JPH10501772A - モノリシック印刷ヘッドのヒータ構造体および製造プロセス - Google Patents
モノリシック印刷ヘッドのヒータ構造体および製造プロセスInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 92
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 115
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 55
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims description 447
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 149
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 claims description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 19
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 17
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 17
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 55
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 116
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 74
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 56
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 26
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 24
- 239000004530 micro-emulsion Substances 0.000 description 23
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 22
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 22
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 17
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 17
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 17
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 16
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 16
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 16
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 15
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 12
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 12
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 12
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 8
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 8
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- SVKQEADHBGJMJB-FHLIZLRMSA-N ram-317 Chemical compound C1CCC[C@@]2(O)[C@H]3CC4=CC=C(OC)C(O)=C4[C@]21CCN3C SVKQEADHBGJMJB-FHLIZLRMSA-N 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 7
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 6
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 6
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- -1 Poly (oxyethylene) Polymers 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 239000002655 kraft paper Substances 0.000 description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 5
- 229920001983 poloxamer Polymers 0.000 description 5
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000347 anisotropic wet etching Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 4
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 4
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical class C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- OQNWUUGFAWNUME-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)propoxy]ethanol Chemical compound OCCOC(C)COCCO OQNWUUGFAWNUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 229960000502 poloxamer Drugs 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVKNZCBNXPYYKL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO)C=C1 IVKNZCBNXPYYKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNLXNOZHXNSSPN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO)C=C1 HNLXNOZHXNSSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000002566 Capsicum Nutrition 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006002 Pepper Substances 0.000 description 1
- 235000016761 Piper aduncum Nutrition 0.000 description 1
- 235000017804 Piper guineense Nutrition 0.000 description 1
- 244000203593 Piper nigrum Species 0.000 description 1
- 235000008184 Piper nigrum Nutrition 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 229910004490 TaAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021486 amorphous silicon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000003190 augmentative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229910021488 crystalline silicon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013144 data compression Methods 0.000 description 1
- DTPCFIHYWYONMD-UHFFFAOYSA-N decaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO DTPCFIHYWYONMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000013100 final test Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011990 functional testing Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- WWYKBCRVBABKLC-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,1,2-tetrol Chemical compound CCCCC(O)C(O)(O)O WWYKBCRVBABKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- QANMHLXAZMSUEX-UHFFFAOYSA-N kinetin Chemical compound N=1C=NC=2N=CNC=2C=1NCC1=CC=CO1 QANMHLXAZMSUEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N octoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004905 octoxynol-10 Polymers 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
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Abstract
(57)【要約】
インクノズルの軸が、ヒータの平面に実質的に垂直で、ヒータの中心を実質的に通っている、集積印刷ヘッド用の電熱ヒータの構造体および製造プロセス。完成したヒータはループ状で、ループの中心はノズルエッチングプロセスにより形成される。ディスク状のヒータ材料が基板上に形成される。このディスクの半径は、ノズル用にエッチングされる孔部の半径に、必要なヒータ幅を加えたものに等しい。ノズル孔部は、ヒータディスクの中心から実質的にエッチングされる。残りのヒータ材料は、環状をしていて、その内半径はノズル孔部の半径に等しい。この構造体は、実質的に不動態化材料の層でコーティングされる。
Description
【発明の詳細な説明】
モノリシック印刷ヘッドのヒータ構造体および製造プロセス
技術分野
本発明は、コンピュータ制御印刷装置に係り、特に単一の基板上に複数のノズ
ルを内蔵している熱作動ドロップオンデマンド(DOD)印刷ヘッドの組立てお
よび製造プロセスに関する。
発明の背景
現在まで、多くの異なるタイプのディジタル制御印刷システムが発明され、多
くのタイプのものが現在生産されている。これらの印刷システムは、種々の作動
機構、種々のマーキング剤および種々の記録媒体を使用する。現在使用されてい
るディジタル印刷システムの例としては、レーザ電子写真プリンタ、LED電子
写真プリンタ、ドットマトリックスインパクトプリンタ、熱式ペーパープリンタ
、フィルムレコーダ、熱式ワックスプリンタ、染料分散熱式移動プリンタおよび
インクジェットプリンタ等がある。しかし、現在のところ、従来の方法が、設定
に非常に費用が掛かり、特定のページを数千枚印刷する場合でなければ、商業的
にほとんど引き合わないにもかかわらず、電子印刷システムが機械的印刷機に取
って代わっているケースはまだまだ少ない。それ故、例えば、普通紙を使用して
、高速、低コストで高品質のカラーイメージを印刷することができる改良型ディ
ジタル制御印刷システムが求められている。
インクジェット印刷は、ディジタル制御電子印刷分野での極めて優れた競争相
手とされてきた。何故なら、例えば、インパクト型ではなく、騒音が少なく、普
通紙に印刷でき、トナーの交換や定着を行う必要がないからである。
現在までに、多くのタイプのインクジェット印刷機構が発明されてきた。これ
らのインクジェット印刷機構は、連続インクジェット(CIJ)またはドロップ
オンデマンド(DOD)インクジェットに分類することができる。連続インクジ
ェット印刷の歴史は古く、少なくとも1929年には発明されていた。ハンセル
の米国特許第1、941、001号参照。
1967年のスイート他の米国特許第3、373、437号は、印刷に使用さ
れるインクの粒子が選択的に電荷を与えられ、記録媒体に向けて偏向される、連
続インクジェットノズルのアレーを開示している。この技術は、二進法偏向CI
Jとして周知であり、エルムジェットおよびサイテックスのような数社のメーカ
ーが使用している。
1966年のヘルツ他の米国特許第3、416、153号は、小さな孔を通る
インクの粒子の数を変調するために、電荷を帯びたインクの粒子の流れを静電的
に分散させることによって、CIJ印刷で印刷した点の濃度を光学的に変化させ
る方法を開示している。この技術は、イリスグラフィックス社が製造したインク
ジェットプリンタに使用されている。
1970年のカイザー他の米国特許第3、946、398号は、圧電クリスタ
ルに高電圧を掛け、クリスタルを曲げ、インクタンクに圧力を掛け、必要に応じ
てインクの粒子を噴出させるDODインクジェットプリンタを開示している。多
くのタイプの圧電ドロップオンデマンドプリンタが次から次へと発明されたが、
これら圧電プリンタは、圧電クリスタルを、曲げモード、押しモード、せん断モ
ードおよび絞りモードで使用している。圧電DODプリンタは、高温溶融インク
(例えば、テクトロニクスおよびデータプロダクトプリンタ)を使用して、商業
的に成功したが、その家庭用およびオフィス用のイメージ解像度は最高720d
piであった(セイコーエプソン)。圧電DODプリンタは、広い範囲の種類の
インクを使用することができるという利点を持っている。しかし、圧電印刷機構
は、通常、複雑な高電圧駆動回路と容積の大きい圧電クリスタルアレーを必要と
し、そのため製造が困難であり、性能の上でも不利になっている。
1979年の遠藤他の英国特許第2、007、162号は、ノズル内のインク
と熱的に接触している電熱トランスジューサ(ヒータ)に、電力パルスを加える
電熱DODインクジェットプリンタを開示している。ヒータは、急速に、水をベ
ースとしたインクを高温に加熱し、その場合、少量のインクは急速に蒸発しバブ
ルを形成する。このようなバブルが形成されると、その結果、圧力波ができ、こ
の圧力波はインクの粒子をヒータの基板の縁部にそって、小さな孔部から排出さ
せる。この技術は、BubblejetTM(日本のキャノン社の登録商標)と呼
ばれ、キャノン、ゼロックスおよびその他のメーカーが製造している多くの種類
の印刷システムで使用されている。
1982年のボート他の米国特許第4、490、728号は、バブルの形成に
よって作動する電熱粒子排出システムを開示している。このシステムの場合、粒
子はヒータの上に設置されている孔部を持つ板に形成されているノズルを通して
、ヒータの基板の面に垂直な方向に排出される。このシステムは熱インクジェッ
トと呼ばれ、ヒューレット−パッカード社が製造している。本明細書には熱イン
クジェットという用語は、ヒューレット−パッカード社のシステムおよびBub
blejetTMと通常呼ばれているシステムの両方を指すのに使用されている。
熱インクジェット印刷は、通常、一つの粒子を排出するのに約2マイクロ秒中
に約20マイクロジュールを必要とする。各ヒータが10ワットの能動電力を消
費するのは、それ自身不利であるうえに、特別なインクを必要とし、ドライバエ
レクトロニクスが複雑になり、ヒータ素子の劣化が促進される。
技術文献には、他のインクジェット印刷システムも記載されているが、現在は
商業的には使用されていない。例えば、米国特許第4、275、290号は、熱
パルスと水圧で、所定の印刷ヘッドノズルのアドレスを一致させることにより、
インクが印刷ヘッドの下を通して、スペーサにより分離されている紙に自由に流
れることができるシステムを開示している。米国特許第4、737、803号、
第4、737、803号および第4、748、458号は、印刷ヘッドノズル内
のインクのアドレスを熱パルスおよび静電誘引フィールドに一致させることによ
り、印刷シートにインクの粒子を排出させるインクジェット記録システムを開示
している。
上記各インクジェット印刷システムは、利点と欠点とを持つ。しかし、例えば
、コスト、速度、品質、信頼性、電力利用、簡単な構造と操作、耐久性および消
耗品の点で有利な改良型インクジェット印刷方法が依然として求められているこ
とは広く知られている。
発明の概要
それ故、本発明の一つの目的は、熱作動ドロップオンデマンド印刷ヘッドのイ
ンクノズル用の改良ヒータ構造体を提供することである。
ある態様から見ると、本発明は、基板、上記基板上に形成され、ヒータ材料の
平らな環状体と、全体的に見て上記ヒータ材料の平面に垂直で、実質的に上記の
ヒータ環状体の中心を通る軸を持つインクノズルを含むヒータからなる熱作動ド
ロップオンデマンド印刷ヘッドである。
他の態様からみると、本発明は、下記のステップからなる、熱作動ドロップオ
ンデマンド印刷ヘッドのインクノズル用のヒータの製造プロセスである。上記ス
テップとは、(a)基板上に、所定の輪郭を持ち、必要なノズルチップの少なく
とも周辺領域をカバーするヒータ材料の平らな領域を形成するステップと、(b
)全体的にみて、上記ヒータの平面に垂直で、上記ヒータの輪郭と実質的に同心
である軸に沿ってノズル孔部を形成するステップである。
本発明の他の好適な態様は、ヒータ材料の平らな領域が実質的に円形であるこ
とである。
本発明の他の好適な態様は、不動態化材料が二酸化シリコンであることである
。
本発明の他の好適な態様は、不動態化材料が窒化シリコンであることである。
本発明の他の好適な態様は、半径が50ミクロン以下のノズルを形成すること
である。
本発明の他の好適な態様は、ノズルと同じ基板上に駆動回路を形成することで
ある。
図面の簡単な説明
図1(a)は、本発明の一つの例示としての印刷装置の簡単なブロック図であ
る。
図1(b)は、本発明のノズルチップの一例の断面図である。
図2(a)−図2(f)は、インク粒子選択の流体力学シミュレーションであ
