JPH1046310A - シンクロールを使用しない溶融めっき方法及びめっき装置 - Google Patents
シンクロールを使用しない溶融めっき方法及びめっき装置Info
- Publication number
- JPH1046310A JPH1046310A JP21525396A JP21525396A JPH1046310A JP H1046310 A JPH1046310 A JP H1046310A JP 21525396 A JP21525396 A JP 21525396A JP 21525396 A JP21525396 A JP 21525396A JP H1046310 A JPH1046310 A JP H1046310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steel strip
- magnetic field
- field generating
- moving magnetic
- hot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 鋼帯を基準位置に維持しながら、溶融めっき
浴中で鋼帯を垂直上方に通板し、溶融めっきする。 【解決手段】 溶融めっき浴４の下部に設けた鋼帯搬入
部８から溶融めっき浴４に送り込まれた鋼帯１を垂直上
方に引き上げて鋼帯１を溶融めっきする際、鋼帯搬入部
８の外側に一対の移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂを
対向配置する。磁場発生コイル１０ａ，１０ｂの中間に
基準位置を設定し、位置センサー１３で検出した鋼帯１
の測定位置が基準位置からずれたとき、鋼帯１が接近し
た側の移動磁場発生コイル１０ａ又は１０ｂで磁場強度
が小さく、鋼帯１が離れた側の移動磁場発生コイル１０
ｂ又は１０ａで磁場強度が大きくなるように、それぞれ
の移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂへの供給電流を調
整する。 【効果】 移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂの相互間
距離を小さくした電磁シールが可能となり、良好な溶融
めっき鋼板が製造される。
浴中で鋼帯を垂直上方に通板し、溶融めっきする。 【解決手段】 溶融めっき浴４の下部に設けた鋼帯搬入
部８から溶融めっき浴４に送り込まれた鋼帯１を垂直上
方に引き上げて鋼帯１を溶融めっきする際、鋼帯搬入部
８の外側に一対の移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂを
対向配置する。磁場発生コイル１０ａ，１０ｂの中間に
基準位置を設定し、位置センサー１３で検出した鋼帯１
の測定位置が基準位置からずれたとき、鋼帯１が接近し
た側の移動磁場発生コイル１０ａ又は１０ｂで磁場強度
が小さく、鋼帯１が離れた側の移動磁場発生コイル１０
ｂ又は１０ａで磁場強度が大きくなるように、それぞれ
の移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂへの供給電流を調
整する。 【効果】 移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂの相互間
距離を小さくした電磁シールが可能となり、良好な溶融
めっき鋼板が製造される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シンクロールを浸漬し
ていない溶融めっき浴を使用して鋼帯を連続溶融めっき
する際、電磁シールでめっき金属の漏出を防止しながら
溶融めっきする方法及び装置に関する。
ていない溶融めっき浴を使用して鋼帯を連続溶融めっき
する際、電磁シールでめっき金属の漏出を防止しながら
溶融めっきする方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】連続溶融めっきラインでは、図１に示す
ように、めっき原板である鋼帯１を還元性雰囲気に維持
された還元焼鈍炉２に搬送し、鋼帯１の表面を活性化し
た後、還元焼鈍炉２からスナウト３を経てめっき浴４に
送り込んでいる。鋼帯１は、めっき浴４に浸漬されてい
るシンクロール５を周回し、進行方向を上向きに変更さ
れる。次いで、鋼帯１は、サポートロール６を経由して
めっき浴４から送り出され、ガスワイピング装置７等に
