JPH0737205A - ヘッド接触式磁気ディスク装置 - Google Patents
ヘッド接触式磁気ディスク装置Info
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- JPH0737205A JPH0737205A JP5182283A JP18228393A JPH0737205A JP H0737205 A JPH0737205 A JP H0737205A JP 5182283 A JP5182283 A JP 5182283A JP 18228393 A JP18228393 A JP 18228393A JP H0737205 A JPH0737205 A JP H0737205A
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- magnetic
- magnetic head
- head
- lubricating film
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】磁気ヘッドと磁気ディスク表面に潤滑膜を形成
した磁気ディスクとを接触させた状態で相対運動させ、
高記録密度の情報の記録読み出しを行なう高記録容量の
磁気ディスク装置を提供する。また、磁気ヘッドが常に
磁気ディスク表面を摺動するための、磁気ヘッドの形状
や材質、磁気ディスク表面に形成する潤滑膜についての
技術を提供する。 【構成】摺動面が所定の曲率を有する磁気ヘッドをバネ
を介してアームで支持し、潤滑膜を形成した磁気ディス
ク面上に押しつけ、磁気ディスクの回転により潤滑膜が
液化し、接触状態で情報を記録し読み出しをする。 【効果】磁気ヘッドとディスク表面との距離を大幅の低
減でき、磁気ディスクの記録密度を顕著に増大でき、磁
気ディスク装置を大容量化できる。
した磁気ディスクとを接触させた状態で相対運動させ、
高記録密度の情報の記録読み出しを行なう高記録容量の
磁気ディスク装置を提供する。また、磁気ヘッドが常に
磁気ディスク表面を摺動するための、磁気ヘッドの形状
や材質、磁気ディスク表面に形成する潤滑膜についての
技術を提供する。 【構成】摺動面が所定の曲率を有する磁気ヘッドをバネ
を介してアームで支持し、潤滑膜を形成した磁気ディス
ク面上に押しつけ、磁気ディスクの回転により潤滑膜が
液化し、接触状態で情報を記録し読み出しをする。 【効果】磁気ヘッドとディスク表面との距離を大幅の低
減でき、磁気ディスクの記録密度を顕著に増大でき、磁
気ディスク装置を大容量化できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高記録容量の磁気ディ
スク装置、特に高記録密度化を目的として磁気ディスク
面上の記録媒体と磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子
との距離を小さくするため、磁気ヘッドと磁気ディスク
とを接触状態で相対運動させ情報を記録し読み出すよう
にした磁気ディスク装置に関するものである。
スク装置、特に高記録密度化を目的として磁気ディスク
面上の記録媒体と磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子
との距離を小さくするため、磁気ヘッドと磁気ディスク
とを接触状態で相対運動させ情報を記録し読み出すよう
にした磁気ディスク装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】コンピュータやワードプロセッサの記録
装置として磁気ディスク装置が常用されているが、ユー
ザからは更なる記録容量の増大化、小型化が要求されて
いる。この磁気ディスク装置は、大別すると複数の磁気
ディスクを持つ磁気ディスク部および磁気ヘッドをそれ
ぞれ固着した複数のアームを持つ磁気ヘッドアセンブリ
で構成されている。図12の概略動作説明図で示すよう
に、従来、上記磁気ディスク装置においては、スパッタ
リング・めっき・イオンプレーティングなどの薄膜形成
技術によって磁性薄膜を形成した磁気ディスク32の上
に磁気ヘッド33を浮上させ、磁気ディスク32の面上
に情報を記録しそして読み出す方法が用いられている。
上記磁気ヘッド33の浮上原理は、磁気ディスク32の
回転によって発生する磁気ディスク32の表面と磁気ヘ
ッド33との間に介在する空気の動圧を利用している。
従って、磁気ディスク32の表面からの磁気ヘッド33
の浮上間隙は、磁気ディスク32の回転数すなわち磁気
ヘッド33と磁気ディスク32との相対速度Vにより影
響を受け、また磁気ヘッド33を磁気ディスク32の表
面に押しつけるアーム35が持つバネ36の強さや磁気
ヘッド33の摺動面34の形状などによって変化する。
装置として磁気ディスク装置が常用されているが、ユー
ザからは更なる記録容量の増大化、小型化が要求されて
いる。この磁気ディスク装置は、大別すると複数の磁気
ディスクを持つ磁気ディスク部および磁気ヘッドをそれ
ぞれ固着した複数のアームを持つ磁気ヘッドアセンブリ
で構成されている。図12の概略動作説明図で示すよう
に、従来、上記磁気ディスク装置においては、スパッタ
リング・めっき・イオンプレーティングなどの薄膜形成
技術によって磁性薄膜を形成した磁気ディスク32の上
に磁気ヘッド33を浮上させ、磁気ディスク32の面上
に情報を記録しそして読み出す方法が用いられている。
上記磁気ヘッド33の浮上原理は、磁気ディスク32の
回転によって発生する磁気ディスク32の表面と磁気ヘ
ッド33との間に介在する空気の動圧を利用している。
従って、磁気ディスク32の表面からの磁気ヘッド33
の浮上間隙は、磁気ディスク32の回転数すなわち磁気
ヘッド33と磁気ディスク32との相対速度Vにより影
響を受け、また磁気ヘッド33を磁気ディスク32の表
面に押しつけるアーム35が持つバネ36の強さや磁気
ヘッド33の摺動面34の形状などによって変化する。
【0003】従来、この磁気ディスク32の表面からの
磁気ヘッド33の浮上間隙は、0.1〜0.2μmと非
常に小さい間隙である。このため磁気ヘッド33を安定
して磁気ディスク32の表面上に浮上させるために、磁
気ディスク32の表面には非常に高い表面粗さと平面度
が要求される。上記要求を満足させるために、これまで
に(1)磁気ディスク用基板の材質や高精度平面加工技
術の開発、(2)磁気ディスク用基板に薄膜を形成した
磁気ディスクの表面を平滑化する表面処理技術の開発、
(3)磁気ヘッドの追従性を改善する支持系の開発など
が進められてきている。例えば、磁気ディスク用基板に
ついて説明すると、図13に示すように、アルミニウム
合金基板表面に厚さ数10μmのめっき(例えばNi−
P:ニッケル−燐めっき以後同じ)を施した基板31
を、両面同時加工機を用い、この上下定盤20、21に
弾性砥石を保持した工具により両面研削し、更に上下定
盤20、21に不織布の研磨クロスを張付け種々の粒度
の砥粒を用いて両面研磨し、表面粗さ0.5nmRa〜
1.8nmRa、3.2nmRmax〜8.5nmRm
axの範囲に仕上げたものが使用されている。
磁気ヘッド33の浮上間隙は、0.1〜0.2μmと非
常に小さい間隙である。このため磁気ヘッド33を安定
して磁気ディスク32の表面上に浮上させるために、磁
気ディスク32の表面には非常に高い表面粗さと平面度
が要求される。上記要求を満足させるために、これまで
に(1)磁気ディスク用基板の材質や高精度平面加工技
術の開発、(2)磁気ディスク用基板に薄膜を形成した
磁気ディスクの表面を平滑化する表面処理技術の開発、
(3)磁気ヘッドの追従性を改善する支持系の開発など
が進められてきている。例えば、磁気ディスク用基板に
ついて説明すると、図13に示すように、アルミニウム
合金基板表面に厚さ数10μmのめっき(例えばNi−
P:ニッケル−燐めっき以後同じ)を施した基板31
を、両面同時加工機を用い、この上下定盤20、21に
弾性砥石を保持した工具により両面研削し、更に上下定
盤20、21に不織布の研磨クロスを張付け種々の粒度
の砥粒を用いて両面研磨し、表面粗さ0.5nmRa〜
1.8nmRa、3.2nmRmax〜8.5nmRm
axの範囲に仕上げたものが使用されている。
【0004】ここで更に図14を使用して表面粗さの問
題を説明する。磁気ディスク装置においては、図14
(a)に示すように磁気ディスク装置の停止時には磁気
ヘッド33が磁気ディスク32の表面上にアームが持つ
バネ(図示していない)によって押しつけられ接触した
状態であり、磁気ディスク装置の稼働により図14
(b)に示すように磁気ヘッド33が磁気ディスク32
の表面上を滑走し、更には図14(c)に示すように磁
気ディスク32の表面上を磁気ヘッド33が浮上する運
動機構(Contact Start Stop機構と
言われるもので、以後CSS機構と言う)により磁気ヘ
ッド33が浮上する。然し乍ら、この場合磁気ディスク
32の表面が上記した表面粗さの平滑面であると、鏡面
である磁気ヘッドの摺動面34と磁気ディスク32の表
面とが吸着を生じ、稼働時に磁気ディスク32が回転不
能になったり、磁気ヘッド33が破損してしまうという
問題がある。
題を説明する。磁気ディスク装置においては、図14
(a)に示すように磁気ディスク装置の停止時には磁気
ヘッド33が磁気ディスク32の表面上にアームが持つ
バネ(図示していない)によって押しつけられ接触した
