JPH1050808A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
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- JPH1050808A JPH1050808A JP20015596A JP20015596A JPH1050808A JP H1050808 A JPH1050808 A JP H1050808A JP 20015596 A JP20015596 A JP 20015596A JP 20015596 A JP20015596 A JP 20015596A JP H1050808 A JPH1050808 A JP H1050808A
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- wafer
- reticle
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- projection exposure
- exposure apparatus
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、ウェーハのプレアライメントにお
ける回転方向のずれを解消して、アライメント精度の向
上及びアライメントのスループットの向上を実現するこ
とが可能な縮小投影露光装置を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 縮小投影露光装置のプレアライメント部
にはウェーハチャック14及び2つの光電検出器16、
18が設置されている。プレアライメント部に搬送され
てきたウェーハ10をウェーハチャック12上に吸着保
持した後、ウェーハチャック12を回転させてウェーハ
10の回転補正を行う。このとき、2つの光電検出器1
6、18の両方がウェーハ10のオリフラ部14を同時
に検出した時点でウェーハ10の回転補正を完了させ
る。このため、ウェーハ10の回転方向のずれを生じる
ことなく、より正確なウェーハ・プレアライメントを行
うことが可能になる。
ける回転方向のずれを解消して、アライメント精度の向
上及びアライメントのスループットの向上を実現するこ
とが可能な縮小投影露光装置を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 縮小投影露光装置のプレアライメント部
にはウェーハチャック14及び2つの光電検出器16、
18が設置されている。プレアライメント部に搬送され
てきたウェーハ10をウェーハチャック12上に吸着保
持した後、ウェーハチャック12を回転させてウェーハ
10の回転補正を行う。このとき、2つの光電検出器1
6、18の両方がウェーハ10のオリフラ部14を同時
に検出した時点でウェーハ10の回転補正を完了させ
る。このため、ウェーハ10の回転方向のずれを生じる
ことなく、より正確なウェーハ・プレアライメントを行
うことが可能になる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスの
製造プロセスのリソグラフィ工程において使用される縮
小投影露光装置に関するものである。
製造プロセスのリソグラフィ工程において使用される縮
小投影露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】縮小投影露光装置は、1μmレベル以下
のパターン形成において主流技術として用いられている
中心的な製造装置である。この縮小投影露光装置におい
ては、通常、5倍乃至10倍の寸法のレチクルをマスク
として用い、このレチクル上に描画されたパターンを光
学系によって原寸まで縮小してウェーハ上に投影露光す
る。そしてレチクル上の設計パターンとウェーハ上の既
存のパターンとを最適の相対的位置関係に重ね合わせる
アライメントの精度は、解像度やスループットと共に、
この縮小投影露光装置の最も重要な性能要素である。
のパターン形成において主流技術として用いられている
中心的な製造装置である。この縮小投影露光装置におい
ては、通常、5倍乃至10倍の寸法のレチクルをマスク
として用い、このレチクル上に描画されたパターンを光
学系によって原寸まで縮小してウェーハ上に投影露光す
る。そしてレチクル上の設計パターンとウェーハ上の既
存のパターンとを最適の相対的位置関係に重ね合わせる
アライメントの精度は、解像度やスループットと共に、
この縮小投影露光装置の最も重要な性能要素である。
【0003】このアライメント精度を向上させると共
に、アライメントのスループットを向上させるため、通
常の縮小投影露光装置においては、レチクル上の設計パ
ターンのアライメント・マークとウェーハ上の既存のパ
ターンのアライメント・マークとの位置合わせを行う前
段に、ウェーハ・プリアライメント及びレチクル・アラ
イメントを行っている。
に、アライメントのスループットを向上させるため、通
常の縮小投影露光装置においては、レチクル上の設計パ
