JPH10321541A

JPH10321541A - 縦型ウエハ熱処理装置

Info

Publication number: JPH10321541A
Application number: JP14305997A
Authority: JP
Inventors: Atsuro Miyao; 敦朗宮尾
Original assignee: Toshiba Ceramics Co Ltd
Current assignee: Coorstek KK
Priority date: 1997-05-15
Filing date: 1997-05-15
Publication date: 1998-12-04

Abstract

(57)【要約】【課題】各ウエハに対する熱環境をほぼ同一にさせる
ことにより、スリップの発生を防止させるようにするこ
と。【解決手段】ウエハを積載支持する複数のウエハ積載
用支持盤７２をそれぞれ縦方向に配列した縦型ウエハボ
ート７と、このウエハボート７の各ウエハ積載用支持盤
７２の間に位置し、ウエハ積載用支持盤に積載されたウ
エハ５を加熱するための複数の面状の発熱体８２をそれ
ぞれ縦方向に配列した縦型加熱治具８とが炉芯管２によ
って覆われる。炉芯管２内におけるウエハボートのウエ
ハ積載用支持盤７２と、加熱治具の発熱体８２とが縦方
向に交互に位置するように構成され、各ウエハ５に対す
る熱環境をほぼ同一にすることができるので、ウエハに
対するスリップの発生を防止させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造におい
てウエハの熱処理工程に使用される縦型ウエハ熱処理装
置に関し、特に複数のウエハ積載用支持盤が縦型に配置
された縦型ウエハボートと複数の発熱体が縦型に配置さ
れた縦型加熱治具とを組み合わせた縦型ウエハ熱処理装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工程における拡散工程等では
熱処理炉が用いられ、半導体ウエハに対して高温熱処理
がなされる。このように半導体ウエハに対して熱処理を
施すための熱処理炉においては、縦型あるいは横型の形
式のものが提供されている。図１１は、縦型ウエハ熱処
理炉の一例を断面状態で示したものであり、この縦型ウ
エハ熱処理炉１００は、高純度な石英ガラス等からなる
炉芯管２００と、前記炉芯管２００の上部における導入
口３００ａからウエハ５の熱処理用のガスを導入するた
めのガス導入管３００と、前記炉芯管２００の外周部に
設けられ、前記炉芯管２００を高温度に加熱するための
環状ヒータ４００と、前記ウエハ５を縦方向に配置され
た支柱の溝に係合して保持する縦型ウエハボート６００
と、前記ウエハボート６００が載置される保温筒７００
とにより構成されている。

【０００３】このように構成された縦型ウエハ熱処理炉
においては、ウエハ５が収納されたウエハボート６００
を保温筒７００の上面に載置し、前記保温筒７００を炉
芯管２００の下方部から挿入し、所定の位置に配置す
る。そして、前記炉芯管２００の外周部に配置したヒー
タ４００により、炉芯管２００内部のウエハ５を加熱す
ると共に、熱処理ガスをガス導入管３００より供給して
ウエハ５に所定の熱処理を施す。尚、前記保温筒７００
は、炉芯管２００の内部の温度分布を均一になすもので
ある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記したよ
うな縦型ウエハ熱処理炉は、ウエハを加熱するためのヒ
ータが炉芯管の外部に設けられているという、いわゆる
外部加熱方式であるため、ウエハを載置したウエハボー
トを加熱状態の炉芯管内に挿入するときや、炉芯管から
取り出すときに、ウエハ面内に温度差が発生し、スリッ
プと呼ばれる結晶欠陥を発生させる原因となっていた。
また、ウエハボートを炉芯管へ出し入れするときに、ウ
エハボートの上部と下部とでは載置されたウエハの熱環
境が異なる。例えば１０００℃でウエハを熱処理する場
合、６００℃〜８００℃の炉芯管内にウエハが載置され
たウエハボートを挿入し、その後炉芯管内の温度を１０
００℃まで昇温させ、ウエハに対して所定の熱処理が行
われる。このため、ウエハボート上部に載置されたウエ
ハは炉芯管内に先に挿入され、ウエハボート下部に載置
されたウエハは後から炉芯管内に挿入されることにな
る。またウエハボートを炉芯管外に出す場合には、前記
した場合とは逆に、ウエハボート下部に載置されたウエ
ハから炉芯管外に取出され、ウエハボート上部に載置さ
れたウエハは後から炉芯管外に取出されることとなる。
即ち、ウエハボート上部に載置されたウエハは先に炉芯
管内に挿入され、後から炉芯管外に取出されることにな
り、またウエハボート下部に載置されたウエハは後から
炉芯管内に挿入され、先に炉芯管外に取出されることに
なる。そのため、ウエハに対する均一な熱処理を施すこ
とが困難であるという技術的課題があった。

