JPH1039527A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
質の画像が得られるとともに、耐久性に優れた電子写真
感光体を提供する。 【解決手段】 導電性基体上に設ける感光層中に、下記
一般式(I)で示されるアミン化合物を含有する電子写
真感光体。 【化1】 (式中、R1 〜R3 は、それぞれ独立に水素原子、アル
キル基、アルコキシ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、
置換又は未置換のアリール基。R4 はアルキル基、置換
又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアラルキル
基。Xは特定のアリール基。kは0又は1の整数。)
Description
て特定のアミン化合物を用いた電子写真感光体に関する
ものである。
鉛、硫化カドミウム等の無機感光体に比べて、安全性及
びコスト等の面で利点があるため、現在主流になってい
る。また、その有機感光体の層構成としては、感度、耐
久性等の面で有利な積層型であって、機械的強度に優れ
た電荷輸送層を最表面として使用するものが殆どであ
る。さらに、電荷輸送層は、電荷発生層からの電荷の注
入に優れ、電荷の移動度が高いもの、例えば、トリアリ
ールアミン(特開昭58−123542号公報)、ヒド
ラゾン誘導体(特開昭57−101844号公報)、オ
キサジアゾール誘導体(特公昭34−5466号公
報)、ピラゾリン誘導体(特公昭52−4188号公
報)、スチルベン誘導体(特開昭58−198043号
公報)、トリフェニルメタン誘導体(特公昭45−55
5号公報)または1,3−ブタジエン誘導体(特開昭6
2−287257号公報)等の低分子の電荷輸送材料
を、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の絶縁性樹
脂中に分子分散させて形成されている。
荷輸送剤を、ポリカーボネート樹脂またはアクリル樹脂
等の樹脂に相溶させて電荷輸送層を形成する場合、十分
な電荷輸送性を付与するために、電荷輸送剤を40〜5
0重量%の範囲で分子分散させて使用される。そのた
め、本来樹脂が有する機械的な強度を大きく低下させ
て、強固な膜が得られ難くなる。また、これらの電荷輸
送剤は、樹脂との相溶性が十分でなく、長時間使用して
いる間に結晶化等を起こし易いといった問題があった。
ば、特開昭63−113465号公報及び特開平5−8
0550号公報には、電荷輸送剤に樹脂と相溶し易いア
ルキレンカルボン酸エステル基を導入することが提案さ
れている。ところが、アルキレンカルボン酸エステル基
を有する電荷輸送剤は、樹脂との相溶性に優れているた
めに上記した問題点は改善することができるものの、他
方では、アルキレンカルボン酸エステル基は運動の自由
度が高いものであるために、それを有する電荷輸送剤は
結晶化し難いものとなって工業的に生産することが困難
であり、かつ、高純度のものが得られ難いために、クロ
マトグラフィー等の精製手段を必要とするという問題が
あった。また、アルキレンカルボン酸エステル基は電子
吸引性のものであるために、移動度が低下し易いという
問題もあった。
情に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目
的は、溶解性、モビリティー及び電荷注入性に優れた特
定の構造を有するアミン化合物を電荷輸送材料として用
いることにより、長期にわたって電気特性が安定し、鮮
明な画質の画像が得られるとともに、耐久性に優れた電
子写真感光体を提供することにある。
ンカルボン酸エステル基を有する電荷輸送材料の構造に
ついて詳しく検討した結果、アルキレン基の構造、置換
位置により電荷輸送材料の電気特性が大きく左右される
ことが判明した。すなわち、アルキレンカルボン酸エス
テル基中のアルキレン基が炭素数1のメチレン基である
場合には、電子吸引性置換基のエステル基が、電荷輸送
機能を担うアリールアミン骨格の近くに位置することか
ら、電子分布に偏りが生じてモビリティーの低下やモビ
リティーの電解強度依存性の増大という影響を及ぼす結
果、初期には満足な電気特性が得られる場合でも、電子
写真法を繰り返すにつれて電荷が蓄積し易くなることが
分かった。
場合には、分子の柔軟性が高くなる結果、結晶性の電荷
輸送材料が得られ難いことが明らかになった。電荷輸送
材料が結晶として得られないこと自体は、その材料を電
子写真感光体に用いる際に大きな問題とはならないが、
その電荷輸送材料を電子写真感光体に使用する場合、そ
