JPH10328618A - 陰極線管 - Google Patents
陰極線管Info
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- JPH10328618A JPH10328618A JP14151997A JP14151997A JPH10328618A JP H10328618 A JPH10328618 A JP H10328618A JP 14151997 A JP14151997 A JP 14151997A JP 14151997 A JP14151997 A JP 14151997A JP H10328618 A JPH10328618 A JP H10328618A
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- resin film
- average molecular
- vinyl
- ray tube
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラスパネル内面に蛍光膜を形成する際に多
量の水を使用せずに、短時間の作業で形成可能であり、
かつ、かぶりのない、きれいな蛍光膜を有する陰極線管
を提供する。 【解決手段】 ガラスパネル内面に設けられた樹脂膜上
に蛍光体を静電的に塗装することにより形成された蛍光
膜を有する陰極線管であって、該樹脂膜が、実質的にベ
ンゼン環を含まない重量平均分子量(Mw)5万以上で
あり、かつ重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(M
n)との比(Mw/Mn)で表される分子量分布が5以
上のビニル系(共)重合体から形成されている。
量の水を使用せずに、短時間の作業で形成可能であり、
かつ、かぶりのない、きれいな蛍光膜を有する陰極線管
を提供する。 【解決手段】 ガラスパネル内面に設けられた樹脂膜上
に蛍光体を静電的に塗装することにより形成された蛍光
膜を有する陰極線管であって、該樹脂膜が、実質的にベ
ンゼン環を含まない重量平均分子量(Mw)5万以上で
あり、かつ重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(M
n)との比(Mw/Mn)で表される分子量分布が5以
上のビニル系(共)重合体から形成されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管に関す
る。
る。
【0002】
【従来の技術】従来、シャドウマスク型カラーブラウン
管において、青、緑、赤の三原色の蛍光膜は、ポリビニ
ルアルコール及び重クロム酸アンモニウムからなる水溶
液に蛍光体を分散させた懸濁液をガラスパネルにフロー
コートにより塗布し、乾燥した後、得られた塗布膜に所
定のパターンを有するシャドウマスクをフォトマスクと
して露光し、温水シャワーによって現像することにより
形成している(特開昭55−28256号公報)。この
ようなフローコート法は、蛍光面の膜厚を均一にするた
めに好適な方法である。即ち、蛍光体の付着量の制御が
容易であって、現在最も広く適用されている蛍光膜の形
成方法である。
管において、青、緑、赤の三原色の蛍光膜は、ポリビニ
ルアルコール及び重クロム酸アンモニウムからなる水溶
液に蛍光体を分散させた懸濁液をガラスパネルにフロー
コートにより塗布し、乾燥した後、得られた塗布膜に所
定のパターンを有するシャドウマスクをフォトマスクと
して露光し、温水シャワーによって現像することにより
形成している(特開昭55−28256号公報)。この
ようなフローコート法は、蛍光面の膜厚を均一にするた
めに好適な方法である。即ち、蛍光体の付着量の制御が
容易であって、現在最も広く適用されている蛍光膜の形
成方法である。
【0003】しかしながら、上記フローコート法は、蛍
光体を分散させた懸濁液を、三原色の色毎にガラスパネ
ルに塗布、乾燥、露光、温水シャワー洗浄の繰り返し作
業により現像するため、多量の水を必要とする上に、蛍
光膜の形成に時間がかかる等の問題点があった。
光体を分散させた懸濁液を、三原色の色毎にガラスパネ
ルに塗布、乾燥、露光、温水シャワー洗浄の繰り返し作
業により現像するため、多量の水を必要とする上に、蛍
光膜の形成に時間がかかる等の問題点があった。
【0004】また、スチレン系重合体のトルエン溶液を
ガラスパネルにスピンコートして乾燥した後、得られた
樹脂膜面を帯電させる。次いで、帯電した樹脂膜面に、
所定のパターンを有するシャドウマスクをフォトマスク
として露光した後、シャドウマスクを外して静電的に蛍
光体を三原色(赤、緑、青)の色順に粉体塗装して、焼
き付けることにより、蛍光膜を形成する方法も行われて
いる。
ガラスパネルにスピンコートして乾燥した後、得られた
樹脂膜面を帯電させる。次いで、帯電した樹脂膜面に、
所定のパターンを有するシャドウマスクをフォトマスク
として露光した後、シャドウマスクを外して静電的に蛍
光体を三原色(赤、緑、青)の色順に粉体塗装して、焼
き付けることにより、蛍光膜を形成する方法も行われて
いる。
【0005】しかしながら、上記スピンコートによる塗
布法は、樹脂膜面の帯電性が不十分であるため、蛍光体
