JPH10505584A - インドリジンsPLA▲下2▼インヒビター - Google Patents

インドリジンsPLA▲下2▼インヒビター

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JPH10505584A
JPH10505584A JP8505935A JP50593596A JPH10505584A JP H10505584 A JPH10505584 A JP H10505584A JP 8505935 A JP8505935 A JP 8505935A JP 50593596 A JP50593596 A JP 50593596A JP H10505584 A JPH10505584 A JP H10505584A
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ディラード,ロバート・ディ
山治 萩下
光昭 大谷
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Shionogi and Co Ltd
Eli Lilly and Co
Original Assignee
Shionogi and Co Ltd
Eli Lilly and Co
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Abstract

(57)【要約】 新規なインドリジン−1−官能性化合物およびインドリジン−3−官能性化合物ならびに敗血症性ショックの治療のためのsPLA2媒介性脂肪酸放出の阻害におけるこれらの化合物の用途が記載されている。該化合物はインドリジン−1−アセトアミド、インドリジン−1−酢酸ヒドラジド、インドリジン−1−グリオキシルアミド、インドリジン−3−アセトアミド、インドリジン−3−酢酸ヒドラジドおよびインドリジン−3−グリオキシルアミドである。

Description

【発明の詳細な説明】 インドリジンsPLA2インヒビター 本出願は、米国特許出願第08/278,445号(1994年7月21日出 願)の一部継続出願である。 発明の技術分野 本発明は、敗血症性ショックなどの身体状態に対する脂肪酸のsPLA2媒介 性放出を阻害するのに有用な新規なインドリジン化合物に関する。 発明の背景 ヒト非膵臓分泌性ホスホリパーゼA2(以後、sPLA2と称する)の構造およ び物性は、セイルハマー,ジェフリー・ジェイ;プルザンスキー,ワルデマー; ヴェイダス,ペーター;プラント,シェリー;ミラー,ジュディー・エイ;クロ ス,ジーン;およびジョンソン,ローリン・ケイの“リウマチ様関節炎の滑液中 に存在するホスホリパーゼA2のクローニングおよび発現”「The Journal of Bi ological Chemistry」,Vol.264,No.10,pp5335〜5338(1989年4月5日発行)および クレイマー,ルース・エム;ヘッション,キャサリン;ヨハンセン,ベリット; ヘイエス,グレッチェン;マックグレイ,パウラチョウ,イー・ピンチャン;チ ザード,リチャードおよびペピンスキー,アール・ブレイクの“ヒト非膵臓ホス ホリパーゼA2の構造および物性”「The Journal of Biological Chemistry」, Vol.264,No.10,pp5768〜5775(1989年4月5日発行)という2つの文献に徹底的に詳 しく記載されている[これらの文献は本発明の参考文献である]。 sPLA2は、膜リン脂質を加水分解するアラキドン酸カスケードにおける律 速酵素であると信じられている。したがって、sPLA2媒介性脂肪酸(アラキ ドン酸など)放出を阻害する化合物を開発することが重要となる。このような化 合物は、敗血症性ショック、成人呼吸困難症候群、膵臓炎、外傷、気管支喘息、 アレルギー性鼻炎、リウマチ様関節炎、痛風、糸球体腎炎などのsPLA2の過 剰産生によって誘発および/または維持される身体状態の一般的治療において有 用となろう。 米国特許第2825734号には、1−フェネチル−2−エチル−6−カルボ キシ−N−プロピル−3−インドールグリオキシルアミド(実施例30を参照) などの3−インドールグリオキシルアミド中間体を用いる3−(2−アミノ−1 −ヒドロキシエチル)インドールの製造が記載されている。 米国特許第2890233号には、数種の3−インドール酢酸のアミド誘導体 が記載されている。 米国特許第3196162号、第3242162号、第3242163号およ び第3242193号(実施例56の3欄55〜60行を参照)には、インドリ ル脂肪酸ならびにそれらの関連エステルおよびアミドが記載されている。 米国特許第3271416号には、サンスクリーン薬としてのインドリル脂肪 酸およびその中間体が記載されている。これらの酸は−NH2で置換されてもよ い。 米国特許第3351630号には、α置換3−インドリル酢酸化合物およびそ のグリオキシルアミド中間体ならびにそれらの製造が記載されている。 米国特許第3449363号には、インドール核の3位にグリオキシルアミド 基を有するトリフルオロメチルインドールが記載されている。これらの化合物は 鎮痛薬であると述べられている。 米国特許第5132319号には、ロイコトリエン生合成のインヒビターとし て特定の1−(ヒドロキシルアミノアルキル)インドール誘導体が記載されてい る。 エイ・クレフツらの論文“経路121,520へ導く構造−活性の相関関係、 トリスアリール型インドメタシン由来のホスホリパーゼA2(PLA2)/ロイコ トリエン生合成インヒビター”「Agent and Actions、SApecial Conference Isst e」,Vol.39(1993),ppC33〜C35,ISSN0065〜4299,スイス,ベイゼル,バークホイ ザー・ベルラーク発行;“アメリカ合衆国ペンシルバニア州ホワイトヘブンで1 992年9月20〜24日に開催された炎症研究協会の第6回国際会議の会報” には、インドメタシン類縁体によるホスホリパーゼA2の阻害が記載されている 。ベンジルおよび酢酸置換基を有するインドール化合物が記載されている。 ジーエム・シンゴラーニ、エフ・クラウディ、エム・マッシおよびエフ・ヴェ ンチューリの“生物学的活性VIをもつインドリジン誘導体、1−(2−アミノ エチル)−3−ベンジル−7−メトキシ−2−メチルインドリジン、ベナンセリ ン構造類縁体”と題する論文,パリ,エルセビア発行の「Eur.J.Med.Chem.」 (1990),25,pp.709〜712,には、選択されたインドリジンおよびその平滑筋におけ る活性が記載されている。 シー・カーサグランデ、エイ・インヴェルニッチ、アール・フェリーニおよび ジー・ミラゴーリの論文“インドメタシンのインドリジン類縁体”「Il Farmaco -Ed.Sc.-」,Vol.26,fasc.12,pp.1059〜1073には、選択されたインドリジン類縁 体の薬理試験が記載されている。 欧州特許第0519353号(出願番号92109968.5)には、テスト ステロンラクターゼにおける阻害活性などの薬理活性をもつインドリジン誘導体 が記載されている。 欧州特許第0620214号(出願番号94302646.8)には、sPL A2阻害活性をもつインドールのヒドラジド誘導体が記載されている。 sPLA2誘発疾患の治療用の新規な化合物を開発することが望まれる。 発明の要約 本発明は、下記式: に示される番号の位置で置換される核を有するインドリジン化合物の新規な用途 に関する。 さらに詳しくは、本発明は、下記構造式“A”および“B”で示される2つの 一般配置をもつ新規なインドリジン化合物に関する。 配置Aにおいては、アセトアミド、酢酸ヒドラジドまたはグリオキシルアミド 部分が1位に存在し、大きな(C7〜C30)有機基(たとえば炭素環基など)が 3位に存在し、酢酸基が7位または8位に存在する。 配置Bにおいては、アセトアミド、酢酸ヒドラジドまたはグリオキシルアミド 部分が1位に存在し、大きな(C7〜C30)有機基(たとえば炭素環基など)が 1位に存在し、酢酸基が5位または6位に存在する。 これらのインドリジン−1−官能性およびインドリジン−3−官能性の本発明 化合物は、ヒトsPLA2媒介性脂肪酸放出を阻害するのに効果的である。 本発明は、また、一般式“A”および“B”で示される新規なインドリジン化 合物およびそれらの混合物からなるグループから選ばれるインドリジン−1−官 能性またはインドリジン−3−官能性化合物を含む医薬組成物に関する。 本発明は、また、一般式“A”および“B”で示される新規なインドリジン化 合物およびそれらの混合物からなるグループから選ばれるインドリジン−1−官 能性またはインドリジン−3−官能性化合物を有効量投与することによって、敗 血症性ショック、成人呼吸困難症候群、膵臓炎、外傷、気管支喘息、アレルギー 性鼻炎、リウマチ様関節炎、痛風、糸球体腎炎ならびに関連疾患を予防および治 療する方法に関する。 詳細な記載 定義: 本発明のインドリジンアセトアミド、酢酸ヒドラジド(以後、ヒドラジドとい う)およびグリオキシルアミドについて記載するために、下記のような語句の定 義を採用する。 「アルキル」とは、それ自身あるいは他の置換基の一部として、他の定義がさ れていない限り、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、 第3ブチル、イソブチル、sec−ブチル、n−ペンチルおよびn−ヘキシルなど の直鎖または分枝鎖の1価の炭化水素基を意味する。 「アルケニル」とは、それ単独あるいは他の語句と組み合わせて、一定の数の 炭素原子からなる直鎖または分枝鎖の1価の炭化水素基を意味し、代表例として 、ビニル、プロペニル、クロトニル、イソピンテニルおよび種々のブテニル異性 体が挙げられる。 「ヒドロカルビル」とは、炭素および水素のみを含む有機基を意味する。 「炭素環基」とは、飽和または不飽和の、置換または非置換の、環形成原子( 水素以外)が炭素原子のみである、5〜14員の有機核から誘導された基を意味 する。 「ハロ」とは、フルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードを意味する。 「複素環基」とは、単環または多環の、飽和または不飽和の、置換または非置 換の、窒素,酸素または硫黄から選ばれる1〜3個のヘテロ原子を含む環原子数 5〜14個の複素環核から誘導された基を意味する。代表的な複素環基として、 プロリル、フラニル、チオフェニル、ピラゾリル、イミダゾリル、フェニルイミ ダゾリル、チアゾリル、イソキサゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、チアジア ゾリル、インドリル、カルバゾリル、ノルハルマニル、アザインドリル、ベンゾ フラニル、ジベンゾフラニル、チアナフテネイル、ジベンゾチオフェニル、イン ダゾリル、イミダゾ(1.2−A)ピリジニル、ベンゾトリアゾリル、アントラ ニリル、1,2−ベンズイソキサゾリル、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリル 、プリニル、ピリジジル、ジピリジニル、フェニルピリジニル、ベンジルピリジ ニル、ピリミジニル、フェニルピリミジニル、ピラジニル、1,3,5−トリア ジニル、キノリニル、フタラジニル、キナゾリニルおよびキノキサリニルが挙げ られる。 代表的な炭素環基として、シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナ フチル、ノルボルナニル、ビシクロヘプタジエニル、トルイル、キシレニル、イ ンデニル、スチルベニル、テルフェニリル、ジフェニルエチレニル、フェニル− シクロヘキセニル、アセナフチレニルおよびアントラセニル、ビフェニル、ビベ ンジリルならびに下記式(bb)で示される関連ビベンジリル同族体が挙げられ る。 [ここで、nは1〜8である] 「不干渉置換基」とは、sPLA2媒介性脂肪酸放出の阻害を妨げたり、有意 に低減化したりしない基を意味する。不干渉置換基は、インドリジン核(後記式 IAで示される)の5,6,7および/または8位における置換に適しており、 前述の複素環ならびに炭素環基上での置換に適する基である。代表的な不干渉基 として、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C7〜 C12アラルキル、C7〜C12アルカリール、C3〜C8シクロアルキル、C3〜C8 シクロアルケニル、フェニル、トルイル、キシレニル、ビフェニル、C1〜C6ア ルコキシ、C1〜C6アルケニルオキシ、C1〜C6アルキニルオキシ、C2〜C12 アルコキシアルキル、C2〜C12アルコキシアルキルオキシ、C2〜C12アルキル カルボニル、C2〜C12アルキルカルボニルアミノ、C2〜C12アルコキシアミノ 、C2〜C12アルコキシアミノカルボニル、C1〜C12アルキルアミノ、C1〜C6 アルキルチオ、C2〜C12アルキルチオカルボニル、C1〜C6アルキルスルフィ ニル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6ハロア ルキルスルホニル、C1〜C6ハロアルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、−C (O)O(C1〜C6アルキル)、−(CH2)n−O−(C1〜C6アルキル)、 ベンジルオキシ、フェノキシ、フェニルチオ、−(CONHSO2R)、−CH O、アミノ、アミジノ、ブロモ、カルバミル、カルボキシル、カルボアルコキシ 、−(CH2)n−CO2H、クロロ、シアノ、シアノグアニジニル、フルオロ、 グアニジノ、ヒドラジド(de)、ヒドラジノ、ヒドラジド(do)、ヒドロキシ、ヒ ドロキシアミノ、ヨード、ニトロ、ホスホノ、−SO3H、チオアセタール、チ オカルボニルおよびC1〜C6カルボニル[ここでnは1〜8]が挙げられる。 「酸性基」とは、適当な結合原子(以後、酸リンカーと定義する)を介してイ ンドリジン核に結合したときに、水素結合をする能力をもつプロトンドナーとな る有機基を意味する。代表的な酸基として、次のものが挙げられる。 −5−テトラゾリル、−SO3H、 [ここで、nは1〜8;R89はメタルまたはC1〜C10アルキル;およびR99は 水素またはC1〜C10アルキルである] 「酸リンカー」とは、インドリジン核を酸性基に連結する機能を有する、下記 の一般式において−(La)−で表される二価のリンカー基を意味する。 「酸リンカー長さ」とは、インドリジン核と酸基を連結するリンカー基−(L a)−の最短鎖における原子(水素以外)数を意味する。−(La)−中に存在 する炭素環は、炭素環の計算した直径におおむね該等する原子の数として数える 。したがって、酸リンカー中のベンゼン環またはシクロヘキサン環は、−(La )−の長さの算出において2原子として数える。代表的な酸リンカー基として、 下 記のものが挙げられる。 [ここで、基(a)、(b)および(c)の酸リンカー長さは、それぞれ5、7 および2である] 「アミン」には、第1、第2および第3アミンが含まれる。“A”型配置の本発明インドリジン化合物 : A型配置の本発明インドリジン化合物には、下記構造式(IA)、(IIA) および(IIIA)で示される3つの型がある。 インドリジン−1−アセトアミドは、下記式(IA): [ここで、Xは酸素または硫黄;および各R11は独立して水素、C1〜C3アルキ ルまたはハロ;ならびにすべての他の基は後記と同意義である] で表される。 インドリジン−1−ヒドラジドは、下記式(IIA): [ここで、Xは酸素または硫黄;および各R11は独立して水素、C1〜C3アルキ ルまたはハロ;ならびにすべての他の基は後記と同意義である] で表される。 インドリジン−1−グリオキシルアミドは、下記式(IIIA): [ここで、Xは独立して酸素;およびすべての他の基は後記と同意義である] で表される。 上記式(IA)、(IIA)および(IIIA)において、残りの基の定義は 下記のとおりである: R13は次の(a),(b)および(C)から選ばれる; (a)は、C7〜C20アルキル、C7〜C20アルケニル、C7〜C20アルキ ニル、炭素環基または複素環基; (b)は、(a)を1個もしくはそれ以上の独立して選ばれた不干渉置換 基で置換したもの; (c)は、−(L)−R80[ここで−(L)−は原子数1〜12の二価の リンカー基であり、R80は(a)または(b)から選ばれる基]; R12は水素、ハロ、C1〜C3アルキル、C3〜C4シクロアルキル、C3〜C4シ クロアルケニル、−O−(C1〜C2アルキル)、−S−(C1〜C2アルキル)ま たは水素以外の原子数の合計が1〜3個である不干渉置換基(すなわち、R12は 、水素原子を含んでもよいが、それ以外の原子の合計が1〜3個でなければなら ないということを意味する); R17およびR18は独立して水素、不干渉置換基または−(La)−(酸性基) から選ばれる[ここで−(La)−は、酸リンカー長さが1〜10の酸リンカー である]、ただし、R17およびR18のうち少なくともひとつは組み合わせ基−( La)−(酸性基)でなければならない; R15およびR16はそれぞれ独立して水素、不干渉置換基、炭素環基、不干渉置 換基で置換された炭素環基、複素環基および不干渉置換基で置換された複素環基 から選ばれる。“A”型の本発明インドリジン化合物の好ましいサブグループ : 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の好ましいサブクラスは、す べてのXが酸素である化合物である。 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の他の好ましいサブクラスは 、R12がハロ、シクロプロピル、メチル、エチル、プロピル、−O−メチルおよ び−S−メチルから選ばれる化合物である。 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の他の好ましいサブクラスは 、R13の−(L)−が、 および [ここで、sは0または1] からなるグループから選ばれる化合物である。 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の他の好ましいサブクラスは 、R13におけるR80が炭素環基であり、シクロアルキル、シクロアルケニル、フ ェニル、ナフチル、ノルボルナニル、ビシクロヘプタジエニル、トルイル、キシ レニル、インデニル、スチルベンジル、テルフェニリル、ジフェニルエチレニル 、フェニル−シクロヘキセニル、アセナフチレニルおよびアントラセニル、ビフ ェニル、ビベンジリルならびに下記式(bb): [ここで、nは1〜8である] で示される関連ビベンジリル同族体からなるグループから選ばれる化合物である 。特に好ましい化合物は、R13が式: および [ここで、R10は独立して、ハロ、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、 −S−(C1〜C10アルキル)およびC1〜C10ハロアルキル;qは0〜4;およ びtは0〜5である] からなるグループから選ばれる化合物である。 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の他の好ましいサブクラスは 、R18が、酸リンカー長さが2または3である酸リンカーをもつ置換基である化 合物である。 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の他の好ましいサブクラスは 、R18が酸性基を含み、酸性基の酸リンカーの酸リンカー長さが2または3であ り、R18における酸リンカー基−(La)−が式: [ここで、Qはー(CH2)−、−O−、−NH−および−S−から選ばれる基 ;およびR84およびR85はそれぞれ独立して、水素、C1〜C10アルキル、アリ ール、C1〜C10アルカリール、C1〜C10アラルキル、カルボキシ、カルボアル コキシおよびハロである] で示されるグループから選ばれる化合物である。最も好ましい化合物は、R18に おける酸リンカー基−(La)−が、特定の基: および [ここで、RはHまたはC1〜C4アルキルである] から選ばれる化合物である。 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の他の好ましいサブクラスは 、 R17が酸性基を含み、R17酸性基の酸リンカーの酸リンカー長さが3〜10原子 であり、R17における酸リンカー基−(La)−が式: [ここで、rは1〜7;sは0または1;およびQは−(CH2)−、−O−、 −NH−および−S−から選ばれる基;ならびにR84およびR85はそれぞれ独立 して、水素、C1〜C10アルキル、アリール、C1〜C10アルカリール、C1〜C1 0 アラルキル、カルボキシ、カルボアルコキシおよびハロである] で示されるグループから選ばれる化合物である。最も好ましい化合物は、R17に おける酸リンカー基−(La)−が、特定の基: および [ここで、Rは水素またはC1〜C4アルキル;R84およびR85はそれぞれ独立し て、水素、C1〜C10アルキル、アリール、C1〜C10アルカリール、C1〜C10 アラルキル、カルボキシ、カルボアルコキシおよびハロである] から選ばれる化合物である。 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の他の好ましいサブクラスは 、R17および/またはR18における酸性基(またはその塩およびプロドラッグ誘 導体)が、−5−テトラゾリル、−SO3H、 [ここで、nは1〜8;R89はメタルまたはC1〜C10アルキル;およびR99は 水素またはC1〜C10アルキルである] から選ばれる化合物である。特に好ましい化合物は、R17およびR18の酸性基が 、−CO2H、−SO3H、−P(O)(OH)2またはその塩およびプロドラッグ誘 導体(エステルなど)から選ばれる化合物である。カルボキシル基が最も好まし い酸性基である。R17またはR18の一方のみが酸性基を含むのがより好ましい。 化合物(IA)、(IIA)および(IIIA)の他の好ましいサブクラスは 、R15およびR16がそれぞれ独立して水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケ ニル、C2〜C6アルキニル、C7〜C12アラルキル、C7〜C12アルカリール、C3 〜C8シクロアルキル、C3〜C8シクロアルケニル、フェニル、トルイル、キシ レニル、ビフェニル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6アルケニルオキシ、C1〜 C6アルキニルオキシ、C2〜C12アルコキシアルキル、C2〜C12アルコキシア ルキルオキシ、C2〜C12アルキルカルボニル、C2〜C12アルキルカルボニルア ミノ、C2〜C12アルコキシアミノ、C2〜C12アルコキシアミノカルボニル、C1 〜C12アルキルアミノ、C1〜C6アルキルチオ、C2〜C12アルキルチオカルボ ニル、C1〜C6アルキルスルフィニル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6 ハロアルコキシ、C1〜C6ハロアルキルスルホニル、C1〜C6ハロアルキル、C1 〜C6ヒドロキシアルキル、−C(O)O(C1〜C6アルキル)、−(CH2) n−O−(C1〜C6アルキル)、ベンジルオキシ、フェノキシ、フェニルチオ、 −(CONHSO2R)、−CHO、アミノ、アミジノ、ブロモ、カルバミル、 カルボキシル、カルボアルコキシ、−(CH2)n−CO2H、クロロ、シアノ、 シアノグアニジニル、フルオロ、グアニジノ、ヒドラジド(de)、ヒドラジノ、ヒ ドラジド(do)、ヒドロキシ、ヒドロキシアミノ、ヨード、ニトロ、ホスホノ、 −SO3H、チオアセタール、チオカルボニルおよびC1〜C6カルボニル[ここ でnは1〜8]からなるグループから選ばれる不干渉置換基から選ばれる化合物 である。“B”型配置の本発明インドリジン−3−アセトアミド化合物 : A)インドリジン−3−アセトアミドは、下記式(IB): [ここで、R3は独立して水素、C1〜C3アルキルまたはハロ;Xは酸素または 硫黄から選ばれる基;およびすべての他の基は後記と同意義である] で表される。 B)インドリジン−3−ヒドラジドは、下記式(IIB): [ここで、R3は独立して水素、C1〜C3アルキルまたはハロ;Xは酸素または 硫黄から選ばれる基;およびすべての他の基は後記と同意義である] で表される。 C)インドリジン−3−グリオキシルアミドは、下記式(IIIB): [ここで、Xは独立して酸素;およびすべての他の基は後記と同意義である] で表される。 上記式(IB)、(IIB)および(IIIB)において、残りの基の定義は 下記のとおりである: R1は次の(a),(b)および(C)から選ばれる; (a)は、C7〜C20アルキル、C7〜C20アルケニル、C7〜C20アルキ ニル、炭素環基または複素環基; (b)は、(a)を1個もしくはそれ以上の独立して選ばれた不干渉置換 基で置換したもの; (c)は、−(L)−R80[ここで−(L)−は原子数1〜12の二価の リンカー基であり、R80は(a)または(b)から選ばれる基]; R2は水素、ハロ、C1〜C3アルキル、C3〜C4シクロアルキル、C3〜C4シ クロアルケニル、−O−(C1〜C2アルキル)、−S−(C1〜C2アルキル)ま たは水素以外の原子数の合計が1〜3個である不干渉置換基(すなわち、R2は 、水素原子を含んでもよいが、それ以外の原子の合計が1〜3個でなければなら ないということを意味する); R5およびR6は独立して水素、不干渉置換基または−(La)−(酸性基)か ら選ばれる[ここで−(La)−は、酸リンカー長さが1〜10の酸リンカーで ある]、ただし、R5およびR6のうち少なくともひとつは基−(La)−(酸性 基)でなければならない; R7およびR8はそれぞれ独立して水素、不干渉置換基、炭素環基、不干渉置換 基で置換された炭素環基、複素環基および不干渉置換基で置換された複素環基か ら選ばれる。“B”型の本発明インドリジン化合物の好ましいサブグループ : 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の好ましいサブクラスは、す べてのXが酸素である化合物である。 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の他の好ましいサブクラスは 、R2がハロ、シクロプロピル、メチル、エチル、プロピル、−O−メチルおよ び−S−メチルから選ばれる化合物である。 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の他の好ましいサブクラスは 、R1の−(L)−が、 および [ここで、sは0または1] からなるグループから選ばれる化合物である。 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の他の好ましいサブクラスは 、R1におけるR80が炭素環基であり、シクロアルキル、シクロアルケニル、フ ェニル、ナフチル、ノルボルナニル、ビシクロヘプタジエニル、トルイル、キシ レニル、インデニル、スチルベンジル、テルフェニリル、ジフェニルエチレニル 、フェニル−シクロヘキセニル、アセナフチレニルおよびアントラセニル、ビフ ェニル、ビベンジリルならびに下記式(bb): [ここで、nは1〜8である] で示される関連ビベンジリル同族体からなるグループから選ばれる化合物である 。特に好ましい化合物は、R1が式: および [ここで、R10は独立して、ハロ、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、 −S−(C1〜C10アルキル)およびC1〜C10ハロアルキル;qは0〜4;およ びtは0〜5である] からなるグループから選ばれる化合物である。 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の他の好ましいサブクラスは 、R5が、酸リンカー長さが2または3である酸リンカーをもつ置換基である化 合物である。 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の他の好ましいサブクラスは 、R5が酸性基を含み、酸性基の酸リンカーの酸リンカー長さが2または3であ り、R5における酸リンカー基−(La)−が式: [ここで、Qは−(CH2)−、−O−、−NH−および−S−から選ばれる基 ;およびR84およびR85はそれぞれ独立して、水素、C1〜C10アルキル、アリ ール、C1〜C10アルカリール、C1〜C10アラルキル、カルボキシ、カルボアル コキシおよびハロである] で示されるグループから選ばれる化合物である。最も好ましい化合物は、R5に おける酸リンカー基−(La)−が、特定の基: および [ここで、RはHまたはC1〜C4アルキルである] から選ばれる化合物である。 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の他の好ましいサブクラスは 、R6が酸性基を含み、R6酸性基の酸リンカーの酸リンカー長さが3〜10原子 であり、R6における酸リンカー基−(La)−が式: [ここで、rは1〜7;sは0または1;およびQは−(CH2)−、−O−、 −NH−および−S−から選ばれる基;ならびにR84およびR85はそれぞれ独立 して、水素、C1〜C10アルキル、アリール、C1〜C10アルカリール、C1〜C1 0 アラルキル、カルボキシ、カルボアルコキシおよびハロである] で示されるグループから選ばれる化合物である。最も好ましい化合物は、R6に おける酸リンカー基−(La)−が、特定の基: および [ここで、Rは水素またはC1〜C4アルキル;R84およびR85はそれぞれ独立し て、水素、C1〜C10アルキル、アリール、C1〜C10アルカリール、C1〜C10 アラルキル、カルボキシ、カルボアルコキシおよびハロである] から選ばれる化合物である。 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の他の好ましいサブクラスは 、R5および/またはR6における酸性基(またはその塩およびプロドラッグ誘導 体)が、−5−テトラゾリル、−SO3H、 [ここで、nは1〜8;R89はメタルまたはC1〜C10アルキル;およびR99は 水素またはC1〜C10アルキルである] から選ばれる化合物である。特に好ましい化合物は、R5および/またはR6の酸 性基が、−CO2H、−SO3H、−P(O)(OH)2またはその塩およびプロド ラッグ誘導体(エステルなど)から選ばれる化合物である。カルボキシル基が最 も好ましい酸性基である。R5またはR6の一方のみが酸性基を含むのがより好ま しい。 化合物(IB)、(IIB)および(IIIB)の他の好ましいサブクラスは 、R7およびR8がそれぞれ独立して水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニ ル、C2〜C6アルキニル、C7〜C12アラルキル、C7〜C12アルカリール、C3 〜C8シクロアルキル、C3〜C8シクロアルケニル、フェニル、トルイル、キシ レニル、 ビフェニル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6アルケニルオキシ、C1〜C6アルキ ニルオキシ、C2〜C12アルコキシアルキル、C2〜C12アルコキシアルキルオキ シ、C2〜C12アルキルカルボニル、C2〜C12アルキルカルボニルアミノ、C2 〜C12アルコキシアミノ、C2〜C12アルコキシアミノカルボニル、C1〜C12ア ルキルアミノ、C1〜C6アルキルチオ、C2〜C12アルキルチオカルボニル、C1 〜C6アルキルスルフィニル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6ハロアル コキシ、C1〜C6ハロアルキルスルホニル、C1〜C6ハロアルキル、C1〜C6ヒ ドロキシアルキル、−C(O)O(C1〜C6アルキル)、−(CH2)n−O−( C1〜C6アルキル)、ベンジルオキシ、フェノキシ、フェニルチオ、−(CON HSO2R)、−CHO、アミノ、アミジノ、ブロモ、カルバミル、カルボキシ ル、カルボアルコキシ、−(CH2)n−CO2H、クロロ、シアノ、シアノグア ニジニル、フルオロ、グアニジノ、ヒドラジド(de)、ヒドラジノ、ヒドラジド( do)、ヒドロキシ、ヒドロキシアミノ、ヨード、ニトロ、ホスホノ、−SO3H 、チオアセタール、チオカルボニルおよびC1〜C6カルボニル[ここでnは1〜 8]からなるグループから選ばれる不干渉置換基から選ばれる化合物である。 本発明の特に好ましい化合物(すべてのその医薬的に許容しうる塩、溶媒和物 およびプロドラッグ誘導体を含む)は、下記セクション(AA)、(AB)およ び(AC)に示す化合物である。(AA)アセトアミド官能性を有する“A”型のインドリジン化合物 および上記化合物の混合物。(AB)グリオキシルアミド官能性を有する“A”型のインドリジン化合物 および上記化合物の混合物。(AC)グリオキシルアミド官能性を有する“B”型のインドリジン化合物 インドリジン−3−アセトアミド官能性化合物およびその医薬的に許容しうる 塩、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体;該化合物は下記式: で示される化合物およびその混合物である。 式(IA)、(IIA)、(IIIA)、(IB)、(IIB)、(IIIB )で示される前記インドリジン−1−官能性およびインドリジン−3−官能性化 合物およびセクション(AA)、(AB)および(AC)の化合物の塩も本発明 の態様のひとつである。本発明化合物が酸性または塩基性官能基を有するような 場合、親化合物と比較して、より水溶性が大きく、生理学的に安定な化合物であ る種々の塩を形成することができる。代表的な医薬的に許容しうる塩として、リ チウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウムなど のアルカリ金属およびアルカリ土類金属との塩が挙げられるが、これらに限定さ れるものではない。塩は、慣例法にしたがって、溶液中の酸を塩基で処理するか または該酸をイオン交換樹脂に付すことによって、遊離酸から製造する。 医薬的に許容しうる塩の定義には、たとえば、比較的非毒性の無機および有機 塩基(たとえば、十分な塩基度の窒素塩基から誘導されるアンモニウム、第3ア ンモニウムおよびアミンカチオン)を本発明化合物に付加した塩も包含される[ エス・エム・バージらの“医薬塩類”「J.Phar.Sci.」,66,pp.1〜9(1977)を参 照]。さらに、本発明化合物の塩基性基が、適当な有機または無機酸と反応して 、酢酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩、炭酸水素塩、硫酸水素塩、重酒 石酸 塩、硼酸塩、臭酸塩、カムシレート(camsylate)、炭酸塩、塩化物、クラブラネ ート(clavulanate)、クエン酸塩、塩化物、エデテート(edetate)、エジシレート (edisylate)、エストレート(estolate)、フッ化物、フマル酸塩、グルセプテー ト(gluceptate)、グルコン酸塩、グルタミン酸塩、グリコリルアルサニレート (glycolylarsanilate)、ヘキシルレゾルシン酸塩、臭化物、塩化物、ヒドロキシ ナフトエ酸塩、ヨウ化物、イソチオネート、酪酸塩、ラクトビオネート(lactobi onate)、ラウリル酸塩、マレイン酸塩、マルセエート(malseate)、マンデル酸塩 、メシレート、メチル臭化物、メチル硝酸塩、メチル硫酸塩、ミュケート(mucat e)、ナプシレート、硝酸塩、オレイン酸塩、シュウ酸塩、パルミチン酸塩、パン トテン酸塩、リン酸塩、ポリガラクチュロン酸塩、サリチル酸塩、ステアリン酸 塩、塩基性酢酸塩、コハク酸塩、タンニン酸塩、酒石酸塩、トシレート、トリフ ルオロ酢酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩および吉草酸塩などの塩を形成 してもよい。 本発明化合物のうち、特定のものは、ひとつまたはそれ以上の不斉中心をもつ ことができ、そのために、光学活性体として存在することができる。同様に、本 発明化合物がアルケニルまたはアルケニレン基を含む場合、シスおよびトランス 異性体となる可能性がある。