ターンのアライメント・マークとウェーハ上の既存のパ
ターンのアライメント・マークとの位置合わせを行う前
段に、ウェーハ・プリアライメント及びレチクル・アラ
イメントを行っている。
【0004】ここで、ウェーハ・プリアライメントと
は、ウェーハのオリエンテーションフラット(以下、
「オリフラ」という)方向を所定の方向に合わせてウェ
ーハの位置合わせを行うことをいい、レチクル・アライ
メントとは、縮小投影露光装置に固定された所定の基準
に対してレチクルの位置合わせを行うことをいう。
は、ウェーハのオリエンテーションフラット(以下、
「オリフラ」という)方向を所定の方向に合わせてウェ
ーハの位置合わせを行うことをいい、レチクル・アライ
メントとは、縮小投影露光装置に固定された所定の基準
に対してレチクルの位置合わせを行うことをいう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
縮小投影露光装置においては、投光センサ又は赤外線セ
ンサ等の光電検出器による1点制御によりウェーハ・プ
リアライメントを行っていた。即ち、ウェーハの円弧部
周辺より内側の所定の位置を上下に挟んで設置されてい
る発光部と受光部とから構成される1つの光電検出器が
ウェーハのオリフラ部を検出した時点でウェーハの回転
を停止することにより、ウェーハの位置合わせを行って
いた。
縮小投影露光装置においては、投光センサ又は赤外線セ
ンサ等の光電検出器による1点制御によりウェーハ・プ
リアライメントを行っていた。即ち、ウェーハの円弧部
周辺より内側の所定の位置を上下に挟んで設置されてい
る発光部と受光部とから構成される1つの光電検出器が
ウェーハのオリフラ部を検出した時点でウェーハの回転
を停止することにより、ウェーハの位置合わせを行って
いた。
【0006】このように1つの光電検出器がウェーハの
オリフラ部の1点を検出して位置合わせを行っていたた
め、ウェーハが僅かにずれてウェーハチャックに吸着保
持される場合、即ちウェーハの中心とウェーハの回転中
心とが僅かにずれている場合、ウェーハのオリフラ方向
が所定の方向から僅かにずれた状態でも光電検出器がウ
ェーハのオリフラ部を検出することになり、ウェーハの
回転方向に僅かにずれた状態でウェーハの位置決めがな
される。このため、従来のウェーハのプレアライメント
においては、各ウェーハ間に若干の回転方向のずれが生
じるという問題があった。
オリフラ部の1点を検出して位置合わせを行っていたた
め、ウェーハが僅かにずれてウェーハチャックに吸着保
持される場合、即ちウェーハの中心とウェーハの回転中
心とが僅かにずれている場合、ウェーハのオリフラ方向
が所定の方向から僅かにずれた状態でも光電検出器がウ
ェーハのオリフラ部を検出することになり、ウェーハの
回転方向に僅かにずれた状態でウェーハの位置決めがな
される。このため、従来のウェーハのプレアライメント
においては、各ウェーハ間に若干の回転方向のずれが生
じるという問題があった。
【0007】また、従来の縮小投影露光装置において
は、搬送されてきたレチクルをレチクルホルダ上にセッ
トした後、所定の基準に対してレチクルの位置合わせを
行うレチクル・アライメントを行っていた。このため、
レチクルを1枚搬送するたびに毎回アライメント値の異
なるレチクル・アライメントを実施しなければならず、
その分スループットが低下するという問題があった。
は、搬送されてきたレチクルをレチクルホルダ上にセッ
トした後、所定の基準に対してレチクルの位置合わせを
行うレチクル・アライメントを行っていた。このため、
レチクルを1枚搬送するたびに毎回アライメント値の異
なるレチクル・アライメントを実施しなければならず、
その分スループットが低下するという問題があった。
【0008】そこで本発明は、上記課題を解決すべく、
ウェーハのプレアライメントにおける回転方向のずれを
解消し、又はレチクル・アライメントを簡略化して、ア
ライメント精度の向上及びアライメントのスループット
の向上を実現することが可能な縮小投影露光装置を提供
することを目的とする。
ウェーハのプレアライメントにおける回転方向のずれを
解消し、又はレチクル・アライメントを簡略化して、ア
ライメント精度の向上及びアライメントのスループット
の向上を実現することが可能な縮小投影露光装置を提供
することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の本発
明に係る縮小投影露光装置により達成される。即ち、請
求項1に係る縮小投影露光装置は、ウェーハローダによ
り搬送されてきたウェーハを吸着保持する回転可能なウ
ェーハチャックと、ウェーハのオリフラ部を検出するた
めの2つの光電検出器とを有し、ウェーハチャックによ
り吸着保持されているウェーハを回転させ、2つの光電
検出器が同時にウェーハのオリフラ部を検出した時点で
ウェーハの回転を停止することにより、ウェーハのプレ
アライメントを行うことを特徴とする。
明に係る縮小投影露光装置により達成される。即ち、請
求項1に係る縮小投影露光装置は、ウェーハローダによ
り搬送されてきたウェーハを吸着保持する回転可能なウ
