JPH1035129A - 印刷用凹版とその製造方法 - Google Patents
印刷用凹版とその製造方法Info
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- JPH1035129A JPH1035129A JP19660796A JP19660796A JPH1035129A JP H1035129 A JPH1035129 A JP H1035129A JP 19660796 A JP19660796 A JP 19660796A JP 19660796 A JP19660796 A JP 19660796A JP H1035129 A JPH1035129 A JP H1035129A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 線幅等に関係なくつねに、断面形状が山なり
のインキ層を形成しうる、新規な印刷用凹版と、その製
造方法とを提供する。 【解決手段】 印刷用凹版１は、版面２に形成した凹部
３の底面３ｌを、凹部３の端の部分３ｌａで浅くかつ中
央部３１ｃが深い形状に形成した。製造方法は、凹版１
となる基板の表面に、印刷パターンに対応した凹部を形
成したのち、先の凹部の底面にそれよりも幅の狭い凹部
を形成する工程を繰り返し行う。
のインキ層を形成しうる、新規な印刷用凹版と、その製
造方法とを提供する。 【解決手段】 印刷用凹版１は、版面２に形成した凹部
３の底面３ｌを、凹部３の端の部分３ｌａで浅くかつ中
央部３１ｃが深い形状に形成した。製造方法は、凹版１
となる基板の表面に、印刷パターンに対応した凹部を形
成したのち、先の凹部の底面にそれよりも幅の狭い凹部
を形成する工程を繰り返し行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、たとえば凹版オ
フセット印刷等の凹版印刷に使用される、印刷用凹版に
関するものである。
フセット印刷等の凹版印刷に使用される、印刷用凹版に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フルカラー表示の液晶ディスプレーに用
いられるカラーフィルタは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の３色の透明着色層と、かかる透明着色層を画素
ごとに区切る、ブラックマトリックスと呼ばれる遮光層
とを透明基板上に形成したもので、微細なパターンを高
精度で形成する必要があるため、従来は主として、いわ
ゆるフォトリソグラフィー法により製造されていた。
いられるカラーフィルタは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の３色の透明着色層と、かかる透明着色層を画素
ごとに区切る、ブラックマトリックスと呼ばれる遮光層
とを透明基板上に形成したもので、微細なパターンを高
精度で形成する必要があるため、従来は主として、いわ
ゆるフォトリソグラフィー法により製造されていた。
【０００３】しかし近時、フルカラー表示の液晶ディス
プレーの需要が飛躍的に増加するとともに、カラーフィ
ルタを簡単かつ大量に生産する必要が生じ、それに対処
すべく、印刷パターンに対応する凹部が形成された凹版
の、上記凹部内に充てんしたインキを、ゴム等の柔軟な
材料からなるブランケットを介して被印刷物（この場合
は透明基板）の表面に転写する、いわゆる凹版オフセッ
ト印刷法の利用が検討されている。
プレーの需要が飛躍的に増加するとともに、カラーフィ
ルタを簡単かつ大量に生産する必要が生じ、それに対処
すべく、印刷パターンに対応する凹部が形成された凹版
の、上記凹部内に充てんしたインキを、ゴム等の柔軟な
材料からなるブランケットを介して被印刷物（この場合
は透明基板）の表面に転写する、いわゆる凹版オフセッ
ト印刷法の利用が検討されている。
【０００４】上記凹版オフセット印刷法においては、凹
版を、前述したフォトリソグラフィー法等によって形成
することにより、他の印刷法に比べて高精度の印刷が可
能となるという利点がある。また上記凹版オフセット印
刷法は、印刷ラインの直線性やインキ膜厚の均一性の点
でも、他の印刷法（たとえば水なし平板オフセット印刷
法等）に比べてすぐれている。
版を、前述したフォトリソグラフィー法等によって形成
することにより、他の印刷法に比べて高精度の印刷が可
能となるという利点がある。また上記凹版オフセット印
刷法は、印刷ラインの直線性やインキ膜厚の均一性の点
でも、他の印刷法（たとえば水なし平板オフセット印刷
法等）に比べてすぐれている。
【０００５】さらに凹版の、インキが充てんされる凹部
の深さが深いために、とくに遮光層に必要なインキ層の
厚みが１回の印刷でえられることや、あるいは凹部の深
さを調整することによりインキ層の厚みを自在に調整で
きることも、凹版オフセット印刷法の利点としてあげら