る。
図3(a)は、本発明の一実施形態の作動中のノズルの有限要素流体力学シミ
ュレーションである。
図3(b)は、インク粒子選択および分離の際の継続メニスカス位置である。
図3(c)は、インク粒子選択サイクル中の種々の点における温度である。
図3(d)は、種々のインク添加物に対する測定表面張力対温度曲線である。
図3(e)は、図3(c)の温度曲線を発生させるためのノズルヒータに送ら
れる電力パルスである。
図4は、本発明を実施するための印刷ヘッド駆動回路の簡単なブロック図であ
る。
図5は、故障許容を使用もしくは使用しない、本発明の特徴を実施するA4ペ
ージ幅のカラー印刷ヘッド用の予想製造歩留まりである。
図6は、印刷ヘッドを使用する一般化したブロック図である。
図7は、その中にエッチングにより多数のノズルが形成されている単一のシリ
コン基板である。
図8(a)−図8(d)は、印刷ヘッドの小さな断面の例示としてのノズルの
レイアウトである。
図8(b)は、図8(a)の詳細図である。
図9(a)−図9(o)は、標準集積回路製造と一緒に使用する、簡単な製造
ステップである。
図10(a)および図10(b)は、本発明を使用しないヒータのレイアウト
である。
図11(a)−図11(c)は、本発明によるヒータ構造体の好適な製造およ
び組立シーケンスである。
図12(a)−図12(c)は、本発明によるヒータ構造体の他の好適な製造
および組立シーケンスである。
図13(a)、図13(c)、図13(e)、図13(g)、図13(i)、
図13(k)および図13(m)は、種々のヒータ幅の、時間に対するメニスカ
スの中心位置のグラフである。
図13(b)、図13(d)、図13(f)、図13(h)、図13(j)、
図13(l)および図13(n)は、種々のヒータ幅の、種々の瞬間のメニスカ
スの種々の形状である。
好適な実施形態の詳細な説明
全般的に見て、本発明は、印刷に使用されるインク粒子を選択する手段が、選
択されたインク粒子と、インク粒子がインクの表面張力に打ち勝ち、インクの本
体から分離するには不十分な、選択されていないインク粒子との間の位置関係を
変え、一方、インク本体から、選択されたインク粒子を分離させるために別の手
段が使用されている、ドロップオンデマンド印刷機構からなる。
インク粒子選択手段をインク粒子分離手段から分離すると、どのインク粒子を
印刷に使用するのかを選択するのに必要なエネルギーが有意に低減する。インク
粒子選択手段だけを、各ノズルに対する個々の信号によって駆動すればよいから
である。インク粒子分離手段は、電界または条件に応じて、すべてのノズルに同
時に使用することができる。
インク粒子選択手段は、下記のリストから選択することができるが、リストに
記載されているものだけに限定されるわけではない。
1)圧力が掛けられているインクの表面張力の電熱低減
2)インク粒子の排出を起こさせるには不十分なバブルによる、電熱バルブの発
生
3)インク粒子を排出させるには不十分な容積の変化を持つ圧電
4)各ノズルに一つの電極を使用する静電吸引
インク粒子分離手段は、下記のリストから選択することができるが、リストに
記載されているものだけに限定されるわけではない。
1)近接(印刷ヘッドに近接している記録媒体)
2)振動インク圧による近接
3)静電吸引
4)磁気吸引
「DOD印刷技術の目標」テーブルは、ドロップオンデマンド印刷技術のいく
つかの望ましい特性を示す。このテーブルはまた、それにより本明細書に記載し
たいくつかの実施形態、または本発明に関連する他の出願に記載されているいく
つかの実施形態が使用し、それにより従来技術を改良したいくつかの方法を表示
している。
熱的インクジェット(TIJ)および圧電インクジェットシステムの場合には
、選択したインク粒子が確実にインクの表面張力に打ち勝ち、インク本体から分
離し、記録媒体に吹き付けられるためには、インク粒子の秒速は好適には約10
メートルであることが好ましい。上記システムの電気的エネルギーを、インク粒
子の運動エネルギーに変換する効率は非常に低い。TIJシステムの効率は、約
0.02%である。このことは、TIJ印刷ヘッド用の駆動回路は、大電流を切
り替えなければならないことを意味する。圧電インクジェットヘッド用の駆動回
路は、大電圧を切り替えなければならないか、または大きな容量性の負荷を切り
替えなければならない。ページ幅のTIJ印刷ヘッドの全消費電力は、非常に高
い。1秒間に四枚のカラーブラックイメージを印刷する、800dpiのA4全
カラーページ幅のTIJ印刷ヘッド印刷は、約6キロワットの電力を消費するが
、その大部分は無駄な熱になる。この熱を除去するのが難しいので、ローコスト
で、高速、高解像度の小型のページ幅TIJシステムの生産がなかなかうまくい
かない。
本発明の実施形態の一つの重要な特徴は、印刷に使用するインク粒子の選択に
必要なエネルギーを有意に低減する手段である。上記のエネルギーの低減は、イ
ンク粒子を選択するための手段を、選択したインク粒子を確実にインク本体から
分離し、また記録媒体上にドットを形成するための手段から分離することによっ
て達成される。インク粒子選択手段だけを、各ノズルに対する個々の信号によっ
て駆動しなければならない。インク粒子分離手段は、電界または条件に従って、
すべてのノズルに同時に使用することができる。
「インク粒子選択手段」を示すテーブルには、本発明のインク粒子を選択する
ための可能な手段がいくつか表示されている。インク粒子選択手段は、選択され
たインク粒子の位置を十分に変化させるのに必要であり、それにより、インク粒
子分離手段は、選択されたインク粒子を、選択されなかったインク粒子から区別
することができるわけである。
他のインク粒子選択手段も、使用することができる。
水をベースとするインク用の好適なインク粒子選択手段は、方法1:「圧力下
のインクの表面張力を電熱により低減する」方法である。このインク粒子選択手
段は、他のシステムと比較すると、多くの利点を持つ。その利点としては下記の
ものが含まれる。すなわち、動作電力が低いこと(TIJの約1%)、CMOS
VLSIチップ製造法と互換性を持っていること、動作電圧が低いこと(約1
0V)、ノズル密度が高いこと、低温で動作できること、および適当なインク組
成の範囲が広いことである。インクの表面張力は、温度の上昇に従って、低下し
なければならない。
高温溶融インクまたはオイルをベースとするインク用の好適なインク粒子選択
手段は、方法2:「変動インク圧とともに、インクの粘度を電熱により下げる」
方法である。上記インク粒子選択手段は、温度の上昇と共に、粘度が大幅に低下
するが、表面張力は少ししか低下しないインクと一緒に使用するのに特に適して
いる。特に、比較的高い分子量を持つ非極性インクキャリヤの場合に適している
。これは特に、高温溶融インクおよびオイルをベースにしているインクの場合に
適している。
「インク粒子分離手段」を示すテーブルには、選択されたインク粒子をインク
本体から分離し、選択したインク粒子により、印刷媒体上にドットを形成するの
に使用することができるいくつかの方法が示されている。インク粒子分離手段は
、選択されなかったインク粒子が、印刷媒体上に絶対にドットを形成しないよう
にするために、選択されたインク粒子を選択されなかったインク粒子から区別す
る。
他のインク粒子分離手段も使用することができる。
好適なインク粒子分離手段は、用途によって変わる。
ほとんどの用途の場合には、方法1:「静電誘引」または方法2:「交流電界
」が最も適している。平滑なコーティングが行われた紙またはフィルムが使用さ
れ、非常な高速が絶対必要ではない場合には、方法3:「近接」が適当である。
高速、高品質を必要とする場合には、方法4:「転送近接」を使用することがで
きる。方法6:「磁気誘引」は、印刷媒体が、近接印刷に対してあまりにざらざ
らしていて、静電インク粒子分離用に必要な高電圧が望ましくない、ポータブル
印刷システムに適している。すべての用途に適用できるはっきりした「最善の」
インク粒子分離手段はない。
本発明の種々のタイプの印刷システムのより詳細な説明は、その開示が参考文
献として本明細書に記載されている、1995年4月12日付けの下記のオース
トラリアの特許明細書に記載されている。すなわち、
「液体インク故障許容(LIFT)印刷機構」(出願番号:PN2308)
「LIFT印刷の際の電熱インク粒子選択」(出願番号:PN2309)
「印刷媒体近接によるLIFT印刷の際のインク粒子分離」(出願番号:PN
2310
「ヘッドと媒体の間の距離を変化させることによる、近接LIFT印刷におけ
るインク粒子の大きさの調整」(出願PN2311)
「音響インク波を使用する増大近接LIFT印刷」(出願番号:2312)
「LIFT印刷における静電インク粒子分離」(出願番号:PN2313)
「近接印刷における多重同時インク粒子サイズ」(出願番号:PN2321)
「熱作動印刷ヘッドの自己冷却動作」(出願番号:PN2322)
「熱的粘度低減LIFT印刷」(出願番号:PN2323)
図1(a)は、本発明の一つの好適な印刷システムの略図である。
イメージ源52は、スキャナまたはコンピュータからのラスタイメージデータ
であってもよいし、ページ記述言語(PDL)の形のアウトラインイメージデー
タであってもよいし、または他の形のディジタルイメージ表現であってもよい。
このイメージデータは、イメージ処理システム53によってピクセルマップされ
たページイメージに変換される。上記イメージ処理システムは、PDLイメージ
データの場合には、ラスタイメージプロセッサ(RIP)かも知れないし、ラス
タイメージデータの場合には、ピクセルイメージ操作であるかもしれない。イメ
ージ処理ユニット53によって生じた連続トーンデータは、ハーフトーンである
。ハーフトーン化は、ディジタルハーフトーン化ユニット54によって行われる
。ハーフトーン化されたビットマップイメージデータは、イメージメモリ72に
記憶される。プリンタおよびシステム構成によって、イメージメモリ72は全ペ
ージメモリであったり、バンドメモリであったりする。ヒータ制御回路71は、
イメージメモリ72からデータを読み取り、印刷ヘッド50の一部であるノズル
ヒータ(図1(b)の103)に、時変電気パルスを送る。上記パルスは適当な
時間に、適当なノズルに送られ、その結果、選択されたインク粒子は、イメージ
メモリ72のデータによって指定された、記録媒体51上の適当な場所に点を形
成する。
記録媒体51は、マイクロコントローラ315によって制御されている、ペー
パー移動制御システム66によって電子的に制御されている、ペーパー移動シス
テム65によって、ヘッド50に対して移動する。図1(a)に示すペーパー移
動システムはその略図にしか過ぎず、多くの異なる機械的構成を使用することが
できる。ページ幅印刷ヘッドの場合には、記録媒体51を、定置型のヘッド50
に接触させながら移動させるのが最も便宜的な方法である。しかし、走査印刷シ
ステムの場合には、相互にラスタ動作が行われるように、普通ヘッド50を軸(
サブ走査方向)上にそって移動し、記録媒体51を直行軸(主走査方向)にそっ
て移動するのが最も便宜的な方法である。マイクロコントローラ315は、また
インク圧レギュレータ63およびヒータ制御回路71を制御することができる。
表面張力の低減を利用する印刷の場合には、インクは圧力が掛けられた状態で
インクタンク64に収容されている。(インク粒子が排出されない)静止状態の
場合には、インク圧は表面張力に打ち勝って、インク粒子を排出するほどまだ十
分高くない。インク圧レギュレータ63の制御の下で、インクタンク64に圧力
を加えることによって、インクに一定の圧力を加えることができる。別の方法と
しては、大型の印刷システムの場合には、ヘッド50上の適当な高さのところに
、インクタンク64のインク頂面を設定することによって、インク圧を非常に正
確に発生し、制御することができる。インクレベルは、簡単なフロート弁(図示
せず)により調整することができる。
粘度の低減を利用する印刷の場合には、インクはインクタンク64に収容され
ていて、インク圧は振動により与えられる。この振動を発生するための手段とし
ては、インクチャネル(図示せず)に実装されている圧電アクチュエータを使用
することができる。
インク粒子分離手段と共に適当に配置すれば、選択されたインク粒子は、記録
媒体51上に点を形成し、一方、選択されなかったインク粒子はインク本体の一
部として残る。
インクは、インクチャネル装置75によって、ヘッド50の背面に分配される
。インクは、好適にはヘッド50のシリコン基板に彫られたスロットおよび/ま
たは孔部を通って、ノズルおよびアクチュエータが設置されている前面に流れる
ことが好ましい。熱的選択が行われる場合には、ノズルアクチュエータは、電熱
ヒータである。
本発明のある種のタイプのプリンタの場合には、選択されたインク粒子をイン
ク本体から確実に分離し、記録媒体51の方向に確実に移動させるのに、外部電
界74が必要になる。インクは容易に電導性を持つことができるので、手ごろな
外部電界74として、定電界を使用することができる。この場合、ペーパーガイ
ドまたはプラテン67を、電導性の材料で作ることができ、電界を発生する一つ
の電極として使用することができる。もう一方の電極としては、ヘッド50自身
を使用することができる。他の実施形態は、選択されたインク粒子と選択されな
かったインク粒子とを区別するための手段として、印刷媒体の近接を使用してい
る。
小さなインク粒子の場合には、インク粒子に掛かる重力は非常に小さい。すな
わち、表面張力の約10-4で、ほとんどの場合、重力は無視することができる。
このため、印刷ヘッド50および記録媒体51を、局部的な重力の場に対して任
意の方向に向けることができる。このことはポータブル型のプリンタにとって、
重要な要件である。
図1(b)は、修正CMOSプロセスを使用して製造した、本発明の単一の顕
微鏡的ノズルチップの実施形態の断面の詳細な拡大図である。ノズルは基板10
1に彫られていて、この基板はシリコン、ガラス、金属または他の任意の適当な
材料で作ることができる。基板が半導体でない材料でできている場合には、(無
定型シリコンのような)半導体材料を基板上に配置して、表面に半導体層に集積
駆動トランジスタおよびデータ分配回路を形成することができる。単結晶シリコ
ン(SCS)基板は、下記に記載する利点を含めて、いくつかの利点を持つ。
1)高性能の駆動トランジスタ、および他の回路をSCS内に作ることができる
。
2)標準VLSI処理装置を使用して、現在の施設(工場)で印刷ヘッドを作る
ことができる。
3)SCSは機械的強度および剛性が高い。
4)SCSは高い熱伝導性を持つ。
この例の場合には、ノズルは円筒形をしていて、環状のヒータ103を持つ。
ノズルチップ104は、CMOS駆動回路の形成過程中に形成された二酸化シリ
コン層から作られている。ノズルチップは、窒化シリコン膜で保護されている。
突出しているノズルチップは、印刷ヘッド表面上の圧力が掛かっているインク1
00の接触点を制御している。印刷ヘッドの表面も、印刷ヘッドの前面を横切っ
て、不必要にインクが広がらないように疎水化されている。
多くの他の構成のノズルを使用することができ、本発明のノズルの実施形態の
形、大きさおよび使用材料をいろいろに変えることができる。その上にヒータお
よび駆動エレクトロニクスが形成されている基板に彫られたモノリシックなノズ
ルは、オリフィス板を必要としないという利点を持つ。オリフィス板を使用しな
いですむので、製造およびを組立の際のコストを有意に節減することができる。
オリフィス板を使用しないですむ最近の方法としては、ゼロックスに譲渡された
堂本他の1986年の米国特許第4、580、158号、ヒューレット−パッカ
ード社に譲渡されたミラー他の1994年の米国特許第5、371、527号に
記載されている方法のような「渦巻」アクチュエータ等がある。しかし、これら
の方法は、動作が複雑で、製造が難しい。本発明の印刷ヘッド用のオリフィス板
を使用しない好適な方法は、アクチュエータの基板内にオリフィスを内蔵させて
いる。
このタイプのノズルは、インク粒子を分離するために種々の技術を使用してい
る印刷ヘッドに対して使用することができる。
静電インク粒子分離を使用する動作
最初の例として、図2に表面張力の熱による低減および静電式インク粒子分離
を使用する動作を示す。
図2は、米国、イリノイ州所在のフルイドダイナミック社が販売している商業
的な流体の動的シミュレーションソフトウエアパッケージであるFIDAPを使
用して行ったエネルギーの移動および流体の動的シミュレーションの結果を示す
。このシミュレーションは、周囲温度が30℃の場合の、直径が8ミクロンの熱
的インク粒子選択ノズルの実施形態についてのものである。ヒータに供給された
全エネルギーは、276nJで、それぞれが4nJのエネルギーを持つ69のパ
ルスによって与えられる。インク圧は、周囲の空気圧より10kPa高く、30
℃のインクの粘度は1.84cPsであった。インクは水をベースとするもので
、温度が上昇するにつれて、表面張力を大きく低下させるために、0.1%のパ
ルミチン酸のゾルを含む。図に示すように、ノズルの中心軸から半径方向へのノ
ズルチップの断面の長さは40ミクロンである。シリコン、窒化シリコン,アモ
ルファス二酸化シリコン、結晶状二酸化シリコンを含むノズル材料内、および水
をベースとするインク中を流れる熱を、それぞれの密度、熱容量、および熱伝導
性を使用してシミュレートした。シミュレーションの時間的ステップは0.1マ
イクロ秒である。
図2(a)は、ヒータが作動する直前の静止状態を示す。平衡状態にあり、そ
のため静止状態の場合には、インク圧プラス外部電界は、絶対に、周囲温度での
表面張力に打ち勝っことができないので、ノズルからインクが噴出しない。静止
状態の場合には、インクのメニスカスは、印刷ヘッドの表面より有意に突出しな
いので、そのため静電界はメニスカスに有意に集中しない。
図2(b)は、ヒータ加熱パルスの供給が開始してから5マイクロ秒後の5℃
毎の等温線を示す。ヒータが加熱すると、ノズルチップと接触しているインクは
急速に加熱される。表面張力が低下すると、メニスカスの加熱された部分が冷た
いインクのメニスカスに対して急速に膨張する。この状況下では、対流が起こり
、この対流がこの熱をノズルチップのインクの自由面の一部上を通して急速に移
動させる。この場合、熱をインクがヒータと接触していないところを通して分配
しないで、インクの表面上を通して分配する必要がある。なぜなら、固体のヒー
タに対して粘り気のあるインクが伝わると、ヒータと直接接触しているインクが
移動できなくなるからである。
図2(c)は、ヒータ加熱パルスの供給が開始してから、10マイクロ秒後の
5℃毎の等温線を示す。温度が上昇すると、表面張力が低下し、力の平衡状態が
破れる。全メニスカスが加熱されると、インクが流れ始める。
図2(d)は、ヒータ加熱パルスの供給が開始してから、20マイクロ秒後の
5℃毎の等温線を示す。インク圧により、インクが新しいメニスカス部分に流れ
、印刷ヘッドから突き出る。静電界は、突き出た電導性のインク粒子によって集
中する。
図2(e)は、ヒータ加熱パルスの供給が開始してから、30マイクロ秒後の
5℃毎の等温線を示す。ヒータパルスの持続時間は24マイクロ秒であるので、
この等温線はヒータパルスの終了後6マイクロ秒のものである。ノズルチップは
、酸化層を通しての熱伝導、および流動中のインクへの熱伝導により急速に冷却
する。ノズルチップは、インクにより効果的に水冷される。静電誘引により、イ
ンク粒子の記録媒体へ向かっての加速が開始される。ヒータパルスが有意に短く
なると(この場合は、16マイクロ秒以下になると)、インクは印刷媒体の方向
に加速されず、ノズルの方向に戻る。