【０００５】さらに、近年の半導体の高集積化に伴いウ
エハの大口径化が進み、従来のように支柱に形成した溝
部でウエハの端部を支持する形式のウエハボートを用い
た場合には、ウエハの自重によりたわみが発生し、これ
に起因して結晶構造上のスリップが発生するという技術
的課題を抱えていた。

【０００６】本発明は前記したような技術的課題を解決
するためになされたものであり、炉芯管に対してウエハ
ボートを出し入れするときに、ウエハに与える急激な温
度変化を抑制させると共に、ウエハボートの上部と下部
に支持されたウエハに対する熱環境をほぼ同一となるよ
うにして、多数のウエハに対して均一な熱処理を同時に
行うことができる縦型ウエハ熱処理装置を提供すること
を目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
になされた本発明にかかる縦型ウエハ熱処理装置は、ウ
エハを面支持する複数のウエハ積載用支持盤をそれぞれ
縦方向に配列した縦型ウエハボートと、ウエハ積載用支
持盤に積載されたウエハを加熱するための複数の発熱体
をそれぞれ縦方向に配列した縦型加熱治具と、前記縦型
ウエハボートおよび縦型加熱治具とを覆い、所定の雰囲
気中で熱処理を行う炉芯管とが具備され、前記炉芯管内
におけるウエハボートのウエハ積載用支持盤と、加熱治
具の発熱体とが縦方向に交互に位置するように組合せて
構成される。

【０００８】この場合、前記縦型ウエハボ−ドは複数の
各ウエハ積載用支持盤を１本の支柱により支持されてい
るのが望ましい。そして、前記ウエハボートに積載支持
されるウエハに対して、前記発熱体が縦方向から見て前
記ウエハの外形を包囲する形状に成されていることが望
ましい。また好ましい実施の形態においては、前記縦型
加熱治具は、複数の発熱体をそれぞれ一対の導電性支柱
によって支持するように構成され、かつ各発熱体がそれ
ぞれ面状に成される。

【０００９】また好ましい実施の形態においては、前記
加熱治具における一対の導電性支柱が底盤上に樹立さ
れ、前記底盤が通電用端子を備えた台座に載置されて各
発熱体に対して電流が供給されるように構成される。

【００１０】さらにまた好ましい実施の形態において
は、前記縦型ウエハボートおよび縦型加熱治具の底盤に
は、その両者または一方に台座が配置され、前記ウエハ
積載用支持盤を前記一対の導電性支柱に対して直交する
方向から挿入するすることにより、前記台座の高さに応
じて前記ウエハ積載用支持盤に積載されたウエハと、前
記加熱治具の発熱体との距離が選定できるように構成さ
れる。さらにまた好ましい実施の形態においては、同一
平面内に複数のウエハ積載用支持盤を備える縦型ウエハ
ボートおよび縦型加熱治具の底盤には、その両者または
一方に台座が配置され、前記縦型加熱治具の底盤を、そ
れぞれのウエハ積載用支持盤のウエハ挿入方向から挿入
することにより、前記台座の高さに応じて前記ウエハ積
載用支持盤に積載されたウエハと、前記加熱治具の発熱
体との距離が選定できるように構成される。そして、前
記したウエハ積載用支持盤は、支柱を中心とした同一平
面内で複数のウエハを支持するように構成することもで
きる。

