JPH10334134A - マスク描画データの検証方法、マスク描画データの検証装置及びマスク描画データの検証プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
マスク描画データの検証方法、マスク描画データの検証装置及びマスク描画データの検証プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体Info
- Publication number
- JPH10334134A JPH10334134A JP14658297A JP14658297A JPH10334134A JP H10334134 A JPH10334134 A JP H10334134A JP 14658297 A JP14658297 A JP 14658297A JP 14658297 A JP14658297 A JP 14658297A JP H10334134 A JPH10334134 A JP H10334134A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drawing data
- data
- mask drawing
- correction
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 修正したパターンデータの検証作業を行うＣ
ＡＤツールにおいて、検証処理時間を短縮し、かつ大容
量の作業用記憶ファイルを不要とする。 【解決手段】 データ変換部１４でパターンデータから
マスク描画データへの変換を行い、単位領域抽出部１５
において、修正前後のマスク描画データから修正パター
ンを含む単位領域を抽出し、論理差演算部１６におい
て、この抽出された単位領域のマスク描画データのみを
図形データに変換して論理差演算処理を行うようにし
た。
ＡＤツールにおいて、検証処理時間を短縮し、かつ大容
量の作業用記憶ファイルを不要とする。 【解決手段】 データ変換部１４でパターンデータから
マスク描画データへの変換を行い、単位領域抽出部１５
において、修正前後のマスク描画データから修正パター
ンを含む単位領域を抽出し、論理差演算部１６におい
て、この抽出された単位領域のマスク描画データのみを
図形データに変換して論理差演算処理を行うようにし
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ＬＳＩマスクデ
ータの検証作業を行うための技術に関し、特に、修正し
たパターンデータの検証作業を行うためのＣＡＤツール
に関する。
ータの検証作業を行うための技術に関し、特に、修正し
たパターンデータの検証作業を行うためのＣＡＤツール
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩの製品開発においては、ファンク
ションレベルの完全動作はもちろんのこと、製品性能ス
ペックを１００％満足するまで設計データの修正作業が
繰り返し実施されている。また、同時にＬＳＩチップの
製造歩留まり（良品率）を採算ライン以上にすることを
目的として、製造プロセス条件とこれに合わせた設計デ
ータの修正作業が繰り返し実施されている。設計者は、
修正作業が間違いなく実施されたかどうかを確認するた
めに、修正前と後のマスク描画データを比較確認する検
証作業を行っている。この検証作業では、設計修正した
パターンデータがマスク描画データに反映しているかど
うか、及び修正していないつもりのパターンデータが誤
って変更されていないかどうかが確認される。
ションレベルの完全動作はもちろんのこと、製品性能ス
ペックを１００％満足するまで設計データの修正作業が
繰り返し実施されている。また、同時にＬＳＩチップの
製造歩留まり（良品率）を採算ライン以上にすることを
目的として、製造プロセス条件とこれに合わせた設計デ
ータの修正作業が繰り返し実施されている。設計者は、
修正作業が間違いなく実施されたかどうかを確認するた
めに、修正前と後のマスク描画データを比較確認する検
証作業を行っている。この検証作業では、設計修正した
パターンデータがマスク描画データに反映しているかど
うか、及び修正していないつもりのパターンデータが誤
って変更されていないかどうかが確認される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、修正作業の
対象となるパターンデータは、ほとんどの場合、チップ
の特定部分の狭い領域のパターンデータに限定されてお
り、パターン修正は対象となる領域についてのみ行われ
ている（特開平４−３１０９５２号など）。しかし、従
来はチップの総てのパターンデータについてマスク描画
データから図形データに変換し、総ての図形データの論
理演算処理を行って比較検証していたため、膨大な数の
図形データを取り扱うことになることから、検証処理時
間が長くなり、また大容量の作業用記憶ファイルが必要
になるという問題点があった。
対象となるパターンデータは、ほとんどの場合、チップ
の特定部分の狭い領域のパターンデータに限定されてお
り、パターン修正は対象となる領域についてのみ行われ
ている（特開平４−３１０９５２号など）。しかし、従
来はチップの総てのパターンデータについてマスク描画
データから図形データに変換し、総ての図形データの論
理演算処理を行って比較検証していたため、膨大な数の
図形データを取り扱うことになることから、検証処理時
間が長くなり、また大容量の作業用記憶ファイルが必要
になるという問題点があった。
【０００４】この発明の目的は、検証処理時間を短縮
し、かつ大容量の作業用記憶ファイルを不要とするマス
ク描画データの検証方法、マスク描画データの検証装置
及びマスク描画データの検証プログラムを格納したコン
ピュータ読み取り可能な記録媒体を提供することにあ
る。
し、かつ大容量の作業用記憶ファイルを不要とするマス
ク描画データの検証方法、マスク描画データの検証装置
及びマスク描画データの検証プログラムを格納したコン
ピュータ読み取り可能な記録媒体を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明に係わるマスク描画データの検証方