ェーハチャックと、ウェーハのオリフラ部を検出するた
めの2つの光電検出器とを有し、ウェーハチャックによ
り吸着保持されているウェーハを回転させ、2つの光電
検出器が同時にウェーハのオリフラ部を検出した時点で
ウェーハの回転を停止することにより、ウェーハのプレ
アライメントを行うことを特徴とする。
【0010】このように請求項1に係る縮小投影露光装
置においては、2つの光電検出器による2点制御、即ち
2つの光電検出器が同時にウェーハのオリフラ部を検出
した時点でウェーハの位置合わせを行うことにより、ウ
ェーハチャックに吸着保持されたウェーハの中心とウェ
ーハの回転中心とが僅かにずれている場合であっても、
オリフラ方向を所定の方向に正確に合わせてウェーハの
位置合わせを行うことができるため、ウェーハの回転方
向のずれを生じることなく、より正確なウェーハ・プレ
アライメントを行うことが可能になる。
置においては、2つの光電検出器による2点制御、即ち
2つの光電検出器が同時にウェーハのオリフラ部を検出
した時点でウェーハの位置合わせを行うことにより、ウ
ェーハチャックに吸着保持されたウェーハの中心とウェ
ーハの回転中心とが僅かにずれている場合であっても、
オリフラ方向を所定の方向に正確に合わせてウェーハの
位置合わせを行うことができるため、ウェーハの回転方
向のずれを生じることなく、より正確なウェーハ・プレ
アライメントを行うことが可能になる。
【0011】上記縮小投影露光装置において、2つの光
電検出器がウェーハのオリフラ部の長さより短い間隔を
おいて配置され、光電検出器がウェーハの円弧部周辺よ
り内側の所定の位置を上下に挟んで設置されているレー
ザ発光部とレーザ受光部とから構成されていることが好
ましい。2つの光電検出器がウェーハのオリフラ部の長
さより短い間隔をおいて配置されていると、2つの光電
検出器が同時にウェーハのオリフラ部を検出することが
可能となる。なお、この範囲内であれば、オリフラ方向
をより正確に定めるためには、2つの光電検出器の間隔
はできるだけ広いことが望ましい。
電検出器がウェーハのオリフラ部の長さより短い間隔を
おいて配置され、光電検出器がウェーハの円弧部周辺よ
り内側の所定の位置を上下に挟んで設置されているレー
ザ発光部とレーザ受光部とから構成されていることが好
ましい。2つの光電検出器がウェーハのオリフラ部の長
さより短い間隔をおいて配置されていると、2つの光電
検出器が同時にウェーハのオリフラ部を検出することが
可能となる。なお、この範囲内であれば、オリフラ方向
をより正確に定めるためには、2つの光電検出器の間隔
はできるだけ広いことが望ましい。
【0012】また、光電検出器がウェーハの円弧部周辺
より内側の所定の位置を上下に挟んで設置されているレ
ーザ発光部とレーザ受光部とから構成されているため、
ウェーハが回転している際、ウェーハの円弧部において
はレーザ発光部からのレーザ光はウェーハによって遮光
され、ウェーハのオリフラ部においてはレーザ発光部か
らのレーザ光がレーザ受光部によって検知される。こう
して光電検出器によりウェーハのオリフラ部の検出が可
能となる。
より内側の所定の位置を上下に挟んで設置されているレ
ーザ発光部とレーザ受光部とから構成されているため、
ウェーハが回転している際、ウェーハの円弧部において
はレーザ発光部からのレーザ光はウェーハによって遮光
され、ウェーハのオリフラ部においてはレーザ発光部か
らのレーザ光がレーザ受光部によって検知される。こう
して光電検出器によりウェーハのオリフラ部の検出が可
能となる。
【0013】なお、光電検出器の構成としては、上記の
場合のほか、レーザ発光部とレーザ受光部とがウェーハ
に対して同一側に設置されてもよい。この場合は、ウェ
ーハの円弧部においてはレーザ発光部からのレーザ光の
ウェーハによる反射光をレーザ受光部によって検知し、
ウェーハのオリフラ部においてはレーザ発光部からのレ
ーザ光のウェーハによる反射光はレーザ受光部によって
検知されないことにより、ウェーハのオリフラ部を検出
することになる。
場合のほか、レーザ発光部とレーザ受光部とがウェーハ
に対して同一側に設置されてもよい。この場合は、ウェ
ーハの円弧部においてはレーザ発光部からのレーザ光の
ウェーハによる反射光をレーザ受光部によって検知し、
ウェーハのオリフラ部においてはレーザ発光部からのレ
ーザ光のウェーハによる反射光はレーザ受光部によって
検知されないことにより、ウェーハのオリフラ部を検出
することになる。
【0014】また、請求項3に係る縮小投影露光装置
は、レチクルローダにより搬送されてきたレチクルを保
持するレチクルホルダと、このレチクルホルダ上に設置
されたガイドとを有し、レチクルローダにより搬送され
てきたレチクルをガイドに沿ってレチクルホルダ上にセ
ットすることにより、レチクルのアライメントを行うこ
とを特徴とする。このように請求項3に係る縮小投影露
光装置においては、レチクルホルダ上に設置されたガイ
ドに沿ってレチクルホルダ上にレチクルをセットするた
め、ガイドに沿ったセッティング自体がレチクルのアラ