の純度が電気的な特性に重大な影響を及ぼすから、高純
度の材料が要求され、精製を必要とすることになる。一
般に、有機化合物の精製方法としては、蒸留、クロマト
グラフィーまたは再結晶等が工業的に実施されている
が、アルキレンカルボン酸エステル基を有する電荷輸送
材料では、分子量が大きいため蒸留による精製は実質上
不可能である。また、クロマトグラフィーは、吸着剤に
対して安定であれば殆どの有機化合物の精製に適用でき
るが、大量の溶剤を使用し、また、処理に長時間を要す
るため、大幅なコストアップ要因となる。そこで、アル
キレンカルボン酸エステル基を有する電荷輸送材料の工
業的な精製方法としては、再結晶が唯一の方法であり、
炭素数が3以上のアルキレン基を有する電荷輸送材料の
場合には工業化は非常に困難である。
らに鋭意検討した結果、芳香環に直接結合するアルキレ
ンカルボン酸エステル基を有する特定のアミン化合物に
おいて、アルキレン基としてエチレン基を選択すること
によりメチレン基に見られた電気特性上の問題が大きく
改善され、また、そのエチレン基を4−位に導入するこ
とにより結晶化が容易となり、特に、融点が50℃程度
以上であって、通常の再結晶により高純度で実用化可能
な電荷輸送材料が得られることを見出した。さらに、特
定のトリフェニルアミン誘導体において、基本骨格であ
るトリフェニルアミンまたはトリ−p−トリルアミンで
は大気下で容易に光酸化反応が起こってカルバゾール誘
導体を生じ、電気的な劣化を起こすが、複数の芳香環を
置換、または縮環させた基を導入させることにより、蛍
光発光効率が高くなって、光酸化反応の起こる励起状態
から容易に基底状態に失活して、光酸化反応を著しく低
減させ、安定な化合物が得られることを見出し、本発明
を完成するに至った。
電性基体上に感光層を設けてなる電子写真感光体におい
て、該感光層中に、少なくとも下記一般式(I)で示さ
れるアミン化合物を含有することを特徴とする。
キル基、アルコキシ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、
置換または未置換のアリール基を示し、R4 はアルキル
基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換
のアラルキル基を示し、Xは下記の基(1)〜(3)か
ら選択される基を示す。kは、基(1)または基(2)
のときは1であり、基(3)のときは0である。)
炭素数1〜4のアルコキシ基を示す。R6 は水素原子、
炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ
基、置換または未置換のフェニル基、置換または未置換
のアラルキル基、またはハロゲン原子を示す。)本発明
においては、導電性基体上に設ける感光層中に含有させ
る上記一般式(I)で示されるアミン化合物の中で、融
点が50℃以上のものを用いることが好ましい。
て詳細に説明する。先ず、本発明に用いられる上記一般
式(I)で示されるアミン化合物の製造方法について説
明する。本発明においては、一般式(I)で示されるア
ミン化合物は、下記一般式(II)で示される化合物と下
記一般式(III)で示される化合物との銅触媒によるカッ
プリング反応を行った後、加水分解することにより下記
一般式(IV)で示される化合物を得、次いで、一般式
(IV)で示される化合物と下記一般式(V)で示される
化合物とを銅触媒でカップリング反応を行うことにより
得ることができる。
キル基、アルコキシ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、
置換または未置換のアリール基を示し、R4 はアルキル
基を示す。Gは臭素原子またはヨウ素原子を示し、Xは
前記したと同意義を有する。)
式(III)で示される化合物とのカップリング反応におい
て、一般式(III)で示される化合物としては、アニリ
ン、o−トルイジン、m−トルイジン、p−トルイジ
ン、2,3−キシリジン、2,4−キシリジン、2,5
−キシリジン、2,6−キシリジン、3,4−キシリジ
ン、3,5−キシリジン、2,4,6−トリメチルアニ
リン、o−ビフェニルアミン、m−ビフェニルアミン、
p−ビフェニルアミン等のアセチル体が用いられる。こ
のカップリング反応は、これらのアセチル体1等量に対
し、一般式(II)で示される化合物を0.5〜1.5等
量、好ましくは0.7〜1.2等量で用いられる。銅触
媒としては、銅粉、酸化第一銅、硫酸銅等が使用でき、
一般式(II)で示される化合物1重量部に対して、0.