法は、修正前後のマスク描画データを図形データに変換
して論理差演算処理を行うマスク描画データの検証方法
において、前記修正前後のマスク描画データから修正パ
ターンを含む単位領域を抽出し、該単位領域のマスク描
画データのみを図形データに変換して前記論理差演算処
理を行うことを特徴とする。
め、請求項１の発明に係わるマスク描画データの検証方
法は、修正前後のマスク描画データを図形データに変換
して論理差演算処理を行うマスク描画データの検証方法
において、前記修正前後のマスク描画データから修正パ
ターンを含む単位領域を抽出し、該単位領域のマスク描
画データのみを図形データに変換して前記論理差演算処
理を行うことを特徴とする。
【０００６】請求項２の発明は、前記請求項１の発明に
おいて、前記修正パターンを含む単位領域を、修正前後
のマスク描画データの作成条件の比較、修正前後のマス
ク描画データ中の対応する同じ位置にある単位領域のデ
ータサイズの比較、及び修正前後のマスク描画データ中
の対応する同じ位置にある単位領域のデータをバイナリ
比較することにより抽出することを特徴とする。
おいて、前記修正パターンを含む単位領域を、修正前後
のマスク描画データの作成条件の比較、修正前後のマス
ク描画データ中の対応する同じ位置にある単位領域のデ
ータサイズの比較、及び修正前後のマスク描画データ中
の対応する同じ位置にある単位領域のデータをバイナリ
比較することにより抽出することを特徴とする。
【０００７】請求項３の発明は、前記請求項２の発明に
おいて、前記修正前後のマスク描画データの単位領域に
おけるデータサイズを、マスク単位、チップ単位、フレ
ーム単位、セル単位の順に比較することを特徴とする。
おいて、前記修正前後のマスク描画データの単位領域に
おけるデータサイズを、マスク単位、チップ単位、フレ
ーム単位、セル単位の順に比較することを特徴とする。
【０００８】請求項４の発明は、前記請求項１、２又は
３の発明において、前記論理差演算処理の処理結果を比
較結果データとしてパターンデータに書き込むことを特
徴とする。
３の発明において、前記論理差演算処理の処理結果を比
較結果データとしてパターンデータに書き込むことを特
徴とする。
【０００９】請求項５の発明は、前記請求項１、２、３
又は４の発明において、前記修正パターンを含む単位領
域に対する処理を、複数個の単位領域について並列に処
理することを特徴とする。
又は４の発明において、前記修正パターンを含む単位領
域に対する処理を、複数個の単位領域について並列に処
理することを特徴とする。
【００１０】また、上記目的を達成するため、請求項６
の発明に係わるマスク描画データの検証装置は、修正前
後のマスク描画データを図形データに変換して論理差演
算処理を行うマスク描画データの検証装置において、前
記修正前後のマスク描画データから修正パターンを含む
単位領域を抽出する単位領域抽出手段を備え、前記抽出
された単位領域のマスク描画データのみを図形データに
変換して論理差演算処理を行うことを特徴とする。
の発明に係わるマスク描画データの検証装置は、修正前
後のマスク描画データを図形データに変換して論理差演
算処理を行うマスク描画データの検証装置において、前
記修正前後のマスク描画データから修正パターンを含む
単位領域を抽出する単位領域抽出手段を備え、前記抽出
された単位領域のマスク描画データのみを図形データに
変換して論理差演算処理を行うことを特徴とする。
【００１１】請求項７の発明は、前記請求項６の発明に
おいて、前記単位領域抽出手段は、修正前後のマスク描
画データの作成条件を比較する作成条件比較手段、修正
前後のマスク描画データ中の対応する同じ位置にある単
位領域のデータサイズを比較するデータサイズ比較手
段、及び修正前後のマスク描画データ中の対応する同じ
位置にある単位領域のデータをバイナリ比較する描画デ
ータバイナリ比較手段により構成されることを特徴とす
る。
おいて、前記単位領域抽出手段は、修正前後のマスク描
画データの作成条件を比較する作成条件比較手段、修正
前後のマスク描画データ中の対応する同じ位置にある単
位領域のデータサイズを比較するデータサイズ比較手
段、及び修正前後のマスク描画データ中の対応する同じ
位置にある単位領域のデータをバイナリ比較する描画デ
ータバイナリ比較手段により構成されることを特徴とす
る。
【００１２】請求項８の発明は、前記請求項７の発明に
おいて、前記データサイズ比較手段は、修正前後のマス
ク描画データの単位領域におけるデータサイズを、マス
ク単位、チップ単位、フレーム単位、セル単位の順に比
較することを特徴とする。
おいて、前記データサイズ比較手段は、修正前後のマス
ク描画データの単位領域におけるデータサイズを、マス
ク単位、チップ単位、フレーム単位、セル単位の順に比
較することを特徴とする。
【００１３】請求項９の発明は、前記請求項６、７又は
８の発明において、前記論理差演算処理の処理結果を比
較結果データとしてパターンデータに書き込む比較結果
データ書き込み手段を備えたことを特徴とする。
８の発明において、前記論理差演算処理の処理結果を比
較結果データとしてパターンデータに書き込む比較結果
データ書き込み手段を備えたことを特徴とする。
【００１４】請求項１０の発明は、前記請求項６、７、
８又は９の発明において、前記修正パターンを含む単位
領域に対する処理を、複数個の単位領域について並列に
処理することを特徴とする。
８又は９の発明において、前記修正パターンを含む単位
領域に対する処理を、複数個の単位領域について並列に
処理することを特徴とする。
【００１５】さらに、上記目的を達成するため、請求項
１１の発明に係わるマスク描画データの検証プログラム
を格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体は、修
正前後のマスク描画データを図形データに変換して論理
差演算処理を行うマスク描画データの検証処理におい
て、前記修正前後のマスク描画データから修正パターン
を含む単位領域を抽出する処理と、該単位領域のマスク