R−およびS−異性体およびそれらの混合物、ラセ ミ混合物ならびにシスおよびトランス異性体は、本発明に包含される。不斉炭素 は、さらにアルキル基などの置換基に存在することもできる。すべての異性体な らびにそれらの混合物は、本発明に包含される。特定の立体異性体を所望するな らば、不斉中心をもち、すでに光学分割されている出発物質に対して立体特異的 反応を用いるか、または立体異性体の混合物を製造し、次いで公知方法によって 光学分割を行うといった当業界において公知の方法によって製造することができ る。 プロドラッグは、化学的または代謝的に切断しうる基をもち、加溶媒分解によ るかまたは生理学的条件下においてインビボ医薬的活性のある本発明化合物とな る本発明化合物の誘導体である。該プロドラッグ誘導体は、しばしば哺乳類体内 における溶解性、組織適合性または遅延放出性において利点を有する[バンドガ ード,エイチの“プロドラッグの設計”,pp7〜9,21〜24,エルセビア,アムステ ルダム(1985)を参照]。プロドラッグとして、親の酸性化合物と適当なアルコー ルとの反応によって製造されたエステル、親の酸性化合物と適当なアミンとの反 応によって製造されたアミドなどの当業者に公知の酸誘導体が挙げられる。本発 明化合物の酸性基から誘導された単純な脂肪族または芳香族エステルが、プロド ラッグとして好ましい。(アシルオキシ)アルキルエステルまたは((アルコキ シカルボニル)オキシ)アルキルエステルなどのダブルエステル型のプロドラッ グを製造するのが望ましい場合がある。 合成方法 合成工程式および実施例においては次の略語を用いる: Bn:ベンジル、 THF:テロラヒドロフラン、 LAH:水素化リチウムアルミニウム、 LDA:リチウムジイソプロピルアミン、 DBU:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン。 工程式1−パート1 THF中、リチウムジイソプロピルアミドを用いて2−メチル−5−メトキシ ピリジンのアニオンを形成し、ベンゾニトリルと反応させて、化合物2を製造す る。化合物2の窒素を1−ブロモ−2−ブタノンによりアルキル化し、次いで塩 基触媒環化を行い、形成した化合物3をLAHによって還元して化合物4を形成 する。化合物4を塩化オキサリルおよびアンモニアで連続的に処理して化合物8 を得る。別法として、化合物4を塩化エチルオキサリルでアシル化して化合物5 を得、これを水酸化リチウムで処理して化合物6に変換し、次いでクロロギ酸エ チルおよび水酸化アンモニウムで連続的に処理して化合物8を得ることもできる 。BBr3によって化合物8を脱メチル化して化合物9を得、これを塩基および 4−ブロモ酪酸エチルを用いてO−アルキル化して、化合物10を形成する。水 性塩基によって化合物10を加水分解して化合物11を製造する。 工程式2−パート1 Pd/Cの存在下、水素で化合物12[エヌ・デシジリ、エイ・ギャリ、アイ ・セッチリおよびエム・エル・ステインの「Arch.Pharm.」,(ワインハイム),32 5,29(1992)]を還元し、得られる化合物14を水酸化アンモニウムを用いて加安 分解して、化合物15を得る。塩化ベンジルおよび塩基を用いて、化合物15の O−アルキル化を行い、化合物16を得る。1−ブロモ−2−ケトンによって化 合物13または16の窒素原子のアルキル化を行い、次いで塩基触媒環化を行っ て、インドリジン17を得、これをハロゲン化アロイルによってアシル化して、 化合物18を形成する。 工程式2−パート2 水素化ホウ素tert−ブチルアミンおよび塩化アルミニウムによって化合物18 を還元し、得られる化合物19をPd/Cの存在下に水素で還元して、化合物2 0を得る。ブロモ酢酸ベンジルおよび塩基によって化合物20のO−アルキル化 を行い、化合物21を形成し、Pd/Cの存在下に水素を用いて行う脱ベンジル 化によって、該化合物21を酸22に変換する。 工程式3−パート1 水素化ナトリウムおよび塩化ベンジルを用いて、化合物23[エヌ・デシデリ 、エフ・マンナ、エム・エル・ステイン、ジー・バイル、ダブリュー・フィリッ ペッリおよびエー・マルモの「Eur.J.Med.Chem.Chim.Ther.」,18,295(1983 )]をO−アルキル化して化合物24を得る。1−ブロモ−2−ブタノンまたは クロロメチルシクロプロピルケトンによって、化合物24のN−アルキル化を行 い、次いで塩基触媒環化を行って、化合物25を得、これをハロゲン化アロイル によってアシル化して化合物26を得る。化合物26のエステル官能基を加水分 解し、次いで酸性化して酸を形成し、これを加熱によって脱カルボン酸して、化 合物27をいる。LAHによって化合物27のケトン官能基を還元してインドリ ジン2 8を得る。 工程式3−パート2 3−ブロモ−4−フェニル−ブタン−2−オンまたは3−ブロモ−4−シクロ ヘキシル−ブタン−2−オンとピリジン−2−酢酸エチルあるいは置換誘導体と の混合物を塩基の存在下に加熱し、インドリジン31を得る。化合物31をDM SO中、昇温しながら水性塩基で処理し、次いで酸性化して化合物32を得、化 合物32を熱的に脱カルボン酸化して化合物33を得る。 工程式4−パート1 化合物28および33を塩化オキサリルおよび水酸化アンモニウムで連続的に 処理し、化合物35を形成し、該化合物35をPd/Cの存在下に水素で脱ベン ジルを行い、化合物36を得る。水素化ナトリウムおよびブロモ酢酸エステルを 用いて、インドリジン36をO−アルキル化して化合物37、38または39を 形成し、水性塩基で加水分解し、次いで酸性化することによって該化合物をイン ドリジン40に変換する。 工程式4−パート2 化合物36hのO−アルキル化によって、ニトリル41を製造し、トリアルキ ルチンアジドと反応させることによって、該ニトリルを化合物42に変換する。 工程式5 ヒドロキシピリジンをO−アルキル化して化合物44を得、該化合物44を2 −ハロケトンとともに加熱して化合物45を得る。化合物45を塩基で処理する ことにより環化して化合物46を得、これを酸塩化物とともに加熱して、アシル インドリジン47を得、該アシルインドリジン47を水素化アルミニウムで還元 して対応するアルキルインドリジン48を得る。化合物48を塩化オキサリル、 次いでアンモニアで処理して化合物49を得る。化合物49のエーテル官能基を 切断して化合物50を得る。化合物50のO−アルキル化によって、オキシ酢酸 エステル誘導体51を形成し、次いで、加水分解してオキシ酢酸52を得る。 工程式6−パート1 ピリシン43をO−アルキル化して化合物53を形成する。化合物53を2− ハロケトンとともに加熱して中間体N−アルキル化ピリジニウム化合物を得、該 化合物を塩基で処理することによって環化して化合物54を得る。化合物54を 塩化アシルとともに加熱してアシルインドリジン55を得、水素化ホウ素ナトリ ウム−塩化アルミニウムを用いて該化合物を還元して、アルキルインドリジン5 6を得る。ハロゲン化アルキルを用いる化合物54のC−アルキル化によって、 化合物56を形成する。塩化オキサリルおよびアンモニアで化合物56を連続的 に処理して、化合物57を得、これを加水分解して化合物58を形成する。化合 物58bをそのナトリウム塩59aに変換し、適当なハロゲン化アルキルと反応 させて化合物59b−kを得る。 工程式6−パート2 化合物36bをO−アルキル化して化合物59l−bを得る。 工程式7 2−ハロケトンによってピリジン60をN−アルキル化して、中間体ピリジニ ウム化合物を製造し、これを塩基を用いて環化し、化合物61を得る。化合物6 1を塩化アシルと反応させて、化合物62を得、該化合物62をtert−ブチ ルアミン−ホウ素および塩化アルミニウムで処理して還元し、化合物63を得る 。塩化オキサリルおよびアンモニアで化合物63を連続的に処理して化合物64 を得、BBr3を用い、これをO−脱メチル化して化合物65を得る。化合物6 5のナトリウム塩を4−ブロモ酪酸エチルと反応させて、化合物66を得、これ を加水分解して酸67を得る。 工程式8 オメガ−ブロモカルボン酸エステルを用いて、化合物36dと65cをO−ア ルキル化して、化合物68を得、該化合物68を加水分解して酸69を得る。化 合物36dおよび65cをプロピオラクトンと塩基て処理すると化合物70が得 られる。 工程式9 tert−ブチルアミン−ホウ素および塩化アルミニウムを用いて化合物66 を還元し、化合物71を得る。 工程式10 ピリジン44bをブロモ酢酸エチルと反応させて化合物72を形成し、これを CS2および塩基で処理し、次いで酢酸エチルで処理して化合物73を形成する 。化合物73を塩基およびブロモ酢酸エチルと反応させて、レギオ異性体74a +b,すなわち6−および8−ベンジルオキシ化合物の混合物を得る。74a+ bを塩基処理してアクリル酸エチルを排除し、化合物75を形成し、6−ベンジ ルオキシ誘導体異性体からこれを分離し、S−アルキル化して化合物76を得る 。化合物76を加水分解して化合物77を形成し、これを熱的に脱カルボン酸し 、化合物78を得る。化合物78をC−アルキル化して化合物79を形成し、該 化合物79を塩化オキサリルおよびアンモニアで連続的に処理して、化合物80 を形成する。化合物80のエーテルを切断して、化合物81を得、そのナトリウ ム塩をブロモ酢酸メチルによってアルキル化して化合物82を形成し、これを加 水分解して酸83を得る。 工程式11−パート1 アミノピキリン84をそのN−CBZ誘導体85に変換し、そのアニオンをブ ロモ酢酸メチルによってアルキル化し、化合物86を形成する。化合物86を塩 基の存在下、メチルα−ブロモアルキルケトンと反応させて化合物87を得る。 化合物87を塩化オキサリルおよびアンモニアで連続的に処理して、化合物88 を得、N−CBZ官能基に水素添加することによって化合物89に変換する。化 合物89を加水分解して酸90を得る。 工程式11−パート2 tert−ブチルアミン−ホウ素および塩化アルミニウムによって、化合物8 8を還元して、化合物91を得、該化合物を加水分解して酸92を得る。 工程式12 ブロモ酢酸メチルによってピリジン24をN−アルキル化し、塩基で環化し、 次いでジメチルスルフェートを用いてO−メチル化して、化合物94を得る。化 合物94のエステル官能基を加水分解し、次いで熱的に脱カルボキシル化を行い 、3位がC−アルキル化されている2−メトキシ−8−ベンジルオキシインドリ ジンを得、次いで塩化オキサリルとアンモニアに連続的に反応させて化合物95 を得る。8−ベンジルオキシ基を水添分解し、次いでO−アルキル化を行って、 化合物96を得、さらに加水分解して化合物97を得る。 実施例 以下の実施例における参照番号は前記の反応工程式に示した化合物を表す。 実施例1 パートA :5−メトキシ−2−フェナシル−ピリジン 2の製造 ヘキサン中のn−ブチルリチウムの溶液(1.6M、11.4ml、18.2ミリ モル)を窒素下、−60−−70℃でテトラヒドロフラン(50ml)中のジイソ プロピルアミン(1.81g、17.9ミリモル)の溶液に滴下添加した。該混合 物を10分間撹拌した。テトラヒドロフラン(4ml)中の5−メトキシ−2−メ チルピリジン溶液(1、マリオン(L.Marion)およびコックバーン(W.F .Cockburn)、J.Am.Chem.Soc.、71、3402(1949))(2. 20g、17.9ミリモル)を滴下添加した。該混合物を10分間撹拌した。テト ラヒドロフラン(8ml)中のベンゾニトリル(1.84g、17.9ミリモル)の 溶液を−70℃で滴下添加した。該混合物を−78℃で1時間、ついで室温で2 時間撹拌し、ついで氷冷塩化アンモニウム水溶液に注いだ。該有機層を分離し、 ついで水層をエーテルで抽出した。該結合した有機層を希塩酸で抽出した。該抽 出物をエーテルで洗浄し、10%水酸化ナトリウムで塩基性にし(basify)、つ いでエーテルで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。減 圧下で溶媒を除去した後、残渣をシリカゲル上でクロマトグラフにかけ、ヘキサ ン:AcOEt(3:2)で溶出し、ついでベンゼン:ヘキサンから結晶化して該 表題の化合物の2.32g(収率57.0%)を得た。 該NMRによりケトおよびエノール互変異性の混合物であることが示された。 IR νmax(ニュジョール)1685,1630cm-11H NMR(CDCl3)δ 3.84−3.88(3H,m)、4.45(2H,m)、7.0−7.3(3H,m)、7.82 (1H,m)、8.07(2H,m)、8.27(1H,m)。元素分析(C1413NO2として )計算値:C73.99、H5.77、N6.16。実測値:C74.08、H5.85 、N6.20。パートB :1−ベンゾイル−2−エチル−6−メトキシインドリジン 3の製造 アセトン(50ml)中のピリジン誘導体(2、2.146g、9.44ミリモル )、1−ブロモ−2−ブタノン(2.14g、14.2ミリモル)および炭酸水素 ナトリウム(1.60g、19ミリモル)の混合物を還流下で20時間加熱した。 不溶性物質を濾過により除去した。濾過物は減圧下で濃縮した。該残渣をベンゼ ン:ヘキサンから再結晶化して該表題化合物、mp.138−139℃の2.39g (収率90.7%)を得た。 IR νmax(ニュジョール)1600,1592,1505cm-11H NMR(C DCl3)δ1.19(3H,t,J=7.5Hz)、2.72(2H,q,J=7.4Hz)、3. 80(3H,s)、6.69(1H,dd,J=2.0,9.8Hz)、7.10(1H,s)、7. 26(1H,d,J=9.6Hz)、7.35−7.55(4H,m)、7.67(2H,m)。元 素分析(C1414NO2として)計算値:C77.40、H6.13、N5.01。実 測値:C77.53、H6.27、N5.06。パートC :1−ベンジル−2−エチル−6−メトキシインドリジン 4の製造 該ベンゾイル誘導体(3、1.37g、4.90ミリモル)を窒素下、氷中で冷 却しながらエーテル(100ml)中で水素化アルミニウムリチウム(1.03g、 27.1ミリモル)のスラリーに少しずつ滴下添加した。ついで、該混合物を還 流下で4.5時間加熱した。冷却後、該混合物を氷冷した5%水酸化ナトリウム 水溶液に注ぎ、ついでエーテルで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、ついでNa2 SO4で乾燥させた。該溶媒を減圧下で除去し1.23g(収率94.5%)を得た 。該油状残渣をその不安定性により、さらなる精製をせずに次の製造に使用した 。 IR νmax(フィルム)1642,1550,1218cm-11H NMR(CDCl3 )δ1.18(3H,t,J=7.6Hz)、2.57(2H,q,J=7.5Hz)、3.75( 3 H,s)、4.06(2H,s)、6.38(1H,dd,J=9.6,2.2Hz)、7.0−7. 3(7H,m)、7.39(1H,d,J=2.2Hz)。パートD :(1−ベンジル−2−エチル−6−メトキシインドリジン−3−イル )グリオキシル酸エチル 5の製造 ベンゼン(10ml)中の塩化オキサリルエチル(ethyl oxalylchloride)(0 .67g、4.91ミリモル)の溶液を窒素下、氷中で冷却しながらベンゼン(2 0ml)中で該インドリジン化合物(4、1.23g、4.64ミリモル)の溶液に 滴下添加した。該溶液を室温で2時間撹拌し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄 し、ついで水で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後 、該残渣をアルミナ(ゲレードII)上でクロマトグラフにかけ、ヘキサン:Ac OEt(10:1)で溶出し、該表題化合物の1.66g(収率98.5%)を得た 。 IR νmax(フィルム)1732,1582,1530,1224cm-11H NM R(CDCl3)δ1.12(3H,t,J=7.6Hz)、1.42(3H,t,J=7.3Hz) 、2.71(2H,q,J=7.5Hz)、3.87(3H,s)、4.07(2H,s)、4.4 2(2H,q,J=7.1Hz)、7.00(1H,dd,J=1.8,9.4Hz)、7.05− 7.3(6H,m)、9.77(1H,d,J=1.8Hz)。パートE :(1−ベンジル−2−エチル−6−メトキシインドリジン−3−イル )グリオキシル酸リチウム6およびカルボン酸 7の製造 水(10ml)中のLiOH 1H2O(1.0g)の溶液をメタノール(10ml) 中のエステル(1.46g)の溶液に滴下添加した。該混合物を室温で4時間撹拌 した。固体を濾過によって収集し、ついで少量の水およびエーテルで洗浄し、乾 燥させ、塩(670mg)、mp>300℃を得た。IR νmax(ニュジョール)1 608、1579、1530、1372cm-1。該濾過物を希塩酸でpH4に酸 性にし(acidified)、エーテルで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、ついでNa2 SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後、室温で不安定な状態の表題 カルボン酸を得た。 1H NMR(CDCl3)δ1.16(3H,t,J=7.5Hz)、2.39(2H,q,J =7.4Hz)、3.86(3H,s)、4.07(2H,s)、7.0−7.3(7H,m)、9. 72(1H,d,J=1.6Hz)。パートF :(1−ベンジル−2−エチル−6−メトキシインドリジン−3−イル )グリオキシルアミド 8の製造 1)アセトン(3ml)中のクロロ炭酸エチル(220mg、2.03ミリモル) の溶液を氷中で冷却しながら水(2ml)中の塩(7、569mg、1.66ミリモ ル)とアセトン(5ml)の混合物に滴下添加した。該混合物を0℃で30分間撹 拌し、ついで28% 水酸化アンモニウムに注いだ。該混合物を室温で2時間撹 拌し、ジクロロメタンで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、ついでNa2SO4で 乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後、該残渣をシリカゲル上でクロマトグ ラフにかけ、ヘキサン:AcOEt(1:1)で溶出し、mp159−160℃の該 表題化合物を得た。 IR νmax(ニュジョール)3342,3166,1664,1571cm-1。 2)テトラヒドロフラン(25ml)中のインドリジン化合物(4、1.288g 、4.85ミリモル)の溶液を氷中で冷却しながらテトラヒドロフラン(5ml) 中の塩化オキサリル(3.18g、25ミリモル)の溶液に滴下添加した。該混合 物を0℃で1時間撹拌し、ついで氷中で冷却しながら28%水酸化アンモニウム (50ml)に滴下添加した。該混合物を室温で1時間撹拌した。水を添加した。 該混合物をジクロロメタンで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、ついでNa2SO4 で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後、該残渣を酢酸エチル:ベンゼン から結晶化して表題化合物の1.27g(収率73.6%)を得た。パートG :(1−ベンジル−2−エチル−6−メトキシインドリジン−3−イル )グリオキシルアミド 9の製造 ジクロロメタン(5ml)中の三臭化ホウ素(976mg、3.89ミリモル)の 溶液を−20℃でジクロロメタン(50ml)中のメトキシ化合物(8、437mg 、1.30ミリモル)の溶液に滴下添加した。該混合物を室温で24時間撹拌し 、ついで氷水に注いだ。少量のメタノールを添加した。該有機層を分離し、水で 洗 浄した。減圧下で該溶媒を除去した後、残渣をジクロロメタンから結晶化した、 mp 219−220℃(分解)。 IR νmax(ニュジョール)3388,3261,3193,1678,1530cm-1パートH :(1−ベンジル−6−(3−カルベトキシプロピルオキシ)−3−エ チルインドリジン−3−イル)グリオキシルアミド 10の製造 60%水酸化ナトリウム(52mg、1.32ミリモル)を窒素下、氷中で冷却 しながらアルコール(9、213mg、0.661ミリモル)とジメチルホルムア ミド(5ml)中の4−ブロモ−2−酪酸エチル(283mg、1.45ミリモル) の溶液に添加した。該混合物を室温で8.5時間撹拌し、氷水に注ぎ、酢酸エチ ルで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶 媒を除去した後、残渣をシリカゲル上でクロマトグラフにかけ、ヘキサン:酢酸 エチル(1:2)で溶出し、ベンゼンから再結晶化して該表題化合物、mp143 −144℃の162mg(収率56.2%)を得た。パートI :(1−ベンジル−6−(3−カルボキシプロピルオキシ)−2−エチ ルインドリジン−3−イル)グリオキシルアミド 11の製造 メタノール(1.2ml)中のエステル(10、125mg、0.286ミリモル )と10% 液体水酸化リチウム(1.2ml)の混合物を室温で3時間撹拌し、希 塩酸で酸性にし、ついでジクロロメタンで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、N a2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後、残渣をシリカゲル上でク ロマトグラフにかけ、クロロホルム:メタノール(10:1)で溶出し、酢酸エ チルから再結晶化して該表題化合物、mp.176−178℃の58.4mg(収率4 9.9%)を得た。 実施例2 パートA :エチル3−(3−ベンジルオキシ−2−ピリジニル)プロパノエート 13の製造 (E)−エチル3−(3−ベンジルオキシ−2−ピリジニル)プロパノエート (12、デシデリ(N.Desideri)、ガリ(A.Galli)、セスチリ(I. Sestili)およびステイン(M.L.Stein)、Arch.Pharm.(ヴェインハ イム(Weinheim))325、29(1992))(12.2g、43.0ミリモル )および酢酸エチル(250ml)中の10%パラジウム−石炭(palladium-coal )(0.5g)の混合物を出発物質がなくなるまで水素雰囲気下で撹拌した。触媒 を濾過し、ついで濾過物を減圧下で濃縮した。該残渣をシリカゲル上でクロマト グラフにかけ、ヘキサン:AcOEt(2:1)および(1:2)で溶出した。大 きい方のRf価の分画(6.0g(収率48.8%))は表題化合物であった。パートB :3−(3−ヒドロキシ−2−ピリジニル)プロパンアミド 15の製 造 28%水酸化アンモニウム(50ml)中のエステル(14、7.47g)の溶液 を室温で一晩そのままの状態にしておき、揮発性物質を減圧下で蒸留により除し た。該残渣を酢酸エチルから結晶化し、表題化合物、mp.130−134℃の6. 49g(収率94.7%)を得た。パートC :3−(3−ベンジルオキシ−2−ピリジニル)プロパンアミド 16 の製造 メチルエチルケトン(100ml)中のヒドロキシ化合物(15、4.85g、2 9.2ミリモル)、塩化ベンジル(4.06g、32.1ミリモル)および炭酸カリ ウム(8.07g、58.44ミリモル)の混合物を還流下で9時間加熱した。不 溶性物質を濾過により除去した。該濾過物を減圧下で濃縮した。該残渣をジクロ ロメタンに溶かした。該溶液を水で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。減圧下で 該溶媒を除去した後、該残渣をベンゼンから結晶化し、表題化合物、mp126− 127℃の5.10g(収率68.2%)を得た。パートD−1 :2−(8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル )酢酸エチル 17a メチルエチルケトン(10ml)中の該エステル(13、1.0g、3.51ミリ モル)、1−ブロモ−2−ブタノン(0.79g、5.23ミリモル)および炭酸 水素ナトリウム(0.70g、8.23ミリモル)を還流下で20時間加熱した。 該固体を濾過し、除去した。減圧下でその濾過物の溶媒を除去した後、残渣をシ リカゲル上でクロマトグラフにかけ、ヘキサン:AcOEt(5:1)で溶出し、 表題化合物の283mg(収率23.9%)を油状物として得た。 1H NMR(CDCl3)δ1.15(3H,t,J=7.2Hz)、1.25(3H,t,J =7.5Hz)、2.61(2H,q,J=7.6Hz)、3.97(2H,s)、4.04(2H ,q,J=7.2Hz)、5.11(2H,s)、5.93(1H,d,J=7.4Hz)、6.23 (1H,t,J=7.0Hz)、7.08(1H,s)、7.3−7.5(6H,m)。パートD−2 :2−(8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル )アセトアミド 17bおよび2−(2−エチル−8−(2−オキソブチルオキシ )−インドリジン−1−イル)アセトアミド 17cの製造 メチルエチルケトン(30ml)中の該ピリジン誘導体(16、4.00g、15 .6ミリモル)、1−ブロモ−2−ブタノン(3.53g、23.4ミリモル)およ び炭酸水素ナトリウム(6.55g、78ミリモル)の混合物を還流下で60時間 加熱した。該固体を濾過し、除去した。該揮発性物質を減圧下で蒸留により除去 した。該残渣をシリカゲル上でクロマトグラフにかけ、ヘキサン:酢酸エチル( 1:2)および酢酸エチルで溶出した。最初の分画をベンゼン:ヘキサンから結 晶化し、表題化合物 17b、mp117−119℃の2.32g(収率48.2%) を得た。 第2分画をAcOEt:へキサンから結晶化し、表題化合物 17c、mp156− 157℃の0.208g(収率4.6%)を得た。パートD−3 :2−(8−ベンジルオキシ−2−シクロピルインドリジン−1− イル)アセトアミド 17dの製造 クロロアセチルシクロプロペンを上記の手続により処理し、ついでベンゼン: ヘキサン(収率30.8%)から、融点128−131℃、結晶化した。パートE :3−(置換ベンゾイル)インドリジン 18の一般的な製造のための 操作 ベンゼン中のインドリジン誘導体(17、1等量)および置換した塩化ベンゾ イル(1.5等量)を還流下で4時間加熱し、液体炭酸水素ナトリウムで洗浄し 、Na2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後、該残渣を再結晶また は カラムクロマトグラフィーにより精製した。 他の製造: 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンゾイル)−イ ンドリジン−1−イル)酢酸エチル 18a。これをヘキサン:AcOEt(5:1 )で溶出するシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製した。収率7 3.2%。非晶質固体。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンゾイル)−イ ンドリジン−1−イル)アセトアミド 18b。この化合物をヘキサン:AcOEt (1:2)で溶出するシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製した 。収率71.3%。非晶質固体。 2−(8−ベンジルオキシ−3−(m−クロロベンゾイル)−2−エチル−イン ドリジン−1−イル)アセトアミド 18c。 mp、239−240℃(分解)( ベンゼン)。収率96.2%。 2−(3−(m−クロロベンゾイル)−2−エチル−8−(2−オキソブチルオ キシ)−インドリジン−1−イル)アセトアミド 18d。 mp、191−192 ℃(AcOEt−ンゼン)。収率68.4%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピル−3−(o−フェニルベンゾイ ル)−インドリジン−1−イル)アセトアミド 18e。この化合物をシリカゲル 上でカラムクロマトグラフィーによりヘキサン:AcOEt(1:2)で溶出し、 精製した。収率56.6%。非晶質固体。パートF :3−(置換したベンジル)インドリジン 19の一般的な製造のため の操作 ボロン−t−ブチルアミン複合体(6等量)を氷中で冷却しながらジクロロメ タン中の粉末状にした塩化アルミニウム(3等量)の混合物に少しずつ添加した 。10分間撹拌した後、該混合物は透明になった。ジクロロメタン中のケトン( 18、1等量)の溶液を該溶液に滴下添加した。赤みがかったオレンジ色の溶液 を5時間撹拌した。希塩酸を滴下添加した。有機層を分離し、液体炭酸水素ナト リウム、ついで水で洗浄し、ついでNa2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を 除去した後、該残渣を再結晶またはカラムクロマトグラフィーにより精製した。 他の製造: 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンゾイル)イン ドリジン−3−イル)エタノール 19a これをシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによりヘキサン:AcOEt( 1:1)で溶出し、精製した。粘性油状物。収率45.1%。 1H NMR(CDCl3)δ1.09(3H,t,J=7.6Hz)、2.61(2H,q,J =7.5Hz)、3.16(2H,t,J=6.9Hz)、3.73(2H,q,J=6.3Hz) 、4.10(2H,s)、5.11(2H,s)、5.94(1H,d,J=7.5Hz)、6.1 6(1H,t,J=7.2Hz)、6.66(1H,d,J=7.8Hz)、6.91(1H,d,J =7.2Hz)、7.1−7.6(13H,m)。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンジル)−イン ドリジン−1−イル)アセトアミド 19b。mp、134−136℃(ベンゼン− ヘキサン)。収率59.7%。 2−(3−(m−クロロベンジル)−2−エチル−8−(2−ヒドロキシブチル オキシ)−インドリジン−1−イル)アセトアミド 19c。mp、131℃(ベン ゼン−ヘキサン)。収率73.0%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−(m−クロロベンジル)−2−エチル−インド リジン−1−イル)アセトアミド 19d。mp、167−168℃(ベンゼン−ヘ キサン)。収率69.7%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピル−3−(o−フェニルベンジル )−インドリジン−1−イル)アセトアミド 19e。mp、208−210℃(ベ ンゼン)。収率37.9%。 2−(3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル )アセトアミド 19f。mp、174−176℃(エーテル−へキサン)。収率7 7.3%。 2−(3−ナフチル−8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル )アセトアミド 19g。mp、166−169℃(分解)(エーテル−ヘキサン) 。収率43.5%。パートI :8−ヒドロキシ−インドリジン化合物 20の一般的な製造のための 操作 酢酸エチル中の8−ベンジルオキシ−インドリジン誘導体(19)および10 % パラジウム−石炭の混合物を水素中で9時間から3日間撹拌した。 他の製造: 2−(3−ベンジル−8−ヒドロキシ−2−エチルインドリジン−1−イル)アセ トアミド 20v。mp、138−141℃(エーテル−ヘキサン)。収率45%。 2−(3−ナフチル−8−ヒドロキシ−2−エチルインドリジン−1−イル)ア セトアミド 20w。mp、138−142℃(エーテル−ヘキサン−AcOEt)。 収率32%。 2−(2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル)−インドリ ジン−1−イル)アセトアミド 20x。収率59.6%。 2−(3−(m−クロロベンジル)−2−エチル−8−ヒドロキシ−インドリジ ン−1−イル)アセトアミド 20y。収率58.3%。 2−(2−シクロプロピル−8−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル)− インドリジン−1−イル)アセトアミド 20z。収率55.8%。パートH :インドリジン−8−オキシアセテート化合物 21の一般的な製造の ための操作 60%水素化ナトリウム(1.5等量)をジメチルホルムアミド中の8−ヒド ロキシインドリジン化合物(20、1.0等量)およびベンジル、エチルまたは メチルブロモアセテート(3.0等量)の混合物に少量ずつ添加した。該混合物 を室温で4−10時間撹拌した。希塩酸を添加した。該混合物を酢酸エチルで抽 出した。該抽出物を水で洗浄し、ついでNa2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶 媒を除去した後、該残渣をクロマトグラフィーにより精製した。 他の製造: (3−ベンジル−1−カルバモイルメチル−2−エチルインドリジン−8−イル オキシ)酢酸メチル 21v Mp159−163℃(エーテル−ヘキサン)。収率42.2%。IR νmax(ニ ュジョール)3402,3166,1731,1678,1649cm-11H NMR( CDCl3)δ1.17(3H,t,J=7.6Hz)、2.79(2H,q,J=7.6Hz)、 3.83(3H,s)、3.99(2H,s)、4.23(2H,s)、4.72(2H,s)、5. 35(1H,br.s)、5.82(1H,d,J=7.0Hz)、6.20(1H,t,J=7.0 Hz)、6.44(1H,br.s)、7.00−7.29(6H,m)。元素分析(C22242 40.2H2Oとして)計算値:C68.80、H6.40、N7.29。実測値:C 68.67、H6.40、N7.18。 (3−ナフチル−1−カルバモイルメチル−2−エチルインドリジン−8−イル オキシ)酢酸メチル 21w。泡状物(Foam)。収率38%。IR νmax(CHC l3)3498,3384,1754,1671,1596cm-1。 2−8−(ベンジルオキシカルボニルメチルオキシ)−2−エチル−3−(o− フェニルベンジル)インドリジン−1−イル)アセトアミド 21x。収率45. 4%。 2−8−(ベンジルオキシカルボニルメチルオキシ)−3−(m−クロロベンジ ル)−2−エチルインドリジン−1−イル)アセトアミド 21y。mp、157− 158℃(ベンゼン)。収率38.8%。 2−8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−シクロプロピル−3−(o−フ ェニルベンジル)−インドリジン−1−イル)アセトアミド 21z。収率43. 8%。パートI :インドリジン−8−オキシ酢酸化合物 22の製造 酢酸エチル中のベンジルエステル(21)および10% パラジウム−石炭混 合物を水素中で3時間撹拌した。該触媒を濾過し、酢酸エチルでよく洗浄した。 減圧下で該濾過物の溶媒を除去し、該残渣を酢酸エチルから結晶化した。 他の製造: 2−(3−ベンジル−8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチルインドリジ ン−1−イル)アセトアミド 22v mp、213−218℃(分解)(エーテル−ヘキサン)。収率79%。 IR νmax(ニュジョール)3418,1735,1718,1638,1618cm-11 H NMR(CDCl3+CD3OD=7:1)δ1.16(3H,t,J=7.7Hz)、2 .77(2H,q,J=7.7Hz)、3.99(2H,s)、4.24(2H,s)、4.69(2 H,s)、5.89(1H,d,J=7.0Hz)、6.23(1H,t,J=7.0Hz)、7.0 1−7.25(6H,m)。元素分析(C212224として)計算値:C68.17、 H6.10、N7.57。実測値:C67.99、H6.07、N7.65。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(1−ナフチル)イ ンドリジン−1−イル)アセトアミド 22w mp、129−133℃(ヘキサン−AcOEt)。