イメントとなり、搬送されてきたレチクル毎にアライメ
ント値の異なるレチクル・アライメントを実施する必要
がなくなる。
は、レチクルローダにより搬送されてきたレチクルを保
持するレチクルホルダと、このレチクルホルダ上に設置
されたガイドとを有し、レチクルローダにより搬送され
てきたレチクルをガイドに沿ってレチクルホルダ上にセ
ットすることにより、レチクルのアライメントを行うこ
とを特徴とする。このように請求項3に係る縮小投影露
光装置においては、レチクルホルダ上に設置されたガイ
ドに沿ってレチクルホルダ上にレチクルをセットするた
め、ガイドに沿ったセッティング自体がレチクルのアラ
イメントとなり、搬送されてきたレチクル毎にアライメ
ント値の異なるレチクル・アライメントを実施する必要
がなくなる。
【0015】上記縮小投影露光装置において、ガイド
は、レチクルの大きさ及び形状に合わせてレチクルホル
ダ上の四辺に設置されているのが好ましい。このよう
に、ガイドが、レチクルの大きさ及び形状に合わせてレ
チクルホルダ上の四辺に設置されていると、ガイドに沿
ってセットされたレチクルは、その上下、左右方向のみ
ならず、その回転方向のずれを補正する必要がなくな
る。また、上記縮小投影露光装置において、ガイドのレ
チクルに接する側面は傾斜していることが好ましい。こ
のように、ガイドのレチクルに接する側面が傾斜してい
ると、レチクル周辺部を傷つけることなく、スムーズに
レチクルをガイドに沿ってレチクルホルダ上にセットす
ることができる。
は、レチクルの大きさ及び形状に合わせてレチクルホル
ダ上の四辺に設置されているのが好ましい。このよう
に、ガイドが、レチクルの大きさ及び形状に合わせてレ
チクルホルダ上の四辺に設置されていると、ガイドに沿
ってセットされたレチクルは、その上下、左右方向のみ
ならず、その回転方向のずれを補正する必要がなくな
る。また、上記縮小投影露光装置において、ガイドのレ
チクルに接する側面は傾斜していることが好ましい。こ
のように、ガイドのレチクルに接する側面が傾斜してい
ると、レチクル周辺部を傷つけることなく、スムーズに
レチクルをガイドに沿ってレチクルホルダ上にセットす
ることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら、
本発明の実施の形態を説明する。 (第1の実施の形態)本発明の第1の実施の形態に係る
縮小投影露光装置におけるウェーハ・プレアライメント
を、図1及び図2を用いて説明する。ここで、図1
(a)乃至(c)はそれぞれ第1の実施の形態に係るウ
ェーハ・プレアライメントを説明するための平面図、図
2(a)、(b)はそれぞれ図1のA−A′線断面図及
びB−B′線断面図である。
本発明の実施の形態を説明する。 (第1の実施の形態)本発明の第1の実施の形態に係る
縮小投影露光装置におけるウェーハ・プレアライメント
を、図1及び図2を用いて説明する。ここで、図1
(a)乃至(c)はそれぞれ第1の実施の形態に係るウ
ェーハ・プレアライメントを説明するための平面図、図
2(a)、(b)はそれぞれ図1のA−A′線断面図及
びB−B′線断面図である。
【0017】図1(a)に示すように、円板状のウェー
ハ10には結晶軸の方向を示すためのオリフラ部12が
設けられている。そしてこのウェーハ10は、図中の矢
印で示すように、ウェーハローダ(図示せず)によって
ウェーハチャック14及び2つの光電検出器16、18
が設置されているプレアライメント部に搬送されてく
る。ここで、2つの光電検出器16、18は、ウェーハ
10のオリフラ部14の長さより僅かに短い間隔をおい
て配置されている。また、プレアライメント部に搬送さ
れてくるときのウェーハ10のオリフラ部14は、ラン
ダムな方向を向いている。
ハ10には結晶軸の方向を示すためのオリフラ部12が
設けられている。そしてこのウェーハ10は、図中の矢
印で示すように、ウェーハローダ(図示せず)によって
ウェーハチャック14及び2つの光電検出器16、18
が設置されているプレアライメント部に搬送されてく
る。ここで、2つの光電検出器16、18は、ウェーハ
10のオリフラ部14の長さより僅かに短い間隔をおい
て配置されている。また、プレアライメント部に搬送さ
れてくるときのウェーハ10のオリフラ部14は、ラン
ダムな方向を向いている。
【0018】次いで、図1(b)に示すように、プレア
ライメント部に搬送されてきたウェーハ10をウェーハ
チャック12上に吸着保持する。そしてウェーハチャッ
ク12を、例えば図中に矢印で示すように回転させるこ
とにより、その上に吸着保持したウェーハ10の回転補
正を行う。そしてこのウェーハ10の回転に伴い、先ず
2つの光電検出器16、18のいずれか一方が、例えば
光電検出器16が、ウェーハ10のオリフラ部14を検
出する。
ライメント部に搬送されてきたウェーハ10をウェーハ
チャック12上に吸着保持する。そしてウェーハチャッ
ク12を、例えば図中に矢印で示すように回転させるこ
とにより、その上に吸着保持したウェーハ10の回転補
正を行う。そしてこのウェーハ10の回転に伴い、先ず
