JPH1049822A

JPH1049822A - 磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH1049822A
Application number: JP20211396A
Authority: JP
Inventors: Kenji Idaka; 健治伊高; Masayasu Fujisawa; 政泰藤沢; Hiroshi Chiba; 拓千葉; Yoshiharu Waki; 義晴脇
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1996-07-31
Filing date: 1996-07-31
Publication date: 1998-02-20

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの素子部近傍の形状の最適化を行
い、その形状の具体的な加工法を与えることにより、磁
気ヘッドの素子部での浮上量を低減させ、高い磁気記録
密度を達成することができる磁気ディスク装置を提供す
る。【解決手段】磁気ヘッド１の浮上面９をテープ研磨や軟
質定盤を用いて端部にダレ１０を発生させ、さらに、こ
の浮上面９を端ダレの発生が小さい加工法で研磨してダ
レ幅調整用研磨代１１を除去することにより、ダレ形
状、ダレ幅を精度良く加工し、かつ、ヘッド素子部５で
の窪み（加工段差）の小さい磁気ヘッドを得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
用の浮上型または接触型磁気ヘッドに関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】外部記憶装置の一種である磁気ディスク
装置は、例えば図１に示すように、ジンバル２により支
持された磁気ヘッド（スライダー）１により、回転する
円盤状の磁気ディスク３に、情報の書き込み・読み込み
を磁気的に行うものである。磁気ヘッド１は、通常セラ
ミック製で、端部に磁気信号を記録するための素子、再
生するための素子を搭載している。

【０００３】磁気ディスク装置において磁気ディスク３
と磁気ヘッド１は、速度が数十m/s以上で、ある傾き角
７で傾いた状態で相対運動している。このとき、磁気デ
ィスク３に対して磁気ヘッド１が気体の動圧を受けて浮
上しているものを浮上型（図２参照）、接触したまま摺
動するものを接触型（図３参照）という。

【０００４】浮上型については、図２に示すように、浮
上量６を小さくすることにより記録密度を向上させるこ
とができる。ここで浮上量６は、磁気ヘッド１の最下端
と磁気ディスク３までの平均距離と定義する。しかし、
浮上量６を不用意に小さくすると塵埃や振動などの要因
により、磁気ヘッド１と磁気ディスク３の衝突回数が増
え、磁気信号を検出あるいは再生するための素子を破損
したり、磁化された情報が失われたりする。また、磁気
ヘッド１と磁気ディスク３が接触することにより、再生
素子の温度が上昇して再生信号に雑音が入り、情報の信
頼性が失われたりする。

【０００５】こうした障害を避け、記録密度を向上させ
るには、磁気ヘッド素子部５ができるだけ磁気ヘッド１
の全体から見て最下端の部分に近くなるようにする必要
がある。この点を考慮した磁気ヘッドの製造方法として
は、例えば、特開昭６３−９６７２２号公報、特開平１
−９２９２２号公報、特開平７−５７２１９号公報等に
例示されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、特開昭６３−
９６７２２号公報にて開示されている従来技術では、こ
れを実現する手段として通常の機械加工方法しか示され
ておらず、この方法によっては、適切な形状の磁気ヘッ
ドを工業的に量産することは困難である。

【０００７】また、特開平１−９２９２２号公報や特開
平７−５７２１９号公報の従来技術では、磁気ヘッドを
浮上させてバニシングによって加工する方法が示されて
いる。しかし、加工点である素子近傍が高温になること
や静電気の発生問題などにより、近年、磁気ヘッド素子
として用いられている磁気抵抗型の再生素子を破壊する
ことがあった。

【０００８】さらにこれらの従来技術では、浮上姿勢を
利用して面取りを行うので、磁気ディスク３との傾き角
７や形状を変えることが大変困難であった。さらに、こ
れらの従来技術では、スライダー１をジンバル２に固定
して１個ずつしか加工できないため、スループットが小
さく、浮上面の最終保護膜の形成が困難であり、隘路と
なっていた。

