱性、クッション性等の性質を付与する目的として中間
層を設けても良く、中間層を設ける場合は、通常、0.
01〜10μm、好ましくは0.05〜5μmの範囲に
選定するのが好ましい。なお、中間層は、単層としても
よく、あるいは必要に応じて、組成等が同一の、あるい
は相違する2層以上の多層構造として設けて、機能分離
させても良い。
熱性、クッション性等の性質を付与する目的として中間
層を設けても良く、中間層を設ける場合は、通常、0.
01〜10μm、好ましくは0.05〜5μmの範囲に
選定するのが好ましい。なお、中間層は、単層としても
よく、あるいは必要に応じて、組成等が同一の、あるい
は相違する2層以上の多層構造として設けて、機能分離
させても良い。
【0155】さらに、支持体と受容層との間に接着性、
断熱性、クッション性等の性質を付与する目的として中
間層を設けても良く、受容層を設けた支持体の反対の面
に耐熱性付与、帯電防止、複数枚給仕防止、滑り性付
与、カール防止等を目的としてバッキング層を設けても
よい。
断熱性、クッション性等の性質を付与する目的として中
間層を設けても良く、受容層を設けた支持体の反対の面
に耐熱性付与、帯電防止、複数枚給仕防止、滑り性付
与、カール防止等を目的としてバッキング層を設けても
よい。
【0156】〈剥離材料〉本発明に用いる剥離材料は画
像露光時に転写材料の転写層と重ね、露光エネルギーに
よりアブレートした転写層を受けることが可能な材料で
ある。
像露光時に転写材料の転写層と重ね、露光エネルギーに
よりアブレートした転写層を受けることが可能な材料で
ある。
【0157】剥離材料は自己支持性が有る樹脂を用い
て、画像形成層上に直接、塗布あるいはホットメルト押
し出し法などの方法でもよいし、前記の支持体上に塗布
あるいはホットメルト押し出し法などの方法で接着層ま
たは粘着層を設けたものを剥離材料として、その接着層
または粘着層を転写層と対面させて貼合して画像形成材
料としてもよい。貼合は露光前、後いずれでもかまわな
い。
て、画像形成層上に直接、塗布あるいはホットメルト押
し出し法などの方法でもよいし、前記の支持体上に塗布
あるいはホットメルト押し出し法などの方法で接着層ま
たは粘着層を設けたものを剥離材料として、その接着層
または粘着層を転写層と対面させて貼合して画像形成材
料としてもよい。貼合は露光前、後いずれでもかまわな
い。
【0158】接着層または粘着層は、前記受容層で記載
された、それ自身常温で接着性または粘着性を有するも
の、熱や圧力を掛けることにより接着性または粘着性を
発現するもののいずれでもよく、例えば、低軟化点の樹
脂、接着性付与剤、熱溶剤を適宜選択することにより形
成することができる。
された、それ自身常温で接着性または粘着性を有するも
の、熱や圧力を掛けることにより接着性または粘着性を
発現するもののいずれでもよく、例えば、低軟化点の樹
脂、接着性付与剤、熱溶剤を適宜選択することにより形
成することができる。
【0159】接着層または粘着層は、単層で構成しても
良いし、2層以上の複数層で構成しても良く、その厚み
は0.1〜40μm程度、好ましくは0.3〜30μm
であり、支持体を含めた剥離材料全体の厚みは0.1〜
200μm程度、好ましくは0.5〜100μmであ
る。
良いし、2層以上の複数層で構成しても良く、その厚み
は0.1〜40μm程度、好ましくは0.3〜30μm
であり、支持体を含めた剥離材料全体の厚みは0.1〜
200μm程度、好ましくは0.5〜100μmであ
る。
【0160】また、接着層または粘着層には、本発明の
目的を阻害しない範囲で他の添加剤を添加しても良く、
このような添加剤としては、剥離剤、UV吸収剤、光安
定剤、フィラー(無機微粒子、有機樹脂粒子)、顔料、
帯電防止剤などを添加しても良く、さらに増感剤として
可塑剤、熱溶剤などが挙げられる。
目的を阻害しない範囲で他の添加剤を添加しても良く、
このような添加剤としては、剥離剤、UV吸収剤、光安
定剤、フィラー(無機微粒子、有機樹脂粒子)、顔料、
帯電防止剤などを添加しても良く、さらに増感剤として
可塑剤、熱溶剤などが挙げられる。
【0161】剥離材料の形成も前記転写材料、受容材料
同様の方法で形成することができる。また、剥離材料と
して、市販されている接着シート、ヒートシール材ある
いはラミネート材などをそのまま使用することもでき
る。また、アブレーションした後に画像形成材料と剥離
材料とを対面させて露光した後に加圧または加熱加圧処
理するとさらに画像品質が向上する。
同様の方法で形成することができる。また、剥離材料と
して、市販されている接着シート、ヒートシール材ある
いはラミネート材などをそのまま使用することもでき
る。また、アブレーションした後に画像形成材料と剥離
材料とを対面させて露光した後に加圧または加熱加圧処
理するとさらに画像品質が向上する。
【0162】剥離材料と転写材料の貼合、密着において
は、受容材料の場合と異なり加熱温度は画像形成温度に
制御されず、転写層に含まれる顕色成分または発色成分
が失活しない温度であれば、制限なく加えることがで
き、通常60〜200℃、好ましくは80℃〜150℃
の範囲で加熱される。
は、受容材料の場合と異なり加熱温度は画像形成温度に
制御されず、転写層に含まれる顕色成分または発色成分
が失活しない温度であれば、制限なく加えることがで
き、通常60〜200℃、好ましくは80℃〜150℃
の範囲で加熱される。
【0163】また、剥離材料を転写層上に設ける場合、
剥離材料が自己支持性のある樹脂ならば溶剤に溶解させ
て塗布乾燥させて設けることができる。
剥離材料が自己支持性のある樹脂ならば溶剤に溶解させ
て塗布乾燥させて設けることができる。
【0164】剥離材料が支持体に用いられるような樹脂
フィルムを用いる場合には、ポリプロピレン等の様なヒ
ートシール性を有するフィルムであれば、転写層面とフ
ィルムとを対面させヒートロールやホットスタンプを用
いて加熱加圧処理することにより画像形成材料とするこ
とができる。ヒートシール性の無いフィルムを用いる場
合は、転写層上に接着層を設けてフィルムを積層する。
フィルムを用いる場合には、ポリプロピレン等の様なヒ
ートシール性を有するフィルムであれば、転写層面とフ
ィルムとを対面させヒートロールやホットスタンプを用
いて加熱加圧処理することにより画像形成材料とするこ
とができる。ヒートシール性の無いフィルムを用いる場
合は、転写層上に接着層を設けてフィルムを積層する。
【0165】〈保護層〉また、形成された画像を保護す
るために、画像形成後に転写箔のように樹脂層のみを転
写する、あるいは樹脂フィルムをラミネートすることに
より用途に応じて適時用いることができる。
るために、画像形成後に転写箔のように樹脂層のみを転
写する、あるいは樹脂フィルムをラミネートすることに
より用途に応じて適時用いることができる。
【0166】樹脂フィルムを保護層とする場合、これは
基材上に接着性樹脂層を設けたものである。
基材上に接着性樹脂層を設けたものである。
【0167】ここで用いられる基材は、画像形成層で用
いることのできる支持体を適時選択して用いることがで
きるが、透過率70%以上の基材を用いることが好まし
く、厚みは通常6〜100μm、さらには10〜50μ
mにするのが好ましい。
いることのできる支持体を適時選択して用いることがで
きるが、透過率70%以上の基材を用いることが好まし
く、厚みは通常6〜100μm、さらには10〜50μ
mにするのが好ましい。
【0168】また、接着性樹脂層は、受容層のバインダ
ー樹脂で用いられるような、それ自身常温で接着性を有
する物、圧力を掛けることにより接着性を発現するも
の、あるいは熱を掛けることにより接着性を発現するも
のを適時選択して用いることができる。
ー樹脂で用いられるような、それ自身常温で接着性を有
する物、圧力を掛けることにより接着性を発現するも
の、あるいは熱を掛けることにより接着性を発現するも
のを適時選択して用いることができる。