2つの光電検出器16、18のいずれか一方が、例えば
光電検出器16が、ウェーハ10のオリフラ部14を検
出する。
【0019】即ち、図2(a)に示すように、光電検出
器16はウェーハ10の円弧部周辺より少し内側の所定
の位置を上下に挟んで設置されているレーザ発光部16
aとレーザ受光部16bとから構成されているため、ウ
ェーハ10の回転によってウェーハ10のオリフラ部1
4が光電検出器16の設置位置にくると、レーザ発光部
16aから出射された例えば0.5mmφのレーザ光1
9がレーザ受光部16bに入射する。そしてこのレーザ
受光部16bから所定の信号が信号処理部(図示せず)
に送られ、この信号処理部は2つの光電検出器16、1
8のいずれか一方がウェーハ10のオリフラ部14を検
出したことを確認する。
器16はウェーハ10の円弧部周辺より少し内側の所定
の位置を上下に挟んで設置されているレーザ発光部16
aとレーザ受光部16bとから構成されているため、ウ
ェーハ10の回転によってウェーハ10のオリフラ部1
4が光電検出器16の設置位置にくると、レーザ発光部
16aから出射された例えば0.5mmφのレーザ光1
9がレーザ受光部16bに入射する。そしてこのレーザ
受光部16bから所定の信号が信号処理部(図示せず)
に送られ、この信号処理部は2つの光電検出器16、1
8のいずれか一方がウェーハ10のオリフラ部14を検
出したことを確認する。
【0020】他方、図2(b)に示すように、光電検出
器18も、光電検出器16と全く同様にウェーハ10の
円弧部周辺より少し内側の所定の位置を上下に挟んで設
置されているレーザ発光部18aとレーザ受光部18b
とから構成されているが、ウェーハ10のオリフラ部1
4ではなくその円弧部が光電検出器18の設置位置にき
ているため、レーザ発光部18aから出射されたレーザ
光19はウェーハ10によって遮光され、レーザ光19
がレーザ受光部16bに入射することはない。従って、
このレーザ受光部16bからは所定の信号が信号処理部
に送られないため、信号処理部は2つの光電検出器1
6、18のいずれか一方はウェーハ10のオリフラ部1
4を検出していないことを確認する。
器18も、光電検出器16と全く同様にウェーハ10の
円弧部周辺より少し内側の所定の位置を上下に挟んで設
置されているレーザ発光部18aとレーザ受光部18b
とから構成されているが、ウェーハ10のオリフラ部1
4ではなくその円弧部が光電検出器18の設置位置にき
ているため、レーザ発光部18aから出射されたレーザ
光19はウェーハ10によって遮光され、レーザ光19
がレーザ受光部16bに入射することはない。従って、
このレーザ受光部16bからは所定の信号が信号処理部
に送られないため、信号処理部は2つの光電検出器1
6、18のいずれか一方はウェーハ10のオリフラ部1
4を検出していないことを確認する。
【0021】このように2つの光電検出器16、18の
いずれか一方しかウェーハ10のオリフラ部14を検出
していない場合には、ウェーハ10を吸着保持したウェ
ーハチャック12の回転を停止しない。
いずれか一方しかウェーハ10のオリフラ部14を検出
していない場合には、ウェーハ10を吸着保持したウェ
ーハチャック12の回転を停止しない。
【0022】次いで、図1(c)に示すように、ウェー
ハ10の回転が更に進むと、2つの光電検出器16、1
8の両方がウェーハ10のオリフラ部14を同時に検出
することになる。この場合は、図2(a)に示す場合と
同様にして、光電検出器16のレーザ発光部16aから
出射された0.5mmφのレーザ光19がレーザ受光部
16bに入射する。また、同時に、光電検出器18のレ
ーザ発光部18aから出射された0.5mmφのレーザ
光19もレーザ受光部18bに入射する。
ハ10の回転が更に進むと、2つの光電検出器16、1
8の両方がウェーハ10のオリフラ部14を同時に検出
することになる。この場合は、図2(a)に示す場合と
同様にして、光電検出器16のレーザ発光部16aから
出射された0.5mmφのレーザ光19がレーザ受光部
16bに入射する。また、同時に、光電検出器18のレ
ーザ発光部18aから出射された0.5mmφのレーザ
光19もレーザ受光部18bに入射する。
【0023】従って、これらのレーザ受光部16b、1
8bから送られてきた所定の信号により、信号処理部は
2つの光電検出器16、18の両方がウェーハ10のオ
リフラ部14を検出したことを確認し、ウェーハ10を
吸着保持したウェーハチャック12の回転を停止する。
このようにして2つの光電検出器16、18によるウェ
ーハ10のオリフラ部14の同時検出により、ウェーハ
10の回転補正が完了する。
8bから送られてきた所定の信号により、信号処理部は
2つの光電検出器16、18の両方がウェーハ10のオ
リフラ部14を検出したことを確認し、ウェーハ10を
吸着保持したウェーハチャック12の回転を停止する。
このようにして2つの光電検出器16、18によるウェ
ーハ10のオリフラ部14の同時検出により、ウェーハ
10の回転補正が完了する。
【0024】このように本実施の形態に係る縮小投影露