描画データのみを図形データに変換して前記論理差演算
処理を行う処理とを含み、これら処理をコンピュータに
実行させることを特徴とする。
１１の発明に係わるマスク描画データの検証プログラム
を格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体は、修
正前後のマスク描画データを図形データに変換して論理
差演算処理を行うマスク描画データの検証処理におい
て、前記修正前後のマスク描画データから修正パターン
を含む単位領域を抽出する処理と、該単位領域のマスク
描画データのみを図形データに変換して前記論理差演算
処理を行う処理とを含み、これら処理をコンピュータに
実行させることを特徴とする。
【００１６】請求項１２の発明は、前記請求項１１の発
明において、前記修正パターンを含む単位領域を抽出す
る処理には、修正前後のマスク描画データの作成条件を
比較する処理と、修正前後のマスク描画データ中の対応
する同じ位置にある単位領域のデータサイズを比較する
処理と、修正前後のマスク描画データ中の対応する同じ
位置にある単位領域のデータをバイナリ比較する処理と
を含み、これら処理をコンピュータに実行させることを
特徴とする。
明において、前記修正パターンを含む単位領域を抽出す
る処理には、修正前後のマスク描画データの作成条件を
比較する処理と、修正前後のマスク描画データ中の対応
する同じ位置にある単位領域のデータサイズを比較する
処理と、修正前後のマスク描画データ中の対応する同じ
位置にある単位領域のデータをバイナリ比較する処理と
を含み、これら処理をコンピュータに実行させることを
特徴とする。
【００１７】請求項１３の発明は、前記請求項１２の発
明において、前記修正前後のマスク描画データ中の対応
する同じ位置にある単位領域のデータサイズを比較する
処理は、マスク単位、チップ単位、フレーム単位、セル
単位の順に単位領域を比較する処理を含み、これら処理
をコンピュータに実行させることを特徴とする。
明において、前記修正前後のマスク描画データ中の対応
する同じ位置にある単位領域のデータサイズを比較する
処理は、マスク単位、チップ単位、フレーム単位、セル
単位の順に単位領域を比較する処理を含み、これら処理
をコンピュータに実行させることを特徴とする。
【００１８】請求項１４の発明は、前記請求項１１、１
２又は１３の発明において、前記論理差演算処理の処理
結果を比較結果データとしてパターンデータに書き込む
処理を含み、これら処理をコンピュータに実行させるこ
とを特徴とする。
２又は１３の発明において、前記論理差演算処理の処理
結果を比較結果データとしてパターンデータに書き込む
処理を含み、これら処理をコンピュータに実行させるこ
とを特徴とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、この発明に係わるマスク描
画データの検証方法、マスク描画データの検証装置及び
マスク描画データの検証プログラムを格納したコンピュ
ータ読み取り可能な記録媒体を適用したマスク描画デー
タ検証装置の一実施形態について説明する。
画データの検証方法、マスク描画データの検証装置及び
マスク描画データの検証プログラムを格納したコンピュ
ータ読み取り可能な記録媒体を適用したマスク描画デー
タ検証装置の一実施形態について説明する。
【００２０】図１は、本実施形態に係わるマスク描画デ
ータ検証装置の機能的な構成を示すブロック図である。
この装置１０は、入力部１１、検証処理部１２、出力部
１３から構成されている。
ータ検証装置の機能的な構成を示すブロック図である。
この装置１０は、入力部１１、検証処理部１２、出力部
１３から構成されている。
【００２１】入力部１１は、修正作業の対象となるパタ
ーンデータを読み込む部分であり、修正前後のパターン
データが入力される。
ーンデータを読み込む部分であり、修正前後のパターン
データが入力される。
【００２２】検証処理部１２は、次に説明するデータ変
換部１４、単位領域抽出部１５、論理差演算部１６、比
較結果データ書き込み部１７から構成されている。
換部１４、単位領域抽出部１５、論理差演算部１６、比
較結果データ書き込み部１７から構成されている。
【００２３】データ変換部１４は、前記入力部１１から
入力された修正前後のパターンデータをマスク描画デー
タに変換する。
入力された修正前後のパターンデータをマスク描画デー
タに変換する。
【００２４】単位領域抽出部１５は、前記修正前後のマ
スク描画データから修正パターンを含む単位領域を抽出
する部分であり、修正前後のマスク描画データの作成条
件（マスク名称、チップサイズなど）を比較し、総て一
致するかどうかを判定する作成条件比較手段２１と、修
正前後のマスク描画データ中の対応する同じ位置にある
単位領域のデータサイズ（バイト数で表される）を比較
し、一致するかどうかを判定するデータサイズ比較手段
２２と、修正前後のマスク描画データ中の対応する同じ
位置にある単位領域のデータを読み出してバイナリ比較
（１、０からなるパターン列の比較）し、総て一致する
かどうかを判定する描画データバイナリ比較手段２３と
から構成されている。
スク描画データから修正パターンを含む単位領域を抽出
する部分であり、修正前後のマスク描画データの作成条
件（マスク名称、チップサイズなど）を比較し、総て一
致するかどうかを判定する作成条件比較手段２１と、修
正前後のマスク描画データ中の対応する同じ位置にある
単位領域のデータサイズ（バイト数で表される）を比較
し、一致するかどうかを判定するデータサイズ比較手段
２２と、修正前後のマスク描画データ中の対応する同じ
位置にある単位領域のデータを読み出してバイナリ比較
（１、０からなるパターン列の比較）し、総て一致する
かどうかを判定する描画データバイナリ比較手段２３と
から構成されている。
【００２５】論理差演算部１６は、前記単位領域抽出部
１５で抽出された修正前後のマスク描画データを図形デ
ータに変換して論理差演算処理を行う。図形データを変
換して論理差演算処理する手法は、従来、マスク描画デ
ータ全体に対して実施していた手法と同じ手法を用いる