図2(f)は、ヒータパルスの供給が終了してから、26マイクロ秒後の5℃
毎の等温線を示す。ノズルチップの温度は、周囲温度と比較した高さが5℃以下
になる。これにより、ノズルチップ周囲の表面張力が増大する。ノズルからイン
クが引き出される速度が、ノズルを通してのインクの流れの粘度による制限値を
超えると、ノズルチップの領域内のインクが「くびれ」を起こし、選択されたイ
ンク粒子がインク本体から分離する。その後、選択されたインク粒子は、外部の
静電界の影響を受けながら、記録媒体に向かって移動する。その後、ノズルチッ
プのインクのメニスカスは、静止位置に戻り、次の加熱パルスに対して次のイン
ク粒子を選択する準備が整う。各加熱パルスに対して、一つのインク粒子が選択
され、分離され、記録媒体上に点を形成する。加熱パルスは電気的に制御されて
いるので、ドロップオンデマンドインクジェット動作を行うことができる。
図3(a)は、ヒータ加熱パルスの供給が開始されてから5マイクロ秒毎の、
インク粒子選択サイクル中の連続メニスカスの位置を示す。
図3(b)は、メニスカスの中心の点の移動を示す、メニスカスの位置対時間
のグラフである。ヒータパルスはシミュレーションが開始してから10秒後にス
タートする。
図3(c)は、時間の経過中の、ノズルのいろいろな点での温度の合成曲線で
ある。グラフの垂直軸は100℃単位の温度である。グラフの水平軸は、10マ
イクロ秒単位の時間である。図3(b)の温度曲線は、0.1マイクロ秒毎にF
IDAPにより計算したものである。局部的な周囲温度は30℃である。三つの
点での温度履歴を示す。
A−ノズルチップ:不動態化層、インクおよび空気の間の接触円の温度履歴で
ある。
B−メニスカスの中間点:ノズルチップとメニスカスの中心との間のインクメ
ニスカスの中間点上の円である。
C−チップ表面:ノズルの中心から20ミクロン離れた、印刷ヘッドの表面上
の点である。温度は数度しか上がらない。このことは、能動回路をノズルに非常
に接近して設置しても、温度上昇による性能または寿命の劣化は起こらないこと
を示している。
図3(e)は、ヒータに加えられる電力を示す。最適な動作を行うには、ヒー
タパルスの供給が開始されたときに、温度が急速に上昇しなければならず、パル
スが持続している時間、温度をインクの沸点より少し低い温度に維持する必要が
あり、またパルスの供給が停止された場合には、温度が急速に低下しなければな
らない。そうするために、ヒータに供給される平均エネルギーを、パルスの持続
時間中変動させる。この場合、上記変動は、それぞれが4nJのエネルギーを持
つ、0.1マイクロ秒のサブパルスをパルス周波数変調することによっで行われ
る。ヒータに供給されるピーク電力は40ミリワットで、ヒータパルスの持続時
間中の平均電力は、11.5ミリワットである。この場合、サブパルス周波数は
5Mhzである。この周波数は、印刷ヘッドの動作に有意な影響を与えずに、簡
単に変化させることができる。もっと高いサブパルス周波数を使用すれば、ヒー
タに供給される電力をもっと細かく調整することができる。サブパルス周波数と
しては、13.5Mhzが適当である。何故なら、この周波数はまた無線周波数
の干渉(RFI)の影響を最低限度に抑えるのに適しているからである。
負の温度係数の表面張力を持つインク
温度が下降するに従ってインクの表面張力が低下しなければならないという要
件があるからといって、インクの選択が大きな制限を受けることはない。何故な
ら、大部分の純粋な液体および多くの混合液は、上記特性を持っているからであ
る。任意の液体に対する表面張力対温度の関係を表す式はない。しかし、多くの
液体に対しては、ラムザイとシールドの下記の経験式で十分である。
但し、γTは温度Tにおける表面張力であり、kは定数であり、Tcは液体の臨
界温度であり、Mは液体の分子量であり、xは液体の結合の度合いであり、ρは
液体の密度である。この式は、温度が液体の臨界温度に達すると、大部分の液体
の表面張力はゼロに下がることを示している。大部分の液体の場合には、臨界温
度は、大気圧の下での沸点よりかなり高い。そのため、実際の排出温度付近で、
小さな温度変化で、表面張力が大きく変わるようなインクを作るには、界面活性
剤の混合物を使用することを勧める。
界面活性剤の選択は重要である。例えば、熱式インクジェットプリンタ用の水
をベースとするインクは、多くの場合、表面張力を低下させ、急速に乾燥させる
ためにイソプロピルアルコール(2−プロパノール)を含んでいる。イソプロピ
ルアルコールの沸点は、水の沸点より低い82.4℃である。温度が上昇すると
、アルコールは水より速く蒸発し、アルコールの濃度が低下し、表面張力が大き
くなる。1−ヘクサノール(沸点:158℃)のような界面活性剤は、このよう
な効果を抑えるために使用することができ、温度が上昇すると、表面張力を少し
下げる。しかし、温度の上昇と共に表面張力が比較的大きく下がるということは
、動作のラチチュードを最大にするために望ましいことである。大きな動作マー
ジンを達成するには、好適には、30℃の温度範囲で、表面張力が20mN/m
だけ減少するのが好ましいが、一方、本発明の印刷ヘッドの動作を行うには、1
0mN/m程度の低い表面張力の低下を使用することができる。
大きなΔγTを持つインク
温度上昇に従って、表面張力を大きく下げるには、いつくかの方法を使用する
ことができる。そのような方法の中の二つを以下に説明する。
1)インクは、周囲温度では固体だが、しきい値温度で溶解する界面活性剤の低
濃度のゾルを含むことができる。粒子サイズは、1,000Å以下のものが望ま
しい。水をベースとするインク用の界面活性剤の望ましい融点は、50−90℃
であり、好適には60−80℃であることが好ましい。
2)インクは、転相温度(PIT)が最高周囲温度より高いが、インクの沸点よ
り低いオイル/水のマイクロ乳剤を含むことができる。安定状態に保持するため
に、マイクロ乳剤のPITは、好適には、インクが遭遇する最大非動作温度より
20℃またはそれ以上高いことが好ましい。約80℃のPITが適当である。
界面活性剤のゾルを含むインク
インクを、必要な温度範囲で溶解する小さな粒子の界面活性剤のゾルとして調
製することができる。上記界面活性剤のいくつかの例をあげると、下記の炭素数
が14−30のカルボン酸等がある。
粒子サイズが小さいゾルの融点は、普通バルク材料の融点より少し低いので、
必要なインク粒子選択温度より少し高い融点を持つカルボン酸を選ぶのが好まし
い。望ましい例としてはアラキジン酸がある。
上記カルボン酸は、高純度、低価格で入手できる。必要な界面活性剤の量は、
非常に少なくてすむので、インク以外のコストは問題にならないほど安い。鎖の
長さが少しずつ違うカルボン酸を、ある温度範囲にわたって融点の範囲を広くす
るために使用することができる。そのような混合物のコストは、通常純粋な酸よ
り安い。
界面活性剤の選択範囲を、簡単な直鎖のカルボン酸だけに制限する必要はない
。分岐した鎖またはフェニール基、または疎水部分を持っている界面活性剤を使
用することができる。また、カルボン酸を使用する必要もない。多くの高い極性
の部分は、界面活性剤の疎水性の終端部として適している。分散を助け、凝集を
防止する目的で、界面活性剤の粒子の表面を帯電させるために、極性を持つ端部
を水中でイオン化することが望ましい。カルボン酸の場合には、水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化カリウムのようなアルカリを添加することにより、上記イオン化
を行うことができる。
界面活性剤ゾルを含むインクの調製
界面活性剤ゾルは、別個に高濃度で調製することができ、必要な濃度でインク
に添加することができる。
界面活性剤ゾルを調製する例示としてのプロセスは下記の通りである。
1)酸素を含まない空間内で、純化した水にカルボン酸を加える。
2)混合物を、カルボン酸の融点以上に加熱する。水を沸騰させる。
3)100−1,000Åの範囲の、通常の大きさのカルボン酸の小さな粒子が
得られるまで、混合物に超音波を当てる。
4)混合物を冷却する。
5)混合物の頂部から大きな粒子を他に移す。
6)NaOHのようなアルカリを加え、粒子の表面において、カルボン酸の分子
をイオン化する。適当なpHは約8である。このステップは絶対に必要なもので
はないが、ゾルを安定させるのに役立つ。
7)ゾルを遠心分離する。カルボン酸の密度は水より低いので、より小さな粒子
が遠心分離機の外側に堆積し、大きな粒子が中心に集まる。
8)5000Å以上のすべての粒子を除去するために、微小な孔を持つフィルタ
を使用して、ゾルをろ過する。
9)界面活性剤ゾルを、調製したインクに加える。ゾルの濃度は極めて薄いもの
であってよい。
調製したインクも、染料または色素、殺菌剤、また静電インク粒子分離を使用
した場合には、インクの電導性を高めるための薬剤、湿潤剤、および必要とした
他の薬剤を含んでいる。
泡消し剤は、一般に必要ではない。何故なら、インク粒子排出プロセス中には
バブルは形成されないからである。
陽イオン性界面活性剤ゾル
陰イオン性界面活性剤ゾルで調製したインクは、通常陽イオン性の染料または
色素と一緒に使用するのには適していない。何故なら、陽イオン性の染料または
色素は、陰イオン性の界面活性剤と一緒に使用すると、沈澱や凝集を起こすから
である。陽イオン性の染料および色素を使用するためには、陽イオン性の界面活
性剤ゾルが必要である。この目的のためには、アルキルアミン属が適している。
以下の表にこの目的に適している種々のアルキルアミンを示す。
陽イオン性界面活性剤ゾルの調製方法は、本質的には、pHバランスを調製し
、界面活性剤の粒子上の電荷を増大するために、アルカリの代わりに酸を使用す
るという点を除けば、陰イオン性界面活性剤ゾルを調製する方法と類似している
。HClを使用するpH6が適当である。
マイクロ乳剤をベースとするインク
ある種の温度しきい値である表面張力を大きく下げる他の方法は、マイクロ乳
剤上のインクに基づく方法である。必要な排出しきい値温度付近に転相温度(P
IT)を持つマイクロ乳剤を選ぶ。PIT以下の温度では、マイクロ乳剤は水中
にオイルの形(O/W)になっているが、PIT以上の温度では、マイクロ乳剤
はオイルの中の水の形(W/O)になっている。温度が低い場合には、マイクロ
乳剤を形成している界面活性剤は、オイルの周囲の曲率の高い表面に好んで集ま
り、温度がPITより有意に高い場合には、界面活性剤は水の周囲の曲率の高い
表面に好んで集まる。温度がPITに近い場合には、マイクロ乳剤は、水とオイ
ルとが位相的につながっている連続状態の「スポンジ」を形成する。
表面張力を下げるには、二つのメカニズムがある。PIT付近では、界面活性
剤は、非常に曲率が低い表面に好んで集まる。その結果、界面活性剤の分子は、
オイル乳剤の曲率より遙かに大きい曲率を持つインク/空気の界面に移動する。
それにより、水の表面張力は下がる。温度が転相温度より高い場合には、マイク
ロ乳剤は、O/WからW/Oに変化し、そのためインク/空気の界面は水/空気
からオイル/空気に変化する。オイル/空気の界面は、低い表面張力を持つ。
マイクロ乳剤をベースとするインクは、非常に種々様々な方法で調製すること
ができる。
インク粒子を急速に排出する場合には、好適には、粘度の低いオイルを選択す
ることが好ましい。
多くの場合、適当な極性溶媒は水である。しかし、ある場合には、異なる極性
溶媒が必要になる場合がある。これらの場合には、表面張力を大きく下げること
ができるように、表面張力の高い極性溶媒が選ばれる。
転相温度が必要な範囲に収まるようにするために、界面活性剤を選ぶことがで
きる。例えば、(CnH2n+1C4H6(CH2CH2O)mOHという一般化学式のポ
リ(オキシエチレン)アルキルフェニルエーテル(エトキシ化アルキルフェノー
ル))を選ぶことができる。界面活性剤の親水性は、mを大きくすることによっ
て増大させることができ、疎水性は、nを大きくすることによって増大させるこ
とができる。mの適当な数値は約10であり、nの適当な数値は8である。
市販の低コストの製剤は、種々の分子比の酸化エチレンとアルキルフェノール
を重合させて製造される。これらの市販の製剤で十分であり、特定の数のオキン
エチレン基を持つ非常に純粋な界面活性剤を使用する必要はない。
この界面活性剤の化学式は、C8H17C4H6(CH2CH2O)nOHである(n
の平均=10)。
類似の界面活性剤は、オクトキシノール−10、PEG−10オクチルフェニ
ールエーテルおよびPOE(10)オクチルフェニールエーテルを含む。
HLBは13.6であり、融点は7℃であり、曇り点は65℃である。
この界面活性剤の市販の製剤は、種々のブランド名で販売されている。次の表
にメーカーおよびブランド名を示す。
表に表示した界面活性剤は、大量に低価格(ポンド当たり1ドル以下)で入手
することができ、5%の濃度の界面活性剤を含むマイクロ乳剤を調製する場合、
1リットルに占めるコストは10セント以下である。
他の適当なエトキシ化アルキルフェニールとしては、以下に記載するものがあ
る。
マイクロ乳剤をベースとするインクは、表面張力が制御できる他に種々の利点
を持つ。
1)マイクロ乳剤は、熱力学的に安定で、分離しない。それ故、貯蔵期間が非常
に長い。時々しか使用されない事務所用およびポータブル型のプリンタの場合に
は、このことは特に重要である。
2)特定の粒子サイズのマイクロ乳剤を、容易に作ることができ、乳化したオイ
ルの粒の大きさを確実に特定の範囲に制限するために、長くかき混ぜたり、遠心
分離したり、ろ過する必要がない。
3)インクに含まれているオイルの量を、非常に高くすることができるので、オ
イルにまたは水に溶ける染料、または両方に溶ける染料を使用することができる
。また、特定の色を得るために、水に溶ける染料、オイルに溶ける他の染料の混
合物を使用することもできる。
4)オイルの微細な油滴に捕らわれたとき、オイルと混合することができる色素
が、凝集するのを防止することができる。
5)マイクロ乳剤を使用することによって、印刷媒体の表面で、種々の色の染料
が混じり合うのを、少なくすることができる。
6)マイクロ乳剤の粘度は、非常に低い。
7)湿潤剤のための要件を緩やかにすることもできるし、無視することもできる
。
マイクロ乳剤をベースとするインクの染料および色素
水の混合物のオイルの含有量を、40%まで増やすことができ、それでもO/
Wマイクロ乳剤を形成することができる。そうすることにより、染料および顔料
の含有量を増やすことができる。
染料と顔料の混合物を使用することができる。染料と顔料の両方を含むマイク
ロ乳剤をベースとする一例を以下に示す。
1)水70%
2)水溶性染料5%
3)界面活性剤5%
4)オイル10%
5)オイルと混合できる顔料10%
下記の表は、使用することができるマイクロ乳剤のオイル相および水相内の着
色剤の九つの基本的な組み合わせを示す。
着色剤を含まない、9番目の組み合わせは、透明なコーティング、紫外線イン
クおよび選択的グロスハイライトに印刷する際に役に立つ。
多くの染料は両親媒性であるので、オイルと水の境界層に大量の染料も溶かす
ことができる。何故なら、この層は非常に広い表面積を持っているからである。
また、各相に複数の染料と顔料を含ませることもできるし、各相に染料と顔料
の混合物を含ませることもできる。
複数の染料または顔料を使用する場合には、調製されたインクの吸収スペクト
ルは、使用したいくつかの着色剤の吸収スペクトルの加重平均になる。それによ
り二つの問題が生じる。
1)両方の着色剤の吸収ピークが平均されると、吸収スペクトルは広くなる傾向
がある。そうなると、色が「濁る」傾向を示す。輝かしい色を出したい場合には
、人間の視覚に感じる色に頼るだけではなく、その吸収スペクトルに基づいて、
染料および顔料を注意深く選択しなければならない。
2)インクの色は、基質が異なると違って見えることがある。染料と顔料とを組
み合わせて使用すると、吸収力の高い紙の上に印刷したインクの色に対する染料
の色の影響が、低くなる傾向がある。何故なら、染料は紙に吸収されるが、顔料
は「吸収されずに、紙の表面に留まる」傾向があるからである。これはいくつか
の状況においては有利なものとして使用することができる。
インク粒子選択温度範囲にクラフト点を持つ界面活性剤
イオン性の界面活性剤の場合には、それ以下の温度では溶解性が非常に低いあ
る温度(クラフト点)があり、溶液は本質的にミセルを含んでいない。クラフト
温度点以上の温度においては、ミセルが形成されるようになり、界面活性剤の溶
解性が急速に増大する。臨界ミセル濃度(CMC)が、特定の温度で界面活性剤
の溶解性を超えると、どちらかといえば、CMCのところで溶解性が最大になる
ところで、表面張力が最小になる。界面活性剤は、通常クラフト点以下の温度で
は効果が非常に低くなる。
この性質は、温度が上昇した場合、表面張力を下げるのに使用することができ
る。室温の場合には、界面活性剤の一部だけが溶ける。ノズルヒータをオンにす
ると、温度が上昇し、もっと多くの界面活性剤が溶け、表面張力を下げる。
インクの温度が到達する温度範囲の一番高い温度付近にクラフト点がある、界
面活性剤を選ぶべきである。そうすることにより、室温での溶液中の界面活性剤
の濃度と、インク粒子選択温度における溶液中の界面活性剤の濃度との間の、マ
ージンを最大にすることができる。
界面活性剤の濃度は、クラフト点におけるCMCに、ほぼ等しいものでなけれ
ばならない。このようにすることにより、表面張力の低下が、上昇した温度にお
いて最大になり、室温において最小になる。
下記の表は、クラフト点が必要とする温度範囲にある市販のいくつかの界面活
性剤を示す。
インク粒子選択温度範囲内に、曇り点を持つ界面活性剤
ポリオキシエチレン(POE)鎖を使用する非イオン性界面活性剤は、温度が
上昇するにつれて、表面張力が低下するインクを調製するのに使用することがで
きる。温度が低い場合には、POE鎖は親水性で、界面活性剤は溶液の状態にな
っている。温度が上昇するにつれて、分子のPOE部分の周囲に形成された水は
分裂し、POE部分は疎水性になる。温度が高くなればなるほど、界面活性剤は
ますます水に溶け難くなり、その結果、空気/インク界面の界面活性剤の濃度が
増大し、それにより表面張力が下がる。非イオン性界面活性剤のPOE部分が親
水性になる温度は、その界面活性剤の曇り点と関連している。POE鎖それ自身
は、特に適してはいない。何故なら、曇り点は一般に100℃より高いからであ
る。
低温における疎水性を増大しないでPOE鎖の曇り点を下げるために、ポリオ
キシプロピレン(POP)を、POE/POPブロックコポリマーのPOEと、
結合させることができる。
下記の二つの主な形状を持つ対称的なPOE/POPコポリマーを入手するこ
とができる。
1)(一般的に、CAS9003−11−6)であるポロクサマクラスの界面活
性剤のような、分子の末端部にPOE部分を持ち、中心部にPOP部分を持つ界
面活性剤
2)(一般的にCAS9003−11−6)であるメロクサポールクラスの界面
活性剤のような、分子の末端部にPOP部分を持ち、中心部にPOE部分をもつ
界面活性剤
下記の表に、室温で高い表面張力を持ち、曇り点が40℃以上100℃以下で
ある種々のポロクサメールおよびメロクサポールのうちのいくつかを示す。
他の種類のポロクサメールおよびメロクサポールは、周知の技術により容易に
合成することができる。望ましい特性は、室温での表面張力ができるだけ高いこ
と、曇り点が40−100℃の範囲にあり、好適には60−80℃の範囲にある
ことである。
xおよびzの平均が約4であり、yの平均が約15である種々のメロクサポー
ル[HO(CHCH3CH2O)x(CH2CH2O)y(CHCH3CH2O)2OH
]が適している。