れる。前述したカラーフィルターは、液晶ディスプレー
を構成する、液晶層を挟むｌ対の透明基板のうちの一方
の、液晶層側の表面に形成されるため、平坦性が要求さ
れる。
の深さが深いために、とくに遮光層に必要なインキ層の
厚みが１回の印刷でえられることや、あるいは凹部の深
さを調整することによりインキ層の厚みを自在に調整で
きることも、凹版オフセット印刷法の利点としてあげら
れる。前述したカラーフィルターは、液晶ディスプレー
を構成する、液晶層を挟むｌ対の透明基板のうちの一方
の、液晶層側の表面に形成されるため、平坦性が要求さ
れる。
【０００６】このため従来は、上記凹版オフセット印刷
法にて透明基板上に転写したＲ、Ｇ、Ｂの３色の透明着
色層と遮光層の４種のインキ層の上に、さらに平坦化層
を形成していたが、近時、カラーフィルタにおける光透
過率の向上と、より一層の低コスト化とをめざして、上
記平坦化層を省略する試みがなされている。あるいはま
た、強誘電液晶を利用した、従来に比べてより一層、カ
ラーフィルタの平坦性が求められる液晶ディスプレーの
実用化も進行しつつある。
法にて透明基板上に転写したＲ、Ｇ、Ｂの３色の透明着
色層と遮光層の４種のインキ層の上に、さらに平坦化層
を形成していたが、近時、カラーフィルタにおける光透
過率の向上と、より一層の低コスト化とをめざして、上
記平坦化層を省略する試みがなされている。あるいはま
た、強誘電液晶を利用した、従来に比べてより一層、カ
ラーフィルタの平坦性が求められる液晶ディスプレーの
実用化も進行しつつある。
【０００７】そこでこれらの動きに対応すべく、凹版オ
フセット印刷法によって透明基板上に転写したインキ層
を、硬化前の段階で、インキに対する親和性の低い材料
からなるローラによって数回〜十数回程度、押しつぶし
て平坦化することが試みられている。なお上記の平坦化
処理は、上述したように硬化前のインキ層に対して行わ
れるので、ほこり等の付着によるカラーフィルタの歩留
りの低下を抑制するには、ローラによってインキ層を押
しつぶす回数を、できるだけ少なくすることが望まし
い。
フセット印刷法によって透明基板上に転写したインキ層
を、硬化前の段階で、インキに対する親和性の低い材料
からなるローラによって数回〜十数回程度、押しつぶし
て平坦化することが試みられている。なお上記の平坦化
処理は、上述したように硬化前のインキ層に対して行わ
れるので、ほこり等の付着によるカラーフィルタの歩留
りの低下を抑制するには、ローラによってインキ層を押
しつぶす回数を、できるだけ少なくすることが望まし
い。
【０００８】つまりより少ない押しつぶしの回数で、イ
ンキ層が簡単に平坦化されるのが好ましく、そのために
は、たとえば図４(a) に示すように透明基板５上に転写
したインキ層６が、山なりの断面形状を有する、それ自
体がほぼ平坦なものであるのが理想的であることが、こ
れまでの研究によって明らかとされている。
ンキ層が簡単に平坦化されるのが好ましく、そのために
は、たとえば図４(a) に示すように透明基板５上に転写
したインキ層６が、山なりの断面形状を有する、それ自
体がほぼ平坦なものであるのが理想的であることが、こ
れまでの研究によって明らかとされている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところが図４(b) に示
すように、従来の凹版を使用して、凹版オフセット印刷
法にて透明基板５上に転写したインキ層６は、断面形状
が略凹字状となってしまい、平坦化するのに要する押し
つぶしの回数が増加したり、あるいは何回押しつぶして
も十分に平坦化できなくなったりするという問題のある
ことが明らかとなった。
すように、従来の凹版を使用して、凹版オフセット印刷
法にて透明基板５上に転写したインキ層６は、断面形状
が略凹字状となってしまい、平坦化するのに要する押し
つぶしの回数が増加したり、あるいは何回押しつぶして
も十分に平坦化できなくなったりするという問題のある
ことが明らかとなった。
【００１０】このようにインキ層６が略凹字状の断面形
状となるのは、凹版からブランケットへインキを転写す
る際に、図５に一点鎖線で示すようにブランケット７
が、凹版９の凹部９１内に圧入され、それによって上記
凹部９ｌの、端の部分のインキ層が厚く、中央部のイン
キ層が薄くなるとともに、上記ブランケット７の圧入に
よってはみ出したインキが凹部９ｌの両側に溜まる結
果、ブランケット７に転写されたインキ層の端の部分と
中央部とで、インキの分布にばらつきが生じるのが、主
たる原因であると考えられる。
状となるのは、凹版からブランケットへインキを転写す
る際に、図５に一点鎖線で示すようにブランケット７
が、凹版９の凹部９１内に圧入され、それによって上記
凹部９ｌの、端の部分のインキ層が厚く、中央部のイン
キ層が薄くなるとともに、上記ブランケット７の圧入に
よってはみ出したインキが凹部９ｌの両側に溜まる結
果、ブランケット７に転写されたインキ層の端の部分と