ことができる。論理差演算は、修正前の単位領域をＡ、
修正後の単位領域をＢとすると、Ａ−ＢとＢ−Ａの２回
の演算処理を行う。
１５で抽出された修正前後のマスク描画データを図形デ
ータに変換して論理差演算処理を行う。図形データを変
換して論理差演算処理する手法は、従来、マスク描画デ
ータ全体に対して実施していた手法と同じ手法を用いる
ことができる。論理差演算は、修正前の単位領域をＡ、
修正後の単位領域をＢとすると、Ａ−ＢとＢ−Ａの２回
の演算処理を行う。
【００２６】比較結果データ書き込み部１７は、前記論
理差演算部１６での処理結果を比較結果データとして、
パターンデータ中の該当位置に書き込む。ここでは、比
較結果をＬＳＩチップデータとして設計者が確認できる
ようなデータ形式に変換して書き込む。
理差演算部１６での処理結果を比較結果データとして、
パターンデータ中の該当位置に書き込む。ここでは、比
較結果をＬＳＩチップデータとして設計者が確認できる
ようなデータ形式に変換して書き込む。
【００２７】出力部１３は、上記各部による検証作業の
結果をディスプレイに表示、又はプリント出力する。
結果をディスプレイに表示、又はプリント出力する。
【００２８】ここで、入力部１１は、キーボード、マウ
ス、ライトペン又はフレキシブルディスク装置などが含
まれ、検証処理部１２は、各種の処理を行うためのＣＰ
Ｕと、この処理の命令を記憶する記憶部とを含む通常の
コンピュータシステムが含まれる。また、出力部１３
は、ディスプレイ装置やプリンタ装置などが含まれる。
上記検証処理部１２に含まれるデータ変換部１４、単位
領域抽出部１５、論理差演算部１６、比較結果データ書
き込み部１７の各処理の命令は、記憶部に保持されてお
り、必要に応じてＣＰＵに読み込まれ、実行される。通
常の場合、実行の制御は操作者が入力部１１に対して命
令（コマンド）の入力を行うことによりなされる。
ス、ライトペン又はフレキシブルディスク装置などが含
まれ、検証処理部１２は、各種の処理を行うためのＣＰ
Ｕと、この処理の命令を記憶する記憶部とを含む通常の
コンピュータシステムが含まれる。また、出力部１３
は、ディスプレイ装置やプリンタ装置などが含まれる。
上記検証処理部１２に含まれるデータ変換部１４、単位
領域抽出部１５、論理差演算部１６、比較結果データ書
き込み部１７の各処理の命令は、記憶部に保持されてお
り、必要に応じてＣＰＵに読み込まれ、実行される。通
常の場合、実行の制御は操作者が入力部１１に対して命
令（コマンド）の入力を行うことによりなされる。
【００２９】図２は、上記データ変換部１４で変換され
たマスク描画データの構造の一例を示す説明図である。
一般に、描画されるチップデータはマスク描画装置に依
存した大きさ（一度に描画できる範囲であり、電子ビー
ム描画装置ならば電子ビームの偏向幅や、描画制御計算
機からマスク描画装置に転送するデータ単位サイズなど
で決まる）の単位領域に分割されており、描画図形は各
分割領域に振り分けて格納されている。図２は、チップ
（太枠域）をＸ方向に４分割、Ｙ方向に６分割の２４分
割した例を示しており、分割された各セルに付された配
置座標（Ｘ，Ｙ）は、（１、１）を原点とするＸ，Ｙ座
標を表している。
たマスク描画データの構造の一例を示す説明図である。
一般に、描画されるチップデータはマスク描画装置に依
存した大きさ（一度に描画できる範囲であり、電子ビー
ム描画装置ならば電子ビームの偏向幅や、描画制御計算
機からマスク描画装置に転送するデータ単位サイズなど
で決まる）の単位領域に分割されており、描画図形は各
分割領域に振り分けて格納されている。図２は、チップ
（太枠域）をＸ方向に４分割、Ｙ方向に６分割の２４分
割した例を示しており、分割された各セルに付された配
置座標（Ｘ，Ｙ）は、（１、１）を原点とするＸ，Ｙ座
標を表している。
【００３０】図３は、上記マスク描画データの表現形式
の一例を示す説明図である。マスク描画データは、マス
ク描画情報データとチップ描画データとから構成されて
いる。
の一例を示す説明図である。マスク描画データは、マス
ク描画情報データとチップ描画データとから構成されて
いる。
【００３１】マスク描画情報データには、マスク名称、
描画マスクサイズ、描画装置パラメータ等の一般情報
と、描画すべきチップ（実際に描画する図形が格納され
ている）のチップ名称、配置座標（Ｘ，Ｙ）等が格納さ
れている。一般にマスク描画情報データには複数個のチ
ップ配置が可能であるが、図２ではマスク描画情報デー
タとして、チップを１個だけ配置した場合の例を示して
いる。
描画マスクサイズ、描画装置パラメータ等の一般情報
と、描画すべきチップ（実際に描画する図形が格納され
ている）のチップ名称、配置座標（Ｘ，Ｙ）等が格納さ
れている。一般にマスク描画情報データには複数個のチ
ップ配置が可能であるが、図２ではマスク描画情報デー
タとして、チップを１個だけ配置した場合の例を示して
いる。
【００３２】チップ描画データには、チップ名称、チッ
プサイズ（Ｘ，Ｙ）、描画アドレスユニット等の一般情
報と、各単位領域の描画図形データとが順番に格納され
ている。前記単位領域の描画図形データには、単位領域
識別番号、データサイズ（ｂｙｔｅ）、描画図形数等の
一般情報と、描画図形データを構成する図形識別コー
ド、描画図形位置（Ｘ，Ｙ）、図形形状データがそれぞ
れ格納されている。図３では、描画図形データとして、
正方形と長方形と台形の３種類の図形形状の例を示して
いる。
プサイズ（Ｘ，Ｙ）、描画アドレスユニット等の一般情
報と、各単位領域の描画図形データとが順番に格納され
ている。前記単位領域の描画図形データには、単位領域
識別番号、データサイズ（ｂｙｔｅ）、描画図形数等の
一般情報と、描画図形データを構成する図形識別コー
ド、描画図形位置（Ｘ，Ｙ）、図形形状データがそれぞ
れ格納されている。図３では、描画図形データとして、
正方形と長方形と台形の３種類の図形形状の例を示して
いる。
【００３３】なお、図１の作成条件比較手段２１で比較
される作成条件は、図３のマスク描画情報データとチッ
プ描画データの一般情報として格納されている。
される作成条件は、図３のマスク描画情報データとチッ