状態であり、磁気ディスク装置の稼働により図14
(b)に示すように磁気ヘッド33が磁気ディスク32
の表面上を滑走し、更には図14(c)に示すように磁
気ディスク32の表面上を磁気ヘッド33が浮上する運
動機構(Contact Start Stop機構と
言われるもので、以後CSS機構と言う)により磁気ヘ
ッド33が浮上する。然し乍ら、この場合磁気ディスク
32の表面が上記した表面粗さの平滑面であると、鏡面
である磁気ヘッドの摺動面34と磁気ディスク32の表
面とが吸着を生じ、稼働時に磁気ディスク32が回転不
能になったり、磁気ヘッド33が破損してしまうという
問題がある。
【0005】この問題解決のため、上記めっき基板31
の研磨面には、図15に示すように更に微細な砥粒の研
磨テープ22をコンタクトローラ23で押しつけ、めっ
き基板31の円周方向に図16に示すような凹凸の大き
さが数十nmの微細な溝を形成するいわゆるテクスチャ
加工が施される。これは、特開昭59−82626号公
報、特開昭62−203748号公報に記載されている
ように、テクスチャ加工することによって表面粗さを4
〜8nmRaに粗くし、基板表面に微小な凹凸を形成す
るものである。この加工により、磁気ヘッドと磁気ディ
スクとの関係は、CSS機構における磁気ヘッド吸着を
回避し、更には米国特許4,735,840号公報に記
載されているように、磁気ディスク表面に形成する磁性
媒体の磁気特性を改善する。
の研磨面には、図15に示すように更に微細な砥粒の研
磨テープ22をコンタクトローラ23で押しつけ、めっ
き基板31の円周方向に図16に示すような凹凸の大き
さが数十nmの微細な溝を形成するいわゆるテクスチャ
加工が施される。これは、特開昭59−82626号公
報、特開昭62−203748号公報に記載されている
ように、テクスチャ加工することによって表面粗さを4
〜8nmRaに粗くし、基板表面に微小な凹凸を形成す
るものである。この加工により、磁気ヘッドと磁気ディ
スクとの関係は、CSS機構における磁気ヘッド吸着を
回避し、更には米国特許4,735,840号公報に記
載されているように、磁気ディスク表面に形成する磁性
媒体の磁気特性を改善する。
【0006】上記したような問題があるにもかかわら
ず、磁気ディスク装置では、記録容量を増大させるため
磁気ヘッドの磁気ディスク表面からの浮上高さは非常に
小さくなり、0.2μm以下から更に0.1μm以下が
要求され、また記録および読み出しの速さであるアクセ
ス時間を短くするため磁気ディスクの回転数を従来の3
600rpmより高くすることが要求されている。この
ことから、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面上を安定し
て浮上し、磁気ディスク装置の信頼性を向上させるため
には、磁気ディスクの表面の微小な凹凸、特に微小突起
の高さを均一に制御することが大きな課題であった。
ず、磁気ディスク装置では、記録容量を増大させるため
磁気ヘッドの磁気ディスク表面からの浮上高さは非常に
小さくなり、0.2μm以下から更に0.1μm以下が
要求され、また記録および読み出しの速さであるアクセ
ス時間を短くするため磁気ディスクの回転数を従来の3
600rpmより高くすることが要求されている。この
ことから、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面上を安定し
て浮上し、磁気ディスク装置の信頼性を向上させるため
には、磁気ディスクの表面の微小な凹凸、特に微小突起
の高さを均一に制御することが大きな課題であった。
【0007】これまで、高記録密度化を目的として、磁
気ヘッドの磁気ディスク表面からの浮上高さを小さくす
るため、めっき基板31に下地膜(例えばCr:クロ
ム)、磁性膜(例えばCo−Cr:コバルト−クロ
ム)、保護膜(例えばC:カーボン)を形成した磁気デ
ィスクの表面を研磨テープやヘッドバニシュを用いて表
面加工し、微小突起の低減を図ってきた。またテクスチ
ャ加工した表面粗さについても、浮上特性改善の観点か
ら、4nmRa以下から両面研磨した表面粗さに近い2
nmRa以下の磁気ディスクに対して磁気ヘッドの浮上
特性試験やCSS特性試験を行なった結果次のことがわ
かった。 (1)テクスチャ加工に用いる砥粒の粒径を小さくする
と加工面の表面粗さは小さくなり、磁気ヘッド浮上特性
は改善される。然し乍ら、加工面のスクラッチ等の加工
欠陥を皆無にすることはできず、これが磁気ヘッド浮上
性を劣化させる最大の要因である。また、テクスチャ加
工して表面粗さを小さくすると、磁気ヘッド吸着やCS
S機構での磁気ヘッドに対する抵抗が大きくなり、磁気
ヘッド損傷や磁気ヘッドクラッシュを生じやすくなる。
気ヘッドの磁気ディスク表面からの浮上高さを小さくす
るため、めっき基板31に下地膜(例えばCr:クロ
ム)、磁性膜(例えばCo−Cr:コバルト−クロ
ム)、保護膜(例えばC:カーボン)を形成した磁気デ
ィスクの表面を研磨テープやヘッドバニシュを用いて表
面加工し、微小突起の低減を図ってきた。またテクスチ
ャ加工した表面粗さについても、浮上特性改善の観点か
ら、4nmRa以下から両面研磨した表面粗さに近い2
nmRa以下の磁気ディスクに対して磁気ヘッドの浮上
特性試験やCSS特性試験を行なった結果次のことがわ
かった。 (1)テクスチャ加工に用いる砥粒の粒径を小さくする
と加工面の表面粗さは小さくなり、磁気ヘッド浮上特性
は改善される。然し乍ら、加工面のスクラッチ等の加工
欠陥を皆無にすることはできず、これが磁気ヘッド浮上
性を劣化させる最大の要因である。また、テクスチャ加
工して表面粗さを小さくすると、磁気ヘッド吸着やCS
S機構での磁気ヘッドに対する抵抗が大きくなり、磁気
ヘッド損傷や磁気ヘッドクラッシュを生じやすくなる。
【0008】(2)テクスチャ加工面に生じるスクラッ
チなどの加工欠陥は、磁気ヘッドで情報を読み出すとき
のエラー要因となる。 (3)テクスチャ加工面に生じるスクラッチの発生要因
は、テクスチャ加工に用いる砥粒の粒度のばらつきや凝
集した粗大粒子の影響が大きい。これは、砥粒の粒径が
小さくなるほど顕著になり、テクスチャ加工面の表面粗
さが小さくなるほど、スクラッチの影響の度合いが大き
くなる。 (4)両面研磨しためっき基板面にそれぞれの薄膜を形
成した磁気ディスクでは、磁気特性を表わす磁気保持力
Hcが小さく、また磁気異方性(磁気ディスクの円周方
向の保持力に対する半径方向の保持力との比)がほとん
ど無く、不十分であり、しかも前述したように磁気ヘッ
ド吸着を生じ、磁気ディスク装置の信頼性に問題があ
る。
チなどの加工欠陥は、磁気ヘッドで情報を読み出すとき
のエラー要因となる。 (3)テクスチャ加工面に生じるスクラッチの発生要因
は、テクスチャ加工に用いる砥粒の粒度のばらつきや凝
集した粗大粒子の影響が大きい。これは、砥粒の粒径が
小さくなるほど顕著になり、テクスチャ加工面の表面粗
さが小さくなるほど、スクラッチの影響の度合いが大き
くなる。 (4)両面研磨しためっき基板面にそれぞれの薄膜を形
成した磁気ディスクでは、磁気特性を表わす磁気保持力
Hcが小さく、また磁気異方性(磁気ディスクの円周方
向の保持力に対する半径方向の保持力との比)がほとん
ど無く、不十分であり、しかも前述したように磁気ヘッ
ド吸着を生じ、磁気ディスク装置の信頼性に問題があ
る。
【0009】ここで従来の磁気ヘッド33の形状を説明
する。磁気ヘッド33は、図11(b)に示すように磁
気ディスク32の回転によるアーム35に固着された磁
気ヘッド33と磁気ディスク32間に介在する空気の流
れから生じる動圧によって浮上する。この浮上作用を安
定化させるため、図11(a)に示すように、磁気ヘッ
ド33を構成するセラミックス等からなるスライダー3
9の磁気ディスク32に対する面には、例えば幅が約4
00μm、長さが約4mmの浮上面が形成されている。
また、この浮上面には、摺動面34の部分に空気が流れ
込み易いように空気の流入部36が形成されている。な
お、磁気ヘッド素子37は、スライダー39の空気流入
部36と反対の側面に設けられている。上記浮上面を形
成した磁気ヘッド33が、アーム35が持つバネ36に
よって磁気ディスク32の表面に押しつけられ、磁気デ
ィスク32の回転による浮上力とアーム35が持つバネ
6による押しつけ力との釣合を制御して、浮上間隙が
0.1μm以下の非常に小さな間隙を形成するようにし
ている。
する。磁気ヘッド33は、図11(b)に示すように磁
気ディスク32の回転によるアーム35に固着された磁
気ヘッド33と磁気ディスク32間に介在する空気の流
れから生じる動圧によって浮上する。この浮上作用を安
定化させるため、図11(a)に示すように、磁気ヘッ
ド33を構成するセラミックス等からなるスライダー3
9の磁気ディスク32に対する面には、例えば幅が約4
00μm、長さが約4mmの浮上面が形成されている。
また、この浮上面には、摺動面34の部分に空気が流れ
込み易いように空気の流入部36が形成されている。な
お、磁気ヘッド素子37は、スライダー39の空気流入
部36と反対の側面に設けられている。上記浮上面を形
成した磁気ヘッド33が、アーム35が持つバネ36に
よって磁気ディスク32の表面に押しつけられ、磁気デ
ィスク32の回転による浮上力とアーム35が持つバネ
6による押しつけ力との釣合を制御して、浮上間隙が
0.1μm以下の非常に小さな間隙を形成するようにし