【0169】接着層の厚みは、通常、0.1〜20μm
であり、好ましくは0.3〜10μmである。
であり、好ましくは0.3〜10μmである。
【0170】一方、転写箔を用いる場合は、基材上に表
面層、接着層がこの順に積層されたもので、必要に応じ
て基材と表面層の接着力をコントロールする意味で離型
層などを設けても良い。
面層、接着層がこの順に積層されたもので、必要に応じ
て基材と表面層の接着力をコントロールする意味で離型
層などを設けても良い。
【0171】接着層は、前記図1(d)の保護層の接着
層を適時選択して用いることができる。また、表面層は
穿孔層や光熱変換層に用いられるバインダー樹脂を適時
選択して用いることができる。
層を適時選択して用いることができる。また、表面層は
穿孔層や光熱変換層に用いられるバインダー樹脂を適時
選択して用いることができる。
【0172】剥離層は、上述の図1(a)の画像形成材
料で記載した剥離層に、離型剤及び必要に応じて各種バ
インダー樹脂と添加剤とで構成することができる。
料で記載した剥離層に、離型剤及び必要に応じて各種バ
インダー樹脂と添加剤とで構成することができる。
【0173】なお、基材の厚みは、通常6〜100μ
m、さらには10〜50μmにするのが好ましく、離型
層、表面層および接着層の厚みは通常0.01〜20μ
m、さらには0.1〜10μmにするのが好ましい。
m、さらには10〜50μmにするのが好ましく、離型
層、表面層および接着層の厚みは通常0.01〜20μ
m、さらには0.1〜10μmにするのが好ましい。
【0174】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。また、実施
例における濃度は、濃度計〔X−rite社製:X−r
ite 310TR〕のVisual濃度で測定した。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。また、実施
例における濃度は、濃度計〔X−rite社製:X−r
ite 310TR〕のVisual濃度で測定した。
【0175】実施例1 (1)画像形成材料の作製 −転写材料− 下記の組成物をオープンニーダを用いて混練分散して、
金属からなる磁性粉末を含有する光吸収層形成塗工液を
調製し、押し出し塗布で厚さ50μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルム(以下、PETフィルム)〔ダイ
ヤホイルヘキスト社製 T−50〕上に塗布した後、塗
膜が未乾燥であるうちに磁場配向処理を行い、続いて乾
燥を施してから、カレンダーで表面処理を行い、厚み
0.5μmの光吸収層を形成した。
金属からなる磁性粉末を含有する光吸収層形成塗工液を
調製し、押し出し塗布で厚さ50μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルム(以下、PETフィルム)〔ダイ
ヤホイルヘキスト社製 T−50〕上に塗布した後、塗
膜が未乾燥であるうちに磁場配向処理を行い、続いて乾
燥を施してから、カレンダーで表面処理を行い、厚み
0.5μmの光吸収層を形成した。
【0176】 Fe−Al系強磁性金属粉末(色材兼金属含有粉体) 100部 〔Fe:Al原子数比=100:4(全体)、Fe:Al原子数比=50:50 (表面)、平均長軸径:0.14μm〕 スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂 10部 〔日本ゼオン(株)製、MR−110〕 スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂 10部 〔東洋紡績(株)製、UR−8700〕 α−アルミナ〔平均粒子径=0.15μm〕 8部 ステアリン酸 1部 ブチルステアレート 1部 ポリイソシアネート化合物 5部 〔日本ポリウレタン工業(株)製、コロネートL〕 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 更にその上に以下の組成の転写層を乾燥膜厚が0.5μ
mになる様にワイヤーバーコーティングすることにより
転写材料を作製した。
mになる様にワイヤーバーコーティングすることにより
転写材料を作製した。
【0177】 ガーリック酸プロピル 2部 ポリビニルアセトアセタール樹脂 (積水化学工業製:エスレックKS−1) 6部 ポリエーテル変性シリコーンオイル (東芝シリコーン製:KF−352) 2部 エタノール 90部 −受容材料− 下記の原料を混合して受容層の塗布液を得た。
【0178】 ヘキサアンミンコバルト(III)トリフルオロアセテート 2部 tert−ブチル−o−フタルアルデヒド 5部 ポリビニルブチラール樹脂 (積水化学工業製:エスレックBL−1) 13部 シリコーン樹脂微粒子(平均粒径4.5μm) 2部 (東芝シリコーン(株)製:トスパール145) メチルエチルケトン 70部 アセトン 8部 上記受容層塗布液を、厚さ100μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルム(以下、PETフィルム)〔ダイ
ヤホイルヘキスト社製 T−100〕上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が8μmになる様に塗布、乾燥し
PET上に受容層を設け受容材料を作製した。
レフタレートフィルム(以下、PETフィルム)〔ダイ
ヤホイルヘキスト社製 T−100〕上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が8μmになる様に塗布、乾燥し
PET上に受容層を設け受容材料を作製した。
【0179】(2)画像形成方法 上記得られた転写材料と受容材料を、それぞれの転写層
と受容層とを対面させた後、円筒ドラム上で受容材料/
転写材料の順に真空密着させ、発振波長830nmのレ
ーザーダイオードを用いて転写材料側から像様に露光
し、像様に露光部の転写層を受容層上に転写することに
より潜像形成した。露光面の光強度は100mW、ビー
ム径は1/2e値で10μm、送りピッチ6μm(副走
査方向)で転写を行なった。
と受容層とを対面させた後、円筒ドラム上で受容材料/
転写材料の順に真空密着させ、発振波長830nmのレ
ーザーダイオードを用いて転写材料側から像様に露光
し、像様に露光部の転写層を受容層上に転写することに
より潜像形成した。露光面の光強度は100mW、ビー
ム径は1/2e値で10μm、送りピッチ6μm(副走
査方向)で転写を行なった。
【0180】次いで、露光部の転写層が転写された受容
体をヒートローラー(加熱温度120℃、搬送速度15
mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理すること
により鮮明な透過濃度3.21の黒色ポジ画像が形成さ
れた。
体をヒートローラー(加熱温度120℃、搬送速度15
mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理すること
により鮮明な透過濃度3.21の黒色ポジ画像が形成さ
れた。
【0181】実施例2 実施例1で作製した転写材料と受容材料の転写層面と受
容層面を対面させ、ヒートローラー(加熱温度50℃、
搬送速度25mm/秒、圧力1.2kg/cm)であら
かじめ貼合させ、画像形成材料を作製したあと、円筒ド
ラム上に受容材料を下にして真空密着させ、同様に画像
形成を行い黒色ポジ画像が形成された。
容層面を対面させ、ヒートローラー(加熱温度50℃、
搬送速度25mm/秒、圧力1.2kg/cm)であら
かじめ貼合させ、画像形成材料を作製したあと、円筒ド
ラム上に受容材料を下にして真空密着させ、同様に画像
形成を行い黒色ポジ画像が形成された。
【0182】実施例3 (1)画像形成材料の作製 −転写材料− 下記の組成物をオープンニーダを用いて混練分散して、
