JPH1046252A - 超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法Info
- Publication number
- JPH1046252A JPH1046252A JP8206135A JP20613596A JPH1046252A JP H1046252 A JPH1046252 A JP H1046252A JP 8206135 A JP8206135 A JP 8206135A JP 20613596 A JP20613596 A JP 20613596A JP H1046252 A JPH1046252 A JP H1046252A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- annealing
- steel sheet
- iron loss
- ultra
- low iron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は仕上げ焼鈍後の表面粗度を極めて低
くすることにより、超低鉄損一方向性電磁鋼板を得るも
のである。 【解決手段】 重量比で、Ｓｉ：２．５〜４．５％、酸
可溶性Ａｌ：０．０１〜０．０４０％を含有する電磁鋼
スラブを１２８０℃以下で加熱熱延し、熱延板焼鈍を
し、最終圧延率８０％以上で、かつ冷延板圧延方向と直
角方向の表面粗度を平均粗さで０．２０μｍ以下にして
冷延し、脱炭焼鈍、窒化処理、焼鈍分離剤としてＡｌ2
Ｏ3 を塗布し、仕上げ焼鈍した後磁区制御し、絶縁コー
ティングを施す鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼板
の製造方法。
くすることにより、超低鉄損一方向性電磁鋼板を得るも
のである。 【解決手段】 重量比で、Ｓｉ：２．５〜４．５％、酸
可溶性Ａｌ：０．０１〜０．０４０％を含有する電磁鋼
スラブを１２８０℃以下で加熱熱延し、熱延板焼鈍を
し、最終圧延率８０％以上で、かつ冷延板圧延方向と直
角方向の表面粗度を平均粗さで０．２０μｍ以下にして
冷延し、脱炭焼鈍、窒化処理、焼鈍分離剤としてＡｌ2
Ｏ3 を塗布し、仕上げ焼鈍した後磁区制御し、絶縁コー
ティングを施す鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼板
の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は鋼板表面の平滑度の
極めて高い高磁束密度一方向性電磁鋼板に磁区制御を施
して得られる鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼板の
製造方法に関するものである。
極めて高い高磁束密度一方向性電磁鋼板に磁区制御を施
して得られる鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼板の
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年エネルギー節約の観点から鉄損を低
減することが強く要望されている。これに応えるように
最近アモルファスメタルが出現し、一部トランスメーカ
ーで採用され非常に優れた鉄損特性が得られている。こ
れに対抗すべく方向性電磁鋼板においても鋭意研究が進
められ、幾つかの提案がなされている。鉄損を低減する
方法としては従来から行われてきた高磁束密度化、二次
再結晶粒の小粒化、薄手化、表面皮膜の高張力化等の冶
金的方法の他に、物理的方法としてレーザー照射やプラ
ズマ照射等による磁区制御技術が提案されている。（特
開昭５７−２２５２号公報、特開昭５９−２５９２８号
公報）しかし、この方法は歪取り焼鈍を必要とする巻き
鉄心トランス用としては使用出来ないため、積み、巻き
両トランスに使用できる磁区制御法として、製品の表面
に歯形ロールで溝を形成する方法、例えば特開昭６１−
１１７２１８号公報、冷延板にエッチングにより溝を形
成する方法、例えば特公平３−６９９６８号公報或いは
冷延板にレーザーにより溝を形成する方法、例えば特開
昭６１−７５５０６号公報等の技術が開示された。
減することが強く要望されている。これに応えるように
最近アモルファスメタルが出現し、一部トランスメーカ
ーで採用され非常に優れた鉄損特性が得られている。こ
れに対抗すべく方向性電磁鋼板においても鋭意研究が進
められ、幾つかの提案がなされている。鉄損を低減する
方法としては従来から行われてきた高磁束密度化、二次
再結晶粒の小粒化、薄手化、表面皮膜の高張力化等の冶
金的方法の他に、物理的方法としてレーザー照射やプラ
ズマ照射等による磁区制御技術が提案されている。（特
開昭５７−２２５２号公報、特開昭５９−２５９２８号
公報）しかし、この方法は歪取り焼鈍を必要とする巻き
鉄心トランス用としては使用出来ないため、積み、巻き
両トランスに使用できる磁区制御法として、製品の表面
に歯形ロールで溝を形成する方法、例えば特開昭６１−
１１７２１８号公報、冷延板にエッチングにより溝を形
成する方法、例えば特公平３−６９９６８号公報或いは
冷延板にレーザーにより溝を形成する方法、例えば特開
昭６１−７５５０６号公報等の技術が開示された。
【０００３】また、この他の鉄損低減方法として、鋼板
の表面を電解研磨又は化学研磨により平滑（鏡面）にす
る方法がある（特公昭５２−２４４９９号公報、特公昭
５６−４１５０号公報）。この方法では平滑度が高い程
鉄損低減に効果があり、これと磁区制御技術を組み合わ
せると格段に優れた超低鉄損材が得られることが知られ
ている（特開昭５４−４３１１５号公報）。しかし、こ
の方法は工業性に欠けるため、最近ではこの鏡面を得る
方法として、焼鈍分離剤にＡｌ2 Ｏ3 を用いる方法或い
はＭｇＯの中に塩素化合物等を添加する方法等が提案さ
れている。例えば、特開平７−１１８７５０号公報には
脱炭焼鈍時の雰囲気露点をできるだけ低くして酸化層の
生成を抑制することで焼鈍分離剤Ａｌ2 Ｏ3 との反応生
成物をなくし鏡面を得る方法を提案している。