の飛散が発生し、かぶりのない蛍光膜が形成できなくな
ったり、焼成時にベンゼン環が残りきれいな蛍光膜が得
られない等の問題点があった。
布法は、樹脂膜面の帯電性が不十分であるため、蛍光体
の飛散が発生し、かぶりのない蛍光膜が形成できなくな
ったり、焼成時にベンゼン環が残りきれいな蛍光膜が得
られない等の問題点があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
に鑑み、ガラスパネル内面に蛍光膜を形成する際に多量
の水を使用せずに、短時間の作業で形成可能であり、か
つ、かぶりのない、きれいな蛍光膜を有する陰極線管を
提供することにある。
に鑑み、ガラスパネル内面に蛍光膜を形成する際に多量
の水を使用せずに、短時間の作業で形成可能であり、か
つ、かぶりのない、きれいな蛍光膜を有する陰極線管を
提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の陰極線管は、ガ
ラスパネル内面に設けられた樹脂膜上に蛍光体を静電的
に塗装することにより形成された蛍光膜を有する陰極線
管であって、該樹脂膜が、実質的にベンゼン環を含まな
い重量平均分子量(Mw)5万以上であり、かつ重量平
均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw
/Mn)で表される分子量分布が5以上のビニル系
(共)重合体から形成されていることを特徴とする。
ラスパネル内面に設けられた樹脂膜上に蛍光体を静電的
に塗装することにより形成された蛍光膜を有する陰極線
管であって、該樹脂膜が、実質的にベンゼン環を含まな
い重量平均分子量(Mw)5万以上であり、かつ重量平
均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw
/Mn)で表される分子量分布が5以上のビニル系
(共)重合体から形成されていることを特徴とする。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
用いられるビニル系(共)重合体としては、ビニル系単
量体(a)の単独重合体又は共重合体、及び、ビニル系
単量体(a)とその他のビニル系単量体(b)との共重
合体が挙げられる。上記ビニル系単量体(a)として
は、アクリル酸エステル単量体又は(メタ)アクリル酸
エステル単量体が好ましい。
用いられるビニル系(共)重合体としては、ビニル系単
量体(a)の単独重合体又は共重合体、及び、ビニル系
単量体(a)とその他のビニル系単量体(b)との共重
合体が挙げられる。上記ビニル系単量体(a)として
は、アクリル酸エステル単量体又は(メタ)アクリル酸
エステル単量体が好ましい。
【0009】上記アクリル酸エステル単量体としては、
例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸ドデシ
ル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ステア
リルなどが挙げられ、これらは単独で使用されてもよ
く、二種以上が併用されてもよい。
例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸ドデシ
ル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ステア
リルなどが挙げられ、これらは単独で使用されてもよ
く、二種以上が併用されてもよい。
【0010】上記メタクリル酸エステル単量体として
は、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、
メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸n−オクチル、
メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ステアリル等が挙
げられ、これらは単独で使用されてもよく、二種以上が
併用されてもよい。
は、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、
メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸n−オクチル、
メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ステアリル等が挙
げられ、これらは単独で使用されてもよく、二種以上が
併用されてもよい。
【0011】上記アクリル酸エステル単量体又はメタク
リル酸エステル単量体以外のビニル系単量体(a)とし
て、例えば、アクリル酸2−クロルエチル、α−クロル
アクリル酸メチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸
2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸グリシジル、ビス
グリシジルメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
メタクリレート、メタクリロキシエチルホスフェート等