中央部とで、インキの分布にばらつきが生じるのが、主
たる原因であると考えられる。
【００１１】上記の現象はとくに、凹版９の凹部９１の
幅が広い場合に、顕著になる傾向がある。この発明の目
的は、線幅等に関係なくつねに、断面形状が山なりのイ
ンキ層を形成しうる、新規な印刷用の凹版と、その製造
方法とを提供することにある。
幅が広い場合に、顕著になる傾向がある。この発明の目
的は、線幅等に関係なくつねに、断面形状が山なりのイ
ンキ層を形成しうる、新規な印刷用の凹版と、その製造
方法とを提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の、この発明の印刷用凹版は、その版面に形成された凹
部の底面が、当該凹部の端の部分で浅くかつ中央部が深
い形状に形成されていることを特徴とするものである。
上記構成からなる、この発明の印刷用凹版においては、
上記のごとく凹部の底面が、当該凹部の端の部分で浅く
かつ中央部が深い形状に形成されているため、たとえば
線幅が広いインキ層に対応した凹部の場合でも、ブラン
ケットの圧入によって、当該凹部の端の部分のインキ層
が、中央部のインキ層よりも極端に厚くなることがな
い。のみならず凹部の、端の部分と中央部の深さの割合
の設定により、当該凹部の端の部分のインキ層と、中央
部のインキ層とを等しい厚みとしたり、あるいは端の部
分のインキ層を、中央部のインキ層よりも薄くしたりす
ることもできる。このため、ブランケットに転写された
インキ層の端の部分と中央部とでインキの分布にばらつ
きが生じて、透明基板上に形成されたインキ層が略凹字
状の断面形状となることが防止され、上記インキ層は、
たとえば線幅等に関係なくつねに、山なりの断面形状を
有するものとなって、より少ない押しつぶしの回数で簡
単に平坦化できるものとなる。
の、この発明の印刷用凹版は、その版面に形成された凹
部の底面が、当該凹部の端の部分で浅くかつ中央部が深
い形状に形成されていることを特徴とするものである。
上記構成からなる、この発明の印刷用凹版においては、
上記のごとく凹部の底面が、当該凹部の端の部分で浅く
かつ中央部が深い形状に形成されているため、たとえば
線幅が広いインキ層に対応した凹部の場合でも、ブラン
ケットの圧入によって、当該凹部の端の部分のインキ層
が、中央部のインキ層よりも極端に厚くなることがな
い。のみならず凹部の、端の部分と中央部の深さの割合
の設定により、当該凹部の端の部分のインキ層と、中央
部のインキ層とを等しい厚みとしたり、あるいは端の部
分のインキ層を、中央部のインキ層よりも薄くしたりす
ることもできる。このため、ブランケットに転写された
インキ層の端の部分と中央部とでインキの分布にばらつ
きが生じて、透明基板上に形成されたインキ層が略凹字
状の断面形状となることが防止され、上記インキ層は、
たとえば線幅等に関係なくつねに、山なりの断面形状を
有するものとなって、より少ない押しつぶしの回数で簡
単に平坦化できるものとなる。
【００１３】また、上記この発明の印刷用凹版を製造す
るための、この発明の印刷用凹版の製造方法は、凹版と
なる基板の、当該凹版の版面となる表面に、印刷パター
ンに対応した凹部を形成したのち、先の凹部の底面にそ
れよりも幅の狭い凹部を形成する工程をｌ回、または２
回以上行って、上記印刷パターンに対応した凹部の底面
を、当該凹部の端の部分で浅くかつ中央部が深い形状に
形成することを特徴とするものである。
るための、この発明の印刷用凹版の製造方法は、凹版と
なる基板の、当該凹版の版面となる表面に、印刷パター
ンに対応した凹部を形成したのち、先の凹部の底面にそ
れよりも幅の狭い凹部を形成する工程をｌ回、または２
回以上行って、上記印刷パターンに対応した凹部の底面
を、当該凹部の端の部分で浅くかつ中央部が深い形状に
形成することを特徴とするものである。
【００１４】上記この発明の製造方法によれば、前述し
たようにすぐれた作用効果を奏するこの発明の印刷用凹
版を、たとえばレジスト膜の形成とエッチングのような
従来の技術の組み合わせによって、簡単かつ効率的に製
造することが可能となる。
たようにすぐれた作用効果を奏するこの発明の印刷用凹
版を、たとえばレジスト膜の形成とエッチングのような
従来の技術の組み合わせによって、簡単かつ効率的に製
造することが可能となる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下にこの発明を、その実施の形
態の一例を示す図面を参照しつつ説明する。図１にみる
ようにこの例の印刷用凹版ｌは、その版面２に形成し
た、印刷パターンに対応した凹部３の底面３１のうち、
当該凹部３の端の部分３１ａの深さＤ 1 が、中央部３１
ｃの深さＤ3 よりも浅くなるように、上記底面３１を階
段状としたものである。
態の一例を示す図面を参照しつつ説明する。図１にみる
ようにこの例の印刷用凹版ｌは、その版面２に形成し
た、印刷パターンに対応した凹部３の底面３１のうち、