光装置においては、プレアライメント部に2つの光電検
出器16、18を設置し、これら2つの光電検出器1
6、18によりウェーハ10のオリフラ部14の同時検
出することにより、ウェーハ10のオリフラ方向を所定
の方向に正確に合わせてウェーハの位置合わせを行うこ
とができるため、ウェーハ10の回転方向のずれを生じ
ることなく、より正確にウェーハ・プレアライメントを
行うことが可能になる。
光装置においては、プレアライメント部に2つの光電検
出器16、18を設置し、これら2つの光電検出器1
6、18によりウェーハ10のオリフラ部14の同時検
出することにより、ウェーハ10のオリフラ方向を所定
の方向に正確に合わせてウェーハの位置合わせを行うこ
とができるため、ウェーハ10の回転方向のずれを生じ
ることなく、より正確にウェーハ・プレアライメントを
行うことが可能になる。
【0025】(第2の実施の形態)本発明の第2の実施
の形態に係る縮小投影露光装置におけるレチクル・アラ
イメントを、図3乃至図6を用いて説明する。ここで、
図3は第2の実施の形態に係るレチクル・アライメント
に使用するレチクルを示す平面図、図4は図3のレチク
ルをセットするレチクルホルダを示す平面図、図5は図
3のレチクルを図4のレチクルホルダにセットした様子
を示す平面図、図6は図5のC−C′線断面図である。
の形態に係る縮小投影露光装置におけるレチクル・アラ
イメントを、図3乃至図6を用いて説明する。ここで、
図3は第2の実施の形態に係るレチクル・アライメント
に使用するレチクルを示す平面図、図4は図3のレチク
ルをセットするレチクルホルダを示す平面図、図5は図
3のレチクルを図4のレチクルホルダにセットした様子
を示す平面図、図6は図5のC−C′線断面図である。
【0026】図3に示すように、レチクル20は正方形
をなしており、所定の設計パターンが5倍乃至10倍の
寸法で描画されている。また、図4に示すように、レチ
クルホルダ22は、図3に示すレチクル20をセットし
て、縮小投影光学系に対して所定の位置に保持するよう
になっている。そして本実施の形態においては、レチク
ルホルダ22上の四辺にそれぞれガイド24a、24
b、24c、24dが設置されている点に特徴がある。
また、これらの4つのガイド24a、24b、24c、
24dはレチクル20の大きさ及び形状に合わせて互い
に直交する方向に配置されており、レチクルホルダ22
上にセットされたレチクル20の四辺にそれぞれ密接す
るようになっている。
をなしており、所定の設計パターンが5倍乃至10倍の
寸法で描画されている。また、図4に示すように、レチ
クルホルダ22は、図3に示すレチクル20をセットし
て、縮小投影光学系に対して所定の位置に保持するよう
になっている。そして本実施の形態においては、レチク
ルホルダ22上の四辺にそれぞれガイド24a、24
b、24c、24dが設置されている点に特徴がある。
また、これらの4つのガイド24a、24b、24c、
24dはレチクル20の大きさ及び形状に合わせて互い
に直交する方向に配置されており、レチクルホルダ22
上にセットされたレチクル20の四辺にそれぞれ密接す
るようになっている。
【0027】また、図5及び図6に示すように、レチク
ル20は、レチクルローダ(図示せず)によりレチクル
ホルダ22上方に搬送され、4つのガイド24a、24
b、24c、24dに沿ってレチクルホルダ22上にセ
ットされる。このとき、ガイド24a、24b、24
c、24dのレチクル20に接する側面が滑らかに傾斜
しているため、レチクル20周辺部を傷つけることな
く、スムーズにガイド24a、24b、24c、24d
に沿ってレチクルホルダ22上にセットすることができ
る。
ル20は、レチクルローダ(図示せず)によりレチクル
ホルダ22上方に搬送され、4つのガイド24a、24
b、24c、24dに沿ってレチクルホルダ22上にセ
ットされる。このとき、ガイド24a、24b、24
c、24dのレチクル20に接する側面が滑らかに傾斜
しているため、レチクル20周辺部を傷つけることな
く、スムーズにガイド24a、24b、24c、24d
に沿ってレチクルホルダ22上にセットすることができ
る。
【0028】また、レチクルホルダ22上にセットした
後は、4つのガイド24a、24b、24c、24dが
レチクル20の四辺にそれぞれ密接してレチクル20の
位置を固定しているため、即ち4つのガイド24a、2
4b、24c、24dに沿ったレチクルホルダ22上へ
のセッティング自体がレチクル20のアライメントとな
るため、改めてレチクル20の上下・左右方向及び回転
方向のずれを補正する必要がなくなる。
後は、4つのガイド24a、24b、24c、24dが
レチクル20の四辺にそれぞれ密接してレチクル20の
位置を固定しているため、即ち4つのガイド24a、2
4b、24c、24dに沿ったレチクルホルダ22上へ
のセッティング自体がレチクル20のアライメントとな
るため、改めてレチクル20の上下・左右方向及び回転
方向のずれを補正する必要がなくなる。
【0029】このように本実施の形態に係る縮小投影露