金属からなる磁性粉末を含有する光熱変換層形成塗工液
を調製した。
金属からなる磁性粉末を含有する光熱変換層形成塗工液
を調製した。
【0183】 Fe−Al系強磁性金属粉末(色材兼金属含有粉体) 100部 〔Fe:Al原子数比=100:4(全体)、Fe:Al原子数比=50:50 (表面)、平均長軸径:0.14μm〕 スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂 10部 〔日本ゼオン(株)製、MR−110〕 スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂 10部 〔東洋紡績(株)製、UR−8700〕 α−アルミナ〔平均粒子径=0.15μm〕 8部 ステアリン酸 1部 ブチルステアレート 1部 ポリイソシアネート化合物 5部 〔日本ポリウレタン工業(株)製、コロネートL〕 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン その後、以下の組成物を添加し攪拌後、押し出し塗布で
支持体上に塗布した後、塗膜が未乾燥であるうちに磁場
配向処理を行い、続いて乾燥を施してから、カレンダー
で表面処理を行い、厚さ1.5μmの転写層を形成し
た。
支持体上に塗布した後、塗膜が未乾燥であるうちに磁場
配向処理を行い、続いて乾燥を施してから、カレンダー
で表面処理を行い、厚さ1.5μmの転写層を形成し
た。
【0184】 ヘキサアンミンコバルト(III)トリフルオロアセテート 6部 tert−ブチル−o−フタルアルデヒド 14部 アセトン 20部 −受容材料− 下記の原料を混合して受容層の塗布液を得た。
【0185】 ガーリック酸プロピル 2部 5,5−ジメチルヒダントイン 2部 ポリビニルアセトアセタール樹脂 (積水化学工業製:エスレックKS−1) 6部 ポリエーテル変性シリコーンオイル (東芝シリコーン製:KF−352) 2部 エタノール 88部 上記受容層塗布液を、厚さ100μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルム(以下、PETフィルム)〔ダイ
ヤホイルヘキスト社製 T−100〕上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が5μmになる様に塗布、乾燥し
PET上に受容層を設け受容材料を形成した。
レフタレートフィルム(以下、PETフィルム)〔ダイ
ヤホイルヘキスト社製 T−100〕上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が5μmになる様に塗布、乾燥し
PET上に受容層を設け受容材料を形成した。
【0186】(2)画像形成方法 上記得られた転写材料と受容体を、それぞれの転写層と
受容層とを対面させた後、円筒ドラム上で受容材料/転
写材料の順に真空密着させ、発振波長830nmのレー
ザーダイオードを用いて転写材料側から像様に露光し、
像様に露光部の転写層を受容層上に転写することにより
潜像形成した。露光面の光強度は100mW、ビーム径
は1/2e値で10μm、送りピッチ6μm(副走査方
向)で転写を行なった。
受容層とを対面させた後、円筒ドラム上で受容材料/転
写材料の順に真空密着させ、発振波長830nmのレー
ザーダイオードを用いて転写材料側から像様に露光し、
像様に露光部の転写層を受容層上に転写することにより
潜像形成した。露光面の光強度は100mW、ビーム径
は1/2e値で10μm、送りピッチ6μm(副走査方
向)で転写を行なった。
【0187】次いで、露光部の転写層が転写された受容
体をヒートローラー(加熱温度100℃、搬送速度15
mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理すること
により鮮明な透過濃度3.05の黒色ポジ画像が形成さ
れた。
体をヒートローラー(加熱温度100℃、搬送速度15
mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理すること
により鮮明な透過濃度3.05の黒色ポジ画像が形成さ
れた。
【0188】実施例4 (1)画像形成材料の作製 −転写材料− 実施例1で作成した光吸収層上に以下の組成の転写層を
乾燥膜厚が1.0μmになる様にワイヤーバーコーティ
ングすることにより転写材料を作製した。
乾燥膜厚が1.0μmになる様にワイヤーバーコーティ
ングすることにより転写材料を作製した。
【0189】 ガーリック酸プロピル 10部 フタラジン 0.02部 ポリビニルアセトアセタール樹脂 (積水化学工業製:エスレックKS−1) 6部 ポリエーテル変性シリコーンオイル (東芝シリコーン製:KF−352) 2部 蒸留水 81.98部 −剥離材料− 基材として厚さ厚み38μmの被転写層積層面をコロナ
放電処理した白色ポリエチレンテレフタレートフィルム
〔ダイアホイルヘキスト(株)製、W−400表面粗
さ、Ra値0.16〕上に、ワイヤーバーを用いて乾燥
膜厚が1μmになる様に、下記の熱可塑性樹脂をメチル
エチルケトンで固形分10%に希釈した後ワイヤーバー
を用いて上記支持体に塗布、乾燥後の付量が1.0g/
m2となる用にして剥離材料を作製した。
放電処理した白色ポリエチレンテレフタレートフィルム
〔ダイアホイルヘキスト(株)製、W−400表面粗
さ、Ra値0.16〕上に、ワイヤーバーを用いて乾燥
膜厚が1μmになる様に、下記の熱可塑性樹脂をメチル
エチルケトンで固形分10%に希釈した後ワイヤーバー
を用いて上記支持体に塗布、乾燥後の付量が1.0g/
m2となる用にして剥離材料を作製した。
【0190】ポリウレタン樹脂〔日本ポリウレタン工業
(株)製:ニッポラン3116 固形分21%〕 その後、前記転写材料の転写層と、基材上に設けた剥離
層とを重ね合わせ、気泡の入らないようにヒートローラ
ー(圧力ロール:加熱温度80℃、搬送速度30mm/
秒、圧力4.0kg/cm)で加熱加圧処理して密着さ
せ貼り合わせて、画像形成材料を作製した。
(株)製:ニッポラン3116 固形分21%〕 その後、前記転写材料の転写層と、基材上に設けた剥離
層とを重ね合わせ、気泡の入らないようにヒートローラ
ー(圧力ロール:加熱温度80℃、搬送速度30mm/
秒、圧力4.0kg/cm)で加熱加圧処理して密着さ
せ貼り合わせて、画像形成材料を作製した。
【0191】−受容材料− 下記の原料を混合して受容層の塗布液を得た。
【0192】 ベヘン酸銀 12.0部 ポリビニルアルコール 7.96部 (日本合成化学(株)製:ゴーセノールGL−05) ベヘン酸 0.04部 蒸留水 80.0部 上記受容層塗布液を、厚さ100μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルム(以下、PETフィルム)〔ダイ
ヤホイルヘキスト社製 T−100〕上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が10μmになる様に塗布、乾燥
しPET上に受容層を設け受容体を形成した。
レフタレートフィルム(以下、PETフィルム)〔ダイ
ヤホイルヘキスト社製 T−100〕上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が10μmになる様に塗布、乾燥
しPET上に受容層を設け受容体を形成した。
【0193】(2)画像形成方法 上記得られた画像形成材料を円筒ドラム上に剥離材料側
を下にして真空密着させ、発振波長830nmのレーザ
ーダイオードを用いて支持体側から像様に露光し、剥離
して像様に露光部の転写層を剥離層上に転写した。この
時、露光面の光強度は100mW、ビーム径は1/2e
値で10μm、送りピッチ6μm(副走査方向)で転写
を行なった。
を下にして真空密着させ、発振波長830nmのレーザ
ーダイオードを用いて支持体側から像様に露光し、剥離