当該凹部３の端の部分３１ａの深さＤ 1 が、中央部３１
ｃの深さＤ3 よりも浅くなるように、上記底面３１を階
段状としたものである。
【００１６】また図の例の場合、上記端の部分３ｌａと
中央部３１ｃとの間には、その深さＤ2 が、端の部分３
１ａの深さＤ1 よりも深く、かつ中央部３１ｃの深さＤ
3 よりも浅いｌ段の中間段部３１ｂが形成されている。
上記例の印刷用凹版１によれば、上記のごとく、凹部３
の端の部分３１ａの深さＤ1 が、中央部３１ｃの深さＤ
3 よりも浅くなっているため、かかる凹部３に、ドクタ
ーブレード等を用いてインキを充てんし、それをブラン
ケット等を介して転写して、透明基板５上に形成された
インキ層６は、たとえば図４(a) に示すように、線幅等
に関係なくつねに、山なりの断面形状を有する、それ自
体がほぼ平坦なものとなる。
中央部３１ｃとの間には、その深さＤ2 が、端の部分３
１ａの深さＤ1 よりも深く、かつ中央部３１ｃの深さＤ
3 よりも浅いｌ段の中間段部３１ｂが形成されている。
上記例の印刷用凹版１によれば、上記のごとく、凹部３
の端の部分３１ａの深さＤ1 が、中央部３１ｃの深さＤ
3 よりも浅くなっているため、かかる凹部３に、ドクタ
ーブレード等を用いてインキを充てんし、それをブラン
ケット等を介して転写して、透明基板５上に形成された
インキ層６は、たとえば図４(a) に示すように、線幅等
に関係なくつねに、山なりの断面形状を有する、それ自
体がほぼ平坦なものとなる。
【００１７】よってかかるインキ層は、たとえば図４
(b) に示すような略凹字状の断面形状を有するものに比
べて、平坦化のためにローラによって押しつぶす回数を
少なくできるので、ほこり等の付着による歩留りの低下
を抑制して、カラーフィルタ等を効率よく、高い生産性
でもって製造することが可能となる。なお図の例では、
前述したように凹部３の端の部分３１ａと中央部３１ｃ
との間に、両者の中間の深さを有する１段の中間段部３
ｌｂを設けていたが、この中間段部３１ｂは省略しても
よいし、逆に２段以上設けてもよい。
(b) に示すような略凹字状の断面形状を有するものに比
べて、平坦化のためにローラによって押しつぶす回数を
少なくできるので、ほこり等の付着による歩留りの低下
を抑制して、カラーフィルタ等を効率よく、高い生産性
でもって製造することが可能となる。なお図の例では、
前述したように凹部３の端の部分３１ａと中央部３１ｃ
との間に、両者の中間の深さを有する１段の中間段部３
ｌｂを設けていたが、この中間段部３１ｂは省略しても
よいし、逆に２段以上設けてもよい。
【００１８】また、たとえば線幅の広い部分と狭い部分
が混在するような印刷パターンの場合は、それに対応す
る各凹部の底面の段数や各段の幅等を調整したり、ある
いは線幅の広い部分に対応する凹部の底面にのみ、この
発明の構成を採用したりすることもできる。さらに図の
例では、凹部３の端の部分３１ａと中央部３１ｃとの深
さに差をつけるべく、当該凹部３の底面３１を、上記の
ごとく階段状としていたが、たとえば滑らかな逆アーチ
状の曲面や、あるいはＶ字状の斜面として、同様の効果
をえるようにしてもよい。
が混在するような印刷パターンの場合は、それに対応す
る各凹部の底面の段数や各段の幅等を調整したり、ある
いは線幅の広い部分に対応する凹部の底面にのみ、この
発明の構成を採用したりすることもできる。さらに図の
例では、凹部３の端の部分３１ａと中央部３１ｃとの深
さに差をつけるべく、当該凹部３の底面３１を、上記の
ごとく階段状としていたが、たとえば滑らかな逆アーチ
状の曲面や、あるいはＶ字状の斜面として、同様の効果
をえるようにしてもよい。
【００１９】上記印刷用凹版１のもとになる基板材料と
しては、金属やガラス等の、凹版に用いられる種々の材
料が、そのまま利用できる。上記図の例の印刷用凹版１
を製造するには、たとえば図２(a) 〜(c) 、図３(a) 〜
(c) に示した、この発明の製造方法が好適に採用され
る。すなわちまず図２(a) に示すように、印刷用凹版ｌ
となる基板ｌａの、版面２となる表面２ａに、印刷パタ
ーンに対応したレジスト膜４１を形成する。
しては、金属やガラス等の、凹版に用いられる種々の材
料が、そのまま利用できる。上記図の例の印刷用凹版１
を製造するには、たとえば図２(a) 〜(c) 、図３(a) 〜
(c) に示した、この発明の製造方法が好適に採用され
る。すなわちまず図２(a) に示すように、印刷用凹版ｌ
となる基板ｌａの、版面２となる表面２ａに、印刷パタ
ーンに対応したレジスト膜４１を形成する。
【００２０】つぎにこの基板１ａの表面２ａをエッチン
グすると、上記レジスト膜４１の形状に応じた、印刷パ
ターンに対応した凹部３ａが形成される〔図２(b) 〕。
この凹部３ａの深さｄ1 は、前述した凹部３の端の部分
３ｌａの深さＤ1 とする。つぎに図２(c) に示すよう
に、先のレジスト膜４１を除去した基板１ａの表面２ａ