も使用可能である。
リル酸エステル単量体以外のビニル系単量体(a)とし
て、例えば、アクリル酸2−クロルエチル、α−クロル
アクリル酸メチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸
2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸グリシジル、ビス
グリシジルメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
メタクリレート、メタクリロキシエチルホスフェート等
も使用可能である。
【0012】上記ビニル系単量体(a)の中で、特に、
アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブ
チル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチルが好ましい。
アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブ
チル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチルが好ましい。
【0013】上記その他のビニル系単量体(b)として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、α−エチルア
クリル酸、クロトン酸等のアクリル酸、及びそのα−又
はβ−アルキル誘導体;フマル酸、マレイン酸、シトラ
コン酸、イタコン酸、等の不飽和ジカルボン酸、及びそ
のモノエステル誘導体又はジエステル誘導体;コハク酸
モノアクリロイルオキシエチルエステル、コハク酸モノ
メタクリロイルオキシエチルエステル、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、アクリルアミドなどのベンゼ
ン環を含まないものが挙げられる。
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、α−エチルア
クリル酸、クロトン酸等のアクリル酸、及びそのα−又
はβ−アルキル誘導体;フマル酸、マレイン酸、シトラ
コン酸、イタコン酸、等の不飽和ジカルボン酸、及びそ
のモノエステル誘導体又はジエステル誘導体;コハク酸
モノアクリロイルオキシエチルエステル、コハク酸モノ
メタクリロイルオキシエチルエステル、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、アクリルアミドなどのベンゼ
ン環を含まないものが挙げられる。
【0014】本発明で実質的にベンゼン環を含まないと
は、上記ビニル系(共)重合体の構成成分中におけるベ
ンゼン環の含有量が3重量%未満であることを意味し、
好ましくは0.5重量%未満である。ベンゼン環の含有
量が多くなると、焼成時に残渣が残り、きれいな蛍光面
が得られないことがあるので好ましくない。
は、上記ビニル系(共)重合体の構成成分中におけるベ
ンゼン環の含有量が3重量%未満であることを意味し、
好ましくは0.5重量%未満である。ベンゼン環の含有
量が多くなると、焼成時に残渣が残り、きれいな蛍光面
が得られないことがあるので好ましくない。
【0015】上記ビニル系(共)重合体の重量平均分子
量(Mw)は、小さくなると十分な帯電量が得られなく
なることがあるので、5万以上に制限され、好ましくは
10万以上、より好ましくは20万以上である。
量(Mw)は、小さくなると十分な帯電量が得られなく
なることがあるので、5万以上に制限され、好ましくは
10万以上、より好ましくは20万以上である。
【0016】上記ビニル系(共)重合体の重量平均分子
量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/M
n)で表される分子量分布は、5以上に制限され、好ま
しくは5〜50、より好ましくは10〜30の範囲であ
る。なお、上記重量平均分子量(Mw)及び数平均分子
量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー(GPC)によって測定された値である。
量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/M
n)で表される分子量分布は、5以上に制限され、好ま
しくは5〜50、より好ましくは10〜30の範囲であ
る。なお、上記重量平均分子量(Mw)及び数平均分子
量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー(GPC)によって測定された値である。
【0017】上記分子量分布(Mw/Mn)が、5未満
ではビニル系(共)重合体を溶液としたときの粘度調整
が難しくなり、均一な厚みの樹脂膜が得られ難くなるた
め、帯電量が不均一となり、均一な膜厚の蛍光膜を形成
し難くなる。
ではビニル系(共)重合体を溶液としたときの粘度調整
が難しくなり、均一な厚みの樹脂膜が得られ難くなるた
め、帯電量が不均一となり、均一な膜厚の蛍光膜を形成
し難くなる。
【0018】また、上記ビニル系(共)重合体の構成成