収率65%。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベン ジル)インドリジン−1−イル)アセトアミド 22x mp、164−165℃(AcOEt)。収率61.1%。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−3−(m−クロロベンジル)−2−エ チルインドリジン−1−イル)アセトアミド 22y mp、216−219℃(分解)(AcOEt)。収率57.5%。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−2−シクロプロピル−3−(o−フェ ニルベンジル)−インドリジン−1−イル)アセトアミド 22z 収率65.5%。1 H NMR(CDCl3)δ0.51(2H,m)、0.89(2H,m)、1.76(1H,m) 、 4.06(2H,s)、4.22(2H,s)、4.63(2H,s)、5.82(1H,d,J=7 .5Hz)、6.16(1H,t,J=7.2Hz)、6.56(1H,d,J=7.5Hz)、6. 88(1H,d,J=7.2Hz)、7.11(1H,dt,J=7.5,1.5Hz)、7.26( 2H,m)、7.3−7.5(5H,m)。 実施例3 パートA :3−ヒドロキシ−2−ピリジン酢酸エチルの製造 60%水素化ナトリウム(2.69g、66.2ミリモル)を0℃でジメチルホ ルムアミド(220ml)中の3−ヒドロキシ−2−ピリジン酢酸エチル(23、 12.0g、66.2ミリモル)(デシデリ、マンナ(F.Manna)、ステイン、 バイル(G.Bile)、フィリッペリ(W.Filippeelli)およびマルモ(E.M armo)、Eur.J.Med.Chem.Chim.Ther.、18、295(1983)) の溶液に少量ずつ添加した。該混合物を0℃で50分間撹拌した。塩化ベンジル (8.4ml、72.8ミリモル)を該混合物に滴下添加し、一晩撹拌した。酢酸エ チルを添加した。該混合物を5%液体炭酸水素ナトリウムおよび水で洗浄し、つ いでNa2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後、該残渣をシリカゲ ル上でクロマトグラフにかけ、AcOEt:トルエン(1:19から1:1)で溶 出し、表題化合物の16.17g(収率90.0%)を油状物として得た。 IR νmax(フィルム)1736,1446,1278cm-11H NMR(CDCl3) δ1.21(3H,t,J=7.2Hz)、3.93(2H,s)、4.14(2H,q,J=7. 2Hz)、5.10(2H,s)、7.13−7.22(2H,m)、7.32−7.43(5H ,m)、8.16(1H,dd,J=4.0,3.0Hz)。元素分析(C1617NO3として) 計算値:C70.83、H6.32、N5.16。実測値:C70.65、H6.37 、N5.20。パートB :エチル(8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル) カルボキシレート 25a メチルエチルケトン(250ml)中のピリジン誘導体(24、15.15g、5 5.8ミリモル)炭酸水素ナトリウム(23.45g、279ミリモル)および1 −ブロモ−2−ブタノン(11.4ml、113ミリモル)を還流下で24時間加 熱し、水で洗浄し、ついでNa2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した 後、該残渣をシリカゲル上でクロマトグラフにかけ、AcOEt:ヘキサン(1: 19から1:9)で溶出し、表題化合物の16.66g(収率92.0%)を油状 物として得た。 IR νmax(フィルム)1690,1227,1092cm-11H NMR(CDCl3) δ1.15(3H,t,J=7.2Hz)、1.26(3H,t,J=7.5Hz)、2.82(2 H,q,J=7.5Hz)、4.11(2H,q,J=7.2Hz)、5.16(2H,s)、6.2 2(1H,d,J=7.6Hz)、6.44(1H,t,J=7.1Hz)、7.07(1H,s)、 7.27−7.57(6H,m)。元素分析(C2021NO3 0.1H2Oとして)計算 値:C73.87、H6.57、N4.31。実測値:C73.75、H6.66、N 4.30。 (8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピルインドリジン−1−イル)カルボン 酸エチル 25bの製造。収率78%。パートC :(8−ベンシルオキシ−2−エチル−3−(置換したベンゾイル)イ ンドリジン−1−イル)カルボン酸エチル 26の一般的な製造法 インドリジン(25、1等量)、置換した塩化ベンゾイル(2.0等量)およ びトリエチルアミン(5.0等量)の混合物を90℃(溶液の温度)で2−8時 間加熱した。酢酸エチルを添加した。該混合物を希塩酸および水で洗浄し、つい でNa2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後、該残渣をシリカゲル 上でクロマトグラフにかけ、AcOEt:ヘキサン(1:2)で溶出し、ついで再 結晶化させた。 他の製造: (3−ベンゾイル−8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル) カルボン酸エチル 26a mp、124−125℃(AcOEt−ヘキサン)。収率79%。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンゾイル)インドリ ジン−1−イル)カルボン酸エチル 26b。mp、110−112℃(エーテル− ヘキサン)。46.0%の収率。 (8−ベンジルオキシ−3−(m−クロロベンゾイル)−2−エチルインドリジ ン−1−イル)カルボン酸エチル 26c。mp、115.0−116.5℃(エーテ ル−ヘキサン)。収率92%。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(m−トリフルオロメチルベンゾイル )インドリジン−1−イル)カルボン酸エチル 26d。mp、129.0−129. 5℃(エーテル−ヘキサン)。収率82%。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(1−ナフトイル)インドリジン−1 −イル)カルボン酸エチル 26e。mp、169−170℃(ベンゼン−ヘキサン )。収率59.3%。 (8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピル−3−(o−フェニルベンゾイル) インドリジン−1−イル)カルボン酸エチル 26f。mp、143−145℃(A cOEt−ヘキサン)。収率52%。パートD :(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(置換したベンゾイル)イ ンドリジン−1−イル)カルボン酸および8−ベンジルオキシ−2−エチル−3 −(置換したベンゾイル)インドリジン 27の一般的な製造法 ジメチルスルホキシド(10ml)中のエステル(26、1.0ミリモル)の溶 液に、50% 水酸化カリウム水溶液(3ml)を添加した。該混合物を140℃ で2−24時間加熱した。冷却後、該混合物を希塩酸で酸性にし、ついで酢酸エ チルで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、ついでNa2SO4で乾燥させた。減圧 下で該溶媒を除去した後、該残渣を再結晶化により精製してカルボン酸を得た。 トルエン中の酸を還流下で1時間加熱し、ついで減圧下で蒸留により該溶媒を除 去した。該残渣を再結晶化により精製して27を得た。 他の製造: 3−ベンゾイル−8−ベンジルオキシ−2−エチル−インドリジン 27a mp、92−93℃(AcOEt−ヘキサン)。 IR νmax(KBr)2965,1593,1571,1552,1326,1275 ,1045cm-11H NMR(CDCl3)δ1.05(3H,t,J=7.4Hz)、2.4 2(2H,q,J=7.4Hz)、5.21(2H,s)、6.47(1H,d,J=7.4Hz)、 6.62−6.71(2H,m)、7.25−7.52(8H,m)、7.61−7.65(2 H,m)、9.23(1H,d,J=7.2Hz)。[EIMS]m/z 355[M+]。元素分 析(C2421NO2 0.1H2Oとして)計算値:C80.69、H5.98、N3. 92。実測値:C80.67、H5.98、N3.92。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンゾイル)インドリジ ン 27b 定量収量。IR νmax(ニュジョール)1735,1597,742cm-1 8−ベンジルオキシ−3−(m−クロロベンゾイル)−2−エチル−インドリジ ン 27c mp、95.5−96.5℃(エーテル−へキサン)。収率87%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(m−トリフルオロメチルベンゾイル) インドリジン 27d。mp、97−98℃(エーテル−ヘキサン)。収率84%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(1−ナフトイル)インドリジン 27e 。収率66.1%。 8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピル−3−(o−フェニルベンゾイル)イ ンドリジン 27f。収率82%。パートE :8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(置換したベンジル)インド リジン 28の一般的な製造法 化合物27を4の製造のために記載した手順により処理した。 他の製造: 3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−エチル−インドリジン 28a 1H NMR(CDCl3)δ1.28(3H,t,J=7.4Hz)、2.71(2H,q,J =7.4Hz)、4.22(2H,s)、5.16(2H,s)、5.99(1H,d,J=7.4 Hz)、6.24(1H,dd,J=7.4,7.4Hz)、6.61(1H,s)、7.02−7. 51(11H,m)。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンジル)インドリジン 28b 定量収量。IR νmax(CHCl3)1525、1259cm-1。 8−ベンジルオキシ−3−(m−クロロベンジル)−2−エチル−インドリジン 28c 定量収量。IR νmax(CHCl3)1551、1258cm-1。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(m−トリフルオロメチルベンジル)イ ンドリジン 28d。 Mp73−75℃(ヘキサン)。定量収量。IR νmax(ニュジョール)1332, 1163,1114cm-1。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(1−ナフチルメチル)インドリジン −1−イル)カルボキシレート 28e。mp、119−120℃(ヘキサン)。収 率89.0%。 8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピル−3−(o−フェニルベンゾイル)イ ンドリジン 28f。収率91%。IR Vmax(CHCl3)1527、1448、 1259cm-1パートF :(3−ベンジル−2−メチルインドリジン−1−イル)カルボン酸エ チル 31a、3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−メチルインドリジン−1 −イル)カルボン酸エチル 31bおよび(3−ベンジル−8−メトキシ−2−メ チルインドリジン−1−イル)カルボン酸エチル 31cの一般的な製造法。 3−ブロモ−4−フェニル−ブタン−2−オン(29、ベレシア(F.Belle sia)、ゲルフィ(F.Ghelfi)、グランディ(K.Grandi)およびウゴ(M .Ugo)、J.Chem.Res.(S)、S 428(1986))(1.3等量) およびピリジン−2−酢酸エチルまたはその3−置換化合物(1.0等量)と炭 酸水素ナトリウム(10等量)の混合物を165℃で1〜4時間加熱し、ついで シリカゲル上でクロマトグラフにかけ、ヘキサン:AcOEt(5−2:1)で溶 出した。 他の製造: (3−ベンジル−2−メチルインドリジン−1−イル)カルボン酸エチル 31a mp、75℃(ヘキサン)。収率37.1%。 (3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−メチルインドリジン−1−イル)カ ルボン酸エチル 31b。mp、117−118℃(ヘキサン)。収率47.4%。 (3−ベンジル−8−メトキシ−2−メチルインドリジン−1−イル)カルボン 酸エチル 31c。mp、105℃(ヘキサン)。収率23.4%。パートG :(3−ベンジル−2−メチルインドリジン−1−イル)カルボン酸 32aおよび(3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−メチルインドリジン− 1−イル)カルボン酸 32b 31のエステル(2ミリモル)を水(5ml)およびジメチルスルホキシド(5 ml)中のKOH(0.5g)の溶液に溶かした。該溶液を140℃(溶液の温度) で5時間加熱した。氷水を添加した。該混合物をエーテルで洗浄し、希塩酸で酸 性化し、ついで酢酸エチルで抽出した。該抽出物を水で洗浄し、ついでNa2SO4 で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去した後、該残渣をAcOEtから結晶化し た。 他の製造: (3−ベンジル−2−メチルインドリジン−1−イル)カルボン酸 32a mp、182−183℃(分解)。収率60.3%。 (3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−メチルインドリジン−1−イル)カ ルボン酸 32b。mp、132℃(分解)。収率68.4%。 パート:3−ベンジル−2−メチルインドリジン 33a および3−ベンジル −8−ベンジルオキシ−2−メチルインドリジン 33b の一般的な製造法 キシレン中のカルボン酸の混合物を還流下で2時間加熱した。減圧下で該溶媒 を除去した後、該残渣を結晶化するかまたは次の製造に使用した。 3−ベンジル−2−メチルインドリジン 33a の製造 mp、96−97℃。定量収量。 3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−メチルインドリジン 33b の製造 定量収量。1H NMR(CDCl3)δ2.34(3H,s)、4.22(2H,s)、5. 17(2H,s)、6.00(1H,d,J=7.6Hz)、6.25(1H,t,J=7.1Hz) 、6.56(1H,s)、7.0−7.5(11H,m)。パートJ :(インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 34および35a− k の一般的な製造 これらの化合物を化合物4からの化合物8の合成について記載した手法により 製造した。 (3−ベンジル−2−メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 3 4の製造 mp、198−199℃(ベンゼン)。収率49.3%。 (3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル)グ リオキシルアミド 35aの製造 mp、188−189℃。収率63%。 他の製造: (3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル)グ リオキシル−N−メチルアミド 35b。mp、190−191℃。収率80%。 (3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル)グ リオキシル−N,N−ジメチルアミド 35c。mp、199−200℃(AcOEt) 。収率43%。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンジル)インドリジ ン−1−イル)グリオキシルアミド 35d。mp、183−185℃(エーテル− ヘキサン)。収率79.0%。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンジル)インドリジ ン−1−イル)グリオキシル−N−メチルアミド 35e。mp、200−201℃ (エーテル−ヘキサン)。収率71%。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−フェニルベンジル)インドリジ ン−1−イル)グリオキシル−N,N−ジメチルアミド 35f。mp、201−2 02℃(エーテル−ヘキサン)。収率88%。 (3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン−1−イル)グ リオキシルアミド 35g。 Mp212−214℃.収率96.2%。IR νmax(ニュジョール)3472, 3197,1678,1627cm-11H NMR(CDCl3)δ2.44(3H,s)、 4.21(2H,s)、4.75(1H,br.s)、5.13(2H,s)、6.14(1H,br.s )、6.39(1H,d,J=7.4Hz)、6.51(1H,t,J=7.3Hz)、7.05− 7.15(2H,m)、7.20−7.5(9H,m)。元素分析(C252223として) 計算値:C75.36、H5.57、N7.03。実測値:C75.12、H5.66 、N7.06。 (8−ベンジルオキシ−3−(m−クロロベンジル)−2−エチルインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 35h。mp、145−148℃(エーテル−ヘ キサン)。収率80%。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(m−トリフルオロメチルベンジル) インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 35i。mp、182−185℃( CH2Cl2−ヘキサン)。収率76%。 (8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(1−ナフチルメチル)インドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 35j。mp、189−190℃(ベンゼン)。 収率76.0%。 (8−ベンジルオキシ−2−クロロプロピル−3−(o−フェニルベンジル)イ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 35k。mp、185−186℃(C H2Cl2−ヘキサン)。定量収量。パートK :(8−ヒドロキシインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 3 6a、d−kの一般的な製造法 これらの化合物を化合物19からの化合物20の合成について記載した手法に より製造した。 他の製造: (3−ベンジル−2−エチル−8−ヒドロキシインドリジン−1−イル)グリオ キシルアミド 36a。mp、194−195℃(AcOEt)。 他の製造 (2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル)インドリジン− 1−イル)グリオキシルアミド 36d。mp、195−196℃(分解)(エーテ ル−ヘキサン)。収率95.0%。 (2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル)インドリジン− 1−イル)グリオキシル−N−メチルアミド 36e。mp、186−189℃(分 解)(エーテル−ヘキサン)。収率89%。 (2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル)インドリジン− 1−イル)グリオキシル−N,N−ジメチルアミド 36f。mp、177−180 ℃(エーテル−ヘキサン)。収率95%。 (3−ベンジル−8−ヒドロキシ−2−メチルインドリジン−1−イル)グリオ キシルアミド 36g。mp、189−192℃。収率94.9%。 (3−(m−クロロベンジル)2−エチル−8−ヒドロキシインドリジン−1− イル)グリオキシルアミド 36h。mp、144−146℃(AcOEt−ヘキサン )。収率88%。 (2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(m−トリフルオロメチルベンジル)イン ドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 36i。mp、142−146℃(Ac OEt−ヘキサン)。収率96%。 (2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(1−ナフチルメチル)インドリジン−1 −イル)グリオキシルアミド 36j。mp、176−178℃(ベンゼン)。収率 84.5%。 (2−シクロロプロピル−8−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル)イン ドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 36k。mp、189−191℃(Ac OEt−ヘキサン)。収率95%。パートL :(8−(カルボアルコキシメチルオキシ)インドリジン−1−イル) グリオキシルアミド 37a−d、f、g−jおよび39d、i、kの一般的な製造法 これらの化合物を化合物20からの化合物21の合成について記載した手法に より製造した。 他の製造: (3−ベンジル−8−(カルベトキシメチルオキシ)−2−エチルインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 37a mp、191−192℃(AcOEt−ヘキサン)。収率23%。 (3−ベンジル−8−(カルベトキシメチルオキシ)−2−エチルインドリジン −1−イル)グリオキシル−N−メチルアミド 37b。mp、197−198℃( AcOEt−ヘキサン)。収率72%。 (3−ベンジル−8−(カルベトキシメチルオキシ)−2−エチルインドリジン −1−イル)グリオキシル−N,N−ジメチルアミド 37c。mp、140−14 1℃(AcOEt−ヘキサン)。収率39%。 (8−(カルベトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベンジ ル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 37d。mp、127−129 ℃(エーテル−ヘキサン)。収率86.0%。 (8−(カルベトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベンジ ル)インドリジン−1−イル)グリオキシル−N,N−ジメチルアミド 37f mp、109.5−110.0℃(エーテル−ヘキサン)。収率79%。 (3−ベンジル−8−(カルベトキシメチルオキシ)−2−メチルインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 37g mp、193−195℃。収率41.4%。 (8−(カルベトキシメチルオキシ)−3−(m−クロロベンジル)−2−エチ ルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 37h。mp、172−175℃ (AcOEt−ヘキサン)。収率73%。 (8−カルベトキシメチルオキシ−2−エチル−3−(1−ナフチルメチル)イ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 37j。収率37.8%。 IR νmax(CHCl3)3513,3400,1761,1698,1638,14 97cm-1。 (3−ベンジル−8−(t−ブトキシカルボニルメチルオキシ)−2−エチルイ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 38a。mp、161−162℃。 (8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベン ジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 39d。mp、73−75℃ (エーテル−ヘキサン)。収率84%。 (8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(m−トリフルオロ メチルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 39i。mp、1 36−137℃(AcOEt−ヘキサン)。収率59%。 (8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−シクロプロピル−3−(o−フェ ニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 39k。mp、17 8−179℃(AcOEt−ヘキサン)。収率69%。パートM :(8−(カルボキシメチルオキシ)インドリジン−1−イル)グリオ キシルアミド40a−d、f、g−kの一般的な製造 1N−水酸化カリウム水溶液(4ml)をメタノール(21ml)中のエステル( 37−39、2ミリモル)の溶液に添加した。該溶液を室温で40分間撹拌し、 エーテルで洗浄し、2N−HClで酸性化し、ついで酢酸エチルで抽出した。該 抽出物を水で洗浄し、ついでNa2SO4で乾燥させた。減圧下で該溶媒を除去し た後、該残渣を再結晶化した。 他の製造: (3−ベンジル−8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチルインドリジン− 1−イル)グリオキシルアミド 40a Mp244−245℃(AcOEt−エーテル)。収率42%。IR νmax(KBr) 3855,2974,2931,1703,1660,1625,1312,1092c m-11H NMR(CDCl3+CD3OD)δ1.22(3H,t,J=7.4Hz)、2. 90(2H,q,J=7.4Hz)、4.27(2H,s)、4.73(2H,s)、6.37(1 H,d,J=7.8Hz)、6.73(1H,dd,J=6.6,7.8Hz)、7.06−7.4 3(6H,m)。[EIMS]m/z 380[M+]。元素分析(C212025 0.7 H2O)として)計算値:C64.18、H5.49、N7.13。実測値:C64.2 6、H5.27;N705。 (3−ベンジル−8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチルインドリジン− 1−イル)グリオキシル−N−メチルアミド 40b。mp、212−213℃(A cOEt)。収率47%。 (3−ベンジル−8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチルインドリジン− 1−イル)グリオキシル−N,N−ジメチルアミド 40c。mp、166−167 ℃(AcOEt)。収率49%。 (8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベンジル )インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 40d。 Mp209−212℃(エチル−ヘキサン)。収率93%。IR νmax(ニュジョ ール)3316,1704,1601,1493cm-11H NMR(d6−DMSO)δ 1.01(3H,t,J=7.5Hz)、2.67(2H,q,J=7.5Hz)、4.18(2H ,s)、4.71(2H,s)、6.41(1H,d,J=7.3Hz)、6.57−6.59(2 H,m)、7.14−7.57(10H,m)、7.34(1H,s)、13.09(1H,br.s )。元素分析(C272425 0.3H2Oとして)計算値:C70.21、H5.3 7、N6.06。実測値:C70.17、H5.35、N5.98。 (8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベンジル )インドリジン−1−イル)グリオキシル−N,N−ジメチルアミド 40f。mp 、208−209℃(エーテル−ヘキサン)。収率93%。 (3−ベンジル−8−(カルボキシメチルオキシ)−2−メチルインドリジン− 1−イル)グリオキシルアミド 40g。 Mp245−246℃(分解)。収率86.7%。IR νmax(ニュジョール)341 7,1736,1650,1629,1495cm-11H NMR(CDCl3+CD3O D)δ2.47(3H,s)、4.24(2H,s)、4.73(2H,s)、6.38(1H,d, J=7.5Hz)、6.59(1H,t,J=7.2Hz)、7.10(2H,m),7.2−7. 3(3H,m)、7.44(1H,d,J=6.9Hz)。元素分析(C201825 0.2 H2Oとして)計算値:C64.93、H5.01、N7.57。実測値:C64.87 、H5.02、N7.56。 (8−(カルボキシメチルオキシ)−3−(m−クロロベンジル)−2−エチル インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 40h。mp、230−233℃( 分解)(エーテル−ヘキサン)。収率79%。 (8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(m−トリフルオロベン ジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 40i。 mp、235−237℃(分解)(CH2Cl2−ヘキサン)。収率97%。 (8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(1−ナフチルメチル) インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 40j。 収率68.4%。IR νmax(ニュジョール)3429,3338,1730,16 49,1612,1588,1493cm-1。 (8−(カルボキシメチルオキシ)−2−シクロプロピル−3−(o−フェニル ベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 40k。mp、205− 207℃(分解)(AcOEt−ヘキサン)。収率93%。 実施例4 パートA: (8−(シアノメチルオキシ)−2−エチル−3−(1−ナフチルメチル)イ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 41の製造 化合物36から化合物37の合成において記載した操作によってヒドロキシ化 合物36hを処理する。 Mp212−215℃(エーテル)。収率45%。IR νmax(ニュジョール)3 484,3226,1659,1629,1497,1305,755cm-11H NMR (d6−DMSO)δ1.08(3H,t,J=7.1Hz)、2.80(2H,q,J=7.2H z)、4.36(2H,s)、5.18(2H,s)、6.74−6.85(2H,m)、7.01( 1H,d,J=6.9Hz)、7.21(1H,s)、7.23−7.39(3H,m)、7.78 (1H,s)、7.83(1H,d,J=6.3Hz)。元素分析(C211833Clとして )計算値:C63.72、H4.58、N10.62、Cl8.96。実測値:C63. 54、H4.69、N10.79、Cl8.69。パートB: (8−(1H−テトラゾール−5−イル)−2−エチル−3−(1−ナフチル メチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 42の製造 トルエン(2.5ml)中ニトリル誘導体(41、100mg、0.253ミリモル) およびトリメチルチンアジド(68mg、0.329ミリモル)の混合物を23時間 加熱還流する。沈殿を濾取し、トルエン(2ml)に懸濁させる。塩酸ガスを導入す る。混合物を室温で20分間撹拌し、次いで減圧濃縮する。酢酸エチルを加える 。混合物を1N−水酸化カリウムで抽出する。水相をジクロロメタンで洗浄し、 希塩酸で酸性化し、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水で洗浄し、乾燥(Na2S O4)する。溶媒を減圧除去した後、残渣をエーテルに溶解する。不溶性物質を濾 去し、濾液にヘキサンを加え、標記化合物(25mg、収率23%)を得る。m.p.1 40〜143℃(分解)(エーテル/ヘキサン)。 IR νmax(ニュジョール)3468,3222,3153,1718,1651, 1612,1594,1489cm-11H NMR(CDCl3)δ1.23(3H,t,J = 7.5Hz)、2.88(2H,q,J=7.5Hz)、4.22(2H,s)、5.65(2H,s )、6.04(1H,s)、6.29(1H,d,J=7.8Hz)、6.50(1H,t,J=7. 2Hz)、6.92(1H,br.s)、7.06−7.37(5H,m)。 実施例5 パートA: 3−ベンジルオキシ−2−メチルピリジン 44aの製造 テトラヒドロフラン(380ml)中の2−メチル−3−ピリジノール(43、1 6.4g、0.15モル)、粉砕した水酸化カリウム(12.72g、0.195モ ル)、臭化テトラブチルアンモニウム(2.42g、7.5ミリモル)および臭化ベ ンジル(18.7ml、0.158モル)の混合物を室温で1.5時間撹拌する。水 (38ml)を加える。混合物を減圧濃縮し、次いで酢酸エチルで抽出する。抽出物 を水で洗浄し、乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除去した後、標記化合物(2 8.3g、収率90%)を得る。 1H NMR(CDCl3)δ2.56(3H,s)、5.11(2H,s)、7.04−7.1 6(2H,m)、7.35−7.45(5H,m)、8.08(1H,dd,J=4.5,1.5Hz) 。パートB: 3−メトキシ−2−メチル−1−(2−オキソブチル)ピリジニウム・ブロミ ド 45bの製造 3−メトキシピコリン[ジェイ・ヨルゲンセン、エイチ・シー・ニールセン、エ ヌ・マルホトラおよびジェイ・ベッチャーの「J.Heterocyclic Chem.」,29,1841( 1992)](343mg、2.78ミリモル)および1−ブロモ−2−ブタノン(504m g、3.34ミリモル)を70℃で10分間加熱する。固体を酢酸エチルで洗浄し 、吸湿性の固体(711mg、収率93.8%)を得る。m.p.157〜158℃。パートC−1: 8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリジン 46aの製造 酢酸エチル(17ml)中の3−ベンジルオキシ−2−メチルピリジン(44a、 29.7g、0.149モル)および1−ブロモ−2−ブタノン(22.5g、0. 149モル)を70℃で0.5時間撹拌する。反応混合物に酢酸エチル(23ml) を加え、酢酸エチルから固体を再結晶させて化合物45a(47.04g、収率9 0.1%)を得る。第四塩45a(47.04g、0.134モル)を0.75時間 再還流し、氷水を加え、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2S O4)する。溶媒を減圧除去した後、標記油状化合物46a(26.62g、収率7 9%)を得る。 1H NMR(CDCl3)δ1.28(3H,t,J=7.6Hz)、2.70(2H,q,J =7.6Hz)、5.16(2H,s)、5.99(1H,d,J=7.5Hz)、6.29(1 H,t,J=7.1Hz)、6.48(1H,s)、7.10−7.52(7H,m)。 