と、凹部３ａの側面および底面とに、当該凹部３ａの底
面に、それよりも幅の狭い凹部を形成するためのパター
ンに対応したレジスト膜４２を形成し、エッチングす
る。
グすると、上記レジスト膜４１の形状に応じた、印刷パ
ターンに対応した凹部３ａが形成される〔図２(b) 〕。
この凹部３ａの深さｄ1 は、前述した凹部３の端の部分
３ｌａの深さＤ1 とする。つぎに図２(c) に示すよう
に、先のレジスト膜４１を除去した基板１ａの表面２ａ
と、凹部３ａの側面および底面とに、当該凹部３ａの底
面に、それよりも幅の狭い凹部を形成するためのパター
ンに対応したレジスト膜４２を形成し、エッチングす
る。
【００２１】そうすると図３(a) に示すように凹部３ａ
の底面に、上記レジスト膜４２の形状に応じた、当該凹
部３ａの底面よりも幅の狭い凹部３ｂが形成される。こ
の凹部３ｂの深さｄ2 は、先の凹部３ａの深さｄ1 との
合計の深さｄ1 ＋ｄ 2 が、前述した凹部３の中間段部３
ｌｂの深さＤ2 と等しくなるように設定する。
の底面に、上記レジスト膜４２の形状に応じた、当該凹
部３ａの底面よりも幅の狭い凹部３ｂが形成される。こ
の凹部３ｂの深さｄ2 は、先の凹部３ａの深さｄ1 との
合計の深さｄ1 ＋ｄ 2 が、前述した凹部３の中間段部３
ｌｂの深さＤ2 と等しくなるように設定する。
【００２２】つぎに、先のレジスト膜４２を除去した基
板１ａの表面２ａと、凹部３ａ、３ｂの側面および底面
とに、凹部３ｂの底面に、それよりも幅の狭い凹部を形
成するためのパターンに対応したレジスト膜４３を形成
する〔図３(b) 〕。そしてエッチングすると、図３(c)
に示すように凹部３ｂの底面に、上記レジスト膜４３の
形状に応じた、当該凹部３ｂの底面よりも幅の狭い凹部
３ｃが形成され、このあとレジスト膜４３を除去する
と、図ｌに示す印刷用凹版ｌが完成する。
板１ａの表面２ａと、凹部３ａ、３ｂの側面および底面
とに、凹部３ｂの底面に、それよりも幅の狭い凹部を形
成するためのパターンに対応したレジスト膜４３を形成
する〔図３(b) 〕。そしてエッチングすると、図３(c)
に示すように凹部３ｂの底面に、上記レジスト膜４３の
形状に応じた、当該凹部３ｂの底面よりも幅の狭い凹部
３ｃが形成され、このあとレジスト膜４３を除去する
と、図ｌに示す印刷用凹版ｌが完成する。
【００２３】なお上記凹部３ｃの深さｄ3 は、先の凹部
３ａ、３ｂの深さｄ1 、ｄ2 との合計の深さｄ1 ＋ｄ2
＋ｄ3 が、前述した凹部３の中央部３１ｃの深さＤ3 と
等しくなるように設定する。上記この発明の製造方法に
よれば、レジスト膜の形成とエッチングのような従来の
技術の組み合わせによって、前述したようにすぐれた作
用効果を奏するこの発明の印刷用凹版を製造できるとい
う利点がある。
３ａ、３ｂの深さｄ1 、ｄ2 との合計の深さｄ1 ＋ｄ2
＋ｄ3 が、前述した凹部３の中央部３１ｃの深さＤ3 と
等しくなるように設定する。上記この発明の製造方法に
よれば、レジスト膜の形成とエッチングのような従来の
技術の組み合わせによって、前述したようにすぐれた作
用効果を奏するこの発明の印刷用凹版を製造できるとい
う利点がある。
【００２４】なお前記レジスト膜４１〜４３はそれぞ
れ、基板ｌａ上に感光性のレジスト剤を塗布し、乾燥さ
せた上に印刷パターンの原板を重ねて露光したのち現像
する、いわゆるフォトリソグラフィー法により形成する
のが、前述した精度の点や、あるいは再現性、量産性等
の点で好適である。ただし、基板１ａ上に感光性のレジ
スト剤を塗布し、乾燥させた上に、直接にレーザー光等
を走査して露光する等、上記フォトリソグラフィー法と
並列的な他の技術によってレジスト膜４ｌ〜４３を形成
してもよい。あるいはまた、レジスト膜とエッチングと
によらず、加工用のレーザー光等を走査して直接に、基
板１ａ上に凹部を形成してもよい。
れ、基板ｌａ上に感光性のレジスト剤を塗布し、乾燥さ
せた上に印刷パターンの原板を重ねて露光したのち現像
する、いわゆるフォトリソグラフィー法により形成する
のが、前述した精度の点や、あるいは再現性、量産性等
の点で好適である。ただし、基板１ａ上に感光性のレジ
スト剤を塗布し、乾燥させた上に、直接にレーザー光等
を走査して露光する等、上記フォトリソグラフィー法と
並列的な他の技術によってレジスト膜４ｌ〜４３を形成
してもよい。あるいはまた、レジスト膜とエッチングと
によらず、加工用のレーザー光等を走査して直接に、基
板１ａ上に凹部を形成してもよい。
【００２５】その他、この発明の要旨を変更しない範囲
で、種々の変更を施すことができる。
で、種々の変更を施すことができる。
【００２６】
【実施例】以下にこの発明を、実施例、比較例に基づい
て説明する。 実施例１ ソーダライムガラス製の基板ｌａの表面に、ポジ型の感
光性レジストを塗布して乾燥させたのち、線幅１ｌ０μ
ｍのストライプ状の印刷パターンの原板を重ねて露光
し、現像して、上記印刷パターンに対応したレジスト膜
４１を形成した〔図２(a) 〕 。