【０００９】本発明は上述したような問題点を考慮して
なされたもので、その目的は、信頼性の低下を招くこと
なく、記録密度の向上を図ることができる磁気ヘッド及
びその製造方法を提供することにある。また、接触型の
磁気ヘッドでは、摺動時に磁気ディスクを傷つける可能
性を小さくすることができる磁気ヘッドおよびその製造
方法を提供することを本発明の目的とする。

【００１０】より具体的には、本発明の目的は、磁気ヘ
ッドの素子部に損傷を与えることなく、磁気ヘッドが動
作する状態での磁気ヘッドの最下端に対して、当該素子
の下端部あるいはその直下の部分を近づけると共に、磁
気ディスクに対して障害を与えないような最下端部分の
形状を備える、磁気ヘッドおよびその製造方法を提供す
ることにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、磁気ヘッドの製造方法において、磁気ディ
スク装置用磁気ヘッド（スライダー）が磁気ディスクに
対して傾斜しながら浮上もしくは接触して情報の読み書
きを行なう姿勢にあるときに、磁気ヘッドの磁気ディス
クに対向する面で、磁気情報の読み取り素子部あるいは
書き込み素子部よりも磁気ディスクに近接する、磁気ヘ
ッドの最下端となる部分を除去することで端ダレ部を形
成する。

【００１２】磁気ヘッドが浮上した姿勢での最下端部を
除去することにより得られる、ヘッド素子部の下端部と
磁気ディスクとの距離を小さくする形状は種々考えられ
るが、例えば、図４に示すように、磁気ディスクとの相
対運動方向に平行でかつ磁気ディスクの表面に垂直な面
で切られた、ヘッド素子部を通る磁気ヘッド４の断面
で、上記端ダレ部について得られる形状曲線１２をｙ＝
ｆ（ｘ）で表すとすると、その少なくとも一部が近似的
に、以下の２式のいずれかによって現されるように構成
する。

【００１３】ｙ＝ｆ（ｘ）＝Ａ＋Ｂ・ＥＸＰ（−Ｃ・ｘ）・・・（数１）ｙ＝ｆ（ｘ）＝Ａ＋Ｂ・ＥＸＰ（−Ｃ・ｘ²）・・・（数２）ここでＡ、Ｂ、Ｃは定数である。なお、この形状曲線１
２は、後述する部分１１が除去される前のダレ部分の形
状を示す。このような形状によれば、本発明の特徴的構
成である上記端ダレ部を量産的に創成するのが容易であ
り、磁気ディスクへ接触したときに幾何学的に衝撃が小
さく障害が発生しにくいという効果が得られる。

【００１４】また、本発明では、上述したような形状を
得るために、例えば、テープ研磨および面取り加工を遊
離砥粒と金属定盤によるラップによるか、あるいは、磁
気ヘッドが僅かに揺動するように保持して機械研磨を行
なう場合のダレを利用する。ここで、機械研磨を行なう
際には、磁気ヘッドが弾性体に保持されるようにする
か、あるいは、流体によって研磨圧を磁気ヘッドに加え
ながら機械研磨を行なう。また、上記端ダレ部の創成
をYoung率が１０ＧＰａ以下である研磨定盤または固定
砥粒砥石を用いて研磨するか、あるいは、その部分の曲
面の創成をYoung率の差が１ＧＰａ以上である異種材質
を複数回積層した研磨定盤または固定砥粒砥石を用いて
研磨することにより行う構成としても良い。なお、後者
の研磨方法においては、研磨定盤または固定砥粒砥石の
上層の厚さを、例えば１０μｍ以下とする。

【００１５】ところで、上記のようなダレを利用して上
記端ダレ部を創成する方法では、量産時に形状のばらつ
きを発生しやすい。そこで本発明では、最初に大きめの
ダレを作り、しかる後に磁気ディスクに対向する面を端
ダレの少ない機械研磨により、ダレ幅調整用研磨代１１
（図４参照）を除去して、最終的に目的形状を得る。

【００１６】また、大きな端ダレを作るときには、磁気
ヘッドの素子部の窪み(加工段差という)が発生する場合
がある。その加工段差を低減するためにも、磁気ディス
クに対向する面を再度平坦に機械研磨することが望まし
い。また、端ダレ１０を創成する加工法は加工段差を増
大させやすいので、磁気ディスクに対向する面における
端ダレ領域に、ヘッド素子部の下端が含まれないような
形状とするのが有効である。