化合物46b〜eを前述の操作にしたがって製造する。パートC−2: 2−エチル−8−メトキシ−インドリジン 46bの製造 ベンゼン(1ml)中の8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(D BU)(341mg、2.24ミリモル)の溶液を、ベンゼン(4ml)中の上記塩(4 7b、277mg、1.02ミリモル)の混合物に加える。窒素下にて混合物を3 時間加熱還流する。冷却後、混合物を濾過し、ベンゼンで洗浄する。濾液を減圧 濃縮して油状物(178mg)(定量収量)を得る。 1H NMR(CDCl3)d1.28(3H,t,J=7.5Hz)、2.70(2H,q,J= 7.5Hz)、3.91(3H,s)、5.93(1H,d,J=7.2Hz)、6.32(1H,t ,J=7.0Hz)、6.40(1H,s)、7.10(1H,s)、7.50(1H,d,J=6. 8Hz)。 他の化合物の製造: 8−ベンジルオキシ−2−メチルインドリジン 46c 収率92%、油状物。1H NMR(CDCl3)δ2.31(3H,s)、5.16(2 H,s)、5.98(1H,d,J=7.6Hz)、6.28(1H,t,J=7.0Hz)、6.4 4(1H,s)、7.08(1H,s)、7.34−7.55(6H,m)。 2−シクロプロピル−8−メチルインドリジン 46d 収率72%。1H NMR(CDCl3)δ0.60−0.68(2H,m)、0.86− 0.96(2H,m)、1.83−1.97(1H,m)、3.89(3H,s)、5.92(1H , d,J=7.4Hz)、6.25−6.34(1H+1H,m)、7.11(1H,d,J=1. 6Hz)、7.47(1H,d,J=7.0Hz)。 8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピルインドリジン 46e 収率69%。1H NMR(CDCl3)δ0.61−0.69(2H,m)。0.86− 0.96(2H,m)、1.84−1.97(1H,m)、5.15(2H,s)、5.98(1H ,d,J=7.6Hz)、6.25−6.32(1H+1H,m)、7.12(1H,d,J=2. 0Hz)、7.35−7.49(6H,m)。パートD: 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(置換カルボニル)インドリジン 4 7の一般的製造法 この化合物は、前記化合物17から18の製造において記載した操作にしたが って製造する。 他の化合物の製造: 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(p−フェニルベンゾイル)インドリ ジン 47a m.p.114〜115℃、収率80%。 8−ベンジルオキシ−3−シクロヘキシルカルボニル−2−エチルインドリジ ン 47b m.p.88〜89℃、収率77%。 8−ベンジルオキシ−3−シクロペンチルカルボニル−2−エチルインドリジ ン 47c m.p.63〜64℃(ヘキサン)、収率68%。 8−ベンジルオキシ−3−シクロヘプチルカルボニル−2−エチルインドリジ ン 47d m.p.85〜86℃(ヘキサン)、収率74%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(2−オキソペンチル)インドリジン 47e m.p.84℃(ヘキサン−EtOAc)、収率89%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(1−オキソ−2−プロピルペンチル )インドリジン 47f m.p.137〜138℃(ヘキサン−EtOAc)、収率25%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(ナフト−2−イルカルボニル)イン ドリジン 47g 収率70%。 8−ベンジルオキシ−3−(3,5−ジ−t−ブチル)ベンゾイル−2−エチ ルインドリジン 47h m.p.131℃(ヘキサン:EtOAc)、収率82%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(1−オキソ−2−フェニルエチル) インドリジン 47i m.p.139〜140℃(ヘキサン:EtOAc)、収率58%。 3−(o−ベンジルベンゾイル)−8−ベンジルオキシ−2−エチルインドリ ジン 47j 黄色油状物、収率58%。IRνmax(ニート)2964、1590、15 48、1438、1302cm-1。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(チオフェン−2−イル)インドリジ ン 47k m.p.141〜142℃(ヘキサン/EtOAc)、収率82%。 他の化合物の製造: 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(3−(チオフェン−2−イル)チオ フェン−2−イル)インドリジン 471 メチルエステルの加水分解によって、3−(チオフェン−2−イル)チオフェ ン−2−カルボン酸を製造する[ワイ・ハマナカ、エス・フクシマおよびティー ・ヒヤマの「Heterocycles」,30,303(1990)]。 Mp137−138℃(ヘキサン:EtOAc)。1H NMR(CDCl3)δ7.10 (1H,dd,J=3.6,5.0Hz)、7.26(1H,d,J=5.0Hz)、7.39(1H ,dd,J=1.0,5.0Hz)、7.55−7.60(2H,m)。IR νmax(KBr)28 45,2606,1671,1273,1245cm-1。元素分析(C962Sとして )計算値:C,51.41;H,2.88;N,30.50。実測値:C,51.39;H,3. 06;N,30.24。 酸塩化物を前述のように処理するが、生成物を精製することができないため、 さらなる精製を行うことなく次工程に用いる。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(m−メトキシベンゾイル)インドリ ジン 47m m.p.64〜67℃、収率77%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(1−オキソ−2−(4−n−ペンチ ルシクロヘキシル)エチル)インドリジン 47o m.p.64〜65℃(ヘキサン)、収率41%。 8−ベンジルオキシ−2−メチル−3−(o−フェニルベンゾイル)インドリ ジン 47q m.p.114〜116℃、収率66.9%。 8−ベンジルオキシ−3−ベンゾイル−2−シクロプロピルインドリジン 4 7r m.p.144〜146℃、収率81.4%。 3−(p−n−ブチルベンゾイル)−2−エチル−8−メトキシインドリジン 47s m.p.90〜91℃(ヘキサン)、収率72.8%。 8−ベンジルオキシ−2−ンチル−3−(1−オキソ−2−シクロヘキシルエ チル)インドリジン 47t m.p.105〜106℃(ヘキサン:EtOAc)、収率61%。 3−シクロヘキシルカルボニル−2−シクロプロピル−8−メトキシインドリ ジン 47u m.p.122〜123℃、収率38.9%。 8−ベンジルオキシ−3−シクロペンチルカルボニル−2−メチルインドリジ ン 47w m.p.93.5〜94.5℃、収率24%。パートE: 8−ベンジルオキシ−3−(置換メチル)−2−エチルインドリジン 48の 製造 一般操作1) 化合物27から28の製造において記載した操作にしたがって、化合物47か ら上記化合物を製造する。 一般操作2) テトラヒドロフラン中の化合物47、水素化ホウ素ナトリウム(5当量モル) 、粉砕三塩化アルミニウム(3当量モル)の混合物を45分間加熱還流する。氷 水を加える。混合物を酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4 )する。溶媒を減圧除去した後、残渣を再結晶またはカラムクロマトグラフィー にて精製する。 他の化合物の製造: 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(p−フェニルベンジル)インドリジ ン 48a 定量収量。 1H NMR(CDCl3)δ1.26(3H,t,J=7.2Hz)、2.74(2H,q,J =7.8Hz)、4.28(2H,s)、5.18(2H,s)、6.02(1H,d,J=7.2 Hz)、6.28(1H,t,J=7.2Hz)、7.11(1H,d,J=8.4Hz)、7.2 3−7.71(14H,m)。 8−ベンジルオキシ−3−シクロペンチルメチル−2−エチルインドリジン 48c 1H NMR(CDCl3)δ1.15−1.34(5H,m)、1.41−1.74(6H ,m)、2.18(1H,5重,J=7.8Hz)、2.65(2H,q,J=7.4Hz)、2. 82(2H,d,J=7.2Hz)、5.17(2H,s)、5.98(1H,d,J=7.0Hz) 、6.34(1H,dd,J=7.0,7.4Hz)、6.53(1H,s)、7.3−7.5(6 H,m)。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−ペンチルインドリジン 48e IRνmax(KBr)2950、2920、1550、1520、1365 、1250cm-1。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(2−プロピルペンチル)インドリジ ン 48f 収率25%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(ナフト−2−イルメチル)インドリ ジン 48g。 8−ベンジルオキシ−3−(o−ベンジルベンジル)−2−エチルインドリジ ン 48j 収率91%。IRνmax(ニート)2922、1523、1371、131 2cm-1。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−((3−チオフェン−2−イル)チオ フェン−2−イルメチル)インドリジン 48l 1H NMR(CDCl3)δ1.22(3H,t,J=7.4Hz)、2.63(2H,q,J =7.4Hz)、4.41(2H,s)、5.06(2H,s)、5.92(1H,d,J=7.0 Hz)、6.17(1H,dd,J=7.0,7.2Hz)、6.51(1H,s)、6.91−7. 42(11H,m)。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(m−メトキシベンジル)インドリジ ン 48m 定量収量。1H NMR(CDCl3)δ1.29(3H,t,J=7.5Hz)、2.72 (2H,q,J=7.5Hz)、3.72(3H,s)、4.21(2H,s)、5.17(2H,s) 、6.01(1H,d,J=7.2Hz)、6.26(1H,t,J=7.2Hz)、6.58− 6.75(4H,m)、7.11−7.44(5H,m)、7.46−7.63(2H,m)。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(4−n−ペンチルシクロヘキシル) メチルインドリジン 48o 1H NMR(CDCl3)δ0.70−1.80(24H,m)、2.57−2.71(4 H,m)、5.17(2H,s)、5.98(1H,d,J=7.4Hz)、6.34(1H,dd,J =7.0,7.4Hz)、6.53(1H,s)、7.26−7.51(6H,m)。 8−ベンジルオキシ−3−(ビフェニル−2−イルメチル)−2−メチルイン ドリジン 48q m.p.98〜99℃、定量収量。 3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピルインドリジン 48 r 収率94%。 3−(p−n−ブチルベンジル)−2−エチル−8−メトキシインドリジン 48s 方法2)。油状物、収率67.9%。 8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−シクロヘキシルメチルインドリジン 48t 1H NMR(CDCl3)δ1.00−1.26(5H,m)、1.55−2.25(6H ,m)、2.25(3H,s)、2.68(2H,d,J=6.9Hz)、5.16(2H,s)、5. 98(1H,d,J=7.2Hz)、6.34(1H,dd,J=6.9,7.2Hz)、6.47( 1H,s)、7.30−7.49(6H,m)。パートF: 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(置換メチル)インドリジン− 1−イル)グリオキシルアミド 49の製造 化合物34から35の製造において記載した操作にしたがって、化合物48か ら上記化合物を製造する。 他の化合物の製造: 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(p−フェニルベンジル)イン ドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49a m.p.196〜199℃、収率61%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−シクロヘキシルメチル−2−エチルインドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 49b m.p.176℃(ヘキサン−EtOAc)、収率85%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−シクロペンチルメチル−2−エチルインドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 49c m.p.161〜162℃(ヘキサン−AcOEt)、収率77%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−シクロヘプチルメチル−2−エチルインドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 49d m.p.144〜145℃(ヘキサン)、収率76%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−オキソペンチルインドリジン− 1−イル)グリオキシルアミド 49e m.p.141〜142℃(ヘキサン−EtOAc)、収率77%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(2−プロピルペンチル)イン ドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49f m.p.159〜160℃(ヘキサン−EtOAc)、収率82%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(ナフト−2−イルメチル)イ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49g m.p.209〜210℃(EtOAc)、収率77%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−(3,5−ジ−t−ブチルベンジル−2−エ チルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49h。 m.p.230〜231℃(EtOAc)、収率59%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(2−フェニルエチル)インド リジン−1−イル)グリオキシルアミド 49i。 m.p.188〜189℃(EtOAc)、収率79%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−(o−ベンジルベンジル)−2−エチルイン ドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49j m.p.178〜179℃(EtOAc)、収率93%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(チオフェン−2−イルメチル )インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49k m.p.191〜192℃(EtOAc)、収率73%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−((3−チオフェン−2−イル ) チオフェン−2−イルメチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49l m.p.208〜209℃(EtOAc)、収率10%(2工程)。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(m−メトキシベンジル)イン ドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49m m.p.180〜182℃、収率61%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−(o−ニトロベンジル)インド リジン−1−イル)グリオキシルアミド 49n m.p.205〜208℃、収率8%。 2−(8−ベンジルオキシ−2−エチル−3−((4−n−ペンチルシクロヘ キシル)メチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49o m.p.169〜170℃(EtOAc)、収率80%。 2−(3−(アダマント−1−イルメチル)−8−ベンジルオキシ−2−エチ ルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49p m.p.225〜226℃(EtOAc)、収率21%(3工程)。 2−(8−ベンジルオキシ−3−(ビフェニル−2−イルメチル)−2−メチ ルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49q m.p.198〜200℃、収量82.7%。 2−(3−ベンジル−8−ベンジルオキシ−2−シクロプロピルインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 49r m.p.206〜207℃。収率30%。 2−(3−(p−n−ブチルベンジル)−2−エチル−8−メトキシインドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 49s m.p.195〜196℃(ベンゼン)、収率96.8%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−シクロヘキシルメチル−2−メチルインドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 49t m.p.222〜223℃(EtOAc)、収率88%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−シクロペンチルメチル−2−シクロプロピル インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 49v m.p.222〜223℃(EtOAc)、収率88%。 8−ベンジルオキシ−3−シクロペンチルカルボニル−2−シクロプロピルイ ンドリジン 47v および 8−ベンジルオキシ−3−シクロペンチルメチル −2−シクロプロピルインドリジン 48vを前述の操作によって製造し、精製 することなく次工程に用いる。 m.p.186〜187℃、収率28%。 2−(8−ベンジルオキシ−3−シクロペンチルメチル−2−メチルインドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 49w。 前述の一般操作2)によって化合物48wを製造し、さらなる精製を行うこと なく次工程に用いる。m.p.174〜175℃、収率66%。パートG: 2−(3−(置換メチル−8−ヒドロキシ−2−エチルインドリジン−1−イ ル)グリオキシルアミド 50の製造 一般操作1) 化合物35から36の製造において記載した操作にしたがって、化合物49か ら上記化合物を製造する。 一般操作2) ジクロロメタン(3当量モル)中の三臭化ホウ素の1M溶液をジクロロメタン中 の化合物49の溶液に加える。混合物を3時間から1日間撹拌する。氷水を加え る。有機相を水洗し、乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除去した後、残渣を再 結晶またはカラムクロマトグラフィーにて精製する。 他の化合物の製造: 2−(2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル)インドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 50aの製造 定量収量。1H NMR(CDCl3)δ1.25(3H,t,J=7.5Hz)、2.93 (2H,q,J=7.5Hz)、4.25(2H,s)、5.76(1H,br.s)、6.39(1H ,br.s)、6.70(1H,d,J=7.2Hz)、6.79(1H,t,J=7.1Hz)、7. 08−7.78(10H,m)、12.90(1H,s)。 他の化合物の製造: 2−(3−シクロペンチルメチル−2−エチル−8−ヒドロキシインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 50c 2−(3−シクロヘプチルメチル−2−エチル−8−ヒドロキシインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 50d 2−(2−エチル−8−ヒドロキシ−3−オキソペンチルインドリジン−1− イル)グリオキシルアミド 50e 3−(2,5−ジ−t−ブチルベンジル)−8−ヒドロキシ−2−エチルイン ドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 50h 2−(2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(チオフェン−2−イルメチル)イ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 50k m.p.163〜164℃(ヘキサン:EtOAc)、収率40%。 2−(2−エチル−8−ヒドロキシ−3−((3−チオフェン−2−イル)チ オフェン−2−イルメチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 5 0l 2−(2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(m−メトキシベンジル)インドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 50m m.p.140〜143℃、収率86%。 2−(2−エチル−8−ヒドロキシ−3−(o−ニトロベンジル)インドリジ ン−1−イル)グリオキシルアミド 50n m.p.174〜178℃(分解)、収率85%。 8−ヒドロキシ−2−エチル−3−((4−n−ペンチルシクロヘキシルメチ ル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 50o m.p.99〜100℃(ヘキサン:EtOAc)。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−ヒドロキシ−2−メチルイ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 50q m.p.129〜130℃、収量77.6%。 2−(3−ベンジル−2−シクロプロピル−8−ヒドロキシインドリジン−1 −イル)グリオキシルアミド 50r m.p.188〜190℃。収率96.7%。 2−(3−(p−n−ブチルベンジル)−2−エチル−8−ヒドロキシインド リジン−1−イル)グリオキシルアミド 50s m.p.145〜148℃(ベンゼン)、収率59.3%。 2−(3−シクロヘキシルメチル−8−ヒドロキシ−2−メチルインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 50t。パートH: 2−(8−カルボメトキシメチルオキシ−2−エチル−3−(置換メチル)イ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51の製造のための一般操作 化合物50(1ミリモル)、ブロモ酢酸メチル(1.1ミリモル)、K2CO3(3 ミリモル)、KI(0.2ミリモル)、DMF(3ml)を5時間間撹拌する。水を加 える。混合物を酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4)する 。溶媒を減圧除去した後、残渣を再結晶またはカラムクロマトグラフィーにて精 製する。 他の化合物の製造: 2−(2−エチル−8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−(o−フェニ ルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51a m.p.221〜222℃、収率54%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−シクロヘキシルメチル−2 −エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51b m.p.149〜150℃(ヘキサン−EtOAc)、49bからの収率19%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−シクロペンチルメチル−2 −エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51c m.p.158〜159℃(AcOEt)、定量収量。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−シクロヘプチルメチル−2 −エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51d m.p.147〜148℃(AcOEt)、収率79%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−オキソペンチ ルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51e m.p.140〜141℃(ヘキサン−EtOAc)、収率36%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(2−プロピ ルペンチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51f m.p.114〜115℃(ヘキサン−EtOAc)、収率84%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(ナフト−2 −イルメチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51g m.p.195〜196℃(EtOAc)、定量収率。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−(3,5−ジ−t−ブチル ベンジル−2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51h m.p.186〜187℃(EtOAc)、収率83%(2工程)。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ−2−エチル−3−(2−フェニル エチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51i m.p.175〜176℃(EtOAc)、収率47%(2工程)。 2−(3−o−ベンジルベンジル)−8−(カルボメトキシメチルオキシ)− 2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51j m.p.190〜191℃(EtOAc)、収率65%(2工程)。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(チオフェン −2−イルメチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51k m.p.182℃(ヘキサン:EtOAc)、収率75%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−((3−チオ フェン−2−イル)チオフェン−2−イルメチル)インドリジン−1−イル)グ リオキシルアミド 51l m.p.176〜177℃。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(m−メトキ シベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51m m.p.155〜157℃、収率85%。 2−(2−エチル−8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−(o−ニトロ ベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51n m.p.156〜157℃、収率96%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−((4−n− ペンチルシクロヘキシル)メチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミ ド 51o m.p.175〜176℃(ヘキサン:EtOAc)、収率92%(2工程)。 2−(3−(アダマント−1−イルメチル)−8−(カルボメトキシメチルオ キシ)−2−メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51p m.p.191〜192℃(EtOAc)、収率38%(2工程)。 2−(3−ベンジル−8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−シクロプロ ピルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51r m.p.168〜188℃。収率74.5%。 2−(3−(p−n−ブチルベンジル)−8−(カルボメトキシメチルオキシ )2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51s m.p.174〜176℃(EtOAc:ベンゼン)、収率70.9%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ−3−シクロヘキシルメチル−2− メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51t m.p.177〜178℃(ヘキサン:EtOAc)、収率68%(2工程)。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−シクロペンチルメチル−2 −シクロプロピルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51v 2−(3−シクロペンチルカルボニル−2−シクロプロピル−8−ヒドロキシ インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 50vを前述の操作によって製 造し、精製することなく次工程に用いる。 m.p.175〜176℃、収率70. 4%。 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−シクロペンチルメチル−2 −メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 51w。 他の化合物の製造: 前述の一般操作2)によって化合物50wを製造し、さらなる精製を行うこと なく次工程に用いる。m.p.149〜150℃、収率63%。パートI: 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−エチル−3−(置換メチル)インド リジン−1−イル)グリオキシルアミド 52の製造のための一般操作 化合物22の製造において記載した操作にしたがって、水酸化リチウムを用い て化合物51を加水分解する。 他の化合物の製造: 2−(2−エチル−8−(カルボキシメチルオキシ)−3−(p−フェニルベ ンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52a Mp229−234℃(分解)。収率84%。IR νmax(ニュジョール)341 7,1734,1653,1629,1496,1237cm-11H NMR(d6−DM SO)δ1.14(3H,t,J=7.5Hz)、2.83(2H,q,J=7.5Hz)、4.3 6(2H,s)、4.72(2H,s)、6.44(1H,d,J=7.5Hz)、6.70(1H, t,J=7.2Hz)、7,20(2H,d,J=8.4Hz)、7.30−7.36(2H,m) 、7.43(2H,t,J=7.5Hz)、7.55−7.64(4H,m)、7.67(1H,b r.s)、7.73(1H,d,J=6.6Hz)、12.80−13.60(1H,br.)。元素 分析(C272425・0.1H2Oとして)計算値:C70.76、H5.32、N 6.11。実測値:C70.53、H、5.40、N,6.19。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−3−シクロヘキシルメチル−2−エチル インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52b Mp224−225℃(AcOEt)。 ナトリウム塩:1H NMR(d6−DMSO)1.0−1.15(8H,m)、1.5− 1.66(6H,m)、2.6−2.7(4H,m)、4.1(2H,s)、6.46(1H,d,J =7.5Hz)、6.76(1H,dd,J=6.6,7.5Hz)、7.8(1H,d,J=6.6 Hz)。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−3−シクロペンチルメチル−2−エ チルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52c 収率43%。IR νmax(KBr)3461,2952,1703,1636,15 83,1536,1306,1262cm-1。 (C202425・0.4H2Oとして)計算値:C,63.28;H,6.58;N7. 38。実測値:C,63.25;H,6.40;N,7.28 ナトリウム塩:IR νmax(KBr)3450,1664,1618,1489cm-1。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−3−シクロヘプチルメチル−2−エチル インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52d 収率76%。IR νmax(KBr)3474,2924,1724,1623cm-1。 ナトリウム塩:IR νmax(KBr)3474,2924,1675,1618,14 93cm-1。 (C22272NaO5・1.5H2Oとして)計算値:C58.79、H6.73、N 6.23、Na5.11。実測値:C58.86、H6.70、N6.34、Na5.1 3。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−エチル−3−ペンチルインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 52e Mp232−233℃(アセトン:AcOEt)。