ている。
【0010】従って、記録容量を増大させる磁気ディス
ク装置では、磁気ディスクの高記録密度化を目的とし
て、さらに磁気ヘッド浮上高さを小さくし、ビットセル
(記録情報の単位)を小さくする必要がある。然し乍
ら、上記したように、磁気ディスク32の回転に伴う動
圧作用と、アーム35の持つバネ36の押しつけ力の制
御による空気膜を介した浮上間隙を制御すること、磁気
ディスク32の表面を均一にナノメータの精度で滑らか
に且つ平面に形成すること、更に磁気ヘッド33と磁気
ディスク32間に塵埃などの浮上性に影響する異物が介
在しないように環境を清浄化することなど要件が多く、
磁気ヘッド33と磁気ディスク32とを狭い浮上間隙で
安定して相対運動させることは非常に難しい。
ク装置では、磁気ディスクの高記録密度化を目的とし
て、さらに磁気ヘッド浮上高さを小さくし、ビットセル
(記録情報の単位)を小さくする必要がある。然し乍
ら、上記したように、磁気ディスク32の回転に伴う動
圧作用と、アーム35の持つバネ36の押しつけ力の制
御による空気膜を介した浮上間隙を制御すること、磁気
ディスク32の表面を均一にナノメータの精度で滑らか
に且つ平面に形成すること、更に磁気ヘッド33と磁気
ディスク32間に塵埃などの浮上性に影響する異物が介
在しないように環境を清浄化することなど要件が多く、
磁気ヘッド33と磁気ディスク32とを狭い浮上間隙で
安定して相対運動させることは非常に難しい。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術では、
磁気ディスク装置の高記録容量化に対し、磁気ヘッドの
低浮上安定性及びCSS機構の特性の改善、また磁気特
性の向上のための浮上高さ0.1μm以下の浮上間隙の
達成に対して砥粒径を小さくしたテクスチャ面の表面粗
さや表面形状を改善した基板の適用、基板に薄膜を形成
した後ヘッドバニシュなどの微小突起の低減策、磁気ヘ
ッドを固着したアームのバネ構造などの改善があるが、
いずれの改善策によっても安定した浮上特性を達成する
ためには不十分である。本発明は、磁気ディスク装置の
高記録密度化に対し、高記録密度を得るために必要とす
る、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子と磁気ディス
クの記録媒体面との距離を達成することを目的としてい
る。
磁気ディスク装置の高記録容量化に対し、磁気ヘッドの
低浮上安定性及びCSS機構の特性の改善、また磁気特
性の向上のための浮上高さ0.1μm以下の浮上間隙の
達成に対して砥粒径を小さくしたテクスチャ面の表面粗
さや表面形状を改善した基板の適用、基板に薄膜を形成
した後ヘッドバニシュなどの微小突起の低減策、磁気ヘ
ッドを固着したアームのバネ構造などの改善があるが、
いずれの改善策によっても安定した浮上特性を達成する
ためには不十分である。本発明は、磁気ディスク装置の
高記録密度化に対し、高記録密度を得るために必要とす
る、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子と磁気ディス
クの記録媒体面との距離を達成することを目的としてい
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】磁気ヘッドを構成する磁
気ヘッド素子と磁気ディスクの記録媒体面との距離をも
っとも近づける手段として、磁気ヘッドを磁気ディスク
の表面に接触させた状態で情報を記録し読み出す手段が
必要である。この磁気ヘッドと磁気ディスクとを接触さ
せた状態で磁気ディスク装置としての機能を達成するた
めには、以下の課題がある。まず、(1)磁気ディスク
と磁気ヘッドが接触した状態で相対摺動させるため、従
来の磁気ヘッドの浮上面形状では摺動抵抗が大きくな
り、磁気ディスクの回転が不能となる。このため、摺動
抵抗を小さくする必要がある。 (2)磁気ディスクの回転数が4000〜6000rp
mの場合に、従来の磁気ヘッドの形状ではバネによる押
しつけ力(従来0.08〜0.1N)を増大させても磁
気ディスク面から離れる状態となる。また磁気ディスク
の表面形状によっては瞬間的に離れてしまい、この磁気
ヘッドを構成する磁気ヘッド素子と磁気ディスクとが離
れると情報の読み書きが不十分となり、一般にドロップ
アウトと呼ぶ欠陥が生じる。そこで磁気ヘッドが安定し
て磁気ディスク面上を接触した状態で相対運動させる必
要がある。 (3)磁気ヘッドは常時磁気ディスク面上を摺動するた
め、摺動抵抗による発熱、また摩耗が従来のCSS機構
と比較して大きくなると考えられる。そこで、発熱や摩
耗が生じにくい磁気ヘッド材質や形状、磁気ディスク表
面性状を必要とする。
気ヘッド素子と磁気ディスクの記録媒体面との距離をも
っとも近づける手段として、磁気ヘッドを磁気ディスク
の表面に接触させた状態で情報を記録し読み出す手段が
必要である。この磁気ヘッドと磁気ディスクとを接触さ
せた状態で磁気ディスク装置としての機能を達成するた
めには、以下の課題がある。まず、(1)磁気ディスク
と磁気ヘッドが接触した状態で相対摺動させるため、従
来の磁気ヘッドの浮上面形状では摺動抵抗が大きくな
り、磁気ディスクの回転が不能となる。このため、摺動
抵抗を小さくする必要がある。 (2)磁気ディスクの回転数が4000〜6000rp
mの場合に、従来の磁気ヘッドの形状ではバネによる押
しつけ力(従来0.08〜0.1N)を増大させても磁
気ディスク面から離れる状態となる。また磁気ディスク
の表面形状によっては瞬間的に離れてしまい、この磁気
ヘッドを構成する磁気ヘッド素子と磁気ディスクとが離
れると情報の読み書きが不十分となり、一般にドロップ
アウトと呼ぶ欠陥が生じる。そこで磁気ヘッドが安定し
て磁気ディスク面上を接触した状態で相対運動させる必
要がある。 (3)磁気ヘッドは常時磁気ディスク面上を摺動するた
め、摺動抵抗による発熱、また摩耗が従来のCSS機構
と比較して大きくなると考えられる。そこで、発熱や摩
耗が生じにくい磁気ヘッド材質や形状、磁気ディスク表
面性状を必要とする。
【0013】以上の観点から、接触した状態で磁気ヘッ
ドが磁気ディスク面上の情報を記録し読み出す磁気ディ
スクの形状や材質、さらに磁気ディスクの表面性状を形
成することが必要である。まず、摺動抵抗を小さくする
ため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触面積は少なく
する。磁気ヘッドは、球面あるいは斧型形状とし、情報
を記録読み出す磁気ヘッド素子は、情報を記録し読み出
す時に磁気ディスク面ともっとも近くなる位置に形成す
る。この時、磁気ディスクとの相対摺動による磁気ヘッ
ドの姿勢変化を考慮する。また、磁気ディスク面の形状
も、磁気ヘッドとの接触面積が少なくなるような表面形
状とする。さらに、磁気ヘッド及び磁気ディスクの表面
は、摺動抵抗が少なくなる物質で形成する。
ドが磁気ディスク面上の情報を記録し読み出す磁気ディ
スクの形状や材質、さらに磁気ディスクの表面性状を形
成することが必要である。まず、摺動抵抗を小さくする
ため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触面積は少なく
する。磁気ヘッドは、球面あるいは斧型形状とし、情報
を記録読み出す磁気ヘッド素子は、情報を記録し読み出
す時に磁気ディスク面ともっとも近くなる位置に形成す
る。この時、磁気ディスクとの相対摺動による磁気ヘッ
ドの姿勢変化を考慮する。また、磁気ディスク面の形状
も、磁気ヘッドとの接触面積が少なくなるような表面形
状とする。さらに、磁気ヘッド及び磁気ディスクの表面
は、摺動抵抗が少なくなる物質で形成する。
【0014】次に、磁気ディスクが高速回転においても
磁気ヘッドが安定して磁気ディスク面上を接触して摺動
させるため、磁気ディスクは、滑らかな表面で、高い平
面を維持する構造とし、磁気ヘッド支持のバネ系は剛性
を高くする。特に、磁気ヘッド追従性に影響するディス
クの円周方向の表面うねりにおいて、波長が数十μmか
ら数十mmの表面うねりを低減した磁気ディスク表面形
状とする。つぎに、摺動抵抗による発熱に対して、磁気
ヘッドと磁気ディスクとの界面には、潤滑膜を形成す
る。この潤滑膜は、従来の液体潤滑剤では磁気ディスク
の回転によって飛散するため長時間の信頼性に問題があ
る。そこで、磁気ヘッドが摺動していない状態では固体
であり、摺動する際に液化する潤滑剤の組成とする。こ
の液化する手段として、磁気ヘッド摺動による発熱作用
を利用する方法や、磁気ヘッド摺動トラックを液化する
手段を磁気ヘッドに設置する。また、磁気ヘッド及び磁
気ディスクは熱伝導率の高い材質を用い、それぞれの表
面構造も熱が発散するようにする。
磁気ヘッドが安定して磁気ディスク面上を接触して摺動
させるため、磁気ディスクは、滑らかな表面で、高い平
面を維持する構造とし、磁気ヘッド支持のバネ系は剛性
を高くする。特に、磁気ヘッド追従性に影響するディス
クの円周方向の表面うねりにおいて、波長が数十μmか
ら数十mmの表面うねりを低減した磁気ディスク表面形
状とする。つぎに、摺動抵抗による発熱に対して、磁気
ヘッドと磁気ディスクとの界面には、潤滑膜を形成す
る。この潤滑膜は、従来の液体潤滑剤では磁気ディスク
の回転によって飛散するため長時間の信頼性に問題があ
る。そこで、磁気ヘッドが摺動していない状態では固体
であり、摺動する際に液化する潤滑剤の組成とする。こ