【００１１】以上のように構成された本発明にかかる縦
型ウエハ熱処理装置によると、縦型ウエハボートと縦型
加熱治具とを炉芯管内に配置させると共に、炉芯管内に
おけるウエハボートのウエハ積載用支持盤と、加熱治具
の発熱体とが縦方向に交互に位置するように構成させた
ので、各ウエハ積載用支持盤よって支持されるウエハに
対する加熱環境を揃えることができ、多数のウエハに対
して均一な熱処理を同時に行うことができる。また、各
ウエハ積載用支持盤を、ウエハ面を支持する面支持型に
構成することで、前記した作用効果に加え、大口径のウ
エハにおける反り現象等の発生を効果的に抑制すること
ができ、これにより結晶構造上のスリップの発生を防止
することができる。

【００１２】そして、前記ウエハボートに積載支持され
るウエハに対して、前記発熱体が縦方向から見て前記ウ
エハの外形を包囲する形状に構成させることで、ウエハ
の全面にわたって発熱体による加熱作用をむらなく与え
ることができる。また縦型加熱治具は、複数の面状の発
熱体をそれぞれ一対の支柱によって支持するように成
し、かつ一対の支柱が底盤上に樹立されて、通電用端子
を備えた台座より電流供給がなされる構成とすること
で、発熱体に対する電流供給路の構成を簡素化させるこ
とができる。さらに、加熱治具の発熱体をそれぞれ一対
の支柱によって支持するように構成し、前記複数のウエ
ハ積載用支持盤は一本の支柱により片持ち形式で支持す
るように構成することで、発熱体を支持する一対の支柱
を結ぶ線に対して直交する方向からウエハ積載用支持盤
を挿入することができ、その取り扱いを容易にできる。

【００１３】さらにまた、ウエハボートの底盤、縦型加
熱治具の底盤のいずれか一方または双方に台座を配置さ
せた構成とすることで、台座の高さに応じてウエハ積載
用支持盤に積載されたウエハと、加熱治具の発熱体との
距離を適宜選定することができる。また、前記縦型ウエ
ハボートおよび縦型加熱治具は、昇降可能な基台上に直
接あるいは台座を介して載置され、前記基台の移動によ
って前記縦型ウエハボートと縦型加熱治具とを炉芯管内
に収納、または取り出すように構成することで、収納、
取出し時におけるウエハ面内の温度差を抑制することが
でき、スリップの発生を防止することができる。そして
また、前記したウエハ積載用支持盤は、支柱を中心とし
た同一平面内で複数のウエハを支持するように構成する
ことで、多量のウエハに対して同一条件で熱処理を施す
ことが可能となる。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明にかかる縦型ウエハ熱処理
装置について、実施の形態に基づいて説明する。先ず、
図１は縦型ウエハ熱処理炉を縦断面図で示したものであ
る。この図１において、符号１は縦型ウエハ熱処理炉を
示し、この縦型ウエハ熱処理炉１は石英ガラス、ＳｉＣ
又はカーボン等の材質からなる円筒状の炉芯管２を有す
る。前記炉芯管２には、ウエハ５に対して熱処理を施す
ための所定の熱処理用ガスＧを、炉芯管２内の上方から
導入するガス導入管３が配置されている。また炉芯管２
の下部側壁には、前記ガス導入管３から導入された熱処
理用ガスＧを炉芯管２の外部へ排出するためのガス排出
管４が配置されている。