して像様に露光部の転写層を剥離層上に転写した。この
時、露光面の光強度は100mW、ビーム径は1/2e
値で10μm、送りピッチ6μm(副走査方向)で転写
を行なった。
【0194】次いで、露光部の転写層が転写された剥離
材料の転写層面と受容材料の受容層面を重ね合わせをヒ
ートローラー(加熱温度100℃、搬送速度15mm/
秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理し、剥離材料の
支持体を受容材料から剥離することにより鮮明な透過濃
度2.92の黒色ポジ画像が形成された。
材料の転写層面と受容材料の受容層面を重ね合わせをヒ
ートローラー(加熱温度100℃、搬送速度15mm/
秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理し、剥離材料の
支持体を受容材料から剥離することにより鮮明な透過濃
度2.92の黒色ポジ画像が形成された。
【0195】実施例5 実施例4で作製した画像形成材料を同様の方法で露光し
たのち、未露光部の転写層を有した転写材料の転写層面
と受容材料の受容層面を重ね合わせヒートローラー(加
熱温度100℃、搬送速度15mm/秒、圧力1.5k
g/cm)で加熱処理することにより鮮明な透過濃度
3.35の黒色ネガ画像を形成された。
たのち、未露光部の転写層を有した転写材料の転写層面
と受容材料の受容層面を重ね合わせヒートローラー(加
熱温度100℃、搬送速度15mm/秒、圧力1.5k
g/cm)で加熱処理することにより鮮明な透過濃度
3.35の黒色ネガ画像を形成された。
【0196】実施例6 (1)画像形成材料の作製 −転写材料− 50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以
下、PETフィルム)〔ダイヤホイルヘキスト社製 T
−50〕の片面をコロナ放電処理し、この面へ、メチル
エチルケトンにポリビニルアセタール系樹脂〔積水化学
工業(株)製、エスレックBL−1〕とイソシアネート
化合物〔日本ポリウレタン工業(株)製、コロネートH
X〕を90:10の比率で溶解させた固形分4%のアン
カー層形成塗工液をワイヤーバー塗布により、塗布・乾
燥した後、60℃・48時間キュアーさせ、厚さ0.1
μmのアンカー層を形成した上に下記の転写層塗工液を
調製し、ワイヤーバーで塗布、乾燥して、厚み1.5μ
mの転写層を形成した。
下、PETフィルム)〔ダイヤホイルヘキスト社製 T
−50〕の片面をコロナ放電処理し、この面へ、メチル
エチルケトンにポリビニルアセタール系樹脂〔積水化学
工業(株)製、エスレックBL−1〕とイソシアネート
化合物〔日本ポリウレタン工業(株)製、コロネートH
X〕を90:10の比率で溶解させた固形分4%のアン
カー層形成塗工液をワイヤーバー塗布により、塗布・乾
燥した後、60℃・48時間キュアーさせ、厚さ0.1
μmのアンカー層を形成した上に下記の転写層塗工液を
調製し、ワイヤーバーで塗布、乾燥して、厚み1.5μ
mの転写層を形成した。
【0197】 3−N,N−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン 20部 ポリビニルアルコール(前出) 14部 IR吸収色素 6部
【0198】
【化4】
【0199】 純水 60部 −受容材料− 片面を帯電防止処理した175μmの青色に着色された
透明PETの片面をコロナ放電処理し、この面へ転写材
料と同様のアンカー層を形成し、その上に下記組成の受
容層塗工液を調液し、ワイヤーバー塗布により乾燥膜厚
が5μmの受容層を設け受容材料を形成した。
透明PETの片面をコロナ放電処理し、この面へ転写材
料と同様のアンカー層を形成し、その上に下記組成の受
容層塗工液を調液し、ワイヤーバー塗布により乾燥膜厚
が5μmの受容層を設け受容材料を形成した。
【0200】 2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸亜鉛 10部 EVA 10部 (三井デュポンポリケミカル社製:エバフレックスEV−210) メチルエチルケトン 80部 (2)画像形成方法 上記得られた転写材料と実施例4で作製された剥離材料
を、それぞれの転写層と剥離層とを対面させた後、円筒
ドラム上で剥離材料/転写材料の順に真空密着させ、発
振波長830nmのレーザーダイオードを用いて転写材
料側から像様に露光したのち、剥離して像様に露光部の
転写層を剥離層上に転写した。この時、露光面の光強度
は100mW、ビーム径は1/2e値で10μm、送り
ピッチ6μm(副走査方向)で転写を行なった。
を、それぞれの転写層と剥離層とを対面させた後、円筒
ドラム上で剥離材料/転写材料の順に真空密着させ、発
振波長830nmのレーザーダイオードを用いて転写材
料側から像様に露光したのち、剥離して像様に露光部の
転写層を剥離層上に転写した。この時、露光面の光強度
は100mW、ビーム径は1/2e値で10μm、送り
ピッチ6μm(副走査方向)で転写を行なった。
【0201】次いで、露光部の転写層が転写された剥離
材料の転写層面と受容材料の受容層面を重ね合わせをヒ
ートローラー(加熱温度90℃、搬送速度15mm/
秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理し、剥離材料の
支持体を受容材料から剥離することにより鮮明な透過濃
度3.25の黒色ポジ画像が形成された。
材料の転写層面と受容材料の受容層面を重ね合わせをヒ
ートローラー(加熱温度90℃、搬送速度15mm/
秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理し、剥離材料の
支持体を受容材料から剥離することにより鮮明な透過濃
度3.25の黒色ポジ画像が形成された。
【0202】実施例7 実施例6で作製した画像形成材料を同様の方法で露光し
たのち、未露光部の転写層を有した転写材料の転写層面
と受容材料の受容層面を重ね合わせヒートローラー(加
熱温度90℃、搬送速度15mm/秒、圧力1.5kg
/cm)で加熱処理することにより鮮明な透過濃度3.
56の黒色ネガ画像が形成された。
たのち、未露光部の転写層を有した転写材料の転写層面
と受容材料の受容層面を重ね合わせヒートローラー(加
熱温度90℃、搬送速度15mm/秒、圧力1.5kg
/cm)で加熱処理することにより鮮明な透過濃度3.
56の黒色ネガ画像が形成された。
【0203】比較例1 (1)画像形成材料の作製 下記の原料を混合した発色層塗布液を、アンカー層を有
した厚さ100μmのPETフィルム上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が10μmになる様に塗布、乾燥
して画像形成材料を形成した。
した厚さ100μmのPETフィルム上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が10μmになる様に塗布、乾燥
して画像形成材料を形成した。
【0204】 ヘキサアンミンコバルト(III)トリフルオロアセテート 2部 tert−ブチル−o−フタルアルデヒド 3部 ポリビニルブチラール樹脂 (積水化学工業製:エスレックBL−1) 8部 メチルエチルケトン 250部 アセトン 100部 ガーリック酸プロピル 2部 (2)画像形成方法 上記得られた画像形成材料を、サーマルプリンターによ
り像様に加熱し画像形成を行った。印加エネルギーは7
mW、10msecで行った。その後、ヒートローラー
(加熱温度100℃、搬送速度15mm/秒、圧力1.
5kg/cm)で加熱処理することにより透過画像3.
02の黒色画像が形成された。
り像様に加熱し画像形成を行った。印加エネルギーは7
mW、10msecで行った。その後、ヒートローラー
(加熱温度100℃、搬送速度15mm/秒、圧力1.
5kg/cm)で加熱処理することにより透過画像3.