の表面を電解研磨又は化学研磨により平滑（鏡面）にす
る方法がある（特公昭５２−２４４９９号公報、特公昭
５６−４１５０号公報）。この方法では平滑度が高い程
鉄損低減に効果があり、これと磁区制御技術を組み合わ
せると格段に優れた超低鉄損材が得られることが知られ
ている（特開昭５４−４３１１５号公報）。しかし、こ
の方法は工業性に欠けるため、最近ではこの鏡面を得る
方法として、焼鈍分離剤にＡｌ2 Ｏ3 を用いる方法或い
はＭｇＯの中に塩素化合物等を添加する方法等が提案さ
れている。例えば、特開平７−１１８７５０号公報には
脱炭焼鈍時の雰囲気露点をできるだけ低くして酸化層の
生成を抑制することで焼鈍分離剤Ａｌ2 Ｏ3 との反応生
成物をなくし鏡面を得る方法を提案している。
【０００４】同じく特開平８−３６４８号公報には焼鈍
分離剤Ａｌ2 Ｏ3 の組成について述べている。また、特
開平４−２１４５１号及び特開平４−２１４５２号公報
にはこの鏡面を有する鋼板に歪取り焼鈍に耐える磁区制
御をし、かつ張力コーティングを施して、超低鉄損材を
得る方法を提案している。
分離剤Ａｌ2 Ｏ3 の組成について述べている。また、特
開平４−２１４５１号及び特開平４−２１４５２号公報
にはこの鏡面を有する鋼板に歪取り焼鈍に耐える磁区制
御をし、かつ張力コーティングを施して、超低鉄損材を
得る方法を提案している。
【０００５】特願平０８−０１７３７１号公報には冷延
の途中板厚段階で溝を形成してから製品板厚に仕上げ、
上記方法で処理する製造法を提案している。
の途中板厚段階で溝を形成してから製品板厚に仕上げ、
上記方法で処理する製造法を提案している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は仕上げ焼鈍後
の表面粗度を極めて低くすることにより安定した超低鉄
損一方向性電磁鋼板の製造方法を提案するものである。
の表面粗度を極めて低くすることにより安定した超低鉄
損一方向性電磁鋼板の製造方法を提案するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は冷延機のロール
粗度を通常より低く管理して、冷延後の鋼板表面粗度を
小さくし、仕上げ焼鈍後に極めて優れた鏡面を得ること
を特徴とするものである。即ち重量比で、Ｓｉ：２．５
〜４．５％、Ｃ：０．０２５〜０．０８５％、Ｍｎ：
０．０５０〜０．４５％、Ｓ≦０．０１５％、酸可溶性
Ａｌ：０．０１〜０．０４０％、Ｎ：≦０．０１０％、
Ｓｎ：０．０２〜０．１５％、残部Ｆｅ及び不可避的不
純物からなる電磁鋼スラブを１２８０℃以下の温度で加
熱した後、熱延し熱延板焼鈍をし、一回または中間焼鈍
を介挿する二回以上の圧延でその最終圧延率を８０％以
上とし冷延板の圧延方向と直角方向の表面粗度を平均粗
さ０．２０μｍ以下にする冷間圧延を施し、次いで脱炭
焼鈍、窒化処理、焼鈍分離剤としてＡｌ2 Ｏ3 塗布し、
仕上げ焼鈍した後磁区制御し、張力コーティングを施す
ことを特徴とする鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼
板の製造方法である。
粗度を通常より低く管理して、冷延後の鋼板表面粗度を
小さくし、仕上げ焼鈍後に極めて優れた鏡面を得ること
を特徴とするものである。即ち重量比で、Ｓｉ：２．５
〜４．５％、Ｃ：０．０２５〜０．０８５％、Ｍｎ：
０．０５０〜０．４５％、Ｓ≦０．０１５％、酸可溶性
Ａｌ：０．０１〜０．０４０％、Ｎ：≦０．０１０％、
Ｓｎ：０．０２〜０．１５％、残部Ｆｅ及び不可避的不
純物からなる電磁鋼スラブを１２８０℃以下の温度で加
熱した後、熱延し熱延板焼鈍をし、一回または中間焼鈍
を介挿する二回以上の圧延でその最終圧延率を８０％以
上とし冷延板の圧延方向と直角方向の表面粗度を平均粗
さ０．２０μｍ以下にする冷間圧延を施し、次いで脱炭
焼鈍、窒化処理、焼鈍分離剤としてＡｌ2 Ｏ3 塗布し、
仕上げ焼鈍した後磁区制御し、張力コーティングを施す
ことを特徴とする鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼
板の製造方法である。
【０００８】また、前記方法において、脱炭焼鈍の雰囲
気ガスの水蒸気／水素分圧比ＰＨ2Ｏ／ＰＨ2 を０．０
５８〜０．１５０の範囲とする方法、或いは、仕上げ焼
鈍昇温過程の雰囲気ガスにＨ2 とＮ2 の混合ガスを用
い、Ｎ2 の比率を５０％以上とし１１００℃以上の温度
で均熱しこの均熱温度域でＨ2 雰囲気で焼鈍する方法で
ある。
気ガスの水蒸気／水素分圧比ＰＨ2Ｏ／ＰＨ2 を０．０
５８〜０．１５０の範囲とする方法、或いは、仕上げ焼
鈍昇温過程の雰囲気ガスにＨ2 とＮ2 の混合ガスを用
い、Ｎ2 の比率を５０％以上とし１１００℃以上の温度
で均熱しこの均熱温度域でＨ2 雰囲気で焼鈍する方法で
ある。
【０００９】更に、前記方法において、磁区制御方法と
して最終冷延の途中板厚段階で鋼板表面に圧延方向に対
して、９０°〜４５°の範囲で巾が１０〜５００μｍ、
深さが板厚ｔ×１／８〜１／３０、間隔が圧延方向に１
〜２０mmの溝を点状或いは線状に形成することで歪取り
焼鈍に耐える方法である。なお、磁区制御の方法として
は例えばレーザー照射等の公知の方法を採用してもよ
い。
して最終冷延の途中板厚段階で鋼板表面に圧延方向に対
して、９０°〜４５°の範囲で巾が１０〜５００μｍ、
深さが板厚ｔ×１／８〜１／３０、間隔が圧延方向に１
〜２０mmの溝を点状或いは線状に形成することで歪取り
焼鈍に耐える方法である。なお、磁区制御の方法として
は例えばレーザー照射等の公知の方法を採用してもよ
い。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実験に基づいて説
明する。 実験１．重量比でＣ：０．０５５％、Ｓｉ：３．２５
％、Ｍｎ：０．１０％、Ｐ：０．０２５％、Ｓ：０．０
０７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｓｎ：０．０５
％、Ｃｒ：０．１２％、Ｎ：０．００８０％を含む板厚
２．３mmの熱延板を１１２０℃＋９００℃で焼鈍した後