収率37%。IR νmax(KBr) 3476,2931,1709,1638,1613cm-11H NMR(CDCl3+ CD3OD)δ0.87−0.95(3H,m)、1.19(3H,t,J=7.6Hz)、1. 32−1.62(6H,m)、2.73−2.86(4H,m)、4.74(2H,s)、6.3 6(1H,d,J=7.6Hz)、6.70(1H,dd,J=6.6,7.6Hz)、7.61(1 H,d,J=6.6Hz)。[MS]m/z360[M]+。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−エチル−3−(2−プロピルペンチ ル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52f Mp176−177℃(ヘキサン:AcOEt)。収率81%。IR νmax(KBr) 3388,2931,2871,1736,1644,1619,1237cm-11H NMR(CDCl3+CD3OD)δ0.85−0.90(6H,m)、1.15−1.5( 11H,m)、1.70(1H,m)、2.72−2.83(4H,m)、4.72(2H,s)、 6.36(1H,d,J=7.8Hz)、6.68(1H,dd,J=6.9,7.8Hz)、7.5 8(1H,d,J=6.9Hz)。[MS]m/z402[M]+。(C223025・1.1H2 Oとして)計算値:C62.57、H7.69、N6.63。実測値:C62.57、 H7.28、N6.59。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−エチル−3−(ナフト−2−イルメ チル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52g Mp236−237℃(AcOEt)。収率33%。IR νmax(KBr)3441, 1730,1643,1619,1500,1243cm-11H NMR(CDCl3+ CD3OD)δ1.25(3H,t,J=7.4Hz)、2.94(2H,q,J=7.4Hz)、 3.80(3H,s)、4.42(2H,s)、4.73(2H,s)、6.35(1H,d,J=7. 4Hz)、6.52(1H,dd,J=7.0,7.4Hz)、7.25−7.82(13H,m) 。[MS]m/z430[M]+。(C252225・0.6H2Oとして)計算値:C6 8.05、H5.30、N6.35。実測値:C67.94、H5.18、N6.33 。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−3−(3,5−ジ−t−ブチルベン ジル)−2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52h m.p.233〜234℃(ヘキサン:EtOAc)、収率43%。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(2−フェニルエ チル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52i Mp233−234℃(EtOAc)。収率48%。IR νmax(KBr)3477, 1707,1637,1491cm-11H NMR(CDCl3+CD3OD)δ1.1 3(3H,t,J=7.4Hz)、2.71(2H,q,J=7.4Hz)、2.84−2.92( 2H,m)、3.10−3.18(2H,m)、4.73(2H,s)、6.38(1H,d,J= 7.4Hz)、6.69(1H,dd,J=6.8,7.4Hz)、7.15−7.33(5H,m) 、7.60(1H,d,J=6.8Hz)。[MS]m/z394[M]+。元素分析(C2222 25として)計算値:C66.99、H5.62、N7.1。実測値:C66.85 、H5.73、N7.01。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−3−o−ベンジルベンジル−2−エ チルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52j Mp220−221℃(EtOAc)。収率42%。IR νmax(KBr)3438, 1731,1620,1494,1217cm-11H NMR(CDCl3+CD3OD )δ1.11(3H,t,J=7.4Hz)、2.72(2H,q,J=7.4Hz)、4.07( 2H,s)、4.19(2H,s)、4.69(2H,s)、6.30(1H,d,J=6.8Hz) 、6.38(1H,dd,J=6.8,7.8Hz)、6.54(1H,d,J=7.4Hz)、6. 71(1H,d,J=5.8Hz)、7.00−7.36(8H,m)。[MS]m/z470[M ]+。元素分析(C282625として)計算値:C71.48、H5.57、N5.9 5。実測値:C71.27、H5.64、N5.92。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(チオフェン−2 ーイルメチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52k Mp251−252℃(EtOAc)。収率32%。IR νmax3422,1702 ,1659,1625,1535,1494cm-11H NMR(d6−DMSO)δ1. 14(3H,t,J=6.8Hz)、2.80(2H,q,J=6.8Hz)、4.50(2H,s) 、4.71(2H,s)、6.45(1H,d,J=8.0Hz)、6.72(1H,dd,J=6. 8,8.0Hz)、6.90−6.94(2H,m)、7.29−7.32(2H,m)、7.6 7(1H,br.s)、7.82(1H,d,J=6.8Hz)。[MS]m/z386[M]+。元素 分析(C191825S・0.6H2Oとして)計算値:C57.45、H4.87、 N7.05、S8.07。実測値:C57.50、H4.71、N6.89、S8.1 1。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−((3−チオフェ ン−2−イル)チオフェン−2−イルメチル)インドリジン−1−イル)グリオ キシルアミド 52l Mp209−210℃。収率54.5%。1H NMR(d6−DMSO)δ1.11 (3H,t,J=7.4Hz)、2.75(2H,q,J=7.4Hz)、4.60(2H,s)、4 .71(2H,s)、6.45(1H,d,J=7.4Hz)、6.69(1H,dd,J=7.0, 7.4Hz)、7.20−7.34(4H,m)、7.46−7.65(4H,m)。IR νma x (KBr)3400,1645,1591cm-1。元素分析(C2320252として )計算値:C58.96、H4.30、N5.98、S13.69。実測値:C58.5 9、H4.31、N5.92、S13.45。 2−(2−エチル−8−(カルボキシメチルオキシ)−3−(m−メトキシベ ンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52m Mp219−221℃(分解)。収率80%。IR νmax(ニュジョール)331 0,3173,1703,1596,1492cm-11H NMR(d6−DMSO)δ 1.11(3H,t,J=7.5Hz)、2.80(2H,q,J=7.5Hz)、3.70(3H ,s)、4.28(2H,s)、4.71(2H,s)、6.43(1H,d,J=7.5Hz)、6. 60−6.81(4H,m)、7.18(1H,t,J=7.8Hz)、7.32(1H,br.s) 、7.63−7.72(2H,m)、12.70−13.30(1H,br)。元素分析(C22 2226・0.8H2Oとして)計算値:C62.20、H5.60、N6.59。実 測値:C62.00、H5.37、N6.54。 2−(2−エチル−8−(カルボキシメチルオキシ)−3−(o−ニトロベン ジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52n Mp208−210℃(分解)。収率69%。IR νmax(ニュジョール)335 0,1750,1600,1493,1344,1308,1235cm-11H NMR (d6−DMSO)δ1.04(3H,t,J=7.5Hz)、2.72(2H,q,J=7.5H z)、4.64(2H,s)、4.73(2H,s)、6.46(1H,d,J=7.5Hz)、6. 56−6.61(1H,m)、6.68(1H,t,J=7.5Hz)、7.36(1H,br.s) 、7.45−7.59(2H,m)、7.64−7.75(2H,m)、8.10−8.16( 1H,m)、12.80−13.40(1H,br.)。元素分析(C211937・0.3 H2Oとして)計算値:C58.55、H4.59、N9.75。実測値:C58.57 、H4.77、N9.47。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−((4−n−ペン チルシクロヘキシル)メチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52o Mp224−225℃(EtOAc)。収率59%(ナトリウム塩から)。IR νma x (KBr)3472,2922,1706,1636,1489cm-11H NMR(d6 −DMSO)δ0.70−1.80(24H,m)、2.60−2.80(4H,m)、4.7 0(2H,s)、6.41(1H,d,J=7.8Hz)、6.74(1H,dd,J=6.6,7. 8Hz)、7.29(1H,br.s)、7.62(1H,br.s)、7.89(1H,d,J=6.6 Hz)。[MS]m/z479[M+H]+,501[M+Na]+。元素分析(C263625 ・0.7H2Oとして)計算値:C66.56、H8.03、N5.97。実測値:C 66.42、H7.65、N5.93。 ナトリウム塩、収率89%。IR νmax(KBr)3469,2921,1619, 1490cm-1。1H NMR(d6−DMSO)δ0.80−1.80(24H,m)、2 .60−2.80(4H,m)、4.14(2H,s)、6.21(1H,d,J=7.8Hz)、 6.67(1H,dd,J=6.6,7.8Hz)、7.16(1H,br.s)、7.75(1H,d, J =6.6Hz)、7.90(1H,br.s)。 2−(3−(アダマント−1−イルメチル)−8−(カルボキシメチルオキシ )−2−メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52p m.p.237〜238℃(EtOAc)、収率60%。 2−(3−ベンジル−8−(カルボキシメチルオキシ)−2−シクロプロピル インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52r m.p.235〜237℃。収率74.6%。 IR νmax(ニュジョール)3414,3304,2722,2600,2530, 1727,1647(sh),1623,1605(sh)cm-11H NMR(CDCl3)δ 0.47−0.55(2H,m)、0.90−1.00(2H,m)、2.05−2.18(1 H,m)、4.43(2H,s)、4.75(2H,s)、6.27(1H,br.s)、6.41(1H ,d,J=7.6Hz)、6.59(1H,t,J=7.1Hz)、7.02−7.06(2H+ 1H,m+br.s)、7.25−7.36(4H,m)。元素分析(C222025・0.2 H2Oとして)計算値:C66.73、H5.19、N7.07。実測値:C66.77 、H5.20、N7.13。 2−(3−(p−n−ブチルベンジル)−8−(カルボキシメチルオキシ)2 −エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52s Mp217−220℃(EtOAc)。収率92.4%。IR νmax(ニュジョール) 3422,1735,1653,1630,1497cm-11H NMR(CDCl3+ CD3OD)δ0.91(3H,t,J=7.4Hz)、1.22(3H,t,J=7.5Hz)、 1.44(2H,m)、1.56(2H,m)、2.56(2H,t,J=7.8Hz)、2.88( 2H,q,J=7.5Hz)、4.21(2H,s)、4.72(2H,s)、6.35(1H,d, J=7.8Hz)、6.56(1H,t,J=6.9Hz)、6.99(1H,d,J=7.8Hz )、7.08(1H,d,J=8.1Hz)、7.40(1H,d,J=6.9Hz)。元素分析( C232623・0.1H2Oとして)計算値:C72.65、H6.94、N7.3 7。実測値:C72.57、H6.93、N7.39。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−3−シクロヘキシルメチル−2−メ チルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52t Mp235−236℃(ヘキサン:EtOAc)。IR νmax(KBr)3475,29 24,1703,1637,1602,1488,1301cm-11H NMR(d6− DMSO)δ1.00−1.80(11H,m)、2.25(3H,s)、2.75(2H,d, J=6.2Hz)、4.7(2H,s)、6.42(1H,d,J=7.4Hz)、6.75(1H ,dd,J=7.0,7.4Hz)、7.29(1H,br.s)、7.60(1H,br.s)、7.90 (1H,d,J=7.0Hz)、[MS]m/z372[M]+。元素分析(C202425・ 0.8H2Oとして)計算値:C62.10、H6.67、N7.24。実測値C62. 02、H6.40、N6.98。 ナトリウム塩、収率76%。IR νmax(KBr)3447,2923,1665, 1619,1489,1409cm-11H NMR(d6−DMSO)δ0.95−1. 75(I1H,m)、2.22(3H,s)、2.72(2H,d,J=6.3Hz)、4.15(2 H,s)、6.22(1H,d,J=7.5Hz)、6.68(1H,dd,J=6.9,7.5Hz) 、7.77(1H,d,J=6.9Hz)。[MS]m/z395[M+H]+,417[M+Na ]。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−3−シクロペンチルメチル−2−シ クロプロピルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52v Mp237−238℃。収率20%。IR νmax max(KBr)3430,295 1,1730,1647,1623,1499,1240cm-11H NMR(CDCl3 )d 0.38−0.44(2H,m)、0.78−0.90(2H,m)、1.16−1.90 (9H,m)、2.16(1H,m)、2.96(2H,d,J=7.4Hz)、4.69(2H,s) 、6.33(1H,d,J=7.8Hz)、6.69(1H,dd,J=6.6,7.8Hz)、7. 33(1H,br.s)、7.67(1H,br.s)、7.88(1H,d,J=6.6Hz)。元素分 析(C212425として)計算値:C65.61、H6.29、N7.29。実測値 :C65.33、H6.20、N7.28。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−3−シクロペンチルカルボニル−2 −メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 52w Mp249−251℃(分解)。収率85%。IR νmax(ニュジョール)347 0,3254,1704,1636,1598,1537,1488,1302cm-11 H NMR(CDCl3)d 1.16−1.31(2H,m)、1.42−1.73(6H,m) 、2.03−2.20(1H,m)、2.28(3H,s)、2.87(2H,d,J=7.5Hz )、4.71(2H,s)、6.43(1H,d,J=7.2Hz)、6.75(1H,t,J=7. 2Hz)、7.29(1H,br.s)、7.61(1H,br.s)、7.95(1H,d,J=6.9 Hz)、12.70−13.38(1H,br.s)。元素分析(C192225として)計 算値:C63.68、H6.19、N7.82。実測値:C63.42、H6.18、 N7.69。 ナトリウム塩、Mp>250℃。IR νmax(ニュジョール)3221,1677 ,1653,1499,1415cm-1。元素分析(C192125Naとして)計算値 :C60.00、H:5.57、N7.36、Na6.04。実測値:C60.28、H 5.70、N,7.30、Na6.06。 実施例6 パートA: 3−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−メチルピリジン 53の製造 テトラヒドロフラン(5ml)中のブロモ酢酸メチル(1.31g、8.56ミリモ ル)の溶液を、テトラヒドロフラン(10ml)中の3−ヒドロキシ−2−メチルピ リジン(0.793g、7.27ミリモル)、粉砕水酸化カリウム(0.768g、 11.8ミリモル)および臭化テトラブチルアンモニウムの(30mg、0.09ミ リモル)の氷冷混合物に加える。混合物を室温で1時間撹拌する。氷水を加える 。混合物をジクロロメタンで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4)し 、減圧濃縮する。残渣を、シリカゲル(25g)カラムを用いる酢酸エチル:ヘ キサンを溶離液(2:1)としたクロマトグラフィーに付し、油状物(791mg 、収率60.1%)を得る。 1H NMR(CDCl3)δ2.55(3H,s)、3.81(3H,s)、4.67(2H, s)、6.97(1H,dd,J=8.2Hz)、7.09(1H,dd,J=8.2,4.8Hz)、 8.14(1H,dd,J=1.4,4.6Hz)。 (8−カルボメトキシメチルオキシ)−2−メチルインドリジン 54aの製 造 (2−メチルピリジン−3−イルオキシ)酢酸メチルエステル(53、1.7 5g、9.66ミリモル)およびクロロアセトン(0.77ml、9.66ミリモル) を窒素下で2時間95℃で加熱する。塩にベンゼン(11ml)中のDBU(3.2m 1、21.3ミリモル)を加える。次いで、混合物を窒素下で1時間還流し、氷 水を注ぎ入れ、次いで酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4 )する。溶媒を減圧除去した後、残渣をエーテルーヘキサンから再結晶させて、 標記化合物(804mg、収率40%)を得る。 Mp59−62℃。1H NMR(CDCl3)δ2.30(3H,s)、3.80(3H, s)、4.72(2H,s)、5.82(1H,d,J=7.5Hz)、6.26(1H,t,J=6 .9Hz)、6.46(1H,s)、7.08(1H,s)、7.51(1H,d,J=6.6Hz) 。パートB: 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチルインドリジン 54bの製 造 酢酸エチル(3ml)中の1−ブロモ−2−ブタノン(470mg、3.12ミリモ ル)の溶液を、酢酸エチル(5ml)中の化合物53(565mg、3.12ミリモル) の溶液に加える。溶液を1時間加熱還流し、揮発物質を減圧留去して油状物を得 る。 1H NMR(CDCl3+CD3OD)δ1.17(3H,t,J=7.2Hz)、2.6 3(3H,s)、2.87(2H,q,J=7.2Hz)、3.84(3H,s)、5.01(2H, s)、6.16(2H,s)、7.84(1H,dd,J=8.6,6.0Hz)、8.02(1H,d d,J=8.8,1.0Hz)、8.78(1H,dd,J=6.4,1.0Hz)。 ベンゼン(5ml)中の塩とDBU(1.20g)の混合物を1時間加熱還流し、水 洗し、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮する。残渣を、シリカゲル(40g)カラ ムを用いるヘキサン:酢酸エチル(3:2)を溶離液としたクロマトグラフィー に付し、油状物(601mg、化合物53からの収率82.6%)を得る。 1H NMR(CDCl3)δ1.29(3H,t,J=7.5Hz)、2.70(2H,q,J =7.8Hz)、3.81(3H,s)、4.74(2H,s)、5.86(1H,d,J=6.9 Hz)、6.30(1H,t,J=7.1Hz)、6.51(1H,s)、7.11(1H,s)、7 .56(1H,d,J=4.2Hz)。 他の化合物の製造: (2−イソプロピルインドリジン−8−イルオキシ)酢酸メチルエステル 5 4c 前述の操作にしたがってこの化合物を製造する。収率59%、油状物。 1H NMR(CDCl3)δ1.30(6H,d,J=6.6Hz)、3.02(1H,7重 ,J=6.6Hz)、3.81(3H,s)、4.73(2H,s)、5.82(1H,d,J=7. 4Hz)、6.27(1H,t,J=7.0Hz)、6.53(1H,s)、7.12(1H,s)、 7.53(1H,d,J=7.0Hz)。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−シクロプロピルインドリジン 5 4d 前述の操作にしたがってこの化合物を製造する。収率76%、油状物。1H NMR(CDCl3)δ0.65(2H,m)、0.92(2H,m)、1.90(1H,m)、3. 81(3H,s)、4.71(2H,s)、5.82(1H,d,J=7.4Hz)、6.28(1 H,d,J=7.4Hz)、6.28(1H,t,J=7.2Hz)、6.34(1H,s)、7.1 3(1H,d,J=1.4Hz)、7.50(1H,d,J=6.8Hz)。 2−t−ブチル−8−(カルボメトキシメチルオキシ)インドリジン 54e 前述の操作にしたがってこの化合物を製造する。収率48.0%、油状物。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−シクロペンチルインドリジン 5 4f 前述の操作にしたがってこの化合物を製造する。収率14.3%、油状物。1 H NMR(CDCl3)δ1.6−2.2(8H,m)、3.11(1H,m)、3.83(3 H,s)、4.74(2H,s)、5.84(1H,d,J=7.4Hz)、6.29(1H,t,J =7.0Hz)、6.53(1H,s)、7.14(1H,s)、7.34(1H,d,J=7.2 Hz)。パートC: 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベン ゾイル)インドリジン 55bの製造 この化合物は、前記化合物46から47の製造において記載した操作にしたが って化合物54bから製造する。収率83%。 1H NMR(CDCl3)δ1.05(3H,t,J=7.5Hz)、2.07(2H,q,J =7.5Hz)、3.82(3H,s)、4.74(2H,s)、6.31(1H,d,J=7.4 Hz)、6.49(1H,d,J=0.6Hz)、6.65(1H,t,J=7.4Hz)、7.1 0−7.25(3H,m)、7.30−7.40(2H,m)、7.42−7.58(5H,m) 、9.40(1H,d,J=7.4Hz)。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−シクロヘキシルカルボニル−2− シクロプロピルインドリジン 55d この化合物は、前記化合物46から47の製造において記載した操作にしたが って化合物54dから製造する。m.p.110〜111.5℃、収率74%。パートD: 2−アルキル−8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−(置換メチル)イ ンドリジン 56を製造するための一般的操作 ベンゼン(5ml)中の化合物54(1.30ミリモル)およびヨウ化アルキル(1 .56ミリモル)の溶液を室温にて2日間静置する。酢酸エチルを加える。混合 物を炭酸水素ナトリウムで洗浄し、水洗し、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮する 。残渣をヘキサン:ベンゼン(1:2)で溶離するクロマトグラフィーに付す。他の化合物の製造: 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベン ジル)インドリジン 56bの製造 収率56%、油状物。1 H NMR(CDCl3)δ1.25(3H,t,J=7.5Hz)、2.64(2H,q,J= 7.5Hz)、3.81(3H,s)、4.11(2H,s)、4.72(2H,s)、5.80(1 H,d,J=7.2Hz)、6.17(1H,t,J=7.2Hz)、6.59(1H,s)、6.6 8(1H,d,J=7.8Hz)、6.95(1H,d,J=6.9Hz)、7.1−7.55(7 H,m)。 (3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボメトキシメチルオキシ )−2−イソプロピルインドリジン 56c m.p.115〜117℃、収率37%。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−シクロプロピル−3−(o−フェ ニルベンジル)インドリジン 56d m.p.130〜131℃(ヘキサン)、収率33%。 2−t−ブチル−8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−(o−フェニル ベンジル)インドリジン 56e m.p.155〜157℃(ヘキサン)、収率22.5%。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−シクロペンチル−3−(o−フェ ニルベンジル)インドリジン 56f m.p.145〜148℃(ヘキサン)、収率26.2%。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(m−フェニルベン ジル)インドリジン 56g 生成物は1,3−ジ置換インドリジンから単離できず、さらなる精製を行うこ となく次工程に用いる。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(3−フェニル−2 −プロペニル)インドリジン 56h 生成物は1,3−ジ置換インドリジンから単離できず、さらなる精製を行うこ となく次工程に用いる。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−シクロプロピル−3−(1−ナフ チルメチル)インドリジン 56j 生成物は1,3−ジ置換インドリジンから単離できず、さらなる精製を行うこ となく次工程に用いる。 8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−シクロヘキシルメチル−2−シク ロプロピルインドリジン 56k 収率42.8%。1H NMR(CDCl3)δ0.64−0.69(2H,m)、0.8 8−0.94(2H,m)、1.04−1.17(5H,m)、1.62−1.74(6H,m) 、1.80−1.89(1H,m)、2.80(2H,d,J=6.6Hz)、3.81(3H,s )、4.72(2H,s)、5.81(1H,d,J=6.9Hz)、6.22(1H,s)、6.3 3(1H,t,J=7.1Hz)、7.40(1H,d,J=7.2Hz)。パートE: 2−(2−アルキル−8−(カルボメトキシメチルオキシ)−3−(置換メチ ル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57を製造するための一般 的操作 この化合物は、化合物34の合成において記載した操作にしたがって化合物5 6から製造する。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボメトキシメチルオ キシ)−2−メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57aの製 造 Mp150−152℃。収率91%。IR νmax(CHCl3)3502,3390 ,1759,1695,1630cm-11H NMR(CDCl3)δ2.40(3H,s) 、3.77(3H,s)、4.12(2H,s)、4.71(2H,s)、5.65(1H,br.s) 、6.23(1H,d,J=7.4Hz)、6.44(1H,d,J=7.6Hz)、6.64(1 H,br.s)、6.81(1H,d,J=7.2Hz)、7.05(1H,d,J=7.2Hz)、7 .14−7.25(1H,m)、7.26−7.50(7H,m)。元素分析(C272425 ・0.2H2Oとして)計算値:C70.48、H5.35、N6.09。実測値:C 70.55、H5.37、N6.10。 他の化合物の製造: 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボメトキシメチルオ キシ)−2−イソプロピルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57 c m.p.124〜130℃、収率48.6%。 2−(2−t−ブチル−8−カルボメトキシメチルオキシ−3−(o−フェニ ルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57e m.p.206〜207℃(EtOAc)、収率77.6%。 2−(8−カルボメトキシメチルオキシ−2−シクロペンチル−3−(o−フ ェニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57f m.p.119〜121℃(ヘキサン)、収率77.6%。 2−(8−カルボメトキシメチルオキシ−2−エチル−3−(m−フェニルベ ンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57g m.p.204〜205℃(EtOAc)、収率11.5%。 2−(8−カルボメトキシメチルオキシ−2−エチル−3−(3−フェニル− 2−プロペニル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57h m.p.260〜262℃(EtOAc)、収率73.7%。 2−(8−カルボメトキシメチルオキシ−2−エチル−3−(3−フェニル− 2−プロパニル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57iの製造 酢酸エチル(15ml)中のオレフィン(180mg、0.428ミリモル)および1 0%パラジウム/炭素(13mg)の混合物を水素下で4時間撹拌する。触媒を濾過 し、酢酸エチルで洗浄する。濾液を減圧濃縮する。残渣を酢酸エチルから再結晶 させる。m.p.167℃、103mg、収率56.9%。 2−(8−カルボメトキシメチルオキシ−2−シクロプロピル−3−(1−ナ フチルメチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57j 非晶質、収率44.3%。 2−(8−カルボメトキシメチルオキシ−3−シクロヘキシルメチル−2−シ クロプロピルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 57k m.p.153〜157℃。収率42.8%。パートF: 2−(2−アルキル−8−(カルボキシメチルオキシ)−3−(置換メチル) インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58を製造するための一般的操 作 この化合物は、化合物57を前述したように水酸化リチウムで加水分解するこ とによって製造する。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボメトキシメチルオ キシ)−2−メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58a Mp221−224℃。収率62.1%。IR νmax(ニュジョール)3448, 3344,1735,1635(sh),1615cm-11H NMR(CDCl3)δ2. 40(3H,s)、4.14(2H,s)、4.74(2H,s)、6.38(1H,d,J=8.1 Hz)、6.54(1H,t,J=6.9Hz)、6.81(1H,d,J=7.5Hz)、7.0 5−7.53(8H,m)。元素分析(C262225・0.5H2Oとして)計算値:C 69.17、H5.13、N6.20。実測値:C69.07、H5.06、N6.1 7。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボキシメチルオキシ )−2−イソプロピルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58c Mp139−141℃。収率59%。IR νmax(CHCl3)3462,3382 ,3292,1737,1686,1639cm-11H NMR(CDCl3)δ1.32 (6H,d,J=7.0Hz)、3.42(1H,7重,J=7.0Hz)、4.19(2H,s) 、4.59(2H,s)、6.23(1H,d,J=7.4Hz)、6.45(1H,t,J=7. 0Hz)、6.69(1H,d,J=7.8Hz)、6.91(1H,br.s)、7.03−7.5 8(11H,m)。元素分析(C282625・1.3H2Oとして)計算値:C68.0 9、H5.84、N5.67。実測値:C68.02、H5.74、N5.65。 2−(2−t−ブチル−8−カルボキシメチルオキシ−3−(o−フェニルベ ンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58e Mp221−222℃(EtOAc)。定量収量。IR νmax(ニュジョール)34 17,3378,1732,1679,1650,1542,1305,1238cm-1 。1H NMR(CDCl3)δ1.39(9H,s)、4.30(2H,s)、4.65(2H, s)、6.09(1H,d,J=7.5Hz)、6.38(1H,t,J=7.2Hz)、6.67( 1H,d,J=7.5Hz)、7.08(1H,d,J=6.9Hz)、7.17(2H,m)、7. 2−7.3(2H,m)、7.35−7.5(4H,m)。元素分析(C292825・0. 6C66として)計算値:C73.68、H5.99、N5.27。実測値:C73. 53、 H6.28、N5.04。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−シクロペンチル−3−(o−フェニ ルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58f Mp147−148℃(EtOAc)。収率73.4%。IR νmax(ニュジョール) 3428,1739,1655cm-11H NMR(CDCl3)δ1.65(2H,m)、 1.79(4H,m)、1.97(2H,m)、3.42(1H,m)、4.16(2H,s)、4. 69(2H,s)、6.29(1H,d,J=7.5Hz)、6.48(1H,t,J=6.6Hz) 、6.74(1H,d,J=8.1Hz)、7.05(1H,br.s)、7.07(1H,d,J= 7.2Hz)、7.11(1H,dt,J=7.5,1.8Hz)、7.18(1H,br.s)、7. 29(2H,m)、7.4−7.55(5H,m)。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−エチル−3−(m−フェニルベンジ ル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58g Mp224−244℃(EtOAc)。収率73.5%。IR νmax(ニュジョ ール)3314,3180,1702,16001492cm-11H NMR(CDC l3+CD3OD)δ1.26(3H,t,J=7.3Hz),2.93(2H,q,J−7. 2Hz)、4.33(2H,s),4.72(2H,s),637(1H,d,J=7.4 Hz),6.59(1H,t,J=7.6Hz),7.03(1H,d,J=8.2Hz) ,7.3−7.6(9H,m)。