【００１５】そして、炉芯管２内には後述する縦型ウエ
ハボート７および縦型加熱治具８とが、前記炉芯管２と
基台６とによって形成された反応空間域内に配置される
ように成されている。この基台６は従来技術で説明した
保温筒７００の機能を備えるのが好ましい。なお、図示
していないが、前記基台６には、昇降機構が取り付けら
れており、前記基台６を昇降させることにより、前記縦
型ウエハボート７および縦型加熱治具８を炉芯管２内に
収納または取り出しができるように成されている。この
ように、基台６の昇降によって、縦型ウエハボート７お
よび縦型加熱治具８を炉芯管２内に、同時に収納でき、
また同時に取り出すことができるため、ウエハ面内の温
度差の発生を抑制でき、スリップを防止することができ
る。また、本発明の縦型ウエハ熱処理装置においては、
縦型ウエハボ−ト及び縦型加熱治具と炉芯管の間に、従
来公知のインナ−チュ−ブと呼ばれる均熱管を介在させ
た構造としても良い。

【００１６】図２は前記縦型加熱治具８の全体構成を示
したものであり、複数の面状の発熱体８２が、それぞれ
対向する一対の支柱８１によって支持されている。これ
ら面状の発熱体８２は、前記一対の支柱８１によって上
下に等間隔で、それぞれの面が水平となるようにして所
定の間隙をおいて配置した構成とされている。そして前
記一対の支柱８１は、それぞれ円盤の中央部を平行状態
に削除した形態の２分割底盤８４上に樹立されている。
図４の説明において後述するが、前記一対の底盤８４
は、図１に示すように台座８３上に載置され、この台座
８３は前記基台６上に載置されて共に炉芯管２内に収納
されている。なお図２に示した状態においては、前記発
熱体８２は単に円盤状に描かれているが、これは後述す
るように交互にスリットが施されて蛇行状の一連の抵抗
発熱体が形成されている。

【００１７】一方、前記縦型ウエハボート７は、図１に
示すように複数のウエハ積載用支持盤７２を一本の支柱
７１により片持ち形式で支持するように構成されてお
り、各ウエハ積載用支持盤７２は、支柱７１によってそ
れぞれの面が水平となるようにして所定の間隙をおいて
配置した構成とされている。そして、各ウエハ積載用支
持盤７２の中央部上面にウエハ５が面支持されるように
成されている。なお、この面支持は図８（ａ）乃至
（ｃ）に示すようにウエハ裏面全体を支持する場合のみ
ならず、例えば図８（ｄ）に示すようにウエハ裏面の外
周側端部のみをほぼ全周に渡って面支持する場合も意味
する。支持盤７２を片持ち形式で支持する前記支柱７１
は、底盤７４上に樹立されており、この底盤７４は図１
に示すように台座７３上に載置され、この台座７３は前
記基台６上に載置されて共に炉芯管２内に収納されてい
る。図１に示した状態で理解されるとおり、炉芯管２内
におけるウエハボートのウエハ積載用支持盤７２と、加
熱治具の発熱体８２とが縦方向に交互に位置するように
構成されている。

【００１８】図３は図１におけるＡ−Ａ切断線を矢印方
向に視た断面図であり、ウエハ積載用支持盤７２と面状
の発熱体８２との位置関係を示したものである。この図
３に示すように前記ウエハ積載用支持盤７２上に積載支
持されるウエハ５に対して前記発熱体８２の形状が、縦
方向から見て前記ウエハ５の外形を包囲するように成さ
れている。すなわちウエハ５に対して発熱体８２は十分
に広い発熱面積を備えるように成されており、このよう
な関係によりウエハ５に対してむらのない加熱処理を施
すことができる。