急冷し、酸洗し、冷延して板厚０．２３mmに仕上げた。
明する。 実験１．重量比でＣ：０．０５５％、Ｓｉ：３．２５
％、Ｍｎ：０．１０％、Ｐ：０．０２５％、Ｓ：０．０
０７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｓｎ：０．０５
％、Ｃｒ：０．１２％、Ｎ：０．００８０％を含む板厚
２．３mmの熱延板を１１２０℃＋９００℃で焼鈍した後
急冷し、酸洗し、冷延して板厚０．２３mmに仕上げた。
【００１１】この冷延に際し、冷延ロールの粗度を変え
て圧延し冷延板表面の平均粗さ（圧延方向と直角方向）
０．３０μｍ ０．２５μｍ ０．２０μｍ
≦０．１５μｍの４水準のものを造った。この冷延板を
油洗し、脱炭焼鈍を８３０℃ｘ９０秒、Ｈ2 ：７５％＋
Ｎ2 ２５％、露点４０℃（ＰＨ2 Ｏ／ＰＨ2 ＝０．１
０）の雰囲気中で行った。
て圧延し冷延板表面の平均粗さ（圧延方向と直角方向）
０．３０μｍ ０．２５μｍ ０．２０μｍ
≦０．１５μｍの４水準のものを造った。この冷延板を
油洗し、脱炭焼鈍を８３０℃ｘ９０秒、Ｈ2 ：７５％＋
Ｎ2 ２５％、露点４０℃（ＰＨ2 Ｏ／ＰＨ2 ＝０．１
０）の雰囲気中で行った。
【００１２】次いで窒化処理を７５０℃ｘ３０秒、
Ｎ2 、Ｈ2 、アンモニアの混合ガス中で行い、鋼板の窒
素量を２００ppm に調整し、焼鈍分離剤にＡｌ2 Ｏ3 を
使用し、仕上げ焼鈍昇温過程の雰囲気ガスＮ2 ：９０
％、Ｈ2 ：１０％の混合ガスでおこない１２００℃ｘ２
０時間の純化焼鈍をＨ2 雰囲気ガス中で行った。この後
水洗し、無水クロム酸、燐酸アルミニウムを主成分とす
る張力コーティングを施した。
Ｎ2 、Ｈ2 、アンモニアの混合ガス中で行い、鋼板の窒
素量を２００ppm に調整し、焼鈍分離剤にＡｌ2 Ｏ3 を
使用し、仕上げ焼鈍昇温過程の雰囲気ガスＮ2 ：９０
％、Ｈ2 ：１０％の混合ガスでおこない１２００℃ｘ２
０時間の純化焼鈍をＨ2 雰囲気ガス中で行った。この後
水洗し、無水クロム酸、燐酸アルミニウムを主成分とす
る張力コーティングを施した。
【００１３】この後磁区制御をレーザー光で圧延方向と
直角方向に５mm間隔に照射して行った。このようにして
得られた磁気特性を図１に示す。この図から冷延板の粗
度が小さいものほど低鉄損が得られることが判る。な
お、この製品は歪取り焼鈍を必要としない積みトランス
用鉄心材料として使用される。 実験２．実験１で使用した冷延板の表面平均粗さ≦
０．１５μｍを用いて脱炭焼鈍雰囲気露点と鉄損の関係
を調べた。
直角方向に５mm間隔に照射して行った。このようにして
得られた磁気特性を図１に示す。この図から冷延板の粗
度が小さいものほど低鉄損が得られることが判る。な
お、この製品は歪取り焼鈍を必要としない積みトランス
用鉄心材料として使用される。 実験２．実験１で使用した冷延板の表面平均粗さ≦
０．１５μｍを用いて脱炭焼鈍雰囲気露点と鉄損の関係
を調べた。
【００１４】脱炭焼鈍条件を８３０℃ｘ３０秒、雰囲気
ガスＨ2 ：７５％＋Ｎ2 ：２５％、雰囲気ガスの露点を
１）２５℃、２）３０℃、３）３５℃、４）４０℃、
５）４５℃、６）５０℃と変化させた。以下の工程は実
験１と同様に行った。結果を図２に示す。これからＰＨ
2 Ｏ／ＰＨ2 ：０．０５８〜０．１５０の範囲で超低鉄
損が得られている。ＰＨ2 Ｏ／ＰＨ2 が０．１５０を超
えると脱炭焼鈍板の酸化層が増え、この酸化層と焼鈍分
離剤Ａｌ2 Ｏ3 との反応が起こり、仕上げ焼鈍後の鋼板
の鏡面度が劣ってくる。この脱炭焼鈍板の酸化層の量は
同一露点で比較すると冷延板の粗度が小さい程少ない。
ガスＨ2 ：７５％＋Ｎ2 ：２５％、雰囲気ガスの露点を
１）２５℃、２）３０℃、３）３５℃、４）４０℃、
５）４５℃、６）５０℃と変化させた。以下の工程は実
験１と同様に行った。結果を図２に示す。これからＰＨ
2 Ｏ／ＰＨ2 ：０．０５８〜０．１５０の範囲で超低鉄
損が得られている。ＰＨ2 Ｏ／ＰＨ2 が０．１５０を超
えると脱炭焼鈍板の酸化層が増え、この酸化層と焼鈍分
離剤Ａｌ2 Ｏ3 との反応が起こり、仕上げ焼鈍後の鋼板
の鏡面度が劣ってくる。この脱炭焼鈍板の酸化層の量は
同一露点で比較すると冷延板の粗度が小さい程少ない。
【００１５】又、露点は低い程酸化量は少なく鏡面が得
られ易いが、０．０５８より低くなると脱炭が悪くな
り、二次再結晶粒の発達を阻害してくる。 実験３．実験１で用いた熱延板を１１２０℃＋９００℃
で焼鈍した後急冷し、酸洗し冷延を行った。この冷延に
おいては実験１と同じくロール粗度を変えて圧延した。
られ易いが、０．０５８より低くなると脱炭が悪くな
り、二次再結晶粒の発達を阻害してくる。 実験３．実験１で用いた熱延板を１１２０℃＋９００℃
で焼鈍した後急冷し、酸洗し冷延を行った。この冷延に
おいては実験１と同じくロール粗度を変えて圧延した。
【００１６】この冷延の途中板厚段階０．３２mmにおい
てレーザー光により１５μｍの穿孔を行った。この穿孔
はほぼ１００μｍφ、間隔１００μｍの点列とし、点列
の方向は圧延方向に対して８５°とし、点列のピッチは
５mmとした。穿孔後、製品板厚０．２７mmまで圧延し
た。この後、油洗し脱炭焼鈍を８３０℃ｘ１２０秒、Ｈ
2 ：７５％＋Ｎ2 ：２５％、露点４０℃の雰囲気ガス中
で行った。続いて窒化処理、Ａｌ2 Ｏ3 塗布、仕上げ焼
鈍、コーティング処理を実験１と同じ方法で行った。こ
のようにして得られた製品の磁気特性を図３に示す。
てレーザー光により１５μｍの穿孔を行った。この穿孔
はほぼ１００μｍφ、間隔１００μｍの点列とし、点列
の方向は圧延方向に対して８５°とし、点列のピッチは
５mmとした。穿孔後、製品板厚０．２７mmまで圧延し
た。この後、油洗し脱炭焼鈍を８３０℃ｘ１２０秒、Ｈ
2 ：７５％＋Ｎ2 ：２５％、露点４０℃の雰囲気ガス中
で行った。続いて窒化処理、Ａｌ2 Ｏ3 塗布、仕上げ焼
鈍、コーティング処理を実験１と同じ方法で行った。こ
のようにして得られた製品の磁気特性を図３に示す。
【００１７】この結果においても冷延板の粗度の小さい
ものほど低鉄損が得られることが判る。なお、この製品
は歪取り焼鈍を行っても効果が消失しないため積み、巻