の液化する手段として、磁気ヘッド摺動による発熱作用
を利用する方法や、磁気ヘッド摺動トラックを液化する
手段を磁気ヘッドに設置する。また、磁気ヘッド及び磁
気ディスクは熱伝導率の高い材質を用い、それぞれの表
面構造も熱が発散するようにする。
【0015】本発明は、上記の目的を達成するため、磁
気ヘッドが磁気ディスク表面に潤滑膜を形成した磁気デ
ィスクに接触して相対運動し、情報を記録し読み出すよ
うにしたヘッド接触式磁気ディスク装置である。また、
磁気ディスク表面に潤滑剤を塗布し潤滑膜を形成したヘ
ッド接触式磁気ディスク装置である。また、曲面形状の
摺動面を有する、あるいは斧型形状の摺動面を有する磁
気ヘッドが、磁気ディスク表面を潤滑膜を介して相対摺
動するヘッド接触式磁気ディスク装置である。また、磁
気ディスク面に形成した潤滑膜が、磁気ヘッドの摺動時
に液化し、磁気ヘッドの非摺動時には固化するヘッド接
触式磁気ディスク装置である。また、磁気ディスク面に
塗布する潤滑剤が、磁気ディスクの表面に対する結合力
より小さな結合力で磁気ヘッドと結合する潤滑剤である
ヘッド接触式磁気ディスク装置である。
気ヘッドが磁気ディスク表面に潤滑膜を形成した磁気デ
ィスクに接触して相対運動し、情報を記録し読み出すよ
うにしたヘッド接触式磁気ディスク装置である。また、
磁気ディスク表面に潤滑剤を塗布し潤滑膜を形成したヘ
ッド接触式磁気ディスク装置である。また、曲面形状の
摺動面を有する、あるいは斧型形状の摺動面を有する磁
気ヘッドが、磁気ディスク表面を潤滑膜を介して相対摺
動するヘッド接触式磁気ディスク装置である。また、磁
気ディスク面に形成した潤滑膜が、磁気ヘッドの摺動時
に液化し、磁気ヘッドの非摺動時には固化するヘッド接
触式磁気ディスク装置である。また、磁気ディスク面に
塗布する潤滑剤が、磁気ディスクの表面に対する結合力
より小さな結合力で磁気ヘッドと結合する潤滑剤である
ヘッド接触式磁気ディスク装置である。
【0016】また、磁気ディスクが潤滑剤との結合力が
大きい物質からなる表面で形成され、磁気ヘッドが潤滑
剤との結合力が磁気ディスクとの結合力より小さい物質
からなる表面で形成されたヘッド接触式磁気ディスク装
置である。また、磁気ヘッドが凸形状の曲率を有し、接
触し相対運動することにより発生する熱によって曲率半
径が変化するヘッド接触式磁気ディスク装置である。ま
た、磁気ヘッドが球形の摺動面を有し、磁気ヘッドを構
成する磁気ヘッド素子が磁気ヘッドの中央部より端部よ
りに形成されているヘッド接触式磁気ディスク装置であ
る。更には、磁気ヘッドを固着したアーム上に半導体レ
ーザ素子を有することを特徴とするヘッド接触式磁気デ
ィスク装置である。
大きい物質からなる表面で形成され、磁気ヘッドが潤滑
剤との結合力が磁気ディスクとの結合力より小さい物質
からなる表面で形成されたヘッド接触式磁気ディスク装
置である。また、磁気ヘッドが凸形状の曲率を有し、接
触し相対運動することにより発生する熱によって曲率半
径が変化するヘッド接触式磁気ディスク装置である。ま
た、磁気ヘッドが球形の摺動面を有し、磁気ヘッドを構
成する磁気ヘッド素子が磁気ヘッドの中央部より端部よ
りに形成されているヘッド接触式磁気ディスク装置であ
る。更には、磁気ヘッドを固着したアーム上に半導体レ
ーザ素子を有することを特徴とするヘッド接触式磁気デ
ィスク装置である。
【0017】
【作用】本発明の磁気ディスク装置は、磁気ヘッドが磁
気ディスク表面に潤滑膜を形成した磁気ディスクに接触
して相対運動し、情報を記録し読み出す。また、本発明
の磁気ディスク装置は、磁気ディスク表面に潤滑剤を塗
布し潤滑膜を形成し、曲面形状の摺動面を有する、ある
いは斧型形状の摺動面を有する磁気ヘッドが、磁気ディ
スク表面を潤滑膜を介して相対摺動する。また、本発明
の磁気ディスク装置は、磁気ディスク面に形成した潤滑
膜が、磁気ヘッドの摺動時に液化し、磁気ヘッドの非摺
動時には固化する。また、本発明の磁気ディスク装置
は、磁気ディスク面に塗布する潤滑剤が、磁気ディスク
の表面に対する結合力より小さな結合力で磁気ヘッドと
結合する。また、本発明の磁気ディスク装置は、磁気ヘ
ッドが凸形状の曲率を有し、接触し相対運動することに
より発生する熱によって曲率半径が変化する。また、本
発明の磁気ディスク装置は、磁気ヘッドが球形の摺動面
を有し、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子が磁気ヘ
ッドの中央部より端部寄りに形成されており、潤滑膜中
の運動により磁気ヘッド素子が磁気ディスク表面に接近
する。更には、本発明の磁気ディスク装置は、磁気ヘッ
ドを固着したアーム上に半導体レーザ素子を有し、磁気
ヘッド前方の潤滑膜をビーム照射により発熱させ液化す
る。
気ディスク表面に潤滑膜を形成した磁気ディスクに接触
して相対運動し、情報を記録し読み出す。また、本発明
の磁気ディスク装置は、磁気ディスク表面に潤滑剤を塗
布し潤滑膜を形成し、曲面形状の摺動面を有する、ある
いは斧型形状の摺動面を有する磁気ヘッドが、磁気ディ
スク表面を潤滑膜を介して相対摺動する。また、本発明
の磁気ディスク装置は、磁気ディスク面に形成した潤滑
膜が、磁気ヘッドの摺動時に液化し、磁気ヘッドの非摺
動時には固化する。また、本発明の磁気ディスク装置
は、磁気ディスク面に塗布する潤滑剤が、磁気ディスク
の表面に対する結合力より小さな結合力で磁気ヘッドと
結合する。また、本発明の磁気ディスク装置は、磁気ヘ
ッドが凸形状の曲率を有し、接触し相対運動することに
より発生する熱によって曲率半径が変化する。また、本
発明の磁気ディスク装置は、磁気ヘッドが球形の摺動面
を有し、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子が磁気ヘ
ッドの中央部より端部寄りに形成されており、潤滑膜中
の運動により磁気ヘッド素子が磁気ディスク表面に接近
する。更には、本発明の磁気ディスク装置は、磁気ヘッ
ドを固着したアーム上に半導体レーザ素子を有し、磁気
ヘッド前方の潤滑膜をビーム照射により発熱させ液化す
る。
【0018】〔実施例 1〕本発明の第1の実施例を図
1〜図4により説明する。図1は、本発明による磁気デ
ィスク装置1を示し、該磁気ディスク装置1は磁気ディ
スク用基板に磁性膜・保護膜・潤滑膜の薄膜を形成した
複数の磁気ディスク2と磁気ヘッド摺動面に保護膜を形
成し所定の曲率を有する複数の磁気ヘッド3と該磁気ヘ
ッド3をそれぞれバネを介して支持固着した複数のアー
ム5とで構成されており、磁気ディスク2の表面に磁気
ヘッド3をアーム5が持つバネで押しつけ、磁気ディス
ク2の回転によって磁気ヘッド3が磁気ディスクの表面
を接触した状態で相対運動し、磁気ディスク2の磁性膜
に情報を記録し読み出しを行なうものである。
1〜図4により説明する。図1は、本発明による磁気デ
ィスク装置1を示し、該磁気ディスク装置1は磁気ディ
スク用基板に磁性膜・保護膜・潤滑膜の薄膜を形成した
複数の磁気ディスク2と磁気ヘッド摺動面に保護膜を形
成し所定の曲率を有する複数の磁気ヘッド3と該磁気ヘ
ッド3をそれぞれバネを介して支持固着した複数のアー
ム5とで構成されており、磁気ディスク2の表面に磁気
ヘッド3をアーム5が持つバネで押しつけ、磁気ディス
ク2の回転によって磁気ヘッド3が磁気ディスクの表面
を接触した状態で相対運動し、磁気ディスク2の磁性膜
に情報を記録し読み出しを行なうものである。
【0019】上記磁気ディスク2は、図2に示すよう
に、アルミニウム円板(例えば外径65mm、内径20
mm、板厚0.88mm)11に、めっき(例えばNi
−P:ニッケル−燐めっき以後同じ)12を厚さ例えば
約5μm施し、両面研削及び両面研磨によって表面の凹
凸を数nm、表面粗さ0.2nmRa以下にした磁気デ
ィスク用基板の上に、スパッタリングで形成した厚さ例
えば40nmのCo−Cr(コバルト−クロム)系磁性
膜13、厚さ例えば20nmのダイヤモンドライクカー
ボンを化学気相成長法(以後CVDという)により成膜
した保護膜14、更に例えばフッ素系高分子潤滑剤を高
温の液化状態でスピン塗布して厚さ例えば10nmの潤
滑膜15を形成している。潤滑膜15を塗布する前の表
面形状は、磁性膜13及び保護膜14が非常に薄いので
磁気ディスク用基板面の表面形状を良く転写し、磁気デ
ィスク用基板面の表面形状とほとんど変わらない。ま
た、潤滑膜15を塗布した磁気ディスク2の表面形状
は、走査電子顕微鏡で観察した結果、微小な凹凸を平滑
化する方向に変化しているが、表面粗さ計で測定した結
果では、ほとんど変化が認められない。
に、アルミニウム円板(例えば外径65mm、内径20
mm、板厚0.88mm)11に、めっき(例えばNi
−P:ニッケル−燐めっき以後同じ)12を厚さ例えば
約5μm施し、両面研削及び両面研磨によって表面の凹
凸を数nm、表面粗さ0.2nmRa以下にした磁気デ
ィスク用基板の上に、スパッタリングで形成した厚さ例
えば40nmのCo−Cr(コバルト−クロム)系磁性
膜13、厚さ例えば20nmのダイヤモンドライクカー
ボンを化学気相成長法(以後CVDという)により成膜
した保護膜14、更に例えばフッ素系高分子潤滑剤を高
温の液化状態でスピン塗布して厚さ例えば10nmの潤
滑膜15を形成している。潤滑膜15を塗布する前の表
面形状は、磁性膜13及び保護膜14が非常に薄いので
磁気ディスク用基板面の表面形状を良く転写し、磁気デ