プ描画データの一般情報として格納されている。
【００３４】次に、上記のように構成されたマスク描画
データ検証装置１０において、マスク描画データの検証
作業を行う場合の処理手順を図４のフローチャートを用
いて説明する。
データ検証装置１０において、マスク描画データの検証
作業を行う場合の処理手順を図４のフローチャートを用
いて説明する。
【００３５】まず、修正作業の対象となるパターンデー
タが入力部１１から読み込まれ、データ変換部１４にお
いて、修正前後のパターンデータがそれぞれマスク描画
データに変換される。
タが入力部１１から読み込まれ、データ変換部１４にお
いて、修正前後のパターンデータがそれぞれマスク描画
データに変換される。
【００３６】単位領域抽出部１５の作成条件比較手段２
１は、比較検証する修正前後のマスク描画データのチッ
プサイズ、描画アドレスユニット等の作成条件を比較
し、総て一致するかどうかを判定する（ステップ１０
１、１０２）。ここで、作成条件が不一致であれば異常
処理を行う（ステップ１０３）。つまり、このケースは
全く違う設計データのマスク描画データを比較しようと
したか、あるいは作成条件の異なるマスク描画データを
比較しようとしており、後述する検証作業ができないも
のと判定する。このケースに対しては従来手法で検証を
行う。
１は、比較検証する修正前後のマスク描画データのチッ
プサイズ、描画アドレスユニット等の作成条件を比較
し、総て一致するかどうかを判定する（ステップ１０
１、１０２）。ここで、作成条件が不一致であれば異常
処理を行う（ステップ１０３）。つまり、このケースは
全く違う設計データのマスク描画データを比較しようと
したか、あるいは作成条件の異なるマスク描画データを
比較しようとしており、後述する検証作業ができないも
のと判定する。このケースに対しては従来手法で検証を
行う。
【００３７】一方、ステップ１０２で作成条件が一致し
た場合、データサイズ比較手段２２は、修正前後のマス
ク描画データの中から対応する同じ位置にある単位領域
のデータサイズをそれぞれ取り出して比較し、一致する
かどうかを判定する（ステップ１０４、１０５）。ここ
で、データサイズが一致した場合は、続いて、描画デー
タバイナリ比較手段２３において、修正前後のマスク描
画データの中から対応する同じ位置にある単位領域のデ
ータを読み出してバイナリ比較し、総て一致するかどう
かを判定する（ステップ１０６、１０７）。
た場合、データサイズ比較手段２２は、修正前後のマス
ク描画データの中から対応する同じ位置にある単位領域
のデータサイズをそれぞれ取り出して比較し、一致する
かどうかを判定する（ステップ１０４、１０５）。ここ
で、データサイズが一致した場合は、続いて、描画デー
タバイナリ比較手段２３において、修正前後のマスク描
画データの中から対応する同じ位置にある単位領域のデ
ータを読み出してバイナリ比較し、総て一致するかどう
かを判定する（ステップ１０６、１０７）。
【００３８】前記ステップ１０５又はステップ１０７で
比較結果が不一致であった場合、すなわち、比較対象と
なった単位領域のデータサイズ又はバイナリ比較された
データのいずれかが不一致であった場合は、その単位領
域に修正すべきパターンが含まれていると考えられる。
そこで、単位領域抽出部１５は前記修正パターンを含む
単位領域のマスク描画データを抽出して、論理差演算部
１６に出力する。
比較結果が不一致であった場合、すなわち、比較対象と
なった単位領域のデータサイズ又はバイナリ比較された
データのいずれかが不一致であった場合は、その単位領
域に修正すべきパターンが含まれていると考えられる。
そこで、単位領域抽出部１５は前記修正パターンを含む
単位領域のマスク描画データを抽出して、論理差演算部
１６に出力する。
【００３９】論理差演算部１６は、前記単位領域抽出部
１５で抽出された修正前後のマスク描画データを図形デ
ータに変換して論理差演算処理を行う（ステップ１０
８）。続いて、比較結果データ書き込み部１７は、前記
論理差演算部１６での処理結果を比較結果データとして
元のパターンデータに書き込む（ステップ１０９）。
１５で抽出された修正前後のマスク描画データを図形デ
ータに変換して論理差演算処理を行う（ステップ１０
８）。続いて、比較結果データ書き込み部１７は、前記
論理差演算部１６での処理結果を比較結果データとして
元のパターンデータに書き込む（ステップ１０９）。
【００４０】次に、単位領域抽出部１５は、総ての単位
領域について比較が終了したかどうかを判定し（ステッ
プ１１０）、総ての単位領域の比較が終了したならば正
常終了する。また、未比較の単位領域が残っている場合
はステップ１０４へ戻り、総ての単位領域の比較が終了
するまで処理を繰り返す。
領域について比較が終了したかどうかを判定し（ステッ
プ１１０）、総ての単位領域の比較が終了したならば正
常終了する。また、未比較の単位領域が残っている場合
はステップ１０４へ戻り、総ての単位領域の比較が終了
するまで処理を繰り返す。
【００４１】上記実施形態のマスク描画データ検証装置
によると、検証作業に要する処理時間を次のように短縮
することができる。
によると、検証作業に要する処理時間を次のように短縮
することができる。
【００４２】
【数１】従来の処理時間 ；ＴＢ＝（Ｔｂｏｏｌ×Ｎａ
ｌｌ）＋α 本発明の処理時間；ＴＡ＝（Ｔｂｏｏｌ×Ｎｍｏｄ）＋
（Ｔｂｉｎａｒｙ×（Ｎａｌｌ−Ｎｍｏｄ））＋α ただし、Ｔｂｏｏｌ；単位領域の論理差演算処理時間 Ｎａｌｌ ；単位領域の総数 Ｎｍｏｄ ；修正パターンを含む単位領域の数 Ｔｂｉｎａｒｙ；単位領域のバイナリ比較処理時間 α；その他の処理時間 ここで、Ｔｂｏｏｌ：Ｔｂｉｎａｒｙ＝１０００：１ Ｎａｌｌ ：Ｎｍｏｄ ＝１００ ：１ とし、αは無視できる時間であるとすると、ＴＢ／ＴＡ
≒１００となり、約１００倍の高速化を達成することが
できる。また、作業用記憶ファイルの容量は修正個所の
数や量にもよるが、従来方法よりも大幅に削減すること
ができる。
ｌｌ）＋α 本発明の処理時間；ＴＡ＝（Ｔｂｏｏｌ×Ｎｍｏｄ）＋