き両トランス用鉄心材料として使用できる。次に、本発
明における出発材料の成分組成の限定理由を述べる。Ｓ
ｉは、低鉄損を得る上で多い方が好ましいが、Ｓｉの含
有量が４．５％を超えて多くなりすぎると材料の冷間圧
延時に、割れ、破断が多発し、安定した冷延作業を不可
能にする。
ものほど低鉄損が得られることが判る。なお、この製品
は歪取り焼鈍を行っても効果が消失しないため積み、巻
き両トランス用鉄心材料として使用できる。次に、本発
明における出発材料の成分組成の限定理由を述べる。Ｓ
ｉは、低鉄損を得る上で多い方が好ましいが、Ｓｉの含
有量が４．５％を超えて多くなりすぎると材料の冷間圧
延時に、割れ、破断が多発し、安定した冷延作業を不可
能にする。
【００１８】Ｃは、０．０８５％を超えて多くなりすぎ
ると、脱炭焼鈍時間が長大なものとなり、生産性を損な
う。Ｍｎは、その含有量が少なすぎると二次再結晶が不
安定となり、一方、多すぎると高い磁束密度をもつ製品
を得難くなる。適正な含有量は、０．０５０〜０．４５
％である。Ｓは、周知の如くＭｎＳを形成し、一次再結
晶粒の成長を抑制する。本発明においては二次再結晶粒
を発現させるに必要なインヒビターは脱炭焼鈍以降で造
り込むことを特徴としており、冷延以前で微細な析出物
が分散することは一次再結晶粒径を調整して高磁束密度
鋼板を得る本発明においては好ましくない。従って、Ｓ
は０．０１５％以下としている。Ｓの好ましい範囲は
０．００３〜０．０１０％が良い。Ｓが、０．００３％
より少ないと粒成長が焼鈍温度により敏感になり粒径調
整が困難になるためである。
ると、脱炭焼鈍時間が長大なものとなり、生産性を損な
う。Ｍｎは、その含有量が少なすぎると二次再結晶が不
安定となり、一方、多すぎると高い磁束密度をもつ製品
を得難くなる。適正な含有量は、０．０５０〜０．４５
％である。Ｓは、周知の如くＭｎＳを形成し、一次再結
晶粒の成長を抑制する。本発明においては二次再結晶粒
を発現させるに必要なインヒビターは脱炭焼鈍以降で造
り込むことを特徴としており、冷延以前で微細な析出物
が分散することは一次再結晶粒径を調整して高磁束密度
鋼板を得る本発明においては好ましくない。従って、Ｓ
は０．０１５％以下としている。Ｓの好ましい範囲は
０．００３〜０．０１０％が良い。Ｓが、０．００３％
より少ないと粒成長が焼鈍温度により敏感になり粒径調
整が困難になるためである。
【００１９】Ａｌは窒素と結合してＡｌＮを形成する
が、本発明においては、後工程、即ち一次再結晶完了に
鋼を窒化することにより、（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを形成せし
めることを必須としているから、フリーのＡｌが一定量
以上必要である。そのため、酸可溶性Ａｌとして、０．
０１０〜０．０４０％とする。Ｎは０．０１０％以下に
する必要がある。０．０１０％を超えるとブリスターと
呼ばれる鋼板表面の膨れが発生し、また一次再結晶組織
の調整が困難になる。下限に特に限定しないが０．００
２％程度が良い。
が、本発明においては、後工程、即ち一次再結晶完了に
鋼を窒化することにより、（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを形成せし
めることを必須としているから、フリーのＡｌが一定量
以上必要である。そのため、酸可溶性Ａｌとして、０．
０１０〜０．０４０％とする。Ｎは０．０１０％以下に
する必要がある。０．０１０％を超えるとブリスターと
呼ばれる鋼板表面の膨れが発生し、また一次再結晶組織
の調整が困難になる。下限に特に限定しないが０．００
２％程度が良い。
【００２０】Ｓｎは脱炭焼鈍後の集合組織を改善し、二
次再結晶粒の粗大化を防ぐ。Ｓｎの適量は０．０２〜
０．１５％であるが、これより少ないと効果が弱く、一
方、多いと窒化が困難になり二次再結晶粒が発達しにく
くなる。好ましくは０．０３〜０．１０％が良い。な
お、微量のＣｕ，Ｐ，Ｔｉを鋼中に含有せしめること
は、本発明の主旨を損なうものではない。
次再結晶粒の粗大化を防ぐ。Ｓｎの適量は０．０２〜
０．１５％であるが、これより少ないと効果が弱く、一
方、多いと窒化が困難になり二次再結晶粒が発達しにく
くなる。好ましくは０．０３〜０．１０％が良い。な
お、微量のＣｕ，Ｐ，Ｔｉを鋼中に含有せしめること
は、本発明の主旨を損なうものではない。
【００２１】次に、本発明の製造プロセスについて説明
する。電磁鋼スラブは、転炉或いは電気炉等の溶解炉で
鋼を溶製し、必要に応じて真空脱ガスし、次いで連続鋳
造によって、或いは造塊後分塊圧延することによって得
られ、しかる後、熱間圧延に先立つスラブ加熱がなされ
る。スラブ加熱温度は１２８０℃以下の低い温度で行う
ことにより加熱エネルギーの消費量を少なくするととも
に、鋼中のＡｌＮを完全には固溶させず不完全固溶状態
とする。
する。電磁鋼スラブは、転炉或いは電気炉等の溶解炉で
鋼を溶製し、必要に応じて真空脱ガスし、次いで連続鋳
造によって、或いは造塊後分塊圧延することによって得
られ、しかる後、熱間圧延に先立つスラブ加熱がなされ
る。スラブ加熱温度は１２８０℃以下の低い温度で行う
ことにより加熱エネルギーの消費量を少なくするととも
に、鋼中のＡｌＮを完全には固溶させず不完全固溶状態
とする。
【００２２】このスラブを熱延して所定の厚みの熱延板
を造る。次いで、９００℃〜１１５０℃で短時間の熱延
板焼鈍をし、酸洗し冷間圧延を行う。冷間圧延率は、高
磁束密度を得る上から８０％以上必要である。この冷間
圧延において、ロール粗度を低くし冷延板の圧延方向と
直角方向の平均粗さを０．２０μｍ以下にする必要があ
る。この場合、粗度の異なったロールを組み合わせて圧
延することにはこだわらない。圧延方向と直角方向の平
均粗さを規定したのは通常の圧延においては圧延方向よ
り、直角方向の粗度が大きくなる理由による。
を造る。次いで、９００℃〜１１５０℃で短時間の熱延
板焼鈍をし、酸洗し冷間圧延を行う。冷間圧延率は、高
磁束密度を得る上から８０％以上必要である。この冷間
圧延において、ロール粗度を低くし冷延板の圧延方向と