分中における上記アクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステルの含有量は60重量%以上が好ましい。
分中における上記アクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステルの含有量は60重量%以上が好ましい。
【0019】上記ビニル系(共)重合体は、従来公知
の、懸濁重合、乳化重合、溶液重合、塊重合等の重合方
法によって合成することができる。
の、懸濁重合、乳化重合、溶液重合、塊重合等の重合方
法によって合成することができる。
【0020】上記ビニル系(共)重合体を使用して樹脂
膜を形成する方法を、図面を参照しながら説明する。ま
ず、図1に示すように、ガラスパネル内面にポリビニル
アルコールベースのフォトレジストをスピンコートす
る。次いで、所定のパターンを有するシャドウマスクを
介して露光した後、水洗乾燥して未硬化部分を除去する
(図2及び3)。さらに、グラファイトをスピンコート
した後、硫酸でエッチングを行い、ガラスパネル内面に
ブラックマトリックスを形成する(図4及び5)。
膜を形成する方法を、図面を参照しながら説明する。ま
ず、図1に示すように、ガラスパネル内面にポリビニル
アルコールベースのフォトレジストをスピンコートす
る。次いで、所定のパターンを有するシャドウマスクを
介して露光した後、水洗乾燥して未硬化部分を除去する
(図2及び3)。さらに、グラファイトをスピンコート
した後、硫酸でエッチングを行い、ガラスパネル内面に
ブラックマトリックスを形成する(図4及び5)。
【0021】次に、ブラックマトリックス上に、上記ビ
ニル系(共)重合体の5重量%トルエン溶液をスピンコ
ートした後乾燥して樹脂膜を形成する(図6及び7)。
この樹脂膜を帯電させた後所定のパターンを有するシャ
ドウマスクをフォトマスクとして露光する(図7)。露
光によって帯電が喪失した部分に、赤色トナーを静電的
に粉体塗装する(図8及び9)。同様の操作を繰り返し
て、緑色のトナー及び青色のトナーを順次静電的に粉体
塗装する。最後に、三色のトナーの粉体塗装面を加熱し
て焼き付けることにより、蛍光膜を形成する(図10)。
ニル系(共)重合体の5重量%トルエン溶液をスピンコ
ートした後乾燥して樹脂膜を形成する(図6及び7)。
この樹脂膜を帯電させた後所定のパターンを有するシャ
ドウマスクをフォトマスクとして露光する(図7)。露
光によって帯電が喪失した部分に、赤色トナーを静電的
に粉体塗装する(図8及び9)。同様の操作を繰り返し
て、緑色のトナー及び青色のトナーを順次静電的に粉体
塗装する。最後に、三色のトナーの粉体塗装面を加熱し
て焼き付けることにより、蛍光膜を形成する(図10)。
【0022】
【作用】本発明の陰極線管は、ガラスパネル内面に、実
質的にベンゼン環を含まない重量平均分子量(Mw)5
万以上で、かつ、分子量分布(Mw/Mn)が5以上の
ビニル系(共)重合体からなる樹脂膜を形成することに
より、蛍光体の粉体塗装が可能となるため、蛍光体を分
散させた懸濁液が不要であり、懸濁液の塗布、乾燥、露
光、温水シャワーの操作がないため製造工程を大幅に短
縮でき、大量の水を使用する必要もない。さらに、樹脂
膜の表面に十分な帯電性が得られるため、蛍光膜の形成
時に蛍光体の飛散が少なく、かぶりのない、きれいな蛍
光膜を形成することができる。また、均一な膜厚の蛍光
膜が形成できるので、色むらのない陰極線管が得られ
る。しかも、ガラスパネル焼成時にベンゼン環による残
渣の発生がないのできれいな蛍光面が得られ、輝度の高
い陰極線管が得られる。
質的にベンゼン環を含まない重量平均分子量(Mw)5
万以上で、かつ、分子量分布(Mw/Mn)が5以上の
ビニル系(共)重合体からなる樹脂膜を形成することに
より、蛍光体の粉体塗装が可能となるため、蛍光体を分
散させた懸濁液が不要であり、懸濁液の塗布、乾燥、露
光、温水シャワーの操作がないため製造工程を大幅に短
縮でき、大量の水を使用する必要もない。さらに、樹脂
膜の表面に十分な帯電性が得られるため、蛍光膜の形成
時に蛍光体の飛散が少なく、かぶりのない、きれいな蛍
光膜を形成することができる。また、均一な膜厚の蛍光
膜が形成できるので、色むらのない陰極線管が得られ
る。しかも、ガラスパネル焼成時にベンゼン環による残
渣の発生がないのできれいな蛍光面が得られ、輝度の高
い陰極線管が得られる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下に実施例及び比較例を掲げて
本発明を更に詳しく説明する。
本発明を更に詳しく説明する。
【0024】(実施例1)5Lのセパラブルフラスコ
に、メタクリル酸メチル75重量%及びメタクリル酸n
−ブチル25重量%からなる、重量平均分子量120万
のビニル系共重合体450gとトルエン1500gとを
入れ、セパラブルフラスコ内の気相を窒素ガスにて置換
した後、トルエンの沸点まで昇温した。トルエンの還流
が起きた状態で撹拌しながら、メタクリル酸メチル60
0g及びメタクリル酸n−ブチル400gに、重合開始
剤としてアゾビスイソブチロニトリル30gを溶解した
溶液を3時間かけて滴下し、溶液重合を行った。滴下終
了後、さらにトルエンの沸騰する温度で撹拌しながら、