（Ｔｂｉｎａｒｙ×（Ｎａｌｌ−Ｎｍｏｄ））＋α ただし、Ｔｂｏｏｌ；単位領域の論理差演算処理時間 Ｎａｌｌ ；単位領域の総数 Ｎｍｏｄ ；修正パターンを含む単位領域の数 Ｔｂｉｎａｒｙ；単位領域のバイナリ比較処理時間 α；その他の処理時間 ここで、Ｔｂｏｏｌ：Ｔｂｉｎａｒｙ＝１０００：１ Ｎａｌｌ ：Ｎｍｏｄ ＝１００ ：１ とし、αは無視できる時間であるとすると、ＴＢ／ＴＡ
≒１００となり、約１００倍の高速化を達成することが
できる。また、作業用記憶ファイルの容量は修正個所の
数や量にもよるが、従来方法よりも大幅に削減すること
ができる。
【００４３】また、図１のデータサイズ比較手段２２で
は、チップを２４分割したセルを単位領域とした例につ
いて説明したが、修正前後のマスク描画データの単位領
域のデータサイズは、マスク単位、チップ単位、フレー
ム（セル列）単位、セル単位の順とし、最初は大きな単
位領域のデータサイズで比較を行い、不一致の場合はよ
り小さな単位領域を設定して、対応する同じ位置にある
単位領域のデータサイズを順次取り出して比較するよう
にしてもよい。
は、チップを２４分割したセルを単位領域とした例につ
いて説明したが、修正前後のマスク描画データの単位領
域のデータサイズは、マスク単位、チップ単位、フレー
ム（セル列）単位、セル単位の順とし、最初は大きな単
位領域のデータサイズで比較を行い、不一致の場合はよ
り小さな単位領域を設定して、対応する同じ位置にある
単位領域のデータサイズを順次取り出して比較するよう
にしてもよい。
【００４４】さらに、図４のフローチャートでは、単位
領域を順に取り出して比較検証するようにしているが、
複数個の単位領域を取り出して、並列に処理するように
してよもよい。
領域を順に取り出して比較検証するようにしているが、
複数個の単位領域を取り出して、並列に処理するように
してよもよい。
【００４５】なお、上述したマスク描画データ検証装置
においてマスク描画データ検証方法を実現するためのプ
ログラムはコンピュータ読み取り可能な記録媒体に保存
することができる。この記録媒体をコンピュータシステ
ムによって読み込ませ、前記プログラムを実行してコン
ピュータを制御することにより、上述した検証方法を実
現することができる。ここで、前記記録媒体とは、メモ
リ装置、磁気ディスク装置、光ディスク装置など、プロ
グラムを記録することができるような装置が含まれる。
においてマスク描画データ検証方法を実現するためのプ
ログラムはコンピュータ読み取り可能な記録媒体に保存
することができる。この記録媒体をコンピュータシステ
ムによって読み込ませ、前記プログラムを実行してコン
ピュータを制御することにより、上述した検証方法を実
現することができる。ここで、前記記録媒体とは、メモ
リ装置、磁気ディスク装置、光ディスク装置など、プロ
グラムを記録することができるような装置が含まれる。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように、この発明に係わる
マスク描画データの検証方法、マスク描画データの検証
装置及びマスク描画データの検証プログラムを格納した
コンピュータ読み取り可能な記録媒体によれば、修正前
後のマスク描画データから修正パターンを含む単位領域
を抽出し、この単位領域のマスク描画データのみを図形
データに変換して論理差演算を行うようにしたので、検
証処理時間を短縮することができ、取り扱う図形データ
の量も少なくすることができる。
マスク描画データの検証方法、マスク描画データの検証
装置及びマスク描画データの検証プログラムを格納した
コンピュータ読み取り可能な記録媒体によれば、修正前
後のマスク描画データから修正パターンを含む単位領域
を抽出し、この単位領域のマスク描画データのみを図形
データに変換して論理差演算を行うようにしたので、検
証処理時間を短縮することができ、取り扱う図形データ
の量も少なくすることができる。
【００４７】したがって、従来のように総てのパターン
データについてマスク描画データから図形データに変換
して論理演算処理を行うようにしたものと比べて、ＬＳ
Ｉ設計工程の大幅な効率向上を実現することが可能とな
る。
データについてマスク描画データから図形データに変換
して論理演算処理を行うようにしたものと比べて、ＬＳ
Ｉ設計工程の大幅な効率向上を実現することが可能とな
る。
【図１】マスク描画データ検証装置の機能的な構成を示
すブロック図。
すブロック図。
【図２】マスク描画データの構造の一例を示す説明図。
【図３】マスク描画データの表現形式の一例を示す説明
図。
図。
【図４】マスク描画データ検証装置によりマスク描画デ
ータの検証作業を行う場合の処理手順を示すフローチャ
ート。
ータの検証作業を行う場合の処理手順を示すフローチャ
ート。
１０ マスク描画データ検証装置 １２ 検証処理部 １４ データ変換部 １５ 単位領域抽出部 １６ 論理差演算部 １７ 比較結果データ書き込み部 ２１ 作成条件比較手段 ２２ データサイズ比較手段 ２３ 描画データバイナリ比較手段
Claims (14)
- 【請求項１】 修正前後のマスク描画データを図形デー
タに変換して論理差演算処理を行うマスク描画データの
検証方法において、 前記修正前後のマスク描画データから修正パターンを含
む単位領域を抽出し、該単位領域のマスク描画データの
みを図形データに変換して前記論理差演算処理を行うこ
とを特徴とするマスク描画データの検証方法。 - 【請求項２】 前記修正パターンを含む単位領域を、修
正前後のマスク描画データの作成条件の比較、修正前後
のマスク描画データ中の対応する同じ位置にある単位領
域のデータサイズの比較、及び修正前後のマスク描画デ
ータ中の対応する同じ位置にある単位領域のデータをバ
イナリ比較することにより抽出することを特徴とする請
求項１記載のマスク描画データの検証方法。 - 【請求項３】 前記修正前後のマスク描画データの単位
領域におけるデータサイズを、マスク単位、チップ単
位、フレーム単位、セル単位の順に比較することを特徴
とする請求項２記載のマスク描画データの検証方法。 - 【請求項４】 前記論理差演算処理の処理結果を比較結
果データとしてパターンデータに書き込むことを特徴と
する請求項１、２又は３記載のマスク描画データの検証