ィスク用基板面の表面形状とほとんど変わらない。ま
た、潤滑膜15を塗布した磁気ディスク2の表面形状
は、走査電子顕微鏡で観察した結果、微小な凹凸を平滑
化する方向に変化しているが、表面粗さ計で測定した結
果では、ほとんど変化が認められない。
【0020】磁気ヘッド3は、図3(a)に示すよう
に、両端部に向かって断面の形状が小さくなっており、
その片方の端部に磁気ヘッド3を構成する磁気ヘッド素
子7が形成され、磁気ディスク2との摺動面4は所定の
曲率を有している。磁気ヘッド3を構成する、例えばア
ルミナチタンカーバイトのセラミックスから成るスライ
ダー9の中央部の断面(A−A)の形状は、磁気ディス
クとの接触面積が小さくなるように凸形状で先細り形状
(斧型形状)で、図3(b)に示すように例えば幅0.
5mm、高さ0.5mmであり、磁気ディスク2との摺
動面4にはテーパが形成され、摺動幅が例えば0.2m
mで、摺動面4には保護膜8を厚さ例えば10nmスパ
ッタリングで成膜している。また、この磁気ヘッド3
は、中央部の近くに磁気ヘッド3の姿勢が安定するよう
にバネ6を介しアーム5に支持されている。
に、両端部に向かって断面の形状が小さくなっており、
その片方の端部に磁気ヘッド3を構成する磁気ヘッド素
子7が形成され、磁気ディスク2との摺動面4は所定の
曲率を有している。磁気ヘッド3を構成する、例えばア
ルミナチタンカーバイトのセラミックスから成るスライ
ダー9の中央部の断面(A−A)の形状は、磁気ディス
クとの接触面積が小さくなるように凸形状で先細り形状
(斧型形状)で、図3(b)に示すように例えば幅0.
5mm、高さ0.5mmであり、磁気ディスク2との摺
動面4にはテーパが形成され、摺動幅が例えば0.2m
mで、摺動面4には保護膜8を厚さ例えば10nmスパ
ッタリングで成膜している。また、この磁気ヘッド3
は、中央部の近くに磁気ヘッド3の姿勢が安定するよう
にバネ6を介しアーム5に支持されている。
【0021】磁気ディスク2に塗布されている潤滑膜1
5は、常温で固体であり、図4に示すように温度によっ
て液化する潤滑材である。磁気ヘッド3が磁気ディスク
2の面上を摺動した際に生じる約600Kから800K
の熱により、磁気ヘッド3の摺動時に液状となる。この
液化する層の厚さは、約5nmであり、潤滑膜15の厚
さの約半分である。従って、磁気ヘッド3はこの液化し
た潤滑膜15の中を走行する。
5は、常温で固体であり、図4に示すように温度によっ
て液化する潤滑材である。磁気ヘッド3が磁気ディスク
2の面上を摺動した際に生じる約600Kから800K
の熱により、磁気ヘッド3の摺動時に液状となる。この
液化する層の厚さは、約5nmであり、潤滑膜15の厚
さの約半分である。従って、磁気ヘッド3はこの液化し
た潤滑膜15の中を走行する。
【0022】上記のような構造・特性を有する磁気ヘッ
ド3及び磁気ディスク2を動作させることによって、磁
気ディスク2の回転により磁気ヘッド3が磁気ディスク
2の面上を摺動し、摺動熱により磁気ディスク2の面上
の表層部の潤滑膜15は液化し、この液中を磁気ヘッド
3が走行し情報を記録し読み出しを行なう。磁気ヘッド
3が磁気ディスク2の半径方向にシークすると、磁気ヘ
ッド3が摺動していたトラックでは摺動による熱量が無
くなり、温度が低下するので潤滑膜15は再び固化す
る。このため、従来液体潤滑材を用いた場合に問題であ
った潤滑材の回転飛散がなく、潤滑材の寿命が大幅に改
善される。
ド3及び磁気ディスク2を動作させることによって、磁
気ディスク2の回転により磁気ヘッド3が磁気ディスク
2の面上を摺動し、摺動熱により磁気ディスク2の面上
の表層部の潤滑膜15は液化し、この液中を磁気ヘッド
3が走行し情報を記録し読み出しを行なう。磁気ヘッド
3が磁気ディスク2の半径方向にシークすると、磁気ヘ
ッド3が摺動していたトラックでは摺動による熱量が無
くなり、温度が低下するので潤滑膜15は再び固化す
る。このため、従来液体潤滑材を用いた場合に問題であ
った潤滑材の回転飛散がなく、潤滑材の寿命が大幅に改
善される。
【0023】〔実施例 2〕本発明の第2の実施例を図
5、図6により説明する。磁気ヘッド3を構成するスラ
イダー9を、その曲率半径が温度によって変化するセラ
ッミクス材料で形成する。すなわち、磁気ヘッド3の長
さ方向に曲率半径100mmの斧型形状の磁気ヘッド3
を、実施例1と同様に磁気ディスク2の面上にバネ6で
押しつけ、磁気ディスク2の回転に従って磁気ディスク
2の面上を摺動する。この摺動によって生じる熱量によ
り磁気ヘッド3の温度が上昇すると、磁気ヘッド3の曲
率半径が図5に示すように大きくなるように変化する。
したがって、磁気ヘッド3が磁気ディスク2の面上を摺
動し、磁気ディスク2の摺動部の温度が上昇することに
より潤滑膜15は液化し、磁気ヘッド3は潤滑膜15の
中を走行する。
5、図6により説明する。磁気ヘッド3を構成するスラ
イダー9を、その曲率半径が温度によって変化するセラ
ッミクス材料で形成する。すなわち、磁気ヘッド3の長
さ方向に曲率半径100mmの斧型形状の磁気ヘッド3
を、実施例1と同様に磁気ディスク2の面上にバネ6で
押しつけ、磁気ディスク2の回転に従って磁気ディスク
2の面上を摺動する。この摺動によって生じる熱量によ
り磁気ヘッド3の温度が上昇すると、磁気ヘッド3の曲
率半径が図5に示すように大きくなるように変化する。
したがって、磁気ヘッド3が磁気ディスク2の面上を摺
動し、磁気ディスク2の摺動部の温度が上昇することに
より潤滑膜15は液化し、磁気ヘッド3は潤滑膜15の
中を走行する。
【0024】磁気ヘッド3の温度も磁気ディスク2との
摺動によって上昇し、磁気ヘッド3の曲率半径が大きく
変化する。磁気ヘッド3の曲率半径と液中における浮上
量、すなわち液体を介して磁気ヘッド3と磁気ディスク
2とが相対運動することによって生じる動圧効果による
浮上量との関係は、図6に示すように曲率半径が大きく
なると浮上量が大きくなる。潤滑膜15の中で磁気ヘッ
ド3の浮上量が大きくなると磁気ディスク2の面との摺
動抵抗が小さくなるため、磁気ヘッド3の温度は低下
し、磁気ヘッド3の曲率半径は再び小さく変化する。こ
の状態を繰り返すことによって、磁気ヘッド3と磁気デ
ィスク2との相対速度と、この相対速度にともなう磁気
ヘッド3と磁気ディスク2との界面の温度が安定した条
件で、磁気ヘッド3は磁気ディスク2の面上を走行し、
情報を記録し読み出しを行なう。
摺動によって上昇し、磁気ヘッド3の曲率半径が大きく
変化する。磁気ヘッド3の曲率半径と液中における浮上
量、すなわち液体を介して磁気ヘッド3と磁気ディスク
2とが相対運動することによって生じる動圧効果による
浮上量との関係は、図6に示すように曲率半径が大きく
なると浮上量が大きくなる。潤滑膜15の中で磁気ヘッ
ド3の浮上量が大きくなると磁気ディスク2の面との摺
動抵抗が小さくなるため、磁気ヘッド3の温度は低下
し、磁気ヘッド3の曲率半径は再び小さく変化する。こ
の状態を繰り返すことによって、磁気ヘッド3と磁気デ
ィスク2との相対速度と、この相対速度にともなう磁気
ヘッド3と磁気ディスク2との界面の温度が安定した条
件で、磁気ヘッド3は磁気ディスク2の面上を走行し、
情報を記録し読み出しを行なう。
【0025】〔実施例 3〕本発明による第3の実施例
を説明する。本発明は、図7に示すように、曲率を有す
る磁気ヘッド3と磁気ディスク2との界面に液体の潤滑
膜15aを介在させ磁気ヘッド3を磁気ディスク2の面
と接触させて走行させる磁気ディスク装置であり、潤滑
膜15aとの付着強さの異なる表面膜を磁気ヘッド3及
び磁気ディスク2の面に形成する。実施例1に述べた磁
気ディスク2の潤滑膜15の代わりにフッ素系の液体潤
滑膜15aを用い、磁気ヘッド3と磁気ディスク2のそ
れぞれの表面には、図2および図3にそれぞれ示し説明
した保護膜8、14と同様の保護膜8、14を形成す
る。
を説明する。本発明は、図7に示すように、曲率を有す
る磁気ヘッド3と磁気ディスク2との界面に液体の潤滑
膜15aを介在させ磁気ヘッド3を磁気ディスク2の面
と接触させて走行させる磁気ディスク装置であり、潤滑
膜15aとの付着強さの異なる表面膜を磁気ヘッド3及
び磁気ディスク2の面に形成する。実施例1に述べた磁
気ディスク2の潤滑膜15の代わりにフッ素系の液体潤
滑膜15aを用い、磁気ヘッド3と磁気ディスク2のそ
れぞれの表面には、図2および図3にそれぞれ示し説明
した保護膜8、14と同様の保護膜8、14を形成す
る。
【0026】すなわち、図7に示すように、この潤滑膜
15aとの付着強さが大きい例えばダイヤモンドライク
カーボンを保護膜14として磁気ディスク2の面上にC
VDにより形成し、付着強さが例えばダイヤモンドライ
クカーボンと比べ小さいスパッタカーボンを保護膜8と
して磁気ヘッド3の摺動面4に形成する。磁気ヘッド3
は、磁気ディスク2の面上を走行すると、実施例2で説
明したように潤滑剤15aの動圧効果により浮上しなが
ら相対運動する。さらに相対速度が大きくなると磁気デ
ィスク2の面と磁気ヘッド3とは離れようと作用し、両
者の間に周囲の空気が介在すると、空気の動圧によって
磁気ヘッド3は磁気ディスク2の面から離れてしまう。
本実施例では、潤滑膜15aの界面エネルギを利用し、
磁気ヘッド3が磁気ディスク3から離れるのを防ぎ、且
つ磁気ヘッド3と磁気ディスク2との相対運動により、
潤滑膜15aは磁気ヘッド3あるいは磁気ディスク2の