直角方向の平均粗さを０．２０μｍ以下にする必要があ
る。この場合、粗度の異なったロールを組み合わせて圧
延することにはこだわらない。圧延方向と直角方向の平
均粗さを規定したのは通常の圧延においては圧延方向よ
り、直角方向の粗度が大きくなる理由による。
【００２３】この処理に引き続き、脱炭焼鈍と窒化処理
を行う。脱炭焼鈍は公知の方法で行うが、雰囲気露点は
通常より低くして、鋼板表面の酸化層（ファヤライト
（Ｆｅ 2 ＳｉＯ4 ）及びＳｉＯ2 の量）の生成をできる
だけ少なくすることが望ましい。本発明に規定するＰＨ
2 Ｏ／ＰＨ2 の値は０．０５８〜０．１５０である。
を行う。脱炭焼鈍は公知の方法で行うが、雰囲気露点は
通常より低くして、鋼板表面の酸化層（ファヤライト
（Ｆｅ 2 ＳｉＯ4 ）及びＳｉＯ2 の量）の生成をできる
だけ少なくすることが望ましい。本発明に規定するＰＨ
2 Ｏ／ＰＨ2 の値は０．０５８〜０．１５０である。
【００２４】０．０５８より小さいと脱炭不良となり、
二次再結晶粒の発達を阻害する。一方、０．１５０を超
えると酸化層の生成量が急激に増え、仕上げ焼鈍後の鏡
面度が低下し、超低鉄損が得られなくなる。窒化処理は
例えば特開平２−７７５２５号公報に示されるような、
水素、窒素、アンモニアの混合ガス中でストリップを走
行して行う。
二次再結晶粒の発達を阻害する。一方、０．１５０を超
えると酸化層の生成量が急激に増え、仕上げ焼鈍後の鏡
面度が低下し、超低鉄損が得られなくなる。窒化処理は
例えば特開平２−７７５２５号公報に示されるような、
水素、窒素、アンモニアの混合ガス中でストリップを走
行して行う。
【００２５】焼鈍分離剤には仕上げ焼鈍後にフオルステ
ライト皮膜を形成させない焼鈍分離剤を使用する必要が
ある。このためＡｌ2 Ｏ3 或いはＡｌ2 Ｏ3 を主成分と
したものを用いる。仕上げ焼鈍は昇温過程の雰囲気ガス
をＮ2 とＨ2 の混合ガスとし、Ｎ2 の比率を５０％以上
好ましくは７５％以上とする。Ｎ2 の比率がこれより低
いと二次再結晶粒の発達が不安定になる。
ライト皮膜を形成させない焼鈍分離剤を使用する必要が
ある。このためＡｌ2 Ｏ3 或いはＡｌ2 Ｏ3 を主成分と
したものを用いる。仕上げ焼鈍は昇温過程の雰囲気ガス
をＮ2 とＨ2 の混合ガスとし、Ｎ2 の比率を５０％以上
好ましくは７５％以上とする。Ｎ2 の比率がこれより低
いと二次再結晶粒の発達が不安定になる。
【００２６】この後、張力皮膜を形成させる。張力皮膜
としては、例えば特開昭４８−３９３３８号公報による
コロイド状シリカと燐酸アルミニウムを主体とするコー
ティング液、特開昭５０−７９４４２号公報によるコロ
イド状シリカと燐酸マグネシュウムを主体とするコーテ
ィング液、または特願平４−２２２８７９号公報による
アルミナ・ゾルとほう酸を主成分とするコーティング液
を焼き付ける方法を採用すればよい。
としては、例えば特開昭４８−３９３３８号公報による
コロイド状シリカと燐酸アルミニウムを主体とするコー
ティング液、特開昭５０−７９４４２号公報によるコロ
イド状シリカと燐酸マグネシュウムを主体とするコーテ
ィング液、または特願平４−２２２８７９号公報による
アルミナ・ゾルとほう酸を主成分とするコーティング液
を焼き付ける方法を採用すればよい。
【００２７】この他密着性が良く鋼板に張力を付与する
ことが可能な皮膜ならば採用できる。次に磁区制御を行
うが、磁区制御法としては公知のレーザー照射、歯形ロ
ールによる溝形成法、或いはエッチング法等を採用して
も良い。この他、本発明の特徴である歪取り焼鈍に耐え
る磁区制御法である冷延途中板厚段階で穿孔する処理条
件について述べる。
ことが可能な皮膜ならば採用できる。次に磁区制御を行
うが、磁区制御法としては公知のレーザー照射、歯形ロ
ールによる溝形成法、或いはエッチング法等を採用して
も良い。この他、本発明の特徴である歪取り焼鈍に耐え
る磁区制御法である冷延途中板厚段階で穿孔する処理条
件について述べる。
【００２８】穿孔（溝）の幅は１０〜５００μｍとす
る。５００μｍを超すと磁束密度の劣化が大きくなり、
鉄損低減効果が認められない。一方、１０μｍより狭く
することは非常に難しい。溝の方向は圧延方向に対して
９０°〜４５°とする。４５°より小さくなると、磁区
細分化効果が弱くなり鉄損低減が小さい。溝の間隔は１
〜２０mmとする。１mm未満は工業的に難しく、一方、２
０mmを超えると鉄損低減が小さくなる。点状の穿孔の場
合、穿孔の間隔は特に拘らないが、磁区は幅の最も広い
もので２mm程度であることから、これを超すことは好ま
しくない。溝深さは溝形成時の板厚の１／３０〜１／８
の範囲が良い。１／３０より浅いと鉄損低減が弱く、１
／８より深いと磁束密度の劣化を招き鉄損特性も悪くな
る。
る。５００μｍを超すと磁束密度の劣化が大きくなり、
鉄損低減効果が認められない。一方、１０μｍより狭く
することは非常に難しい。溝の方向は圧延方向に対して
９０°〜４５°とする。４５°より小さくなると、磁区
細分化効果が弱くなり鉄損低減が小さい。溝の間隔は１
〜２０mmとする。１mm未満は工業的に難しく、一方、２
０mmを超えると鉄損低減が小さくなる。点状の穿孔の場
合、穿孔の間隔は特に拘らないが、磁区は幅の最も広い
もので２mm程度であることから、これを超すことは好ま
しくない。溝深さは溝形成時の板厚の１／３０〜１／８
の範囲が良い。１／３０より浅いと鉄損低減が弱く、１
／８より深いと磁束密度の劣化を招き鉄損特性も悪くな
る。
【００２９】この溝形成にはレーザー光或いはプラズマ
炎を用いると効果的であるが、この他高圧水を用いても
良い。この後製品板厚まで圧延する。この圧延は溝形成
時に生じた形成不良やバリを除去すると同時に、熱影響
部の組織を改善し、磁区制御効果に加えてＧｏｓｓ組織
の発達を製品板厚で照射した場合に比較して更に促進す
る効果がある。この理由は定かでないが、熱影響部の組
織に圧延により歪が導入され、その歪量がＧｏｓｓ組織
の発達に適したものとなっていると推定される。以下実
施例について述べる。
炎を用いると効果的であるが、この他高圧水を用いても
良い。この後製品板厚まで圧延する。この圧延は溝形成