よりめっき付着量が調整される。そして、溶融めっきさ
れた鋼帯１は、後工程に搬送される。
ように、めっき原板である鋼帯１を還元性雰囲気に維持
された還元焼鈍炉２に搬送し、鋼帯１の表面を活性化し
た後、還元焼鈍炉２からスナウト３を経てめっき浴４に
送り込んでいる。鋼帯１は、めっき浴４に浸漬されてい
るシンクロール５を周回し、進行方向を上向きに変更さ
れる。次いで、鋼帯１は、サポートロール６を経由して
めっき浴４から送り出され、ガスワイピング装置７等に
よりめっき付着量が調整される。そして、溶融めっきさ
れた鋼帯１は、後工程に搬送される。
【０００３】この連続溶融めっきラインでは、めっき浴
４に浸漬しているシンクロール５により鋼帯１の進行方
向を変更しているため、シンクロール５が溶融めっき金
属に浸食される。浸食は特に軸受け部分で激しく、シン
クロール５の円滑な回転が損なわれ、シンクロール５を
煩雑に交換することが余儀なくされる。シンクロールに
由来するトラブルを回避するため、特公昭５１−２０３
３４号公報では、シンクロールを使用しないめっき浴を
紹介している。この方法では、図２に示すように、鋼帯
搬入部８を下部に設けためっき浴４を使用する。そし
て、還元焼鈍炉２の出側に配置されたデフロール９で鋼
帯１の進行方向を上向きに変更し、その上方にあるめっ
き浴４に鋼帯１を送り込んでいる。下方に開口した鋼帯
搬入部８から溶融めっき金属が漏出することは、めっき
浴４に上向きの電磁力を作用させることにより防止して
いる。すなわち、鋼帯搬入部８に対向配置した移動磁場
発生コイル１０により鋼帯を表裏に貫通する方向に磁場
を発生させ、鋼帯１及び溶融めっき金属に発生する渦電
流と相俟つて上向きの電磁力が鋼帯搬入部８内の溶融め
っき金属に作用する。
４に浸漬しているシンクロール５により鋼帯１の進行方
向を変更しているため、シンクロール５が溶融めっき金
属に浸食される。浸食は特に軸受け部分で激しく、シン
クロール５の円滑な回転が損なわれ、シンクロール５を
煩雑に交換することが余儀なくされる。シンクロールに
由来するトラブルを回避するため、特公昭５１−２０３
３４号公報では、シンクロールを使用しないめっき浴を
紹介している。この方法では、図２に示すように、鋼帯
搬入部８を下部に設けためっき浴４を使用する。そし
て、還元焼鈍炉２の出側に配置されたデフロール９で鋼
帯１の進行方向を上向きに変更し、その上方にあるめっ
き浴４に鋼帯１を送り込んでいる。下方に開口した鋼帯
搬入部８から溶融めっき金属が漏出することは、めっき
浴４に上向きの電磁力を作用させることにより防止して
いる。すなわち、鋼帯搬入部８に対向配置した移動磁場
発生コイル１０により鋼帯を表裏に貫通する方向に磁場
を発生させ、鋼帯１及び溶融めっき金属に発生する渦電
流と相俟つて上向きの電磁力が鋼帯搬入部８内の溶融め
っき金属に作用する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】電磁力で溶融めっき金
属を保持する方法では、対向する移動磁場発生コイル１
０，１０の相互間隔が離れると、保持する溶融めっき金
属の重量が増加するにも拘らず、溶融めっき金属に作用
する力が小さくなる。そのため、離間距離を相殺する大
きな電磁力を発生させ、大重量の溶融めっき金属を保持
するため、移動磁場発生コイル１０，１０に供給する電
流を大きくする必要が生じ、設備が大きくなる欠点があ
る。
属を保持する方法では、対向する移動磁場発生コイル１
０，１０の相互間隔が離れると、保持する溶融めっき金
属の重量が増加するにも拘らず、溶融めっき金属に作用
する力が小さくなる。そのため、離間距離を相殺する大
きな電磁力を発生させ、大重量の溶融めっき金属を保持
するため、移動磁場発生コイル１０，１０に供給する電
流を大きくする必要が生じ、設備が大きくなる欠点があ
る。
【０００５】対向する移動磁場発生コイル１０，１０の
相互間距離を小さくすると、溶融めっき金属の保持に電
磁力を効果的に作用させることができる。しかし、コイ
ル間距離を縮めると、鋼帯１が少しでも片側の移動磁場
発生コイル１０に近付いた場合、近い方の移動磁場発生
コイル１０に鋼帯１が吸引される。その結果、鋼帯１が
鋼帯搬入部８の内壁面に接触し、鋼帯表面に疵が発生し
易くなる。極端な場合には、鋼帯１の復元力によって振
動が発生して電磁力のバランスが崩れ、磁力の弱い部分
から溶融めっき金属がこぼれ出す虞れがある。本発明
は、このような問題を解消すべく案出されたものであ
り、鋼帯と移動磁場発生コイルとの間隔に応じて供給電