1時間熟成した。次いで、系の温度を180℃まで徐々
に昇温しながら、減圧下でトルエンを脱溶剤して、重量
平均分子量(Mw)28万、Mw/Mn=30のビニル
系共重合体(A)を得た。上記ビニル系共重合体(A)
をトルエンに溶解して不溶分を取り除き、5重量%溶液
を調製した。
に、メタクリル酸メチル75重量%及びメタクリル酸n
−ブチル25重量%からなる、重量平均分子量120万
のビニル系共重合体450gとトルエン1500gとを
入れ、セパラブルフラスコ内の気相を窒素ガスにて置換
した後、トルエンの沸点まで昇温した。トルエンの還流
が起きた状態で撹拌しながら、メタクリル酸メチル60
0g及びメタクリル酸n−ブチル400gに、重合開始
剤としてアゾビスイソブチロニトリル30gを溶解した
溶液を3時間かけて滴下し、溶液重合を行った。滴下終
了後、さらにトルエンの沸騰する温度で撹拌しながら、
1時間熟成した。次いで、系の温度を180℃まで徐々
に昇温しながら、減圧下でトルエンを脱溶剤して、重量
平均分子量(Mw)28万、Mw/Mn=30のビニル
系共重合体(A)を得た。上記ビニル系共重合体(A)
をトルエンに溶解して不溶分を取り除き、5重量%溶液
を調製した。
【0025】上記ビニル系共重合体(A)溶液を、図1
〜5に示す工程でブラックマトリックスを設けたガラス
パネル内面にスピンコートした後乾燥して、樹脂膜を形
成した。次いで、樹脂膜を帯電させ、シャドウマスクを
フォトマスクとして露光した後、シャドウマスクを外し
て蛍光体を静電的に三原色(赤、緑、青)の色順で順次
粉体塗装し、焼き付けを行うことにより蛍光膜を形成し
た(図6〜10)。上記一連の操作により、温水シャワー
による洗浄工程がないため、製造サイクルを短縮するこ
とができた。また、焼成時にベンゼン環による残渣が発
生しないため、クリアーなスクリーンを形成することが
できた。また、ビニル系共重合体(A)溶液の粘度調整
がし易いため、均一な膜厚の樹脂膜が形成でき、樹脂膜
表面にむらなく十分な帯電が得られるため、蛍光体の飛
散がなく、かぶりや色むらのない、きれいな蛍光膜を形
成することができた。
〜5に示す工程でブラックマトリックスを設けたガラス
パネル内面にスピンコートした後乾燥して、樹脂膜を形
成した。次いで、樹脂膜を帯電させ、シャドウマスクを
フォトマスクとして露光した後、シャドウマスクを外し
て蛍光体を静電的に三原色(赤、緑、青)の色順で順次
粉体塗装し、焼き付けを行うことにより蛍光膜を形成し
た(図6〜10)。上記一連の操作により、温水シャワー
による洗浄工程がないため、製造サイクルを短縮するこ
とができた。また、焼成時にベンゼン環による残渣が発
生しないため、クリアーなスクリーンを形成することが
できた。また、ビニル系共重合体(A)溶液の粘度調整
がし易いため、均一な膜厚の樹脂膜が形成でき、樹脂膜
表面にむらなく十分な帯電が得られるため、蛍光体の飛
散がなく、かぶりや色むらのない、きれいな蛍光膜を形
成することができた。
【0026】(実施例2)5Lのセパラブルフラスコ
に、メタクリル酸メチル75重量%及びメタクリル酸n
−ブチル25重量%からなる、重量平均分子量120万
のビニル系共重合体300gとトルエン1500gとを
入れ、セパラブルフラスコ内の気相を窒素ガスにて置換
した後、トルエンの沸点まで昇温した。トルエンの還流
が起きた状態で撹拌しながら、メタクリル酸メチル60
0g、アクリル酸n−ブチル200g及びメタクリル酸
n−ブチル200gに、重合開始剤としてアゾビスイソ
ブチロニトリル30gを溶解した溶液を3時間かけて滴
下し、溶液重合を行った。滴下終了後、さらにトルエン
の沸騰する温度で撹拌しながら、1時間熟成した。次い
で、系の温度を180℃まで徐々に昇温しながら、減圧
下でトルエンを脱溶剤して、重量平均分子量(Mw)2
0万、Mw/Mn=22のビニル系共重合体(B)を得
た。上記ビニル系共重合体(B)をトルエンに溶解して
不溶分を取り除き、5重量%溶液を調製した。
に、メタクリル酸メチル75重量%及びメタクリル酸n
−ブチル25重量%からなる、重量平均分子量120万
のビニル系共重合体300gとトルエン1500gとを
入れ、セパラブルフラスコ内の気相を窒素ガスにて置換
した後、トルエンの沸点まで昇温した。トルエンの還流
が起きた状態で撹拌しながら、メタクリル酸メチル60
0g、アクリル酸n−ブチル200g及びメタクリル酸
n−ブチル200gに、重合開始剤としてアゾビスイソ
ブチロニトリル30gを溶解した溶液を3時間かけて滴
下し、溶液重合を行った。滴下終了後、さらにトルエン
の沸騰する温度で撹拌しながら、1時間熟成した。次い
で、系の温度を180℃まで徐々に昇温しながら、減圧
下でトルエンを脱溶剤して、重量平均分子量(Mw)2
0万、Mw/Mn=22のビニル系共重合体(B)を得
た。上記ビニル系共重合体(B)をトルエンに溶解して
不溶分を取り除き、5重量%溶液を調製した。
【0027】上記ビニル系共重合体(B)溶液を使用し
て、実施例1と同様にしてガラスパネル内面に樹脂膜を
形成した後、樹脂膜上に蛍光膜を形成した。上記一連の
操作により、温水シャワーによる洗浄工程がないため、
製造サイクルを短縮することができた。また、焼成時に