【００１９】次に図４および図４におけるＢ−Ｂ切断線
を矢印方向に視た図５として示す断面図は、前記ウエハ
ボート７の底盤７４部分、および加熱治具８の底盤８４
部分の配置関係を示したものである。前記加熱治具８に
おける一対の底盤８４は、台座８３上に搭載されてい
る。この台座８３は外形形態が円盤状に成され、その中
央部に一方向からの切除部８３ａが施されて馬蹄形の形
態を有している。そして、台座８３に形成された半月状
の凹嵌部に前記加熱治具８の一対の底盤８４が嵌合され
る。また台座８３の前記切除部８３ａには、ウエハボー
ト７の底盤７４が収納される。

【００２０】なお、ウエハボート７の底盤７４は図１に
示したように台座７３に載置されており、図４には示さ
れていないが、台座８３の前記切除部８３ａには、ウエ
ハボート７の底盤７４と共にウエハボート７の台座７３
も収納される。したがって、図１に示すように加熱治具
８を載置する有効高さｈ１を有する台座８３、またはウ
エハボート７を載置する有効高さｈ２を有する台座７３
のいずれか一方、または双方を入れ替えることにより、
前記高さｈ１およびｈ２の関係を変えることができる。
よって、加熱治具８の台座８３またはウエハボート７の
台座７３を選定することで、ウエハ積載用支持盤７２と
発熱体８２との上下の距離ａ，ｂを適宜選定することが
できる。

【００２１】また図５に示すように、前記加熱治具８の
台座８３には一対の端子導入穴８３ｂが設けられてお
り、この端子導入穴８３ｂにはそれぞれ通電用端子８３
ｃが嵌合されている。これら通電用端子８３ｃにはそれ
ぞれ接続線８３ｄが導出されており、この接続線８３ｄ
は図示していないが、前記基台６を機密状態で貫通して
外部より電流の供給が受けられるように構成されてい
る。したがって加熱治具８の前記台座８３は絶縁体であ
ることが好ましく、特に石英ガラス、Ａｌ₂Ｏ₃によっ
て形成されていることがより好ましい。一方、前記台座
８３に嵌まり込む加熱治具８の底盤８４には、それぞれ
接触端子８４ａが具備されており、これら接触端子８４
ａを介して前記各発熱体８２に対して通電されるように
構成されている。

【００２２】なお、縦型加熱治具８における複数の発熱
体８２を前記したようにそれぞれ一対の支柱８１によっ
て支持するように構成し、かつ前記縦型ウエハボート７
は複数のウエハ積載用支持盤７２を一本の支柱７１によ
り片持ち形式で支持するように構成したので、発熱体を
支持する一対の支柱を結ぶ線ｌ−ｌ（図４）に対して直
交する方向（矢印Ｃ）から前記ウエハ積載用支持盤７２
を挿入することができる。このような構成とすることに
より加熱治具８と縦型ウエハボート７との取り扱いを容
易にすることができ、その両者を炉芯管２内にコンパク
トに納めることができる。

【００２３】図６は前記した面状発熱体の構成を平面図
で示したものである。この面状発熱体８２は、交互にス
リット８５が切り込まれて蛇行状の一連の抵抗発熱体を
形成しており、それぞれの端部において一対の支柱８１
によって支持されている。そして導電性支柱８１を介し
て発熱体８２に対して電流が供給されるように構成され
ている。すなわち、図７に等化回路で示すように各発熱
体８２は、抵抗体Ｒ１乃至Ｒｎとして示すことができ、
これらの抵抗体Ｒ１乃至Ｒｎは支柱８１間で互いに並列
に接続され、外部より電流が供給されるように成され
る。前記した各面状発熱体８２を含む縦型加熱治具８
は、Ｓｉ、Ｃ、ＳｉＣ又はこれらの組み合わせによって
構成されていることが好ましく、また、溶接、組立式又
は一体形成のものであっても良い。さらに、面状発熱体
８２の表面等には、必要に応じて、保護膜を被覆するよ
うにされる。