001〜3重量部、好ましくは0.01〜2重量部で用
いられる。また、塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が使用
でき、一般式(II)で示される化合物1等量に対して、
0.5〜3等量、好ましくは0.7〜2等量で用いられ
る。
も使用する必要はないが、使用する際の好ましい溶剤と
しては、n−トリデカン、テトラリン等の高沸点の非水
溶性炭化水素系溶剤が挙げられ、一般式(II)で示され
る化合物1重量部に対して、0.1〜3重量部、好まし
くは0.2〜2重量部の範囲で使用される。また、この
反応は、窒素等の不活性ガス雰囲気下、100〜300
℃、好ましくは150〜270℃、さらに好ましくは1
80〜250℃の温度範囲で十分に効率よく攪拌しなが
ら行い、さらに反応中に生成する水を除去しながら反応
させることが好ましい。反応終了後には、必要に応じ
て、冷却した後、メタノール、エタノール、n−オクタ
ノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、
グリセリン等の溶剤及び水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等の塩基を用いて加水分解を行う。この場合の溶剤
の使用量は、一般式(II)で示される化合物1重量部に
対して、0.5〜10重量部、好ましくは1〜5重量部
用いられ、塩基は一般式(II)で示される化合物1重量
部に対して、0.2〜5重量部、好ましくは0.3〜3
重量部使用される。
反応を行った後、その反応容器中に直接溶剤および塩基
を加え、窒素等の不活性ガス雰囲気下に50℃から溶剤
の沸点の温度範囲において、十分に効率よく攪拌しなが
ら行う。また、この場合、溶剤としては、カップリング
反応でカルボン酸塩が生成して固化するため、反応温度
を挙げることができる沸点150℃以上の高沸点のもの
を用いること、および後処理において、水に注入した
後、さらに塩酸等で中和することにより一般式(IV)で
示される化合物を遊離させるためには、水溶性のエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等を
添加することが特に好ましい。加水分解反応の終了後、
反応生成物を水に注入し、さらに塩酸等で中和すること
により一般式(IV)で示される化合物を遊離させ、次い
で十分に洗浄し、必要に応じて、適当な溶剤に溶解させ
た後、シリカゲル、アルミナ、活性白土、活性炭等でカ
ラム精製するか、または、溶液中にこれら吸着剤を添加
して不要分を吸着させる等の処理を行い、さらに、エタ
ノール、酢酸エチル、トルエン等の適当な溶剤から再結
晶し、精製するか、またはメチルエステル或いはエチル
エステル等にエステル化した後、同様の精製を行っても
よい。
される化合物と一般式(V)で示される化合物とを銅触
媒によるカップリング反応を行った後、エステル化する
か、または、一般式(IV)で示される化合物をメチルエ
ステル或いはエチルエステル等にエステル化した後、一
般式(V)で示される化合物とを銅触媒によるカップリ
ング反応を行うことにより、一般式(I)で示されるア
ミン化合物を得ることができる。
れる一般式(I)で示されるアミン化合物の具体例を表
1,表2及び表3に示すが、本発明に使用するものはこ
れらに限られるものではない。
式(V)で示される化合物とのカップリング反応におい
て、一般式(V)で示される化合物として、ハロゲン2
置換体を用いる場合には、一般式(V)で示される化合
物1等量に対し、1.5〜5等量、好ましくは1.7〜
4等量の一般式(IV)で示される化合物が用いられる。
銅触媒としては、銅粉、酸化第一銅、硫酸銅等が使用で
き、一般式(V)で示される化合物1重量部に対し、
0.001〜3重量部、好ましくは0.01〜2重量部
で用いられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が使用で
き、一般式(V)で示される化合物1等量に対し、1〜
6等量、好ましくは1.4〜4等量で用いられる。溶剤
は、必要に応じて使用するが、好ましいものとしてはn
−トリデカン、テトラリン等の高沸点の非水溶性炭化水
素系溶剤が挙げられ、一般式(V)で示される化合物1
重量部に対し、0.1〜3重量部、好ましくは0.2〜
2重量部使用される。また、この反応は、窒素等の不活
性ガス雰囲気下100〜300℃、好ましくは150〜
270℃、さらに好ましくは180〜250℃で十分に
効率よく攪拌しながら行い、さらに反応中に生成する水
を除去しながら反応させることが好ましい。反応の終了
後は、反応生成物をトルエン、アイソパー、n−トリデ
カン等の溶剤に溶解させ、必要に応じて、水洗またはろ
過により不要物を除去し、さらに、シリカゲル、アルミ
ナ、活性白土、活性炭等でカラム精製するか、または溶
液中にこれらの吸着剤を添加し、不要分を吸着させる等
の処理を行い、さらに、エタノール、酢酸エチル、トル
エン等の適当な溶剤から再結晶させて精製する。
(V)で示される化合物として、ハロゲン1置換体を用
いる場合には、一般式(IV)で示される化合物に対し、
1等量程度の一般式(V)で示される化合物と、銅触
媒、塩基と、さらに必要に応じて溶剤が用いられる。銅
触媒としては、銅粉、酸化第一銅、硫酸銅等が使用で
き、一般式(V)で示される化合物1重量部に対し、
0.001〜3重量部、好ましくは0.01〜2重量部
で用いられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が使用で
き、一般式(V)で示される化合物1等量に対し、0.