流を制御することにより、移動磁場発生コイル間の距離
を縮めても移動磁場発生コイルに鋼帯が吸着することや
鋼帯の振動を抑制し、少ない投入電力で溶融めっき金属
を効率よく保持することを目的とする。
相互間距離を小さくすると、溶融めっき金属の保持に電
磁力を効果的に作用させることができる。しかし、コイ
ル間距離を縮めると、鋼帯１が少しでも片側の移動磁場
発生コイル１０に近付いた場合、近い方の移動磁場発生
コイル１０に鋼帯１が吸引される。その結果、鋼帯１が
鋼帯搬入部８の内壁面に接触し、鋼帯表面に疵が発生し
易くなる。極端な場合には、鋼帯１の復元力によって振
動が発生して電磁力のバランスが崩れ、磁力の弱い部分
から溶融めっき金属がこぼれ出す虞れがある。本発明
は、このような問題を解消すべく案出されたものであ
り、鋼帯と移動磁場発生コイルとの間隔に応じて供給電
流を制御することにより、移動磁場発生コイル間の距離
を縮めても移動磁場発生コイルに鋼帯が吸着することや
鋼帯の振動を抑制し、少ない投入電力で溶融めっき金属
を効率よく保持することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の溶融めっき方法
は、その目的を達成するため、溶融めっき浴の下部に設
けた鋼帯搬入部から溶融めっき浴に送り込まれた鋼帯を
垂直上方に引き上げて鋼帯を溶融めっきする際、鋼帯搬
入部の外側に一対の移動磁場発生コイルを対向配置し、
磁場発生コイルの中間に基準位置を設定し、位置センサ
ーで検出した鋼帯の測定位置が基準位置からずれたと
き、鋼帯が接近した側の移動磁場発生コイルで磁場強度
が小さく、鋼帯が離れた側の移動磁場発生コイルで磁場
強度が大きくなるように、それぞれの移動磁場発生コイ
ルへの供給電流を調整することを特徴とする。この方法
を実施するための溶融めっき装置は、下端が開放された
鋼帯搬入部を下部に設けた溶融めっき槽と、鋼帯搬入部
の外側に対向配置された一対の移動磁場発生コイルと、
移動磁場発生コイルそれぞれに電流を供給する駆動回路
と、それぞれの駆動回路から各移動磁場発生コイルに供
給される電流を調整する制御回路と、鋼帯の位置を検出
する位置センサーとを備えている。制御回路では、位置
センサーで検出された鋼帯の測定位置と基準位置とを比
較し、基準位置から測定位置のズレに応じた電流を供給
する制御信号を各駆動回路に出力する。
は、その目的を達成するため、溶融めっき浴の下部に設
けた鋼帯搬入部から溶融めっき浴に送り込まれた鋼帯を
垂直上方に引き上げて鋼帯を溶融めっきする際、鋼帯搬
入部の外側に一対の移動磁場発生コイルを対向配置し、
磁場発生コイルの中間に基準位置を設定し、位置センサ
ーで検出した鋼帯の測定位置が基準位置からずれたと
き、鋼帯が接近した側の移動磁場発生コイルで磁場強度
が小さく、鋼帯が離れた側の移動磁場発生コイルで磁場
強度が大きくなるように、それぞれの移動磁場発生コイ
ルへの供給電流を調整することを特徴とする。この方法
を実施するための溶融めっき装置は、下端が開放された
鋼帯搬入部を下部に設けた溶融めっき槽と、鋼帯搬入部
の外側に対向配置された一対の移動磁場発生コイルと、
移動磁場発生コイルそれぞれに電流を供給する駆動回路
と、それぞれの駆動回路から各移動磁場発生コイルに供
給される電流を調整する制御回路と、鋼帯の位置を検出
する位置センサーとを備えている。制御回路では、位置
センサーで検出された鋼帯の測定位置と基準位置とを比
較し、基準位置から測定位置のズレに応じた電流を供給
する制御信号を各駆動回路に出力する。
【０００７】
【実施の形態】本発明に従っためっき装置では、図３に
示すように溶融めっき浴４の下部に設けた鋼帯搬入部８
の外側に一対の移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂを対
向配置している。移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂ
は、個別に電流が調整されるように、それぞれの駆動回
路（電源）１１ａ，１１ｂを介して制御回路１２に接続
されている。駆動回路１１ａ，１１ｂは、交流電源を使
用する場合、移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂに流す
電流の位相を一致させておく。制御回路１２には、鋼帯
１の基準位置を表す信号と位置センサー１３で検出した
鋼帯の測定位置を表す信号が入力され、基準位置からの