【００２４】図８はウエハ積載用支持盤７２の外観構成
を示したものである。図８（ａ）に示すように支持盤７
２の上面中央には、円形状の凹陥部７２ａが形成されて
おり、ウエハの周側縁がこの凹陥部７２ａが嵌まり込む
ように構成されている。そして、凹陥部７２ａの底面は
ほぼ平面状態と成され、ウエハはこの凹陥部７２ａの底
面によって支持される面支持型に成されている。そし
て、支持盤７２にはウエハの出し入れが容易にできるよ
うにするために、凹陥部７２ａの底面の一部に溝部７２
ｂが施されている。

【００２５】図８（ｂ）は支持盤７２の他の形態を示し
たものである。この例においては、凹陥部７２ａの底面
の一部に、溝部７２ｂの代わりにスリット状の切り込み
７２ｃが施されている。また図８（ｃ）はさらに支持盤
７２の他の形態を示したものであり、この例は前記
（ａ）（ｂ）に比較して凹陥部７２ａの底面と面一のリ
ード部を省略したものである。また、図８（ｄ）は、図
８（ｃ）に示される支持盤７２の中心部分に切り込み７
２ｃと連設された穴部７２ｄが形成され、ウエハ裏面の
外周側端部のみをほぼ全周に渡って面支持するように形
成したものである。このウエハ積載用支持盤７２を含む
ウエハボート７は、Ａｌ₂Ｏ₃、ＡｌＮ、Ｃ、石英ガラ
ス、ＳｉＣ又はこれらの組み合わせによって構成されて
いることが好ましく、溶接、一体成形又は組立式のもの
であっても良い。また、必要に応じて、ウエハボート７
は保護膜で被覆するようにされる。

【００２６】図９および図１０は、ウエハ積載用支持盤
７２の他の形態を示したものである。すなわち図９に示
す例は、支柱７１を中心にして１２０°の間隔で、同一
平面内の３か所に支持盤７２を設けたものである。また
図１０に示す例は、支柱７１を中心として４つの支持盤
７２を十字状に配置させたものである。尚、図１０にお
いて仮想線で示すように、それぞれのウエハ積載用支持
盤７２に対して縦型加熱治具８を使用することによっ
て、即ち、一台のウエハボート７に対して４台の縦型加
熱治具８を組み合わせて使用することによって、一度の
熱処理工程におけるウエハの処理量を増加させることが
できる。このとき、前記縦型加熱治具の底盤を、それぞ
れのウエハ積載用支持盤のウエハ挿入方向から挿入する
ことにより、両者を組み合わせて使用することができ
る。同様に、図９に示されるウエハボート７に対して３
台の縦型加熱治具８を組み合わせて使用することによっ
て、一度の熱処理工程におけるウエハの処理量を増加さ
せることができる。

【００２７】

【発明の効果】以上のように、本発明にかかる縦型ウエ
ハ熱処理装置によると、炉芯管内に縦型加熱治具を収納
した内部加熱方式を採用し、加熱治具にはウエハ積載用
支持盤に積載されたウエハを加熱するための複数の発熱
体をそれぞれ縦方向に配列させた構成としたので、ウエ
ハ積載用支持盤と発熱体とが縦方向に交互に位置するよ
うに配列され、したがって各ウエハに対する熱環境をほ
ぼ同一にさせることができる。したがって、炉芯管に対
してウエハボートを出し入れするとき等に、ウエハの面
内に温度差を与えることに起因するスリップの発生を効
果的に防止させることができる。

【００２８】また、ウエハボートの上部と下部に支持さ
れたウエハに対する熱履歴をほぼ同一とすることができ
るので、ウエハに対する熱履歴も揃えることが可能とな
り、各ウエハに対して均一な熱処理を施すことができ、
半導体の歩留りを向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる縦型ウエハ熱処理装置の縦断面
図である。