ベンゼン環による残渣が発生しないため、クリアーなス
クリーンを形成することができた。また、ビニル系共重
合体(A)溶液の粘度調整がし易いため、均一な膜厚の
樹脂膜が形成でき、樹脂膜表面にむらなく十分な帯電が
得られるため、蛍光体の飛散がなく、かぶりや色むらの
ない、きれいな蛍光膜を形成することができた。
て、実施例1と同様にしてガラスパネル内面に樹脂膜を
形成した後、樹脂膜上に蛍光膜を形成した。上記一連の
操作により、温水シャワーによる洗浄工程がないため、
製造サイクルを短縮することができた。また、焼成時に
ベンゼン環による残渣が発生しないため、クリアーなス
クリーンを形成することができた。また、ビニル系共重
合体(A)溶液の粘度調整がし易いため、均一な膜厚の
樹脂膜が形成でき、樹脂膜表面にむらなく十分な帯電が
得られるため、蛍光体の飛散がなく、かぶりや色むらの
ない、きれいな蛍光膜を形成することができた。
【0028】(比較例1)実施例1と同様にしてブラッ
クマトリックスを形成したガラスパネル内面に、ポリビ
ニルアルコール及び重クロム酸アンモニウムからなる水
溶液に蛍光体(Y 2 O2 S:Eu)を分散させた懸濁液
を塗布乾燥した後、シャドウマスクをフォトマスクとし
て露光し、未露光部分を温水シャワーにて除去、現像し
た。(図11〜図13)。次いで、ガラスパネル内面を乾燥
した後、同様にしてポリビニルアルコール及び重クロム
酸アンモニウムからなる水溶液に蛍光体(ZnS:C
u,(Au),Al)を分散させた懸濁液を塗布、乾燥
した後、シャドウマスクをフォトマスクとして露光し、
未露光部分を温水シャワーにて除去、現像した。その
後、ガラスパネル内面を乾燥した後、同様にしてポリビ
ニルアルコール及び重クロム酸アンモニウムからなる水
溶液に蛍光体(ZnS:Ag,Cl)を分散させた懸濁
液を塗布、乾燥した後、シャドウマスクをフォトマスク
として露光し、未露光部分を温水シャワーにて除去、現
像して、ガラスパネル内面を乾燥し、蛍光膜を形成し
た。以上の製造サイクルには長時間を要し、多量の温水
を消費した。
クマトリックスを形成したガラスパネル内面に、ポリビ
ニルアルコール及び重クロム酸アンモニウムからなる水
溶液に蛍光体(Y 2 O2 S:Eu)を分散させた懸濁液
を塗布乾燥した後、シャドウマスクをフォトマスクとし
て露光し、未露光部分を温水シャワーにて除去、現像し
た。(図11〜図13)。次いで、ガラスパネル内面を乾燥
した後、同様にしてポリビニルアルコール及び重クロム
酸アンモニウムからなる水溶液に蛍光体(ZnS:C
u,(Au),Al)を分散させた懸濁液を塗布、乾燥
した後、シャドウマスクをフォトマスクとして露光し、
未露光部分を温水シャワーにて除去、現像した。その
後、ガラスパネル内面を乾燥した後、同様にしてポリビ
ニルアルコール及び重クロム酸アンモニウムからなる水
溶液に蛍光体(ZnS:Ag,Cl)を分散させた懸濁
液を塗布、乾燥した後、シャドウマスクをフォトマスク
として露光し、未露光部分を温水シャワーにて除去、現
像して、ガラスパネル内面を乾燥し、蛍光膜を形成し
た。以上の製造サイクルには長時間を要し、多量の温水
を消費した。
【0029】(比較例2)メタクリル酸メチル600g
の代わりに、メタクリル酸n−ブチル550gとスチレ
ン50gとを用いたこと以外は、実施例1と同様にして
ビニル系共重合体(C)を得た。上記ビニル系共重合体
(C)溶液を使用して、実施例1と同様にしてガラスパ
ネル内面に樹脂膜を形成した後、樹脂膜上に蛍光膜を形
成した。上記一連の操作では、温水シャワーによる洗浄
工程がないため、製造サイクルを短縮することができ
た。ビニル系共重合体(C)溶液の粘度調整がし易いた
め、均一な膜厚の樹脂膜が形成でき、樹脂膜表面にむら
なく十分な帯電が得られるため、蛍光体の飛散がなく、
かぶりや色むらのない、きれいな蛍光膜を形成すること
ができた。しかし、焼成時にベンゼン環による残渣が発
生したため、クリアーなスクリーンを形成することがで
きなかった。
の代わりに、メタクリル酸n−ブチル550gとスチレ
ン50gとを用いたこと以外は、実施例1と同様にして
ビニル系共重合体(C)を得た。上記ビニル系共重合体
(C)溶液を使用して、実施例1と同様にしてガラスパ
ネル内面に樹脂膜を形成した後、樹脂膜上に蛍光膜を形
成した。上記一連の操作では、温水シャワーによる洗浄
工程がないため、製造サイクルを短縮することができ
た。ビニル系共重合体(C)溶液の粘度調整がし易いた
め、均一な膜厚の樹脂膜が形成でき、樹脂膜表面にむら
なく十分な帯電が得られるため、蛍光体の飛散がなく、
かぶりや色むらのない、きれいな蛍光膜を形成すること
ができた。しかし、焼成時にベンゼン環による残渣が発
生したため、クリアーなスクリーンを形成することがで
きなかった。
【0030】(比較例3)3Lのセパラブルフラスコ
に、ポリビニルアルコールの部分ケン化物(日本合成化
学社製「ゴーセノールGH−17」)1gを入れて蒸留
水1000mlに溶解し、セパラブルフラスコ内の気相
を窒素ガスにて置換した後、80℃に昇温した。昇温
後、メタクリル酸メチル600g、アクリル酸n−ブチ
ル200g及びメタクリル酸n−ブチル200gに、重