5〜3等量、好ましくは0.7〜2等量で用いられる。
溶剤としては、n−トリデカン、テトラリン等の高沸点
の非水溶性炭化水素系溶剤を使用することが好ましく、
一般式(V)で示される化合物1重量部に対し、0.1
〜3重量部、好ましくは0.2〜2重量部使用される。
この反応、その後の処理及び精製は、一般式(V)で示
される化合物がハロゲン2置換体の場合と同様にして行
われる。
ゲン1置換体(G−X)の場合、本発明に用いる電荷輸
送材料用アミン化合物を得るには、安定性、移動度及び
コスト等の点で、Xとしては、以下の基(3)である化
合物を使用することが好ましい。
体(G−X−G)の場合、Xとしては、以下の基(1)
または基(2)を使用することが好ましい。
明する。本発明における電子写真感光体の層構成につい
ては、何ら制限されるものではなく、感光層は、積層構
造のものでもよいし、単層構造のものでもよい。また、
感光層が積層構造の場合には、電荷発生層上に電荷輸送
層を積層したものでも、または、これとは逆に、電荷輸
送層上に電荷発生層を積層したものでもよい。また、所
望により、感光体の最表面には表面保護層を設けてもよ
いし、また、導電性支持体と感光層の間には下引き層を
設けてもよい。
支持体には、アルミニウム、ニッケル、クロム、ステン
レス鋼等の金属類、またはアルミニウム、チタニウム、
ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸
化錫、酸化インジウム、ITO等の薄膜を設けたプラス
チックフィルム等、または導電性付与剤を塗布するか、
含浸させた紙、またはプラスチックスフィルム等が用い
られる。これらの導電性支持体は、ドラム状、シート
状、プレート状等の適宜の形状のものとして使用される
が、これらに限定されるものではない。さらに必要に応
じて導電性支持体の表面は、画質に影響のない範囲で各
種の処理を行ったものでもよい。例えば、表面の酸化処
理や薬品処理及び着色処理等、または砂目立て等の乱反
射処理等を行うことができる。
要に応じて、下引き層を設けてもよい。この下引き層
は、積層構造からなる感光層の帯電時において、導電性
支持体から感光層への電荷の注入を阻止するとともに、
感光層と導電性支持体とを一体的に接着保持させる接着
層としての作用、あるいは場合により導電性支持体の反
射光を防止する作用等を示す。この下引き層に用いる結
着樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコー
ル樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ニトロセルロース、
カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミン酸、澱粉、スター
チアセテート、アミノ澱粉、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ジルコニウムキレート化合物、チタニルキ
レート化合物、チタニルアルコキシド化合物、有機チタ
ニル化合物、シランカップリング材等の公知の材料を用
いることができる。下引き層の厚さは0.01〜10μ
m、好ましくは0.05〜2μmが適当である。さら
に、この下引き層の形成に用いる塗布方法としては、ブ
レードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、
スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビード
コーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテ
ンコーティング法等通常の方法が挙げられる。
れる。以下、感光層が積層型のものであって、電荷輸送
層が導電性支持体に設けられる場合について順に説明す
る。本発明における電荷輸送層の電荷輸送材料には、一
般式(I)で示されるアミン化合物を単独で、または2
種以上を混合して用いてもよく、さらに、ベンジジン化
合物、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、
スチルベン化合物等の従来公知の電荷輸送材料と混合し
て用いてもよい。電荷輸送層の結着樹脂としては、ポリ
カーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニ
リデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート
樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン
−アクリルニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッ
ド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン、
電荷輸送性ポリエステル、電荷輸送性ポリカーボネート
等の公知の樹脂を用いることができるがこれらに限定さ
れるものではない。
1)〜(PC−5)で示される繰り返し構造単位を有す
るポリカーボネート樹脂、または、それらを共重合させ
たポリカーボネート樹脂を用いると、相溶性が良好であ
り、均一な膜を形成することができることから、特に優
れた特性を示す。また、これらの結着樹脂は、単独で、
または2種以上を混合して用いることができる。
比)は、10:1〜1:5が好ましい。電荷輸送層の層
厚は、10〜50μm、好ましくは15〜40μmが適
当である。さらに、この電荷輸送層の形成に用いる塗布
方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバー
コーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーテ
ィング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーテ
ィング法、カーテンコーティング法等の通常の方法が用
いられる。
設けられる。電荷発生層の電荷発生材料としては、アゾ
顔料、ペリレン顔料、スクアリリウム顔料、アントロン
顔料、フタロシアニン顔料等の公知の電荷発生材料が使
用できるが、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキ
シガリウムフタロシアニン、オキシチタニルフタロシア
ニン、ジクロロスズフタロシアニン等の各種フタロシア
ニン結晶を用いることが好ましい。また、電荷発生層に
用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択す
ることができる。また、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリ
シラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもで
きる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラー
ル樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノールAとフタ
ル酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエス
テル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリル
アミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹
脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁
性樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。これらの結着樹脂は、単独でも2種以上混合しても
用いられる。電荷発生層の層厚は、0.01〜2μm、
好ましくは0.02〜1μmが適当である。さらに、こ
の電荷発生層の形成に用いる塗布方法としては、ブレー
ドコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプ
レーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコー
ティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコ
ーティング法等の通常の方法を用いることができる。
比)は、10:1〜1:10の範囲が好ましい。また、
電荷発生材料の分散方法としては、ボールミル分散法、
アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法
を用いることができる。さらに、この分散の際に使用す
る粒子径としては、0.5μm以下、好ましくは0.3
μm以下、さらに好ましくは0.15μm以下の粒子に
することが有効である。また、これらの分散用溶剤とし
ては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n
−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソル
ブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライ
ド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常
の有機溶剤を単独で、または2種以上を混合して用いら
れる。上記した電子写真感光体のそれぞれの層は、各々
の層の塗布液を塗布するごとに50〜200℃、好まし
くは70〜150℃で乾燥して形成してもよいし、ある
いは、全層の塗布液を順に塗布した後、50〜200
℃、好ましくは70〜150℃で乾燥して形成してもよ
い。
する。 合成例1 N,N′−ジフェニルベンジジン10.1g、4−ヨー
ドヒドロ桂皮酸エチル20.0g、炭酸カリウム10.