て説明する。 実施例１ ソーダライムガラス製の基板ｌａの表面に、ポジ型の感
光性レジストを塗布して乾燥させたのち、線幅１ｌ０μ
ｍのストライプ状の印刷パターンの原板を重ねて露光
し、現像して、上記印刷パターンに対応したレジスト膜
４１を形成した〔図２(a) 〕 。
【００２７】つぎに上記基板１ａを、一定温度に保持し
たガラス用のエッチング液に浸漬してエッチングを行っ
て、上記印刷パターンに対応した、練幅ｌ１０μｍ、深
さｄ 1 ＝８μｍのストライプ状の第ｌ段目の凹部３ａを
形成した〔図２(b) 〕。つぎに、基板１ａの表面から先
のレジスト膜４ｌを除去した後、前記と同様の工程で、
先の第１段目の凹部３ａの底面中央部に、線幅５０μｍ
の凹部を形成するためのレジスト膜４２を形成し、エッ
チングして、線幅５０μｍ、深さｄ2 ＝４μｍの第２段
目の凹部３ｂを形成した〔図２(c) 〜図３(a) 〕。
たガラス用のエッチング液に浸漬してエッチングを行っ
て、上記印刷パターンに対応した、練幅ｌ１０μｍ、深
さｄ 1 ＝８μｍのストライプ状の第ｌ段目の凹部３ａを
形成した〔図２(b) 〕。つぎに、基板１ａの表面から先
のレジスト膜４ｌを除去した後、前記と同様の工程で、
先の第１段目の凹部３ａの底面中央部に、線幅５０μｍ
の凹部を形成するためのレジスト膜４２を形成し、エッ
チングして、線幅５０μｍ、深さｄ2 ＝４μｍの第２段
目の凹部３ｂを形成した〔図２(c) 〜図３(a) 〕。
【００２８】つぎに、基板ｌａの表面から再びレジスト
膜４２を除去した後、前記と同様の工程で、上記第２段
目の凹部３ｂの底面中央部に、線幅２０μｍの凹部を形
成するためのレジスト膜４３を形成し、エッチングし
て、線幅２０μｍ、深さｄ3 ＝４μｍの第３段目の凹部
３ｃを形成した〔図３(b) 〜図３(c) 〕。そしてレジス
ト膜４３を除去して、図ｌに示すように底面３ｌが３段
の階段状になった凹部３を有し、かつ上記凹部３の端の
部分３ｌａの深さＤ1 ＝８μｍ、中間段部３ｌｂの深さ
Ｄ2 ＝１２μｍ、中央部３１ｃの深さＤ3 ＝ｌ６μｍで
ある印刷用凹版１を製造した。
膜４２を除去した後、前記と同様の工程で、上記第２段
目の凹部３ｂの底面中央部に、線幅２０μｍの凹部を形
成するためのレジスト膜４３を形成し、エッチングし
て、線幅２０μｍ、深さｄ3 ＝４μｍの第３段目の凹部
３ｃを形成した〔図３(b) 〜図３(c) 〕。そしてレジス
ト膜４３を除去して、図ｌに示すように底面３ｌが３段
の階段状になった凹部３を有し、かつ上記凹部３の端の
部分３ｌａの深さＤ1 ＝８μｍ、中間段部３ｌｂの深さ
Ｄ2 ＝１２μｍ、中央部３１ｃの深さＤ3 ＝ｌ６μｍで
ある印刷用凹版１を製造した。
【００２９】なお、上記３回のエッチングの際に使用し
た印刷パターンの原板としてはそれぞれ、ソーダライム
ガラス製の基板の表面にスパッタ蒸着した膜厚０．１μ
ｍのクロム膜を、レーザー光の照射によって、印刷パタ
ーンに対応した部分のみ除去したものを用いた。上記印
刷用凹版を、表面層がシリコーンゴム製であるブランケ
ットを用いた凹版オフセット印刷機にセットし、凹版−
ブランケット間の転写速度ｌ０ｍｍ／秒、ブランケット
―透明基板間の転写速度３００ｍｍ／秒の条件で、透明
基板へのインキの印刷を行った。なお印圧は、ブランケ
ットのニップ量が８ｍｍとなるように設定した。またイ
ンキとしては、ポリエステル樹脂基剤に、顔料を平均粒
径０．０５μｍ程度まで微分散させた、定常流粘度ｌ０
００ポアズ、降伏値１００００ｄｙｎ／ｃｍのものを用
いた。
た印刷パターンの原板としてはそれぞれ、ソーダライム
ガラス製の基板の表面にスパッタ蒸着した膜厚０．１μ
ｍのクロム膜を、レーザー光の照射によって、印刷パタ
ーンに対応した部分のみ除去したものを用いた。上記印
刷用凹版を、表面層がシリコーンゴム製であるブランケ
ットを用いた凹版オフセット印刷機にセットし、凹版−
ブランケット間の転写速度ｌ０ｍｍ／秒、ブランケット
―透明基板間の転写速度３００ｍｍ／秒の条件で、透明
基板へのインキの印刷を行った。なお印圧は、ブランケ
ットのニップ量が８ｍｍとなるように設定した。またイ
ンキとしては、ポリエステル樹脂基剤に、顔料を平均粒
径０．０５μｍ程度まで微分散させた、定常流粘度ｌ０
００ポアズ、降伏値１００００ｄｙｎ／ｃｍのものを用
いた。
【００３０】そして、上記インキ層を硬化させたのち、
その断面形状を顕徹鏡にて観察したところ、図４(a) に
示すような山なり状であることが確認された。また、表
面形状測定器〔テンコール（株）製のＰ―ｌ０〕を用い
て、上記インキ層表面の段差を測定したところ±０．１
５μｍであった。また硬化前のインキ層を、ローラによ
ってｌ回だけ押しつぶした後、硬化させて、上記と同様
にしてインキ層表面の段差を測定したところ±０．０５
μｍまで平坦化できたことが確認された。
その断面形状を顕徹鏡にて観察したところ、図４(a) に
示すような山なり状であることが確認された。また、表