表面との付着強度の大きい方に付着し、小さい方で離れ
る。
15aとの付着強さが大きい例えばダイヤモンドライク
カーボンを保護膜14として磁気ディスク2の面上にC
VDにより形成し、付着強さが例えばダイヤモンドライ
クカーボンと比べ小さいスパッタカーボンを保護膜8と
して磁気ヘッド3の摺動面4に形成する。磁気ヘッド3
は、磁気ディスク2の面上を走行すると、実施例2で説
明したように潤滑剤15aの動圧効果により浮上しなが
ら相対運動する。さらに相対速度が大きくなると磁気デ
ィスク2の面と磁気ヘッド3とは離れようと作用し、両
者の間に周囲の空気が介在すると、空気の動圧によって
磁気ヘッド3は磁気ディスク2の面から離れてしまう。
本実施例では、潤滑膜15aの界面エネルギを利用し、
磁気ヘッド3が磁気ディスク3から離れるのを防ぎ、且
つ磁気ヘッド3と磁気ディスク2との相対運動により、
潤滑膜15aは磁気ヘッド3あるいは磁気ディスク2の
表面との付着強度の大きい方に付着し、小さい方で離れ
る。
【0027】〔実施例 4〕本発明による第4の実施例
を図8により説明をする。曲率半径50mmの球形の摺
動面4を有する磁気ヘッド3を、実施例1に述べたよう
に磁気ディスク2の面上を相対運動させて情報を記録し
読み出しをする。この磁気ヘッド3は、図8に示すよう
に、磁気ヘッド3を構成するスライダー9として例えば
アルミナチタンカーバイトを機械加工し、幅0.5m
m、高さ0.5mm、摺動面4の曲率半径を50mmに
成形し、ヘッドの長さを1mm、長さ方向の曲率半径を
50mmとしている。このスライダー9の端部に情報を
記録し読み出しをする磁気ヘッド素子7が形成され、摺
動面4には保護膜8としてカーボンが厚さ例えば10n
mにスパッタリングで形成されている。磁気ヘッド3
は、図に示していないが、上記実施例同様アーム5にバ
ネ6を介して支持され、磁気ディスク2の表面に押しつ
けられ、磁気ディスク2の回転と共に、実施例1と同様
に磁気ディスク2の面上を摺動しながら磁気ヘッド3を
構成する磁気ヘッド素子7によって情報の記録読み出し
を行なう。
を図8により説明をする。曲率半径50mmの球形の摺
動面4を有する磁気ヘッド3を、実施例1に述べたよう
に磁気ディスク2の面上を相対運動させて情報を記録し
読み出しをする。この磁気ヘッド3は、図8に示すよう
に、磁気ヘッド3を構成するスライダー9として例えば
アルミナチタンカーバイトを機械加工し、幅0.5m
m、高さ0.5mm、摺動面4の曲率半径を50mmに
成形し、ヘッドの長さを1mm、長さ方向の曲率半径を
50mmとしている。このスライダー9の端部に情報を
記録し読み出しをする磁気ヘッド素子7が形成され、摺
動面4には保護膜8としてカーボンが厚さ例えば10n
mにスパッタリングで形成されている。磁気ヘッド3
は、図に示していないが、上記実施例同様アーム5にバ
ネ6を介して支持され、磁気ディスク2の表面に押しつ
けられ、磁気ディスク2の回転と共に、実施例1と同様
に磁気ディスク2の面上を摺動しながら磁気ヘッド3を
構成する磁気ヘッド素子7によって情報の記録読み出し
を行なう。
【0028】〔実施例 5〕本発明の第5の実施例を図
9により説明する。曲率半径50mmの球形の摺動面4
aを有する磁気ヘッド3aの中央部より若干端部寄りの
位置に磁気ヘッド素子7aを形成し、実施例1に述べた
ように磁気ディスク2の面上を相対運動させて情報を記
録し読み出しをするものである。この磁気ヘッド3a
は、実施例4と同様の材質、形状を有し、図9に示すよ
うに、磁気ヘッド3aの中央部O1 より、若干端部寄り
の位置に磁気ヘッド素子7aが形成されている。この球
形の摺動面4aを有する磁気ヘッド3aは、潤滑膜15
中を運動させた場合、介在する潤滑膜15による動圧に
よって、球形の摺動面4aの磁気ディスク2に対する姿
勢が破線に状態から実線の状態へ変化し、磁気ディスク
2の表面との距離がもっとも近い点はO2 に変化する。
9により説明する。曲率半径50mmの球形の摺動面4
aを有する磁気ヘッド3aの中央部より若干端部寄りの
位置に磁気ヘッド素子7aを形成し、実施例1に述べた
ように磁気ディスク2の面上を相対運動させて情報を記
録し読み出しをするものである。この磁気ヘッド3a
は、実施例4と同様の材質、形状を有し、図9に示すよ
うに、磁気ヘッド3aの中央部O1 より、若干端部寄り
の位置に磁気ヘッド素子7aが形成されている。この球
形の摺動面4aを有する磁気ヘッド3aは、潤滑膜15
中を運動させた場合、介在する潤滑膜15による動圧に
よって、球形の摺動面4aの磁気ディスク2に対する姿
勢が破線に状態から実線の状態へ変化し、磁気ディスク
2の表面との距離がもっとも近い点はO2 に変化する。
【0029】従って、情報の記録読み出しの効率を良く
するため、磁気ヘッド3aにおける磁気ヘッド素子7a
の位置を、磁気ヘッド3aと磁気ディスク2とが相対運
動している状態でもっとも磁気ディスク2の表面に近い
点に形成する。この点は、球面と潤滑膜との相対運動に
おける圧力分布から解析できる点であり、磁気ヘッド3
aの設計が容易であり、また製造工程による誤差が少な
くなる利点がある。さらに、磁気ヘッド3aの姿勢制御
に大きな影響を及ぼすバネ6の取付を磁気ヘッド3aの
中央部にすれば良く、取付誤差が少なく、磁気ヘッド3
aの部品のばらつきの影響を非常に少なくできる。
するため、磁気ヘッド3aにおける磁気ヘッド素子7a
の位置を、磁気ヘッド3aと磁気ディスク2とが相対運
動している状態でもっとも磁気ディスク2の表面に近い
点に形成する。この点は、球面と潤滑膜との相対運動に
おける圧力分布から解析できる点であり、磁気ヘッド3
aの設計が容易であり、また製造工程による誤差が少な
くなる利点がある。さらに、磁気ヘッド3aの姿勢制御
に大きな影響を及ぼすバネ6の取付を磁気ヘッド3aの
中央部にすれば良く、取付誤差が少なく、磁気ヘッド3
aの部品のばらつきの影響を非常に少なくできる。
【0030】〔実施例 6〕本発明の第6の実施例を図
10により説明する。本発明は、固体の潤滑膜15を塗
布した磁気ディスク2の表面に、摺動面4に保護膜8を
形成し曲率を有する磁気ヘッド3をバネ6を介して支持
しているアーム5で押しつけ、磁気ディスク2の回転に
よって磁気ヘッド3が磁気ディスク2の面上の液化した
潤滑膜15を介して接触した状態で相対運動し、磁気デ
ィスク2の磁性膜に情報を記録読み出しをする磁気ディ
スク装置に関するものである。磁気ディスク2の表面上
の潤滑膜15を磁気ヘッド3が通過する際に液化する手
段は、磁気ヘッド3が通過する前方をビーム照射により
発熱させて利用するものである。
10により説明する。本発明は、固体の潤滑膜15を塗
布した磁気ディスク2の表面に、摺動面4に保護膜8を
形成し曲率を有する磁気ヘッド3をバネ6を介して支持
しているアーム5で押しつけ、磁気ディスク2の回転に
よって磁気ヘッド3が磁気ディスク2の面上の液化した
潤滑膜15を介して接触した状態で相対運動し、磁気デ
ィスク2の磁性膜に情報を記録読み出しをする磁気ディ
スク装置に関するものである。磁気ディスク2の表面上
の潤滑膜15を磁気ヘッド3が通過する際に液化する手
段は、磁気ヘッド3が通過する前方をビーム照射により
発熱させて利用するものである。
【0031】図10に示すように、実施例1に記載の磁
気ヘッド3をバネ6を介し支持するアーム5に半導体レ
ーザ素子を設置し、該半導体レーザ素子から例えば直径
0.5mmの面積でレーザ光を照射して、厚さ例えば1
0nmの潤滑膜15を液化する。この潤滑膜15の液化
する面積・深さはレーザ光の照射条件によって制御する
ことができる。磁気ヘッド3が液化した潤滑膜15の中
を走行した後、潤滑膜15は周囲への熱の伝達から温度
が下がることにより再び固化する。従って、従来の液体
潤滑膜15aを用いたときの磁気ディスク2の回転によ
る潤滑膜の飛散が無くなり、潤滑膜15の減耗を大幅に
向上できる。
気ヘッド3をバネ6を介し支持するアーム5に半導体レ
ーザ素子を設置し、該半導体レーザ素子から例えば直径
0.5mmの面積でレーザ光を照射して、厚さ例えば1
0nmの潤滑膜15を液化する。この潤滑膜15の液化
する面積・深さはレーザ光の照射条件によって制御する
ことができる。磁気ヘッド3が液化した潤滑膜15の中
を走行した後、潤滑膜15は周囲への熱の伝達から温度
が下がることにより再び固化する。従って、従来の液体
潤滑膜15aを用いたときの磁気ディスク2の回転によ
る潤滑膜の飛散が無くなり、潤滑膜15の減耗を大幅に
向上できる。
【0032】なお、上記の実施例では、アルミニウム円
板をめっき処理した基板に磁性膜、保護膜、潤滑膜を形
成して作成した磁気ディスクと、アルミナチタンカーバ
イトのスライダーで構成した磁気ヘッドとから成る磁気
ディスク装置について説明したが、磁気ディスク用基板
材料としてアルミニウム合金・ガラス・シリコンまたア
ルミナなどのセラミックス材料、あるいはこれらの基板
に下地膜として、本発明で述べためっき処理や、Crや
Tiなどの薄膜を形成した基板であっても同様である。
また、磁気ヘッドについても、磁気ヘッドを構成するス
ライダーの材料としてジルコニア・Mn−Zn(マンガ
ン−亜鉛)・Ni−Zn(ニッケル−亜鉛)などのセラ
ミックス材の場合にも同様である。また、磁気ヘッドの
摺動面4の形状は、曲率が一定でない2次曲面や、3次
曲面であっても同様の効果がある。潤滑膜の組成は、固