時に生じた形成不良やバリを除去すると同時に、熱影響
部の組織を改善し、磁区制御効果に加えてＧｏｓｓ組織
の発達を製品板厚で照射した場合に比較して更に促進す
る効果がある。この理由は定かでないが、熱影響部の組
織に圧延により歪が導入され、その歪量がＧｏｓｓ組織
の発達に適したものとなっていると推定される。以下実
施例について述べる。
【００３０】
【実施例】重量比でＣ：０．０５７％、Ｓｉ：３．５
％、Ｍｎ：０．１０％、Ｐ：０．０２５％、Ｓ：０．０
１０％、酸可溶性Ａｌ：０．０２７％、Ｓｎ：０．０５
％、Ｎ：０．００７８％を含む板厚２．３mmの熱延板を
１１２０℃＋９００℃で焼鈍した後急冷し、酸洗し、冷
延して板厚０．２３mmに仕上げた。
％、Ｍｎ：０．１０％、Ｐ：０．０２５％、Ｓ：０．０
１０％、酸可溶性Ａｌ：０．０２７％、Ｓｎ：０．０５
％、Ｎ：０．００７８％を含む板厚２．３mmの熱延板を
１１２０℃＋９００℃で焼鈍した後急冷し、酸洗し、冷
延して板厚０．２３mmに仕上げた。
【００３１】この冷延に際し、冷延ロールの粗度を変え
て圧延し冷延板の圧延方向と直角方向の表面粗度を
０．２５μｍ ≦０．１０μｍとした。この冷延板を
油洗し、脱炭焼鈍を８４０℃ｘ９０秒、Ｈ2 ：７５％＋
Ｎ2 ：２５％、露点４５℃の雰囲気中で行った。次いで
窒化処理を７５０℃ｘ３０、Ｎ2、Ｈ2 、アンモニアの
混合ガス中で行い、鋼板の窒素量を２２０ppm に調整し
た。
て圧延し冷延板の圧延方向と直角方向の表面粗度を
０．２５μｍ ≦０．１０μｍとした。この冷延板を
油洗し、脱炭焼鈍を８４０℃ｘ９０秒、Ｈ2 ：７５％＋
Ｎ2 ：２５％、露点４５℃の雰囲気中で行った。次いで
窒化処理を７５０℃ｘ３０、Ｎ2、Ｈ2 、アンモニアの
混合ガス中で行い、鋼板の窒素量を２２０ppm に調整し
た。
【００３２】この後、焼鈍分離剤にＡｌ2 Ｏ3 を使用
し、仕上げ焼鈍昇温過程の雰囲気ガスをＮ2 ガスとし、
１２００℃ｘ２０時間の純化焼鈍をＨ2 雰囲気ガス中で
行った。この後水洗した後、歯形ロールで圧延方向と７
５°方向に巾５０μｍ、ピッチ５mm深さ１２μｍの溝を
形成した。
し、仕上げ焼鈍昇温過程の雰囲気ガスをＮ2 ガスとし、
１２００℃ｘ２０時間の純化焼鈍をＨ2 雰囲気ガス中で
行った。この後水洗した後、歯形ロールで圧延方向と７
５°方向に巾５０μｍ、ピッチ５mm深さ１２μｍの溝を
形成した。
【００３３】この後８５０℃ｘ２時間の焼鈍をした後更
に、無水クロム酸、燐酸アルミニウムを主成分とするコ
ーティング液を塗布し８５０℃ｘ３０秒の短時間焼鈍を
行った。得られた磁気特性を次に示す。 冷延板の表面粗度 鉄損（Ｗ１７／５０）（Ｗ／kg） ０．２５μｍ ０．０７４ ≦０．１０μｍ ０．０６９
に、無水クロム酸、燐酸アルミニウムを主成分とするコ
ーティング液を塗布し８５０℃ｘ３０秒の短時間焼鈍を
行った。得られた磁気特性を次に示す。 冷延板の表面粗度 鉄損（Ｗ１７／５０）（Ｗ／kg） ０．２５μｍ ０．０７４ ≦０．１０μｍ ０．０６９
【００３４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は冷間圧延に
おいて冷延板圧延方向と直角方向の表面粗度を制御し、
かつ、脱炭焼鈍条件、仕上げ焼鈍条件を適切に制御する
ことにより鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼板を容
易に製造することができる。また、前述の鋼板に磁区制
御処理を施すことにより更に鉄損の向上が図られる。
おいて冷延板圧延方向と直角方向の表面粗度を制御し、
かつ、脱炭焼鈍条件、仕上げ焼鈍条件を適切に制御する
ことにより鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼板を容
易に製造することができる。また、前述の鋼板に磁区制
御処理を施すことにより更に鉄損の向上が図られる。
【図１】実験１における冷延板の平均粗さと鉄損との関
係を示す図。
係を示す図。
【図２】実験２における脱炭焼鈍雰囲気ガス露点と鉄損
との関係を示す図。
との関係を示す図。
【図３】実験３における冷延板の平均粗さと鉄損との関
係を示す図。
係を示す図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤井 浩康 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１−１ 新日 本製鐵株式会社八幡製鐵所内 (72)発明者 山崎 修一 千葉県富津市新富20−１ 新日本製鐵株式 会社技術開発本部内 (72)発明者 黒木 克郎 福岡県北九州市戸畑区大字中原46番地の59 日鐵プラント設計株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 重量比で、Ｓｉ：２．５〜４．５％、
Ｃ：０．０２５〜０．０８５％、Ｍｎ：０．０５０〜
０．４５％、Ｓ≦０．０１５％、酸可溶性Ａｌ：０．０
１〜０．０４０％、Ｎ：≦０．０１０％、Ｓｎ：０．０
２〜０．１５％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる
電磁鋼スラブを１２８０℃以下の温度で加熱した後、熱
延し、熱延板焼鈍をし、一回または中間焼鈍を介挿する
二回以上の圧延でその最終圧延率を８０％以上とし、か
つ冷延板圧延方向と直角方向の表面粗度を平均粗さで
０．２０μｍ以下にする冷間圧延を施し次いで脱炭焼
鈍、窒化処理、焼鈍分離剤としてＡｌ2 Ｏ3 塗布し、仕
上げ焼鈍した後磁区制御し、絶縁コーティングを施すこ
とを特徴とする鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼板
の製造方法。 - 【請求項２】 前記脱炭焼鈍の雰囲気ガスの水蒸気／水
素分圧比ＰＨ2 Ｏ／ＰＨ2 を０．０５８〜０．１５０の
範囲とする請求項１記載の鏡面を有する超低鉄損一方向
性電磁鋼板の製造方法。 - 【請求項３】 前記仕上げ焼鈍昇温過程の雰囲気ガスに
Ｈ2 とＮ2 の混合ガスを用い、Ｎ2 の比率を５０％以上