測定位置のズレを相殺する電磁力が演算される。位置セ
ンサー１３の設定距離は、通常、移動磁場発生コイル１
０ａと１０ｂとの中間に設定される。
示すように溶融めっき浴４の下部に設けた鋼帯搬入部８
の外側に一対の移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂを対
向配置している。移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂ
は、個別に電流が調整されるように、それぞれの駆動回
路（電源）１１ａ，１１ｂを介して制御回路１２に接続
されている。駆動回路１１ａ，１１ｂは、交流電源を使
用する場合、移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂに流す
電流の位相を一致させておく。制御回路１２には、鋼帯
１の基準位置を表す信号と位置センサー１３で検出した
鋼帯の測定位置を表す信号が入力され、基準位置からの
測定位置のズレを相殺する電磁力が演算される。位置セ
ンサー１３の設定距離は、通常、移動磁場発生コイル１
０ａと１０ｂとの中間に設定される。
【０００８】鋼帯１を還元焼鈍炉２から溶融めっき浴４
に通板するとき、鋼帯１は、表裏方向の振動により片側
の移動磁場発生コイル１０ａに接近し、他方の移動磁場
発生コイル１０ｂから離間し、基準位置からずれる場合
がある。基準位置からのズレは、位置センサー１３で検
出される。検出結果に応じて、鋼帯１に近い側の移動磁
場発生コイル１０ａで発生する磁場が弱く、鋼帯１から
遠い側の移動磁場発生コイル１０ｂで発生する磁場が強
くなるように、移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂそれ
ぞれに供給する電流を制御回路１２で演算し、所定の電
流を駆動回路１１ａ，１１ｂから移動磁場発生コイル１
０ａ，１０ｂに供給する。これにより、鋼帯１が基準位
置に維持され、片方の移動磁場発生コイル１０ａ又は１
０ｂに吸引されて鋼帯搬入部８の内壁に接触することが
防止される。その結果、鋼帯表面に疵が発生することが
なくなる。また、鋼帯１の振動が抑制されるため、電磁
力のバランスも崩れず、鋼帯搬入部８の下端開口からの
溶融めっき金属の漏出も防止される。
に通板するとき、鋼帯１は、表裏方向の振動により片側
の移動磁場発生コイル１０ａに接近し、他方の移動磁場
発生コイル１０ｂから離間し、基準位置からずれる場合
がある。基準位置からのズレは、位置センサー１３で検
出される。検出結果に応じて、鋼帯１に近い側の移動磁
場発生コイル１０ａで発生する磁場が弱く、鋼帯１から
遠い側の移動磁場発生コイル１０ｂで発生する磁場が強
くなるように、移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂそれ
ぞれに供給する電流を制御回路１２で演算し、所定の電
流を駆動回路１１ａ，１１ｂから移動磁場発生コイル１
０ａ，１０ｂに供給する。これにより、鋼帯１が基準位
置に維持され、片方の移動磁場発生コイル１０ａ又は１
０ｂに吸引されて鋼帯搬入部８の内壁に接触することが
防止される。その結果、鋼帯表面に疵が発生することが
なくなる。また、鋼帯１の振動が抑制されるため、電磁
力のバランスも崩れず、鋼帯搬入部８の下端開口からの
溶融めっき金属の漏出も防止される。
【０００９】
【実施例】図３に示した装置を使用し、厚み０．８ｍ
ｍ，幅１２００ｍｍの鋼帯１を還元焼鈍炉２からデフロ
ール９及び鋼帯搬入部８を経て溶融めっき浴４に１００
ｍ／分の速度で送り込み、溶融めっきを施した。このと
き、鋼帯搬入部８では、高さ３２０ｍｍ，幅１５００ｍ
ｍの移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂを、鋼帯１を挟
んで約３０ｍｍの間隔で対向配置した。また、移動磁場
発生コイル１０ａ，１０ｂの下方で鋼帯１の片側に位置
センサー１３を設けた。移動磁場発生コイル１０ａ，１
０ｂには、平均電流２５００Ａの三相交流を供給した。
供給電流は、移動磁場発生コイル１０ａと１０ｂとの中
心に鋼帯１が保持されるように、位置センサー１３で検
出された測定距離に応じて１０００〜４０００Ａの範囲
で変更制御した。
ｍ，幅１２００ｍｍの鋼帯１を還元焼鈍炉２からデフロ
ール９及び鋼帯搬入部８を経て溶融めっき浴４に１００
ｍ／分の速度で送り込み、溶融めっきを施した。このと
き、鋼帯搬入部８では、高さ３２０ｍｍ，幅１５００ｍ