面形状測定器〔テンコール（株）製のＰ―ｌ０〕を用い
て、上記インキ層表面の段差を測定したところ±０．１
５μｍであった。また硬化前のインキ層を、ローラによ
ってｌ回だけ押しつぶした後、硬化させて、上記と同様
にしてインキ層表面の段差を測定したところ±０．０５
μｍまで平坦化できたことが確認された。
【００３１】比較例ｌ ソーダライムガラス製の基板の表面に、実施例１と同様
の工程で、線幅ｌ１０μｍ、深さｌ０μｍの、ｌ段のみ
のストライプ状の凹部を形成したものを比較例１の印刷
用凹版とした。そして上記印刷用凹版を用いて、実施例
１と同様にしてインキ層を形成し、硬化させたのち、そ
の断面形状を顕微鏡にて観察したところ、図４(b) に示
すような略凹字状であることが確認された。また、前出
の表面形状測定器を用いて、上記インキ層表面の段差を
測定したところ±０．５μｍであった。また硬化前のイ
ンキ層を、ローラによって１回だけ押しつぶした後、硬
化させて、上記と同様にしてインキ層表面の段差を測定
したところ±０．２μｍまでしか平坦化できなかった。
そこで押しつぶしの回数をｌ５回まで、ｌ回ずつ増加さ
せながら、硬化後のインキ層表面の段差を測定したが、
押しつぶしをｌ５回行っても、インキ層を±０．１５μ
ｍまでしか平坦化できなかった。
の工程で、線幅ｌ１０μｍ、深さｌ０μｍの、ｌ段のみ
のストライプ状の凹部を形成したものを比較例１の印刷
用凹版とした。そして上記印刷用凹版を用いて、実施例
１と同様にしてインキ層を形成し、硬化させたのち、そ
の断面形状を顕微鏡にて観察したところ、図４(b) に示
すような略凹字状であることが確認された。また、前出
の表面形状測定器を用いて、上記インキ層表面の段差を
測定したところ±０．５μｍであった。また硬化前のイ
ンキ層を、ローラによって１回だけ押しつぶした後、硬
化させて、上記と同様にしてインキ層表面の段差を測定
したところ±０．２μｍまでしか平坦化できなかった。
そこで押しつぶしの回数をｌ５回まで、ｌ回ずつ増加さ
せながら、硬化後のインキ層表面の段差を測定したが、
押しつぶしをｌ５回行っても、インキ層を±０．１５μ
ｍまでしか平坦化できなかった。
【００３２】
【発明の効果】以上、詳述したようにこの発明の印刷用
凹版によれば、線幅等に関係なくつねに、押しつぶしに
よる平坦化が容易な、断面形状が山なりのインキ層を形
成することができる。よってこの発明の印刷用凹版を使
用すれば、インキ層を平坦化するためにローラによって
押しつぶす回数を少なくできるので、ほこり等の付着に
よる歩留りの低下を抑制して、カラーフィルタ等を効率
よく、高い生産性でもって製造することが可能となると
いう特有の作用効果を奏する。またこの発明の印刷用凹
版の製造方法によれば、上記のように特性のすぐれたこ
の発明の印刷用凹版を、従来の技術の組み合わせによっ
て、簡単かつ効率的に製造することが可能となる。
凹版によれば、線幅等に関係なくつねに、押しつぶしに
よる平坦化が容易な、断面形状が山なりのインキ層を形
成することができる。よってこの発明の印刷用凹版を使
用すれば、インキ層を平坦化するためにローラによって
押しつぶす回数を少なくできるので、ほこり等の付着に
よる歩留りの低下を抑制して、カラーフィルタ等を効率
よく、高い生産性でもって製造することが可能となると
いう特有の作用効果を奏する。またこの発明の印刷用凹
版の製造方法によれば、上記のように特性のすぐれたこ
の発明の印刷用凹版を、従来の技術の組み合わせによっ
て、簡単かつ効率的に製造することが可能となる。
【図１】この発明の印刷用凹版の、実施の形態の一例を
示す拡大断面図である。
示す拡大断面図である。
【図２】同図(a) 〜(c) はそれぞれ、図ｌの印刷用凹版
を製造する工程を示す拡大断面図である。
を製造する工程を示す拡大断面図である。
【図３】同図(a) 〜(c) はそれぞれ、図１の印刷用凹版
を製造する工程を示す拡大断面図である。
を製造する工程を示す拡大断面図である。
【図４】同図(a)(b)はそれぞれ、凹版オフセット印刷法
によって基板上に形成されるインキ層の断面形状を示す
拡大断面図である。
によって基板上に形成されるインキ層の断面形状を示す
拡大断面図である。
【図５】従来の印刷用凹版の一例を示す拡大断面図であ
る。
る。
１ 印刷用凹版 ２ 版面 ３ 凹部 ３ｌ 底面 ３ｌａ 端の部分 ３１ｃ 中央部 ｌａ 基板 ２ａ 表面 ３ａ、３ｂ、３ｃ 凹部
Claims (2)
- 【請求項１】凹版印刷用の凹版であって、その版面に形
成された凹部の底面が、当該凹部の端の部分で浅くかつ
中央部が深い形状に形成されていることを特徴とする印
刷用凹版。 - 【請求項２】請求項ｌ記載の印刷用凹版を製造する方法
であって、凹版となる基板の、当該凹版の版面となる表
面に、印刷パターンに対応した凹部を形成したのち、先
の凹部の底面にそれよりも幅の狭い凹部を形成する工程
を１回、または２回以上行って、上記印刷パターンに対