9g、硫酸銅5水和物1.0g、n−トリデカン20m
lを100mlのフラスコに入れ、窒素気流下230℃
で1.5時間加熱反応した。反応後、室温まで冷却し、
トルエン50mlに溶解させて不溶物をろ過し、そのろ
液をトルエンを用いて、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーによって精製した。それにより、油状の化合物
(2)を18.7g得た。得られた化合物(2)のIR
スペクトルを図1に示す。
酸10.0g、炭酸カリウム5.7g、硫酸銅5水和物
1.0g、n−トリデカン20mlを200mlのフラ
スコに入れ、窒素気流下230℃で3.5時間加熱反応
させた。反応後、これにエチレングリコール33mlお
よび水酸化カリウム6.6gを加え、窒素気流下で2時
間加熱還流した後、室温まで冷却し、50mlの水に注
ぎ、塩酸で中和して結晶を析出させた。これをろ過し、
十分に水洗した後、500mlのフラスコに移した。こ
れにトルエン100mlを加えて加熱還流して水を共沸
させて除去した後、さらにメタノール50mlおよび濃
硫酸1mlを加えて、窒素気流下で1時間加熱還流し
た。反応後、蒸留水200mlに注ぎ、トルエンで抽出
し、有機層を希炭酸ナトリウム水溶液および蒸留水で十
分に洗浄した。さらに、その有機層に、活性白土10g
を加えて1時間加熱還流した後、活性白土をろ別し、そ
のろ液を濃縮することにより、N−(4−メチルフェニ
ル)−N−[4−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル]アミン6.7gを得た。得られたN−(4−メ
チルフェニル)−N−[4−(2−メトキシカルボニル
エチル)フェニル]アミン6.0g、4,4′−ジヨー
ド−3,3′−ジメチルビフェニル4.3g、炭酸カリ
ウム1.6g、硫酸銅5水和物0.5g、n−トリデカ
ン10mlを100mlのフラスコに入れ、窒素気流下
230℃で、5時間加熱反応した。反応後、室温まで冷
却し、トルエン20mlに溶解させ、不溶物をろ過し、
そのろ液をトルエンを用いて、活性白土によって精製し
た。これをアセトンから再結晶して、化合物(4)5.
6gを白色粉体として得た。得られた化合物(4)は、
その融点が183〜184℃であり、また、そのIRス
ペクトルを図2に示す。
ドヒドロ桂皮酸40.0g、炭酸カリウム22.3g、
硫酸銅5水和物1.0g、n−トリデカン200mlを
2000mlのフラスコに入れ、窒素気流下230℃で
5時間加熱反応させた。この反応後、エチレングリコー
ル100mlおよび水酸化カリウム26.0gを加え、
窒素気流下で2時間加熱還流した後、室温まで冷却し、
これを1リットルの水に注ぎ、塩酸で中和して結晶を析
出させた。これをろ過し、十分に水洗した後、500m
lのフラスコに移した。これにトルエン200mlを加
えて加熱還流し、水を共沸により除去した後、メタノー
ル100ml、濃硫酸3mlを加えて、窒素気流下で2
時間加熱還流した。反応後、蒸留水2リットルに注ぎ、
これをトルエンで抽出した。その有機層を、希炭酸ナト
リウム水溶液および蒸留水で十分に洗浄し、次いで、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を減圧留去し、メタノ
ールから再結晶することにより、N−(3,4−ジメチ
ルフェニル)−N−[4−(2−メトキシカルボニルエ
チル)フェニル]アミン33.2gを得た。 得られた
N−(3,4−ジメチルフェニル)−N−[4−(2−
メトキシカルボニルエチル)フェニル]アミン4.5
g、4,4′−ジヨード−3,3′−ジメチルビフェニ
ル3.0g、炭酸カリウム2.7g、硫酸銅5水和物
0.5g、n−トリデカン5mlを500mlのフラス
コに入れ、窒素気流下230℃で5時間加熱反応した。
反応後、室温まで冷却し、トルエン20mlに溶解さ
せ、不溶物をろ過し、そのろ液をトルエンを用いて、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。
これを酢酸エチルとエタノールの混合溶剤から再結晶し
て、化合物(6)3.8gを淡黄色粉体として得た。得
られた化合物(6)は、その融点が162〜163℃で
あり、また、そのIRスペクトルを図3に示す。
ドヒドロ桂皮酸42.0g、炭酸カリウム23.2g、
硫酸銅5水和物1.0g、n−トリデカン50mlを5
00mlのフラスコに入れ、窒素気流下230℃で2時
間加熱反応させた。この反応後、エチレングリコール1
00mlおよび水酸化カリウム25.0gを加え、窒素
気流下で2時間加熱還流した後、室温まで冷却し、これ
に500mlの水に注ぎ、塩酸で中和して結晶を析出さ
せた。これをろ過し、十分に水洗した後、500mlの
フラスコに移した。トルエン200mlを加え加熱還流
して水を共沸により除去した後、メタノール100m
l、濃硫酸2mlを加え窒素気流下で2時間加熱還流し
た。反応後、蒸留水300mlに注ぎ、トルエンで抽出
した。その有機層を、希炭酸ナトリウム水溶液および蒸
留水で十分に洗浄し、次いで、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶剤を減圧留去し、トルエン/ヘキサンから再結
晶させることにより、N−(3,5−ジメチルフェニ
ル)−N−[4−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル]アミン35.5gを得た。得られたN−(3,
5−ジメチルフェニル)−N−[4−(2−メトキシカ
ルボニルエチル)フェニル]アミン15.0g、4,
4′−ジヨード−3,3′−ジメチルビフェニル14.
0g、炭酸カリウム8.0g、硫酸銅5水和物0.5
g、n−トリデカン20mlを500mlのフラスコに
入れ、窒素気流下230℃で3時間加熱反応した。反応
後、室温まで冷却し、トルエン100mlに溶解させて
不溶物をろ過し、そのろ液をトルエンを用いて、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。これ
を酢酸エチルとエタノールの混合溶剤から再結晶して、
化合物(7)16.0gを淡黄色粉体として得た。得ら
れた化合物(7)は、その融点が177〜179℃であ
り、また、そのIRスペクトルを図4に示す。
皮酸33.8g、炭酸カリウム19.2g、硫酸銅5水
和物1.0g、n−トリデカン15mlを200mlの
フラスコに入れ、窒素気流下230℃で5時間加熱反応
した。反応後、エチレングリコール100ml、水酸化
カリウム22.0gを加え、窒素気流下で2時間加熱還
流した後、室温まで冷却し、200mlの水に注ぎ、塩
酸で中和して結晶を析出させた。これをろ過し、十分に
水洗した後、500mlのフラスコに移した。これにト
ルエン200mlを加えて加熱還流し、水を共沸により
除去した後、メタノール100mlおよび濃硫酸3ml
を加えて窒素気流下で2時間加熱還流した。反応後、蒸
留水2リットルに注ぎ、トルエンで抽出した。その有機
層を、希炭酸ナトリウム水溶液および蒸留水で十分に洗
浄し、次いで、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を減
圧留去し、メタノールから再結晶することにより、N−
(4−メトキシフェニル)−N−[4−(2−メトキシ
カルボニルエチル)フェニル]アミン19.5gを得
た。得られたN−(4−メトキシフェニル)−N−[4
−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル]アミン
5.0g、4,4′−ジヨード−3,3′−ジメチルビ
フェニル3.4g、炭酸カリウム2.9g、硫酸銅5水
和物0.5g、n−トリデカン5mlを100mlのフ
ラスコに入れ、窒素気流下230℃で15時間加熱反応
した。反応後、室温まで冷却し、トルエン20mlに溶
解させ、不溶物をろ過し、そのろ液をトルエンを用い
て、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製
し、淡黄色油状の化合物(9)を5.3g得た。得られ
た化合物(9)のIRスペクトルを図5に示す。
フェニル)−N−[4−(2−メトキシカルボニルエチ
ル)フェニル]アミン5.0g、4,4″−ジヨード−
1,1′:4′,1″−ターフェニル3.8g、炭酸カ
リウム2.9g、硫酸銅5水和物1.0g、n−トリデ
カン10mlを200mlのフラスコに入れ、窒素気流
下230℃で5時間加熱反応させた。反応後、室温まで
冷却し、トルエン20mlに溶解させて不溶物をろ過
し、そのろ液をトルエンを用いて、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーによって精製し、アセトンから再結晶
することにより、化合物(15)を淡黄色粉体として
3.7g得た。得られた化合物(15)は、その融点が
146〜147℃であり、また、そのIRスペクトルを
図6に示す。
フェニル)−N−[4−(2−メトキシカルボニルエチ
ル)フェニル]アミン5.0g、4−ヨードビフェニル
4.8g、炭酸カリウム2.8g、硫酸銅5水和物0.
5g、n−トリデカン5mlを100mlのフラスコに
入れ、窒素気流下230℃で5時間加熱反応させた。反
応後、室温まで冷却し、トルエン20mlに溶解させて
不溶物をろ過した。そのろ液をトルエンを用いて、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、これ
を酢酸エチルとエタノールの混合溶剤から再結晶して、
化合物(27)4.5gを淡黄色粉体として得た。得ら
れた化合物(27)は、その融点が148.5〜150
℃であり、また、そのIRスペクトルを図7に示す。
フェニル酢酸エチル10.0g、炭酸カリウム5.6
g、硫酸銅5水和物0.5g、n−トリデカン10ml
を100mlのフラスコに入れ、窒素気流下230℃で
1時間加熱反応した。反応後、室温まで冷却し、トルエ
ン20mlに溶解させて不溶物をろ過し、そのろ液をト
ルエンを用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
によって精製した。それにより、油状のN,N′−ジフ
ェニル−N,N′−ビス(4−エトキシカルボニルメチ
ルフェニル)−[1,1′−ビフェニル]−4,4′−
ジアミン(化合物−A)を6.2g得た。得られた化合
物−AのIRスペクトルを図8に示す。
ド桂皮酸エチル23.0g、炭酸カリウム11.6g、
硫酸銅5水和物1.0g、n−トリデカン20mlを1
00mlのフラスコに入れ、窒素気流下で230℃で1
時間加熱反応した。反応後、室温まで冷却し、トルエン
50mlに溶解させて不溶物をろ過し、そのろ液をトル
エンを用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
よって精製した。それにより、油状のN,N′−ジフェ
ニル−N,N′−ビス[3−(2−エトキシカルボニル
エチル)フェニル]−[1,1′−ビフェニル]−4,
4′−ジアミン(化合物−B)を19.6g得た。得ら
れた化合物−BのIRスペクトルを図9に示す。
ドフェニル酢酸24.8g、炭酸カリウム15.5g、
銅粉10.0g、n−トリデカン10mlを200ml
のフラスコに入れ、窒素気流下200℃で24時間加熱
反応した。反応後、エチレングリコール60ml、水酸
化カリウム10.0gを加え、窒素気流下で2時間加熱
還流した後、室温まで冷却し、これを1リットルの水に
注ぎ、塩酸で中和して結晶を析出させた。これをろ過
し、そのろ液を十分に水洗した後、500mlのフラス
コに移した。トルエン200mlを加えて加熱還流し、
水を共沸により除去した後、メタノール100ml、濃
硫酸3mlを加えて窒素気流下で2時間加熱還流した。
反応後、蒸留水2リットルに注ぎ、これをトルエンで抽
出し、その有機層を希炭酸ナトリウム水溶液および蒸留
水により十分に洗浄した。これを無水硫酸ナトリウムに
よって乾燥後、溶剤を減圧留去し、メタノールから再結
晶することにより、N−(3,4−ジメチルフェニル)
−N−[4−(メトキシカルボニルメチル)フェニル]
アミン21.3gを得た。得られたN−(3,4−ジメ
チルフェニル)−N−[4−(メトキシカルボニルメチ
ル)フェニル]アミン9.0g、4,4′−ジヨード−
3,3′−ジメチルビフェニル6.2g、炭酸カリウム
5.5g、硫酸銅5水和物1.0g、n−トリデカン1
0mlを200mlのフラスコに入れ、窒素気流下23
0℃で5時間加熱反応した。反応後、室温まで冷却し、
トルエン40mlに溶解させて不溶物をろ過し、そのろ
液をトルエンを用いて、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーによって精製した。酢酸エチルとエタノールの混
合溶剤から再結晶して、3,3′−ジメチル−N,N′
−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−N,N′−ビス
(4−メトキシカルボニルメチルフエニル)−[1,
1′−ビフェニル]−4,4′−ジアミン(化合物−
C)7.1gを淡黄色粉体として得た。得られた化合物
−Cの融点は179〜181℃であり、また、そのIR
スペクトルを図10に示す。
−ヨードフェニル)−n−酪酸19.0g、炭酸カリウ
ム15.8g、硫酸銅5水和物1.0g、n−トリデカ
ン10mlを300mlのフラスコに入れ、窒素気流下
210℃で4時間加熱反応させた。反応後、エチレング
リコール100mlおよび水酸化カリウム16.1gを
加え、窒素気流下で2時間加熱還流した後、室温まで冷
却し、1リットルの水に注ぎ、塩酸で中和して結晶を析
出させた。これをろ過し、十分に水洗した後、500m
lのフラスコに移した。これにトルエン200mlを加
えて加熱還流し、水を共沸により除去した後、メタノー
ル100mlおよび濃硫酸3mlを加えて窒素気流下で
2時間加熱還流した。反応後、蒸留水1リットルに注
ぎ、トルエンで抽出した。その有機層を、希炭酸ナトリ
ウム水溶液および蒸留水で十分に洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶剤を減圧留去し、メタノールから再
結晶することにより、N−(3,4−ジメチルフェニ
ル)−N−[4−(3−メトキシカルボニルプロピル)
フェニル]アミン13.4gを得た。得られたN−
(3,4−ジメチルフェニル)−N−[4−(3−メト
キシカルボニルプルピル)フェニル]アミン6.7g、
4,4′−ジヨード−3,3′−ジメチルビフェニル
3.9g、炭酸カリウム3.8g、硫酸銅5水和物0.
5g、n−トリデカン10mlを50mlのフラスコに
入れ、窒素気流下230℃で10時間加熱反応した。反
応後、室温まで冷却し、トルエン20mlに溶解させ、
不溶物をろ過し、そのろ液をトルエンを用いて、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して、油状
の3,3′−ジメチル−N,N′−ビス(3,4−ジメ
チルフェニル)−N,N′−ビス[4−(3−メトキシ
カルボニルプルピル)フェニル]−[1,1′−ビフェ
ニル]−4,4′−ジアミン(化合物−D)6.5gを
得た。得られた化合物−DのIRスペクトルを図11に
示す。
上に、ジルコニウム化合物(商品名:オルガチックスZ
C540、マツモト製薬社製)100部、シラン化合物
(商品名:A1110、日本ユンカー社製)10部、イ
ソ−プロパノール400部およびブタノール200部か
らなる溶液を浸漬コーティング法で塗布し、150℃に
おいて10分間加熱乾燥し、膜厚0.5μmの下引層を
形成した。次に、粉末X線回折スペクトルにおいて、ブ
ラッグ角(2θ±0.2°)の7.4°、16.6°、
25.5°および28.3°に強い回折ピークを有する
クロロガリウムフタロシアニン顔料10部を、ポリビニ
ルブチラール樹脂(商品名:エスレックBM−S、積水
化学社製)10部および酢酸n−ブチル500部と混合
し、ガラスビーズと共にペイントシェーカーで1時間処
理して分散した後、得られた塗布液を上記下引き層上に
浸漬コーティング法を用いて塗布し、100℃において
10分間加熱乾燥した。次に、合成例1で得られた化合
物(2)2.5部とポリカーボネート樹脂(PC
(Z))2.5部を電荷輸送材料とし、これらをモノク
ロロベンゼン38部に溶解させて得られた塗布液を、電
荷発生層が形成されたアルミニウム円筒基板上に浸漬コ
ーティング法により塗布し、120℃において1時間加
熱乾燥させて、膜厚15μmの電荷輸送層を形成するこ
とにより電子写真用感光体を作製した。このようにして
得られた電子写真用感光体について、その電子写真特性
を評価するために、レーザービームプリンター(XP−
11、富士ゼロックス社製)に装着し、常温常湿(20
℃、40%RH)の環境下でプリントテストを行い、1
枚目画像、2,000枚目画像及び5,000枚目画像
について、それぞれの画質を評価した。それらの結果を
表4に示す。
に代えて表4に示す化合物を用いたこと以外は、実施例
1と同様にして電子写真感光体を作製し、評価した。そ
れらの結果を表4に示す。 比較例1〜4 電荷輸送材料として、実施例1で使用した化合物(2)
に代えて、表4に示す化合物を用いたこと以外は、実施
例1と同様にして電子写真感光体を作製し、評価した。
それらの結果を表4に示す。
方法で得られる特定の構造を有するアミン化合物を電荷
輸送材料として用いるから、感光層の形成が容易であ
り、高画質の画像が得られるとともに、長期にわたって
安定した優れた電気特性を有するものであって、しかも
長寿命なものである。
クトル図である。
クトル図である。
クトル図である。
クトル図である。
クトル図である。
クトル図である。
クトル図である。
クトル図である。
クトル図である。
スペクトル図である。
スペクトル図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 導電性基体上に感光層を設けてなる電子
写真感光体において、該感光層中に、少なくとも下記一
般式(I)で示されるアミン化合物を含有することを特
徴とする電子写真感光体。 【化1】 (式中、R1 〜R3 は、それぞれ独立に水素原子、アル
キル基、アルコキシ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、
置換または未置換のアリール基を示し、R4 はアルキル
基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換
のアラルキル基を示し、Xは下記の基(1)〜(3)か
ら選択される基を示す。kは、基(1)または基(2)
のときは1であり、基(3)のときは0である。) 【化2】 (式中、R5 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、
炭素数1〜4のアルコキシ基を示す。R6 は水素原子、
炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ
基、置換または未置換のフェニル基、置換または未置換
のアラルキル基、またはハロゲン原子を示す。) - 【請求項2】 一般式(I)で示されるアミン化合物の
中で、融点が50℃以上のものを用いることを特徴とす
る請求項1に記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19860696A JPH1039527A (ja) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19860696A JPH1039527A (ja) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1039527A true JPH1039527A (ja) | 1998-02-13 |
Family
ID=16393997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19860696A Pending JPH1039527A (ja) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1039527A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002014478A (ja) * | 2000-06-30 | 2002-01-18 | Hodogaya Chem Co Ltd | 電子製品材料の精製方法 |
| JP2007179038A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-07-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体、および画像形成装置 |
| JP2008158436A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Fujifilm Finechemicals Co Ltd | 電子写真感光体、電子写真装置およびプロセスカートリッジ |
| JP2011248375A (ja) * | 2005-12-02 | 2011-12-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体、および画像形成装置 |
| JP2013254135A (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-19 | Konica Minolta Inc | 電子写真感光体、電子写真画像形成方法及び電子写真画像形成装置 |
-
1996
- 1996-07-29 JP JP19860696A patent/JPH1039527A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002014478A (ja) * | 2000-06-30 | 2002-01-18 | Hodogaya Chem Co Ltd | 電子製品材料の精製方法 |
| JP2007179038A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-07-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体、および画像形成装置 |
| JP2011248375A (ja) * | 2005-12-02 | 2011-12-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体、および画像形成装置 |
| JP2008158436A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Fujifilm Finechemicals Co Ltd | 電子写真感光体、電子写真装置およびプロセスカートリッジ |
| JP2013254135A (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-19 | Konica Minolta Inc | 電子写真感光体、電子写真画像形成方法及び電子写真画像形成装置 |
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