光装置においては、レチクルホルダ22上の四辺にレチ
クル20の大きさ及び形状に合わせてガイド24a、2
4b、24c、24dがそれぞれ設置されていることに
より、これらのガイド24a、24b、24c、24d
に沿ってレチクル20をレチクルホルダ22上にセット
することが直ちにレチクル20のアライメントとなるた
め、レチクル20の上下・左右方向及び回転方向のずれ
を補正することなく、正確なレチクル・アライメントを
行うことが可能になる。
光装置においては、レチクルホルダ22上の四辺にレチ
クル20の大きさ及び形状に合わせてガイド24a、2
4b、24c、24dがそれぞれ設置されていることに
より、これらのガイド24a、24b、24c、24d
に沿ってレチクル20をレチクルホルダ22上にセット
することが直ちにレチクル20のアライメントとなるた
め、レチクル20の上下・左右方向及び回転方向のずれ
を補正することなく、正確なレチクル・アライメントを
行うことが可能になる。
【0030】
【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明に係
る縮小投影露光装置によれば、2つの光電検出器が同時
にウェーハのオリフラ部を検出した時点でウェーハの位
置合わせを行うことにより、ウェーハの回転方向のずれ
を生じることなく、より正確なウェーハ・プレアライメ
ントを行うことが可能になるため、縮小投影露光装置に
おけるアライメント精度を向上させることができる。ま
た、2つの光電検出器がウェーハのオリフラ部の長さよ
り短い間隔をおいて配置され、その光電検出器がウェー
ハの円弧部周辺より内側の所定の位置を上下に挟んで設
置されているレーザ発光部とレーザ受光部とから構成さ
れていることにより、回転しているウェーハの円弧部に
おいてはレーザ発光部からのレーザ光はウェーハによっ
て遮光され、ウェーハのオリフラ部においてはレーザ発
光部からのレーザ光がレーザ受光部によって検知される
ため、2つの光電検出器が同時にウェーハのオリフラ部
を検出することが可能となる。また、本発明に係る縮小
投影露光装置によれば、レチクルホルダ上にガイドが設
置されていることにより、このガイドに沿ってレチクル
ホルダ上にレチクルをセットすること自体がレチクルの
アライメントとなるため、搬送されてきたレチクル毎に
アライメント値の異なるレチクル・アライメントを実施
する必要はなくなり、正確なレチクル・アライメントを
行うことが可能になると共に、縮小投影露光装置におけ
るアライメントのスループットを向上させることができ
る。また、ガイドがレチクルの大きさ及び形状に合わせ
てレチクルホルダ上の四辺に設置されていることによ
り、ガイドに沿ってセットされたレチクルは、その上下
・左右方向及び回転方向のずれを補正する必要がなくな
る。また、ガイドのレチクルに接する側面が傾斜してい
ることにより、レチクル周辺部を傷つけることなく、ス
ムーズにレチクルをガイドに沿ってレチクルホルダ上に
セットすることができる。
る縮小投影露光装置によれば、2つの光電検出器が同時
にウェーハのオリフラ部を検出した時点でウェーハの位
置合わせを行うことにより、ウェーハの回転方向のずれ
を生じることなく、より正確なウェーハ・プレアライメ
ントを行うことが可能になるため、縮小投影露光装置に
おけるアライメント精度を向上させることができる。ま
た、2つの光電検出器がウェーハのオリフラ部の長さよ
り短い間隔をおいて配置され、その光電検出器がウェー
ハの円弧部周辺より内側の所定の位置を上下に挟んで設
置されているレーザ発光部とレーザ受光部とから構成さ
れていることにより、回転しているウェーハの円弧部に
おいてはレーザ発光部からのレーザ光はウェーハによっ
て遮光され、ウェーハのオリフラ部においてはレーザ発
光部からのレーザ光がレーザ受光部によって検知される
ため、2つの光電検出器が同時にウェーハのオリフラ部
を検出することが可能となる。また、本発明に係る縮小
投影露光装置によれば、レチクルホルダ上にガイドが設
置されていることにより、このガイドに沿ってレチクル
ホルダ上にレチクルをセットすること自体がレチクルの
アライメントとなるため、搬送されてきたレチクル毎に
アライメント値の異なるレチクル・アライメントを実施
する必要はなくなり、正確なレチクル・アライメントを
行うことが可能になると共に、縮小投影露光装置におけ
るアライメントのスループットを向上させることができ
る。また、ガイドがレチクルの大きさ及び形状に合わせ
てレチクルホルダ上の四辺に設置されていることによ
り、ガイドに沿ってセットされたレチクルは、その上下
・左右方向及び回転方向のずれを補正する必要がなくな
る。また、ガイドのレチクルに接する側面が傾斜してい
ることにより、レチクル周辺部を傷つけることなく、ス
ムーズにレチクルをガイドに沿ってレチクルホルダ上に
セットすることができる。
【図1】図1(a)乃至(c)はそれぞれ第1の実施の
形態に係るウェーハ・プレアライメントを説明するため
の平面図である。
形態に係るウェーハ・プレアライメントを説明するため
の平面図である。