とし１１００℃以上の温度で均熱し、この均熱温度域で
Ｈ2 雰囲気で焼鈍することを特徴とする請求項１または
２記載の鏡面を有する超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造
方法。 - 【請求項４】 前記最終冷延の途中板厚段階で鋼板表面
に圧延方向に対して、９０°〜４５°の範囲で巾が１０
〜５００μｍ、深さが板厚ｔ×１／８〜１／３０、間隔
が圧延方向に１〜２０mmで点状或いは線状に穿孔を形成
することを特徴とする請求項１記載の鏡面を有する超低
鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8206135A JPH1046252A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | 超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8206135A JPH1046252A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | 超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1046252A true JPH1046252A (ja) | 1998-02-17 |
Family
ID=16518368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8206135A Withdrawn JPH1046252A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | 超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1046252A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100435456B1 (ko) * | 1999-11-30 | 2004-06-10 | 주식회사 포스코 | 글라스피막이 없는 저온재가열 방향성 전기강판의 제조방법 |
| KR100479996B1 (ko) * | 1999-12-09 | 2005-03-30 | 주식회사 포스코 | 철손이 낮은 고자속밀도 방향성 전기강판 및 그 제조방법 |
| JP2012199506A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-10-18 | Hitachi Metals Ltd | 巻磁心 |
| WO2020012666A1 (ja) | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板及びその製造方法 |
| WO2020149324A1 (ja) * | 2019-01-16 | 2020-07-23 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板、及び方向性電磁鋼板の原板となる鋼板 |
| US12580107B2 (en) | 2018-07-13 | 2026-03-17 | Nippon Steel Corporation | Grain oriented electrical steel sheet and producing method thereof |
-
1996
- 1996-08-05 JP JP8206135A patent/JPH1046252A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100435456B1 (ko) * | 1999-11-30 | 2004-06-10 | 주식회사 포스코 | 글라스피막이 없는 저온재가열 방향성 전기강판의 제조방법 |
| KR100479996B1 (ko) * | 1999-12-09 | 2005-03-30 | 주식회사 포스코 | 철손이 낮은 고자속밀도 방향성 전기강판 및 그 제조방법 |
| JP2012199506A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-10-18 | Hitachi Metals Ltd | 巻磁心 |
| US12123068B2 (en) | 2018-07-13 | 2024-10-22 | Nippon Steel Corporation | Grain oriented electrical steel sheet and producing method thereof |
| WO2020012666A1 (ja) | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板及びその製造方法 |
| US12580107B2 (en) | 2018-07-13 | 2026-03-17 | Nippon Steel Corporation | Grain oriented electrical steel sheet and producing method thereof |
| KR20210018433A (ko) | 2018-07-13 | 2021-02-17 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 방향성 전자 강판 및 그의 제조 방법 |
| CN113286906A (zh) * | 2019-01-16 | 2021-08-20 | 日本制铁株式会社 | 方向性电磁钢板及成为方向性电磁钢板原板的钢板 |
| JPWO2020149324A1 (ja) * | 2019-01-16 | 2021-12-02 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板、及び方向性電磁鋼板の原板となる鋼板 |