02の黒色画像が形成された。
【0205】比較例2 (1)画像形成材料の作製 下記の原料を混合した発色層塗布液を、アンカー層を有
した厚さ100μmのPETフィルム上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が10μmになる様に塗布、乾燥
して画像形成材料を形成した。
した厚さ100μmのPETフィルム上にワイヤーバー
を用いて乾燥後の膜厚が10μmになる様に塗布、乾燥
して画像形成材料を形成した。
【0206】 ベヘン酸銀 6部 ベヘン酸 0.6部 ガーリック酸プロピル 2部 フタラジン 0.4部 ポリビニルアセトアセタール樹脂 (積水化学工業製:エスレックKS−1) 6部 ポリエーテル変性シリコーンオイル (東芝シリコーン製:KF−352) 2部 蒸留水 85部 (2)画像形成方法 上記得られた画像形成材料を、サーマルプリンターによ
り印加エネルギーは7mW、10msecで、像様に加
熱し、透過画像3.20の黒色画像が形成された。
り印加エネルギーは7mW、10msecで、像様に加
熱し、透過画像3.20の黒色画像が形成された。
【0207】比較例3 (1)画像形成材料の作製 下記の組成物を、それぞれ磁性ボールミル中で2日間粉
砕して、〔A液〕、〔B液〕を調整した。
砕して、〔A液〕、〔B液〕を調整した。
【0208】 〔A液〕 3−N,N−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン 20部 ポリビニルアルコールの10%水溶液 20部 純水 60部 〔B液〕 2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸亜鉛 20部 ポリビニルアルコールの10%水溶液 20部 純水 60部 次いで、〔A液〕10g、〔B液〕20g、ポリビニル
アルコールの10%水溶液20g及び30%のステアリ
ン酸亜鉛分散液10gを混合した発色層塗布液を、支持
体として厚さ100μmのPETフィルム上にワイヤー
バーを用いて乾燥後の膜厚が10μmになる様に塗布、
乾燥して画像形成材料を形成した。
アルコールの10%水溶液20g及び30%のステアリ
ン酸亜鉛分散液10gを混合した発色層塗布液を、支持
体として厚さ100μmのPETフィルム上にワイヤー
バーを用いて乾燥後の膜厚が10μmになる様に塗布、
乾燥して画像形成材料を形成した。
【0209】(2)画像形成方法 上記得られた画像形成材料を、サーマルプリンターによ
り印加エネルギーは7mW、10msecで、像様に加
熱し、透過画像2.70の黒色画像が形成された。
り印加エネルギーは7mW、10msecで、像様に加
熱し、透過画像2.70の黒色画像が形成された。
【0210】評価 実施例1〜7と比較例1〜3の画像形成材料の生保存性
と、画像形成後の画像保存性を以下の方法で評価し、結
果を表1、表2に示す。
と、画像形成後の画像保存性を以下の方法で評価し、結
果を表1、表2に示す。
【0211】〈生保存性〉作製された画像形成材料を温
度50℃、湿度23%の恒温槽で72時間保存したの
ち、画像形成を行い、最高濃度の透過濃度を濃度計のV
ISUAL濃度で測定し、保存前に画像形成したサンプ
ルの透過濃度と比較した。また、非画像部の保存前後の
透過濃度を濃度計のVISUAL濃度で測定し、ODm
in−DT=(保存後の実測濃度−保存前の実測濃度)
で評価した。
度50℃、湿度23%の恒温槽で72時間保存したの
ち、画像形成を行い、最高濃度の透過濃度を濃度計のV
ISUAL濃度で測定し、保存前に画像形成したサンプ
ルの透過濃度と比較した。また、非画像部の保存前後の
透過濃度を濃度計のVISUAL濃度で測定し、ODm
in−DT=(保存後の実測濃度−保存前の実測濃度)
で評価した。
【0212】〈画像保存性〉画像形成した画像形成材料
をキセノンウェーザーメーターで48時間露光し、非画
像部の保存前後の透過濃度を濃度計のVISUAL濃度
で測定し、ODmin−Xe=(保存前の実測濃度−保
存後の実測濃度)で評価した。
をキセノンウェーザーメーターで48時間露光し、非画
像部の保存前後の透過濃度を濃度計のVISUAL濃度
で測定し、ODmin−Xe=(保存前の実測濃度−保
存後の実測濃度)で評価した。
【0213】
【表1】
【0214】
【表2】
【0215】表1、表2から、本発明の実施例は、高濃
度で保存性に優れた画像を与えた。
度で保存性に優れた画像を与えた。
【0216】実施例8 下記の原料を混合して受容層の塗布液を得た。
【0217】 ベヘン酸銀 2部 ポリビニルブチラール樹脂 (積水化学工業製:エスレックBL−1) 13部 シリコーン樹脂微粒子(平均粒径4.5μm) 2部 (東芝シリコーン(株)製:トスパール145) メチルエチルケトン 70部 アセトン 8部 上記受容層塗布液を、厚さ100μmのPETフィルム
〔ダイヤホイルヘキスト社製 T−100〕上にワイヤ
ーバーを用いて乾燥後の膜厚が8μmになる様に塗布、
乾燥しPET上に受容層を設け受容材料を形成した。
〔ダイヤホイルヘキスト社製 T−100〕上にワイヤ
ーバーを用いて乾燥後の膜厚が8μmになる様に塗布、
乾燥しPET上に受容層を設け受容材料を形成した。
【0218】この受容材料と、実施例1で得られた転写
材料とを、それぞれの受容層と転写層とを対面させた
後、円筒ドラム上で受容材料/転写材料の順に真空密着
させ、発振波長830nmのレーザーダイオードを用い
て転写材料側から像様に露光し、像様に露光部の転写層
を受容層上に転写することにより潜像形成した。露光面
の光強度は100mW、ビーム径は1/2e値で6.3
5μm、送りピッチ6.35μm(副走査方向)で転写
を行なった。
材料とを、それぞれの受容層と転写層とを対面させた
後、円筒ドラム上で受容材料/転写材料の順に真空密着
させ、発振波長830nmのレーザーダイオードを用い
て転写材料側から像様に露光し、像様に露光部の転写層
を受容層上に転写することにより潜像形成した。露光面
の光強度は100mW、ビーム径は1/2e値で6.3
5μm、送りピッチ6.35μm(副走査方向)で転写
を行なった。
【0219】次いで、露光部の転写層が転写された受容
材料をヒートローラー(加熱温度140℃、搬送速度1
5mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理するこ
とにより鮮明な透過濃度3.56の黒色ポジ画像が形成
された。
材料をヒートローラー(加熱温度140℃、搬送速度1
5mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理するこ
とにより鮮明な透過濃度3.56の黒色ポジ画像が形成
された。
【0220】実施例9 下記の組成物をサンドグラインダーを用いて分散して、
光吸収層形成塗工液を調製し、押し出し塗布で厚さ50
μmのPETフィルム〔ダイヤホイルヘキスト社製 T
−50〕上に塗布した後、乾燥を施してから、カレンダ
ーで表面処理を行い、厚み0.5μmの光吸収層を形成
した。
光吸収層形成塗工液を調製し、押し出し塗布で厚さ50
μmのPETフィルム〔ダイヤホイルヘキスト社製 T
−50〕上に塗布した後、乾燥を施してから、カレンダ
ーで表面処理を行い、厚み0.5μmの光吸収層を形成
した。
【0221】 カーボンブラック粉末(1次粒子径23mμ) 100部 スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂 10部 〔日本ゼオン(株)製、MR−110〕 スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂 10部 〔東洋紡績(株)製、UR−8700〕 ステアリン酸 1部 ブチルステアレート 1部 ポリイソシアネート化合物 5部 〔日本ポリウレタン工業(株)製、コロネートL〕 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 更にその上に以下の組成の転写層を乾燥膜厚が0.5μ
mになる様にワイヤーバーコーティングすることにより
転写材料を作製した。
mになる様にワイヤーバーコーティングすることにより
転写材料を作製した。
【0222】 4−メトキシナフトール 2部 ポリビニルアセトアセタール樹脂 (積水化学工業製:エスレックKS−1) 6部 ポリエーテル変性シリコーンオイル (東芝シリコーン製:KF−352) 2部 エタノール 90部 この転写材料と、実施例8で得られた受容材料とを、そ
れぞれの受容層と転写層とを対面させた後、円筒ドラム
上で受容材料/転写材料の順に真空密着させ、発振波長
830nmのレーザーダイオードを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、像様に露光部の転写層を受容層上に転
写することにより潜像形成した。露光面の光強度は10
0mW、ビーム径は1/2e値で6.35μm、送りピ
ッチ6.35μm(副走査方向)で転写を行なった。
れぞれの受容層と転写層とを対面させた後、円筒ドラム
上で受容材料/転写材料の順に真空密着させ、発振波長
830nmのレーザーダイオードを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、像様に露光部の転写層を受容層上に転
