JPH10340695A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH10340695A JPH10340695A JP16503597A JP16503597A JPH10340695A JP H10340695 A JPH10340695 A JP H10340695A JP 16503597 A JP16503597 A JP 16503597A JP 16503597 A JP16503597 A JP 16503597A JP H10340695 A JPH10340695 A JP H10340695A
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- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線シャッタの開閉動作を長期間にわたって
正常に行うことができるＸ線発生装置を提供する。 【解決手段】 ケーシング３の内部で発生したＸ線をＸ
線窓４を通して外部へ取り出すと共に、そのＸ線窓４の
周辺を冷却水通路６を流れる冷却水で冷却するようにし
たＸ線発生装置である。Ｘ線窓４の周辺部分に配設され
たＸ線シャッタ７及びそれを矢印Ａ−Ａ’方向へ摺動可
能に支持するシャッタベース８の少なくとも一方を酸に
侵され難い材料、例えばＴａによって形成する。Ｘ線シ
ャッタ７等が腐食されなくなるのでそのＸ線シャッタ７
の摺動特性を長期間にわたって良好に維持できる。
正常に行うことができるＸ線発生装置を提供する。 【解決手段】 ケーシング３の内部で発生したＸ線をＸ
線窓４を通して外部へ取り出すと共に、そのＸ線窓４の
周辺を冷却水通路６を流れる冷却水で冷却するようにし
たＸ線発生装置である。Ｘ線窓４の周辺部分に配設され
たＸ線シャッタ７及びそれを矢印Ａ−Ａ’方向へ摺動可
能に支持するシャッタベース８の少なくとも一方を酸に
侵され難い材料、例えばＴａによって形成する。Ｘ線シ
ャッタ７等が腐食されなくなるのでそのＸ線シャッタ７
の摺動特性を長期間にわたって良好に維持できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、内部で発生したＸ
線をＸ線窓を通して外部へ取り出すようにしたＸ線発生
装置に関する。特に望ましくは、Ｘ線窓の周辺が冷却水
等によって冷却される形式のＸ線発生装置に関する。
線をＸ線窓を通して外部へ取り出すようにしたＸ線発生
装置に関する。特に望ましくは、Ｘ線窓の周辺が冷却水
等によって冷却される形式のＸ線発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線を用いて試料の分析を行うＸ線装置
は、従来より、種々のものが知られている。このＸ線装
置には、一般に、Ｘ線を発生するためのＸ線発生装置が
含まれる。このＸ線発生装置は、通常、ケーシングの内
部で発生したＸ線をケーシング壁の適所に設けたＸ線窓
を通して外部へ取り出している。そして、このＸ線窓の
近傍には、開閉動作を行うＸ線シャッタが設けられるこ
とが多く、このＸ線シャッタを開けばＸ線を外部へ取り
出すことができ、Ｘ線シャッタを閉じればＸ線が外部へ
発散することを阻止できる。
は、従来より、種々のものが知られている。このＸ線装
置には、一般に、Ｘ線を発生するためのＸ線発生装置が
含まれる。このＸ線発生装置は、通常、ケーシングの内
部で発生したＸ線をケーシング壁の適所に設けたＸ線窓
を通して外部へ取り出している。そして、このＸ線窓の
近傍には、開閉動作を行うＸ線シャッタが設けられるこ
とが多く、このＸ線シャッタを開けばＸ線を外部へ取り
出すことができ、Ｘ線シャッタを閉じればＸ線が外部へ
発散することを阻止できる。
【０００３】Ｘ線を確実に遮断できるようにするためＸ
線シャッタは、通常、鉛、タングステン等といった重金
属の材料を用いて形成される。また、そのＸ線シャッタ
を摺動可能に支持するシャッタベースは、黄銅、黄銅に
ＣｒやＮｉをメッキした材料、あるいはステンレス等に
よって形成されることが多い。
線シャッタは、通常、鉛、タングステン等といった重金
属の材料を用いて形成される。また、そのＸ線シャッタ
を摺動可能に支持するシャッタベースは、黄銅、黄銅に
ＣｒやＮｉをメッキした材料、あるいはステンレス等に
よって形成されることが多い。
【０００４】ところで、Ｘ線を取り出すためのＸ線窓の
周辺部分は、Ｘ線ターゲットで反射した電子が当たるこ
とにより温度が上昇する傾向にあり、その温度上昇を防
ぐため、冷却水等といった冷媒によって該部を冷却する