合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル20gを溶
解した溶液を5時間かけて滴下し、滴下終了後80℃で
8時間保持した。次いで、系の温度を100℃まで昇温
し、その温度下で2時間重合を行った後冷却し、脱水及
び水洗を繰り返した後乾燥して、重量平均分子量20
万、Mw/Mn=22のビニル系共重合体(D)を得
た。上記ビニル系共重合体(D)をトルエンに溶解して
不溶分を取り除き、5重量%溶液を調製した。
に、ポリビニルアルコールの部分ケン化物(日本合成化
学社製「ゴーセノールGH−17」)1gを入れて蒸留
水1000mlに溶解し、セパラブルフラスコ内の気相
を窒素ガスにて置換した後、80℃に昇温した。昇温
後、メタクリル酸メチル600g、アクリル酸n−ブチ
ル200g及びメタクリル酸n−ブチル200gに、重
合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル20gを溶
解した溶液を5時間かけて滴下し、滴下終了後80℃で
8時間保持した。次いで、系の温度を100℃まで昇温
し、その温度下で2時間重合を行った後冷却し、脱水及
び水洗を繰り返した後乾燥して、重量平均分子量20
万、Mw/Mn=22のビニル系共重合体(D)を得
た。上記ビニル系共重合体(D)をトルエンに溶解して
不溶分を取り除き、5重量%溶液を調製した。
【0031】上記ビニル系共重合体(C)溶液を使用し
て、実施例1と同様にしてガラスパネル内面に樹脂膜を
形成した後、樹脂膜上に蛍光膜を形成した。上記一連の
操作では、温水シャワーによる洗浄工程がないため、製
造サイクルを短縮することができた。また、焼成時にベ
ンゼン環による残渣が発生しないため、クリアーなスク
リーンを形成することができた。さらに、蛍光体の飛散
がないため、かぶりのない蛍光膜を得ることができた。
しかし、ビニル系共重合体(C)溶液の粘度を調整しに
くく、均一な膜厚の樹脂膜表面が形成できないため、樹
脂膜表面の帯電が不均一になり、蛍光膜に色むらが認め
られた。
て、実施例1と同様にしてガラスパネル内面に樹脂膜を
形成した後、樹脂膜上に蛍光膜を形成した。上記一連の
操作では、温水シャワーによる洗浄工程がないため、製
造サイクルを短縮することができた。また、焼成時にベ
ンゼン環による残渣が発生しないため、クリアーなスク
リーンを形成することができた。さらに、蛍光体の飛散
がないため、かぶりのない蛍光膜を得ることができた。
しかし、ビニル系共重合体(C)溶液の粘度を調整しに
くく、均一な膜厚の樹脂膜表面が形成できないため、樹
脂膜表面の帯電が不均一になり、蛍光膜に色むらが認め
られた。
【0032】(比較例4)3Lのセパラブルフラスコに
トルエン900gを入れ、セパラブルフラスコ内の気相
を窒素ガスにて置換した後、トルエンの沸点まで昇温し
た。トルエンの還流が起きた状態で攪拌しながら、メタ
クリル酸メチル600g、アクリル酸n−ブチル400
g、及び、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリ
ル40gを溶解した溶液を3時間かけて等速滴下しなが
ら、溶液重合を行った。滴下終了後、さらにトルエンが
沸騰する温度で攪拌しながら1時間熟成した。次いで、
系の温度を180℃まで徐々に昇温しながら、減圧下で
トルエンを脱溶剤して重量平均分子量3万、Mw/Mn
=3のビニル系共重合体(D)を得た。上記ビニル系共
重合体(D)をトルエンに溶解して不溶分を取り除き、
5重量%溶液を調製した。
トルエン900gを入れ、セパラブルフラスコ内の気相
を窒素ガスにて置換した後、トルエンの沸点まで昇温し
た。トルエンの還流が起きた状態で攪拌しながら、メタ
クリル酸メチル600g、アクリル酸n−ブチル400
g、及び、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリ
ル40gを溶解した溶液を3時間かけて等速滴下しなが
ら、溶液重合を行った。滴下終了後、さらにトルエンが
沸騰する温度で攪拌しながら1時間熟成した。次いで、
系の温度を180℃まで徐々に昇温しながら、減圧下で
トルエンを脱溶剤して重量平均分子量3万、Mw/Mn
=3のビニル系共重合体(D)を得た。上記ビニル系共
重合体(D)をトルエンに溶解して不溶分を取り除き、
5重量%溶液を調製した。
【0033】上記ビニル系共重合体(D)溶液を使用し
て、実施例1と同様にしてガラスパネル内面に樹脂膜を
形成した後、樹脂膜上に蛍光膜を形成した。温水シャワ
ーによる洗浄工程がないため、製造サイクルを短縮する
ことができた。また、焼成時にベンゼン環による残渣が
発生しないため、クリアーなスクリーンを形成すること
ができた。しかし、樹脂膜表面に十分な帯電が得られな
いため、蛍光体の飛散があり蛍光膜にかぶりが認められ
た。
て、実施例1と同様にしてガラスパネル内面に樹脂膜を
形成した後、樹脂膜上に蛍光膜を形成した。温水シャワ
ーによる洗浄工程がないため、製造サイクルを短縮する
ことができた。また、焼成時にベンゼン環による残渣が
発生しないため、クリアーなスクリーンを形成すること
ができた。しかし、樹脂膜表面に十分な帯電が得られな
いため、蛍光体の飛散があり蛍光膜にかぶりが認められ