| EP3913074A4 (en) * | 2019-01-16 | 2022-10-26 | Nippon Steel Corporation | CORNORIENTED ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET AND STEEL SHEET USABLE AS RAW MATERIAL SHEET FOR CORNORIENTED ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET |
| KR20210111286A (ko) * | 2019-01-16 | 2021-09-10 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 방향성 전자 강판, 및 방향성 전자 강판의 원판이 되는 강판 |
| US12217889B2 (en) | 2019-01-16 | 2025-02-04 | Nippon Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet, and steel sheet serving as base sheet for grain-oriented electrical steel sheet |
| WO2020149324A1 (ja) * | 2019-01-16 | 2020-07-23 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板、及び方向性電磁鋼板の原板となる鋼板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3387914B1 (ja) | 皮膜特性と高磁場鉄損に優れる高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3386751B2 (ja) | 被膜特性と磁気特性に優れた方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JP3240035B2 (ja) | コイル全長にわたり磁気特性に優れた方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JPH10152724A (ja) | 極めて低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH06128646A (ja) | 鉄損の低い高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2000144249A (ja) | 被膜特性および磁気特性に優れる方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JPH1046252A (ja) | 超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH10130727A (ja) | 磁束密度が高い低鉄損鏡面一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| CN116829742A (zh) | 取向性电磁钢板的制造方法及其使用的退火分离剂 | |
| JP2004332071A (ja) | 高磁束密度方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2667082B2 (ja) | グラス被膜を有さない超低鉄損方向性電磁鋼板及びその製造方法 | |
| JP3393218B2 (ja) | 低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3329641B2 (ja) | 磁気特性及び鋼板端部形状に優れるＡｌ含有方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2001303131A (ja) | 表面欠陥が極めて少なくかつ磁気特性に優れる高磁束密度方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH09268322A (ja) | 超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3368310B2 (ja) | 磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2003342642A (ja) | 磁気特性および被膜特性に優れた方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3061491B2 (ja) | 磁気特性の優れた厚い板厚のグラス被膜の少ない一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2002241906A (ja) | 被膜特性および磁気特性に優れた方向性電磁鋼板 | |
| JP2001049351A (ja) | 磁束密度の高い一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3011609B2 (ja) | 磁気特性の優れたグラス被膜の少ない一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH10183251A (ja) | 低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| WO2022210503A1 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH10280040A (ja) | 鉄損特性の極めて優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH11199939A (ja) | 磁束密度が高く被膜特性に優れた方向性電磁鋼板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031007 |