ことが一般的である。また、Ｘ線シャッタの摺動を滑ら
かにするため、そのＸ線シャッタの表面に潤滑材、例え
ば（Ｍｏ）モリブデンコート等を設けることもある。
周辺部分は、Ｘ線ターゲットで反射した電子が当たるこ
とにより温度が上昇する傾向にあり、その温度上昇を防
ぐため、冷却水等といった冷媒によって該部を冷却する
ことが一般的である。また、Ｘ線シャッタの摺動を滑ら
かにするため、そのＸ線シャッタの表面に潤滑材、例え
ば（Ｍｏ）モリブデンコート等を設けることもある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のＸ線発生装置においては、Ｘ線窓の周辺が冷却され
るときにそのＸ線窓の周辺に設けたＸ線シャッタも冷却
されて低温となり、そのＸ線シャッタの周辺の雰囲気は
結露を生じやすい又は湿度の高い状態になる。このよう
な状態下でＸ線を発生させると、空気中の酸素、窒素、
水分等に放射線が作用して硝酸（ＨＮＯ3）が生成す
る。生成したこの硝酸はＸ線シャッタ及び／又はシャッ
タベースと化学的に反応して硝酸化合物を生成すること
が多い。つまり、Ｘ線シャッタ及びシャッタベースが腐
食することが多い。本発明者の分析結果によれば、 Ｎｉ（ＮＯ3）2６Ｈ2Ｏ、Ｎｉ（ＮＯ3）2２Ｈ2Ｏ、Ｃｕ
2（ＯＨ）3ＮＯ3 等の各種生成物がＸ線シャッタ及び／又はシャッタベー
スに付着することが分かった。このようにＸ線シャッタ
等に生成物が付着すると、シャッタベースに対するＸ線
シャッタの摺動動作が正常にできなくなり、その結果、
Ｘ線を十分に遮断できなくなるおそれがあった。
来のＸ線発生装置においては、Ｘ線窓の周辺が冷却され
るときにそのＸ線窓の周辺に設けたＸ線シャッタも冷却
されて低温となり、そのＸ線シャッタの周辺の雰囲気は
結露を生じやすい又は湿度の高い状態になる。このよう
な状態下でＸ線を発生させると、空気中の酸素、窒素、
水分等に放射線が作用して硝酸（ＨＮＯ3）が生成す
る。生成したこの硝酸はＸ線シャッタ及び／又はシャッ
タベースと化学的に反応して硝酸化合物を生成すること
が多い。つまり、Ｘ線シャッタ及びシャッタベースが腐
食することが多い。本発明者の分析結果によれば、 Ｎｉ（ＮＯ3）2６Ｈ2Ｏ、Ｎｉ（ＮＯ3）2２Ｈ2Ｏ、Ｃｕ
2（ＯＨ）3ＮＯ3 等の各種生成物がＸ線シャッタ及び／又はシャッタベー
スに付着することが分かった。このようにＸ線シャッタ
等に生成物が付着すると、シャッタベースに対するＸ線
シャッタの摺動動作が正常にできなくなり、その結果、
Ｘ線を十分に遮断できなくなるおそれがあった。
【０００６】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、Ｘ線シャッタの開閉動作を長期間にわた
って正常に行うことができるＸ線発生装置を提供するこ
とを目的とする。
ものであって、Ｘ線シャッタの開閉動作を長期間にわた
って正常に行うことができるＸ線発生装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線発生装置は、内部で発生したＸ線
をＸ線窓を通して外部へ取り出すようにしたＸ線発生装
置であって、上記Ｘ線窓の周辺部分に一対の摺動部材を
有し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方は酸
に侵され難い材料を含むことを特徴とする。Ｘ線窓の周
辺部分は自然に冷却されたり、あるいは、冷却水等によ
って強制的に冷却される。
め、本発明に係るＸ線発生装置は、内部で発生したＸ線
をＸ線窓を通して外部へ取り出すようにしたＸ線発生装
置であって、上記Ｘ線窓の周辺部分に一対の摺動部材を
有し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方は酸
に侵され難い材料を含むことを特徴とする。Ｘ線窓の周
辺部分は自然に冷却されたり、あるいは、冷却水等によ
って強制的に冷却される。
【０００８】Ｘ線窓の周辺が冷却されると該部の雰囲気
は湿度が高い状態となる。この湿度の高い空気がＸ線す
なわち放射線に曝されると、例えば硝酸が生成され、そ
の結果、一対の摺動部材が化学的に反応して酸化物、例
えば硝酸化合物が生成し易く、すなわち一対の摺動部材
が腐食し易くなる。しかしながら本発明のように、一対
の摺動部材のうちの少なくともいずれか一方を酸に侵さ
れ難い材料によって形成しておけば、それらの摺動部材
が腐食することがなくなり、それ故、摺動部材の摺動動
作を長期間にわたって円滑に行うことができるようにな