写することにより潜像形成した。露光面の光強度は10
0mW、ビーム径は1/2e値で6.35μm、送りピ
ッチ6.35μm(副走査方向)で転写を行なった。
【0223】次いで、露光部の転写層が転写された受容
材料をヒートローラー(加熱温度120℃、搬送速度1
5mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理するこ
とにより鮮明な透過濃度3.23の黒色ポジ画像が形成
された。
材料をヒートローラー(加熱温度120℃、搬送速度1
5mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理するこ
とにより鮮明な透過濃度3.23の黒色ポジ画像が形成
された。
【0224】実施例10 下記の組成物をサンドグラインダーを用いて分散して、
光吸収層形成塗工液を調製し、押し出し塗布で厚さ50
μmのPETフィルム〔ダイヤホイルヘキスト社製 T
−50〕上に塗布した後、乾燥を施してから、カレンダ
ーで表面処理を行い、厚み1.0μmの還元剤を含んだ
光吸収層を形成し、転写材料を作製した。
光吸収層形成塗工液を調製し、押し出し塗布で厚さ50
μmのPETフィルム〔ダイヤホイルヘキスト社製 T
−50〕上に塗布した後、乾燥を施してから、カレンダ
ーで表面処理を行い、厚み1.0μmの還元剤を含んだ
光吸収層を形成し、転写材料を作製した。
【0225】 カーボンブラック粉末(1次粒子径23mμ) 100部 スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂 10部 〔日本ゼオン(株)製、MR−110〕 スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂 10部 〔東洋紡績(株)製、UR−8700〕 ステアリン酸 1部 ブチルステアレート 1部 4−メトキシナフトール 2部 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン この転写材料と、実施例8で得られた受容材料とを、そ
れぞれの受容層と転写層とを対面させた後、円筒ドラム
上で受容材料/転写材料の順に真空密着させ、発振波長
830nmのレーザーダイオードを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、像様に露光部の転写層を受容層上に転
写することにより潜像形成した。露光面の光強度は10
0mW、ビーム径は1/2e値で6.35μm、送りピ
ッチ6.35μm(副走査方向)で転写を行なった。
れぞれの受容層と転写層とを対面させた後、円筒ドラム
上で受容材料/転写材料の順に真空密着させ、発振波長
830nmのレーザーダイオードを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、像様に露光部の転写層を受容層上に転
写することにより潜像形成した。露光面の光強度は10
0mW、ビーム径は1/2e値で6.35μm、送りピ
ッチ6.35μm(副走査方向)で転写を行なった。
【0226】次いで、露光部の転写層が転写された受容
材料をヒートローラー(加熱温度150℃、搬送速度2
3mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理するこ
とにより鮮明な透過濃度3.41の黒色ポジ画像が形成
された。
材料をヒートローラー(加熱温度150℃、搬送速度2
3mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理するこ
とにより鮮明な透過濃度3.41の黒色ポジ画像が形成
された。
【0227】実施例11 下記の原料を混合したのち、サンドグランダーにて分散
して、転写画像形成層塗布液を得た。
して、転写画像形成層塗布液を得た。
【0228】 ベヘン酸銀 12.0部 ポリビニルアルコール 7.96部 (日本合成化学(株)製:ゴーセノールGL−05) ベヘン酸 0.04部 蒸留水 80.0部 上記転写画像形成層塗布液を、厚さ25μmのPETフ
ィルム〔ダイヤホイルヘキスト社製 T−100〕上に
ワイヤーバーを用いて乾燥後の膜厚が4μmになる様に
塗布、乾燥し、さらにその上に、下記組成の熱接着層を
膜厚が1μmになるように塗布、乾燥して、受容層転写
箔を得た。
ィルム〔ダイヤホイルヘキスト社製 T−100〕上に
ワイヤーバーを用いて乾燥後の膜厚が4μmになる様に
塗布、乾燥し、さらにその上に、下記組成の熱接着層を
膜厚が1μmになるように塗布、乾燥して、受容層転写
箔を得た。
【0229】 エチレン−アクリル酸共重合体のウレタングラフトポリマーラテックス 50部 (東邦化学(株)製:S−6254) 蒸留水 50部 実施例10の転写材料の転写層面と、剥離材料として厚
さ100μmPETフィルム〔ダイヤホイルヘキスト社
製 T−100〕とを、対面させた後、円筒ドラム上に
剥離材料/転写材料の順に真空密着させ、発振波長83
0nmのレーザーダイオードを用いて転写材料側から像
様に露光し、像様に露光部の転写層を剥離材料上に転写
することにより潜像形成した。露光面の光強度は100
mW、ビーム径は1/2e値で6.35μm、送りピッ
チ6.35μmで転写を行なった。
さ100μmPETフィルム〔ダイヤホイルヘキスト社
製 T−100〕とを、対面させた後、円筒ドラム上に
剥離材料/転写材料の順に真空密着させ、発振波長83
0nmのレーザーダイオードを用いて転写材料側から像
様に露光し、像様に露光部の転写層を剥離材料上に転写
することにより潜像形成した。露光面の光強度は100
mW、ビーム径は1/2e値で6.35μm、送りピッ
チ6.35μmで転写を行なった。
【0230】次いで、受容材料と、転写層が転写された
剥離材料を重ね、ヒートローラー(加熱温度160℃、
搬送速度25mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱
処理したのち、受容材料側のPETベースを剥離するこ
とにより、鮮明な透過濃度3.18の黒色ポジ画像が形
成された。
剥離材料を重ね、ヒートローラー(加熱温度160℃、
搬送速度25mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱
処理したのち、受容材料側のPETベースを剥離するこ
とにより、鮮明な透過濃度3.18の黒色ポジ画像が形
成された。
【0231】実施例12 厚さ100μmのPETフィルム〔ダイヤホイルヘキス
ト社製 T−100〕上に、厚さ0.2μのAl蒸着
し、さらにその上に、下記組成の塗布液を厚さ0.5μ
となるように塗布し、乾燥して、転写材料を得た。
ト社製 T−100〕上に、厚さ0.2μのAl蒸着
し、さらにその上に、下記組成の塗布液を厚さ0.5μ
となるように塗布し、乾燥して、転写材料を得た。
【0232】一方、厚さ24μmのPETフィルム〔ダ
イヤホイルヘキスト社製 T−24〕上に、下記組成の
接着層液を塗布して乾燥し、剥離材料を形成し、70℃
の温度で、転写材料と貼り合わせた。
イヤホイルヘキスト社製 T−24〕上に、下記組成の
接着層液を塗布して乾燥し、剥離材料を形成し、70℃
の温度で、転写材料と貼り合わせた。
【0233】 ポリウレタン樹脂 22部 (日本ポリウレタン(株):ニッポラン3116) シリコーン樹脂微粒子(平均粒径2μm) 0.1部 (東芝シリコーン(株)製:トスパール120) メチルエチルケトン 40部 トルエン 28部 シクロヘキサノン 10部 この貼合材料を、円筒ドラム上に真空密着させ、発振波
長1060nmのYAGレーザーを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、剥離材料を剥離することにより、像様
に未露光部の転写層を転写材料上に潜像として残して形
成した。露光面の光強度は4W、ビーム径は1/2e値
で10μm、送りピッチ10μmで転写を行なった。
長1060nmのYAGレーザーを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、剥離材料を剥離することにより、像様
に未露光部の転写層を転写材料上に潜像として残して形
成した。露光面の光強度は4W、ビーム径は1/2e値
で10μm、送りピッチ10μmで転写を行なった。
【0234】次いで、受容材料と、潜像形成された転写
材料面を重ね、ヒートローラー(加熱温度160℃、搬
送速度25mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処
理したのち、受容材料側のPETベースを剥離すること
により、鮮明な透過濃度3.21の黒色ポジ画像が形成
された。
材料面を重ね、ヒートローラー(加熱温度160℃、搬
送速度25mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処
理したのち、受容材料側のPETベースを剥離すること
により、鮮明な透過濃度3.21の黒色ポジ画像が形成
された。
【0235】実施例13 厚さ24μmのPETフィルム〔ダイヤホイルヘキスト
社製 T−24〕上に、厚さ0.2μのAl蒸着し、さ
らにその上に、下記組成の塗布液を厚さ0.5μとなる
ように塗布し、乾燥して、転写材料を得た。