【００１７】このような工程によれば、ダレによる曲面
部分と磁気ディスクに対向する面との境界が明瞭にな
る。さらに、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触したと
き、接触する部分が素子部と僅かにずれるため、素子へ
の損傷が小さくなり、熱雑音を拾いにくい。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明を適用した磁気ヘッドおよ
びその製造方法の第１の実施形態について、図４〜図６
を参照して説明する。

【００１９】本実施形態による磁気ヘッド４は、図４に
示すように、上記数１、数２の２式のいずれかで定義さ
れる形状曲線１２によって近似される端ダレ部１０が、
少なくとも、浮上面９のヘッド素子部５が配置されてい
る端辺部に設けられている構造を有している。

【００２０】本実施形態による磁気ヘッドの製造方法で
は、例えば図２、３に示すような従来の構造を備える磁
気ヘッドをさらに加工して上述した端ダレ部１０を備え
る目的の形状を得るもので、その加工方法は、端ダレ部
分の創成工程と端ダレ部分の幅の調整工程との２つの工
程から構成される。

【００２１】（１）端ダレ部分の創成工程の一例とし
て、テープ研磨による加工法を用いた例を説明する。

【００２２】本工程では、図５に示すように、バネ定数
ｋ＝１〜４ｋＰａ／ｍの弾性体１４にベース厚さ２５μ
ｍ、ダイヤモンド砥粒０．２５μｍの研磨テープ１６を
接着し、平均移動速度１ｍ／ｍｉｎ、研磨圧力２．８Ｍ
Ｐａで、治具１３に固定された複数の浮上型磁気ヘッド
１５を乾式で研磨する。この方法により、各磁気ヘッド
１５の浮上面（磁気ディスクに対向するべき面）の端部
に面取りを施して、端ダレ部分を創成する。

【００２３】ここで、端ダレ部分の形状ｙは、以下の式
にしたがって変化する。

【００２４】（１／Ｃ）・（∂ｙ／∂ｔ）＝ＴΔｙ−ｋｙ・・・（数３）ここで、ｙ：形状Ｔ：研磨テープ張力ｔ：加工時間ｋ：弾性体バネ定数Ｃ：研磨定数 Δ：ラプラシアンである。上記数３を解くと、形状ｙはおよそ上記数２の
関数によって表される。このダレ形状は加工時間ととも
に変化していくので、必要とする形状が得られたら、直
ちに加工を停止する。なお、実際の加工条件によって
は、形状曲線の関数形が異なることもあるが、加工条件
や方法を調整をすることで、目的の形状を得ることが可
能となる。

【００２５】（２）端ダレ幅の調整工程の一例として、
固定砥粒による研磨法を用いた例を説明する。

【００２６】本工程では、上記工程により創成された端
ダレ部分を必要な量だけにするために、端ダレの少ない
研磨を行い、図４の１１の部分を除去する。

【００２７】具体的には、研磨機上で研磨定盤の表面を
ダイヤモンドバイトで１〜５０μｍの溝を螺旋状に形成
することの出来る修正装置を有し、軸剛性の高い空気軸
受けに支えられた回転部を持つラップ装置を使用する。
この回転部の質量は、研磨定盤と研磨治具の質量に対し
て１．５〜４倍の質量を持つことが望まれる。

【００２８】また、研磨定盤を取り付けたときにその外
周の偏心は、０．１〜１０μｍになっているようにする
ことが望ましい。さらに、用いる研磨定盤はしっかりし
た台座に固定されされており、錫もしくはそれに０．１
〜４０％程度の異種金属からなる合金でつくられている
ものとする。異種金属としてはＰｂ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｆ
ｅ、Ａｇ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｂｉ等がある。半径は修正リン
グを定盤に載せたとき、内周側と外周側で３〜２０ｍｍ
はみ出しているような大きさがよい。

【００２９】溝の形成については、修正リングと接触す
る領域で１μｍ〜１０μｍの平坦性を有している必要が
ある。ダイヤモンドバイトとしては先端Ｒが０．０５〜
２ｍｍで先端角は３０〜７５度程度のものが良い。