る。
は湿度が高い状態となる。この湿度の高い空気がＸ線す
なわち放射線に曝されると、例えば硝酸が生成され、そ
の結果、一対の摺動部材が化学的に反応して酸化物、例
えば硝酸化合物が生成し易く、すなわち一対の摺動部材
が腐食し易くなる。しかしながら本発明のように、一対
の摺動部材のうちの少なくともいずれか一方を酸に侵さ
れ難い材料によって形成しておけば、それらの摺動部材
が腐食することがなくなり、それ故、摺動部材の摺動動
作を長期間にわたって円滑に行うことができるようにな
る。
【０００９】上記構成において「一対の摺動部材」とし
ては、必要に応じてＸ線発生装置の中に設けられる種々
の部材が考えられるが、例えば、Ｘ線が外部へ発散する
のを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッタを摺動
可能に支持するシャッタベースとがその「一対の摺動部
材」を構成することがある。この場合には、それらのＸ
線シャッタ及びシャッタベースの少なくとも一方が酸に
侵され難い材料を含んで形成される。望ましくは、それ
らの両方を酸に侵され難い材料を含んで形成する。
ては、必要に応じてＸ線発生装置の中に設けられる種々
の部材が考えられるが、例えば、Ｘ線が外部へ発散する
のを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッタを摺動
可能に支持するシャッタベースとがその「一対の摺動部
材」を構成することがある。この場合には、それらのＸ
線シャッタ及びシャッタベースの少なくとも一方が酸に
侵され難い材料を含んで形成される。望ましくは、それ
らの両方を酸に侵され難い材料を含んで形成する。
【００１０】一対の摺動部材を酸に侵され難い材料によ
って形成するという場合の「酸」としては任意の酸が考
えられるが、本発明者の実験によれば、「硝酸」に侵さ
れ難い材料によってそれらの摺動部材を形成することが
最も実用的であることが見い出された。
って形成するという場合の「酸」としては任意の酸が考
えられるが、本発明者の実験によれば、「硝酸」に侵さ
れ難い材料によってそれらの摺動部材を形成することが
最も実用的であることが見い出された。
【００１１】上記構成において「酸に侵され難い材料」
としては、例えば、Ｔａ（タンタル）、Ｒｈ（ロジウ
ム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｔ（白金）、Ａｕ（金）
のいずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか
１つを含む合金等が考えられる。発明者の実験によれ
ば、Ｔａを用いるのが実用的であった。
としては、例えば、Ｔａ（タンタル）、Ｒｈ（ロジウ
ム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｔ（白金）、Ａｕ（金）
のいずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか
１つを含む合金等が考えられる。発明者の実験によれ
ば、Ｔａを用いるのが実用的であった。
【００１２】摺動部材を酸に侵され難い材料を含んで形
成するための具体的な方法としては、例えば、摺動部材
の全体をそのような酸に侵され難い材料によって形成す
る方法や、ベース材料を重金属によって形成しそのベー
ス材料の上に酸に侵され難い材料を表面コーティングす
るという方法等が考えられる。「重金属」としては、例
えば、鉛、タングステン、タングステン合金等が該当す
る。「表面コーティング」の方法としては、蒸着、イオ
ンプレーティング、ＣＶＤ、ＰＤＶ、メッキ等といった
各種の膜形成方法が考えられる。酸に侵され難い材料を
表面コーティングする方法を採用すれば、摺動部材の全
体を酸に侵され難い材料、例えばＴａ単体で形成する場
合に比べて、材料コストを低減できる。
成するための具体的な方法としては、例えば、摺動部材
の全体をそのような酸に侵され難い材料によって形成す
る方法や、ベース材料を重金属によって形成しそのベー
ス材料の上に酸に侵され難い材料を表面コーティングす
るという方法等が考えられる。「重金属」としては、例
えば、鉛、タングステン、タングステン合金等が該当す
る。「表面コーティング」の方法としては、蒸着、イオ
ンプレーティング、ＣＶＤ、ＰＤＶ、メッキ等といった
各種の膜形成方法が考えられる。酸に侵され難い材料を
表面コーティングする方法を採用すれば、摺動部材の全
体を酸に侵され難い材料、例えばＴａ単体で形成する場