社製 T−24〕上に、厚さ0.2μのAl蒸着し、さ
らにその上に、下記組成の塗布液を厚さ0.5μとなる
ように塗布し、乾燥して、転写材料を得た。
【0236】 4−メトキシナフトール 2部 ポリビニルアセトアセタール樹脂 (積水化学工業製:エスレックKS−1) 6部 ポリエーテル変性シリコーンオイル (東芝シリコーン製:KF−352) 2部 エタノール 90部 一方、厚さ100μmのPETフィルム〔ダイヤホイル
ヘキスト社製 T−100〕上に、下記組成の接着層液
を塗布して乾燥し、剥離材料を形成し、70℃の温度
で、転写材料と貼り合わせた。
ヘキスト社製 T−100〕上に、下記組成の接着層液
を塗布して乾燥し、剥離材料を形成し、70℃の温度
で、転写材料と貼り合わせた。
【0237】 ポリウレタン樹脂 22部 (日本ポリウレタン(株):ニッポラン3116 シリコーン樹脂微粒子(平均粒径2μm) 0.1部 (東芝シリコーン(株)製:トスパール120) メチルエチルケトン 40部 トルエン 28部 シクロヘキサノン 10部 この貼合材料を、円筒ドラム上に真空密着させ、発振波
長1060nmのYAGレーザーを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、剥離材料を剥離することにより、像様
に未露光部の転写層を転写材料上に潜像として残して形
成した。露光面の光強度は4W、ビーム径は1/2e値
で10μm、送りピッチ10μmで転写を行なった。
長1060nmのYAGレーザーを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、剥離材料を剥離することにより、像様
に未露光部の転写層を転写材料上に潜像として残して形
成した。露光面の光強度は4W、ビーム径は1/2e値
で10μm、送りピッチ10μmで転写を行なった。
【0238】次いで、受容材料と、潜像形成された剥離
材料面を重ね、ヒートローラー(加熱温度160℃、搬
送速度25mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処
理したのち、受容材料側のPETベースを剥離すること
により、鮮明な透過濃度3.11の黒色ポジ画像が形成
された。
材料面を重ね、ヒートローラー(加熱温度160℃、搬
送速度25mm/秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処
理したのち、受容材料側のPETベースを剥離すること
により、鮮明な透過濃度3.11の黒色ポジ画像が形成
された。
【0239】実施例14 厚さ12μmのPETフィルム〔ダイヤホイルヘキスト
社製 T−12〕上に、厚さ0.2μのAl蒸着し、さ
らにその上に、下記組成の塗布液を厚さ0.5μとなる
ように塗布し、乾燥して、転写材料を得た。
社製 T−12〕上に、厚さ0.2μのAl蒸着し、さ
らにその上に、下記組成の塗布液を厚さ0.5μとなる
ように塗布し、乾燥して、転写材料を得た。
【0240】 4−メトキシナフトール 2部 ポリビニルアセトアセタール樹脂 (積水化学工業製:エスレックKS−1) 6部 ポリエーテル変性シリコーンオイル (東芝シリコーン製:KF−352) 2部 エタノール 90部 一方、厚さ100μmのPETフィルム〔ダイヤホイル
ヘキスト社製 T−100〕上に、下記組成の接着層液
を塗布して乾燥し、受容材料を形成し、70℃の温度
で、転写材料と貼り合わせた。
ヘキスト社製 T−100〕上に、下記組成の接着層液
を塗布して乾燥し、受容材料を形成し、70℃の温度
で、転写材料と貼り合わせた。
【0241】 ベヘン酸銀 12.0部 ポリビニルアルコール 7.96部 (日本合成化学(株)製:ゴーセノールGL−05) ベヘン酸 0.04部 蒸留水 80.0部 この貼合材料を、円筒ドラム上に真空密着させ、発振波
長1060nmのYAGレーザーを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、転写材料を剥離することにより、像様
に露光部の転写層を受容材料上に潜像として形成した。
露光面の光強度は4W、ビーム径は1/2e値で10μ
m、送りピッチ10μmで転写を行なった。
長1060nmのYAGレーザーを用いて転写材料側か
ら像様に露光し、転写材料を剥離することにより、像様
に露光部の転写層を受容材料上に潜像として形成した。
露光面の光強度は4W、ビーム径は1/2e値で10μ
m、送りピッチ10μmで転写を行なった。
【0242】次いで、潜像形成された受容材料を、ヒー
トローラー(加熱温度160℃、搬送速度25mm/
秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理することによ
り、鮮明な透過濃度3.34の黒色ポジ画像が形成され
た。
トローラー(加熱温度160℃、搬送速度25mm/
秒、圧力1.5kg/cm)で加熱処理することによ
り、鮮明な透過濃度3.34の黒色ポジ画像が形成され
た。
【0243】
【発明の効果】本発明によれば、画像情報に応じてエネ
ルギーを加える簡便なドライ処理で、高濃度で保存性に
優れた画像を得ることができる。
ルギーを加える簡便なドライ処理で、高濃度で保存性に
優れた画像を得ることができる。
【図1】画像形成方法の工程図。
【図2】画像形成方法の工程図。
1 第1の支持体 2 転写層 2a 露光部分 2a′ 画像 2b 潜像 2b′ ポジ画像 3 受容層 4 第2の支持体 5 転写材料 6 受容材料 7 画像形成材料 8 第4の支持体 9 接着層 10 保護層転写材料 11 剥離層 12 第3の支持体 13 剥離材料
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B41M 5/26 D
Claims (23)
- 【請求項1】 第1の支持体上に顕色成分を含有する転
写層を設けた転写材料と、第2の支持体上に発色成分を
含有する受容層を設けた受容材料を、転写層側と受容層
側を対面するように設け、第1の支持体側から高密度エ
ネルギー光を像様に露光することによって、露光部の支
持体と転写層の結合力をアブレーションにより低下さ
せ、転写材料と受容材料を引き離して、転写層の露光部
を受容層上に転写し、画像を形成することを特徴とする
画像形成方法。 - 【請求項2】 第1の支持体上に発色成分を含有する転
写層を設けた転写材料と、第2の支持体上に顕色成分を
含有する受容層を設けた受容材料を、転写層側と受容層
側を対面するように設け、第1の支持体側から高密度エ
ネルギー光を像様に露光することによって、露光部の支
持体と転写層の結合力をアブレーションにより低下さ
せ、転写材料と受容材料を引き離して、転写層の露光部
を受容層上に転写し、画像を形成することを特徴とする
画像形成方法。 - 【請求項3】 転写層の露光部を受容層上に転写した
後、熱を付与することにより画像を形成することを特徴
とする請求項1又は2記載の画像形成方法。 - 【請求項4】 転写材料と受容材料が、あらかじめ転写
層側と受容層側で貼合されて用いられることを特徴とす
る請求項1又は2記載の画像形成方法。 - 【請求項5】 転写材料と受容材料が、露光前に転写層
側と受容層側で重ねられて用いられることを特徴とする
請求項1又は2記載の画像形成方法。 - 【請求項6】 第1の支持体上に顕色成分を含有する転
写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した剥離材
料を転写層側と対面するように設け、第1の支持体側か
ら高密度エネルギー光を像様に露光することによって、
露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーションによ
り低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、転写層
の露光部を剥離材料上に転写した後、転写材料の未露光
部の転写層と、第2の支持体上に発色成分を含有する受
容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画像を形
成することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項7】 第1の支持体上に発色成分を含有する転
写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した剥離材
料を転写層側と対面するように設け、第1の支持体側か
ら高密度エネルギー光を像様に露光することによって、
露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーションによ
り低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、転写層
の露光部を剥離材料上に転写した後、転写材料の未露光
部の転写層と、第2の支持体上に顕色成分を含有する受
容層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画像を形
成することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項8】 第1の支持体上に顕色成分を含有する転