インクの電導性を高めるために塩を使用する場合には、界面活性剤の曇り点に
対する塩の影響を考慮しなければならない。
POEの曇り点は、(I-のような)水の構造を破壊するイオンによって高く
なり、それによりPOE酸素の孤立したペアと水素結合を形成するのに使用でき
る、水の分子の数がさらに増える。POE界面活性剤の曇り点は、(Cl-、O
H-のような)水構造を形成するイオンによって下がる。水素結合を形成するの
に使用できる水の分子の数が少なくなるからである。臭化物イオンは比較的弱い
効果しか持っていない。ブロックコポリマー界面活性剤のPOE鎖およびPOP
鎖の長さを変えることにより、また電導性を高くするために添加される塩(例え
ば、Cl-,Br-、I-)を変えることによって、インクの組成を、必要な温度
に合わせて「調製」することができる。NaClは、価格も安く、毒性もないの
で、インクの電導性を高めるには、最適の塩であるように思われる。NaClは
、非イオン性界面活性剤の曇り点を少し下げる。
高温溶融インク
インクは室温で液体である必要はない。印刷ヘッドおよびインクタンクをイン
クの融点以上に加熱することにより、固体の「高温溶融」インクを使用すること
ができる。高温溶融インクは、溶融したインクの表面張力が温度が上昇するに従
って下がるように調製しなければならない。ワックスおよび他の物質を使用する
多くの上記調剤の表面張力は、約通常2mN/m下がる。しかし、粘度の減少よ
りも表面張力の減少を使用する場合には、良い動作マージンを得るためには、表
面張力の低下は約20mN/mであることが望ましい。
静止状態の温度とインク粒子選択温度との間の温度差は、水をベースとするイ
ンクの場合よりも、高温溶融インクの場合のほうが大きい場合がある。何故なら
、水をベースとするインクは水の沸点によって制限を受けるからである。
インクは静止温度で液体でなければならない。静止温度は、印刷されたページ
がなるかもしれない最高の周囲温度より高くなければならない。静止温度は、ま
た印刷ヘッドを加熱するのに要する電力を少なくし、静止温度とインク粒子排出
温度との間のマージンを最大にするために、できるだけ低くなければならない。
他の温度も使用することができるが、適当な静止温度は、一般に60−90℃の
範囲の温度である。また一般に、適当なインク粒子排出温度は、160−200
℃の範囲の温度である。
温度が上昇するにつれて表面張力を低下を促進するには、いくつかの方法があ
る。
1)融点が静止温度より実質的に高いが、インク粒子排出温度より実質的に低い
界面活性剤の分散している微小な粒子を、液相で高温溶融インクに添加すること
ができる。
2)極性および非極性化合物両方の融点より、好適には少なくとも20℃高いP
ITを持つ極性/非極性マイクロ乳剤
温度が上昇するにつれて表面張力を大きく下げるには、静止温度の時に、高温
溶融インクキャリヤが比較的高い表面張力(30mN/m以上)を持っているこ
とが望ましい。この条件だと、ワックスのようなアルカン類は除外される。適当
な材料は、一般に強い分子間引力を持っているが、この分子間引力は、例えば、
融点が88℃であるヘクサンテトロールのようなポリオールのような多重水素結
合によるものである。
種々の溶液の表面張力の低下
図3(d)は、下記の添加剤を含む種々の水性調剤の表面張力に対する測定効
果を示す。
1)アテアリン酸の0.1%ゾル
2)パルミチン酸の0.1%ゾル
3)プルロン酸10R5の0.1%溶液(商標:BASF)
4)プルロン酸L35の0.1%溶液(商標:BASF)
5)プルロン酸L44の0.1%溶液(商標:BASF)
本発明の印刷システムに適するインクは、その開示内容が参考文献として本明
細書に記載されている下記のオーストラリア特許明細書に開示されている。
「マイクロ乳剤に基づくインク組成物」(1995年9月6日出願、出願番号
:PN5223)
「界面活性剤ゾルを含むインク組成物」(1995年9月6日出願、出願番号
:PN5224)
「インク粒子選択温度ゾルに近いクラフト点を持つ、DODプリンタ用のイン
ク組成物」(1995年10月30日出願、出願番号:PN6240)
「マイクロ乳剤をベースとする、インクの染料および顔料」(1995年10
月30日出願、出願番号:PN6241)
粘度の低下を使用する動作
二番目の例として、高温溶融インクと組み合わせて、粘度の熱的低下および近
接インク粒子選択を使用する実施形態の動作を以下に説明する。プリンタを作動
する前に、インクタンク64内で固体のインクの溶融が行われる。インクタンク
、印刷ヘッドへのインクの通路、インクチャネル75および印刷ヘッド50は、
インク100が液状になっているが、比較的粘度が高い(例えば、約100cP
)状態に保持される温度に保たれる。インク100は、インクの表面張力により
ノズル中に保持される。インク100は、温度が上昇するにつれて粘度が下がる
ように調製される。インク圧は、ノズルからのインク粒子排出周波数の整数倍の
周波数で変動する。インク圧が変動するので、ノズルチップのインクのメニスカ
スは変動するが、インクの粘度が高いのでこの変動は小さい。通常の動作温度で
は、この変動はインク粒子を分離させるには不十分な振幅しか持っていない。ヒ
ータ103をオンにすると、選択されたインク粒子を形成するインクが加熱され
、粘度が好適には5cP以下であることが好ましい数値まで下がる。粘土が低下
すると、その結果として、インク圧サイクルの高圧部分の間に、インクのメニス
カスはさらに移動する。記録媒体51は、選択されたインク粒子が、記録媒体5
1に接触するには印刷ヘッド50に十分に近接して配置されているが、選択され
なかったインク粒子が、記録媒体51に接触しないように、十分な距離を置いて
設置されている。記録媒体51と接触すると、選択されたインク粒子の一部がフ
リーズし、記録媒体に付着する。インク圧が下がると、インクはノズルに戻り始
める。インク本体は記録媒体上にフリーズするインクから分離している。その後
、ノズルチップのインク100のメニスカスは、低い変動振幅に戻る。残りの熱
がバルクインクおよび印刷ヘッドに逃げるので、インクの粘度は静止時のレベル
まで上がる。一つのインク粒子が選択され、分離され、各ヒートパルス毎に記録
媒体51上に点を形成する。ヒートパルスは電気的に制御されているので、ドロ
ップオンデマンドインクジェット動作を行うことができる。
印刷ヘッドの製造
本発明のモノリシック印刷ヘッドの製造プロセスは、その開示内容が参考文献
として本明細書に記載されている、1995年4月12日出願の下記のオースト
ラリア特許明細書に記載されている。
「モノリシックLIFT印刷ヘッド」(出願番号:PN2301)
「モノリシックLIFT印刷ヘッド用の製造プロセス」(出願番号:PN23
02)
「LIFT印刷ヘッド用の自己整合ヒータ」(出願番号:PN2303)
「集積4色LIFT印刷ヘッド」(出願番号:PN2304)
「モノリシックLIFT印刷ヘッドでの電力要件の軽減」(出願番号:PN2
305)
「異方性ウエットエッチングを使用する、モノリシックLIFT印刷ヘッドの
ための製造プロセス」(出願番号:PN2306)
「モノリシックドロップオンデマンド印刷ヘッドへのノズルの設置」(出願番
号:PN2307)
「モノリシックLIFT印刷ヘッド用のヒータ構造体」(出願番号:PN23
46)
「モノリシックLIFT印刷ヘッド用の電源接続」(出願番号:PN2347
)
「近接LIFT印刷ヘッド用の外部接続」(出願番号:PN2348)
「モノリシックLIFT印刷ヘッド用の自己整合製造プロセス」(出願番号:
PN2349)
「LIFT印刷ヘッドのCMOSプロセス互換製造」(1995年9月6日出
願、出願番号:PN5222)
「ノズルリムヒータ付き、LIFT印刷ヘッド用の製造プロセス」(1995
年10月30日出願、出願番号:PN6238)
「モジューラLIFT印刷ヘッド」(1995年10月30日出願、出願番号
:PN6237)
「印刷ノズルのパッキング密度を増大する方法」(1995年10月30日出
願、出願番号:PN6236)
「同時にプリントされるインク粒子間の低減静電相互作用のノズル分散」(1
995年10月30日出願、出願番号:PN6239)
印刷ヘッドの制御
本発明のページイメージデータを供給し、印刷ヘッドのヒータ温度を制御する
方法は、その開示内容が参考文献として本明細書に記載されている、1995年
4月12日出願の下記のオーストラリア特許明細書に記載されている。
「LIFT印刷ヘッドの集積駆動回路」(出願番号:PN2295)
「液体インク故障許容(LIFT)印刷用のノズル清掃手順」(出願番号:P
N2294)
「LIFT印刷システムの温度に対するヒータ電力補償」(出願番号:PN2
314)
「LIFT印刷システムの熱的遅れに対するヒータ電力補償」(出願番号:P
N2315)
「LIFT印刷システムの印刷密度に対するヒータ電力補償」(出願番号:P
N2316)
「印刷ヘッドの温度パルスの正確な制御」(出願番号:PN2317)
「モノリシックLIFT印刷ヘッドのデータ分配」(出願番号:PN2318
)
「LIFT印刷システム用のページイメージおよび故障許容ルーティング装置
」(出願番号:PN2319)
「LIFT印刷ヘッド用の取り外し可能な圧力下の液体インクカートリッジ」
(出願番号:PN2320)
印刷ヘッド用のイメージ処理
本発明の印刷システム一つの目的は、オフセット印刷を使用して印刷した、人
々が高品質のカラー刊行物で見慣れているのと、同じ高品質の印刷を行うことで
ある。この目的は、約1,600dpiの印刷解像度を使用することによって、
達成することができる。しかし、1,600dpi印刷は、印刷が難しく、高価
である。シアンおよびマジェンタに対して、ピクセル当たり2ビットを使用し、
黄および黒に対してピクセル当たり1ビットを使用して、800dpi印刷を使
用すれば、同じような高品質の印刷を行うことができる。本明細書では、このカ
ラーモデルをCC’MM’YKと呼ぶ。高品質のモノクロイメージの印刷が必要
な場合には、黒に対して、ピクセル当たり2ビットを使用することができる。本
明細書では、このカラーモデルをCC’MM’YYK’と呼ぶ。本発明のシステ
ムおよび他の印刷システムに適するカラーモデル、ハーフトーン化、データ圧縮
、およびリアルタイム拡張システムは、その開示内容が参考文献として、本明細
書に記載されている、1995年4月12日出願の下記のオーストラリア特許明
細書に記載されている。
「2レベルカラー印刷用の4レベルインクセット」(出願番号:PN2339
)
「ページイメージ用の圧縮システム」(出願番号:PN2340)
「圧縮ページイメージ用のリアルタイム拡張装置」(出願番号:PN2341
)
「ディジタルカラープリンタ用の大容量圧縮文書イメージ」(出願番号:PN
2342)
「テキスト存在中の改良JPEG圧縮」(出願番号:PN2343)
「圧縮ページイメージ用の拡張およびハーフトン化装置」(出願番号:PN2
344)
「イメージのハーフトーン化の改良」(出願番号:PN2345)
本発明の印刷ヘッドを使用する出願
本発明の印刷装置および方法は、下記の広い範囲の用途に適しているが、(こ
れに限定されない)。オフィスでのカラーおよびモノクロ印刷;短期間のディジ
タル印刷;高速ディジタル印刷;プロセスカラー印刷;スポットカラー印刷;オ
フセットプレス補足印刷;走査印刷ヘッドを使用する低コストプリンタ;ページ
幅の印刷ヘッドを使用する高速プリンタ:ポータブル型のカラーおよびモノクロ
プリンタ;カラーおよびモノクロ複写機;カラーおよびモノクロファクシミリ;
プリンタ、ファクシミリおよび複写機一体型マシン;ラベル印刷;大型書式プロ
ッタ;写真複写;ディジタル写真処理用プリンタ;ディジタル「インスタント」
カメラに組み込まれたポータブルプリンタ;ビデオ印刷;光学CDイメージの印
刷;「個人用ディジタルアシスタント」用ポータブルプリンタ;壁紙印刷;室内
看板印刷;掲示板印刷;および布地印刷
本発明の印刷システムは、その開示内容が参考文献として、本明細書に記載さ
れている、1995年4月12日出願の下記のオーストラリア特許明細書に記載
されている。
「大容量ディジタルページイメージ記憶装置を備えた、オフィス用高速カラー
プリンタ」(出願番号:PN2329)
「大容量ディジタルページイメージ記憶装置を備えた、短期間ディジタルカラ
ープリンタ」(出願番号:PN2330)
「LIFT印刷技術を使用するディジタルカラー印刷機」(出願番号:PN2
331)
「モジュラディジタル印刷機」(出願番号:PN2332)
「高速ディジタル布地プリンタ」(出願番号:PN2333)
「カラー写真コピーシステム」(出願番号:PN2334)
「LIFT印刷システムを使用する、高速カラー写真複写機」(出願番号:P
N2335)
「LIFT印刷技術を使用する、ポータブルカラー写真複写機」(出願番号:
PN2336)
「LIFT印刷技術を使用する、写真処理システム」(出願番号:PN233
7)
「LIFT印刷システムを使用する、普通紙ファクシミリ」(出願番号:PN
2338)
「内蔵プリンタ付きの写真CDシステム」(出願番号:PN2293)
「LIFT印刷技術を使用する、カラープロッタ」(出願番号:PN2291
)
「内蔵LIFT印刷システムを備えた、ノートブックコンピュータ」(出願番
号:PN2292)
「LIFT印刷システムを使用する、ポータブルプリンタ」(出願番号:PN
2300)
「オンラインデータベース質問、およびカスタム化されたマガジン印刷付きの
ファクシミリ」(出願番号:PN2299)
「ミニアチュアポータブルカラープリンタ」(出願番号:PN2298)
「LIFT印刷システムを使用する、カラービデオプリンタ」(出願番号:P
N2296)
「LIFT印刷システムを使用する、内蔵プリンタ、複写機、スキャナおよび
ファクシミリ」(出願番号:PN2297)
環境条件に対する印刷ヘッドの補償
ドロップオンデマンド印刷システムのインク粒子は、一定で予測することがで
きる大きさと位置を持っていることが望ましい。インク粒子の大きさおよび位置
が不必要な変動を起こすと、それにより印刷の光学的密度が変動し、目に映る印
刷の品質が劣化する。上記変動は通常のインク粒子の量およびピクセルの間隔に
関して、それぞれ小さなものでなければならない。多くの環境変数の影響を無視
することができる程度にまで低減するために、それら環境変数を補償することが
できる。ノズルヒータに供給される電力を変化させることによって、いくつかの
要因の能動的補償を行うことができる。
印刷ヘッドの一実施形態の最適の温度分布は、ノズルチップのアクティブ領域
の放出温度への瞬間的な温度上昇、パルスの持続時間中この領域を放出温度に維
温度に維持すること、およびこの領域の周囲温度への瞬間的な温度降下を含む。
この最適状態は、本発明のノズルの製造に使用される種々の材料の蓄積熱容量
および熱伝導度により、達成することができない。しかし、印刷ヘッドの有限要
素シミュレーションを反復修正することによって得ることができる曲線を使用し
て、電力パルスを整形することにより、性能を改善することができる。ヒータに
供給される電力は、下記のものを含むが、それに限定されない種々の技術によっ
て、時間変化させることができる。
1)ヒータに供給される電圧の変化
2)一連の短いパルスの幅の変調(PWM)
3)一連の短いパルスの周波数の変調(PFM)
正確な結果を得るためには、自由面のモデル化による遷移流体動的シミュレー
ションを行う必要がある。何故なら、インク内の対流およびインクの流れが、特
定の電力曲線により達成した温度に有意の影響を与えるからである。
印刷ヘッド基板上に適当なディジタル回路を組み込むことによって、各ノズル
に供給される電力を実際に個々に制御することができる。この制御を行う一つの
方法は、印刷ヘッドチップを横切って、種々の異なるディジタルパルストレイン
を「広く伝播し」、多重化回路を使用して、各ノズルに対して適当なパルストレ
インを選択するという方法である。
以下の「環境要因に対する補償」表に、補償することができる環境要因の一例
を示す。この表は、(合成多重チップ印刷ヘッド内の各チップに対して)チップ
毎、およびノズル毎の、(印刷ヘッド全体に対して)どの環境要因が全体として
最もよく補償することができるかを示す。
大部分の用途の場合、これら変数全体を補償する必要はない。ある変数の持つ
影響は少なく、非常に高いイメージの品質が必要な場合にだけ、補償する必要が
ある。
印刷ヘッド駆動回路
図4は、本発明の印刷ヘッド駆動回路の一例の電子的動作を示す、簡単なブロ
ック図である。この制御回路は、ヒータ電力変調を行うために、印刷ヘッドに加
えられる電源電圧のアナログ変調を使用し、各ノズルに供給される電力の個々の
制御は行わない。図4は、CC’MM’YKカラーモデルを使用して、プロセス
カラーを印刷する800dpiページ幅印刷ヘッドを使用する、システムのブロ
ック図を示す。印刷ヘッド50は、全部で79、488のノズルを持ち、そのう
ち39、744は主ノズルであり、39,744は冗長ノズルである。主ノズル
および冗長ノズルは、六つの色に分けられ、各色は8の駆動相に分けられる。各
駆動相は、ヘッド制御ASIC400からのシリアルデータを、ヒータ駆動回路
をイネーブルするためのパラレルデータに変換する、シフトレジスタを持つ。全
部でシフトレジスタの数は96であり、各シフトレジスタは、828のノズルに
対してデータを供給する。各シフトレジスタは、828のシフトレジスタ段21
7からなり、その出力は、NANDゲート215によって、相イネーブル信号と
論理的に論理積される。NANDゲート215の出力は、反転用バッファ216
を駆動し、反転バッファは、駆動トランジスタ201を制御する。駆動トランジ
スタ201は、電熱ヒータ200を作動させるが、この電熱ヒータとしては、図
1(b)に示すヒータ103を使用することができる。イネーブルパルス中、シ
フトしたデータを有効に維持するには、シフトレジスタへのクロックを停止し、
イネーブルパルスがクロックストッパ218により能動状態になる。図面を簡単
にするために、このクロックストッパは単一のゲートで図示してあるが、好適に
は、任意の範囲の周知グリッチフリークロック制御回路であることが好ましい。
シフトレジスタのクロックを停止させることは、印刷ヘッド内のパラレルデータ
ラッチの必要性をなくすが、ヘッド制御ASIC 400内の制御回路が少し複
雑になる。データは、故障状態バスの適当な信号の状態次第で、データルータ2
タルータ219によって、主ノズルまたは冗長ノズルのどちらかに送られる。
図4に示す印刷ヘッドは、単純化したもので、ブロック故障許容のような生産
性を改善するための種々の手段は図示されていない。異なる構成の印刷ヘッド用
の駆動回路は、本明細書に開示してある装置から容易に作ることができる。
記録媒体上に印刷するドットのパターンを表すディジタル情報は、図1(a)
のイメージメモリ72と同じものであってもよい、ページまたはバンドメモリ1
513内に記憶される。単色のドットを表す32ビット語内に含まれるデータは
、アドレスマルチプレクサ417によって選ばれたアドレスおよびメモリインタ
フェース418が発生した制御信号により、ページまたはバンドメモリ1513
から読み出される。上記アドレスは、アドレス発生装置411により発生し、こ
のアドレス発生装置は、「パーカラー回路」410の一部を形成し、6色の構成
部分のそれぞれに対して一つの回路が使用されている。アドレスは、印刷ヘッド
に対するノズルの位置に基づいて発生する。ノズルの相対的な位置は、印刷ヘッ
ドが異なると違ってくるので、アドレス発生装置411は、好適にはプログラム
可能であることが好ましい。アドレス発生装置411は、通常主ノズルの位置に
対応するアドレスを発生する。しかし、欠陥のあるノズルがある場合には、欠陥