【００３０】定盤修正は、修正装置で充分に不要なバリ
・凹凸を除去した後、１μｍ〜５０μｍ程度のダイヤモ
ンドバイトの送りで切り込みを入れればよい。さらに、
セラミック製の修正リングを用いて、研磨定盤が充分な
平面度を有するまで研磨液を滴下しながら、研磨定盤上
で回転させる。このとき、修正リングは強制的に回転運
動を与えられる機構を有しているものとする。定盤と修
正リングとの回転比は充分安定させることが必要であ
る。研磨液としては界面活性剤を含むダイヤモンドスラ
リーで、平均砥粒径が１／１０〜１／２μｍのものを用
いる。充分に研磨定盤の平面度が形成されることを確認
して、研磨定盤・修正リングから砥粒の取り除くため、
洗浄する。

【００３１】さらに図６に示すように支持治具２０に磁
気ヘッドを１個もしくは複数個並べるか、あるいは複数
個連なったもの固定する。これを先ほどの砥粒の固定さ
れた研磨定盤１８に修正リング１９を伴って載せ、１〜
３０ｒｐｍ程度で回転させ、高粘性な界面活性剤を含む
潤滑剤１７を滴下しながら、研磨を行う。このとき予め
定盤の研磨能率を調べておき、５０〜２００ｎｍ程度研
磨することで、目的の形状を得る。

【００３２】次に、本発明の第２の実施形態を図７を参
照して説明する。

【００３３】本実施形態では、上記端ダレ幅の調整工程
において、研削による加工法を用いた例について説明す
る。本例では、図７に示すように、切れ刃を揃えた粒度
６０００〜２００００の微細砥粒砥石２１を用い、クー
ラント２４で研削液を吹き付けながら、回転軸２３に固
定された磁気ヘッド２２を加工量５０〜２００ｎｍ程度
で精密研削することにより目的の形状を得る。

【００３４】本実施形態によれば、端ダレ部分のダレ幅
を精度良く調整することができる。

【００３５】次に、本発明の第３の実施形態を図８を参
照して説明する。

【００３６】本実施形態では、上記端ダレ部分の創成工
程において、遊離砥粒と金属定盤とによる加工方法を用
いている。すなわち、端ダレを創成するために、図８に
示すように、錫定盤２６の上で０．２５μｍのダイヤモ
ンド砥粒２５を分散させた界面活性剤を滴下しながら、
研磨圧力として４０００Ｐａを付加した磁気ヘッド４
を、ダレの必要な端部に対して垂直な方向だけに５０ｍ
／ｍｉｎの相対運動をさせながら研磨する。このとき、
ダイヤモンド砥粒２５は磁気ヘッド４の端部によって錫
定盤２６に埋め込まれながら研磨されるので、端部から
の距離に応じて加工量が変化する。

【００３７】本実施形態によれば、錫定盤２６の表面部
分の錫の塑性変形により、上記数１であらわされるか、
あるいは、少なくともその一部が近似的に表されるよう
な断面形状を得ることができる。

【００３８】次に、本発明の第４の実施形態を図９を参
照して説明する。

【００３９】本実施形態は軟質研磨定盤を用いた加工法
である。本実施形態では、図９に示すように、０．２５
μｍのダイヤモンド砥粒を分散させたYoung率が０．７
ＧＰａ程度の固定砥粒砥石２７を作成する。この研磨定
盤は、錫のような金属粉に、ポリビニルアルコール、フ
ェノール樹脂、ポリイミドなどの合成樹脂を２５〜３５
％混入させ、これを焼成して固めることにより作成され
る。この定盤上で、潤滑剤を滴下しながら研磨圧力とし
て４０００Ｐａを付加した磁気ヘッド４を、ダレの必要
な端部に対して垂直な方向だけに５０ｍ／ｍｉｎの相対
運動をさせながら研磨する。