【図２】図１に示す装置に用いられる縦型加熱治具を示
した斜視図である。

【図３】図１におけるＡ−Ａ切断線から矢印方向に視た
断面図である。

【図４】図１の装置における台座部分のの斜視図であ
る。

【図５】図３におけるＢ−Ｂ切断線から矢印方向に視た
断面図である。

【図６】図２に示す縦型加熱治具に具備される面状発熱
体の平面図である。

【図７】図２に示す縦型加熱治具の等価回路を示す図で
ある。

【図８】縦型ウエハボートに具備されるウエハ積載用支
持盤の例を示す斜視図である。

【図９】ウエハ積載用支持盤の他の例を示す平面図であ
る。

【図１０】ウエハ積載用支持盤のさらに他の例を示す平
面図である。

【図１１】従来の熱処理炉の一例を示した断面図であ
る。

【符号の説明】

１縦型ウエハ熱処理装置２炉芯管３ガス導入管４ガス排出管５ウエハ６基台７ウエハボート７１支柱７２ウエハ積載用支持盤７３台座７４底盤８縦型加熱治具８１支柱８２面状発熱体８３台座８４底盤Ｇ熱処理ガス

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウエハを面支持する複数のウエハ積載用
支持盤をそれぞれ縦方向に配列した縦型ウエハボート
と、ウエハ積載用支持盤に積載されたウエハを加熱するため
の複数の発熱体をそれぞれ縦方向に配列した縦型加熱治
具と、前記縦型ウエハボートおよび縦型加熱治具とを覆い、所
定の雰囲気中で熱処理を行う炉芯管とが具備され、前記炉芯管内におけるウエハボートのウエハ積載用支持
盤と、加熱治具の発熱体とが縦方向に交互に位置するよ
うに組合せて構成したことを特徴とする縦型ウエハ熱処
理装置。
【請求項２】前記縦型ウエハボ−トは、複数のウエハ
積載用支持盤を１本の支柱により片持ちで支持されてい
ることを特徴とする請求項１に記載の縦型ウエハ熱処理
装置。
【請求項３】前記ウエハボートに積載支持されるウエ
ハに対して、前記発熱体が縦方向から見て前記ウエハの
外形を包囲する形状に成されていることを特徴とする請
求項１または請求項２に記載の縦型ウエハ熱処理装置。
【請求項４】前記縦型加熱治具は、複数の発熱体をそ
れぞれ一対の導電性支柱によって支持するように構成さ
れ、かつ各発熱体がそれぞれ面状に成されていることを
特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の縦
型ウエハ熱処理装置。
【請求項５】前記加熱治具における一対の導電性支柱
が底盤上に樹立され、前記底盤が通電用端子を備えた台
座に載置されて各発熱体に対して電流が供給されるよう
に構成されていることを特徴とする請求項４に記載の縦
型ウエハ熱処理装置。
【請求項６】前記縦型ウエハボートおよび縦型加熱治
具の底盤には、その両者または一方に台座が配置され、
前記ウエハ積載用支持盤を前記一対の支柱に対して直交
する方向から挿入することにより、前記台座の高さに応
じて前記ウエハ積載用支持盤に積載されたウエハと、前
記加熱治具の発熱体との距離が選定できるように構成さ
れたことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか
に記載の縦型ウエハ熱処理装置。
【請求項７】同一平面内に複数のウエハ積載用支持盤
を備える縦型ウエハボートおよび縦型加熱治具の底盤に
は、その両者または一方に台座が配置され、前記縦型加
熱治具の底盤を、それぞれのウエハ積載用支持盤のウエ
ハ挿入方向から挿入することにより、前記台座の高さに
応じて前記ウエハ積載用支持盤に積載されたウエハと、
前記加熱治具の発熱体との距離が選定できるように構成
されたことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれ
かに記載の縦型ウエハ熱処理装置。
【請求項８】前記ウエハ積載用支持盤は、支柱を中心
とした同一平面内で複数のウエハを支持するように構成
したことを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか
に記載の縦型ウエハ熱処理装置。