応した凹部の底面を、当該凹部の端の部分で浅くかつ中
央部が深い形状に形成することを特徴とする印刷用凹版
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19660796A JPH1035129A (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | 印刷用凹版とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19660796A JPH1035129A (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | 印刷用凹版とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1035129A true JPH1035129A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16360575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19660796A Pending JPH1035129A (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | 印刷用凹版とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1035129A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006231827A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Toppan Printing Co Ltd | 凹版の製造方法 |
| CN102431279A (zh) * | 2010-09-07 | 2012-05-02 | 株式会社则武 | 凹版印刷版 |
| WO2017014056A1 (ja) * | 2015-07-23 | 2017-01-26 | 富士通コンポーネント株式会社 | 印刷版、印刷物及び印刷方法 |
| JP2018167543A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | トッパン・フォームズ株式会社 | 印刷装置及びこれを用いた印刷物の製造方法 |
| JP2018192724A (ja) * | 2017-05-18 | 2018-12-06 | 三菱ケミカル株式会社 | グラビアオフセット印刷用凹版及びグラビアオフセット印刷方法 |
-
1996
- 1996-07-25 JP JP19660796A patent/JPH1035129A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006231827A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Toppan Printing Co Ltd | 凹版の製造方法 |
| CN102431279A (zh) * | 2010-09-07 | 2012-05-02 | 株式会社则武 | 凹版印刷版 |
| TWI551463B (zh) * | 2010-09-07 | 2016-10-01 | Noritake Co Ltd | The gravure printing plate |
| WO2017014056A1 (ja) * | 2015-07-23 | 2017-01-26 | 富士通コンポーネント株式会社 | 印刷版、印刷物及び印刷方法 |
| JP2017024295A (ja) * | 2015-07-23 | 2017-02-02 | 富士通コンポーネント株式会社 | 印刷版、印刷物及び印刷方法 |
| CN107848318A (zh) * | 2015-07-23 | 2018-03-27 | 富士通电子零件有限公司 | 印刷版、印刷物及印刷方法 |
| JP2018167543A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | トッパン・フォームズ株式会社 | 印刷装置及びこれを用いた印刷物の製造方法 |
| JP2018192724A (ja) * | 2017-05-18 | 2018-12-06 | 三菱ケミカル株式会社 | グラビアオフセット印刷用凹版及びグラビアオフセット印刷方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20041001 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20041019 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050329 |