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−エチル−3−(3−フェニル−2− プロペニル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58h Mp222−224℃(EtOAc)。収率71.3%。IR νmax(ニュジョ ール)3429,3334,1728,1644,1619,1501cm-11H N MR(CDCl3+CD3OD)δ1.23(3H,t,J=7.2Hz),2.85(2 H,q,J=7.5Hz),3.79(2H,d,J=5.4Hz),4.74(2H,s) ,6.23(1H,dt,J=15.9,5.4Hz),6.30−6.42(2H,m) ,6.67(1H,t,J=7.5Hz),7.2−7.35(5H,m),7.65(1 H,d,J=7.2Hz),元素分析(C232225として)計算値:C67.84、 H5.46、N6.89 実測値:C67.84 H5.50 N6.82。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−エチル−3−(3−フェニル−2− プロパニル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58iの製造 Mp215−217℃。収率93.1%。IR νmax(ニュジョール)3469, 3252,1703,1637,1569,1535cm-11H NMR(CDCl3) δ1.17(3H,t,J=7.8Hz),1.91(2H,m),2.7−2.9(6H ,m)4.71(2H,s),6.35(1H,d,J=7.5Hz),6.64(1H, t,J=6.6Hz),7.2−7.45(6H,m),元素分析(C232425・0 .4H2Oとして)計算値:C66.46、H6.01、N6.74 実測値:C66.3 2 H5.88 N6.72。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−2−シクロプロピル−3−(1−ナフチ ルメチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58j Mp205−207℃(EtOAc)。収率70.7%。IR νmax(ニュジョ ール)3439,3341,1737,1648,1621,1597,1495cm-1 1H NMR(CDCl3)δ0.48(2H,m),0.88(2H,m),2.13( 1H,m),4.76(2H,s),4.81(2H,s,),6.72(1H,d,J=7 .2Hz),6.55(1H,t,J=7.2Hz),6.30(1H,br.s),7.0 7(1H,br.s),7.2−7.3(2H,m),7.55−7.7(2H,m),7. 76(1H,d,J=7.8Hz),7.76(1H,d,J=7.8Hz),7.94( 1H,d,J=6.9Hz),8.25(1H,d,J=8.4Hz),元素分析(C262225・0.4H2Oとして)計算値:C69.45、H5.11、N6.23 実測 値:C69.33 H5.14 N6.21。 2−(8−カルボキシメチルオキシ−3−シクロヘキシルメチル−2−シクロ プロピルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 58k Mp229−234℃。収率79%。IR νmax(ニュジョール)3434,33 34,1731,1650(sh),1620,1593cm-11H NMR(CDCl3) δ0.41−0.46(2H,m)、0.91−1.01(2H,m)、1.08−1.79( 11H,m)、1.89−2.05(1H,m)、2.85(2H,d,J=6.6Hz)、4.7 3(2H,s)、6.38(1H,d,J=7.4Hz)、6.59(1H,br.s)、6.71(1 H, t,J=7.2Hz)、7.00(1H,br.s)、7.59(1H,d,J=7.0Hz)。パートG−1: 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル−8−(カルボキシメチルオキシ) −2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド・ナトリウム塩 5 9aの製造 m.p.>250℃、収率86%。IRνmax(ニュジョール)3240、16 44、1496、1409、1277cm-1他の化合物の製造: 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル−8−(1−メトキシカルボニルオ キシエトキシカルボニルメトキシ)−2−エチルインドリジン−1−イル)グリ オキシルアミド 59b 収率20%。IRνmax(CHCl3)3500、3390、1764、1 731、1697、1630cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル−8−(1−イソプロピルオキシカ ルボニルオキシエトキシカルボニルメトキシ)インドリジン−1−イル)グリオ キシルアミド 59c 収率44%。IRνmax(CHCl3)3674、3500、3390、1 755、1693、1631cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル−8−(t−ブトキシカルボニルメ チルオキシカルボニルメチルオキシ)−2−エチルインドリジン−1−イル)グ リオキシルアミド 59d m.p.102〜104℃。収率36%。IRνmax(ニュジョール)3408、 3306、3169、1771、1692、1672、1630、1603cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル−8−(1−シクロヘキシルオキシ カルボニルエチルオキシカルボニルメチルオキシ)−2−エチルインドリジン− 1−イル)グリオキシルアミド 59e m.p.80〜82℃(分解)、収率57%。IRνmax(ニュジョール)347 1、3356、1753、1693、1630、1496、1261、1077 cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル−8−(1−シクロペンチルオキシ カルボニルオキシメチルオキシ−カルバモアンカルボニル−2−エチルインドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 59f m.p.80〜85℃。収率35%。IRνmax(CHCl3)3666、34 98、3390、1754、1694、1629cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル−8−(1−シクロペンチルオキシ カルボニルオキシエチルオキシカルボニルメチルオキシ)−2−エチルインドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 59g m.p.74〜80℃。収率25%。IRνmax(CHCl3)3674、35 00、3390、1760(sh)、1745、1695、1628cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル−2−エチル−8−(1−メチルシ クロペンチルオキシカルボニルエチルオキシカルボニルーメチルオキシ)インド リジン−1−イル)グリオキシルアミド 59h 収率15.7%。IRνmax(CHCl3)3500、3390、1772 、1737、1694、1631cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−2−エチル−8−(2−モルホ リノエチルオキシカルボニルメチルオキシ)インドリジン−1−イル)グリオキ シルアミド 59i m.p.113〜120℃(分解)、収率75%。IRνmax(ニュジョール) 3367、1754、1679、1628、1535、1494、1309、1 197cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボキシメチルオキシ )−2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド・ジグリコレート 59j m.p.185〜188℃、収率59%。IRνmax(ニュジョール)3441 、3228、1762、1685、1643、1501、1200cm-1。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−2−エチル−8−(2−オキソ プロピルオキシカルボニルメトキシ)インドリジン−1−イル)グリオキシルア ミド 59k m.p.159〜162℃、収率77%。IRνmax(ニュジョール)3417 、3302、3169、1727、1691、1672、1630、1601、 1306cm-1パートG−2: 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−2−エチル−8−(置換メチル オキシ)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 59l〜pを製造する ための一般的操作 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−2−エチル−8−(ヒドロキシ メチルオキシ)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 36dを、化合 物50から51の製造において記載した操作にしたがって処理する。他の化合物の製造: 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−2−エチル−8−(1−トリテ トラゾール(5−イル)メチルオキシ)インドリジン−1−イル)グリオキシル アミド 59l m.p.119〜121℃、収率66%。IRνmax(ニュジョール)3439 、3363、3166、1734、1685、1607、1495、1249cm-1 。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−2−エチル−8−(1H−テト ラコール−5−イルメチルオキシ)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミ ド 59m m.p.206〜209℃(分解)、収率60%。IRνmax(ニュジョール) 3488、3437、3322、1681、1631、1530、1496、1 309cm-1。 2−(3−ビフェニル−2−イルメチル−2−メチル−8−(ピリジン−2− イルメトキシ)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 59n m.p.196〜197℃(ヘキサン−AcOEt)、収率4.2%。 2−(3−ビフェニル−2−イルメチル−2−メチル−8−(ピリジン−4− イルメトキシ)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 59o m.p.195〜197℃(ヘキサン−AcOEt)、収率3.4%。 2−(3−ビフェニル−2−イルメチル−2−メチル−8−(キノリン−2− イルメトキシ)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 59p m.p.165〜167℃(ヘキサン−AcOEt)、収率3.4%。 実施例7 パートA: 2−エチル−7−メトキシインドリジン 61aおよび2−シクロプロピル− 7−メトキシインドリジン 61bの製造 化合物44から45の製造において記載した操作にしたがって、4−メトキシ ピコリンを処理する。 61a:収率29.4%。IR νmax(KBr)2962,1648cm-11H NM R(CDCl3)δ1.27(3H,t,J=7.2Hz)、2.67(2H,q,J=7.4Hz) 、3.77(3H,s)、6.06(1H,s)、6.14(1H,dd,J=7.6,2.6Hz), 6.52(1H,d,J=2.4Hz)、6.94(1H,s)、7.66(1H,d,J=7.6 Hz)。m/z175.0982[M]+。 61b:Mp101−102℃(ヘキサン)。収率27.3%。IR νmax(KBr) 3073,3059,2994,2963,2939,2829,1649cm-11H NMR(CDCl3)δ3.76(3H,s)、5.12(1H,s)、6.13(1H,dd,J= 2.7,7.2Hz)、6.49(1H,d,J=2.7Hz)、6.95(1H,d,J=1.2 Hz)、7.64(1H,d,J=7.2Hz)。元素分析(C1213NOとして)計算値: C76.98、H7.00、N7.48。実測値:C76.81、H7.09、N7. 47。パートB: 2−アルキル−7−メトキシ−3−(置換カルボニル)インドリジン 62の 製造 化合物17から18の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物61を化合物62に変換する。 3−ベンゾイル−2−エチル−7−メトキシインドリジン 62a Mp105−106℃(ヘキサン)。収率70.5%。IR νmax(KBr)305 7,2966,2926,2868,1645cm-11H NMR(CDCl3)δ1.0 2(3H,t,J=7.5Hz)、2.17(2H,q,J=7.5Hz)、3.88(3H,s)、 6.23(1H,s)、6.54(1H,dd,J=2.7,7.8Hz)、6.72(1H,d,J =2.1Hz)、7.40−7.49(3H,m)、7.56−7.60(2H,m)、9.67 (1H,d,J=7.5Hz)。元素分析(C1817NO2・0.5H2Oとして)計算値: C74.98、H6.29、N4.86。実測値:C74.77、H6.10、N5. 02。他の化合物の製造: 2−シクロプロピル−7−メトキシ−3−(o−フェニルベンゾイル)インド リジン 62b 黄色油状物、定量収量。1H NMR(CDCl3)δ0.48−0.69(2H,m) 、1.11(1H,m)、3.82(3H,s)、5.71(1H,s)、6.45(1H,dd,J =2.8,7.6Hz)、6.57(1H,d,J=2.6Hz)、7.15−7.54(9H,m )、9.76(1H,d,J=7.6Hz)。 2−エチル−7−メトキシ−3−(o−フェニルベンゾイル)インドリジン 62c m.p.140〜141℃(エーテル)、収率90.2%。 3−シクロヘキシルカルボニル−2−エチル−7−メトキシインドリジン 6 2d m.p.112〜113℃(ヘキサン)、収率41.1%。パートC: 2−アルキル−7−メトキシ−3−(置換メチル)インドリジン 63の製造 化合物47から48の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物63を化合物64に変換する。他の化合物の製造: 3−ベンジル−2−エチル−7−メトキシインドリジン 63a 非晶質固体、収率22.0%。IRνmax(KBr)3002、2956、 2926、1646cm-1。 2−シクロプロピル−7−メトキシ−3−(o−フェニルベンジル)インドリ ジン 63b m.p.109〜110℃(ヘキサン)、収率44.3%。 2−エチル−7−メトキシ−3−(o−フェニルベンジル)インドリジン 6 3c m.p.100〜101℃(ヘキサン)、収率39.2%。IRνmax(KBr )2964、2927、1645cm-1。 3−シクロヘキシルメチル−2−エチル−7−メトキシインドリジン 63d 非晶質黄色固体、収率48.2%。IRνmax(CHCl3)2988、2 956、2920、2846、1645cm-1パートD: (2−アルキル−7−メトキシ−3−(置換メチル)インドリジン−1−イル )グリオキシルアミド 64の製造 化合物48から49の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物63を化合物64に変換する。他の化合物の製造: 2−(3−ベンジル−2−エチル−7−メトキシインドリジン−1−イル)グ リオキシルアミド 64a 非晶質固体、収率78.9%。IRνmax(KBr)3500、3386、 3004、2962、1689、1644、1601cm-11H NMR(CDCl3) δ1.23(3H,dt,J=7.5,1.2Hz)、2.98(2H,q,J=7.8Hz)、3. 87(3H,s)、4.21(2H,s)、5.57(1H,br.s)、6.42(1H,dd,J= 2.7,7.5Hz)、6.79(1H,br.s)、7.08(1H,d,J=6.9Hz)、7.2 1(3H,m)、7.51(1H,d,J=7.5Hz)、7.82(1H,d,J=2.7Hz)。 2−(2−シクロプロピル−7−メトキシ−3−(o−フェニルベンジル)イ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 64b m.p.194〜195℃(ヘキサン)、収率50.1%。 2−(2−エチル−7−メトキシ−3−(o−フェニルベンジル)インドリジ ン−1−イル)グリオキシルアミド 64c m.p.100〜106℃(ベンゼン−ヘキサン)、収率75.9%。 2−(3−シクロヘキシルメチル−2−エチル−7−メトキシインドリジン− 1−イル)グリオキシルアミド 64d m.p.178〜180℃(THF−ヘキサン)、収率50.4%。パートE: 2−(2−アルキル−7−ヒドロキシ−3−(置換メチル)インドリジン−1 −イル)グリオキシルアミド 65の製造 化合物49から50の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物64を化合物65に変換する。他の化合物の製造: 2−(3−ベンジル−2−エチル−7−ヒドロキシインドリジン−1−イル) グリオキシルアミド 65a BBr3法。非晶質固体、収率49%。1H NMR(CDCl3)δ1.11(3H,t, J=7.2Hz)、2.86(2H,t,J=7.2Hz)、4.24(2H,s)、6.52(1 H,dd,J=2.1,7.5Hz)、7.08−7.30(6H,m)、7.43(1H,d,J= 2.4Hz)、7.51(1H,s)、7.92(1H,d,J=6.9Hz)、7.98(1H,s)。 2−(2−シクロプロピル−7−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル) インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 65b 非晶質固体、収率12.6%。1H NMR(CDCl3)δ0.50−0.54(2 H,m)、0.86−0.91(2H,m)、2.26(1H,m)、4.21(2H,s)、6.4 0(1H,dd,J=2.4,7.2Hz)、6.79(1H,d,J=8.0Hz)、7.08− 7.51(9H,m)、7.67(1H,d,J=2.8Hz)。 2−(2−エチル−7−ヒドロキシ−3−(o−フェニルベンジル)インドリ ジン−1−イル)グリオキシルアミド 65c m.p.125〜129℃(ベンゼン−ヘキサン)、収率36.9%。 2−(3−シクロヘキシルメチル−2−エチル−7−ヒドロキシインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 65d 非晶質固体、収率28.0%。1H NMR(CDCl3+CD3OD)1.00− 1.20(5H,m)、1.17(3H,t,J=7.2Hz)、1.44−1.76(6H,m) 、2.64(2H,d,J=7.2Hz)、2.83(2H,m)、6.60(1H,dd,J=2. 1,6.9Hz)、7.49(1H,br.s)、7.77(1H,d,J=7.2Hz)。パートF: 2−(2−アルキル−7−(3−カルベトキシプロピルオキシ)−3−(置換 メチル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 66の製造 化合物50から51の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物65を化合物66に変換する。他の化合物の製造: 2−(3−ベンジル−7−(3−カルベトキシプロピルオキシ)−2−エチル インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 66a Mp146−149℃。収率54.0%。IR νmax(KBr)3430,3170 ,2958,2928,1731,1674,1645cm-11H NMR(CDCl3) δ1.22(3H,t,J=7.5Hz)、1.25(3H,t,J=7.2Hz)、2.13(2 H,m)、2.49(2H,q,J=7.2Hz)、2.97(2H,q,J=7.5Hz)、4.0 8(2H,t,J=6.3Hz)、4.14(2H,q,J=7.2Hz)、4.21(2H,s)、 5.56(1H,br.s)、6.40(1H,dd,J=2.7,7.2Hz)、6.78(1H,br .s)、7.08(2H,d,J=7.8Hz)、7.21−7.29(3H,m)、7.50(1 H,d,J=7.2Hz)、7.78(1H,d,J=2.7Hz)。元素分析(C252823 ・0.2H2Oとして)計算値:C68.23、H6.50、N6.37。実測値:C 68.30、H6.52、N6.52。 2−(7−(3−カルベトキシプロピルオキシ)−2−シクロプロピル−3− (o−フェニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 66 b 非晶質固体、収率84.2%。1H NMR(CDCl3)δ0.47−0.52(2 H,m)、0.85−0.91(2H,m)、1.25(3H,t,J=6.9Hz)、2.08− 2.17(3H,m)、2.48(2H,td,J=7.2Hz)、4.06(2H,t,J=6.3 Hz)、4.14(2H,q,J=6.9Hz)、4.23(2H,s)、5.52(1H,br.s) 、6.35(1H,dd,J=2.7,7.5Hz)、6.58(1H,br.s)、6.67(1H, d,J=7.2Hz)、7.11−7.54(9H,m)、7.72(1H,d,J=2.1Hz) 。 2−(7−(3−カルベトキシプロピルオキシ)−2−エチル−3−(o−フ ェニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 66c m.p.131〜133℃(ベンゼン−ヘキサン)、収率70.9%。 2−(7−(3−カルベトキシプロピルオキシ)−3−シクロヘキシルメチル −2−エチル−ヒドロキシインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 66 d m.p.150〜151℃。、収率87.0%。パートG: 2−(2−アルキル−7−(3−カルボキシプロピルオキシ)−3−(置換メ チル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 67の製造 化合物51から52の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物66を化合物67に変換する。他の化合物の製造: 2−(3−ベンジル−7−(3−カルボキシプロピルオキシ)−2−エチルイ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 67a Mp178−183℃(分解)。収率77.0%。IR νmax(KBr)3700− 2400,3085,2925,1710,1644cm-11H NMR(CDCl3) δ1.22(3H,t,J=7.5Hz)、2.14(2H,t,J=6.9Hz)、2.97(2 H,q,J=7.5Hz)、4.11(2H,t,J=6.3Hz)、4.20(2H,s)、6.3 8(1H,br.s)、6.41(1H,dd,J=7.2,2.4Hz)、6.96(2H,br.s)、 7.08(2H,d,J=6.9Hz)、7.23−7.26(3H,m)、7.51(1H,d, J=7.5Hz)、7.75(1H,d,J=2.7Hz)。元素分析(C232423・0 .3H2Oとして)計算値:C66.75、H5.99、N6.77。実測値:C66. 71、H5.91、N6.77。 2−(7−(3−カルボキシプロピルオキシ)−2−シクロプロピル−3−( o−フェニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 67b Mp112−121℃(分解)。収率69.6%。IR νmax(KBr)3700− 2400,3081,3019,2927,1710,1644cm-11H NMR( CDCl3)δ0.50(2H,m)、0.88(2H,m)、2.49(2H,t,J=6.3Hz )、4.10(2H,m)、4.23(2H,s)、6.37(1H,d,J=6.9Hz)、6.6 7(1H,d,J=7.5Hz)、7.11−7.54(9H,m)、7.74(1H,s)。元素 分析 (C302825・1.2H2Oとして)計算値:C69.54、H5.91、N5.4 1。実測値:C69.43、H5.93、N5.35。 2−(7−(3−カルボキシプロピルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェ ニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 67c Mp112−116℃(分解)。収率67.0%。IR νmax(KBr)3700− 2400,2967,2931,1709,1644cm-11H NMR(CDCl3) δ1.19(3H,t,J=7.5Hz)、2.17(2H,br.t)、2.53(2H,br.t)、 2.92(2H,q,J=7.2Hz)、4.07(2H,br.s)、6.35(1H,dd,J=1 .8,7.5Hz)、6.79(1H,d,J=7.5Hz)、6.98(1H,br.s)、7.12 −7.31(4H,m)、7.42-7.53(5H,m)、7.70(1H,br.s)。元素分析 (C292825・0.9H2Oとして)計算値:C69.56、H6.00、N5.5 9。実測値:C69.57、H5.87、N5.44。 2−(7−(3−カルボキシプロピルオキシ)−3−シクロヘキシルメチル−2 −エチル−ヒドロキシインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 67d Mp201−202.5℃。収率92.4%。IR νmax(KBr)3700−24 00,2923,2849,1716,1646cm-11H NMR(CDCl3)δ0. 95−1.19(5H,m)、1.17(3H,t,J=7.2Hz)、1.43−1.75(6 H,m)、2.14(2H,m)、2.53(2H,t,J=7.2Hz)、2.65(2H,d,J =6.9Hz)、2.86(2H,q,J=7.5Hz)、4.12(2H,t,J=6.3Hz) 、6.57(2H,dd,J=2.4,7.5Hz)、7.68(1H,d,J=2.4Hz)、7. 75(1H,d,J=7.5Hz)。元素分析(C233025・0.3H2Oとして)計 算値:C65.79、H7.36、N6.78。パートH−1: 2−(7−(カルボキシメチレンオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニル ベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 69,70,71 1)化合物50から51の製造において記載した操作にしたがって、インドリ ジン化合物50aまたは65cを化合物68に変換する。他の化合物の製造: 2−(8−(3−カルボメトキシプロピルオキシ)−2−エチル−3−(o− フェニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 68a Mp126−127℃。収率42%。IR νmax(ニュジョール)3396,32 21,1737,1725,1698,1639,1310,1188cm-11H NM R(CDCl3)δ1.13−1.34(6H,m)、2.17(2H,5重,J=6.9Hz) 、2.54(2H,t,J=7.4Hz)、2.79(2H,q,J=7.6Hz)、4.03− 4.20(6H,m)、5.66(1H,br.s)、6.31(1H,d,J=7.4Hz)、6. 46(1H,t,J=7.2Hz)、6.70−6.84(2H,m)、7.02(1H,d,J= 6.4Hz)、7.08−7.20(1H,m)、7.21−7.35(2H,m)、7.37− 7.58(5H,m)。元素分析(C313225・0.5H2Oとして)計算値:C71 .38、H6.38、N5.37。実測値:C71.12、H6.57、N5.00。 2−(7−(カルボエトキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニ ルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 68b Mp119−121℃(THF−ヘキサン)。収率86.6%。IR νmax(KBr )3434,3356,3180,3060,2969,2929,1765,1682 ,1643,1627cm-11H NMR(CDCl3)δ1.20(3H,t,J=7. 5Hz)、1.32(3H,t,J=7.2Hz)、2.94(2H,q,J=7.5Hz)、4. 09(2H,s)、4.29(2H,q,J=7.2Hz)、4.66(2H,s)、5.50(1 H,br.s)、6.48(1H,dd,J=2.4,7.5Hz)、6.77(1H,br.s)、6. 79(1H,d,J=7.8Hz)、7.75(1H,d,J=7.8Hz)。元素分析(C292825・0.3H2Oとして)計算値:C71.09、H5.88、N5.72。実 測値:C71.11、H6.02、N5.86。 2−(7−(5−カルボエトキシペンチルオキシ)−2−エチル−3−(o− フェニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 68c Mp122−123℃(MeOH−Et2O−ヘキサン)。収率81.0%。IR νmax(KBr)3406,3351,3207,2967,2931,2871,172 4,1684,1645cm-11H NMR(CDCl3)δ1.20(3H,t,J=7 .5Hz)、1.25(3H,t,J=7.2Hz)、1.77−1.85(4H,m)、2.37 (2H,t,J=6.9Hz)、2.93(2H,q,J=7.5Hz)、4.03(2H,t,J =5.8Hz)、4.08(2H,s)、4.12(2H,q,J=7.5Hz)、5.57(1H ,br.s)、6.35(1H,dd,J=2.7,7.5Hz)、6.76(1H,br.s)、6.8 0 (1H,d,J=7.8Hz)、7.12−7.32(4H,m)、7.40−7.54(5H, m)。元素分析(C323425・0.3H2Oとして)計算値:C72.24、H6. 55、N5.27。実測値:C72.16、H6.55、N5.40。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボキシプロピルオキ シ)−2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 69a Mp185−187℃。収率71%。IR νmax(ニュジョール)3475,17 29,1666,1628,1497,1308cm-11H NMR(CDCl3)δ1. 19(3H,t,J=7.5Hz)、2.19(2H,5重,J=7.3Hz)、2.51(2H ,t,J=7.5Hz)、2.80(2H,q,J=7.5Hz)、4.04−4.16(4H,m) 、6.34(1H,d,J=7.5Hz)、6.48(1H,t,J=7.2Hz)、6.79(1 H,d,J=7.8Hz)、6.94−7.06(2H,m)、7.10−7.19(1H,m)、 7.22−7.34(2H,m)、7.38−7.55(6H,m)。元素分析(C29282 5・0.3H2Oとして)計算値:C71.09、H5.88、N5.72。実測値: C70.87、H5.83、N5.75。 2−(7−(カルボキシメチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニルベ ンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 69b m.p.226℃(分解)、収率81.0%。 2−(7−(5−カルボキシペンチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェ ニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 69c m.p.84〜94℃(分解)、収率72.0%。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボキシエチルオキシ )−2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 70a Mp185−187℃。収率11%。IR νmax(ニュジョール)3388,32 15,1730,1644,1600,1585,1498cm-11H NMR(d6− DMSO)δ0.99(3H,t,J=7.5Hz)、2.63(2H,q,J=7.2Hz)、 2.81(2H,t,J=6.9Hz)、4.16(2H,s)、4.23(2H,t,J=6.9 Hz)、6.56−6.63(2H,m)、6.67(1H,t,J=7.2Hz)、7.13− 7.22(1H,m)、7.24−7.34(3H,m)、7.35−7.49(2H,m)、7. 50−7.59(4H,m)、7.63(1H,br.s)。他の化合物の製造: 2−(7−(カルボキエトキシエチルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェ ニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 70b テトラヒドロフラン(4ml)中の化合物65c(133.7mg、0.336ミリ モル)およびカリウムt−ブトキシド(37.6mg、0.336ミリモル)の溶液 に、窒素下にてプロピオラクトン(25mg、0.336ミリモル)を滴下する。混 合物を21時間撹拌する。水を加える。混合物を酢酸エチルで洗浄する。水相を 塩酸で酸性化する。沈殿を濾取して化合物70b(96.2mg、収率60.9%) を得る。 Mp99−108℃(分解)。IR nmax(KBr)3700−2400,3182, 2968,2931,1719,1677,1644cm-11H NMR(CDCl3) δ1.19(3H,t,J=7.5Hz)、2.80(2H,t,J=6.3Hz)、2.92(2 H,q,J=7.5Hz)、4.08(2H,s)、4.30(2H,t,J=6.3Hz)、6.3 5(1H,dd,J=2.7,7.8Hz)、6.84(1H,d,J=7.8Hz)、7.12− 7.53(9H,m)、7.72(1H,d,J=2.7Hz)。元素分析(C282625・ 1.2H2Oとして)計算値:C68.34、H5.82、N5.69。実測値:C68 .40、H5.76、N5.43。 2−(3−(ビフェニル−2−イルメチル)−8−(カルボメトキシエチルオ キシ)−2−エチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 70c Mp159−162℃。収率6%。IR νmax(ニュジョール)3434,332 3,1739,1709,1621,1497cm-11H NMR(CDCl3)δ1.1 8(3H,t,J=7.5Hz)、2.79(2H,q,J=7.5Hz)、2.89(2H,t,J =6.3Hz)、3.73(3H,s)、4.11(2H,s)、4.36(2H,t,J=6.3 Hz)、5.45(1H,br.s)、6.36(1H,d,J=7.8Hz)、6.48(1H,t, J=7.2Hz)、6.70(1H,br.s)、6.78(1H,d,J=7.5Hz)、7.03 (1H,d,J=6.9Hz)、7.11−7.19(1H,m)、7.22−7.33(2H,m )、7.39−7.55(5H,m)。