【００４０】本実施形態の方法によれば、砥粒は定盤２
７の弾性によって上下に動くので、磁気ヘッド４の端部
にダレを創成することができる。

【００４１】なお、本実施形態では、Young率が０．７
ＧＰａ程度の固定砥粒砥石２７を用いた例を示したが、
一般に、Young率が１０ＧＰａ以下の研磨定盤あるいは
固定砥粒砥石を用いても、本実施形態と類似の効果を得
ることができる。

【００４２】次に、本発明の第５の実施形態を図１０を
参照して説明する。

【００４３】本実施形態は多層研磨定盤による加工法を
用いている。本実施形態では、図１０に示すように、通
常の金属定盤２９をまず平坦にして、この上に液状の合
成樹脂をスピンコート法を用いて厚さ１μｍ程度の膜２
８を形成する。これを切削によって平坦にし、修正リン
グを用いて平均粒径０．５μｍの砥粒を埋め込む。これ
を用いて加工を行うことで、研磨圧により定盤形状が変
形して、磁気ヘッド４に端ダレを創成することができ
る。

【００４４】本実施形態によれば、積層膜２８の厚さを
制御することにより、磁気ヘッド４に形成されるダレ形
状を変化させることができる。具体的には、積層膜２８
の厚さを厚くすることで、ダレ幅が大きくなり、ダレの
形状曲線の曲率半径が大きくなる。

【００４５】なお、本実施形態では砥粒が埋め込まれて
いる積層膜が形成された定盤について述べたが、本発明
では、以下の条件が満足されていれば、積層膜に砥粒が
必ずしも埋め込まれている必要は無い。すなわち本発明
では、通常の定盤上に、それに比べて１ＧＰａ以上のYo
ung率の差がある異種材質を複数回積層して構成した定
盤あるいは固定砥粒砥石を用いることが望ましく、この
構成によって、本実施形態と同様な効果を得ることがで
きる。ここで、積層膜の最上層の膜厚は１０μｍ以下で
あることが望ましい。

【００４６】次に、本発明の第６の実施形態を図１１を
参照して説明する。

【００４７】本実施形態は被研磨体を弾性体で保持する
研磨定盤による加工法である。本実施形態では、図１１
に示すように、通常の金属定盤３０を用いた機械研磨
で、被研磨体である磁気ヘッド４を保持冶具１３で保持
する際に、合成ゴム１４を介して保持を行ないながら研
磨を行う。

【００４８】本実施形態によれば、定盤法線方向に働く
研磨圧と移動接線方向に働く研磨抵抗力の合力により、
弾性体である合成ゴム１４が変形し、磁気ヘッド４の端
部でダレを発生する。これによって例えば図４に示すよ
うな形状を備える磁気ヘッドを製造することができる。

【００４９】なお、本実施形態では合成ゴム１４を用い
た例を示したが、これに限らず他の弾性体から構成され
た部材を用いてももちろん構わない。

【００５０】次に、本発明の第７の実施形態を図１２を
参照して説明する。

【００５１】本実施形態では流体により被研磨体を保持
する研磨定盤を用いている。本実施形態では、図１２に
示すように、通常の金属定盤３０を用いた機械研磨で、
被研磨体である磁気ヘッド４をテンプレート３２によっ
て横ずれしないようにして保持すると共に、このテンプ
レート３２に設けられた空気通路３１を通過する空気に
よって磁気ヘッド４に研磨圧を加えた状態で研磨を行
う。ここでの空気圧は、ゲージ圧で０．１〜０．５ＭＰ
ａ程度付加する。

【００５２】本実施形態によれば、研磨時の研磨方向が
変化するとき、被研磨体である磁気ヘッド４が僅かに動
き、端ダレが発生する。これによって、例えば図４に示
すような目的の形状を得ることができる。

【００５３】なお、本実施形態では磁気ヘッド４に研磨
圧力を加えるために空気を用いたが、研磨の条件が許せ
ば他の種類のガスや流体などを用いても良い。

【００５４】以上説明したように本発明の各実施形態に
より製造された磁気ヘッドによれば、該磁気ヘッドの信
号検出部であるヘッド素子部と記録媒体である磁気ディ
スクとの距離を低減できるので、記録密度を向上させる
ことが可能となる。また、本発明による磁気ヘッドにお
いては、磁気ディスクに近接している部分がダレ形状に
なっているため、該磁気ヘッドが磁気ディスクに偶発的
に接触したときに磁気ディスク及び磁気ヘッドの損傷を
抑えることができ、さらに、再生信号に接触時の雑音が
入ることを低減できる。また、磁気ヘッドと磁気ディス
クの粘着も発生しにくくなる。