方法。 - 【請求項５】 前記修正パターンを含む単位領域に対す
る処理を、複数個の単位領域について並列に処理するこ
とを特徴とする請求項１、２、３又は４記載のマスク描
画データの検証方法。 - 【請求項６】 修正前後のマスク描画データを図形デー
タに変換して論理差演算処理を行うマスク描画データの
検証装置において、 前記修正前後のマスク描画データから修正パターンを含
む単位領域を抽出する単位領域抽出手段を備え、 前記抽出された単位領域のマスク描画データのみを図形
データに変換して論理差演算処理を行うことを特徴とす
るマスク描画データの検証装置。 - 【請求項７】 前記単位領域抽出手段は、修正前後のマ
スク描画データの作成条件を比較する作成条件比較手
段、修正前後のマスク描画データ中の対応する同じ位置
にある単位領域のデータサイズを比較するデータサイズ
比較手段、及び修正前後のマスク描画データ中の対応す
る同じ位置にある単位領域のデータをバイナリ比較する
描画データバイナリ比較手段により構成されることを特
徴とする請求項６記載のマスク描画データの検証装置。 - 【請求項８】 前記データサイズ比較手段は、修正前後
のマスク描画データの単位領域におけるデータサイズ
を、マスク単位、チップ単位、フレーム単位、セル単位
の順に比較することを特徴とする請求項７記載のマスク
描画データの検証装置。 - 【請求項９】 前記論理差演算処理の処理結果を比較結
果データとしてパターンデータに書き込む比較結果デー
タ書き込み手段を備えたことを特徴とする請求項６、７
又は８記載のマスク描画データの検証装置。 - 【請求項１０】 前記修正パターンを含む単位領域に対
する処理を、複数個の単位領域について並列に処理する
ことを特徴とする請求項６、７、８又は９記載のマスク
描画データの検証装置。 - 【請求項１１】 修正前後のマスク描画データを図形デ
ータに変換して論理差演算処理を行うマスク描画データ
の検証処理において、 前記修正前後のマスク描画データから修正パターンを含
む単位領域を抽出する処理と、 該単位領域のマスク描画データのみを図形データに変換
して前記論理差演算処理を行う処理とを含み、これら処
理をコンピュータに実行させることを特徴とするマスク
描画データの検証プログラムを格納したコンピュータ読
み取り可能な記録媒体。 - 【請求項１２】 前記修正パターンを含む単位領域を抽
出する処理には、 修正前後のマスク描画データの作成条件を比較する処理
と、修正前後のマスク描画データ中の対応する同じ位置
にある単位領域のデータサイズを比較する処理と、修正
前後のマスク描画データ中の対応する同じ位置にある単
位領域のデータをバイナリ比較する処理とを含み、これ
ら処理をコンピュータに実行させることを特徴とする請
求項１１記載のマスク描画データの検証プログラムを格
納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。 - 【請求項１３】 前記修正前後のマスク描画データ中の
対応する同じ位置にある単位領域のデータサイズを比較
する処理は、 マスク単位、チップ単位、フレーム単位、セル単位の順
に単位領域を比較する処理を含み、 これら処理をコンピュータに実行させることを特徴とす
る請求項１２記載のマスク描画データの検証プログラム
を格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。 - 【請求項１４】 前記論理差演算処理の処理結果を比較
結果データとしてパターンデータに書き込む処理を含
み、 これら処理をコンピュータに実行させることを特徴とす
る請求項１１、１２又は１３記載のマスク描画データの
検証プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14658297A JP3688431B2 (ja) | 1997-06-04 | 1997-06-04 | マスク描画データの検証方法、マスク描画データの検証装置及びマスク描画データの検証プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14658297A JP3688431B2 (ja) | 1997-06-04 | 1997-06-04 | マスク描画データの検証方法、マスク描画データの検証装置及びマスク描画データの検証プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10334134A true JPH10334134A (ja) | 1998-12-18 |
| JP3688431B2 JP3688431B2 (ja) | 2005-08-31 |
Family
ID=15410968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14658297A Expired - Fee Related JP3688431B2 (ja) | 1997-06-04 | 1997-06-04 | マスク描画データの検証方法、マスク描画データの検証装置及びマスク描画データの検証プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3688431B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011069974A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
| US8972907B1 (en) | 2013-09-10 | 2015-03-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Layout correcting method, recording medium and design layout correcting apparatus |
-
1997