元素分析(C292825・0.3H2Oとして) 計 算値:C71.09、H5.88、N5.72。実測値:C70.93、H6.05、 N5.50。パートH−2: 2−(7−(3−カルベトキシプロピルオキシ)−2−エチル−3−(o−フ ェニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 71aの製造 氷冷したトルエン(10ml)中の三塩化アルミニウム(125mg、0.097ミ リモル)の混合物に、ホウ素−t−ブチルアミン錯体(125mg、1.44ミリモ ル)を加える。混合物を0℃で10分間撹拌する。該溶液に、トルエン(5ml)中 のグリオキシルアミド(66c、246mg、0.48ミリモル)の溶液を加える。 溶液を60℃で2時間加熱する。冷却後、溶液に氷冷希塩酸を加える。混合物を ジクロロメタンで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮す る。残渣を、酢酸エチル:ヘキサン(4:1)で溶離するシリカゲルクロマトグ ラフィーに付し、ヘキサンから再結晶させる(190mg、収率79.4%)。m.p. 128〜130℃。 IR νmax(KBr)3458,3132,2964,2932,1730,1682 ,1648cm-11H NMR(CDCl3)δ1.11(3H,t,J=7.5Hz)、1. 26(3H,t,J=7.2Hz)、2.10(2H,m)、2.48(2H,t,J=7.2Hz) 、2.59(2H,q,J=7.5Hz)、3.64(2H,s)、3.94(2H,t,J=6. 3Hz)、4.10(2H,s)、4.14(1H,q,J=7.2Hz)、5.42(1H,br.s )、5.63(1H,br.s)、6.06(1H,dd,J=7.5,2.4Hz)、6.44(1H ,d,J=2.4Hz)、6.68(1H,d,J=7.5Hz)、7.07−7.51(9H,m) 。元素分析(C313424・0.6H2Oとして)計算値:C73.09、H6.9 6、N5.50。実測値:C73.05、H7.00、N5.49。 2−(7−(3−カルボキプロピルオキシ)−2−エチル−3−(o−フェニ ルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 71bの製造 m.p.105〜120℃(分解)、収率62.0%。 実施例8 パートA: 2−(3−ベンジルオキシピリジニウム)−3−チオニウムヘプト−4−チア −2−エノエート 73の製造 ベンゼン(85ml)中のベンジルオキシピリジン(21.73g、0.117モル )およびブロモ酢酸エチル(19.6g、0.117モル)の溶液を65℃で2時間 撹拌し、減圧濃縮する。残渣を酢酸エチルで洗浄する。水性水酸化ナトリウム( 11.80g、0.295モル、35ml)の溶液を、残渣、二硫化炭素(10.8g 、0.142モル)、水(24ml)およびエタノール(120ml)の溶液に滴下する 。混合物を30分撹拌する。エチルアクリレート(11.8g、0.118モル) を滴下する。混合物を1時間撹拌する。氷水を加える。固体を濾取し、水で洗浄 し、乾燥し(10.9g、収率20.8%)、クロロホルム−エーテルから再結 晶させる。m.p.162〜164℃。 IR νmax(ニュジョール)1719,1644cm-11H NMR(CDCl3)δ 1.16(3H,t,J=6.9Hz)、1.26(3H,t,J=7.2Hz)、2.80(2H ,t,J=7.5Hz)、3.58(2H,t,J=7.5Hz)、4.13(2H,q,J=6.9 Hz)、4.15(2H,q,J=7.2Hz)、5.21(2H,s)、7.42(5H,s)、7 .73(1H,dd,J=9.0,6.0Hz)、7.87(1H,ddd,J=8.7,2.4,1. 2Hz)、8.12(1H,dt,J=6.0,1.2Hz)、8.22(1H,dd,J=2.1, 0.9Hz)。元素分析(C2225NO52・0.05CHCl3・0.3H2Oとして) 計算値:C57.51、H5.63、N3.05、S13.97、C11.16。実測 値:C57.59、H5.52、N3.18、S14.08、Cl1.14。パートB: 8−および6−ベンジルオキシ−1,3−ジカルベトキシ−2−(2−カルベ トキシエチルチオ)インドリジン・トリエチル 74a+74bの製造 クロロホルム(40ml)中のブロモ酢酸エチル(2.70g、16.2ミリモル) の溶液を3日間静置し、氷冷する。DBU(2.47g、16.2ミリモル)およ びクロラニル(3.32g、13.5ミリモル)の溶液を加える。混合物を0℃で 6時間撹拌し、クロロホルムで溶離するシリカゲルクロマトグラフィーに付し、 化合物62aおよび62bの約10:1の混合物(6.0g、収率89.1%)を 油状物で得る。パートC: 8−および6−ベンジルオキシ−1,3−ジカルベトキシ−2−メルカプトイ ンドリジン・ジエチル 75a+75bの製造 DMF(25ml)中のエステル(74a+b9.88g、19.8ミリモル)の 溶液に、カリウムt−ブトキシド(2.73g、24.3ミリモル)を少量ずつ加 える。混合物を50℃で5時間撹拌する。氷水、次いで希塩酸を加える。混合物 を酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮する 。残渣を、ヘキサン:酢酸エチル(2:1)で溶離するシリカゲルクロマトグラ フィーに付す。Rf値の大きい画分と小さい画分の両方をベンゼン−ヘキサンか ら結晶化させる。 75a(Rf値の大きい画分): Mp125−127℃。1.12g(16.7%)。IR νmax(ニュジョール)16 61,1508cm-11H NMR(CDCl3)δ1.46(3H,t,J=6.9Hz)、 1.48(3H,t,J=7.5Hz)、4.42(2H,q,J=6.9Hz)、4.46(2H ,q,J=7.2Hz)、5.09(2H,s)、7.04(1H,s)、7.15(1H,dd,J= 9.9,2.4Hz)、7.3−7.55(5H,m)、8.09(1H,dd,J=9.6,0.6 Hz)、9.41(1H,s)。元素分析(C2121NO5Sとして)計算値:C63.14 、H5.30、N3.51、S8.03。実測値:C62.98、H5.42、N3. 50、S7.97。 75b(Rf値の小さい画分):m.p.81〜82℃、4.59g(収率58. 1%)。IRνmax(ニュジョール)1686、1655、1543、1493 cm-1パートD: 8−ベンジルオキシ−1,3−ジカルベトキシ−2−メチルチオインドリジン 76の製造 DMF(4ml)中のチオール(75a、690mg、1.73ミリモル)の溶液に、 窒素下、氷冷しながら60%水素化ナトリウムを加える。DMF(1ml)中のヨー ドメタン(295mg、2.08ミリモル)の溶液を、氷冷しながら該混合物に滴下 する。混合物を室温で2時間撹拌し、希塩酸で酸性化し、酢酸エチルで抽出する 。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮する。残渣を、ヘキサン:酢 酸エチル(5:1〜3:2)で溶離するシリカゲルクロマトグラフィーに付して 、油状物(732mg、定量収量)を得る。 1H NMR(CDCl3)δ1.13(3H,t,J=6.9Hz)、1.45(3H,t,J =7.2Hz)、2.47(3H,s)、4.00(2H,q,J=7.2Hz)、4.45(2H ,q,J=7.5Hz)、5.13(2H,s)、6.46(1H,d,J=7.5Hz)、6.70 (1H,t,J=7.2Hz)、7.3−7.5(5H,m)、9.06(1H,dd,J=6.9, 0.6Hz)。パートE: 8−および6−ベンジルオキシ−2−メチルチオインドリジン 78の製造 DMSO(5ml)中のジエステル(76、337mg、0.815ミリモル)の溶液 に、水酸化カリウムの10%水溶液(5ml)を加える。混合物を8時間加熱還流す る。冷却後、混合物を氷冷しながら希塩酸で酸性化し、酢酸エチルで抽出する。 抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮して化合物77と78の混合物 を得る。 トルエン(5ml)中の固体を1時間加熱還流し、減圧濃縮する。残渣を、ヘキサ ン:酢酸エチル(5:1)で溶離するシリカゲル(25g)クロマトグラフィーに 付す(191mg、収率87.0%)。m.p.94℃。 IR νmax(ニュジョール)1541,750cm-11H NMR(CDCl3)δ2 .47(3H,s)、5.17(3H,s)、6.03(1H,d,J=7.4Hz)、6.34(1 H,t,J=7.2Hz)、6.61(1H,dd,J=1.8,1.0Hz)、7.22(1H,d, J=1.6Hz)、7.3−7.5(6H,m)。元素分析(C1615NOS・0.05C6 6として)計算値:C71.80、H5.43、N5.14、S11.76。実測値: C71.83、H5.83、N5.08、S11.78。パートF: 2−(8−および6−ベンジルオキシ−2−メチルチオ−3−(o−フェニル ベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 80の製造 ベンゼン(2ml)中の2−ヨードメチルビフェニル(197mg、0.676ミリ モル)およびインドリジン(78、191mg、0.644ミリモル)の溶液を、室温 にて3日間静置する。重炭酸ナトリウム水溶液を加える。混合物を酢酸エチルで 抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮する。残渣を、ヘキ サン:酢酸エチルで溶離するシリカゲル(25g)クロマトグラフィーに付し、8 −ベンジルオキシ−2−メチルチオ−3−(o−フェニルベンジルオキシ)イン ドリジン 79と出発物質の混合物(265mg)を得る。テトラヒドロフラン(3m l)中の残渣の溶液を、冷却しながら、テトラヒドロフラン(1ml)中の塩化オキサ リル(0.5ml)の溶液に滴下する。混合物を30分間撹拌し、濃水酸化アンモニ ウム(10ml)を冷却しながら滴下する。混合物を室温で1時間撹拌する。酢酸エ チルを加える。不溶性物質を濾去し、有機相を濾液から分離し、水洗し、乾燥( Na2SO4)し、減圧濃縮する。残渣を、ヘキサン:酢酸エチル(1:1)で溶 離するシリカゲル(25g)クロマトグラフィーに付し、ベンゼン:ヘキサンから 結晶化する(96mg、化合物78からの収率28.5%)。m.p.199〜201℃ 。 IR νmax(ニュジョール)3419,3160,1703,1640,1498cm-11H NMR(CDCl3)δ2.42(3H,s)、4.40(2H,s)、4.77(1 H,br.s)、5.10(2H,s)、6.28(1H,br.s)、6.33(1H,d,J=7.8 Hz)、6.44(1H,t,J=6.6Hz)、6.79(1H,d,J=7.8Hz)、6.9 6(1H,d,J=6.0Hz)、7.15(1H,dt,J=7.2,1.8Hz)、7.2−7. 55(12H,m)。元素分析(C312623Sとして)計算値:C73.50、H5 .17、N5.53、S6.33。実測値:C73.65、H5.21、N5.45、 S6.18。パートG: 2−(8−(カルボメトキシメチルオキシ)−2−メチルチオ−3−(o−フ ェニルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 82の製造 81:ジクロロメタン中の三臭化ホウ素の1N溶液(0.7ml、0.7ミリモ ル)を、ジクロロメタン(1ml)中のベンジルエーテル(80、85mg、0.168 ミリモル)の溶液に、氷冷しながら加える。混合部を0℃で1時間撹拌する。氷 水を加える。混合物をジクロロメタン:メタノールで抽出する。抽出物を水洗し 、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮する。残渣を酢酸エチルから再結晶させる。m. p.138〜142℃。 1H NMR(CDCl3+CD3OD)δ2.31(3H,s)、4.41(2H,s)、6 .65−6.80(3H,m)、7.01(1H,dd,J=6.2,1.2Hz)、7.17(1 H,m)、7.3−7.6(7H,m)。 82:DMF(1.2ml)中の化合物81の結晶、ブロモ酢酸メチル(33mg、 0.126ミリモル)、炭酸カリウム(90mg、0.65ミリモル)および少量の ヨウ化カリウムの混合物を室温で18時間撹拌する。水を加える。混合物を酢酸 エチルで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥(Na2SO4)し、減圧濃縮する。残渣 を、酢酸エチルで溶離するシリカゲル(10g)クロマトグラフィーに付し、ベン ゼン:ヘキサンから結晶化する(35mg、収率41.3%)。m.p.88〜91℃。 1H NMR(CDCl3)δ2.44(3H,s)、3.77(3H,s)、4.41(2H, s)、4.70(2H,s)、5.69(1H,br.s)、6.20(1H,d,J=7.8Hz)、6 .44(1H,t,J=6.9Hz)、6.79(1H,br.s)、6.79(1H,d,J=7.5 Hz)、6.99(1H,d,J=7.5Hz)、7.16(1H,dt,J=7.5,1.8Hz) 、7.1−7.55(7H,m)。 2−(8−(カルボキシメチルオキシ)−2−メチルチオ−3−(o−フェニ ルベンジル)インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 83の製造 m.p.200〜205℃、収率65.4%。IRνmax(ニュジョール)339 2、3220、1745、1620、1305cm-1。 3−(N−ベンジルオキシカルボニル)−2−メチルピリジン 85の製造 3−アミノピコリン(84、0.60g、5.5ミリモル)、(N−ベンジルオ キシカルボニル)コハク酸イミド(2.1g、8.3ミリモル)およびDMF(2ml )の混合物を2日間静置する。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、水 洗し、乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除去する。残渣を、酢酸エチル−ヘキ サンで溶離するシリカゲルクロマトグラフィーに付し、化合物85(0.92g、 収率68%)を得る。m.p.76〜78℃。 IR νmax(ニュジョール)1725,1551,1227,1061cm-11H NMR(CDCl3)δ2.49(3H,s)、5.22(3H,s)、7.16(1H,m)、J =8.7Hz)、7.36−7.45(5H,m)、8.15−8.27(2H,m)。元素分 析(C141422として)計算値:C69.41、H5.82、N11.56。実測 値:C69.62、H5.89、N11.31。 実施例9パートA: 3−(N−ベンジルオキシカルボニル−N−メトキシカルボニルメチル)アミ ノ−2−メチルピリジン 86の製造 DMF(3ml)中の水素化ナトリウム(60%油中分散液、0.17g、4.2ミ リモル)の懸濁液に、DMF(5ml)中の化合物85(0.92g、3.8ミリモル) を、窒素下、0℃にて撹拌しながら加える。撹拌を1時間継続し、その時点でブ ロモ酢酸メチル(0.40ml、4.2ミリモル)を加える。反応混合物を室温でさ らに2.5時間撹拌する。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗し 、乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除去する。生成物を、酢酸エチル:ヘキサ ン(1:1)で溶離するシリカゲルクロマトグラフィーに付し、化合物86(1 .07g、収率90%)を黄色油状物で得る。 1H NMR(CDCl3)δ2.43(3/4H,s)、2.51(1/4H,m)、3.6 8(1/4H,m)、3.76(3/4H,s)、3.85(1H,d,J=18Hz)、4.6 9(1H,d,J=18Hz)、5.06−5.21(3/2H,m)、5.22(1/2H,s )、7.13−7.37(6H,m)、7.73(1H,m)、8.45(1H,m)。パートB: 3−8−(N−ベンジルオキシカルボニル−N−メトキシカルボニルメチル) アミノ−2−メチルインドリジン 87aの製造 化合物29および24から31の製造において記載した操作にしたがって、イ ンドリジン化合物86を化合物87aに変換する。収率42%。1H NMR(C DCl3)δ2.34(3H,s)、3.67−3.77(3H,m)、4.21−4.46(4 H,m)、5.15(2/3H,s)、5.25(1/3H,s)、6.28−6.37(2H,m )、6.77(1H,m)、7.04−7.50(11H,m)。 8−(N−ベンジルオキシカルボニル−N−メトキシカルボニルメチル)アミ ノ−3−シクロヘキシルメチル−2−メチルインドリジン 87bの製造 収率31%。1H NMR(CDCl3)δ0.82−1.80(11H,m)、2.25 (3H,s)、2.70(2H,d,J=7Hz)、3.66(3/4H,s)、3.74(9/4 H,s)、4.10−4.55(2H,m)、5.15(3/2H,s)、5.23(1/2H,s )、6.19(3/4H,s)、6.23(1/4H,s)、6.43(1H,m)、6.73(3 /4H,d,J=7Hz)、6.79(1/4H,d,J=7Hz)、7.12−7.42(5 H,m)、7.64(1H,d,J=7Hz)。パートC: 2−(3−ベンジル−8−(N−ベンジルオキシカルボニル−N−メトキシカ ルボニルメチル)アミノ−2−メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルア ミド 88aの製造 化合物28から34の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物87aを化合物88aに変換する。収率66%。1H NMR(CDCl3) δ2.44(1H,s)、2.45(2H,s)、3.67(1H,s)、3.73(2H,s)、3 .80(1H,d,J=18Hz)、4.24(2H,s)、4.71(1H,d,J=18Hz) 、5.00−5.31(2H,m)、6.64(1H,m)、7.04−7.42(11H,m) 、7.62(1H,m)。 2−(8−(N−ベンジルオキシカルボニル−N−メトキシカルボニルメチル )アミノ−3−シクロヘキシルメチル−2−メチルインドリジン−1−イル)グ リオキシルアミド 88bの製造 収率72%。1H NMR(CDCl3)δ1.00−1.26(4H,m)、1.50− 1.78(7H,m)、2.32(1H,s)、2.33(2H,s)、2.70(2H,d,J=7 Hz)、3.67(1H,s)、3.73(2H,s)、3.78(2/3H,d,J=18Hz) 、3.79(1/3H,d,J=18Hz)、4.60(1/3H,d,J=18Hz)、4. 69(2/3H,d,J=18Hz)、5.03(2/3H,d,J=13Hz)、5.19( 1 /3H,d,J=13Hz)、5.23(2/3H,d,J=13Hz)、5.25(1/3H ,d,J=13Hz)、6.73(2/3H,t,J=7Hz)、6.79(1/3H,t,J= 7Hz)、7.14−7.43(6H,m)、7.79(1H,m)。パートD: 2−(3−ベンジル−8−メトキシメチルアミノ−2−メチルインドリジン− 1−イル)グリオキシルアミド 89aの製造 酢酸エチル(5ml)中のインドリジン(88a、88mg、0.17ミリモル)およ び10%パラジウム/炭素(0.02g)の混合物を、水素下で3時間撹拌する。 触媒を濾過し、濾液を減圧濃縮する。残渣をテトラヒドロフラン−エーテルから 結晶化させて、化合物89a(51mg、収率78%)を得る。m.p.186〜188 ℃。IRνmax(ニュジョール)3410、3149、1750、1689、1 566、1221cm-1。 2−(8−メトキシカルボニルメチルアミノ−3−シクロヘキシルメチル−2 −メチルインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 89bの製造 m.p.173〜177℃(メタノール:エーテル:ヘキサン)、収率90%。パートE: 2−(3−ベンジル−8−カルボキシメチルアミノ−2−メチルインドリジン −1−イル)グリオキシルアミド 90aの製造 化合物51から52の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物89aを化合物90aに変換する。m.p.293℃(分解)(メタノール: エーテル)。収率61%。 IR νmax(ニュジョール)1722,1670,1621,1535,1219cm-11H NMR(d6−DMSO)δ2.56(3H,s)、4.43(2H,s)、4.87 (2H,s)、7.10−7.36(7H,m)、8.23(1H,d,J=7Hz)。 2−(8−カルボキシメチルアミノ−3−シクロヘキシルメチル−2−メチル インドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 90bの製造 Mp>300℃。(メタノール:エーテル)。収率47%。IR νmax(ニュジョ ール)3450,1656,1623,1604,1524cm-11H NMR(d6− DMSO)δ0.95−1.35(5H,m)、1.51−1.80(6H,m)、2.43( 3H,s)、2.85(2H,d,J=7Hz)、4.42(2H,s)、7.00(1H,d,J= 7Hz)、7.12(1H,t,J=7Hz)、8.32(1H,d,J=7Hz)。IR νmax (KBr)1722,1670,1621,1535,1219cm-1パートF: 2−(3−ベンジル−8−メトキシカルボニルメチルアミノ−2−メチルイン ドリジン−1−イル)アセトアミド 91の製造 化合物66cから71aの製造において記載した操作にしたがって、インドリ ジン化合物88aを化合物91に変換する。 Mp147−150℃(分解)(エタノール:エーテル:ヘキサン)。収率55% 。IR νmax(ニュジョール)3450,3151,1747,1691,1221cm-1パートG: 2−(3−ベンジル−8−カルボキシメチルアミノ−2−メチルインドリジン −1−イル)アセトアミド 92の製造 化合物51から52の製造において記載した操作にしたがって、インドリジン 化合物91を化合物92に変換する。 収率60%。IR νmax(ニュジョール)3431,3303,1714,167 0,1545,1141cm-11H NMR(d6−DMSO)δ2.31(3H,s)、3.79−3.90(2H,m)、 4.19(2H,s)、5.36(1H,s)、5.49(1H,d,J=7Hz)、6.29(1 H,t,J=7Hz)、7.00−7.27(7H,m)。パートH: 8−ベンジルオキシ−1−カルボキシエトキシ−2−メトキシインドリジン 94の製造 (1)(1g、3.69ミリモル)およびブロモ酢酸メチル(10ml)の混合物を 窒素下、50℃で18時間撹拌する。反応混合物にジエチルエーテルを加える。 不溶性油状物をジエチルエーテルで洗浄し、減圧乾燥する。ピリジニウム塩およ び炭酸カリウム(4.2g、36.85ミリモル)の混合物を2−ブタノン(17ml ) 中、室温で4時間撹拌する。2−ブタノン(3ml)中の硫酸ジメチル(2.5ml、 26.38ミリモル)を加え、次いで混合物を60℃に加熱する。水を加える。 混合物を酢酸エチルで抽出する。抽出物を乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除 去した後、残渣を、ヘキサン/酢酸エチル(5:1)で溶離するシリカゲルクロ マトグラフィーに付し、標記化合物(382mg、収率32%)を得る。 IR νmax(ニート)2970,1693,1555,1527,1452,137 0,1304cm-11H NMR(CDCl3)d 1.11(3H,t,J=7.0Hz)、3 .86(3H,s)、4.12(2H,q,J=7.0Hz)、5.15(2H,s)、6.30(1 H,d,J=7.8Hz)、6.46(1H,dd,J=6.6,J=7.8Hz)、7.26−7 .54(5H,m)。パートI: 2−(8−ベンジルオキシ−3−(ビフェニル−2−イル)−2−メトキシイ ンドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 95の製造 ジメチルスルホキシド(40ml)中の化合物94(915mg、2.81ミリモル) および50%水酸化ナトリウム水溶液(5ml)の混合物を140℃で4時間加熱す る。0℃に冷却後、1N塩酸を用いて混合物を注意深く酸性化し、酢酸エチルで 抽出する。抽出物を乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除去した後、カルボン酸 を得る。トルエン(3ml)中の該カルボン酸の混合物を80℃で2.5時間撹拌す る。冷却後、トルエン(4ml)中のo−ヨードメチルビフェニル(909mg、3.0 9ミリモル)を室温、窒素下にて加え、混合物を4日間撹拌する。水を加える。 混合物を酢酸エチルで抽出する。抽出物を乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除 去した後、残渣を、ヘキサン/酢酸エチル(20:1)で溶離するシリカゲルク ロマトグラフィーに付す。 テトラヒドロフラン(4ml)中の精製された油状物を、テトラヒドロフラン(6m l)中の塩化オキサリル(3ml)に、窒素下、0℃にて滴下し、次いで室温まで暖め 、2時間撹拌する。反応混合物を28%水酸化アンモニウム水溶液(40ml)に0 ℃にて加える。水で希釈後、混合物を酢酸エチルで抽出する。抽出物を乾燥(N a2SO4)する。溶媒を減圧除去した後、残渣を、トルエン/酢酸エチルで溶離 する シリカゲルクロマトグラフィーに付し、標記化合物(316mg、収率23%、5 工程)を得る。m.p.183〜184℃(ヘキサン/酢酸エチル)。 IR nmax(KBr)3395,1692,1605,1535,1494,1304, 1017cm-1。1H NMR(CDCl3)d 3.89(3H,s)、4.14(2H,s)、 5.10(3H,m)、6.23(1H br s)、6.35−6.48(2H,m)、6.91− 6.98(2H,m)、7.12−7.52(13H,m)。元素分析(C312624 0 .2H2Oとして)計算値:C75.35、H5.38、N5.67。実測値:C75. 31、H5.48、N5.82。パートJ: 2−(3−(ビフェニル−2−イル)−8−(カルボメトキシメチルオキシ) −2−メトキシインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 96の製造 メタノール(10ml)およびテトラヒドロフラン(10ml)中の化合物95(29 0mg、0.59ミリモル)および10%パラジウム−炭素(210mg)の混合物を 水素下、10時間撹拌する。触媒を濾過し、メタノールで洗浄する。濾液を減圧 濃縮する。DMF(4ml)中の該化合物、ブロモ酢酸メチル(0.28ml、2.9 6ミリモル)、炭酸カリウム(247mg、1.77ミリモル)およびヨウ化カリウ ム(110.8mg、0.66ミリモル)の混合物を室温で16時間撹拌する。反応 混合物に0℃にて1N塩酸を加えて反応を停止する。混合物を酢酸エチルで抽出 する。抽出物を乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除去した後、残渣を、トルエ ン/酢酸エチル(1:1)で溶離するシリカゲルクロマトグラフィーに付し、標 記化合物(156mg、収率56%、2工程)を得る。m.p.188〜189℃(ヘキ サン/酢酸エチル)。 IR nmax(KBr)3395,3175,1761,1685,1589,1490, 1310,1208cm-11H NMR(CDCl3)d 3.78(3H,s)、3.93(3 H,s)、4.15(2H,s)、4.70(2H,s)、5.56(1H,br s)、6.27(1 H,d,J=7.8Hz)、6.47(1H,dd,J=6.6Hz,7.8Hz)、6.63(1H ,br s)、6.97(2H,d,J=6.6Hz)、7.14−7.49(8H,m)。元素分( C2724260.2H2Oとして)計算値:C68.12、H5.17、N5.88 。 実測値:C68.23、H5.26、N5.97。パートK: 2−(3−(ビフェニル−2−イル)−8−(カルボキシメチルオキシ)−2 −メトキシインドリジン−1−イル)グリオキシルアミド 97の製造 メタノール(40ml)中の化合物96(96.6mg、0.183ミリモル)および 30%水酸化ナトリウム水溶液(2ml)の混合物を室温で17時間撹拌する。反応 混合物に1N塩酸を加えて反応を停止する。混合物を酢酸エチルで抽出する。抽 出物を乾燥(Na2SO4)する。溶媒を減圧除去した後、残渣を酢酸エチルから再 結晶させる。表記化合物(26.5mg、収率32%程)を得る。 Mp197−1 98℃(酢酸エチル)。IR nmax(KBr)3461,3351,1731,1639, 1618,1496,1238cm-11H NMR(DMSO)d 3.74(3H,s)、 4.15(2H,s)、4.71(2H,s)、6.49(1H,d,J=7.6Hz)、6.67 −6.77(2H,m)、7.23−7.72(11H,m)。元素分析(C262226と して)計算値:C68.12、H4.84、N6.11。実測値:C67.89、H4. 96、N6.12。 インドリジン化合物の治療上の用途 本発明のインドリジン−1−官能性化合物は、アラキドン酸や、5−リポキゲ ナーゼ、シクロオキシゲナーゼ等の他のアラキドン酸カスケードに含まれる他の 活性物質のアンタゴニストとしての作用でなく、もっぱらトsPLA2の直接的 な抑制によりその有利な治療作用を達成すると考えられる。 本発明のsPLA2媒介性脂肪酸の放出を抑制する方法は、sPLA2媒介性脂 肪酸の放出が原因である病気に罹患しているか、かかる恐れがあるヒトを含む哺 乳動物に、治療有効量の式(IA)、(IIA)、(IIIA)、(IB)、( IIB)および(IIIB)に対応する化合物又はその塩又はプロドラッグ誘導 体を接触させることを含む。 本発明の化合物は、敗血症性ショック、成人呼吸困難症候群、膵臓炎、外傷、 気管支喘息、アレルギー性鼻炎、及び、リウマチ様関節炎の病理学的影響を緩和 するために、哺乳動物(例、ヒト)を治療する方法に用いられる。ここで、本発 明方法は、少なくとも、治療有効量の式(IA)、(IIA)、(IIIA)、 (IB)、(IIB)および(IIIB)で示される化合物又はその任意の組合 わせを哺乳動物に投与することを含む。治療有効量とは、sPLA2媒介性脂肪 酸の放出を抑制し、その結果、アラキドン酸カスケード及びその有害な産物を抑 制又は阻害するに十分な量である。sPLA2を抑制するに必要な本発明の化合 物の治療量は体液試料を取りそのsPLA2含量を常法により分析することによ り容易に決定することができる。 本発明の医薬組成物 既述のごとく、本発明の化合物は、sPLA2が媒介するアラキドン酸のよう な脂肪酸の放出を抑制するのに有用である。「抑制する」という用語は、本発明 化合物によるsPLA2により開始される脂肪酸の放出の阻止又は治療上有意な 減少を意味する。「製薬上許容される」という用語は担体、希釈剤、又は賦形剤 が製剤の他の成分と適合性があり、製剤の受容者にとって有害であってはならな いことを意味する。 治療又は予防効果を得るために本発明に従って投与される化合物の具体的な用 量は、もちろん症例を取り囲む特定の環境に応じて決定され、それには例えば投 与される化合物、投与経路、被治療者の状態が含まれる。典型的な毎日の用量に は、体重当たり約0.01mg/kgから約50mg/kgの毒性の無い服用濃 度の、本発明の活性な化合物が含有されるだろう。 医薬製剤は一回投与剤形である事が好ましい。一回投与剤形は、それ自身で、 一個のカプセル又は錠剤であるかその適当な数であってよい。組成物中の一回投 与剤形に含まれる活性成分の量は関連する特定の治療に応じて変化させるか、約 0.1から約1000mgの範囲またはそれ以上に調節するとよい。患者の年齢 や症状に応じて日常的に変化させる必要があることは理解されるであろう。用量 はまた投与経路にも依存するだろう。 化合物は経口、噴霧、経直腸、経皮、皮下、静脈内、筋肉内、及び経鼻を含む 様々な経路から投与できる。 本発明の医薬製剤は、治療有効量の、本発明のインドリジン−1−官能性化合 物(式(IA)、(IIA)、(IIIA)、(IB)、(IIB)および(I IIB)で示される)と、製剤的に許容される担体又は希釈剤とを一緒にする( 例、混合)することにより調製される。本発明の医薬製剤は周知の方法と入手容 易な成分とを用いて既知の方法で調製することができる。 本発明の組成物の製造において、活性成分は、通常、担体と混合するか、担体 で希釈するか、カプセル、サシエ、紙、又は他の容器の形であってよい担体内に 封入される。担体が希釈剤として作用するときは、それはピヒクルとして作用す る固形、半−固形、又は液状物質であってよく、又は例えば活性化合物を10重 量%まで含有する、錠剤、ピル、粉剤、ロゼンジ、エリキシル、懸濁剤、エマル ジョン、溶液、シロップ、エアゾル(固形又は液状媒体として)、又は軟膏の剤 形であってよい。 本発明の化合物は投与前に製剤化することが好ましい。 医薬製剤のためには、当該技術分野で既知の任意の適当な担体を用いることが できる。そのような製剤においては、担体は固体、液体、又は固体と液体の混合 物であってよい。固形製剤には、粉剤、錠剤及びカプセルが含まれる。固形担体 は、芳香剤、潤滑剤、可溶化剤、懸濁化剤、結合剤、錠剤崩壊剤、及び被包材と しても作用し得る1又はそれ以上の物質であってよい。 経口投与のための錠剤は、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、乳糖、リン酸カ ルシウム等の賦形剤を、メイズ、スターチ又はアルギン酸等の崩壊剤、及び/又 はゼラチン又はアカシアゴム等の結合剤、及びステアリン酸マグネシウム、ステ アリン酸、又はタルクのような潤滑剤と一緒に含有していてよい。 粉剤における担体は、微細に粉砕された固体であり、それは微細に粉砕された 活性成分と混合されている。錠剤において活性成分は必要な結合性を有する担体 と適当な比率で混合され、所望の形及び大きさに厳密に詰められる。錠剤と粉剤 は、約1〜約99重量%の本発明の新規化合物である、活性成分を含有すること が好ましい。適当な固体担体は炭酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、 タルク、乳糖、ペクチン、デキストリン、スターチ、ゼラチン、トラガカント、 メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、低融点ワックス、 及びココアバター等である。 滅菌液状剤形の製剤には懸濁剤、エマルジョン、シロップ、及びエリキシルが 含まれる。 活性成分は、例えば滅菌水、滅菌有機溶媒、又はそれらの混合物等の製薬的に 許容容される担体に溶解又は懸濁することができる。活性成分は、しばしば、例 えば水性プロピレングリコールのような、適当な有機溶媒に溶解される。他の組 成物は、微細に粉砕された活性成分をスターチやカルボキシメチルセルロースナ トリウムの水溶液、又は、適当な油に分散させることにより調製することができ る。 以下の製剤例1〜8は単に例示であり、いかなる点でも本発明の範囲を制限す る意図でない。「活性成分」という用語は、式(IA)、(IIA)、(III A)、(IB)、(IIB)および(IIIB)に従う化合物、又はその製薬的 に許容される塩、溶媒和物、又はプロドラッグ誘導体を意味する。 製剤例1 以下の成分を用いてゼラチン硬カプセルを調製する。 量 mg /カプセル 活性成分 250 スターチ、乾燥 200 ステアリン酸マグネシウム 10 合計 460mg 製剤例2 以下の成分を用いて錠剤を調製する。 量 mg /錠 活性成分 250 セルロース、微結晶 400 二酸化ケイ素(熔融) 10 ステアリン酸 5 合計 665mg 構成成分を混合し各々、重量665mgの錠剤に打錠する。 製剤例3 以下の成分を用いてエアゾル溶液を調製する。 