合に比べて、材料コストを低減できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係るＸ線発生装
置の一実施形態を示している。このＸ線発生装置は、通
電によって熱電子を発生するフィラメント１と、そのフ
ィラメント一に対向して配置されたターゲット２と、そ
れらを気密に包囲するケーシング３とを有する。ケーシ
ング３の適所にはＸ線が透過できる材料、例えばＢｅ
（ベリリウム）によってＸ線窓４が形成されている。ま
た、そのＸ線窓４の近傍には冷却水を通すための冷却水
通路６が設けられる。
置の一実施形態を示している。このＸ線発生装置は、通
電によって熱電子を発生するフィラメント１と、そのフ
ィラメント一に対向して配置されたターゲット２と、そ
れらを気密に包囲するケーシング３とを有する。ケーシ
ング３の適所にはＸ線が透過できる材料、例えばＢｅ
（ベリリウム）によってＸ線窓４が形成されている。ま
た、そのＸ線窓４の近傍には冷却水を通すための冷却水
通路６が設けられる。
【００１４】ケーシング３の内部は気密に密閉され、そ
の適所には、排気ポンプを含む真空排気系（図示せず）
が接続される。そして、その真空排気系の作用により、
ケーシング３の内部が真空状態に排気される。このよう
に、ケーシング３の内部を真空に設定する理由は、ケー
シング３内での放電の発生を防止すること、フィラメン
ト１の酸化を防止すること、そして、できるだけ低いフ
ィラメント温度で十分量の電子をフィラメント１から放
出させること等のためである。
の適所には、排気ポンプを含む真空排気系（図示せず）
が接続される。そして、その真空排気系の作用により、
ケーシング３の内部が真空状態に排気される。このよう
に、ケーシング３の内部を真空に設定する理由は、ケー
シング３内での放電の発生を防止すること、フィラメン
ト１の酸化を防止すること、そして、できるだけ低いフ
ィラメント温度で十分量の電子をフィラメント１から放
出させること等のためである。
【００１５】真空雰囲気下でフィラメント１に通電がな
されると、そのフィラメント１から熱電子が放出され、
その熱電子が高速でターゲット２に衝突する。衝突した
熱電子の一部はＸ線に変化してターゲット２から発散
し、そのＸ線の一部がＸ線窓４を通して外部へ取り出さ
れる。こうして取り出されるＸ線がＸ線回折装置等とい
ったＸ線装置に利用される。
されると、そのフィラメント１から熱電子が放出され、
その熱電子が高速でターゲット２に衝突する。衝突した
熱電子の一部はＸ線に変化してターゲット２から発散
し、そのＸ線の一部がＸ線窓４を通して外部へ取り出さ
れる。こうして取り出されるＸ線がＸ線回折装置等とい
ったＸ線装置に利用される。
【００１６】ターゲット２に衝突した熱電子の多くの部
分は熱に変化してケーシング３を加熱する。ケーシング
３が異常に高温になると各種機器に支障が生じるので、
ケーシング３の過熱は防止すべきである。ケーシング３
の壁内に設けた冷却水通路を流れる冷却水はケーシング
３を冷却してそれが過熱されることを防止する。
分は熱に変化してケーシング３を加熱する。ケーシング
３が異常に高温になると各種機器に支障が生じるので、
ケーシング３の過熱は防止すべきである。ケーシング３
の壁内に設けた冷却水通路を流れる冷却水はケーシング
３を冷却してそれが過熱されることを防止する。
【００１７】図１において、Ｘ線窓４の外側にはＸ線シ
ャッタ７が設けられる。このＸ線シャッタ７は、シャッ
タベース８によって矢印Ａ−Ａ’のように摺動可能に支
持される。このＸ線シャッタ７は、エアシリンダ、電磁
ソレノイド等といった動力源を含んだ駆動装置（図示せ
ず）に接続される。この駆動装置の働きによりＸ線シャ
ッタ７は、シャッタベース８との間で摺動しながら矢印
Ａの方向へ開き移動でき、さらに矢印Ａ’の方向へ閉ま
り移動できる。Ｘ線を取り出したいときにはＸ線シャッ
タ７を矢印Ａ’方向へ開いてＸ線の通過を許容し、それ
以外のときにはＸ線シャッタ７を矢印Ａ方向へ閉じてＸ
線の通過を阻止する。
ャッタ７が設けられる。このＸ線シャッタ７は、シャッ
タベース８によって矢印Ａ−Ａ’のように摺動可能に支
持される。このＸ線シャッタ７は、エアシリンダ、電磁
ソレノイド等といった動力源を含んだ駆動装置（図示せ
ず）に接続される。この駆動装置の働きによりＸ線シャ
ッタ７は、シャッタベース８との間で摺動しながら矢印
Ａの方向へ開き移動でき、さらに矢印Ａ’の方向へ閉ま
り移動できる。Ｘ線を取り出したいときにはＸ線シャッ
タ７を矢印Ａ’方向へ開いてＸ線の通過を許容し、それ