を持つノズルのブロックの位置を、欠陥マップRAM412内にマークすること
ができる。欠陥マップRAM412は、ページが印刷されるときに読み出される
。メモリがノズルのブロックに欠陥があることを示している場合には、アドレス
発生装置411が、冗長ノズルの位置に対応するアドレスを発生するように、ア
ドレスの変更が行われる。ページまたはバンドメモリ1513から読みき出され
たデータは、ラッチ413によりタッチされ、マルチプレクサ414によって四
つのシーケンシャルなバイトに変換される。これらのバイトのタイミングは、F
IFO415により、他の色を表すデータのタイミングと整合するように調整さ
れる。その後、このデータは、バッファ430によりバッファされ、印刷ヘッド
50への48ビットの主データバスを形成する。印刷ヘッドが、ヘッド制御AS
ICから比較的遠い場所に位置している場合、データはバッファされる。欠陥マ
ップRAM412からのデータも、FIFO416に対する入力を形成する。こ
のデータのタイミングは、FIFO415のデータ出力と整合され、バッファ4
31によってバッファされ、欠陥状態バスを形成する。
プログラム可能な電源320は、印刷ヘッド50に対して電力を供給する。電
源320の電圧は、RAMとDACとの組み合わせ(RAMDAC)316の一
部を形成している、DAC313によって制御される。RAMDAC316は、
二重ポートRAM317を含む。二重ポートRAM317の内容は、マイクロコ
ントローラ315によってプログラムされる。温度は、二重ポートRAM317
の内容を変更することによって補償される。上記数値は、熱センサ300によっ
て感知された温度に基づいて、マイクロコントローラ315によって計算される
。熱センサ300からの信号は、アナログ−ディジタルコンバータ(ADC)3
11に送られる。ADC311は、好適にはマイクロコントローラ315内に設
置することが好ましい。
ヘッド制御ASIC400は、熱的遅れ補償および印刷密度に対する制御回路
を含む。熱的遅れの補償を行うには、ヘッド50への電源電圧は、ヒータに対す
るイネーブルパルスと同期している急速な時変電圧でなければならない。このこ
とは、上記電圧を発生するためのプログラム可能な電源320を、プログラムす
ることによって行われる。アナログ時変プログラミング電圧は、二重ポートRA
M317から読み出されたデータに基づいて、DAC313が発生する。データ
は、カウンタ403が発生したアドレスに従って読み出される。カウンタ403
は、一つのイネーブルパルスの周期の間に、アドレスの一つの完全なサイクルを
発生する。同期は確実に行われる。何故なら、カウンタ403は、システムクロ
ック408によってクロック制御され、カウンタ403の最大の数値はイネーブ
ルカウンタ404を、クロック制御するのに使用されるからである。その後、イ
ネーブルカウンタ404からのカウントは、デコーダ405によって解読され、
バッファ432によってバッファされ、ヘッド50に対するイネーブルパルスが
発生する。カウントの状態の数が、一つのイネーブルパルス中のクロック周期の
数より少ない場合には、カウンタ403が、プリスケーラを含む場合がある。ヒ
ータの熱的遅れを正確に補償するには、16の電圧状態を使用するのが適当であ
る。上記16の電圧状態は、カウンタ403と二重ポートRAM317との間の
、4ビットの接続を使用して指定することができる。しかし、これらの16の電
圧状態は、時間間隔を直線的にとることはできない。これら電圧状態の時間的間
隔を非直線的にしてもよいように、カウンタ403は、自らが非直線的にカウン
トすることができるように、ROMまたは他の装置を含むことができる。他の方
法としては、16以下の電圧状態を使用することもできる。
印刷密度を補償するために、各イネーブル周期中に、(「オン」ピクセル)イ
ンク粒子が印刷されるピクセルの数をカウントして、印刷密度が検出される。「
オン」ピクセルは、オンピクセルカウンタ402によってカウントされる。8の
イネーブル相のそれぞれに対して、一つのオンピクセルカウンタ402が使用さ
れる。本発明の印刷ヘッド内のイネーブル相の数は、特定の設計によって違って
くる。相の数が2の累乗である必要はないが、よく使用される数は4、8および
16である。オンピクセルカウンタ402は、1ニブルのデータのビットの中の
いくつがオンになっているかを判断する、組み合わせ論理ピクセルで構成するこ
とができる。その後、この数字は、加算器421およびアキュミュレータ422
によって累算される。ラッチ423は、イネーブルパルスの持続時間中、累算さ
れた数値を有効に保持する。マルチプレクサ401は、イネーブルカウンタ40
4によって決定された、現在のイネーブル相に対応するラッチ423の出力を選
択する。マルチプレクサ401の出力は、二重ポートRAM317の一部を形成
する。「オン」ピクセルの数の正確なカウントは必要ではなく、このカウントの
最上位の四つのビットで十分である。
熱的遅れ補償アドレスの4ビットと、印刷密度補償アドレスの4ビットとを組
み合わせるということは、二重ポートRAM317は、8ビットのアドレスを持
つことを意味する。このことは、二重ポートRAM317は、二次元のアレーで
ある256の数字を含むことを意味する。これら二つの次元は、(熱的遅れ補償
に対する)時間と、印刷密度である。第三の次元、温度を含めることもできる。
印刷ヘッドの周囲温度は、ゆっくりとしか変化しないので、マイクロコントロー
ラ315は、現在の温度で熱的遅れおよび印刷密度を補償する256の数字のマ
トリックスを計算するのに十分な時間がある。周期的に(例えば、1秒間に数回
)、マイクロコントローラは、現在の印刷ヘッドの温度を感知し、このマトリッ
クスを計算する。
印刷ヘッド50へのクロックは、ヘッドクロック発生装置407によって、シ
ステムクロック408から作られ、バッファ406によって、バッファされる。
ヘッド制御ASICの試験を容易にするために、JTAG試験回路499を設置
することができる。
熱的インクジェット技術との比較
「熱的インクジェットと本発明との比較」の表には、本発明による印刷の種々
の態様と熱的インクジェット印刷技術との比較が行われている。
本発明と熱的インクジェット技術とを直接比較したのは、両方とも熱的アクチ
ュエータおよび液体インクを使用して動作するドロップオンデマンドシステムで
あるからである。両者は類似しているように見えるが、二つの技術は異なる原理
により動作している。
熱的インクジェットプリンタは、下記の基本的な動作原理を使用している。電
気抵抗加熱により発生した熱インパルスにより、液体インク中にバブルが突発的
に形成される。急速で継続的なバブルは、インクを過熱することによって形成さ
れ、その結果、バブルの形成が完了する以前に十分な熱がインクに伝えられる。
水をベースとするインクの場合には、インクの温度は約280−400℃でなけ
ればならない。バブルが形成されると、圧力波が発生し、この圧力波によりイン
ク粒子は高速で開口から落下する。その後、バブルは壊れ、インクタンクから流
れ出るインクによりノズルは再び満たされる。ノズルの密集度が高く、信頼度の
高いIC製造技術の使用により、熱インクジェット印刷は商業的に非常な成功を
収めた。しかし、熱インクジェット印刷技術は、多くの部分を精密に製造しなけ
ればならないとか、装置の歩留まり、イメージの解像度、「ペッパー」ノイズ、
印刷速度、駆動トランジスタ電力、無駄な電力消費、余分なインク粒子の形成、
熱応力、不均一な熱膨張、キャビテーション、修正拡散およびインク調整が難し
いことなどのかなり困難な技術的な問題に当面することになる。
本発明の印刷は、熱インクジェット印刷の多くの利点を持ち、熱インクジェッ
ト技術の特有の問題の多くを完全または実質的に解決している。
歩留まりおよび故障許容
ほとんどの場合、製造時に完全に機能しない時には、モノリシック集積回路は
修理することができない。ウェーハから生産される動作装置の動作する百分率を
歩留まりと呼ぶ。歩留まりは製造コストに直接影響する。歩留まりが5%の装置
は、歩留まりが50%である同じ装置と比較すると、その生産コストは10倍で
ある。
歩留まりの測定法は大きく分けて三つある。
1)製造歩留まり
2)ウェーハ選別歩留まり
3)最終試験歩留まり
大型のダイの場合は、全歩留まりに最も重大な影響を持つ、ウェーハ選別歩留
まりが通常使用される。本発明の全ページ幅カラー印刷ヘッドは、通常のVLS
I回路と比較すると非常に大きい。ウェーハ選別歩留まりがよいということが、
上記印刷ヘッドの製造のコストパフォーマンスに非常に重要なことである。
図5は、本発明のモノリシック全幅カラーA4印刷ヘッドの実施形態の、ウェ
ーハ選別歩留まり対欠陥密度のグラフである。この印刷ヘッドは、長さが215
ミリ、幅が5ミリである。非故障許容歩留まり198は、広く使用されている歩
留まり予測法であるマーフィー法を使用して計算する。欠陥密度が、1平方セン
チ当たりの欠陥が一つであるという場合には、マーフィー法による歩留まりの予
測は1%以下である。このことは製造した印刷ヘッドの中の99%を廃棄しなけ
ればならないことを意味する。このような低い歩留まりは非常に望ましくない。
何故なら、印刷ヘッドの製造コストは、非常に高いからである。
マーフィー法は、欠陥の不均一の分布の影響を近似する。図5は、また欠陥ク
ラスタ化係数の導入により、欠陥の集合をはっきりとモデル化する非故障許容歩
留まり197のグラフである。欠陥クラスタ化係数は、製造の際に制御すること
ができるパラメータではなく、製造プロセスに特有なものである。製造プロセス
に関する欠陥クラスタ化係数は、約2であると予想することができ、この場合、
歩留まりの予測部分はマーフィー法とよく一致する。
歩留まりが低い場合の解決法は、チップ上に、欠陥のある機能ユニットと交換
するために使用する、冗長機能ユニットを設置することによって、故障許容を導
入する方法である。
メモリチップおよび大部分のウェーハスケール集積(WSI)装置の場合には
、チップ上の冗長サブユニットの物理的な位置は重要ではない。しかし、印刷ヘ
ッドの場合には、冗長サブユニットは、一つまたはそれ以上の印刷アクチュエー
タを含むことができる。これらアクチュエータは、印刷中のページに対して空間
的に固定された位置関係に設置されていなければならない。欠陥を起こしたアク
チュエータの印刷位置と同じ位置に、ドットを印刷させるためには、冗長のアク
チュエータを、走査方向でない方向に移動させてはならない。しかし、欠陥のあ
るアクチュエータの代わりに、走査方向に移動する冗長アクチュエータを使用す
ることができる。冗長のアクチュエータが、欠陥のあるアクチュエータと同じ場
所にドットを必ず印刷するために、走査方向への移動を補償する目的で、冗長ア
クチュエータへのデータタイミングを変えることができる。
すべてのノズルを交換することができるようにするためには、完全な一組のス
ペアノズルがなければならない。これは冗長度が100%であるということであ
る。100%の冗長度を達成するには、通常二倍以上のチップ面積を必要とする
が、この場合、冗長ユニットを置き換える前の一次歩留まりが非常に大きく低下
し、故障許容の利点の大部分が失われてしまう。
しかし、本発明の印刷ヘッドの実施形態を使用すれば、印刷ヘッドチップの最
小の物理的寸法は、印刷されるページの幅、印刷ヘッドチップの脆さ、およびイ
ンクをチップの裏面に供給するインクチャネルの製造上の制限によって決まる。
A4サイズの紙を印刷するための全幅、全カラーヘッドの最小の実用サイズは、
約215ミリ×5ミリである。1.5ミクロンのCMOS製造技術を使用すれば
、チップ面積を有意に増大しないで、100%の冗長度を達成することができる
。それ故、一次歩留まりを有意に下げないで、高いレベルの故障許容を実現する
ことができる。
装置に故障許容を導入した場合、標準の歩留まりの式を使用することはできな
い。上記式をそのまま使わずに、故障許容の機構および程度を、特別に分析し、
歩留まりの式に導入しなければならない。図5は、種々の形の故障許容を含む全
幅カラーA4印刷ヘッドに対する故障許容選別歩留まり199である。そのモデ
ル化は歩留まりの式に含まれている。このグラフは、欠陥の頻度および欠陥の集
中の関数としての予測歩留まりである。図5に示す歩留まりの予測は、故障許容
を完全に実行すると、ウェーハ選別歩留まりを、同一の製造条件の下で、1%以
下から90%以上へと改善することができることを示している。このように歩留
まりを改善することにより、製造コストを係数100だけ下げることができる。
数千の印刷ノズルを含む印刷ヘッドの歩留まりと信頼性を改善し、それにより
ページ幅の印刷ヘッドを実用化するために、故障許容の導入を強く勧める。しか
し、故障許容が本発明の本質的な部分であるとは考えてほしくない。
ドロップオンデマンド印刷システム内の故障許容は、その開示内容が本明細書
に参考文献として記載されている、1995年4月12日出願の下記のオースト
ラリア特許明細書に記載されている。
「印刷機構の集積故障許容」(出願番号:PN2324)
「集積印刷ヘッドのブロック故障許容」(出願番号:PN2325)
「集積印刷ヘッドの故障許容用二重ノズル」(出願番号:PN2326)
「印刷ヘッドの欠陥ノズルの検出」(出願番号:PN2327)
「大容積印刷ヘッドの故障許容」(出願番号:PN2328)
印刷システムの実施形態
図6は、本発明の印刷ヘッドを使用する電子印刷システムの略図である。この
図は、記録媒体51上に多数のインク粒子からなるイメージ60を印刷する、モ
ノリシック印刷ヘッド50である。上記媒体は、通常紙であるが、上向き透明フ
ィルム、クロス、またはインク粒子を受けつける多くの他の実質的に平らな面で
もよい。印刷されるイメージはイメージ源52によって供給されるが、このイメ
ージとしては、ピクセルの二次元アレーに変換できる任意のタイプのものを使用
することができる。通常のイメージ源は、イメージスキャナ、ディジタル的に記
憶されたイメージ、アドービポストスクリプト、アドービポストスクリプトレベ
ル2またはヒューレット−パッカード PCL5のようなページ記述言語(PD
L)でコード化されたイメージ、アップルクイックドロウ、アップルクイックド
ロー GXまたはマイクロソフト GDIのような手続き呼出に基づくラスタ化
装置によって発生したページイメージ、またはASCIIのような電子形式のテ
キストである。その後、イメージデータはイメージ処理システム53によって、
特定の印刷システムに適するピクセルの二次元アレーに変換される。このイメー
ジはカラーの場合もあり、モノクロの場合もあり、データは、通常イメージ源お
よび印刷システムの仕様に従って、ピクセル当たり1−32ビットを持っている
。ソースイメージがページ記述である場合には、イメージ処理システムは、ラス
タイメージプロセッサ(RIP)を使用することができ、ソースイメージがスキ
ャナからのものである場合には、二次元イメージ処理システムを使用することが
できる。
連続トーンイメージが必要な場合には、ハーフトーン化システム54が必要で
ある。適当なタイプのハーフトーン化は、分散形ドット配列ディザまたはエラー
拡散に基づいている。この目的に適しているものとしては、通常確率的スクリー
ニングまたは周波数変調スクリーニングと呼ばれる、上記ハーフトーン化システ
ムの種々のタイプのものがある。オフセット印刷に通常使用されるハーフトーン
化システム、すなわち、集合形ドット配列ディザは適していない。何故なら、こ
の技術を使用すると、有効なイメージ解像度が不必要に無駄になるからである。
ハーフトーン化システムの出力は、本発明による印刷システムの解像度を持つ、
二進法のモノクロまたはカラーイメージである。
二進法のイメージは、データシフトレジスタ56に、正しい順序でピクセルデ
ータを供給する(図4のヘッド制御ASIC400に内蔵できる)データ位相回
路55によって処理される。データを正しい順序に並べるには、ノズルの配置お
よび紙の動きを補償しなければならない。データがシフトレジスタ56にロード
されると、そのデータはヒータ駆動回路57にパラレルに送られる。正しいタイ
ミングで、駆動回路57は、対応するヒータ58を、パルス整形回路61および
電圧レギュレータ62によって発生した電圧パルスに電子的に接続する。ヒータ
58は、ノズル59の先端を加熱し、インクの物理的な特性を変化させる。イン
ク粒子60は、ヒータ駆動回路に供給されたディジタルインパルスに対応するパ
ターンで、ノズルから排出される。インクタンク64内のインクの圧力は、圧力
レギュレータ63によって調整される。選択されたインク粒子60は、選択され
たインク粒子分離手段によって、インク本体から分離され、記録媒体51と接触
する。印刷中、記録媒体51は、紙移送システム65によって、印刷ヘッド50
に対して連続的に移動する。印刷ヘッド50が、記録媒体51の印刷領域全体を
カバーする幅を持っている場合には、記録媒体51を一方向だけに移動させるだ
けでよく、印刷ヘッド50を固定しておけばよい。もっと小型の印刷ヘッド50
が使用される場合には、ラスタ走査システムを実行する必要がある。このことは
、通常記録媒体51を長手方向に移動させながら、印刷ヘッド50を横方向に走
査することによって行うことができる。
単一モノリシック印刷ヘッド内の複数のノズル
オフィス用プリンタまたは写真複写装置のような装置内で使用するための新し
い印刷システムは、高速で印刷できることが望ましい。1分間の間に60枚のA
4ページ(1秒間に1ページ)という印刷速度が、一般に多くの用途に適した印
刷速度である。しかし、1分間に60ページを電子制御印刷速度を達成するのは
簡単なことではない。
1ページを印刷するのに必要とする最短時間は、ページ上のドットの数に一つ
のドットを印刷するのに必要な時間を掛けたものを、同時に印刷できる各色のド
ット数で割ったものに等しい。
実現することができる画質は、映像を作成するのに使用することができるイン
クドットの全数で決まる。分散ドットディジタルハーフトーン化を使用する全カ
ラー高品質印刷の場合には、1インチ当たり約800ドット(1ミリ当たり31
.5ドット)が要求される。紙の上のドット間の間隔は31.75ミクロンであ
る。
標準A4ページは、210ミリ×297ミリである。1ミリ当たり31.5ド
ットの場合には、モノクロ全ブリードA4ページに対して61,886,632
ドットが必要である。高品質プロセスカラー印刷の場合には、4色、すなわち、
シアン、マジェンタ、黄色および黒が必要である。それ故、必要な全ドット数は
247,546,528である。紙の縁部の狭いマージン内に印刷をしない場合
は、この数を幾分減らすことができるが、必要な全ドット数は、依然として非常
に多い。1ドットを印刷するのに要する時間が144マイクロ秒であり、一つの
色に使用されるノズルの数が一本だけだとすると、1枚のページを印刷するのに
2時間以上掛かることになる。
本発明の上記印刷システムを使用して、高速高品質の印刷を行うには、多くの
小さなノズルを持つ印刷システムが必要である。この印刷ヘッドの幅が紙の全幅
をカバーするものであれば、1秒間に1枚のカラーA4ページを、800dpi
の速度で印刷することができる。印刷ヘッドを固定しておいて、紙を1秒周期で
送ることもできる。幅210ミリの4色800dpi印刷ヘッドは、26,46
0個のノズルを必要とする。
このような印刷ヘッドは、26,460本のアクティブなノズルと、26,4
60本の冗長(スペア)ノズルを持つことができ、その合計数は52,920本
になる。シアン、マジェンタ、黄色および黒プロセスカラーのそれぞれに対する
アクティブなノズルの数は、6,615本である。
多数のノズルを持つ印刷ヘッドを、低コストで製造することができる。このよ