体から液体に変化する性質を有すれば良く、本発明では
温度的に変化する潤滑膜について述べたが、光による変
化する材料や振動によって変化する材料等でも同様の効
果がある。また液体の潤滑膜においても回転によって飛
散しにくい材料であれば本発明の基本的な効果は得られ
る。
板をめっき処理した基板に磁性膜、保護膜、潤滑膜を形
成して作成した磁気ディスクと、アルミナチタンカーバ
イトのスライダーで構成した磁気ヘッドとから成る磁気
ディスク装置について説明したが、磁気ディスク用基板
材料としてアルミニウム合金・ガラス・シリコンまたア
ルミナなどのセラミックス材料、あるいはこれらの基板
に下地膜として、本発明で述べためっき処理や、Crや
Tiなどの薄膜を形成した基板であっても同様である。
また、磁気ヘッドについても、磁気ヘッドを構成するス
ライダーの材料としてジルコニア・Mn−Zn(マンガ
ン−亜鉛)・Ni−Zn(ニッケル−亜鉛)などのセラ
ミックス材の場合にも同様である。また、磁気ヘッドの
摺動面4の形状は、曲率が一定でない2次曲面や、3次
曲面であっても同様の効果がある。潤滑膜の組成は、固
体から液体に変化する性質を有すれば良く、本発明では
温度的に変化する潤滑膜について述べたが、光による変
化する材料や振動によって変化する材料等でも同様の効
果がある。また液体の潤滑膜においても回転によって飛
散しにくい材料であれば本発明の基本的な効果は得られ
る。
【0033】
【発明の効果】本発明は、磁気ヘッドが磁気ディスク面
と接触した状態で磁性膜に情報を記録し読み出すので、
磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子と磁性膜との距離
が従来に比較して大幅に小さくでき、磁気ディスクの記
録密度を顕著に大きくすることができ、したがって、磁
気ディスク装置の記憶容量が大幅に増大する。従来、磁
気ヘッドの磁気ヘッド素子と磁気ディスクの磁性膜との
距離を示すhmを小さくするため、上記のように磁気デ
ィスクの表面性状の高精度化、磁気ヘッド支持系の追従
性の改良、さらに磁気ヘッド表面形状の改善などを行な
い、hmを0.16μmから0.15μmに小さくする
ことで記録密度は50,000BPIから70,000
BPIに増大しており、また半径方向の記録密度、すな
わちトラック当たりの密度も2,900TPIから3,
200TPIに増大しており、このため磁気ディスク装
置では記録容量が、約2倍に大きくすることができる。
と接触した状態で磁性膜に情報を記録し読み出すので、
磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子と磁性膜との距離
が従来に比較して大幅に小さくでき、磁気ディスクの記
録密度を顕著に大きくすることができ、したがって、磁
気ディスク装置の記憶容量が大幅に増大する。従来、磁
気ヘッドの磁気ヘッド素子と磁気ディスクの磁性膜との
距離を示すhmを小さくするため、上記のように磁気デ
ィスクの表面性状の高精度化、磁気ヘッド支持系の追従
性の改良、さらに磁気ヘッド表面形状の改善などを行な
い、hmを0.16μmから0.15μmに小さくする
ことで記録密度は50,000BPIから70,000
BPIに増大しており、また半径方向の記録密度、すな
わちトラック当たりの密度も2,900TPIから3,
200TPIに増大しており、このため磁気ディスク装
置では記録容量が、約2倍に大きくすることができる。
【0034】従って、本発明によれば磁気ヘッドが磁気
ディスク面と接触した状態で情報を記録読み出しをする
ことによって、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子と
磁気ディスクの磁性膜との距離hmを0.03μm以下
に大幅に小さくできるので、磁気ディスクの記録密度を
高くでき、従って、磁気ディスク装置の記録容量を、従
来に比べ20倍以上にできる。また、従来の浮上間隙が
0.1μm以下の非常に狭い間隙で磁気ヘッドを浮上さ
せる制御が必要な浮動型の磁気ヘッドと比較し、常時接
触して磁気ディスク面上を相対運動するので、磁気ヘッ
ド支持系の構造が単純化でき、磁気ヘッド支持系の低コ
スト化が図れ、かつ信頼性が向上する。また、従来、磁
気ヘッドと磁気ディスク間に介入する塵埃が、磁気ヘッ
ド浮上安定性に大きな影響を及ぼし、このことが磁気デ
ィスク装置の信頼性向上に大きな課題であった。しか
し、本発明では、磁気ヘッドと磁気ディスク間への周囲
の塵埃が介入することがなく、磁気ヘッド摺動に係る事
故が無くなる。
ディスク面と接触した状態で情報を記録読み出しをする
ことによって、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド素子と
磁気ディスクの磁性膜との距離hmを0.03μm以下
に大幅に小さくできるので、磁気ディスクの記録密度を
高くでき、従って、磁気ディスク装置の記録容量を、従
来に比べ20倍以上にできる。また、従来の浮上間隙が
0.1μm以下の非常に狭い間隙で磁気ヘッドを浮上さ
せる制御が必要な浮動型の磁気ヘッドと比較し、常時接
触して磁気ディスク面上を相対運動するので、磁気ヘッ
ド支持系の構造が単純化でき、磁気ヘッド支持系の低コ
スト化が図れ、かつ信頼性が向上する。また、従来、磁
気ヘッドと磁気ディスク間に介入する塵埃が、磁気ヘッ
ド浮上安定性に大きな影響を及ぼし、このことが磁気デ
ィスク装置の信頼性向上に大きな課題であった。しか
し、本発明では、磁気ヘッドと磁気ディスク間への周囲
の塵埃が介入することがなく、磁気ヘッド摺動に係る事
故が無くなる。
【図1】本発明による磁気ディスク装置。
【図2】本発明による磁気ディスクと磁気ヘッドの概略
説明図。
説明図。
【図3】本発明による接触型磁気ヘッドの構造図。
【図4】本発明による潤滑膜の温度特性図。
【図5】本発明による温度によって変形する斧型磁気ヘ
ッドの説明図。
ッドの説明図。
【図6】磁気ヘッド摺動面の曲率半径と動圧による浮上
量との関係図。
量との関係図。
【図7】本発明による液体潤滑膜を使用した磁気ディス
クと磁気ヘッドの概略説明図。
クと磁気ヘッドの概略説明図。
【図8】本発明による球形の摺動面を持つ磁気ヘッド。
【図9】本発明による磁気ヘッド素子を磁気ヘッドの中
央部近くに設けた磁気ヘッド。
央部近くに設けた磁気ヘッド。
【図10】本発明による磁気ヘッドを支持するアームに
半導体レーザを搭載した磁気ディスク装置。
半導体レーザを搭載した磁気ディスク装置。
【図11】従来の浮動型磁気ヘッド。
【図12】従来の浮動型磁気ヘッドの概略動作説明図。
【図13】磁気ディスク用基板加工説明図。
【図14】従来の浮動型磁気ヘッドの概略動作説明図。
【図15】磁気ディスク用基板テクスチャ加工説明図。
【図16】テクスチャ加工を実施した磁気ディスク用基
板の拡大表面図。
板の拡大表面図。
1…磁気ディスク装置、2…磁気ディスク、3…磁気ヘ
ッド、4…摺動面、5…アーム、6…バネ、7…磁気ヘ
ッド素子、8…磁気ヘッド保護膜、9…スライダー、1
1…アルミニウム円板、12…めっき膜、13…磁性
膜、14…磁気ディスク保護膜、15…潤滑膜、21…
半導体レーザ。
ッド、4…摺動面、5…アーム、6…バネ、7…磁気ヘ
ッド素子、8…磁気ヘッド保護膜、9…スライダー、1
1…アルミニウム円板、12…めっき膜、13…磁性
膜、14…磁気ディスク保護膜、15…潤滑膜、21…
半導体レーザ。
フロントページの続き (72)発明者 古沢 賢司 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 片岡 宏之 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 白倉 高明 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 松岡 伸也 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内
Claims (10)
- 【請求項1】 磁気ヘッドが磁気ディスク表面上を接触
して相対運動し、情報を記録し読み出すヘッド接触式磁
気ディスク装置において、磁気ディスク表面に潤滑膜を
形成したことを特徴とするヘッド接触式磁気ディスク装
置。 - 【請求項2】 請求項1記載のものにおいて、磁気ディ
スク表面に潤滑剤を塗布し潤滑膜を形成したことを特徴
とするヘッド接触式磁気ディスク装置。 - 【請求項3】 請求項1記載のものにおいて、曲面形状
の摺動面を有する磁気ヘッドが、磁気ディスク表面を潤
滑膜を介して相対摺動することを特徴とするヘッド接触
式磁気ディスク装置。 - 【請求項4】 請求項1記載のものにおいて、凸形状で
先細り形状の摺動面を有する磁気ヘッドが、磁気ディス
ク表面を潤滑膜を介して相対摺動することを特徴とする
ヘッド接触式磁気ディスク装置。 - 【請求項5】 請求項1記載のものにおいて、磁気ディ
スク面に形成した潤滑膜が、磁気ヘッドの摺動時に液化
し、磁気ヘッドの非摺動時には固化することを特徴とす
るヘッド接触式磁気ディスク装置。 - 【請求項6】 請求項2記載のものにおいて、磁気ディ
スク面に塗布する潤滑剤が、磁気ディスクの表面に対す
る結合力より小さな結合力で磁気ヘッドと結合する潤滑
剤であることを特徴とするヘッド接触式磁気ディスク装
置。 - 【請求項7】 請求項1記載のものにおいて、磁気ディ
スクの表面が潤滑膜との結合力が大きい物質で形成さ