以外のときにはＸ線シャッタ７を矢印Ａ方向へ閉じてＸ
線の通過を阻止する。
【００１８】Ｘ線シャッタ７及びシャッタベース８は、
硝酸化合物を作り難い金属、すなわち、硝酸に対して腐
食し難い金属であるＴａ単体によって形成できる。ま
た、鉛やＷ（タングステン）等といったＸ線遮蔽能力の
高いベース材料の表面にＴａ板を貼り付けることによっ
ても形成できる。Ｔａは原子番号が７３であって、比較
的重元素であるからＸ線遮蔽能力が大きい。従って、Ｘ
線シャッタ７をＴａ単体で形成した場合にもかなり大き
なＸ線遮蔽能力を得ることができる。
硝酸化合物を作り難い金属、すなわち、硝酸に対して腐
食し難い金属であるＴａ単体によって形成できる。ま
た、鉛やＷ（タングステン）等といったＸ線遮蔽能力の
高いベース材料の表面にＴａ板を貼り付けることによっ
ても形成できる。Ｔａは原子番号が７３であって、比較
的重元素であるからＸ線遮蔽能力が大きい。従って、Ｘ
線シャッタ７をＴａ単体で形成した場合にもかなり大き
なＸ線遮蔽能力を得ることができる。
【００１９】Ｔａの厚さを厚くすれば、さらに大きなＸ
線遮蔽能力を得ることができる。また、鉛等のベース材
料の表面にＴａ板を貼り付けるようにすれば、鉛を使用
する分だけＸ線遮蔽能力が向上する。また、その場合に
は、高価なＴａの使用量を減らすことができるので、材
料コストを低減できる。なお、シャッタベース８に関し
ては、Ｘ線が当たる中心部分のみをＴａによって形成す
るようにしても良い。
線遮蔽能力を得ることができる。また、鉛等のベース材
料の表面にＴａ板を貼り付けるようにすれば、鉛を使用
する分だけＸ線遮蔽能力が向上する。また、その場合に
は、高価なＴａの使用量を減らすことができるので、材
料コストを低減できる。なお、シャッタベース８に関し
ては、Ｘ線が当たる中心部分のみをＴａによって形成す
るようにしても良い。
【００２０】一般に、Ｔａは放射線及び水分を含む雰囲
気下で最も硝酸化合物を作り難い金属であるので、本実
施形態のようにＴａを用いてＸ線シャッタ７及びシャッ
タベース８を形成すれば、Ｘ線シャッタ７のまわりに硝
酸化合物が生成すること、換言すればＸ線シャッタ７等
が腐食することを長期間にわたって防止でき、従って、
Ｘ線シャッタ７の開閉を長期間にわたって円滑に維持で
きる。
気下で最も硝酸化合物を作り難い金属であるので、本実
施形態のようにＴａを用いてＸ線シャッタ７及びシャッ
タベース８を形成すれば、Ｘ線シャッタ７のまわりに硝
酸化合物が生成すること、換言すればＸ線シャッタ７等
が腐食することを長期間にわたって防止でき、従って、
Ｘ線シャッタ７の開閉を長期間にわたって円滑に維持で
きる。
【００２１】以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
はなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改
変できる。例えば、上記の実施形態ではＸ線窓４の周辺
に配設される一対の摺動部材としてＸ線シャッタ７及び
シャッタベース８を考えたが、必要に応じて他の摺動機
構がＸ線窓４の周辺に配設される場合には、その摺動機
構に対しても本発明を適用できる。
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
はなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改
変できる。例えば、上記の実施形態ではＸ線窓４の周辺
に配設される一対の摺動部材としてＸ線シャッタ７及び
シャッタベース８を考えたが、必要に応じて他の摺動機
構がＸ線窓４の周辺に配設される場合には、その摺動機
構に対しても本発明を適用できる。
【００２２】また、上記の実施形態では、Ｘ線シャッタ
７及びシャッタベース８の間に硝酸化合物が生成される
場合にそれらの各部材を硝酸に強い材料、例えばＴａを
含んで形成することにした。しかしながら硝酸に強い材
料として、Ｔａに代えて、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのい
ずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つ
を含む合金を用いることもできる。
７及びシャッタベース８の間に硝酸化合物が生成される
場合にそれらの各部材を硝酸に強い材料、例えばＴａを
含んで形成することにした。しかしながら硝酸に強い材
料として、Ｔａに代えて、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのい
ずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つ
を含む合金を用いることもできる。
【００２３】また、上記の実施形態では、Ｘ線シャッタ
７等が硝酸化合物を生成し易い状況下に置かれる場合を
考えたが、このような状況に代えて、Ｘ線シャッタ７等
が硝酸以外の酸化合物を生成し易い環境下に置かれる場
合には、Ｘ線シャッタ７等をそのような硝酸以外の酸に
強い材料によって形成することができる。
７等が硝酸化合物を生成し易い状況下に置かれる場合を
考えたが、このような状況に代えて、Ｘ線シャッタ７等
が硝酸以外の酸化合物を生成し易い環境下に置かれる場
合には、Ｘ線シャッタ７等をそのような硝酸以外の酸に
強い材料によって形成することができる。
【００２４】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線発生装置によれば、
一対の摺動部材を酸に侵され難い材料によって形成した
ので、それらの摺動部材が酸によって腐食することがな
くなり、それ故、摺動部材の摺動動作を長期間にわたっ
て円滑に行うことができるようになる。
一対の摺動部材を酸に侵され難い材料によって形成した
ので、それらの摺動部材が酸によって腐食することがな
くなり、それ故、摺動部材の摺動動作を長期間にわたっ
て円滑に行うことができるようになる。
【００２５】請求項２記載のＸ線発生装置は、Ｘ線窓の
周辺部分が冷却水等といった冷却媒体によって強制的に
冷却される場合を想定している。この場合には、一対の
摺動部材に関する冷却の程度が大きくなるので、それら
の腐食はより一層ひどくなるおそれがある。従って、こ
のようなＸ線発生装置に対して請求項１の構成を採用す
ればより一層効果的である。
周辺部分が冷却水等といった冷却媒体によって強制的に
冷却される場合を想定している。この場合には、一対の
摺動部材に関する冷却の程度が大きくなるので、それら
の腐食はより一層ひどくなるおそれがある。従って、こ
のようなＸ線発生装置に対して請求項１の構成を採用す
ればより一層効果的である。
【００２６】請求項３記載のＸ線発生装置によれば、従
来より腐食によって動作に支障が起き易かったＸ線シャ
ッタに関して、それが腐食することを確実に防止でき、
よって、Ｘ線シャッタの信頼性を大きく向上できるよう
になった。
来より腐食によって動作に支障が起き易かったＸ線シャ
ッタに関して、それが腐食することを確実に防止でき、
よって、Ｘ線シャッタの信頼性を大きく向上できるよう
になった。
【００２７】請求項４記載のＸ線発生装置によれば、放
射線及び水分の両方を含む雰囲気を作り易い性質を有す
るＸ線発生装置に関して、Ｘ線シャッタ等といった摺動
部材が硝酸化合物を生成することを確実に防止できる。
射線及び水分の両方を含む雰囲気を作り易い性質を有す
るＸ線発生装置に関して、Ｘ線シャッタ等といった摺動
部材が硝酸化合物を生成することを確実に防止できる。
【００２８】請求項５記載のＸ線発生装置によれば、Ｘ
線シャッタ等といった摺動部材が硝酸化合物を生成する
ことを確実に防止できる。
線シャッタ等といった摺動部材が硝酸化合物を生成する
ことを確実に防止できる。
【００２９】請求項６記載のＸ線発生装置によれば、摺
動部材のベース材料を重金属によって形成したのでその
摺動部材によってＸ線を確実に遮蔽できる。しかも、ベ
ース材料の表面にコーティングした耐酸性の材料によ
り、摺動部材の表面に酸化合物が生成することを確実に
防止でき、従って、摺動部材の円滑な摺動動作を長期間
にわたって確保できる。また、重金属は一般に耐酸性の
金属に比べて安価であるので、摺動部材を重金属と耐酸
性の金属の両方を用いて形成した本Ｘ線発生装置は、摺
動部材の全体を耐酸性の金属のみによって形成したＸ線
発生装置に比べて安価である。
動部材のベース材料を重金属によって形成したのでその
摺動部材によってＸ線を確実に遮蔽できる。しかも、ベ
ース材料の表面にコーティングした耐酸性の材料によ
り、摺動部材の表面に酸化合物が生成することを確実に
防止でき、従って、摺動部材の円滑な摺動動作を長期間
にわたって確保できる。また、重金属は一般に耐酸性の
金属に比べて安価であるので、摺動部材を重金属と耐酸
性の金属の両方を用いて形成した本Ｘ線発生装置は、摺
動部材の全体を耐酸性の金属のみによって形成したＸ線
発生装置に比べて安価である。
【００３０】
【図１】本発明に係るＸ線発生装置の一実施形態を示す
断面図である。
断面図である。