【図2】図2(a)、(b)はそれぞれ図1のA−A′
線断面図及びB−B′線断面図である。
線断面図及びB−B′線断面図である。
【図3】図3は第2の実施の形態に係るレチクル・アラ
イメントに使用するレチクルを示す平面図である。
イメントに使用するレチクルを示す平面図である。
【図4】図4は図3のレチクルをセットするレチクルホ
ルダを示す平面図である。
ルダを示す平面図である。
【図5】図5は図3のレチクルを図4のレチクルホルダ
にセットした様子を示す平面図である。
にセットした様子を示す平面図である。
【図6】図6は図5のC−C′線断面図である。
10……ウェーハ、12……オリフラ部、14……ウェ
ーハチャック、16、18……光電検出器、16a、1
8a……レーザ発光部、16b、18b……レーザ受光
部、19……レーザ光、20……レチクル、22……レ
チクルホルダ、24a、24b、24c、24d……ガ
イド。
ーハチャック、16、18……光電検出器、16a、1
8a……レーザ発光部、16b、18b……レーザ受光
部、19……レーザ光、20……レチクル、22……レ
チクルホルダ、24a、24b、24c、24d……ガ
イド。
Claims (5)
- 【請求項1】 ウェーハローダにより搬送されてきたウ
ェーハを吸着保持する回転可能なウェーハチャックと、 前記ウェーハのオリエンテーションフラット部を検出す
るための2つの光電検出器と、を有し、 前記ウェーハチャックにより吸着保持されている前記ウ
ェーハを回転させ、前記2つの光電検出器が同時に前記
ウェーハのオリエンテーションフラット部を検出した時
点で前記ウェーハの回転を停止することにより、前記ウ
ェーハのプレアライメントを行うことを特徴とする縮小
投影露光装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の縮小投影露光装置におい
て、 前記2つの光電検出器が、前記ウェーハのオリエンテー
ションフラット部の長さより短い間隔をおいて配置さ
れ、 前記光電検出器が、前記ウェーハの円弧部周辺より内側
の所定の位置を上下に挟んで設置されているレーザ発光
部とレーザ受光部とから構成されていることを特徴とす
る縮小投影露光装置。 - 【請求項3】 レチクルローダにより搬送されてきたレ
チクルを保持するレチクルホルダと、 前記レチクルホルダ上に設置されたガイドと、を有し、 前記レチクルローダにより搬送されてきた前記レチクル
を前記ガイドに沿って前記レチクルホルダ上にセットす
ることにより、前記レチクルのアライメントを行うこと
を特徴とする縮小投影露光装置。 - 【請求項4】 請求項3記載の縮小投影露光装置におい
て、 前記ガイドが、前記レチクルの大きさ及び形状に合わせ
て前記レチクルホルダ上の四辺に設置されていることを
特徴とする縮小投影露光装置。 - 【請求項5】 請求項3又は4に記載の縮小投影露光装
置において、 前記ガイドの前記レチクルに接する側面が傾斜している
ことを特徴とする縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20015596A JPH1050808A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20015596A JPH1050808A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1050808A true JPH1050808A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16419711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20015596A Pending JPH1050808A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1050808A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100666470B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2007-01-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 오리엔팅 기구를 갖는 웨이퍼 노광 장치 |
-
1996
- 1996-07-30 JP JP20015596A patent/JPH1050808A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100666470B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2007-01-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 오리엔팅 기구를 갖는 웨이퍼 노광 장치 |
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