- 1997-06-04 JP JP14658297A patent/JP3688431B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011069974A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
| US8972907B1 (en) | 2013-09-10 | 2015-03-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Layout correcting method, recording medium and design layout correcting apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3688431B2 (ja) | 2005-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN118395935B (zh) | 标准单元尺寸调整方法、装置和计算机设备 | |
| JP3688431B2 (ja) | マスク描画データの検証方法、マスク描画データの検証装置及びマスク描画データの検証プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
| JP2000260879A (ja) | レイアウト設計支援装置、コンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
| US5309354A (en) | Electron beam exposure method | |
| JP2000250960A (ja) | 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 | |
| US6577991B1 (en) | Recordable method of processing figure | |
| JP2964995B2 (ja) | 図形処理装置 | |
| JP3770724B2 (ja) | 半導体集積回路装置のマスクパターン検証装置 | |
| US6957176B2 (en) | Reduction processing method and computer readable storage medium having program stored thereon for causing computer to execute the method | |
| CN120181014B (zh) | 一种物理设计方法、装置、服务器及存储介质 | |
| JP2580772B2 (ja) | プリント配線板回路設計規則検証装置 | |
| JP2001159809A (ja) | マスクパターン設計装置、マスクパターン設計方法およびマスクパターン設計プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体 | |
| JP2666733B2 (ja) | 高速図形処理装置 | |
| JP3249001B2 (ja) | マスクｒｏｍの露光データ作成方法 | |
| JPH10334182A (ja) | 読取り位置情報修正システム及びコンピュータを読取り位置情報修正システムとして機能させるためのプログラムを記録した記録媒体 | |
| US7444199B2 (en) | Method for preparing mask and wafer data files | |
| JPH05343304A (ja) | 露光データ切出し装置及び露光パターン切出し方法 | |
| JPH0642070B2 (ja) | マスクｒｏｍ集積回路の露光データ作成方法 | |
| JP2813015B2 (ja) | 図形処理プロセッサ | |
| JPS63106870A (ja) | Ｌｓｉマスクパタ−ン設計装置 | |
| JP2000331042A (ja) | 文字図形発生方法及び装置 | |
| CN114896179A (zh) | 内存页的拷贝方法、装置、计算设备及可读存储介质 | |
| JPH07254012A (ja) | 露光データ作成方法及びその装置 | |
| KR20060112855A (ko) | 포토마스크 기록 장치용 마스크 패턴 데이터의 결함 정정시스템 및 마스크 패턴 데이터의 결함 정정 방법 | |
| JPH05249651A (ja) | データ処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040401 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040413 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040524 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040914 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041112 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050308 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050419 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050531 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050608 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090617 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090617 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100617 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |