JPH1045835A - 低温硬化結合剤 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/04—Reduction, e.g. hydrogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/12—Hydrolysis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】良好な接着性と低温硬化特性を備える結合剤用
化合物。 【解決手段】本発明は、以下に示すポリビニルブチラー
ル化合物である。 【化１】 R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキルカルボニ
ル、シクロアルキル、シクロアルキル・アルキル、アリ
ール、アリールカルボニル、アルカリールカルボニル、
アルアルキル又はアルキルアルアルキル、Zは-OH、-NHR
2、R2はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキルカル
ボニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ア
リール、アリールカルボニル、アルカリールカルボニ
ル、アルアルキル、アルキルアルアルキル、H。x:60-95
%、 y:3-40%、 z:0-20%、総和:100%。強酸や触媒下でな
ければ従来より低温硬化を実現し、多様な表面に対して
良好な接着性を示し、電子写真の光導電体形成電荷生成
層に用いると高い光応答性がある。
化合物。 【解決手段】本発明は、以下に示すポリビニルブチラー
ル化合物である。 【化１】 R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキルカルボニ
ル、シクロアルキル、シクロアルキル・アルキル、アリ
ール、アリールカルボニル、アルカリールカルボニル、
アルアルキル又はアルキルアルアルキル、Zは-OH、-NHR
2、R2はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキルカル
ボニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ア
リール、アリールカルボニル、アルカリールカルボニ
ル、アルアルキル、アルキルアルアルキル、H。x:60-95
%、 y:3-40%、 z:0-20%、総和:100%。強酸や触媒下でな
ければ従来より低温硬化を実現し、多様な表面に対して
良好な接着性を示し、電子写真の光導電体形成電荷生成
層に用いると高い光応答性がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本願発明は、一般に、光導電体に
用いられる高分子バインダ（結合剤）に関し、より詳細
には、低温硬化ポリビニルブチラール(polyvinylbutyra
l)およびその合成プロセスに関するものである。
用いられる高分子バインダ（結合剤）に関し、より詳細
には、低温硬化ポリビニルブチラール(polyvinylbutyra
l)およびその合成プロセスに関するものである。
【０００２】
【発明の背景】電子写真術は、電子信号の形態の像情報
を光信号に変換し、それを次に潜静電場(latent electr
ostatic field)に変換し、可視像に現像するまで記憶さ
れ、そして、紙に転写するプロセスである。電子写真の
商業上の用途には、光複写機と非衝撃（即ち、電子式）
プリンタなどがある。一般的には、J.Mort, "The Anat
omy of Xerography"(McFarland & Co.,1989); J.L.John
son, "Principles of Non Impact Printing (Palatino
Press,1986)を参照。
を光信号に変換し、それを次に潜静電場(latent electr
ostatic field)に変換し、可視像に現像するまで記憶さ
れ、そして、紙に転写するプロセスである。電子写真の
商業上の用途には、光複写機と非衝撃（即ち、電子式）
プリンタなどがある。一般的には、J.Mort, "The Anat
omy of Xerography"(McFarland & Co.,1989); J.L.John
son, "Principles of Non Impact Printing (Palatino
Press,1986)を参照。
【０００３】光学像パターンを潜静電電荷パターンへの
変換は、光レセプターの作用である。光レセプターは、
電荷の生成及び電荷輸送特性を有する光導電性絶縁体で
ある。電子写真のプロセスにおいて、光レセプターの表
面は、暗部でイオンを帯び、そして、光学像に露光され
て選択的に放電する。その放電の程度は、光発生電荷キ
ャリヤーが露光表面から効率的に運び去られるとすれ
ば、光学像における光強度に比例する（即ち、所要のキ
ャリヤー移動度は、少なくとも10-6cm2 / V秒でなけれ
ばならない）。このように形成した潜像(latent image)
は、続いて現像され、永久像にとして定着する。
変換は、光レセプターの作用である。光レセプターは、
電荷の生成及び電荷輸送特性を有する光導電性絶縁体で
ある。電子写真のプロセスにおいて、光レセプターの表
面は、暗部でイオンを帯び、そして、光学像に露光され
て選択的に放電する。その放電の程度は、光発生電荷キ
ャリヤーが露光表面から効率的に運び去られるとすれ
ば、光学像における光強度に比例する（即ち、所要のキ
ャリヤー移動度は、少なくとも10-6cm2 / V秒でなけれ
ばならない）。このように形成した潜像(latent image)
は、続いて現像され、永久像にとして定着する。
【０００４】光複写機及び非衝撃プリンタの何れにも多
くの光レセプターが使われている。速度、スペクトル感
度及び耐久性についての要件は、これら２つの用途では
異なるが、光レセプターの主要な要件は、可視光に対す
る高感光性、優れたキャリヤー輸送特性及び高い暗抵抗
である。均一かつ低コストの製造ができること並びに特
定用途に光レセプターのスペクトル応答を適合できるこ
とも有利な点である。
くの光レセプターが使われている。速度、スペクトル感
度及び耐久性についての要件は、これら２つの用途では
異なるが、光レセプターの主要な要件は、可視光に対す
る高感光性、優れたキャリヤー輸送特性及び高い暗抵抗
である。均一かつ低コストの製造ができること並びに特
定用途に光レセプターのスペクトル応答を適合できるこ
とも有利な点である。
【０００５】これらの理由で、電子的に不活性な架橋重
合体で分散された染料分子から成る光導電体は、商業
上、広く使われているのである。光励起によって染料分
子中に電子的遷移が誘発され、そして分子間電荷輸送の
カスケードが起こる。正孔群又は電子群が１つの染料分
子から他へ飛行する(hopping)ことが関与するこのプロ
セスの効率化には、重合体中の、ランダムに分散してい
る高濃度の染料（約1020分子／cc）が存在しなければな
らない。
合体で分散された染料分子から成る光導電体は、商業
上、広く使われているのである。光励起によって染料分
子中に電子的遷移が誘発され、そして分子間電荷輸送の
カスケードが起こる。正孔群又は電子群が１つの染料分
子から他へ飛行する(hopping)ことが関与するこのプロ
セスの効率化には、重合体中の、ランダムに分散してい
る高濃度の染料（約1020分子／cc）が存在しなければな
らない。
【０００６】電荷生成層における顔料分散バインダーと
して、種々の重合体、例えば、ポリエステル、フェノキ
シ樹脂、ポリ酢酸ビニル及び最も最近ではポリビニルブ
チラールが使われてきている（Proceedings, Sixth In
ternational Congress on Advances in Non-Impact Pri
nting Technologies, Orlando, Florida, 1990, pp.312
-346参照）。ポリビニルブチラール(PVB)は、広範囲の
溶媒において溶解度を有し、多種の有機顔料の被覆が可
能で、従って電荷発生層全域に安定な分散をもたらす特
性と優れた薄膜形成特性のために特に好まれるものであ
る。 従来のPVBは次に示す構造（構造式(1)）を有して
いる。
して、種々の重合体、例えば、ポリエステル、フェノキ
シ樹脂、ポリ酢酸ビニル及び最も最近ではポリビニルブ
チラールが使われてきている（Proceedings, Sixth In
ternational Congress on Advances in Non-Impact Pri
nting Technologies, Orlando, Florida, 1990, pp.312
-346参照）。ポリビニルブチラール(PVB)は、広範囲の
溶媒において溶解度を有し、多種の有機顔料の被覆が可
能で、従って電荷発生層全域に安定な分散をもたらす特
性と優れた薄膜形成特性のために特に好まれるものであ
る。 従来のPVBは次に示す構造（構造式(1)）を有して
いる。
【０００７】
【化３】 ここで、x = 60〜95 mol%、 y = 3〜40 mol%、z = 0〜2
0 mol%、そして、x＋y＋z = 100%である。
0 mol%、そして、x＋y＋z = 100%である。
【０００８】重合体を架橋結合する唯一の反応性官能基
は、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基である。この
基の反応性が比較的低いため、高温並びに長い反応時間
もしくは強酸又は塩基の触媒が必要である。これらの条
件は、光レセプターの性能に悪影響を及ぼし、そこに含
まれている顔料及び電荷輸送分子の安定性を変化させる
こともある。従って、温度及びpHの過酷な条件に頼らな
いで容易に架橋できるポリビニルブチラールに対する要
求、及びそれに対応して、前述の化合物を合成する便宜
且つ有効な方法を求めるニーズが存在するのである。
は、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基である。この
基の反応性が比較的低いため、高温並びに長い反応時間
もしくは強酸又は塩基の触媒が必要である。これらの条
件は、光レセプターの性能に悪影響を及ぼし、そこに含
まれている顔料及び電荷輸送分子の安定性を変化させる
こともある。従って、温度及びpHの過酷な条件に頼らな
いで容易に架橋できるポリビニルブチラールに対する要
求、及びそれに対応して、前述の化合物を合成する便宜
且つ有効な方法を求めるニーズが存在するのである。
【０００９】
【発明の目的】本願発明は、光導電体と表面被覆材料に
対するバインダーとして、構造用接着剤として、及び低
温硬化が有利であるか又は必要とするその他の用途に、
有用な新規の高分子化合物を提供するものである。
対するバインダーとして、構造用接着剤として、及び低
温硬化が有利であるか又は必要とするその他の用途に、
有用な新規の高分子化合物を提供するものである。
【００１０】
【発明の概要】従って、発明の一局面では、構造式Iに
示す化合物を提供するものである。
示す化合物を提供するものである。
【００１１】
【化４】 ここでは、R1は、アルキル、ジアルキルエーテル、アル
キルカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキル・ア
ルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカリール
カルボニル (alkaryl carbonyl)、アルアルキル又はア
ルキルアルアルキル (alkyl aralkyl)であり、Zは、-OH
又は -NHR2であり、ここで、R2は、個別に、アルキル、
ジアルキルエーテル、アルキルカルボニル、シクロアル
キル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールカ
ルボニル、アルカリールカルボニル、アルアルキル、ア
ルキルアルアルキル、又はR2はHであり、xは、60〜95
%、yは、3〜40%、 zは、0〜20%及び x＋y＋zは100%であ
る。
キルカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキル・ア
ルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカリール
カルボニル (alkaryl carbonyl)、アルアルキル又はア
ルキルアルアルキル (alkyl aralkyl)であり、Zは、-OH
又は -NHR2であり、ここで、R2は、個別に、アルキル、
ジアルキルエーテル、アルキルカルボニル、シクロアル
キル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールカ
ルボニル、アルカリールカルボニル、アルアルキル、ア
ルキルアルアルキル、又はR2はHであり、xは、60〜95
%、yは、3〜40%、 zは、0〜20%及び x＋y＋zは100%であ
る。
【００１２】発明の他の局面において、構造式Iの化合
物を調製するプロセスを提供するものであり、以下に示
す化合物を酸で加水分解によってＺを-OHとし、R1、x、
y、zは上記に定義されている。
物を調製するプロセスを提供するものであり、以下に示
す化合物を酸で加水分解によってＺを-OHとし、R1、x、
y、zは上記に定義されている。
【００１３】
【化５】
【００１４】本発明のさらに他の局面は、構造式Iの化
合物の合成における中間物を提供するものであり、ここ
では、その中間物は化３の化合物である。
合物の合成における中間物を提供するものであり、ここ
では、その中間物は化３の化合物である。
【００１５】発明の別の局面は、電子写真用の光導電体
を提供することにあり、この場合、光導電体は電荷発生
層と電荷輸送層とから成り、その電荷発生層はバインダ
ーに分散された光導電性顔料から形成され、且つそのバ
インダーは構造式Iのポリビニルブチラールから構成さ
れるものである。
を提供することにあり、この場合、光導電体は電荷発生
層と電荷輸送層とから成り、その電荷発生層はバインダ
ーに分散された光導電性顔料から形成され、且つそのバ
インダーは構造式Iのポリビニルブチラールから構成さ
れるものである。
【００１６】本発明はさらに溶液に分散された光導電性
顔料から形成した電荷発生層と、電荷輸送層を含む電子
写真用光導電体を構成する。光導電性顔料は、チタニル
フタロシアニン、バナジルフタロシアニン、ヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン、無金属（メタルフリー）フタ
ロシアニン、銅フタロシアニン、アルミニウムフタロシ
アニン、クロロアルミニウムフタロシアニン及びハロイ
ンジウムフタロシアニンから成る群から選択され、光導
電性顔料は、テトラカルボキシイミド・ペリレン顔料ま
たはフェネチルペリレンであり、電荷輸送層は、N,N'-
ジフェニル-N,N'-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1'-ビフ
ェニル]-4,4-ジアミンである。好適には、電荷発生層の
光導電性顔料は、チタニルフタロシアニンで、前記電荷
輸送層は、(CH3C6H4)3Nである。ここでは、構造式I（Z
は-OH、R1は-CH2CH2-又は-CH2C6H10-）のポリビニルブ
チラール化合物が用いられる。
顔料から形成した電荷発生層と、電荷輸送層を含む電子
写真用光導電体を構成する。光導電性顔料は、チタニル
フタロシアニン、バナジルフタロシアニン、ヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン、無金属（メタルフリー）フタ
ロシアニン、銅フタロシアニン、アルミニウムフタロシ
アニン、クロロアルミニウムフタロシアニン及びハロイ
ンジウムフタロシアニンから成る群から選択され、光導
電性顔料は、テトラカルボキシイミド・ペリレン顔料ま
たはフェネチルペリレンであり、電荷輸送層は、N,N'-
ジフェニル-N,N'-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1'-ビフ
ェニル]-4,4-ジアミンである。好適には、電荷発生層の
光導電性顔料は、チタニルフタロシアニンで、前記電荷
輸送層は、(CH3C6H4)3Nである。ここでは、構造式I（Z
は-OH、R1は-CH2CH2-又は-CH2C6H10-）のポリビニルブ
チラール化合物が用いられる。
【００１７】
1. 定義 本願明細書において、以下の本願発明の説明において用
いる種々の用語の意味または範囲を説明する。「t-BO
C」は、t-ブトキシカルボニルを意味する。「CGL」は、
電荷発生層を意味する。「PVB」は、ポリビニルブチラ
ールを意味する。
いる種々の用語の意味または範囲を説明する。「t-BO
C」は、t-ブトキシカルボニルを意味する。「CGL」は、
電荷発生層を意味する。「PVB」は、ポリビニルブチラ
ールを意味する。
【００１８】本願明細書で用いる場合、用語「アルキ
ル」は、単に炭素とハロゲンから成る線状又は枝分れ鎖
の一価又は二価ラジカルを意味し、不飽和でないものを
含み且つ1〜10個の炭素原子を有するもの、例えば、メ
チル、メチレン、プロピル、トリメチレン、ヘプチル及
びその類を有し、任意にハロゲン又はアリール基と置換
してよい。
ル」は、単に炭素とハロゲンから成る線状又は枝分れ鎖
の一価又は二価ラジカルを意味し、不飽和でないものを
含み且つ1〜10個の炭素原子を有するもの、例えば、メ
チル、メチレン、プロピル、トリメチレン、ヘプチル及
びその類を有し、任意にハロゲン又はアリール基と置換
してよい。
【００１９】本願明細書で用いる場合、用語「ジアルキ
ルエーテル」は、式 - Ra - O - Rbの一価又は二価ラジ
カルに相当し、ここで、RaとRbは同一か又は異なったア
ルキル基であってよく、二価ラジカルのRbは構造式IのZ
と結合し、例えば、ジエチルエーテル、オキシジエチレ
ン、メトキシエチレン及びその類があげられる。
ルエーテル」は、式 - Ra - O - Rbの一価又は二価ラジ
カルに相当し、ここで、RaとRbは同一か又は異なったア
ルキル基であってよく、二価ラジカルのRbは構造式IのZ
と結合し、例えば、ジエチルエーテル、オキシジエチレ
ン、メトキシエチレン及びその類があげられる。
【００２０】本願明細書で用いる場合、用語「アルキル
カルボニル」は、式 -C(O)Raの一価又は二価ラジカルに
相当し、ここで、Raは上述で定義されたアリールであ
り、二価ラジカルのRaは構造式IのZと結合し、例えば、
メチルカルボニル、カルボニルエチレン及びその類があ
げられる。
カルボニル」は、式 -C(O)Raの一価又は二価ラジカルに
相当し、ここで、Raは上述で定義されたアリールであ
り、二価ラジカルのRaは構造式IのZと結合し、例えば、
メチルカルボニル、カルボニルエチレン及びその類があ
げられる。
【００２１】本願明細書で用いる場合、用語「シクロア
ルキル」は、炭素とハロゲン原子から成る一価又は二価
の環状ラジカルに相当し、不飽和でないものを含み、さ
らに、５〜７個の炭素原子を有するもの、例えば、キク
ロペンチル、シクロヘキシレン及びその類を有する。
ルキル」は、炭素とハロゲン原子から成る一価又は二価
の環状ラジカルに相当し、不飽和でないものを含み、さ
らに、５〜７個の炭素原子を有するもの、例えば、キク
ロペンチル、シクロヘキシレン及びその類を有する。
【００２２】本願明細書で用いる場合、用語「シクロア
ルキルアルキル」は、式 - Ra - Rbの一価又は二価ラジ
カルに相当し、ここで、Raはアルキルであり、Rbはシク
ロアルキルであって、二価ラジカルのRbは構造式IのZと
結合し、例えば、シクロペンチルメチレン、シクロへキ
シレンエチレン及びその類があげられる。
ルキルアルキル」は、式 - Ra - Rbの一価又は二価ラジ
カルに相当し、ここで、Raはアルキルであり、Rbはシク
ロアルキルであって、二価ラジカルのRbは構造式IのZと
結合し、例えば、シクロペンチルメチレン、シクロへキ
シレンエチレン及びその類があげられる。
【００２３】本願明細書で用いる場合、用語「アリー
ル」は、１またはそれ以上の環を有する一価又は二価の
不飽和芳香族炭素環式ラジカルに相当し、例えば、フェ
ニル、ナフチル、フェニレン及びその類があげられ、任
意に、ハロゲン又はアリール基と置換してよい。
ル」は、１またはそれ以上の環を有する一価又は二価の
不飽和芳香族炭素環式ラジカルに相当し、例えば、フェ
ニル、ナフチル、フェニレン及びその類があげられ、任
意に、ハロゲン又はアリール基と置換してよい。
【００２４】本願明細書で用いる場合、用語「アリール
カルボニル」は、構造式 -C(O)Rcの一価又は二価ラジカ
ルに相当し、ここで、Rcはアリールであり、二価ラジカ
ルのRcは構造式IのZと結合し、例えば、フェニルカルボ
ニル、カルボニルフェニレン及びその類があげられる。
カルボニル」は、構造式 -C(O)Rcの一価又は二価ラジカ
ルに相当し、ここで、Rcはアリールであり、二価ラジカ
ルのRcは構造式IのZと結合し、例えば、フェニルカルボ
ニル、カルボニルフェニレン及びその類があげられる。
【００２５】本願明細書で用いる場合、用語「アルカリ
ールカルボニル」は、式-Rc-Raの一価又は二価ラジカル
に相当し、ここで、Rcはアリールで、Raはアルキルであ
り、二価ラジカルのRaは構造式IのZと結合し、例えば、
メチルフェニルカルボニル、メチレンフェニルカルボニ
ル及びその類があげられる。
ールカルボニル」は、式-Rc-Raの一価又は二価ラジカル
に相当し、ここで、Rcはアリールで、Raはアルキルであ
り、二価ラジカルのRaは構造式IのZと結合し、例えば、
メチルフェニルカルボニル、メチレンフェニルカルボニ
ル及びその類があげられる。
【００２６】本願明細書で用いる場合、用語「アルアル
キル」は、式 -Ra-Rcの一価又は二価ラジカルに相当
し、ここで、Raはアルキルで、Rcはアリールであり、二
価ラジカルのRcは構造式IのZと結合を成すもので、例え
ば、ベンジル、メチレンフェニレン及びその類があげら
れる。
キル」は、式 -Ra-Rcの一価又は二価ラジカルに相当
し、ここで、Raはアルキルで、Rcはアリールであり、二
価ラジカルのRcは構造式IのZと結合を成すもので、例え
ば、ベンジル、メチレンフェニレン及びその類があげら
れる。
【００２７】本願明細書で用いる場合、用語「アルキル
アルアルキル」は、式 -Rc-Raの一価又は二価ラジカル
に相当し、ここで、Rcは上記に定義したアルアルキル
で、Raはアリールであり、二価ラジカルのRaは構造式I
のZと結合し、例えば、メチルベンジル、メチレンフェ
ニルエチレン及びその類があげられる。
アルアルキル」は、式 -Rc-Raの一価又は二価ラジカル
に相当し、ここで、Rcは上記に定義したアルアルキル
で、Raはアリールであり、二価ラジカルのRaは構造式I
のZと結合し、例えば、メチルベンジル、メチレンフェ
ニルエチレン及びその類があげられる。
【００２８】本願明細書で用いる場合、用語「ハロゲン
化水素捕捉剤」(hydrogen halide scavenger)は、反応
混合物からハロゲン化水素を除去することができる化合
物を意味し、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
重炭酸カリウム (potassiumbicarbonate)、重炭酸ナト
リウム (sodium bicarbonate)、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、N,N'-ジアルキルアミン及びその類が
あげられる。
化水素捕捉剤」(hydrogen halide scavenger)は、反応
混合物からハロゲン化水素を除去することができる化合
物を意味し、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
重炭酸カリウム (potassiumbicarbonate)、重炭酸ナト
リウム (sodium bicarbonate)、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、N,N'-ジアルキルアミン及びその類が
あげられる。
【００２９】用語「加水分解する」(hydrolyzing)」又
は「加水分解(hydrolysis)」は、水を加えることにより
化学結合を分割するプロセスに相当するもので、例え
ば、エーテルの加水分解でアルコールが生じ、アルキル
エステルの加水分解で有機酸とアルコールが生ずる。加
水分解は、無機又は有機酸での処理もしくは塩基での処
理で行ってもよい。
は「加水分解(hydrolysis)」は、水を加えることにより
化学結合を分割するプロセスに相当するもので、例え
ば、エーテルの加水分解でアルコールが生じ、アルキル
エステルの加水分解で有機酸とアルコールが生ずる。加
水分解は、無機又は有機酸での処理もしくは塩基での処
理で行ってもよい。
【００３０】「任意の(optional)」又は「任意に(optio
nally)」は、後続に記述される事象又は状況が起こって
も起こらなくてもよいということ及びその記述には前記
事象又は状況が起こる例と起こらない例が含まれること
を意味する。
nally)」は、後続に記述される事象又は状況が起こって
も起こらなくてもよいということ及びその記述には前記
事象又は状況が起こる例と起こらない例が含まれること
を意味する。
【００３１】２．有用性 構造式Iの化合物は、光導電体並びに表面被覆材料に対
するバインダー（結合剤）として、構造接着剤として及
び低温硬化が有利であるか又は必要とするその他の用途
に、有用である。構造式Iの化合物は、様々な表面に対
して優れた接着性を示すものである。光導電体の電荷発
生層における顔料分散バインダーとして使用するとき、
構造式Iの化合物は、従来のPVBから成る比較CGLが示す
ものより高い光応答性を示す。従来のPVBより低い温度
で架橋結合できるそれらの能力の故に、これらの化合物
は、高温で劣化しやすい電荷輸送分子及び顔料と共に及
び／又は従来のPVBの架橋中に典型的に用いられる酸性
触媒と共に用いることができる。構造式Iの化合物を架
橋するのに要する条件は、従来のPVBを架橋するのに要
する条件より安全で、低コストであり且つより環境に優
しいものである。
するバインダー（結合剤）として、構造接着剤として及
び低温硬化が有利であるか又は必要とするその他の用途
に、有用である。構造式Iの化合物は、様々な表面に対
して優れた接着性を示すものである。光導電体の電荷発
生層における顔料分散バインダーとして使用するとき、
構造式Iの化合物は、従来のPVBから成る比較CGLが示す
ものより高い光応答性を示す。従来のPVBより低い温度
で架橋結合できるそれらの能力の故に、これらの化合物
は、高温で劣化しやすい電荷輸送分子及び顔料と共に及
び／又は従来のPVBの架橋中に典型的に用いられる酸性
触媒と共に用いることができる。構造式Iの化合物を架
橋するのに要する条件は、従来のPVBを架橋するのに要
する条件より安全で、低コストであり且つより環境に優
しいものである。
【００３２】３．好適な実施例 好ましいのは、構造式Iの化合物であって、ここでは、Z
は-OH、R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキル
カルボニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキ
ル、アリール、アリールカルボニル、アルカリールカル
ボニル、アルアルキル又はアルキルアルアルキルであ
る。特に好ましいものは、R1が-CH2-, -CH2CH2-, -CH2C
H2OCH2CH2-, -C(O)CH2-, -C(O)CH2CH2-及び-CH2C6H10-
であり、そしてxが約78%〜約82%であり、yが約15%〜約1
7%であり且つzが約1%〜約7%であるような化合物であ
る。
は-OH、R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキル
カルボニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキ
ル、アリール、アリールカルボニル、アルカリールカル
ボニル、アルアルキル又はアルキルアルアルキルであ
る。特に好ましいものは、R1が-CH2-, -CH2CH2-, -CH2C
H2OCH2CH2-, -C(O)CH2-, -C(O)CH2CH2-及び-CH2C6H10-
であり、そしてxが約78%〜約82%であり、yが約15%〜約1
7%であり且つzが約1%〜約7%であるような化合物であ
る。
【００３３】さらに、好ましいのは、Zが-NHR2である構
造式Iの化合物であって、ここで、R2は、アルキル、ジ
アルキルエーテル、アルキルカルボニル、シクロアルキ
ル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールカル
ボニル、アルカリールカルボニル、アルアルキル、アル
キルアルアルキル又はR2がHであり、R1は、ZがOHである
構造式Iの化合物に関するものと同じである。特に好ま
しいものは、R1が-CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2OCH2CH2-,
-C(O)CH2-, -C(O)CH2CH2-及び-CH2C6H10-であり、R2がH
であり、そしてxが約78%〜約82であり、yが約15%〜約17
%であり且つzが約1%〜約7%であるような化合物である。
造式Iの化合物であって、ここで、R2は、アルキル、ジ
アルキルエーテル、アルキルカルボニル、シクロアルキ
ル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールカル
ボニル、アルカリールカルボニル、アルアルキル、アル
キルアルアルキル又はR2がHであり、R1は、ZがOHである
構造式Iの化合物に関するものと同じである。特に好ま
しいものは、R1が-CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2OCH2CH2-,
-C(O)CH2-, -C(O)CH2CH2-及び-CH2C6H10-であり、R2がH
であり、そしてxが約78%〜約82であり、yが約15%〜約17
%であり且つzが約1%〜約7%であるような化合物である。
【００３４】4. 構造式Iの化合物の合成 A. 合成反応パラメータ 「溶媒」、「不活性有機溶媒」又は「不活性溶媒」は、
本願明細書に記述される反応条件下では不活性である溶
媒を意味するものである。例えば、ベンゼン、ジクロロ
メタン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリル及びそれらと類似のものを含むが、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール及びそれら類似
のものようなアルコール系溶媒は含まない。それとは逆
に明記されない限り、本願発明の反応に用いられる溶媒
は不活性有機溶媒である。
本願明細書に記述される反応条件下では不活性である溶
媒を意味するものである。例えば、ベンゼン、ジクロロ
メタン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリル及びそれらと類似のものを含むが、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール及びそれら類似
のものようなアルコール系溶媒は含まない。それとは逆
に明記されない限り、本願発明の反応に用いられる溶媒
は不活性有機溶媒である。
【００３５】それとは逆に明記されない限り、ここに記
述した反応は、10℃から100℃、好ましくは、15℃から9
0℃、最も好ましくは、「室温」または「周囲温度」で
あり、例えば、20℃から80℃の温度範囲内で、大気圧下
で起こるものとする。さらに、別途明記しない限り、反
応時間と諸条件は近似され、例えば、約14から約30時間
の期間にわたり、約5℃から約100℃、好ましくは、約15
℃から約90℃、最も好ましくは、約20℃から約90℃の温
度範囲内で、ほぼ大気圧で起こるものとする。諸実施例
に与えられるパラメータは、特定のものであって、近似
されないものとする。
述した反応は、10℃から100℃、好ましくは、15℃から9
0℃、最も好ましくは、「室温」または「周囲温度」で
あり、例えば、20℃から80℃の温度範囲内で、大気圧下
で起こるものとする。さらに、別途明記しない限り、反
応時間と諸条件は近似され、例えば、約14から約30時間
の期間にわたり、約5℃から約100℃、好ましくは、約15
℃から約90℃、最も好ましくは、約20℃から約90℃の温
度範囲内で、ほぼ大気圧で起こるものとする。諸実施例
に与えられるパラメータは、特定のものであって、近似
されないものとする。
【００３６】ここに記述した化合物と中間物の分離及び
精製は、必要なら、適切な分離又は精製処理、例えば、
ろ過、抽出、遠心分離、クロマトグラフィーのどれか又
はこれらの処理の組合せによって実施してよい。適切な
分離精製の特定の説明は、後続の実施例の参照で示して
よい。しかし、もちろん、その他の同等の分離又は精製
処理も用いてよい。
精製は、必要なら、適切な分離又は精製処理、例えば、
ろ過、抽出、遠心分離、クロマトグラフィーのどれか又
はこれらの処理の組合せによって実施してよい。適切な
分離精製の特定の説明は、後続の実施例の参照で示して
よい。しかし、もちろん、その他の同等の分離又は精製
処理も用いてよい。
【００３７】B. Zが-OHである場合の式(I)の化合物の作
製 Zが-OHの構造式Iの化合物の調製プロセスは、以下に示
す反応スケームで表される。ここでは、置換基R1とx、y
及びzは、別途明記されない限り、発明の概要で記述し
たものと同じ意味をもつ。
製 Zが-OHの構造式Iの化合物の調製プロセスは、以下に示
す反応スケームで表される。ここでは、置換基R1とx、y
及びzは、別途明記されない限り、発明の概要で記述し
たものと同じ意味をもつ。
【００３８】
【化６】
【００３９】出発物質 ポリビニルブチラール（PVB、構造式(1)）、R1Br-置換
アルコール及びジヒドロピランは市販のものである。構
造式(2)のテトラヒドロピラン化合物は、当該技術分野
で周知の方法によってR1Br-置換アルコールをジヒドロ
ピランで反応させることにより生成される。
アルコール及びジヒドロピランは市販のものである。構
造式(2)のテトラヒドロピラン化合物は、当該技術分野
で周知の方法によってR1Br-置換アルコールをジヒドロ
ピランで反応させることにより生成される。
【００４０】構造式(3) 反応スケーム1のステップ1で示されるように、PVB(1)を
構造式(2)の化合物と反応させて構造式(3)の対応化合物
を得る。
構造式(2)の化合物と反応させて構造式(3)の対応化合物
を得る。
【００４１】該反応は、超過量のハロゲン化水素捕捉
剤、最も好ましくは、炭酸カリウムの存在で窒素雰囲気
中で実施する。その反応物を約70℃〜90℃の不活性有機
溶剤中で加熱して構造式(3)の化合物を得る。典型的に
は24時間かかるが、反応が実質的に完了すると、構造式
(3)の化合物を標準の技術により、例えば、析出及びろ
過で反応混合物から分離する。
剤、最も好ましくは、炭酸カリウムの存在で窒素雰囲気
中で実施する。その反応物を約70℃〜90℃の不活性有機
溶剤中で加熱して構造式(3)の化合物を得る。典型的に
は24時間かかるが、反応が実質的に完了すると、構造式
(3)の化合物を標準の技術により、例えば、析出及びろ
過で反応混合物から分離する。
【００４２】構造式(1) （Zが-OH） 反応スケーム1、ステップ2で説明されているように、テ
トラヒドロピラン基を構造式(3)の化合物から選択的に
除去してZが-OHである場合の構造式Iの化合物を得る。
トラヒドロピラン基を構造式(3)の化合物から選択的に
除去してZが-OHである場合の構造式Iの化合物を得る。
【００４３】テトラヒドロピラン基の選択的除去操作
は、ステップ1の生成物を不活性溶剤中で溶解し、それ
に触媒量の希釈酸、例えば、10% HClを滴状で付加し、
そして脱保護(deprotection)が完了するまで、通常、約
18時間、その反応混合物を室温で定温放置して実施す
る。構造式Iの化合物を反応混合物から分離し、標準の
技術で、例えば、析出及び減圧下での揮発性化合物の蒸
発によって、精製して、濃縮する。
は、ステップ1の生成物を不活性溶剤中で溶解し、それ
に触媒量の希釈酸、例えば、10% HClを滴状で付加し、
そして脱保護(deprotection)が完了するまで、通常、約
18時間、その反応混合物を室温で定温放置して実施す
る。構造式Iの化合物を反応混合物から分離し、標準の
技術で、例えば、析出及び減圧下での揮発性化合物の蒸
発によって、精製して、濃縮する。
【００４４】C. Zが-NHR2である場合の構造式Iの化合物
の調製 Zが-NHR2の構造式(I)の化合物の調製プロセスは、以下
に示す反応スケーム２に示されており、この場合、置換
基R2とx、y及びzは、別途明記されない限り、発明の概
要で記述したものと同じ意味をもつ。
の調製 Zが-NHR2の構造式(I)の化合物の調製プロセスは、以下
に示す反応スケーム２に示されており、この場合、置換
基R2とx、y及びzは、別途明記されない限り、発明の概
要で記述したものと同じ意味をもつ。
【００４５】
【化７】
【００４６】構造式(4) 構造式(4)の化合物は、反応スケーム2で説明されるよう
に、構造式I（Zは-NHR2）の化合物の調製における中間
生成物である。構造式(4)の化合物は、当業者に周知の
方法に従い、臭素化されたモノー又はジー置換アミン又
は（市販されている）その対応塩を炭酸ジ-t-ブチルと
反応させて作る。弱酸で容易に除去できるその他のアミ
ノ保護基も用いてよい（例えば、アミルカルバメイ
ト）。
に、構造式I（Zは-NHR2）の化合物の調製における中間
生成物である。構造式(4)の化合物は、当業者に周知の
方法に従い、臭素化されたモノー又はジー置換アミン又
は（市販されている）その対応塩を炭酸ジ-t-ブチルと
反応させて作る。弱酸で容易に除去できるその他のアミ
ノ保護基も用いてよい（例えば、アミルカルバメイ
ト）。
【００４７】構造式(5) 構造式(5)の化合物は、上の構造式(3)の調製のために記
述したものと同じ条件を使って、PVB（構造式I）を塩基
の存在で構造式(4)の化合物と反応させて作る。その反
応が実質的に完了する時、析出により構造式(5)の化合
物を調製する。
述したものと同じ条件を使って、PVB（構造式I）を塩基
の存在で構造式(4)の化合物と反応させて作る。その反
応が実質的に完了する時、析出により構造式(5)の化合
物を調製する。
【００４８】構造式I(Zは、-NHR2) 構造式(5)の化合物のアミノ保護基を、弱酸、例えば、
トリフルオロ酢酸の存在で加水分解するか又はその代わ
りに、触媒水素化によって除去して、Zが-NHR2の構造式
Iの化合物を得た。
トリフルオロ酢酸の存在で加水分解するか又はその代わ
りに、触媒水素化によって除去して、Zが-NHR2の構造式
Iの化合物を得た。
【００４９】実験例 次の調製と例は、当業者が本願発明をより明確に理解し
且つ実施できるように提示するものである。それらは、
本願発明の範囲を制限するものではなく、これらは単に
例示的で典型な例と理解されるべきものである。
且つ実施できるように提示するものである。それらは、
本願発明の範囲を制限するものではなく、これらは単に
例示的で典型な例と理解されるべきものである。
【００５０】実験例1 1A. R1がエチルである場合の式(3) 窒素雰囲気下で、PVB（x=80%、y=16%及びz=4%の市販PV
B、25g）と、テトラヒドロフラン（THF、150g）と、(2-
ブロモエトキシ)-6-テトラヒドロフラン（12.95g）及び
K2CO3（42g）の混合物を80℃で24時間加熱した。生ずる
混合物をTHF（200g）で希釈し、そして水（7L）中で沈
殿させた。得られた沈殿物をろ過して、定量的収量で構
造式(3)の化合物であるポリ（ビニルブチラール-コ(co)
-ビニルテトラヒドロピラニルエトキシ・エーテル-コ(c
o)-酢酸ビニル）の構造式(3)（ここで、R1が-CH2CH2-
で、 xが80%、yが16%及びzが4%）を得た。
B、25g）と、テトラヒドロフラン（THF、150g）と、(2-
ブロモエトキシ)-6-テトラヒドロフラン（12.95g）及び
K2CO3（42g）の混合物を80℃で24時間加熱した。生ずる
混合物をTHF（200g）で希釈し、そして水（7L）中で沈
殿させた。得られた沈殿物をろ過して、定量的収量で構
造式(3)の化合物であるポリ（ビニルブチラール-コ(co)
-ビニルテトラヒドロピラニルエトキシ・エーテル-コ(c
o)-酢酸ビニル）の構造式(3)（ここで、R1が-CH2CH2-
で、 xが80%、yが16%及びzが4%）を得た。
【００５１】
【化８】 溶解性は、THFに可溶、IPAに不溶であり、プロトンNMR
(60MHz)では、積分強度比（脂肪族／o-アルキル）が 2.
9、さらに、PVBに対する積分強度比（脂肪族／o-アルキ
ル）は3.23.であった。
(60MHz)では、積分強度比（脂肪族／o-アルキル）が 2.
9、さらに、PVBに対する積分強度比（脂肪族／o-アルキ
ル）は3.23.であった。
【００５２】1B. R1を可変させた場合の構造式(3) 同様の方法だが、2-ブロモエトキシ-6-テトラヒドロフ
ランを構造式(2)（ここで、 R1は、-CH2-, -CH2CH2-, -
(CH2)2O(CH2)2-, -C(O)CH2-, -C(O)CH2CH2-、-CH2C6H10
-, -C5H8-, -C(O)C6H4CH2-, -C(O)C6H4CH(CH3)-, -CH2C
6H4-及び-CH2C6H4CH2-等）の化合物と置換させることに
よって、構造式(3)と対応する化合物が得られる。
ランを構造式(2)（ここで、 R1は、-CH2-, -CH2CH2-, -
(CH2)2O(CH2)2-, -C(O)CH2-, -C(O)CH2CH2-、-CH2C6H10
-, -C5H8-, -C(O)C6H4CH2-, -C(O)C6H4CH(CH3)-, -CH2C
6H4-及び-CH2C6H4CH2-等）の化合物と置換させることに
よって、構造式(3)と対応する化合物が得られる。
【００５３】実験例２ 2A. R1がエチルである場合の構造式I THF（265g）と構造式(3)の化合物（R=-CH2CH2）20gと水
17 mlの混合物を10%水性HCl（0.62g）の添加で注意深
く酸性化した。その混合物を室温で18時間定温で放置
し、次いで、3.5Lの水中で沈殿させた。その沈殿物をイ
ソプロピルアルコール（157g）で溶解しそして2Lのヘプ
タン中で沈殿させ、82%収率の化合物、ポリ（ビニルブ
チラール-コ-ビニルヒドロキシエーテル-コ-酢酸ビニ
ル）の構造式I（ R1が、-CH2CH2-、xが80%,yが16%及びz
が4%）を得た。
17 mlの混合物を10%水性HCl（0.62g）の添加で注意深
く酸性化した。その混合物を室温で18時間定温で放置
し、次いで、3.5Lの水中で沈殿させた。その沈殿物をイ
ソプロピルアルコール（157g）で溶解しそして2Lのヘプ
タン中で沈殿させ、82%収率の化合物、ポリ（ビニルブ
チラール-コ-ビニルヒドロキシエーテル-コ-酢酸ビニ
ル）の構造式I（ R1が、-CH2CH2-、xが80%,yが16%及びz
が4%）を得た。
【００５４】
【化９】 DSCは、構造式Iの上記化合物のガラス転移温度(Tg)は59
℃であることが測定された。PVBのTgは66℃であること
が測定された。溶解性：IPAに可溶。プロトンNMR(60MH
z):積分強度比（脂肪族／o-アルキル）= 2.74.
℃であることが測定された。PVBのTgは66℃であること
が測定された。溶解性：IPAに可溶。プロトンNMR(60MH
z):積分強度比（脂肪族／o-アルキル）= 2.74.
【００５５】2B. R1を可変した場合の構造式(I) 同様の方法だが、Rが-(CH2)2-の化合物を構造式(3)（こ
こで、R1が-CH2-, -(CH2)2O(CH2)2-, -C(O)CH2-, -C(O)
CH2CH2-, -CH2C6H10-, -C5H8-, -C(O)C6H4CH2-, -C(O)C
6H4CH(CH3)-, -CH2C6H4-及び-CH2C6H4CH2-）の化合物と
置換して、構造式Iの対応化合物が得られた。
こで、R1が-CH2-, -(CH2)2O(CH2)2-, -C(O)CH2-, -C(O)
CH2CH2-, -CH2C6H10-, -C5H8-, -C(O)C6H4CH2-, -C(O)C
6H4CH(CH3)-, -CH2C6H4-及び-CH2C6H4CH2-）の化合物と
置換して、構造式Iの対応化合物が得られた。
【００５６】実施例3 構造式I（R=-CH2CH2-）の化合物を含有する架橋CGL 30gのフェネチルペリレン顔料（Paliogene Black、BAS
F）と10gの修飾したポリビニルブチラール（構造式I、R
=-CH2CH2-）を、360gのメチルイソブチルケトン(MIBK)
とジルコニウム・ビーズ（直径5mm）と一緒にセラミッ
クジャーで72時間混和させた(milled)。分散は、5%の固
形を含むようMIBKで調節した。3gのポリジイソシアン酸
NP-75（メチルエチルケトン(MEK)中70%固形）を添加し
た。200メッシュフィルターでろ過後、十分な量のろ液
をドクターブレード(doctor blade)を使ってAlマイラー
上に被覆し、CGLを形成するため、オーブン中で80℃で3
0分、次に、135℃で2時間焼結させた後、１ミクロンの
厚さを得た。
F）と10gの修飾したポリビニルブチラール（構造式I、R
=-CH2CH2-）を、360gのメチルイソブチルケトン(MIBK)
とジルコニウム・ビーズ（直径5mm）と一緒にセラミッ
クジャーで72時間混和させた(milled)。分散は、5%の固
形を含むようMIBKで調節した。3gのポリジイソシアン酸
NP-75（メチルエチルケトン(MEK)中70%固形）を添加し
た。200メッシュフィルターでろ過後、十分な量のろ液
をドクターブレード(doctor blade)を使ってAlマイラー
上に被覆し、CGLを形成するため、オーブン中で80℃で3
0分、次に、135℃で2時間焼結させた後、１ミクロンの
厚さを得た。
【００５７】実施例4 4A. 構造式I（R=-CH2CH2-）の化合物とフェネチルペリ
レン顔料とを含有する有機導電体(OPC) 40gの正孔輸送化合物、N,N'-ジフェニル-N,N'-ビス(3-
メチルフェニル)-[1,1'-ビフェニル]-4,4-ジアミン（Ze
neca,U.K.から購入した）と、900gのジクロロメタン(DC
M)と1,1,2-トリクロロメタン(TCM)（重量で7:3）に溶か
した60gのポリカーボネート（Mobay Chemicalから購入
した「Makrolon」）とを含有する溶液でドクターブレー
ドを使ってCGL（実験例3）を被覆し、110℃で2時間焼結
させた後、25ミクロン厚を得た。
レン顔料とを含有する有機導電体(OPC) 40gの正孔輸送化合物、N,N'-ジフェニル-N,N'-ビス(3-
メチルフェニル)-[1,1'-ビフェニル]-4,4-ジアミン（Ze
neca,U.K.から購入した）と、900gのジクロロメタン(DC
M)と1,1,2-トリクロロメタン(TCM)（重量で7:3）に溶か
した60gのポリカーボネート（Mobay Chemicalから購入
した「Makrolon」）とを含有する溶液でドクターブレー
ドを使ってCGL（実験例3）を被覆し、110℃で2時間焼結
させた後、25ミクロン厚を得た。
【００５８】構造式I（R=-CH2CH2-）の化合物を含有す
るOPCの電子写真上の性能は、OPCテスター（Cynthia 20
0）を使って、同様に調製した従来のPVB含有のOPCと比
較した。試料は、電荷アクセプタンス(charge acceptan
ce)Vo /(V)を測定するため負のコロナ電圧V=−6000Vで
帯電させ、暗消失(dark decay)DDR(V/秒)を測定するた
め5秒間暗部で消失させ、次に、試料に強く吸収される
光の波長、この場合630 nmに、1 erg/cm2の光強度で、1
0秒間露光させた。光応答性、E1/2は、Vo /(V)から表面
電荷の80%を放電するのに要するエネルギー（ergs/c
m2）として測定した。残留電圧Vr(V)は、消去ランプに
露光させた後、表面電荷として検出した。得られた結果
を以下に示す。市販のPVB含有のOPCをPVBとし、構造式I
（R=-CH2CH2-）の修飾PVB含有のOPCをPVB-Mと表す。
るOPCの電子写真上の性能は、OPCテスター（Cynthia 20
0）を使って、同様に調製した従来のPVB含有のOPCと比
較した。試料は、電荷アクセプタンス(charge acceptan
ce)Vo /(V)を測定するため負のコロナ電圧V=−6000Vで
帯電させ、暗消失(dark decay)DDR(V/秒)を測定するた
め5秒間暗部で消失させ、次に、試料に強く吸収される
光の波長、この場合630 nmに、1 erg/cm2の光強度で、1
0秒間露光させた。光応答性、E1/2は、Vo /(V)から表面
電荷の80%を放電するのに要するエネルギー（ergs/c
m2）として測定した。残留電圧Vr(V)は、消去ランプに
露光させた後、表面電荷として検出した。得られた結果
を以下に示す。市販のPVB含有のOPCをPVBとし、構造式I
（R=-CH2CH2-）の修飾PVB含有のOPCをPVB-Mと表す。
【００５９】
【表１】
【００６０】4B. 構造式I（R=-CH2CH2-）の化合物とア
ルファチタニルフタロシアニン顔料とを含有する有機光
導電体(OPC) 有機光導電体は、CGLがテトラヒドロフラン(THF)と一緒
に混和された(milled)20gのアルファチタニルフタロシ
アニン及び10gのPVB-Mから形成された以外は、本質的に
実験例4Aに記述したようにして調製した。架橋ステップ
は省略した。以下に示す表の結果に関連して、光応答性
は780nmで測定した。実施例4Aに用いたものと同じ試料
名をここでも使用する。
ルファチタニルフタロシアニン顔料とを含有する有機光
導電体(OPC) 有機光導電体は、CGLがテトラヒドロフラン(THF)と一緒
に混和された(milled)20gのアルファチタニルフタロシ
アニン及び10gのPVB-Mから形成された以外は、本質的に
実験例4Aに記述したようにして調製した。架橋ステップ
は省略した。以下に示す表の結果に関連して、光応答性
は780nmで測定した。実施例4Aに用いたものと同じ試料
名をここでも使用する。
【００６１】
【表２】
【００６２】本願発明をその特定実施例を参照して説明
したが、発明の精神と範囲から逸脱することなく様々な
変更をなしてよく且つ等価物を置換してよいことは、熟
練した当業者に理解されるべきである。さらに、特定の
状況、材料、物質の合成、プロセス、プロセスのステッ
プ又は諸ステップを目的とする本願発明の精神と範囲に
適応させるべく多くの修正を施すこともできる。前述の
修正は全て前述の特許請求の範囲内にあるものとする。
上文に引用された全ての特許と文献は、結果的に参考と
して織り込んだものである。
したが、発明の精神と範囲から逸脱することなく様々な
変更をなしてよく且つ等価物を置換してよいことは、熟
練した当業者に理解されるべきである。さらに、特定の
状況、材料、物質の合成、プロセス、プロセスのステッ
プ又は諸ステップを目的とする本願発明の精神と範囲に
適応させるべく多くの修正を施すこともできる。前述の
修正は全て前述の特許請求の範囲内にあるものとする。
上文に引用された全ての特許と文献は、結果的に参考と
して織り込んだものである。
【００６３】以上、本発明の実施例について詳述した
が、以下、本発明の各実施態様の例を示す。 （実施態様１）以下に示す構造の低温硬化結合剤。
が、以下、本発明の各実施態様の例を示す。 （実施態様１）以下に示す構造の低温硬化結合剤。
【化１０】 ここにおいて、 R1は、アルキル、ジアルキルエーテ
ル、アルキルカルボニル、シクロアルキル、シクロアル
キルアルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカ
リールカルボニル、アルアルキル又はアルキルアルアル
キル、Zは、-OH又は-NHR2であり、ここでR2は、アルキ
ル、ジアルキルエーテル、アルキルカルボニル、シクロ
アルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリー
ルカルボニル、アルカリールカルボニル、アルアルキ
ル、アルキルアルアルキルまたはR2はH、xは約60〜95
%、 yは約3〜40%、zは0〜約20%および これらx、y、zの
総和は100%である。 （実施態様２）前項１記載の結合剤であって、 Zは-O
H、R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキルカル
ボニル又はシクロアルキルである低温硬化結合剤。 （実施態様３）前項２記載の結合剤であって、 R1は-CH
2-, -CH2CH2-, -CH2CH2OCH2CH2-, -C(O)CH2-, -C(O)CH2
CH2-又は-CH2C6H10、 xは約78〜82mol%、yは約15〜17m
ol%及びzは約1〜7mol%である低温硬化結合剤。 （実施態様４）前項３記載の結合剤であって、R1は-CH2
CH2-又は-CH2C6H10-である低温硬化結合剤。 （実施態様５）前項１記載の結合剤であって、 Zは-NHR
2、R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキルカル
ボニル又はシクロアルキル、R2は水素又はアリールであ
る低温硬化結合剤。 （実施態様６）以下に示す構造の化合物。
ル、アルキルカルボニル、シクロアルキル、シクロアル
キルアルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカ
リールカルボニル、アルアルキル又はアルキルアルアル
キル、Zは、-OH又は-NHR2であり、ここでR2は、アルキ
ル、ジアルキルエーテル、アルキルカルボニル、シクロ
アルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリー
ルカルボニル、アルカリールカルボニル、アルアルキ
ル、アルキルアルアルキルまたはR2はH、xは約60〜95
%、 yは約3〜40%、zは0〜約20%および これらx、y、zの
総和は100%である。 （実施態様２）前項１記載の結合剤であって、 Zは-O
H、R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキルカル
ボニル又はシクロアルキルである低温硬化結合剤。 （実施態様３）前項２記載の結合剤であって、 R1は-CH
2-, -CH2CH2-, -CH2CH2OCH2CH2-, -C(O)CH2-, -C(O)CH2
CH2-又は-CH2C6H10、 xは約78〜82mol%、yは約15〜17m
ol%及びzは約1〜7mol%である低温硬化結合剤。 （実施態様４）前項３記載の結合剤であって、R1は-CH2
CH2-又は-CH2C6H10-である低温硬化結合剤。 （実施態様５）前項１記載の結合剤であって、 Zは-NHR
2、R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキルカル
ボニル又はシクロアルキル、R2は水素又はアリールであ
る低温硬化結合剤。 （実施態様６）以下に示す構造の化合物。
【化１１】 ここにおいて、R1は、アルキル、ジアルキルエーテル、
アルキルカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキル
アルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカリー
ルカルボニル、アルアルキル又はアルキルアルアルキ
ル、xは約60〜95%、 yは約3〜40%、 zは0〜約20%で、こ
れらx、y、zの総和が100%である。 （実施態様７）前項６記載の化合物であって、R1は-CH2
CH2-又は-CH2C6H10-である化合物。 （実施態様８）前項１記載の低温硬化結合剤を調製する
方法において、以下の構造を有する化合物を酸で加水分
解することを特徴とする結合剤の調製方法。
アルキルカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキル
アルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカリー
ルカルボニル、アルアルキル又はアルキルアルアルキ
ル、xは約60〜95%、 yは約3〜40%、 zは0〜約20%で、こ
れらx、y、zの総和が100%である。 （実施態様７）前項６記載の化合物であって、R1は-CH2
CH2-又は-CH2C6H10-である化合物。 （実施態様８）前項１記載の低温硬化結合剤を調製する
方法において、以下の構造を有する化合物を酸で加水分
解することを特徴とする結合剤の調製方法。
【化１２】 ここにおいて、 R1はアルキル、ジアルキルエーテル、
アルキルカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキル
・アルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカリ
ールカルボニル、アルアルキル又はアルキルアルアルキ
ル、Zは-OH、xは約60〜95%、 yは約3〜40%、 zは0〜約2
0%で これらx、y、zの総和は100%である。 （実施態様９）前項１の結合剤の溶液に分散された光導
電性顔料から形成した電荷発生層と、電荷輸送層を含む
電子写真用光導電体。 （実施態様１０）前項９記載の光導電体であって、前記
光導電性顔料は、チタニルフタロシアニン、バナジルフ
タロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無
金属（メタルフリー）フタロシアニン、銅フタロシアニ
ン、アルミニウムフタロシアニン、クロロアルミニウム
フタロシアニン及びハロインジウムフタロシアニンから
成る群から選択される光導電体。 （実施態様１１）前記光導電性顔料が、テトラカルボキ
シイミド・ペリレン顔料群から成る群から選択される前
項９記載の光導電体。 （実施態様１２）前記電荷発生層の前記光導電性顔料が
フェネチルペリレンである前項１１記載の光導電体。 （実施態様１３）前記電荷輸送層は、N,N'-ジフェニル-
N,N'-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1'-ビフェニル]-4,4-
ジアミンである前項９項記載の光導電体。 （実施態様１４）前記電荷発生層の前記光導電性顔料
は、チタニルフタロシアニンで、前記電荷輸送層は、(C
H3C6H4)3Nである前項９記載の光導電体。 （実施態様１５）前項９記載の光導電体であって、前記
結合剤は、構造式I（ここにおいて、Zは-OH、R1は-CH2C
H2-又は-CH2C6H10-）のポリビニルブチラール化合物で
ある光導電体。
アルキルカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキル
・アルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカリ
ールカルボニル、アルアルキル又はアルキルアルアルキ
ル、Zは-OH、xは約60〜95%、 yは約3〜40%、 zは0〜約2
0%で これらx、y、zの総和は100%である。 （実施態様９）前項１の結合剤の溶液に分散された光導
電性顔料から形成した電荷発生層と、電荷輸送層を含む
電子写真用光導電体。 （実施態様１０）前項９記載の光導電体であって、前記
光導電性顔料は、チタニルフタロシアニン、バナジルフ
タロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無
金属（メタルフリー）フタロシアニン、銅フタロシアニ
ン、アルミニウムフタロシアニン、クロロアルミニウム
フタロシアニン及びハロインジウムフタロシアニンから
成る群から選択される光導電体。 （実施態様１１）前記光導電性顔料が、テトラカルボキ
シイミド・ペリレン顔料群から成る群から選択される前
項９記載の光導電体。 （実施態様１２）前記電荷発生層の前記光導電性顔料が
フェネチルペリレンである前項１１記載の光導電体。 （実施態様１３）前記電荷輸送層は、N,N'-ジフェニル-
N,N'-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1'-ビフェニル]-4,4-
ジアミンである前項９項記載の光導電体。 （実施態様１４）前記電荷発生層の前記光導電性顔料
は、チタニルフタロシアニンで、前記電荷輸送層は、(C
H3C6H4)3Nである前項９記載の光導電体。 （実施態様１５）前項９記載の光導電体であって、前記
結合剤は、構造式I（ここにおいて、Zは-OH、R1は-CH2C
H2-又は-CH2C6H10-）のポリビニルブチラール化合物で
ある光導電体。
【００６４】
【発明の効果】以上説明したように、本願発明の構造は
良好な接着特性と低温度硬化特性を有することができ、
よって、例えば、電子写真の光導電体の結合剤として用
いることができる。
良好な接着特性と低温度硬化特性を有することができ、
よって、例えば、電子写真の光導電体の結合剤として用
いることができる。
Claims (7)
- 【請求項１】以下に示す構造の低温硬化結合剤。 【化１】 ここにおいて、 R1は、アルキル、ジアルキルエーテ
ル、アルキルカルボニル、シクロアルキル、シクロアル
キルアルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカ
リールカルボニル、アルアルキル又はアルキルアルアル
キル、Zは、-OH又は -NHR2であり、ここでR2は、アルキ
ル、ジアルキルエーテル、アルキルカルボニル、シクロ
アルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリー
ルカルボニル、アルカリールカルボニル、アルアルキ
ル、アルキルアルアルキルまたはR2はH、 xは約60〜95%、 yは約3〜40%、zは0〜約20%および これ
らx、y、zの総和は100%である。 - 【請求項２】請求項第１項に記載の結合剤であって、 Z
は-OH、R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキル
カルボニル又はシクロアルキルであることを特徴とする
低温硬化結合剤。 - 【請求項３】請求項第２項記載の結合剤であって、 R1
は-CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2OCH2CH2-, -C(O)CH2-, -C
(O)CH2CH2-又は-CH2C6H10、 xは約78〜82 mol%、yは約
15〜17 mol%及びzは約1〜7 mol%であることを特徴とす
る低温硬化結合剤。 - 【請求項４】請求項第３項記載の結合剤であって、R1は
-CH2CH2-又は-CH2C6H10-であることを特徴とする低温硬
化結合剤。 - 【請求項５】請求項第１項記載の結合剤であって、 Zは
-NHR2、R1はアルキル、ジアルキルエーテル、アルキル
カルボニル又はシクロアルキル、R2は水素又はアリール
であることを特徴とする低温硬化結合剤。 - 【請求項６】以下に示す構造の化合物。 【化２】 ここにおいて、R1は、アルキル、ジアルキルエーテル、
アルキルカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキル
アルキル、アリール、アリールカルボニル、アルカリー
ルカルボニル、アルアルキル又はアルキルアルアルキ
ル、 xは、約60〜95%、 yは約3〜40%、 zは0〜約20%で、これ
らx、y、zの総和が100%である。 - 【請求項７】請求項第６項記載の化合物であって、R1は
-CH2CH2-又は-CH2C6H10-であることを特徴とする化合
物。
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- 1997-04-25 JP JP10982897A patent/JP3798112B2/ja not_active Expired - Fee Related
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