うな製造は、1枚のシリコンウェーハ内に、数千、数万のノズル同時に形成する
半導体製造プロセスを使用して行うことができる。印刷ヘッドをいくつかの部品
で製造し、それらを組み立てるという方法で製造した場合には、機械的な整合お
よび熱膨張のばらつきについての問題を解決しなければならないが、この印刷ヘ
ッドは1枚のシリコンから製造されるので、そのような問題は起こらない。ノズ
ルおよびインクチャネルは、エッチングによりシリコン内に形成される。ヒータ
素子は、電気抵抗を持つ材料を蒸着させて、その後標準的な半導体製造プロセス
を使用する写真石版印刷により形成することができる。
数千のノズルを持つ印刷ヘッド上で必要とされる、多数の接続の数を減らすた
めに、データ分配回路および駆動回路も、同様に印刷ヘッド上に集積させること
ができる。
図7は、チップの背面から見た印刷ヘッドの一部の簡単な図であり、数本のノ
ズルの断面を示す。基板120は単一のシリコン結晶から作ることができる。ノ
ズル121は、例えば、半導体写真石版印刷および化学湿式エッチングまたはプ
ラズマエッチングプロセスにより、基板内に形成される。インクは、印刷ヘッド
の頂面にあるノズルから入り、基板を通って、ノズルチップ123から流出する
。ヒータおよび駆動回路は、ウェーハの下面上に平面状に形成される。すなわち
、この図においては、印刷ヘッドは、その上に能動回路が形成される表面に対し
て「上下を反対にした」形で図示されている。基板の厚さ124は、標準シリコ
ンウェーハの厚さと同じ、すなわち、約650ミクロンとすることができる。印
刷ヘッド幅125は、カラーの数、ノズルの配置、ノズル間の間隔および駆動回
路および相互接続に必要なヘッド面積によって異なる。モノクロ印刷ヘッドの場
合には、適当な幅は約2ミリである。プロセスカラー印刷ヘッドの場合には、適
当な幅は約5ミリである。CC’MM’YKカラー印刷ヘッドの場合には、適当
な幅は約8ミリである。印刷ヘッド126の長さは用途によって異なる。非常に
低コストの印刷の場合には、1ページ全体を走査しなければならない短い印刷ヘ
ッドを使用することができる。高速印刷の場合には、固定のページ幅のモノリシ
ックまたは多重チップ印刷ヘッドを使用することができる。大量の紙または布に
印刷する場合には、21センチより長い印刷ヘッドが適しているけれども、印刷
ヘッドの通常の長さの範囲は、1−21センチである。
異方体湿式エッチングを使用する自己整合印刷ヘッドの製造
モノリシック印刷ヘッドの製造方法は、標準集積回路の製造方法に類似してい
る。しかし、通常のプロセスの流れは、いくつかの方法で修正される。このこと
は、ノズル、ノズル用バレル、ヒータおよびノズルチップを形成する上で、非常
に重要である。モノリシック印刷ヘッドは、多くの異なる半導体プロセスにより
製造することができる。これらの半導体プロセスはそれぞれの場合、必要な構造
体を形成するために、種々様々な方法で基本的なプロセスを修正することができ
る。
上記印刷ヘッドを生産する工場を建設するコストを削減するためには、生産を
簡単なプロセスに基づいて行うことが望ましい。また、できるだけ簡単な一組の
設計ルールを使用することも望ましい。何故なら、細い幅のラインを形成するの
は、コストが高くつき、相当する歩留まりを達成するには、よりクリーンな環境
を必要とするからである。
少量生産プロセスの資本コストを最小限度に低減するには、ノズルを形成する
のに必要な追加処理ステップを、投資を低く抑えて行うことが望ましい。本明細
書中には、主として、異方体湿式エッチングプロセスを使用して、ノズルの形成
が行われる製造プロセスが開示されている。このプロセスを使用すれば、高価な
プラズマエッチング装置を使用しなくてもすむ。
本明細書に記載するプロセスは、標準半導体製造プロセスに基づいていて、1
.5ミクロンのライン幅用に設計された装置を使用することができる。本質的に
旧式になった石版印刷装置を使用することにより(本明細書作成時の最新のIC
製造装置は0.25ミクロンのライン幅を形成することができる)、ヘッドの生
産のための工場の建設コストを実質的に削減することができる。
VLSI CMOSのような低電力、高速プロセスを使用する必要もない。必
要とする速度は中程度のもので、電力消費はインクジェットノズル用に必要なヒ
ータ電力によって決まる。それ故、nMOSのような簡単な技術が適当である。
しかし、CMOSが最も実際的な生産手段であると思われる。何故なら、1−2
ミクロンのライン幅を形成するには、かなりの量の理想的なCMOS生産能力を
利用することができるからである。
適当な基本的製造プロセス
印刷ヘッドノズルを製造する際に必要な製造ステップは、多くの異なる半導体
処理システム内に設置することができる。例えば、下記の技術を修正することに
よって、印刷ヘッドを生産することができる。
1)nMOS
2)pMOS
3)CMOS
4)バイポーラ
5)ECL
6)種々のガリウム−ひ素プロセス
7)ガラス基板上の薄膜トランジスタ(TFT)
8)能動半導体回路なしのマイクロメカニカル製造
基本的技術の選択によって、ノズルの製造能力が影響を受けることは全然とい
っていいほどない。まだ発明されていない半導体処理手順にノズル製造ステップ
を組み込む方法も、当業者にとっては明らかであろうと思われる。最も簡単な製
造プロセスは、同じウェーハ上に能動半導体装置を形成しないで、シリコンマイ
クロメカニカル処理を使用して、ノズル製造を行う方法である。しかし、この方
法は、多数のノズルを持つ印刷ヘッドにとっては実用的ではない。何故なら、各
ノズル毎に、ヘッドに対して、少なくとも一つの外部接続が必要になるからであ
る。大型のヘッドの場合には、駆動トランジスタおよびデータ分配回路を、ノズ
ルと一緒のチップ上に形成することは非常に有利である。
CMOSは、現在最も一般的な集積回路プロセスである。現在、多くのCMO
Sプロセスが商業的に使用されていて、その一般に使用されているライン幅は0
.35ミクロンの細さである。CMOSは、印刷ヘッドの製造に際して下記の利
点を持つ。
1)周知で特徴がよくわかっている生産プロセス。
2)静止電流がほとんどゼロ。
3)高い信頼性。
4)ノイズが非常に小さい。
5)電力供給動作レンジが広い。
6)金属ライン内での電子移動が少ない。
7)シフトレジスタおよび故障許容論理の回路設計がより簡単。
8)ウェーハの前面から基板の接地が可能。
しかし、CMOSは、集積駆動回路を含むヘッドの製造において、nMOSお
よび他の技術と比較した場合いくつかの欠点を持つ。上記欠点としては下記のも
の等がある。
1)同じチップ上に、高品質のNMOSおよびPMoSを同時に形成するには、
多数の処理ステップを必要とする。
2)CMOSは、ラッチアップの影響を受け易い。この問題は、ヒータ回路に必
要なVddより通常高い電圧で、大きな電流が流れるために特に重要である。
3)他のMOS技術と同様に、CMOSは静電電荷による損傷を受け易い。この
欠点は、入力のところに保護回路を接地し、注意深く取り扱うことによって最小
限度に軽減することができる。
本発明のすべての可能な構成の印刷ヘッドに適用できる、絶対的な「最善の」
製造プロセスはない。それ故、ノズルに特有な製造ステップを、メーカの好適な
プロセスに組み込む必要がある。ほとんどの場合、現在のプロセスの流れ、使用
する装置、好適なホトレジストおよび好適な化学処理に対して互換性を持つもの
にするために、ノズル製造ステップの特有な詳細な工程に少し変更を行う必要が
ある。上記変更は、当業者にとっては周知のものであり、本発明の範囲から逸脱
しないで、行うことができる。
レイアウトの例
図8(a)は、800dpiの4色印刷ヘッドの断面の例示としてのレイアウ
トである。800dpiでの印刷用のノズルピッチは、31.75ミクロンであ
る。図8(a)は、シアン、マジェンタ、黄色および黒インク用の4列のノズル
を示す。これら各4列は、4つの平行なインクチャネルを含む。このインクチャ
ネルは、ウェーハをほとんど貫通する形でエッチングにより形成され、それぞれ
が64のノズルを含む。2本のインクチャネルは、主ノズル用のもので、2本の
インクチャネルは、冗長ノズル用のものである。ノズルは、各インクチャネルに
沿って、ピクセルの幅二つ分(63.5ミクロン)の間隔を持つ。各カラー用の
2本の主インクチャネルの中の1本は、他の主インクチャネル内のノズルからピ
クセル幅一つ分(31.75ミクロン)だけオフセットしている。冗長ノズルも
、同じ方法で配置されているが、オフセットはピッチ方向に行われている。イン
クチャネルは、印刷ヘッドの印刷領域の全長にわたって延びているわけではない
。何故なら、そうすると、印刷ヘッドの機械的強度があまりにも弱くなるからで
ある。その代わりに、64本のノズルを含むインクチャネルは、印刷方向にジク
ザクに配列されている。このようにノズルをジグザグに配列すると、ノズルのオ
フセットを補償するような方法でノズルを駆動するために、データを供給しなけ
ればならない。このデータの供給は、正しい順序でメモリからページイメージを
読み取り、そのデータを印刷ヘッドに供給するディジタル回路により行うことが
できる。
短い縁部のチップレイアウトに沿って、幅100ミクロン、長さ200ミクロ
ンの長方形の領域が図示されている。これら領域は、データ、クロックおよび論
理電力およびアース用のボンディングパッドである。V+およびV-ボンディング
パッドは、チップの二つの長い縁部に沿って延びていて、その幅は200ミクロ
ンである。
図8(b)は、図8(a)の印刷ヘッドの一つのカラー用のインクチャネルお
よびノズルの拡大詳細図である。4、064ミリという距離は、1本のチャネル
内のノズル間隔である(63.5ミクロン)の64倍である。8、128ミクロ
ンという距離は、1本のチャネル内のノズル間隔の128倍である。6790.
6ミクロンという距離は、4064ミクロン + 2*(1260ミクロン+(
50ミクロン/tan70.52度)+(50ミクロン/tan54.74度)
+50ミクロン許容誤差)である。ウェーハの厚さが25ミクロン程度変動する
場合があるので、50ミクロンの許容誤差が必要なわけである。
図8(c)は、単一のインクチャネルの端部の拡大詳細図である。図示の角度
は、異方体エッチングプロセスによるもので、{111}結晶面の向きに由来す
るものである。ウェーハ全体の厚さからインクチャネルの底部の点までの距離は
、1260ミクロンである。この距離は、ウェーハ表面に対するtan-1(0.
5)=26.57度の角度を持つ(111)結晶面によるものである。630ミ
クロンの必要なエッチングの深さを得るためには、エッチングを行うスロットの
両端部に、1260ミクロンの余分な長さをつけ加える必要がある。
図8(d)は、図8(c)の二本のノズルの拡大詳細図である。このノズルの
半径は、10ミクロンである。それ故、ノズルの直径は20ミクロンである。ノ
ズルバレルは点線で示す。ノズルバレルはハッキリとした半径を持たない。何故
なら、ノズルバレルはKOHエッチングに、ほう素拡散エッチング停止を行って
形成するからである。ノズルの縁部からインクチャネルの縁部までの距離は、1
5ミクロンである。何故なら、ウェーハの表面は、通常(110)結晶面と完全
に整合していないで、±1度程度変動する場合があるからである。{111}結
晶面が1度傾斜すると、インクチャネルの底部は、裏面マスクの位置から630
ミクロン*tan1度=11ミクロンだけ変位する。
図8(d)のAからBまでの線は、図9断面が切り取られた線である。この線
は、「A」面上のヒータ接続を含み、「B」面上のヒータの「垂直な」断面を通
結晶面への整合
この節に記載する製造プロセスは、エッチングを制御するために、単結晶シリ
コンウェーハ内の固有の結晶面を使用する。{111}面へのマスク手順の方向
は、正確に制御しなければならない。シリコンウェーハ上の主要な平面の向きは
、通常適当な結晶面の±1度以内の精度を持つに過ぎない。マスクおよび製造プ
ロセスの設計の際には、この角度の許容範囲を考慮に入れることが非常に重要で
ある。例えば、215ミリの印刷ヘッドの長い方の縁部に沿って、1本の溝をエ
ッチングにより形成する場合、ウェーハとエッチング速度を制御する{111}
面との間の整合に1度の誤差があると、十分なエッチング時間を掛けた場合、溝
の幅には3,752ミクロンの誤差が生じる。整合誤差は、±0.1度またはそ
れ以下でなければならない。この精度は、まだ使用していないウェーハの領域内
に、試験的な溝をエッチングによって形成することによって達成することができ
る。ウェーハと整合させるために、溝は長く、主要な平面を使用して、(111
)面に整合していなければならない。その後、{111}面を露出させるために
、試験的溝は、50℃で、1リットルの水に500グラムのKOHを溶かした溶
液を使用して、過度にエッチングされる。この溶液は、<111>方向と比較す
ると、約400倍の速さで、<100>方向にシリコンをエッチングする。その
後のこの溝に対する角度整合は、光学的に行うことができる。別の方法としては
、ウェーハの両縁部まで延びている溝を通して、ウェーハをエッチングすること
ができる。こうすることにより、選択した(111)面と高い精度で整合してい
るもう一つの平面が、ウェーハ上にできる。
ウェーハの面の向きの精度も±1度に過ぎない。しかし、ウェーハの厚さは、
約650ミクロンであるので、表面の整合の際に±1度の誤差がある場合には、
ウェーハを貫通してエッチングを行うと、位置の誤差は最大11.3ミクロンに
なる。この誤差は、エッチング用のマスクの設計に際に考慮に入れられる。
製造プロセスの要約
図9(a)−図9(k)は、好適な製造方法の要約である。この製造方法は下
記の主要なステップを含む。
1)最初の製造ステップは、ウェーハの供給である。大量に入手できること、低
コストで高品質なウェーハが得られること、基板としてシリコンは高い強度を持
つこと、製造プロセスおよび装置が一般的成熟段階にあることにより、シリコン
ウェーハは、ガリウムひ素のような他の材料と比較すると、非常に望ましい材料
である。
本明細書に記載する例示としての製造プロセスは、(110)結晶方向を持つ
nタイプのウェーハを使用する。標準半導体装置および材料協会(SEMI)仕
様に従って製造された、150ミリ(6インチ)の厚さのウェーハの、全厚さの
変動の許容範囲は25ミリである。本明細書に記載したプロセスは、エッチング
プロセス中にこの厚さの変動を許容するので、標準許容誤差を持つウェーハを使
用することができる。本明細書作成時には、200ミリ(8インチ)のウェーハ
を使用されていて、国際規格は、300ミリ(12インチ)のシリコンウェーハ
用のものである。印刷ヘッドを製造するには、300ミリのウェーハが特に適し
ている。何故なら、ページ幅A4(またUSレター)印刷ヘッドは、これらのウ
ェーハ上で単一チップとして製造することができるからである。
図9(a)は、(110)nタイプ300ミリウェーハである。このウェーハ
は、印刷長さが210ミリの、22 A4印刷ヘッドである。各印刷ヘッドチッ
プは、長さ215ミリ、幅8ミリである。これらの印刷ヘッドは、USレターま
たはA4サイズの印刷用に使用することができ、またはA3印刷用、シート送り
またはウエブ送りディジタル印刷プレス、およびクロス印刷用の多重チップ印刷
ヘッドの構成部材として使用することができる。各チップの境界は、エッチング
され、深い溝ができる。この溝は、能動装置に対するプロセスの流れに従って、
能動装置の製造前または後でエッチングすることができる。しかし、溝のところ
でのレジストの縁部の盛り上がりに関する問題を防止するために、大部分の製造
ステップが完了した後で、溝のエッチングを行うように勧める。
図9(b)は、チップの短い縁部に沿った境界溝の断面である。{111}関
連の結晶面が、エッチング方向を制御し、その結果、溝の内部に26.56度の
斜面が形成される。
図9(c)は、チップの長い縁部に沿った境界溝の断面である。{111}関
連の結晶面が、エッチング方向を制御し、その結果、溝の内部に垂直な側壁が形
成される。
溝が必要なのは、近接印刷ヘッドだけであり、溝は、印刷ヘッドへの電気的接
続装置がチップの表面から突出しないように形成される。この溝のエッチングは
、チップ上に能動装置を形成後に行うと、最もよい結果が得られる。その方法に
ついては、以下のステップ5)および6)のところで説明する。
2)ほう素エッチング停止剤が、シリコン中に拡散される。エッチング停止が必
要とされるのは、インクチャネルの底部の領域だけであり、サイズの大きいマス
クにより、ノズルからマスクされる。ほう素は、15−20ミクロンの深さまで
、1立法センチ当たり1020原子の濃度で拡散される。図9(d)は、ほう素ド
ーピング段階終了後の、ノズルチップの領域内のウェーハの断面である。
3)その後、二層金属を使用する従来の集積回路製造技術により、能動装置が形
成される。従来の技術プロセスとしては、nMOS、pMOS、CMOS、バイ
ポーラまたは他のプロセスがある。一般的にいって、能動回路は修正しないもと
のままのプロセスを使用して、形成することができる。しかし、大電流が印刷ヘ
ッドを通って流れることができるようにするために、ある種のプロセスは修正し
なければならない場合がある。大型印刷ヘッドの場合には、全体が作動した場合
には、ヒータ回路を通って28アンペア以上の電流が流れる場合があるので、電
子の移動を防止することが非常に重要である。第一のレベルの金属としては、ア
ルミニウムの代わりにモリブデンを使用することができる。何故なら、モリブデ
ンは電子の移動を妨げる働きを持つからである。しかし、モリブデンの場合は、
スパッタリングを行わなければならないので、その下のMOSまたはCMOSを
損傷しないように注意しなければならない。電子の移動を防止する好適な方法は
、印刷ヘッドの表面にグリッドを形成する、非常に幅の広いアルミニウムの細い
線を設置する方法である。この方法を使用すれば、製造プロセスを修正する必要
はないが、マスクパターンの設計の際にこの方法を考慮に入れる必要がある。レ
ベル間に誘電層を形成する段階までは、従来技術による製造プロセスを修正しな
いで、そのまま使用することができる。
4)レベル間誘電層の形成。この誘電層としては、3ミクロンの厚さのCVD二
酸化シリコンを使用することができる。
5)チップの境界での二酸化シリコンのマスク掛けおよびエッチング。チップの
縁部の内側、約200ミクロンの領域をエッチングする。この領域は、ボンディ
ングパッド領域である。ボンディング領域には、V型溝がエッチングにより形成
される。ウェーハがダイシングされると、これらの溝は縦方向に切断され、その
結果、斜めの縁部を持つチップが得られる。ボンディングパッドは、この斜めの
縁部に形成され、それによりチップの表面の上を延びるボンディングワイヤまた
はTABボンディングを使用しないで、チップをボンディングすることができる
。このことは、近接印刷の場合には重要なことである。何故なら、印刷ヘッドは
、記録媒体または転送ローラに非常に接近(約20ミクロン)していなければな
らないからである。従来のボンディング方法では、このような近接した状態を作
りだすのは難しい。
6)ボンディングパッド溝のエッチング。このエッチングは、[100]結晶方
向、好適には[111]方向にエッチングを行う、異方体湿式エッチングによっ
て行うことができる。非常に速い選択的エッチング速度(約400:1)でエッ
チングを行う場合には、水1リットルに440グラムの水酸カリウム(KOH)
を溶かした溶液を使用することができる。
図9(b)は、このエッチングステップ終了後の、印刷ヘッドの短い方の縁部
のところのV溝の横断面である。
図9(c)は、チップの長い方の縁部に沿った、境界用の溝の横断面である。