【００５５】

【発明の効果】本発明によれば、信頼性の低下を招くこ
となく、記録密度の向上を図ることができる磁気ヘッド
及びその製造方法を提供することができる。さらに、本
発明によれば、接触型の磁気ヘッドでは、摺動時に磁気
ディスクを傷つける可能性を小さくすることができる磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することができる。

【００５６】さらに、本発明によれば、磁気ヘッドの素
子部に損傷を与えることなく、磁気ヘッドが動作する状
態での磁気ヘッドの最下端に対して、当該素子の下端部
あるいはその直下の部分を近づけると共に、磁気ディス
クに対して障害を与えないような最下端部分の形状を備
える、磁気ヘッドおよびその製造方法を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の対象となる磁気ディスク装置の概略構
成を示す斜視図。

【図２】浮上型磁気ヘッドの動作時の浮上姿勢を示す説
明図。

【図３】接触型磁気ヘッドの動作時の姿勢を示す説明
図。

【図４】本発明による磁気ヘッドの断面形状を示す説明
図。

【図５】第１の実施形態でのテープ研磨による加工法を
示す説明図。

【図６】第１の実施形態での固定砥粒による研磨法を示
す斜視図。

【図７】第２の実施形態での研削による加工法を示す説
明図。

【図８】第３の実施形態での遊離砥粒と金属定盤による
加工法を示す説明図。

【図９】第４の実施形態での軟質研磨定盤による加工法
を示す説明図。

【図１０】第５の実施形態での多層研磨定盤による加工
法を示す説明図。

【図１１】第６の実施形態での弾性体に用いた研磨定盤
による加工法を示す説明図。

【図１２】第７の実施形態での流体による研磨定盤によ
る加工法を示す説明図。

【符号の説明】

１磁気ヘッド（スライダー）（下側：浮上面）２ジンバル３磁気ディスク４磁気ヘッド（断面）５磁気ヘッド素子部６浮上量７傾き面８磁気ディスク（断面）９浮上面１０端ダレ１１ダレ幅調整用研磨代１２断面形状の近似曲線１３保持治具１４弾性体１５磁気ヘッドを並べたもの１６研磨テープ１７砥粒を含まない潤滑液１８固定砥粒定盤１９修正リング２０磁気ヘッドを固定した研磨治具２１砥石２２磁気ヘッド２３回転軸２４クーラント２５埋め込まれる砥粒２６金属研磨定盤２７軟質定盤２８，２９ヤング率の異なる材質からなる研磨定盤３０研磨定盤３１空気通路３２テンプレート。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者脇義晴神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気ディスクの情報の読み取りあるいは書
き込みを行なうための磁気ヘッドの製造方法において、前記磁気ヘッドが磁気ディスクに対して傾斜して情報の
読み書きを行う姿勢にあるときに、少なくとも前記磁気
ディスクに最も近接する１辺の角部を除去する、端ダレ
部を創成する工程を少なくとも含むことを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
【請求項２】磁気ディスクの情報の読み書きを行なうた
めの読み取り素子および書き込み素子のうち少なくとも
一方を備えるヘッド素子部を有する磁気ヘッドの製造方
法において、前記磁気ヘッドが磁気ディスクに対して傾斜しながら浮
上もしくは接触して情報の読み書きを行う姿勢にあると
きに、前記磁気ヘッドの前記磁気ディスクに対向する面
で、前記ヘッド素子部よりも前記磁気ディスクに近接し
て前記磁気ヘッドの最下端に相当する部分が除去される
ように端ダレ部を創成する工程を少なくとも含むことを
特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】請求項２において、前記端だれ部の創成工程の後に、前記磁気ヘッドの前記
磁気ディスクに対向する面を再度平坦に研磨して、前記
端ダレ部の幅を制御する工程をさらに含むことを特徴と
する磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】請求項２または３において、前記端ダレ部の創成工程で除去された部分には、前記ヘ
ッド素子部の下端が含まれていないことを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
【請求項５】請求項２または３において、前記端ダレ部の形状は、前記磁気ディスクとの相対運動
方向に平行でかつ前記磁気ディスクの回転面に垂直な面
により、前記ヘッド素子部を通るように切断された前記
磁気ヘッドの断面上で、定数Ａ、Ｂ、Ｃを用いて少なく