写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した剥離材
料を転写層側と対面するように設け、第1の支持体側か
ら高密度エネルギー光を像様に露光することによって、
露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーションによ
り低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、転写層
の露光部を剥離材料上に転写した後、剥離材料の露光部
の転写層と、第2の支持体上に発色成分を含有する受容
層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画像を形成
することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項9】 第1の支持体上に発色成分を含有する転
写層を設けた転写材料と、第3の支持体を有した剥離材
料を転写層側と対面するように設け、第1の支持体側か
ら高密度エネルギー光を像様に露光することによって、
露光部の支持体と転写層の結合力をアブレーションによ
り低下させ、転写材料と剥離材料を引き離して、転写層
の露光部を剥離材料上に転写した後、剥離材料の露光部
の転写層と、第2の支持体上に顕色成分を含有する受容
層を有した受容材料の受容層側と重ね合わせ画像を形成
することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項10】 露光後の転写層と受容層を重ね合わせ
後、熱を付与することにより画像を形成することを特徴
とする請求項6〜9のいずれか1項記載の画像形成方
法。 - 【請求項11】 転写材料と剥離材料が、あらかじめ転
写層側で貼合されて用いられることを特徴とする請求項
6〜9のいずれか1項記載の画像形成方法。 - 【請求項12】 転写材料と剥離材料が、露光前に転写
層側で重ねられて用いられることを特徴とする請求項6
〜9のいずれか1項記載の画像形成方法。 - 【請求項13】 高密度エネルギー光としてレーザー光
を走査して画像露光することを特徴とする請求項1〜1
2のいずれか1項記載の画像形成方法。 - 【請求項14】 レーザー光が600〜1200nmの
波長であることを特徴とする請求項13記載の画像形成
方法。 - 【請求項15】 請求項1〜14のいずれか1項記載の
画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成分が
アンモニア又は1級アミンを放出させる化合物、発色成
分が放出されたアンモニア又は1級アミンにより吸収波
長の変化する化合物であることを特徴とする画像形成材
料。 - 【請求項16】 請求項1〜14のいずれか1項記載の
画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成分が
有機還元剤、発色成分が前記有機還元剤により発色する
銀源であることを特徴とする画像形成材料。 - 【請求項17】 請求項1〜14のいずれか1項記載の
画像形成方法に用いられる画像形成材料で、顕色成分が
ロイコ染料を加熱発色せしめる顕色剤、発色成分がロイ
コ染料であることを特徴とする画像形成材料。 - 【請求項18】 請求項1〜14のいずれか1項記載の
画像形成方法に用いられる画像形成材料で、転写層が光
吸収物質を含有することを特徴とする画像形成材料。 - 【請求項19】 光吸収物質が鉄、クロム、マンガン、
コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、銀、アルミニ
ウム、金、白金またはその酸化物の微粉末の少なくとも
1種から選ばれた金属含有粉末であることを特徴とする
請求項18記載の画像形成材料。 - 【請求項20】 光吸収物質が金属蒸着層であることを
特徴とする請求項18記載の画像形成材料。 - 【請求項21】 光吸収物質が二酸化チタン、カーボン
ブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウ
ム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウム
のクロム酸塩の少なくとも1種から選ばれた無機顔料で
あることを特徴とする請求項18記載の画像形成材料。 - 【請求項22】 光吸収物質がアゾ系、チオインジゴ
系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェ
ンジオキサジン系、バット染料系、フタロシアニン系、
キナクリドン系の顔料の少なくとも1種から選ばれた有
機顔料であることを特徴とする請求項18記載の画像形
成材料。 - 【請求項23】 光吸収物質が酸性染料、直接染料、分
散染料の少なくとも1種から選ばれた有機染料であるこ
とを特徴とする請求項18記載の画像形成材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10019023A JPH10319608A (ja) | 1997-03-18 | 1998-01-30 | 画像形成方法およびそれに用いられる材料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-64417 | 1997-03-18 | ||
| JP6441797 | 1997-03-18 | ||
| JP10019023A JPH10319608A (ja) | 1997-03-18 | 1998-01-30 | 画像形成方法およびそれに用いられる材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10319608A true JPH10319608A (ja) | 1998-12-04 |
Family
ID=26355810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10019023A Pending JPH10319608A (ja) | 1997-03-18 | 1998-01-30 | 画像形成方法およびそれに用いられる材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10319608A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7618768B2 (en) | 2003-08-04 | 2009-11-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of forming micropattern, method of manufacturing optical recording medium master copy, optical recording medium master copy, optical recording medium stamper, and optical recording medium |
| JP2011203232A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-10-13 | Jsr Corp | マイクロアレイ用基板の製造方法、感放射線性組成物、マイクロアレイ用基板の隔壁、バイオチップの製造方法及びバイオチップ |
| JP2012186172A (ja) * | 2005-10-07 | 2012-09-27 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 放射線硬化型熱転写素子 |
-
1998
- 1998-01-30 JP JP10019023A patent/JPH10319608A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7618768B2 (en) | 2003-08-04 | 2009-11-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of forming micropattern, method of manufacturing optical recording medium master copy, optical recording medium master copy, optical recording medium stamper, and optical recording medium |
| JP2012186172A (ja) * | 2005-10-07 | 2012-09-27 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 放射線硬化型熱転写素子 |
| JP2011203232A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-10-13 | Jsr Corp | マイクロアレイ用基板の製造方法、感放射線性組成物、マイクロアレイ用基板の隔壁、バイオチップの製造方法及びバイオチップ |
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