{111}ファミリーの結晶面が、エッチング方向を制御し、その結果、溝の中
に垂直な側壁が形成される。
ボンディングパッドを基板から絶縁するために、V型溝をエッチングにより形
成してから、0.5ミクロンの厚さのCVD二酸化シリコンの層を塗布しなけれ
ばならない。
7)金属間通路のエッチング。場合によっては、V型溝のエッチング用のマスク
を形成するために、このステップを二酸化シリコンのエッチングと一緒に行うこ
とができる。金属間二酸化シリコンは、通常の場合より遙かに厚いので、通路の
側壁をテーパ状にすることを勧める。
8)第二のレベルの金属の設置。第一のレベルの金属と同じように、電子の移動
を考慮にいれなければならない。電子の移動は、すべての大電流の細い線用に、
大型のライン幅のものを使用し、また2%の銅を含むアルミニウム合金を使用す
ることによって、最小限度に少なくすることができる。モリブデンの薄いフィル
ムにボンディングするのは難しいので、モリブデンの使用は勧めない。第二のレ
ベルの金属のステップの適用範囲は重要である。何故なら、レベル間酸化物の厚
さが通常より厚いからである。また、チップの長い方の縁部に沿った、V-およ
びV+溝の垂直な側壁には、コーティングを行う必要がある。低圧蒸着法を使用
することによって、ステップの適用範囲を適当なものにすることができる。第一
の金属が電界酸化物をカバーしている領域だけに通路を設けることにより、通路
ステップの適用範囲を改善することができる。好適なプロセスとしては、98%
のアルミニウムと2%の銅との合金を、低圧蒸着法により1ミリの厚さに蒸着す
る方法がある。
9)第二のレベルの金属のマスク掛け。印刷ヘッドが近接印刷に使用される場合
には、ボンディングパッドのマスク掛けおよびエッチングに特別の注意を払う必
要がある。何故なら、ボンディングパッドは、V型溝内に形成されるからである
。そのため二つの問題が生じる。すなわち、V型溝の底部のレジストの厚さが、
もっと厚くなることと、マスクの焦点がずれることである。このことは、チップ
の長い縁部にとっては問題にならない。何故なら、長い縁部はV+およびV-電力
レール専用であり、パターン化されていないからである。チップの短い方の縁部
上に形成されたボンディングパッドは、少なくとも100ミクロン分離しなけれ
ばならない。V型溝内には、能動回路または細い幾何学的な線を形成してはなら
ない。図9(e)は、このステップ終了後の、ノズル領域内のウェーハの横断面
である。
10)ヒータの形成。ヒータ材(例えば、0.05ミクロンの厚さのTaAl合
金またはHfB2またはZrB2のような耐火材)は、低圧蒸着またはスパッタリ
ングにより設置することができる。ヒータは平面状なので、マスク掛けおよびエ
ッチングはまっすぐに行われる。ヒータは、環状体としてではなく、ディスクと
してマスク掛けされる。ディスクの中心は、後でノズル形成ステップ中にエッチ
ングされる。これはヒータとノズルとの間に精度の高い整合を確実に実施するた
めに行われる。ヒータの半径は、1.5ミクロンのプロセスの際に通常得られる
よりも、厳しい許容誤差に制御しなければならないので、0.5ミクロンのステ
ッパを使用することを勧める。図9(f)は、このステップ終了後の、ノズル領
域内のウェーハの横断面である。
11)窒化シリコンの保護コーティングの塗布。このコーティングは、ウェーハ
の表面だけに行われるが、ウェーハの裏面の長期間の湿式エッチングによる腐食
から保護するために、ウェーハの表面を、少なくとも0.1ミクロンの厚さにし
なければならない。図9(g)は、このステップ終了後の、ノズル領域のウェー
ハの横断面である。
12)ウェーハの裏面のマスク掛け。Si3N4はマスクとして使用される。何故
なら、レジストは湿式エッチング溶液によって腐食され、二酸化シリコンのエッ
チング速度は、マスクを有効に使用するにはあまりに速すぎる(約14Å/分)
からである。Si3N4のエッチング速度は、約20Å/時)である。ウェーハの
裏面には、0.5ミクロンの厚さのSi3N4の層が塗布され、その後で、0.5
ミクロンの厚さのレジストがスピンコーティングされる。インクチャネルのマス
クを使用して、ウェーハの裏面上のレジストの露および現像が行われる。石版印
刷装置の修正した整合光学により、ウェーハの表面から整合が行われる。このス
テップ中の整合は重要ではなく、約±4ミクロンの精度で行うことができる。そ
の後で、Si3N4がエッチングされ、レジストが除去される。
13)インクチャネルのエッチング。このエッチングは、水酸カリウムの水溶液
を使用して、シリコンを湿式エッチングすることによって行われる。異方体プラ
ズマエッチングと比較した場合の、湿式エッチングの利点は、結晶面によって決
定した非常に正確なエッチング角度と共に、装置のコストが非常に安いことであ
る。エッチング剤により{111}面が露出する。これらの面の中の4つは、ウ
ェーハの表面に対して90度の角度を持つ。インクチャネルは、これらの平行な
面の中の二つに平行になっているので、{111}面がインクチャネルの垂直な
側壁を形成する。別の二つの{111}面は、インクチャネルの平面のウェーハ
の表面に対して、26.56度の角度を持つ。このため、インクチャネルマスク
は、必要とするチャネルの長さより長くしなければならない。その結果、インク
チャネルの必要な場所に、必要な深さのエッチングが行われる。80℃で、KO
Hの50%水溶液により、ウェーハのエッチングが行われる。エッチング速度は
、約0.8ミクロン/分であり、必要なエッチングの深さは、620ミクロンで
ある。そのため、エッチングの持続時間は約12.9時間である。ほう素により
エッチングが停止するので、エッチング時間を正確に守ることは重要ではない。
この段階でのエッチングは、バルクシリコンエッチングであり、このエッチング
は、ほう素によりエッチングの停止が行われる少し前に停止しなければならない
。このエッチングステップの主な目的は、インクチャネルのシリコンの厚さを減
らすことであり、その結果、ほう素エッチング停止による、ノズルバレルを形成
するためのエッチングステップを遙かに短縮でき、ノズルチップのところの二酸
化シリコンの有意なエッチングは行われない。図9(h)は、エッチング終了後
のいくつかのインクチャネルの斜視図である。この図はウェーハの裏面から見た
ものである。図9(i)は、このステップ終了後の、ノズル領域内のウェーハの
横断面である。ウェーハ裏面からシリコン中に、エッチングにより形成されたイ
ンクチャネルは、非対称になっている。何故なら、AからBへの線が直線ではな
いからである。A面においては、横断面はインクチャネルに垂直であり、B面に
おいては、横断面は、インクチャネルに沿っている。Si3N4のマスク層は除去
してはならない。
14)レジストによるノズルチップのマスク掛け。このマスク掛けは、正確に行
わなければならない。何故なら、ヒータに対するノズルの整合およびノズルチッ
プの半径は、両方ともインク粒子の排出性能に影響するからである。これらのパ
ラメータは、0.5ミクロン以上の精度で、好適には0.3ミクロン以上の精度
で制御しなければならない。図9(j)は、このステップ終了後の、ノズル領域
内のウェーハの横断面である。
15)ノズルチップのエッチング。第一のステップは、Si3N4層のエッチング
である。第二のステップは、ヒータのエッチングである。ヒータは非常に薄いの
で、湿式エッチングを使用することができる。第三のステップは、ノズルチップ
を形成している二酸化シリコンのエッチングである。二酸化シリコンは、例えば
、CF4−H2混合ガスを使用する、RIEエッチングのような異方体エッチング
により、エッチングを行わなければならない。このエッチングは、シリコン内の
ノズル領域の深さまで行う。その後、レジストが除去される。図9(k)は、こ
のステップ終了後の、ノズル領域内のウェーハの横断面である。
16)ノズルバレルのエッチング。このエッチングも、KOHを使用するシリコ
ンの湿式エッチングにより行われる。エッチングはウェーハの両面から、すなわ
ち、裏面からはインクチャネルを通して、表面からはノズルチップと通して同時
に行われる。約20ミクロンの厚さのシリコンが、両面から10ミクロンずつエ
ッチングされる。しかし、ほう素によるエッチング停止により、最終的なノズル
バレルの幾何学的形状が制御されるので、エッチング時間は重要ではなく、ウェ
ーハの厚さの25ミクロンの変動、およびエッチング速度の変動を許容できるよ
うに、最短エッチング時間よりかなり長くする必要がある。80℃で、1時間の
間、KOHの50%水溶液によりウェーハのエッチングを行う。図9(1)は、
このステップ終了後の、二本のインクチャネル内の数個のノズルバレルの斜視図
である。この図は、ウェーハの裏面から二本のインクチャネルの方向を見たもの
である。この配置は、ピクセル間隔が31.75ミクロンの800dpiプリン
タに対するものである。各チャネル内のノズルの間隔は、63.5ミクロンで、
二つのチャネルの間のオフセットは31.75ミクロンである。ノズルチップの
直径は、20ミクロンである。AからBへの線は、図8(d)に示すように、図
9の横断面の切り口の線である。図9(m)は、このステップ終了後の、ノズル
領域内のウェーハの横断面である。
17)不動態化層の形成。動作中、モノリシック印刷ヘッドは、加熱された水を
ベースとするインクと接触しているので、有効な不動態化層が絶対に必要である
。PECVDによって、0.5ミクロンの厚さのSi3N4の適合層を塗布するこ
とができる。200sccmでSH4を使用し、2000sccmでNH3を使用
し、50分間、46ワットで、圧力を1.6torr、温度を250℃に維持す
る。図9(n)は、このステップ終了後のノズル領域のウェーハの断面である。
18)選択したコーティングが、この後の処理ステップによって除去されずに残
るなら、この段階で疎水性の表面コーティングを行うことができる。この段階で
上記コーティングを行わない場合には、TABボンディングの後で、疎水性コー
ティングを行わなければならない。使用することができる疎水性コーティングの
種類は多く、このコーティングを行うために多くの方法を使用することができる
。いくつかの例を上げると、ふっ素化ダイヤモンド様炭素(F*DLC)、ふっ
素で実質的に飽和した外表面を持つアモルファス炭素フィルム等がある。プラズ
マ改良化学蒸気蒸着装置(PECVD)を使用する上記フィルムの形成法は、米
国特許第5,073,785号に記載されている。独立の疎水層を形成すること
は、本質的に重要なことではない。その代わりに、疎水化剤を使用して、露出誘
電層を処理することができる。例えば、二酸化シリコンをSi3N4内の必要な場
所に、不動態化層として使用する場合には、露出二酸化シリコンを疎水性にする
ために、ジメチルジクロロシランで処理することができる。この様な処理を行う
と、疎水性のままに維持する必要がある領域をマスクしない限り、ノズル全体が
影響を受ける。何故なら、ジメチルジクロロシランの蒸気は、露出しているすべ
ての二酸化シリコンに影響を与えるからである。
インクが水をベースとするものである場合、または他の極性溶媒をベースとす
る場合には、疎水性の層を形成する必要がある。インクがワックスをベースにす
るものである場合、または無極性溶媒を使用している場合には、印刷ヘッドの表
面を疎油性にしなければならない。要するに、使用するインクを弾くように、印
刷ヘッドの表面を、製造するか、処理しなければならない。本明細書に開示する
物理的装置を使用する場合には、疎水性の層を装置の表面だけに限定する必要は
ない。装置の性能に有意な影響を与えずに、装置全体を疎水性の層(または無極
性のインクを使用する場合には、疎油性の層)で、コーティングすることができ
る。装置全体がインクを弾く層で処理されている場合には、ノズルチップの外径
ではなく、内径をノズルの半径と見なすべきである。
19)ボンディング、パッケージおよび試験。ボンディング、パッケージおよび
試験プロセスは、標準製造技術を使用することができる。ボンディングパッドは
、Si3N4の不動態化層から切り開いておかなければならない。ボンディングパ
ッドは、V型溝内にある角度で形成することができるが、それらをマスクするに
は特別な注意を払う必要はない。何故なら、V型溝の全面積からSi3N4を除去
することができるからである。ボンディングパッドを切り開いたら、レジストを
はぎ取り、ウェーハをきれいに拭き取らなければならない。この状態で、試験を
行うことができる。その後で、ウェーハのダイシングを行う。長い印刷ヘッドが
破損するのを防ぐために、またウェーハはノズルの列に沿って弱くなるので、ウ
ェーハをスクライバで切断したり、ぱちんと折ったりしないで、刃物で切断しな
ければならない。ダイシングしたウェーハ(チップ)は、インクチャネル内に装
着される。カラー印刷ヘッドの場合には、この段階で、独立したインクチャネル
をチップに対して密封する。装着後、チップがボンディングされ、インクを供給
しない状態での試験を行う。その後、装置をインク供給源に接続し、インク圧を
掛け、機能試験を行うことができる。図9(o)は、このステップ終了後のノズ
ル領域のウェーハの断面である。
図9(a)−図9(o)においては、100はインク、101はシリコン、1
02はCVD二酸化シリコン、103はヒータ材、105はほう素でドーピング
したシリコン、106は第二層の金属相互接続(アルミニウム)、107はレジ
スト、108は窒化シリコン(Si3N4)、109は疎水性表面コーティングで
ある。
他の製造プロセス
他の多くの製造プロセスを使用することができる。上記の製造プロセスは、使
用することができるプロセスの中で、最も簡単な製造プロセスでもなく、最もコ
ストが安い実用プロセスでもない。しかし、上記プロセスは、同じウェーハ上に
ノズルとして、高性能のデータ分配装置および駆動トランジスタを、形成できる
という利点がある。このプロセスはまた容易にサイズを変えることができ、必要
な場合には、1ミリのライン幅を使用することができる。
1ミクロンのライン幅(または、もっと小さな幾何学的模様)を使用すること
ができるので、より多くの回路をウェーハ上に集積することができ、駆動トラン
ジスタのサイズまたは抵抗(または両方)を減らすことができる。より小さな装
置の幾何学的形状を下記の方法で、または下記の組み合わせで使用することがで
きる。
1)モノリシック印刷ヘッドの幅を狭くすること。
2)もっと優れた故障許容回路を内蔵させることによって、印刷ヘッドの歩留ま
りを改善すること。
3)チップの面積を増大しないで、印刷ヘッド上のノズルの数を増やすこと。
4)直線寸法で、ノズル間の間隔をさらに狭くすることにより、印刷ヘッドの解
像度を改善すること。
5)チップ上により多くの全システム回路を内蔵すること。例えば、チップ上に
データ位相回路を内蔵することができ、印刷ヘッドに標準メモリインタフェース
、すなわち、メモリに直接アクセスすることにより印刷データを入手する経路を
内蔵すること。
ノズル形成プロセスを多くの方法で変更することができる。例えば、本明細書
に開示した平面ヒータ形成法の代わりに自己整合垂直技術を使用して、ヒータを
製造することができる。
本明細書に記載した上記プロセスは、印刷ヘッドの製造用の好適なプロセスで
ある。何故なら、このプロセスを使用することにより、高解像度が得られ、全カ
ラー印刷ヘッドは、駆動回路、データ分配回路および故障許容を内蔵することが
できるからであり、上記全カラーヘッドを、標準CMOS製造プロセスに比較的
少ないコストを追加するだけで製造することができるからである。このプロセス
を修正して、多くのもっと簡単な印刷ヘッド製造プロセスを考案することができ
る。特に、能動回路を含まない印刷ヘッドを、遙かに簡単なプロセスにより製造
することができる。
ヒータ構造体
図10(a)および図10(b)は、本発明を使用しないヒータ構造体である
。両方の図とも、ヒータは平で、その平面は図の平面と一致している。また両図
とも、ノズルは実質的に円筒形で、その対称軸はヒータの中心に垂直な線である
。完成したノズルの直径は20ミクロンで、内部に0.5ミクロンの厚さの不動
態化層があるので、孔部の直径は21ミクロンである。ヒータは、ライン幅2ミ
クロン、間隔2ミクロンで製造される。
図10(a)は、ノズルの周囲に開いたループとして形成されたヒータ103
である。このノズルは、インク100で満たされ、ヒータおよび能動装置をイン
クから保護するために、不動態化層108によりコーティングされている。この
ノズル構造体は、いくつかの問題を持っている。駆動電子装置と接続するための
電極を形成するために、円を切った部分に実質的な「冷たい」点ができる。この
冷たい点は、インク粒子排出の方向および信頼性の両方に影響を与える場合があ
る。
ヒータとインクとの間に実質的な距離がある。この場合、その距離は2.5ミ
クロンであり、その内訳はライン幅によるものが2ミクロン、不動態化層のによ
るものが2.5ミクロンである。この距離により、ヒータからインクへの熱移動
の効率が低下する。
ヒータに対するノズルの位置が変化すると、ヒータとインクとの間の熱的結合
が大きな影響を受ける。
図10(b)は、ノズルの周囲に閉じたループとして形成されたヒータ103
である。このノズルは、インク100で満たされ、ヒータおよび能動装置をイン
クから保護するために、不動態化層108によりコーティングされている。この
ノズル構造体の場合には、図10(a)のノズル構造体に関連する「冷たい点」
の問題は軽減するが、しかし依然として他の問題がある。ヒータの電気抵抗も、
係数約4だけ減少し、これが駆動回路またはヒータ材料を設計する際の制限にな
る恐れがある。
本発明は、インクノズルの軸が、ヒータの平面に実質的に垂直で、ヒータの中
心を実質的に通っている、集積印刷ヘッド用の電熱ヒータの構造体および製造プ
ロセスである。完成したヒータはループ状で、ループの中心はノズルエッチング
プロセスにより形成される。
ディスク状のヒータ材料が基板上に形成される。このディスクの半径は、ノズ
ル用にエッチングされる孔部の半径に、必要なヒータ幅を加えたものに等しい。
ノズル孔部は、ヒータディスクの中心から実質的にエッチングされる。残りのヒ
ータ材料は、環状をしていて、その内半径はノズル孔部の半径に等しい。この構
造体は、実質的に不動態化材料の層でコーティングされている。
この製造手順は、ヒータとインクとの間の距離を短縮する利点がある。通常、
光学的パターンのライン幅は、ヒータとヒータの中心を通って形成されるノズル
との間になければならない。2ミクロンのプロセスの場合、このライン幅は2ミ
クロン(または、ヒータ材料が光学的に反射を起こす場合には、3ミクロン)で
ある。本明細書に開示するこの構造により、ヒータの内半径とエッチングされた
ノズル孔部との間の距離をゼロにすることができる。ヒータとインクとを隔てて
いるものは、一層または複数の層の不動態化層だけである。この構造の場合には
、ヒータとインクとの間の熱的結合が改善され、それにより印刷ヘッドの効率が
向上する。また、ヒータの内半径とノズルとの間の整合の変化が起こらなくなる
。
ヒータ幅の変動を最小限度に維持するには、ヒータに対するノズルの整合を依
然として正確にしておく必要がある。
図11(a)は、本発明と一緒に使用することができるヒータパターンである
。ヒータ103のパターンは、対向する側面上に二つの電極を持つ、インクで満
たされたディスクの形をしている。ディスクを完全にインクで満たす必要はない
。ディスクの内半径が、ノズル孔部の半径からマスクの露出、整合およびエッチ
ング許容誤差を引いたものより短ければ十分である。
図11(b)は、ノズル孔部をエッチングによって形成した後のヒータ103