ｍの移動磁場発生コイル１０ａ，１０ｂを、鋼帯１を挟
んで約３０ｍｍの間隔で対向配置した。また、移動磁場
発生コイル１０ａ，１０ｂの下方で鋼帯１の片側に位置
センサー１３を設けた。移動磁場発生コイル１０ａ，１
０ｂには、平均電流２５００Ａの三相交流を供給した。
供給電流は、移動磁場発生コイル１０ａと１０ｂとの中
心に鋼帯１が保持されるように、位置センサー１３で検
出された測定距離に応じて１０００〜４０００Ａの範囲
で変更制御した。
【００１０】その結果、鋼帯１は、振動することなく移
動磁場発生コイル１０ａと１０ｂとの中心部に維持され
た。そのため、めっき浴４の壁面に接触せず、得られた
溶融めっき鋼帯は健全なめっき層及び良好な表面状態を
もっていた。比較のため、移動磁場発生コイル１０ａ，
１０ｂへの供給電流を制御することなく一定値２５００
Ａに保つ外は同様の条件で溶融めっきした。この場合に
は、鋼帯１が片方の移動磁場発生コイル１０ａ又は１０
ｂに吸引され、鋼板搬入部８の内壁面に接触したままで
鋼帯１が通板されたことから、不めっきの原因となる疵
が鋼帯１の表面に発生した。
動磁場発生コイル１０ａと１０ｂとの中心部に維持され
た。そのため、めっき浴４の壁面に接触せず、得られた
溶融めっき鋼帯は健全なめっき層及び良好な表面状態を
もっていた。比較のため、移動磁場発生コイル１０ａ，
１０ｂへの供給電流を制御することなく一定値２５００
Ａに保つ外は同様の条件で溶融めっきした。この場合に
は、鋼帯１が片方の移動磁場発生コイル１０ａ又は１０
ｂに吸引され、鋼板搬入部８の内壁面に接触したままで
鋼帯１が通板されたことから、不めっきの原因となる疵
が鋼帯１の表面に発生した。
【００１１】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明では、鋼
帯の位置を制御しながら溶融めっき金属が鋼帯搬入部の
下端開口から漏出することを防止する電磁力を付与して
いる。そのため、移動磁場発生コイルの相互間距離を小
さく設定しても、移動磁場発生コイルの吸引力によって
鋼帯が鋼帯搬入部の内壁面に接触することがなく、不め
っき等のめっき欠陥の原因となる疵が鋼帯表面に発生す
ることが防止される。また、鋼帯が振動することなく基
準位置に維持されるため、磁気バランスが崩れず、鋼帯
搬入部の下端開口から溶融めっき金属が漏出することも
ない。しかも、移動磁場発生コイルの相互間距離が小さ
いことから、溶融めっき金属を保持するための電磁力を
小さくすることが可能となる。
帯の位置を制御しながら溶融めっき金属が鋼帯搬入部の
下端開口から漏出することを防止する電磁力を付与して
いる。そのため、移動磁場発生コイルの相互間距離を小
さく設定しても、移動磁場発生コイルの吸引力によって
鋼帯が鋼帯搬入部の内壁面に接触することがなく、不め
っき等のめっき欠陥の原因となる疵が鋼帯表面に発生す
ることが防止される。また、鋼帯が振動することなく基
準位置に維持されるため、磁気バランスが崩れず、鋼帯
搬入部の下端開口から溶融めっき金属が漏出することも
ない。しかも、移動磁場発生コイルの相互間距離が小さ
いことから、溶融めっき金属を保持するための電磁力を
小さくすることが可能となる。
【図１】 従来のシンクロールを浸漬した溶融めっき浴
【図２】 シンクロールに替えて電磁シール機構を付設
した溶融めっき浴
した溶融めっき浴
【図３】 本発明に従って電磁力を制御可能にした溶融
めっき浴
めっき浴
１：鋼帯 ２：還元焼鈍炉 ３：スナウト ４：
溶融めっき浴 ５：シンクロール ６：サポートロ
ール ７：ガスワイピング装置 ８：鋼帯搬入部
９：デフロール １０，１０ａ，１０ｂ：移動磁場
発生コイル １１ａ，１１ｂ：駆動回路（電源） １２：制御回路
１３：位置センサー
溶融めっき浴 ５：シンクロール ６：サポートロ
ール ７：ガスワイピング装置 ８：鋼帯搬入部
９：デフロール １０，１０ａ，１０ｂ：移動磁場
発生コイル １１ａ，１１ｂ：駆動回路（電源） １２：制御回路
１３：位置センサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中本 一成 兵庫県尼崎市鶴町１番地 日新製鋼株式会 社技術研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 溶融めっき浴の下部に設けた鋼帯搬入部
から溶融めっき浴に送り込まれた鋼帯を垂直上方に引き
上げて鋼帯を溶融めっきする際、鋼帯搬入部の外側に一
対の移動磁場発生コイルを対向配置し、磁場発生コイル