とも近似的に、ｙ＝ｆ（ｘ）＝Ａ＋Ｂ・ＥＸＰ（−Ｃ・ｘ）によって表されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項６】請求項２または３において、前記端だれ部の形状は、前記磁気ディスクとの相対運動
方向に平行でかつ前記磁気ディスクの回転面に垂直な面
により、前記ヘッド素子部を通るように切断された前記
磁気ヘッドの断面上で、定数Ａ、Ｂ、Ｃを用いて少なく
とも近似的に、ｙ＝ｆ（ｘ）＝Ａ＋Ｂ・ＥＸＰ（−Ｃ・ｘ²) によって表されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項７】請求項１または２において、前記端ダレ部を創成する工程を、テープ研磨で行うこと
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】請求項３において、前記端ダレ部の幅を制御する工程を、遊離砥粒と金属定
盤によるラップで行うことを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。
【請求項９】請求項１または２において、前記端ダレ部を創成する工程を、前記磁気ヘッドを被研
磨体として、その被研磨体が僅かに揺動可能であるよう
に保持した状態での機械研磨により行うことを特徴とす
る磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１０】請求項９において、前記機械研磨の際には、前記磁気ヘッドが弾性体を介し
て保持されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１１】請求項９において、前記機械研磨の際には、流体の圧力によって前記磁気ヘ
ッドに研磨圧を加えることを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。
【請求項１２】請求項１または２において、前記端ダレ部を創成する工程を、Young率が１０ＧＰａ
以下である研磨定盤および固定砥粒砥石のいずれかを用
いて研磨することにより行うことを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法。
【請求項１３】請求項１または２において、前記端ダレ部を創成する工程を、研磨定盤または固定砥
粒砥石の表面に、それとYoung率の差が１ＧＰａ以上で
ある異種材質を複数回積層したものを用いて研磨するこ
とにより行うことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１４】請求項１３において、研磨定盤または固定砥粒砥石の表面に形成された積層膜
の最上層の厚さが１０μｍ以下であることを特徴とする
磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１５】請求項１〜１４のいずれかの製造方法で
製造されたことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項１６】磁気ディスクの情報の読み取りあるいは
書き込みを行なうための磁気ヘッドにおいて、前記磁気ヘッドが磁気ディスクに対して傾斜して情報の
読み書きを行う姿勢にあるときに、前記磁気ディスクに
最も近接する１辺の角部が除去された端ダレ部を備える
ことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項１７】磁気ディスクの情報の読み書きを行なう
ための読み取り素子および書き込み素子のうち少なくと
も一方を備えるヘッド素子部を有する磁気ヘッドにおい
て、前記磁気ヘッドが磁気ディスクに対して傾斜しながら浮
上もしくは接触して情報の読み書きを行う姿勢にあると
きに、前記磁気ヘッドの前記磁気ディスクに対向する面
で、前記ヘッド素子部よりも前記磁気ディスクに近接し
て前記磁気ヘッドの最下端に相当する部分が除去された
端ダレ部を備えることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項１８】回転する円盤状の磁気ディスクの情報の
読み書きを行なうためのヘッド素子部を備える磁気ヘッ
ドと、前記磁気ヘッドを前記磁気ディスクに対して傾斜
しながら浮上もしくは接触して情報の読み書きを行う姿
勢に保持するためのジンバル機構とを備える磁気ディス
ク装置において、前記磁気ヘッドは請求項１〜１４のいずれかの製造方法
で製造されたものであり、前記ジンバル機構は、前記磁気ヘッドの端ダレ部が、当
該磁気ヘッド全体中の最下端に位置するように保持する
ことが可能であることを特徴とする磁気ディスク装置。