重量 活性成分 0.25 エタノール 25.75 プロペラント22(クロロジフルオロメタン) 74.00 合計 100.00mg 活性成分をエタノールと混合し、混合物をプロペラント22の一部に加え、-30 ℃に冷却し、充填装置に移す。次いで必要量をステンレス鋼製容器に入れ、プロ ペラント22の残部で希釈する。容器にバルブ一式を装着する。 製剤例4 以下のようにして、活性成分60mgを含有する錠剤を調製する。 活性成分 60 mg スターチ 45 mg 微結晶セルロース 35 mg ポリビニルピロリドン(水中10%溶液として) 4 mg ソディウム カルボキシメチル スターチ 4.5 mg ステアリン酸マグネシウム 0.5 mg タルク 1 mg 合計 150 mg 活性成分、スターチ及びセルロースをNo.45メッシュの U.S.シーヴに通し、完 全に混合する。ポリビニルピロリドンを含有する水溶液を残りの粉末と混合し、 混合物をNo.14メッシュの U.S.シーヴに通す。このようにして製造した顆粒を50 ℃で乾燥しNo.18メッシュの U.S.シーヴに通す。先にNo.60メッシュの U.S.シー ヴに通しておいたソディウム カルボキシメチル スターチ、ステアリン酸マグネ シウム及びタルクをこの顆粒に加え、それを混合後、各々、打錠機により、重量 150mgの錠剤に打錠する。 製剤例5 以下のようにして、各々活性成分80mgを含有するカプセル剤を調製する。 活性成分 80 mg スターチ 59 mg 微結晶セルロース 59 mg ステアリン酸マグネシウム 2 mg 合計 200 mg 活性成分、セルロース、スターチ及びステアリン酸マグネシウムを混合し、No .45メッシュの U.S.シーヴに通し、200mg量のゼラチン硬カプセルに充填する。 製剤例6 以下のようにして、活性成分225mgを含有する坐剤を調製する。 活性成分 225 mg 飽和脂肪酸クリセリド 2,000 mg 合計 2,225 mg 活性成分をNo.60メッシュの U.S.シーヴに通し、予め、必要最小限度の熱を用 いて融解しておいた飽和脂肪酸グリセリドに懸濁する。次いで、混合物を公称2 g容量の坐剤型に注ぎ、放冷する。 製剤例7 以下のようにして、5ml用量あたり活性成分50mgを含有する坐剤を調製する。 活性成分 50 mg カルボキシメチルセルロースナトリウム 50 mg シロップ 1.25 ml 安息香酸溶液 0.10 ml 着香料 q.v. 着色料 q.v. 蒸留水を加えて、合計5mlとする。 活性成分をNo.45メッシュの U.S.シーヴに通し、カルボキシメチルセルロース ナトリウム及びシロップと混合して滑らかなペーストを調製する。安息香酸溶液 、着香料及び着色料を水の一部で希釈し、撹拌しながら加える。十分料の水を加 え、必要な容量とする。 製剤例8 静脈投与製剤を以下のようにして調製する。 活性成分 100 mg 等張液 1,000 ml 一般に、上記成分の溶液を1分あたり1mlの速度で対象に静脈内投与する。 分析実験 アッセイ1 組換えヒト分泌ホスホリパーゼA2のインヒビターを同定及び評価するために、 以下の色原体アッセイを用いる。ここに記載したアッセイは96ウエルマイクロタ ータープレートを用いる高容量スクリーニングに適合されている。このアッセイ の一般的な説明はLaure J.Reynolds,Lori L.Hughes 及びEdward A Dennis に よる記事「Analysis of Human Synovial Fluid Phospholipase A2 on Short Chai n Phosphatidylcholine-Mixed Micelles: Development of a Spectrophotometri c Assay Suitable for a Microtiterplate Reader」(Analytical Biochemistry, 204,pp.190-197,1992; その開示を本明細書に引用して組み込む)に記載され ている。試薬: 反応バッファー CaCl2・2H2O (1.47 g/L) KCl (7.455 g/L) ウシ血清アルブミン(脂肪酸不含) (1 g/L) (Sigma A-7030,Sigma Chemical Co.St.Louis MO,USA製) TRIS HCl (3.94 g/L) pH 7.5(NaOHで調節) 酵素バッファー 0.05 NaOAc・3H2O,pH 4.5 0.2 NaCl pH 4.5(酢酸で調節) DTNB - 5,5'-ジチオビス-2-ニトロ安息香酸 RACEMIC DIHEPTANOYL THIO - PC ラセミ 1,2-ビス(ヘプタノイルチオ)-1,2-ジデオキシ-sn-グリセロ-3-ホスホ リルコリン TRITON X-100TM反応バッファー中、10μMと等価の6.249mg/mlに調製 反応混合物 クロロホルム中、測定した容量の濃度100mg/mlのラセミ ジヘプタノ イル チオ PCを乾燥し、TRITON X−100TM非イオン性界面活性剤 水溶液10mlに再溶解する。この溶液に反応バッファー、次いでDTNBを加 えて反応混合物を得る。 このようにして得た反応混合物は1mM ジヘプタノイル チオ−PC基質、 0.29mm TRITON X−100TM界面活性剤、及び0.12 mm DTNBを、pH7.5の緩衝化水溶液中に含有している。反応工程: 1.全ウエルに反応混合物0.2mlを加える; 2.適当なウエルに被検化合物(又は溶媒ブランク)10μlを加えて20 秒間混合する; 3.適当なウエルにsPAL2 50ng(10μl)を加える; 4.40℃で30分間プレートをインキュベートする; 5.405nmの吸収を自動プレートリーダーで測定する。 全混合物について3回試験した。通常、化合物を終濃度5μg/mlで試験し た。405nmで測定したとき、非阻害対照に比較して化合物が40%又はそれ 以上の阻害を示せば、化合物は活性と考えられた。405nmでの発色の欠如を 阻害の証明とした。最初、活性と分かった化合物はその活性を確認するために再 アッセイし、十分に活性であれば、IC50値を決定した。一般的に、IC50値( 下記表I参照)は、反応中の最終濃度が45μg/mlから0.35μg/ml の範囲になるよう、試験化合物を連続的に2倍希釈して決定した。阻害物質が強 力であるほど、一層大きく希釈する必要がある。全場合で、非阻害対照反応に対 する、インヒビター含有酵素反応により得られる、405nmで測定した阻害率 (%)を決定した。各試料を3回定量し、得られた値の平均値をプロット及びI C50値の計算のために求めた。IC50は、log 濃度を10−90%阻害の範 囲の阻害値に対してプロットすることにより決定した。 ヒト分泌ホスホリパーゼA2阻害試験の結果を以下の表に示す。 アッセイ2 ラットにおけるPLA2誘発膵臓炎に対するインドリジンの効果実験プロトコル: 体重220〜270gの雄性ウィスターラットを一夜絶食させる。ペントバル ビタール(40mg/kg、腹膜内注入)麻酔下で腹側切開を行い、ブタ膵臓PLA 2(300U/ラット)とタウロコール酸ナトリウム(10mg/ラット)の混合 物0.2mlを胆汁管を通して逆行注入することによって膵臓炎を誘発する。膵臓 炎の誘発の12時間後の生存率を検査する。 化合物39dは、ビヒクルとして使用する0.6%アラビアゴム溶液に懸濁さ せる。各試験グループにおいて、11〜12匹の動物を使用する。結果: 化合物39d(1,3,10mg)は動物の12時間後の生存率を有意に改良す る。ラットの生存率(%)は、ビヒクルのみ,化合物39dを1,3および10 mg/kgを投与したそれぞれにおいて、33.3,81.8*,91.7**および9 1.7**であった(*P<0.05、**P<0.01、カイ二乗試験)。 本発明を幾つかの具体的な態様によって上記で説明したが、これらの具体的な 実施例は請求の範囲に記載した本発明の範囲を制限する意図でない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI A61K 31/435 ACJ A61K 31/435 ACJ ADZ ADZ AED AED (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG), AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,CA,C H,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB ,GE,HU,IS,JP,KE,KG,KP,KR, KZ,LK,LR,LT,LU,LV,MD,MG,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,TT, UA,UG,US,UZ,VN (72)発明者 大谷 光昭 奈良県奈良市高畑町1342

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式(IA): [ここで、Xは酸素または硫黄;各R11は独立して水素、C1〜C3アルキルまた はハロ; R13は次の(a),(b)および(C)から選ばれる基; (a)は、C7〜C20アルキル、C7〜C20アルケニル、C7〜C20アルキ ニル、炭素環基または複素環基; (b)は、(a)を1個もしくはそれ以上の独立して選ばれた不干渉置換 基で置換したもの; (c)は、−(L)−R80[ここで−(L)−は原子数1〜12の二価の リンカー基であり、R80は(a)または(b)から選ばれる基]; R12は水素、ハロ、C1〜C3アルキル、C3〜C4シクロアルキル、C3〜C4シ クロアルケニル、−O−(C1〜C2アルキル)、−S−(C1〜C2アルキル)ま たは水素以外の原子数の合計が1〜3個である不干渉置換基(すなわち、R12は 、水素原子を含んでもよいが、それ以外の原子の合計が1〜3個でなければなら ないということを意味する); R17およびR18は独立して水素、不干渉置換基または−(La)−(酸性基) から選ばれる基[ここで−(La)−は、酸リンカー長さが1〜10の酸リンカ ーである]、ただし、R17およびR18のうち少なくともひとつは組み合わせ基− (La)−(酸性基)でなければならない;および R15およびR16はそれぞれ独立して水素、不干渉置換基、炭素環基、不干渉置 換基で置換された炭素環基、複素環基および不干渉置換基で置換された複素環基 から選ばれる基である] で示されるインドリジン−1−アセトアミド化合物またはその医薬的に許容しう る塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体。 2.(i)Xがともに酸素; (ii)R12がハロ、シクロプロピル、メチル、エチルおよびプロピル; (iii)R13が、炭素原子数1または2個のアルキレン鎖であるリンカー基 :−(L)−を有し、R13におけるR80が、シクロアルキル、シクロアルケニル 、フェニル、ナフチル、ノルボルナニル、ビシクロヘプタジエニル、トルイル、 キシレニル、インデニル、スチルベンジル、テルフェニリル、ジフェニルエチレ ニル、フェニル−シクロヘキセニル、アセナフチレニルおよびアントラセニル、 ビフェニル、ビベンジリルならびに下記式(bb): [ここで、nは1〜8である] で示される関連ビベンジリル同族体からなるグループから選ばれる基; (iv)R17またはR18が、基:−(La)−(酸性基)上に、 −5−テトラゾリル、−SO3H、 [ここで、nは1〜8;R89はメタルまたはC1〜C10アルキル;およびR99は 水素またはC1〜C10アルキルである] から選ばれる酸性基を有する基;および (v)R15およびR16がそれぞれ独立して水素;およびC1〜C6アルキル、C2 〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C7〜C12アラルキル、C7〜C12アル カリール、C3〜C8シクロアルキル、C3〜C8シクロアルケニル、フェニル、ト ルイル、キシレニル、ビフェニル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6アルケニルオ キシ、C1〜C6アルキニルオキシ、C2〜C12アルコキシアルキル、C2〜C12ア ルコキシアルキルオキシ、C2〜C12アルキルカルボニル、C2〜C12アルキルカ ルボニルアミノ、C2〜C12アルコキシアミノ、C2〜C12アルコキシアミノカル ボニル、C1〜C12アルキルアミノ、C1〜C6アルキルチオ、C2〜C12アルキル チオカルボニル、C1〜C6アルキルスルフィニル、C1〜C6アルキルスルホニル 、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6ハロアルキルスルホニル、C1〜C6ハロア ルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、−C(O)O(C1〜C6アルキル)、− (CH2)n−O−(C1〜C6アルキル)、ベンジルオキシ、フェノキシ、フェ ニルチオ、−(CONHSO2R)、−CHO、アミノ、アミジノ、ブロモ、カ ルバミル、カルボキシル、カルボアルコキシ、−(CH2)n−CO2H、クロロ 、シアノ、シアノグアニジニル、フルオロ、グアニジノ、ヒドラジド(de)、ヒド ラジノ、ヒドラジド(do)、ヒドロキシ、ヒドロキシアミノ、ヨード、ニトロ、 ホスホノ、−SO3H、チオアセタール、チオカルボニルおよびC1〜C6カルボ ニル[ここでnは1〜8]からなるグループから選ばれる不干渉置換基から選ばれ る基; である請求項1に記載の化合物。 3.(A)(iii)において、R13が式: および [ここで、R10は独立して、ハロ、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、 −S−(C1〜C10アルキル)およびC1〜C10ハロアルキル;qは0〜4;およ びtは0〜5である] からなるグループから選ばれる基; (B)(iii)において、R13のリンカー基:−(L)−が、 および [ここで、sは0または1] からなるグループから選ばれる基: (C)(iv)において、R17およびR18の(酸性基)が、−CO2H、−S O3Hおよび−P(O)(OH)2から選ばれる基; である請求項2に記載の化合物。 4.式(IIA): [ここで、Xは酸素または硫黄;各R11は独立して水素、C1〜C3アルキルまた はハロ; R13は次の(a),(b)および(C)から選ばれる基; (a)は、C7〜C20アルキル、C7〜C20アルケニル、C7〜C20アルキ ニル、炭素環基または複素環基; (b)は、(a)を1個もしくはそれ以上の独立して選ばれた不干渉置換 基で置換したもの; (c)は、−(L)−R80[ここで−(L)−は原子数1〜12の二価の リンカー基であり、R80は(a)または(b)から選ばれる基]; R12は水素、ハロ、C1〜C3アルキル、C3〜C4シクロアルキル、C3〜C4シ クロアルケニル、−O−(C1〜C2アルキル)、−S−(C1〜C2アルキル)ま たは水素以外の原子数の合計が1〜3個である不干渉置換基(すなわち、R12は 、水素原子を含んでもよいが、それ以外の原子の合計が1〜3個でなければなら ないということを意味する); R17およびR18は独立して水素、不干渉置換基または−(La)−(酸性基) から選ばれる基[ここで−(La)−は、酸リンカー長さが1〜10の酸リンカ ーである]、ただし、R17およびR18のうち少なくともひとつは組み合わせ基− (La)−(酸性基)でなければならない;および R15およびR16はそれぞれ独立して水素、不干渉置換基、炭素環基、不干渉置 換基で置換された炭素環基、複素環基および不干渉置換基で置換された複素環基 から選ばれる基である] で示されるインドリジン−1−酢酸ヒドラジド化合物またはその医薬的に許容し うる塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体。 5.式(IIIA): [ここで、Xは酸素または硫黄;R13は次の(a),(b)および(C)から選 ばれる基; (a)は、C7〜C20アルキル、C7〜C20アルケニル、C7〜C20アルキ ニル、炭素環基または複素環基; (b)は、(a)を1個もしくはそれ以上の独立して選ばれた不干渉置換 基で置換したもの; (c)は、−(L)−R80[ここで−(L)−は原子数1〜12の二価の リンカー基であり、R80は(a)または(b)から選ばれる基]; R12は水素、ハロ、C1〜C3アルキル、C3〜C4シクロアルキル、C3〜C4シ クロアルケニル、−O−(C1〜C2アルキル)、−S−(C1〜C2アルキル)ま たは水素以外の原子数の合計が1〜3個である不干渉置換基(すなわち、R12は 、水素原子を含んでもよいが、それ以外の原子の合計が1〜3個でなければなら ないということを意味する); R17およびR18は独立して水素、不干渉置換基または−(La)−(酸性基) から選ばれる基[ここで−(La)−は、酸リンカー長さが1〜10の酸リンカ ーである]、ただし、R17およびR18のうち少なくともひとつは組み合わせ基− (La)−(酸性基)でなければならない;および R15およびR16はそれぞれ独立して水素、不干渉置換基、炭素環基、不干渉置 換基で置換された炭素環基、複素環基および不干渉置換基で置換された複素環基 から選ばれる基である] で示されるインドリジン−1−グリオキシルアミド化合物またはその医薬的に許 容しうる塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体。 6.(i)Xが酸素; (ii)R12がハロ、シクロプロピル、メチル、エチルおよびプロピル; (iii)R13が、炭素原子数1または2個のアルキレン鎖であるリンカー基 :−(L)−を有し、R13におけるR80が、シクロアルキル、シクロアルケニル 、フェニル、ナフチル、ノルボルナニル、ビシクロヘプタジエニル、トルイル、 キシレニル、インデニル、スチルベンジル、テルフェニリル、ジフェニルエチレ ニル、フェニル−シクロヘキセニル、アセナフチレニルおよびアントラセニル、 ビフェニル、ビベンジリルならびに下記式(bb): [ここで、nは1〜8である] で示される関連ビベンジリル同族体からなるグループから選ばれる基; (iv)R17またはR18が、基:−(La)−(酸性基)上に、 −5−テトラゾリル、−SO3H、 [ここで、nは1〜8;R89はメタルまたはC1〜C10アルキル;およびR99は 水素またはC1〜C10アルキルである] から選ばれる酸性基を有する基;および (v)R15およびR16がそれぞれ独立して水素;およびC1〜C6アルキル、C2 〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C7〜C12アラルキル、C7〜C12アル カリール、C3〜C8シクロアルキル、C3〜C8シクロアルケニル、フェニル、ト ルイル、キシレニル、ビフェニル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6アルケニルオ キシ、C1〜C6アルキニルオキシ、C2〜C12アルコキシアルキル、C2〜C12ア ルコキシアルキルオキシ、C2〜C12アルキルカルボニル、C2〜C12アルキルカ ルボニルアミノ、C2〜C12アルコキシアミノ、C2〜C12アルコキシアミノカル ボニル、C1〜C12アルキルアミノ、C1〜C6アルキルチオ、C2〜C12アルキル チオカルボニル、C1〜C6アルキルスルフィニル、C1〜C6アルキルスルホニル 、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6ハロアルキルスルホニル、C1〜C6ハロア ルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、−C(O)O(C1〜C6アルキル)、− (CH2)n−O−(C1〜C6アルキル)、ベンジルオキシ、フェノキシ、フェ ニルチオ、−(CONHSO2R)、−CHO、アミノ、アミジノ、ブロモ、カ ルバミル、カルボキシル、カルボアルコキシ、−(CH2)n−CO2H、クロロ 、シアノ、シアノグアニジニル、フルオロ、グアニジノ、ヒドラジド(de)、ヒド ラジノ、ヒドラジド(do)、ヒドロキシ、ヒドロキシアミノ、ヨード、ニトロ、 ホスホノ、−SO3H、チオアセタール、チオカルボニルおよびC1〜C6カルボ ニル[ここでnは1〜8]からなるグループから選ばれる不干渉置換基から選ばれ る基; である請求項5に記載の化合物。 7.(A)(iii)において、R13が式: および [ここで、R10は独立して、ハロ、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、 −S−(C1〜C10アルキル)およびC1〜C10ハロアルキル;qは0〜4;およ びtは0〜5である] からなるグループから選ばれる基; (B)(iii)において、R13のリンカー基:−(L)−が、 および [ここで、Sは0または1] からなるグループから選ばれる基; (C)(iv)において、R17およびR18の(酸性基)が、−CO2H、−S O3Hおよび−P(O)(OH)2から選ばれる基 である請求項6に記載の化合物。 8.R18が酸性基を含み、酸性基の酸リンカーの酸リンカー長さが2または3 であり、R18における酸リンカー基−(La)−が式: [ここで、Qは−(CH2)−、−O−、−NH−および−S−から選ばれる基 ;およびR84およびR85はそれぞれ独立して、水素、C1〜C10アルキル、アリ ール、C1〜C10アルカリール、C1〜C10アラルキル、カルボキシ、カルボアル コキシおよびハロである] で示されるグループから選ばれる基; である請求項5に記載の化合物。 9.R18が酸性基を含み、R18における酸リンカー基:−(La)−が、 および [ここで、RはHまたはC1〜C4アルキルである] から選ばれる基である請求項8に記載の化合物。 10.R17が酸性基を含み、R17の酸リンカーの酸リンカー長さが3〜10原 子であり、R17における酸リンカー基:−(La)−が式: [ここで、rは1〜7;sは0または1:およびQは−(CH2)−、−O−、 −NH−および−S−から選ばれる基;ならびにR84およびR85はそれぞれ独立 して、水素、C1〜C10アルキル、アリール、C1〜C10アルカリール、C1〜C1 0 アラルキル、カルボキシ、カルボアルコキシおよびハロである] で示されるグループから選ばれる基である請求項5に記載の化合物。 11.R17における酸リンカー基−(La)−が、 および [ここで、Rは水素またはC1〜C4アルキル;R84およびR85はそれぞれ独立し て、水素、C1〜C10アルキル、アリール、C1〜C10アルカリール、C1〜C10 アラルキル、カルボキシ、カルボアルコキシおよびハロである] からなるグループから選ばれる基である請求項10に記載の化合物。 12.式(IB): [ここで、Xは酸素または硫黄;各R3は独立して水素、C1〜C3アルキルまた はハロ; R1次の(a),(b)および(C)から選ばれる基; (a)は、C7〜C20アルキル、C7〜C20アルケニル、C7〜C20アルキ ニル、炭素環基または複素環基; (b)は、(a)を1個もしくはそれ以上の独立して選ばれた不干渉置換 基で置換したもの; (c)は、−(L)−R80[ここで−(L)−は原子数1〜12の二価の リンカー基であり、R80は(a)または(b)から選ばれる基]; R2は水素、ハロ、C1〜C3アルキル、C3〜C4シクロアルキル、C3〜C4シ クロアルケニル、−O−(C1〜C2アルキル)、−S−(C1〜C2アルキル)ま たは水素以外の原子数の合計が1〜3個である不干渉置換基(すなわち、R2は 、水素原子を含んでもよいが、それ以外の原子の合計が1〜3個でなければなら ないということを意味する); R5およびR6は独立して水素、不干渉置換基または−(La)−(酸性基)か ら選ばれる基[ここで−(La)−は、酸リンカー長さが1〜10の酸リンカー である]、ただし、R5およびR6のうち少なくともひとつは組み合わせ基−(L a)−(酸性基)でなければならない;および R7およびR8はそれぞれ独立して水素、不干渉置換基、炭素環基、不干渉置換 基で置換された炭素環基、複素環基および不干渉置換基で置換された複素環基か ら選ばれる基である] で示されるインドリジン−3−アセトアミド化合物またはその医薬的に許容しう る塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体。 13.式(IIB): [ここで、Xは酸素または硫黄;各R3は独立して水素、C1〜C3アルキルまた はハロ; R1は次の(a),(b)および(C)から選ばれる基; (a)は、C7〜C20アルキル、C7〜C20アルケニル、C7〜C20アルキ ニル、炭素環基または複素環基; (b)は、(a)を1個もしくはそれ以上の独立して選ばれた不干渉置換 基で置換したもの; (c)は、−(L)−R80[ここで−(L)−は原子数1〜12の二価の リンカー基であり、R80は(a)または(b)から選ばれる基]; R2は水素、ハロ、C1〜C3アルキル、C3〜C4シクロアルキル、C3〜C4シ クロアルケニル、−O−(C1〜C2アルキル)、−S−(C1〜C2アルキル)ま たは水素以外の原子数の合計が1〜3個である不干渉置換基(すなわち、R2は 、水素原子を含んでもよいが、それ以外の原子の合計が1〜3個でなければなら ないということを意味する); R5およびR6は独立して水素、不干渉置換基または−(La)−(酸性基)か ら選ばれる基[ここで−(La)−は、酸リンカー長さが1〜10の酸リンカー である]、ただし、R5およびR6のうち少なくともひとつは組み合わせ基−(L a)−(酸性基)でなければならない;および R7およびR8はそれぞれ独立して水素、不干渉置換基、炭素環基、不干渉置換 基で置換された炭素環基、複素環基および不干渉置換基で置換された複素環基か ら選ばれる基である] で示されるインドリジン−3−ヒドラジド化合物またはその医薬的に許容しうる 塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体。 14.式(IIIB): [ここで、Xは酸素または硫黄;各R3は独立して水素、C1〜C3アルキルまた はハロ; R1は次の(a),(b)および(C)から選ばれる基; (a)は、C7〜C20アルキル、C7〜C20アルケニル、C7〜C20アルキ ニル、炭素環基または複素環基; (b)は、(a)を1個もしくはそれ以上の独立して選ばれた不干渉置換 基で置換したもの; (c)は、−(L)−R80[ここで−(L)−は原子数1〜12の二価の リンカー基であり、R80は(a)または(b)から選ばれる基]; R2は水素、ハロ、C1〜C3アルキル、C3〜C4シクロアルキル、C3〜C4シ クロアルケニル、−O−(C1〜C2アルキル)、−S−(C1〜C2アルキル)ま たは水素以外の原子数の合計が1〜3個である不干渉置換基(すなわち、R2は 、水素原子を含んでもよいが、それ以外の原子の合計が1〜3個でなければなら ないということを意味する); R5およびR6は独立して水素、不干渉置換基または−(La)−(酸性基)か ら選ばれる基[ここで−(La)−は、酸リンカー長さが1〜10の酸リンカー である]、ただし、R5およびR6のうち少なくともひとつは組み合わせ基−(L a)−(酸性基)でなければならない;および R7およびR8はそれぞれ独立して水素、不干渉置換基、炭素環基、不干渉置換 基で置換された炭素環基、複素環基および不干渉置換基で置換された複素環基か ら選ばれる基である] で示されるインドリジン−3−グリオキシルアミド化合物またはその医薬的に許 容しうる塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体。 15.(i)Xがともに酸素; (ii)R2がハロ、シクロプロピル、メチル、エチルおよびプロピル; (iii)R1が、炭素原子数1または2個のアルキレン鎖であるリンカー基 :−(L)−を有し、R1におけるR80が、シクロアルキル、シクロアルケニル 、フェニル、ナフチル、ノルボルナニル、ビシクロヘプタジエニル、トルイル、 キシレニル、インデニル、スチルベンジル、テルフェニリル、ジフェニルエチレ ニル、フェニル−シクロヘキセニル、アセナフチレニルおよびアントラセニル、 ビフェニル、ビベンジリルならびに下記式(bb): [ここで、nは1〜8である] で示される関連ビベンジリル同族体からなるグループから選ばれる基; (iv)R5またはR6が、基:−(La)−(酸性基)上に、 −5−テトラゾリル、−SO3H、 [ここで、nは1〜8;R89はメタルまたはC1〜C10アルキル;およびR99は 水素またはC1〜C10アルキルである] から選ばれる酸性基を有する基;および (v)R7およびR8がそれぞれ独立して水素;およびC1〜C6アルキル、C2 〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C7〜C12アラルキル、C7〜C12アル カリール、C3〜C8シクロアルキル、C3〜C8シクロアルケニル、フェニル、ト ルイル、キシレニル、ビフェニル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6アルケニルオ キシ、C1〜C6アルキニルオキシ、C2〜C12アルコキシアルキル、C2〜C12ア ルコキシアルキルオキシ、C2〜C12アルキルカルボニル、C2〜C12アルキルカ ルボニルアミノ、C2〜C12アルコキシアミノ、C2〜C12アルコキシアミノカル ボニル、C1〜C12アルキルアミノ、C1〜C6アルキルチオ、C2〜C12アルキル チオカルボニル、C1〜C6アルキルスルフィニル、C1〜C6アルキルスルホニル 、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6ハロアルキルスルホニル、C1〜C6ハロア ルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、−C(O)O(C1〜C6アルキル)、− (CH2)n−O−(C1〜C6アルキル)、ベンジルオキシ、フェノキシ、フェ ニルチオ、−(CONHSO2R)、−CHO、アミノ、アミジノ、ブロモ、カ ルバミル、カルボキシル、カルボアルコキシ、−(CH2)n−CO2H、クロロ 、シアノ、シアノグアニジニル、フルオロ、グアニジノ、ヒドラジド(de)、ヒド ラジノ、ヒドラジド(do)、ヒドロキシ、ヒドロキシアミノ、ヨード、ニトロ、 ホスホノ、−SO3H、チオアセタール、チオカルボニルおよびC1〜C6カルボ ニル[ここでnは1〜8]からなるグループから選ばれる不干渉置換基から選ばれ る基; である請求項14に記載の化合物。 16.(A)(iii)において、R1が式: および [ここで、R10は独立して、ハロ、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、 −S−(C1〜C10アルキル)およびC1〜C10ハロアルキル;qは0〜4;およ びtは0〜5である] からなるグループから選ばれる基; (B)(iii)において、R1のリンカー基:−(L)−が、 および [ここで、sは0または1] からなるグループから選ばれる基; (C)(iv)において、R5およびR6の(酸性基)が、−CO2H、−SO3 Hおよび−P(O)(OH)2から選ばれる基; である請求項15に記載の化合物。 17.R5が酸性基を含み、酸性基の酸リンカーの酸リンカー長さが2または 3であり、R5における酸リンカー基−(La)−が式: [ここで、Qは−(CH2)−、−O−、−NH−および−S−から選ばれる基 ;およびR84およびR85はそれぞれ独立して、水素、C1〜C10アルキル、アリ ール、C1〜C10アルカリール、C1〜C10アラルキル、カルボキシ、カルボアル コキシおよびハロである] で示されるグループから選ばれる基; である請求項14に記載の化合物。 18.R5が酸性基を含み、R5における酸リンカー基:−(La)−が、 [ここで、RはHまたはC1〜C4アルキルである] から選ばれる基である請求項17に記載の化合物。 19.R6が酸性基を含み、R6の酸リンカーの酸リンカー長さが3〜10原子 であり、R6における酸リンカー基:−(La)−が式: [ここで、rは1〜7;sは0または1;およびQは−(CH2)−、−O−、 −NH−および−S−から選ばれる基;ならびにR84およびR85はそれぞれ独立 して、水素、C1〜C10アルキル、アリール、C1〜C10アルカリール、C1〜C1 0 アラルキル、カルボキシ、カルボアルコキシおよびハロである] で示されるグループから選ばれる基である請求項14に記載の化合物。 20.R6における酸リンカー基−(La)−が、 および [ここで、Rは水素またはC1〜C4アルキル;R84およびR85はそれぞれ独立し て、水素、C1〜C10アルキル、アリール、C1〜C10アルカリール、C1〜C10 アラルキル、カルボキシ、カルボアルコキシおよびハロである] からなるグループから選ばれる基である請求項19に記載の化合物。 21.下記式: で示される化合物から選ばれるインドリジン−1−アセトアミド官能性化合物ま たはその医薬的に許容しうる塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体ならびに それらの混合物。 22.下記式: で示される化合物から選ばれるインドリジン−1−グリオキシルアミド官能性化 合物またはその医薬的に許容しうる塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体な らびにそれらの混合物。 23.下記式: で示される化合物から選ばれるインドリジン−3−アセトアミド官能性化合物ま たはその医薬的に許容しうる塩類、溶媒和物またはプロドラッグ誘導体ならびに それらの混合物。 24.請求項1に記載のインドリジン−1−アセトアミドならびにその医薬的 に許容しうる担体または賦形剤を含む医薬製剤。 25.請求項4に記載のインドリジン−1−ヒドラジドならびにその医薬的に 許容しうる担体または賦形剤を含む医薬製剤。 26.請求項5に記載のインドリジン−1−グリオキシルアミドならびにその 医薬的に許容しうる担体または賦形剤を含む医薬製剤。 27.敗血症性ショック、成人呼吸困難症候群、膵臓炎、外傷、気管支喘息、 アレルギー性鼻炎およびリウマチ様関節炎の病理的影響を軽減するための哺乳類 の治療方法であって、少なくともひとつの請求項1に記載のインドリジン−1− アセトアミドを、sPLA2媒介性脂肪酸放出を阻害するのに有効な量にて、哺 乳類に投与し、それによってアラキドン酸カスケードおよびその有害な産物を阻 止または妨害することを特徴とする方法。 28.敗血症性ショック、成人呼吸困難症候群、膵臓炎、外傷、気管支喘息、 アレルギー性鼻炎およびリウマチ様関節炎の病理的影響を軽減するための哺乳類 の治療方法であって、少なくともひとつの請求項4に記載のインドリジン−1− ヒドラジドを、sPLA2媒介性脂肪酸放出を阻害するのに有効な量にて、哺乳 類に投与し、それによってアラキドン酸カスケードおよびその有害な産物を阻止 または妨害することを特徴とする方法。 29.敗血症性ショック、成人呼吸困難症候群、膵臓炎、外傷、気管支喘息、 アレルギー性鼻炎およびリウマチ様関節炎の病理的影響を軽減するための哺乳類 の治療方法であって、少なくともひとつの請求項5に記載のインドリジン−1− グリオキシルアミドを、sPLA2媒介性脂肪酸放出を阻害するのに有効な量に て、哺乳類に投与し、それによってアラキドン酸カスケードおよびその有害な産 物を阻止または妨害することを特徴とする方法。 30.sPLA2媒介性脂肪酸放出が引き起こす疾患に罹患しているかまたは 罹患しやすいヒトを含む哺乳類の治療方法であって、請求項1に記載の化合物の 有効量を投与することを特徴とする方法。 31.sPLA2媒介性脂肪酸放出が引き起こす疾患に罹患しているかまたは 罹患しやすいヒトを含む哺乳類の治療方法であって、請求項4に記載の化合物の 有効量を投与することを特徴とする方法。 32.sPLA2媒介性脂肪酸放出が引き起こす疾患に罹患しているかまたは 罹患しやすいヒトを含む哺乳類の治療方法であって、請求項5に記載の化合物の 有効量を投与することを特徴とする方法。
JP8505935A 1994-07-21 1995-07-20 インドリジンsPLA▲下2▼インヒビター Ceased JPH10505584A (ja)

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