１ フィラメント ２ ターゲット ３ ケーシング ４ Ｘ線窓 ６ 冷却水通路 ７ Ｘ線シャッタ（摺動部材） ８ シャッタベース（摺動部材）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚本 勝美 東京都昭島市松原町３丁目９番12号 理学 電機株式会社拝島工場内 (72)発明者 渡辺 好章 東京都昭島市松原町３丁目９番12号 理学 電機株式会社拝島工場内
Claims (6)
- 【請求項１】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外
部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 上記Ｘ線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方は酸に
侵され難い材料を含むことを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のＸ線発生装置において、
上記Ｘ線窓の周辺を冷却する冷却手段を有することを特
徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載のＸ線発生装
置において、 上記一対の摺動部材は、Ｘ線が外部へ発散するのを阻止
するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッタを摺動可能に支
持するシャッタベースであり、 上記Ｘ線シャッタ及びシャッタベースの少なくとも一方
は酸に侵され難い材料を含むことを特徴とするＸ線発生
装置。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のうちの少なくと
もいずれか１つに記載のＸ線発生装置において、上記酸
は硝酸であることを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項５】 請求項１から請求項４のうちの少なくと
もいずれか１つに記載のＸ線発生装置において、酸に侵
され難い上記材料は、Ｔａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕの
いずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１
つを含む合金であることを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項６】 請求項１から請求項５のうちの少なくと
もいずれか１つに記載のＸ線発生装置において、上記一
対の摺動部材の少なくとも一方は、重金属によって形成
されたベース材料の上に、酸に侵され難い材料を表面コ
ーティングすることによって形成されることを特徴とす
るＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16503597A JP3685431B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16503597A JP3685431B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | Ｘ線発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10340695A true JPH10340695A (ja) | 1998-12-22 |
| JP3685431B2 JP3685431B2 (ja) | 2005-08-17 |
Family
ID=15804603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16503597A Expired - Fee Related JP3685431B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3685431B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002045122A3 (en) * | 2000-12-01 | 2002-10-03 | Koninkl Philips Electronics Nv | Cold-plate window in a metal-frame x-ray insert |