である。ノズル孔部は、ヒータの中心を通してエッチングにより形成される。こ
の場合、ノズル孔部の直径は21ミクロンであり、外径25ミクロンの2ミクロ
ン幅の環状のヒータ材料が残る。
図11(c)は、0.5ミクロンの不動態化層108を塗布し、インク100
で満たした後のノズルである。ヒータの内半径とインクとの間の距離は、不動態
化層の厚さに等しい。これは理想的な状態である。何故なら、ヒータとインクと
の間の熱的結合が最大になるからである。
図12(a)は、本発明と一緒に使用することができるヒータパターンである
。ヒータ103のパターンは、同じ側面上に二つの電極を持つインクで満たされ
たディスクの形をしていて、二つの電極を分離し、ディスクの中心に向かって延
びているスロットを持つ。
図12(b)は、ノズル孔部をエッチングによって形成した後の別のヒータ1
03である。ノズル孔部は、ヒータの中心を通してエッチングにより形成される
。この場合、ノズル孔部の直径は21ミクロンであり、外径25ミクロンの2ミ
クロン幅の環状のヒータ材料が残る。
図12(c)は、0.5ミクロンの不動態化層108を塗布し、インク100
で満たした後のノズルである。この別のパターンの場合も、ヒータの内半径とイ
ンクとの間の距離は、不動態化層の厚さに等しい。このパターンは、図11のパ
ターンと比較すると、約4倍高い抵抗値を持つという利点がある。それ故、この
パターンは、低い比抵抗、より厚いヒータ、より高い駆動電圧、より低い駆動電
流、またはこれらのいくつかの組み合わせ持つヒータ材料と一緒に使用すること
ができる。ある種の印刷ヘッドの設計の場合には、このパターンの方が、図11
のパターンより適している。
図11および図12に示す両方のヒータ設計を使用した場合、ヒータとノズル
間の整合を依然として正確に維持する必要がある。そうすることによって、ノズ
ル孔部がヒータと同心になっていない場合に起こる恐れがある、ヒータ幅の変動
が最も小さくなる。
上記ヒータパターンおよび製造方法は、種々の熱作動印刷ヘッド一緒に使用す
ることができるが、特に適しているのは熱印刷ヘッドである。
ヒータ幅変動の流体力学シミュレーンョン
印刷ヘッドを製造する際には、ヒータの幅を高い精度制御することができるが
、正確に制御することはできない。ヒータ幅は、マスク露出システムの特性、露
出時間、使用するレジストのタイプ、レジストの予備ベーキングおよび後ベーキ
ング温度および時間、レジスト現像液の温度および時間、およびエッチング剤の
特性によって変化する。ヒータライン幅の変動は、近代の装置を使用することに
よって、容易に士0.1ミクロン以下に低減することができるが、許容誤差要件
が高いと、しばしば製造コストが高くなる。
流体力学シミュレーションは、2ミクロンの公称ヒータ幅から士0.6ミクロ
ンの変動を使用して行った。これらのシミュレーションは、同一の印刷ヘッド上
で変動が起こった場合を想定している。そのため、ヒータの変動の影響を、駆動
電圧、同じ印刷ヘッド上の他のノズルに悪影響を与えずに、インク圧または他の
パラメータを変化させることにより、補償することはできない。このため、ヒー
タ幅以外のすべてのパラメータは、一定に保持される。
ヒータ幅の変動の主な影響は、同じ駆動電圧を使用した場合、ノズルに供給さ
れるエネルギーの量の変化である。ヒータが薄ければ薄いほど、電気抵抗は高く
なり、それ故、幅の広いヒータと比較すると、流れる電流量は小さくなる。ノズ
ルに供給されるエネルギーの空間的な分布も、ヒータ幅の変動によって若干変化
するが、その影響は少ない。
図13(a)−図13(n)は、FIDAPシミュレーションソフトウェアを
使用して行った流体力学シミュレーションの結果の要約である。それぞれの場合
、0.1マイクロ秒の間隔で、100マイクロ秒の間シミュレーションを行う。
ノズルチップは半径10ミクロンの円筒形である。インク圧は7.7kPaであ
り、周囲温度は30℃である。シミュレーションの開始時には、インクメニスカ
スは、その静止位置に近く、すべての速度はゼロである。時変電力パルスを、2
0マイクロ秒の時点から、18マイクロ秒間ヒータに供給する。このパルスは2
0マイクロ秒の時点でスタートし、メニスカスがインク粒子選択パルス前の静止
位置に到着するまで行う。
上記シミュレーションの場合には、インク粒子選択プロセスだけをモデル化す
る。インク粒子選択プロセスは、近接手段、静電手段または他の手段を使用する
ことができる。選択されなかったインク粒子から選択されたインク粒子を分離す
るには、選択されたインク粒子と選択されなかったインク粒子の間のメニスカス
位置の物理的違いを利用する。インク粒子を分離するには、インク粒子選択パル
ス前後のメニスカスの中心の間の軸方向の位置の違いが、15ミクロンである場
合が適している。
図13(a)、図13(c)、図13(e)、図13(g)および図13(i
)、図13(k)および図13(m)は、ヒータ幅が、それぞれ1.4ミクロン
、1.6ミクロン、1.8ミクロン、2.0ミクロン、2.2ミクロン、2.4
ミクロンおよび2.6ミクロンの場合の、時間に関するメニスカスの中心の位置
のグラフである。これらグラフを視覚的に比較する場合には、グラフ間で縦軸の
尺度が違うことを考慮にいれなければならない。重要な特性は、メニスカス位置
が約20ミクロン移動することで、その点でインク粒子分離手段(上記シミュレ
ーションではシミュレーションされていない)が、確実に選択されたインク粒子
をインク本体から分離し、記録媒体上に移動させることができる。インク粒子選
択パルスが除去された後のメニスカスの振動は、押し出されたインク粒子の初期
の非球体としての性質によるものである。インク粒子は、最初の偏長の形から、
球形になり、偏円形になって、ノズル内に戻る。ヒータが狭い(それ故、ノズル
により少ない熱エネルギーが供給される)場合には、選択されたインク粒子は最
終的にはノズル内に再度吸収される。ヒータが広い(それ故、ノズルにより多く
の熱エネルギーが供給される)場合には、インク圧が表面張力に打ち勝ち、選択
されたインク粒子が確実に成長するように、メニスカスは十分遠くへ移動する。
上記変動は重要ではない。何故なら、インク粒子選択後は、インク粒子分離手段
が、インクメニスカスの位置を決定する支配的な要因になるからである。
図13(b)、図13(d)、図13(f)、図13(h)、図13(j)、
図13(l)および図13(n)は、ヒータ幅が、それぞれ1.4ミクロン、1
.6ミクロン、1.8ミクロン、2.0ミクロン、2.2ミクロン、2.4ミク
ロンおよび2.6ミクロンの場合の、種々の瞬間のメニスカスの形である。イン
ク粒子選択パルスが20マイクロ秒の所からスタートしてから、18マイクロ秒
の持続時間を持つパルス終了後4マイクロ秒経過した時点、すなわち、42マイ
クロ秒の時点までのメニスカス位置を、2マイクロ秒間隔で図示している。
図13(b)、図13(d)、図13(f)、図13(h)、図13(j)、
図13(l)および図13(n)においては、100はインク、101はシリコ
ン基板、102は二酸化シリコン、103は環状ヒータの一方の側面の位置、1
08は窒化シリコンの不動態化層、109は疎水性表面コーティングである。図
には「温度輪郭図」と表示してあるが、温度輪郭は表示されていない。
図13のシミュレーションの結果を見れば、許容できる制限の間に動作を維持
しながら、公称ヒータ幅2ミクロンから±30%変えることができることが分か
る。他の公称ヒータ幅を使用しても、満足できる性能が得られ、特に、ヒータ幅
の違いを補償するために、駆動電圧、ヒータ厚、ヒータ比抵抗、ノズル直径、イ
ンクとの熱的結合、パルスの持続時間、インク圧またはその他の要因を変えるこ
とができる場合には、満足できる性能が得られる。
図13のシミュレーションの結果は、容易に入手できる半導体プロセスおよび
装置を使用すれば、本明細書に開示した製造方法により、本発明のヒータを製造
することができることを示している。
本発明の多くの好適な実施形態を説明してきた。当業者のとっては、本発明の
範囲から逸脱しないで、種々の修正を行うことができることは明らかであろう。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.基板と、 前記基板上に形成され、平らな環状体のヒータ材料を有するヒータと、 前記ヒータ材料の平面に対してほぼ垂直で、前記ヒータ環状体の中心を実質的 に通る軸を有するインクノズルと を備えてなる熱作動ドロップオンデマンド印刷ヘッド。 2.前記環状体の実質的に対向する側面からの延長をさらに含む請求項1に記 載の発明。 3.前記環状体の同一側面からに実質的に位置する接続電極を備え、 前記電極間の前記環状体にギャップが形成される ことを特徴とする請求項1に記載の発明。 4.(a)基板上に、所定の輪郭を持ち、所望するノズルチップの少なくとも 周辺領域を覆うヒータ材料の平面を形成するステップと、 (b)前記ヒータの平面にほぼ垂直で、前記ヒータの輪郭と実質的に同心であ る軸に沿ってノズル孔部を形成するステップと を含む熱作動ドロップオンデマンド印刷ヘッドのインクノズル用のヒータの製 造方法。 5.さらに、構造体を不動態化材料でコーティングすることを含む請求項4に 記載の方法。 6.ヒータ材料の平らな領域が、実質的に円形である請求項4に記載の方法。 7.不動態化材料が、二酸化シリコンである請求項5に記載のプロセス。 8.不動態化材料が、窒化シリコンである請求項5に記載のプロセス。 9.前記ノズルが50ミクロンよりも小さい半径で形成される請求項1に記載 の発明。 10.ノズルと同じ基板上に形成された駆動回路をさらに備えてなる請求項1 に記載の発明。 11.(a)複数のインク粒子噴出ノズルと、 (b)前記ノズルに関連するインク本体と、 (c)前記インク本体内のインクに、少なくともインク粒子選択および分離中 に、周囲圧より少なくとも2%高い圧力を加えるための加圧手段と、 (d)所定のノズルを選択し、選択されたノズルと選択されなかったノズルと のインクの間のメニスカス位置に違いを生じさせるためのインク粒子選択手段と 、 (e)選択されなかったノズル内にインクを保持しながら、選択したノズルか らのインクを、インク本体からインク粒子として分離するインク粒子分離手段と をさらに備えてなる請求項1に記載の発明。 12.(a)複数のインク粒子噴出ノズルと、 (b)前記ノズルに関連するインク本体と、 (c)所定のノズルを選択し、選択されたノズルと選択されなかったノズルと のインクの間のメニスカス位置に、違いを生じさせるためのインク粒子選択手段 と、 (d)選択されなかったノズル内にインクを保持しながら、選択したノズルか らのインクを、インク本体からインク粒子として分離するためのインク粒子分離 手段と をさらに備えてなり、前記インク粒子選択手段は、前記インク粒子分離手段が 存在しない場合に、メニスカス位置に前記違いを生じさせる請求項1に記載の発 明。 13.(a)複数のインク粒子噴出ノズルと、 (b)前記ノズルに関連し、30℃以上の温度範囲において、少なくとも10 mN/mの表面張力の低下を示すインクのインク本体と、 (c)所定のノズルを選択し、選択されたノズルと選択されなかったノズルと のインクの間のメニスカス位置に違いを生じさせるためのインク粒子選択手段と 、 (d)選択されなかったノズル内にインクを保持しながら、選択したノズルか らのインクを、インク本体からインク粒子として分離するためのインク粒子分離 手段とをさらに備えてなる請求項1に記載の発明。 14.(a)前記ノズルに関連するインク本体を供給し、 (b)前記インク本体内のインクに、少なくともインク粒子選択および分離中 に、周囲圧より少なくとも2%高い圧力を加え、 (c)所定のノズルを選択し、選択されたノズルと選択されなかったノズルと のインクの間のメニスカス位置に違いを生じさせ、 (d)選択されなかったノズル内にインクを保持しながら、選択したノズルか らのインクを、インク本体からインク粒子として分離する ことをさらに含む請求項4に記載の方法。 15.(a)前記ノズルに関連するインク本体を供給し、 (b)所定のノズルを選択し、選択されたノズルと選択されなかったノズルと のインクの間のメニスカス位置に違いを生じさせ、 (c)選択されなかったノズル内にインクを保持しながら、選択したノズルか らのインクを、インク本体からインク粒子として分離し、前記インク粒子分離手 段が存在しない場合に、メニスカス位置に前記違いを生じさせる前記インク粒子 選択手段と をさらに含む請求項4に記載の方法。 16.(a)前記ノズルに関連し、30℃以上の温度範囲において、少なくと も10mN/mの表面張力の低下を示すインクのインク本体を供給し、 (b)所定のノズルを選択し、選択されたノズルと選択されなかったノズルの インクの間のメニスカス位置に違いを生じさせ、 (c)選択されなかったノズル内にインクを保持しながら、選択したノズルか らのインクを、インク本体からインク粒子として分離する ことをさらに含む請求項4に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AUPN2346A AUPN234695A0 (en) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | Heater structure for monolithic lift print heads |
| AU2346 | 1995-04-12 | ||
| PCT/US1996/005022 WO1996032274A1 (en) | 1995-04-12 | 1996-04-09 | Heather structure and fabrication process for monolithic print heads |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10501772A true JPH10501772A (ja) | 1998-02-17 |
Family
ID=3786699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8531187A Pending JPH10501772A (ja) | 1995-04-12 | 1996-04-09 | モノリシック印刷ヘッドのヒータ構造体および製造プロセス |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0765234A1 (ja) |
| JP (1) | JPH10501772A (ja) |
| AU (1) | AUPN234695A0 (ja) |
| WO (1) | WO1996032274A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2002529280A (ja) * | 1998-11-09 | 2002-09-10 | シルバーブルック リサーチ プロプライエタリイ、リミテッド | 内蔵プリンタ付きデジタルカメラ装置 |
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| US6786420B1 (en) | 1997-07-15 | 2004-09-07 | Silverbrook Research Pty. Ltd. | Data distribution mechanism in the form of ink dots on cards |
| US6618117B2 (en) | 1997-07-12 | 2003-09-09 | Silverbrook Research Pty Ltd | Image sensing apparatus including a microcontroller |
| US6624848B1 (en) | 1997-07-15 | 2003-09-23 | Silverbrook Research Pty Ltd | Cascading image modification using multiple digital cameras incorporating image processing |
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| US20040119829A1 (en) | 1997-07-15 | 2004-06-24 | Silverbrook Research Pty Ltd | Printhead assembly for a print on demand digital camera system |
| US7110024B1 (en) | 1997-07-15 | 2006-09-19 | Silverbrook Research Pty Ltd | Digital camera system having motion deblurring means |
| US6879341B1 (en) | 1997-07-15 | 2005-04-12 | Silverbrook Research Pty Ltd | Digital camera system containing a VLIW vector processor |
| AUPP702098A0 (en) | 1998-11-09 | 1998-12-03 | Silverbrook Research Pty Ltd | Image creation method and apparatus (ART73) |
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| AUPQ056099A0 (en) | 1999-05-25 | 1999-06-17 | Silverbrook Research Pty Ltd | A method and apparatus (pprint01) |
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| TWI764504B (zh) | 2021-01-11 | 2022-05-11 | 研能科技股份有限公司 | 晶圓結構 |
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1995
- 1995-04-12 AU AUPN2346A patent/AUPN234695A0/en not_active Abandoned
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1996
- 1996-04-09 WO PCT/US1996/005022 patent/WO1996032274A1/en not_active Ceased
- 1996-04-09 EP EP96912694A patent/EP0765234A1/en not_active Withdrawn
- 1996-04-09 JP JP8531187A patent/JPH10501772A/ja active Pending
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Also Published As
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|---|---|
| WO1996032274A1 (en) | 1996-10-17 |
| EP0765234A1 (en) | 1997-04-02 |
| AUPN234695A0 (en) | 1995-05-04 |
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