れ、磁気ヘッドの表面が潤滑膜との結合力が磁気ディス
クとの結合力より小さい物質で形成されたことを特徴と
するヘッド接触式磁気ディスク装置。 - 【請求項8】 請求項1記載のものにおいて、磁気ヘッ
ドが凸形状の曲率を有し、接触し相対運動することによ
り発生する熱によって曲率半径が変化することを特徴と
するヘッド接触式磁気ディスク装置。 - 【請求項9】 請求項1記載のものにおいて、磁気ヘッ
ドが球形の摺動面を有し、磁気ヘッドを構成する磁気ヘ
ッド素子が磁気ヘッドの中央部より端部寄りに形成され
ていることを特徴とするヘッド接触式磁気ディスク装
置。 - 【請求項10】 請求項1記載のものにおいて、磁気ヘ
ッドを支持したアーム上に半導体レーザ素子を有するこ
とを特徴とするヘッド接触式磁気ディスク装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5182283A JPH0737205A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | ヘッド接触式磁気ディスク装置 |
| US08/768,958 US5825591A (en) | 1993-07-23 | 1996-12-18 | Frictionally sliding head magnet disk apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5182283A JPH0737205A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | ヘッド接触式磁気ディスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0737205A true JPH0737205A (ja) | 1995-02-07 |
Family
ID=16115570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5182283A Pending JPH0737205A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | ヘッド接触式磁気ディスク装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5825591A (ja) |
| JP (1) | JPH0737205A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000155007A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置センサおよびその製造方法 |
| JP2014149897A (ja) * | 2013-02-01 | 2014-08-21 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体の記録再生方法 |
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| JP2001342319A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フッ素ゴム組成物、定着部材、定着方法、及び定着装置 |
| US6822819B1 (en) | 2003-09-30 | 2004-11-23 | Hitachi Global Storage Technologies | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface with use of a heating element formed in a magnetic head |
| US6954327B2 (en) * | 2003-09-30 | 2005-10-11 | Hitachi Global Storage Technologies, B.V. | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface with use of a heat source in a magnetic head |
| US6831802B1 (en) | 2003-09-30 | 2004-12-14 | Hitachi Global Storage Technologies | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface by the repetitive writing of data |
| US7362533B2 (en) * | 2004-07-30 | 2008-04-22 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk drive with slider burnishing-on-demand |
| US20060262451A1 (en) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Hard-disk drive design for contact recording applications |
| US7314404B2 (en) * | 2006-02-13 | 2008-01-01 | Komag, Inc. | Burnishing head |
| US7542228B2 (en) * | 2007-08-30 | 2009-06-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Frictional heat assisted recording |
| US9311954B1 (en) * | 2015-03-12 | 2016-04-12 | Opacle International Corporation | Tape head with thin tape bearing surface coating |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US3466156A (en) * | 1966-12-01 | 1969-09-09 | Ncr Co | Magnetic record members |
| JPS5982626A (ja) * | 1982-11-01 | 1984-05-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気デイスク基板 |
| JPS60133538A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-16 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| US4735840A (en) * | 1985-11-12 | 1988-04-05 | Cyberdisk, Inc. | Magnetic recording disk and sputtering process and apparatus for producing same |
| JPS62203748A (ja) * | 1986-03-03 | 1987-09-08 | Nec Corp | 磁気デイスク基板の加工方法 |
| JPS62257976A (ja) * | 1986-05-06 | 1987-11-10 | Seiko Epson Corp | 導電性磁性インク |
| US5118577A (en) * | 1988-03-10 | 1992-06-02 | Magnetic Peripherals Inc. | Plasma treatment for ceramic materials |
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| NL8902615A (nl) * | 1988-11-15 | 1990-06-01 | Seiko Epson Corp | Optisch registratiestelsel. |
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| JPH04134770A (ja) * | 1990-09-26 | 1992-05-08 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッドのコアスライダおよびその製造方法 |
| JPH0828086B2 (ja) * | 1991-06-04 | 1996-03-21 | 富士通株式会社 | 磁気ヘッドスライダの製造装置及び製造方法 |
-
1993
- 1993-07-23 JP JP5182283A patent/JPH0737205A/ja active Pending
-
1996
- 1996-12-18 US US08/768,958 patent/US5825591A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5825591A (en) | 1998-10-20 |
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