| EP1166317B1 (en) * | 1999-03-26 | 2004-01-21 | Bede Scientific Instruments Limited | Method and apparatus for prolonging the life of an x-ray target |
| JP2009087940A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Varian Medical Systems Technologies Inc | Ｘ線管の液冷式窓組立体 |
| JP2009187947A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Varian Medical Systems Inc | Ｘ線管およびｘ線管冷却システム |
| CN102610290A (zh) * | 2011-01-12 | 2012-07-25 | 帕纳科有限公司 | X射线遮线器装置 |
| US9748070B1 (en) | 2014-09-17 | 2017-08-29 | Bruker Jv Israel Ltd. | X-ray tube anode |
| US11302508B2 (en) | 2018-11-08 | 2022-04-12 | Bruker Technologies Ltd. | X-ray tube |
-
1997
- 1997-06-06 JP JP16503597A patent/JP3685431B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1166317B1 (en) * | 1999-03-26 | 2004-01-21 | Bede Scientific Instruments Limited | Method and apparatus for prolonging the life of an x-ray target |
| US6778633B1 (en) | 1999-03-26 | 2004-08-17 | Bede Scientific Instruments Limited | Method and apparatus for prolonging the life of an X-ray target |
| EP1213743A3 (en) * | 1999-03-26 | 2007-02-21 | Bede Scientific Instruments Limited | Method and apparatus for prolonging the life of an x-ray target |
| WO2002045122A3 (en) * | 2000-12-01 | 2002-10-03 | Koninkl Philips Electronics Nv | Cold-plate window in a metal-frame x-ray insert |
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| JP2012114099A (ja) * | 2007-09-28 | 2012-06-14 | Varian Medical Systems Inc | Ｘ線管装置及びｘ線管 |
| JP2009187947A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Varian Medical Systems Inc | Ｘ線管およびｘ線管冷却システム |
| CN102610290A (zh) * | 2011-01-12 | 2012-07-25 | 帕纳科有限公司 | X射线遮线器装置 |
| EP2477191A3 (en) * | 2011-01-12 | 2014-07-02 | PANalytical B.V. | X-ray shutter arrangement |
| US9748070B1 (en) | 2014-09-17 | 2017-08-29 | Bruker Jv Israel Ltd. | X-ray tube anode |
| US11302508B2 (en) | 2018-11-08 | 2022-04-12 | Bruker Technologies Ltd. | X-ray tube |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3685431B2 (ja) | 2005-08-17 |
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