の中間に基準位置を設定し、位置センサーで検出した鋼
帯の測定位置が基準位置からずれたとき、鋼帯が接近し
た側の移動磁場発生コイルで磁場強度が小さく、鋼帯が
離れた側の移動磁場発生コイルで磁場強度が大きくなる
ように、それぞれの移動磁場発生コイルへの供給電流を
調整することを特徴とするシンクロールを使用しない溶
融めっき方法。 - 【請求項２】 下端が開放された鋼帯搬入部を下部に設
けた溶融めっき槽と、鋼帯搬入部の外側に対向配置され
た一対の移動磁場発生コイルと、移動磁場発生コイルそ
れぞれに電流を供給する駆動回路と、それぞれの駆動回
路から各移動磁場発生コイルに供給される電流を調整す
る制御回路と、鋼帯の位置を検出する位置センサーとを
備え、前記制御回路は、位置センサーで検出された鋼帯
の測定位置と基準位置とを比較し、基準位置から測定位
置のズレに応じた電流を供給する制御信号を各駆動回路
に出力することを特徴とするシンクロールを使用しない
溶融めっき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21525396A JPH1046310A (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | シンクロールを使用しない溶融めっき方法及びめっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21525396A JPH1046310A (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | シンクロールを使用しない溶融めっき方法及びめっき装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1046310A true JPH1046310A (ja) | 1998-02-17 |
Family
ID=16669262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21525396A Withdrawn JPH1046310A (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | シンクロールを使用しない溶融めっき方法及びめっき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1046310A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2797277A1 (fr) * | 1999-08-05 | 2001-02-09 | Lorraine Laminage | Procede et dispositif de realisation en continu d'un revetement de surface metallique sur une tole en defilement |
| WO2001071051A1 (de) * | 2000-03-24 | 2001-09-27 | Sms Demag Aktiengesellschaft | Verfahren und einrichtung zum schmelztauchbeschichten von metallsträngen, insbesondere von stahlband |
| WO2001071052A1 (de) * | 2000-03-24 | 2001-09-27 | Sms Demag Aktiengesellschaft | Verfahren und einrichtung zum schmelztauchbeschichten von metallsträngen, insbesondere von stahlband |
| EP1205572A1 (de) * | 2000-11-11 | 2002-05-15 | SMS Demag AG | Verfahren und Einrichtung zum Schmelztauchbeschichten von Metallsträngen, insbesondere von Stahlband |
| WO2004050941A1 (de) | 2002-11-30 | 2004-06-17 | Sms Demag Aktiengesellschaft | Vorrichtung und verfahren zur schmelztauchbeschichtung eines metallstranges |