た。
【0034】
【発明の効果】本発明の陰極線管は、上述の如く構成さ
れており、樹脂膜に十分な帯電量を得ることができ、蛍
光体の飛散がないため、かぶりや色むらのない、きれい
な蛍光膜を有する。また、樹脂膜としてベンゼン環を実
質的に含まないビニル(共)重合体を使用するので、パ
ネル焼成時にベンゼン環による残渣が発生せず、輝度の
高いクリアーな蛍光面を有する。さらに、温水シャワー
洗浄及び乾燥工程がないため、製造工程を簡略化でき生
産性を向上することができ、製造工程で温水シャワーが
不要であるため、水の使用量を大幅に削減できる。
れており、樹脂膜に十分な帯電量を得ることができ、蛍
光体の飛散がないため、かぶりや色むらのない、きれい
な蛍光膜を有する。また、樹脂膜としてベンゼン環を実
質的に含まないビニル(共)重合体を使用するので、パ
ネル焼成時にベンゼン環による残渣が発生せず、輝度の
高いクリアーな蛍光面を有する。さらに、温水シャワー
洗浄及び乾燥工程がないため、製造工程を簡略化でき生
産性を向上することができ、製造工程で温水シャワーが
不要であるため、水の使用量を大幅に削減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】フォトレジストをスピンコートする工程を示す
模式図である。
模式図である。
【図2】フォトレジストにシャドウマスクをフォトマス
クとして露光する工程を示す模式図である。
クとして露光する工程を示す模式図である。
【図3】フォトレジストの未露光部分を水洗、乾燥する
工程を示す模式図である。
工程を示す模式図である。
【図4】フォトレジスト上にグラファイトをスピンコー
トする工程を示す模式図である。
トする工程を示す模式図である。
【図5】硫酸でエッチングしてブラックマトリックスを
形成する工程を示す模式図である。
形成する工程を示す模式図である。
【図6】ブラックマトリックス上にビニル系(共)重合
体をスピンコートし、樹脂膜を形成する工程を示す模式
図である。
体をスピンコートし、樹脂膜を形成する工程を示す模式
図である。
【図7】樹脂膜を帯電させる工程を示す模式図である。
【図8】樹脂膜にシャドウマスクをフォトマスクとして
露光する工程を示す模式図である。
露光する工程を示す模式図である。
【図9】帯電した樹脂膜に蛍光体を粉体塗装する工程を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図10】粉体塗装した蛍光体を焼き付ける工程を示す模
式図である。
式図である。
【図11】従来の方法において蛍光体をスピンコートする
工程を示す模式図である。
工程を示す模式図である。
【図12】従来の方法において蛍光体にシャドウマスクを
フォトマスクとして露光する工程を示す模式図である。
フォトマスクとして露光する工程を示す模式図である。
【図13】従来の方法において蛍光体の未露光部分を水
洗、乾燥する工程を示す模式図である。
洗、乾燥する工程を示す模式図である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 133/04 C09D 133/04 201/00 201/00
Claims (1)
- 【請求項1】 ガラスパネル内面に設けられた樹脂膜上
に蛍光体を静電的に塗装することにより形成された蛍光
膜を有する陰極線管であって、該樹脂膜が、実質的にベ
ンゼン環を含まない重量平均分子量(Mw)5万以上で
あり、かつ重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(M
n)との比(Mw/Mn)で表される分子量分布が5以
上のビニル系(共)重合体から形成されていることを特
徴とする陰極線管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14151997A JPH10328618A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14151997A JPH10328618A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 陰極線管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10328618A true JPH10328618A (ja) | 1998-12-15 |
Family
ID=15293863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14151997A Pending JPH10328618A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 陰極線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10328618A (ja) |
-
1997
- 1997-05-30 JP JP14151997A patent/JPH10328618A/ja active Pending
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