| WO2004050940A3 (de) * | 2002-11-30 | 2004-12-29 | Sms Demag Ag | Verfahren und vorrichtung zur schmelztauchbeschichtung eines metallstranges |
| KR100544649B1 (ko) * | 2001-04-10 | 2006-01-23 | 주식회사 포스코 | 용융도금 공정을 위한 용융금속 부양 방법 및 그 장치 |
| CN100436637C (zh) * | 2002-03-09 | 2008-11-26 | Sms迪马格股份公司 | 对金属条进行热浸镀涂层的装置 |
| KR101081614B1 (ko) * | 2009-06-25 | 2011-11-09 | 현대하이스코 주식회사 | 강판의 위치 제어가 용이한 수직형 강판 코팅 장치 |
-
1996
- 1996-07-26 JP JP21525396A patent/JPH1046310A/ja not_active Withdrawn
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001011101A1 (fr) * | 1999-08-05 | 2001-02-15 | Usinor | Procede et dispositif de realisation en continu d'un revetement de surface metallique sur une tole en defilement |
| FR2797277A1 (fr) * | 1999-08-05 | 2001-02-09 | Lorraine Laminage | Procede et dispositif de realisation en continu d'un revetement de surface metallique sur une tole en defilement |
| WO2001071051A1 (de) * | 2000-03-24 | 2001-09-27 | Sms Demag Aktiengesellschaft | Verfahren und einrichtung zum schmelztauchbeschichten von metallsträngen, insbesondere von stahlband |
| WO2001071052A1 (de) * | 2000-03-24 | 2001-09-27 | Sms Demag Aktiengesellschaft | Verfahren und einrichtung zum schmelztauchbeschichten von metallsträngen, insbesondere von stahlband |
| EP1205572A1 (de) * | 2000-11-11 | 2002-05-15 | SMS Demag AG | Verfahren und Einrichtung zum Schmelztauchbeschichten von Metallsträngen, insbesondere von Stahlband |
| KR100544649B1 (ko) * | 2001-04-10 | 2006-01-23 | 주식회사 포스코 | 용융도금 공정을 위한 용융금속 부양 방법 및 그 장치 |
| CN100436637C (zh) * | 2002-03-09 | 2008-11-26 | Sms迪马格股份公司 | 对金属条进行热浸镀涂层的装置 |
| WO2004050940A3 (de) * | 2002-11-30 | 2004-12-29 | Sms Demag Ag | Verfahren und vorrichtung zur schmelztauchbeschichtung eines metallstranges |
| WO2004050941A1 (de) | 2002-11-30 | 2004-06-17 | Sms Demag Aktiengesellschaft | Vorrichtung und verfahren zur schmelztauchbeschichtung eines metallstranges |
| US7662438B2 (en) | 2002-11-30 | 2010-02-16 | Sms Siemag Aktiengesellschaft | Method and device for hot-dip coating a metal strand |
| KR101005894B1 (ko) * | 2002-11-30 | 2011-01-06 | 에스엠에스 지마크 악티엔게젤샤프트 | 금속 빌렛의 용융 도금 코팅 장치 및 방법 |
| KR101013916B1 (ko) * | 2002-11-30 | 2011-02-14 | 에스엠에스 지마크 악티엔게젤샤프트 | 금속 빌렛의 용융 도금 코팅 방법 및 장치 |
| US8304029B2 (en) | 2002-11-30 | 2012-11-06 | Sms Siemag Aktiengesellschaft | Method and device for hot-dip coating a metal strand |
| KR101081614B1 (ko) * | 2009-06-25 | 2011-11-09 | 현대하이스코 주식회사 | 강판의 위치 제어가 용이한 수직형 강판 코팅 장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20100112238A1 (en) | Method and device for hot dip coating a metal strand | |
| JPH1046310A (ja) | シンクロールを使用しない溶融めっき方法及びめっき装置 | |
| JP2001011596A (ja) | 溶融金属めっき金属帯の製造方法 | |
| RU2346076C1 (ru) | Способ и устройство для нанесения покрытия на металлическую полосу погружением в расплав | |
| JPH06136502A (ja) | 溶融金属めっき鋼帯の電磁力によるめっき付着量制御方法 | |
| TW200424354A (en) | Method and device for coating a metal bar by hot dipping | |
| JPH1060614A (ja) | 電磁力を利用しためっき付着量調整方法及び装置 | |
| JPH06108220A (ja) | 溶融金属めっき鋼帯の電磁力によるめっき付着量制御方法 | |
| JPH1053849A (ja) | 溶融めっき鋼帯の蛇行防止方法及び装置 | |
| JP2000345310A (ja) | 鋼帯の連続溶融金属めっき設備 | |
| JPH07113157A (ja) | 電磁力によるめっき付着量制御における鋼帯の電磁石への吸着防止方法 | |
| RU2313617C2 (ru) | Устройство для нанесения покрытия на непрерывные металлические заготовки погружением в расплав | |
| JPH1046311A (ja) | 電磁シール機構を備えた溶融めっき装置 | |
| JPH02298247A (ja) | 溶融金属のメッキ方法 | |
| JP3498430B2 (ja) | 溶融金属めっき鋼板の製造装置 | |
| JPH10273764A (ja) | 連続溶融金属メッキラインのメッキ付着量制御方法及び装置 | |
| JP3201727B2 (ja) | 溶融金属めっき装置およびめっき方法 | |
| JPH08333661A (ja) | 溶融金属めっき鋼板の製造装置及び方法 | |
| JP3302280B2 (ja) | 溶融金属めっき装置および溶融金属めっき方法 | |
| JP3217718B2 (ja) | 溶融金属めっき装置 | |
| JPH02217454A (ja) | 溶融めっき鋼板のエッジオーバーコート及び表面疵の防止方法 | |
| JPH06447Y2 (ja) | 溶融メッキ装置 | |
| JPH0293052A (ja) | 溶融亜鉛メッキ装置 | |
| JP2002294421A (ja) | 摺動性の良好な合金化溶融金属メッキ鋼板の製造方法 | |
| JPH1046309A (ja) | めっき付着量の制御方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031007 |