JPH10512874A - 2−(置換ベンゾイル)−1,3−シクロヘキサンジオン類の製造方法 - Google Patents

2−(置換ベンゾイル)−1,3−シクロヘキサンジオン類の製造方法

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JPH10512874A JP8522701A JP52270196A JPH10512874A JP H10512874 A JPH10512874 A JP H10512874A JP 8522701 A JP8522701 A JP 8522701A JP 52270196 A JP52270196 A JP 52270196A JP H10512874 A JPH10512874 A JP H10512874A
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Abstract

(57)【要約】 式(I)(式中、R1,R2,R3,R4,R5およびR6は、独立して水素またはC1-6アルキルであり;R7は水素,シアノ,ニトロ,C1-4アルキル,C1-4ハロアルキル,C1-4アルコキシまたはRas(式中、RaはC1-4アルキルである)であり;R8,R9およびR10が独立して水素,ハロゲン,C1-4アルキル,C1-4アルコキシ,C1-4ハロアルキル,C1-4ハロアルコキシ,シアノ,ニトロ,フェノキシもしくは置換されたフェノキシ;RbS(O)nm(式中、mはゼロまたは1であり,nはゼロ,1または2であり,RbはC1-4アルキル,C1-4ハロアルキル,フェニルもしくはベンジル,NHCORc(式中、RcはC1-4アルキルである),またはNRdRe(式中、RdおよびReは独立して水素もしくはC1-4アルキルである)である);RfC(O)−(式中、Rfは水素,C1-4アルキル,C1-4ハロアルキルまたはC1-4アルコキシである);またはSO2NRgRh(式中、RgおよびRhが独立して水素またはC1-4アルキルである)であるか;あるいはR8,R9およびR10の任意の2個がそれらが結合している炭素原子と一緒になって,酸素原子、窒素原子または硫黄原子から選択された3個以下のヘテロ原子を含有する5員環もしくは6員環の複素環を形成し、かつ当該複素環は所望によりC1-4アルキル,C1-4ハロアルキル,C1-4アルコキシ,=NOC1-4アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよい)の化合物の製造方法において、式(II)(式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8,R9およびR10は式(I)に関して定義された通りである)の化合物を塩基および極性非プロトン性溶媒の存在下で転位させることを含む製造方法であって、当該方法がシアン化水素またはシアン陰イオンを実質的に含まない反応媒質中で実施されることを特徴とする前記方法。

Description

【発明の詳細な説明】 2−(置換ベンゾイル)−1,3−シクロヘキサンジオン類の製造方法 本発明は2−(置換ベンゾイル)−1,3−シクロヘキサンジオン化合物の製 造に関する。 2−(置換ベンゾイル)−1,3−シクロヘキサンジオン類は、例えば、米国 特許第4,780,127号、米国特許第4,806,146号,米国特許第4 ,946,981号,米国特許第5,006,158号,国際出願公開第940 8988号および国際出願公開第9404524号から除草剤として公知である 。これらの化合物を製造する一方法は、エノールエステルの転位による。この方 法は米国特許第4,780,127号および米国特許第4,695,673号に 記載されている。これらの転位反応において、シアン化水素およびシアン陰イオ ン(cyanide anion)の存在が必須であると記載されている(一般的に当該エノ ールエステルに対して1−10モル%の量).工業的規模の製造方法においては 、そのような物質の使用を避けることが望ましい。驚くべきことに、ある溶媒中 においてシアン化水素もしくはシアン陰イオンの非存在下でこの転位反応を行う ことが可能であることが今回見いだされた。 本発明によれば、式(I)(式中、R1,R2,R3,R4,R5およびR6は独立 して水素またはC1-6アルキルであり;R7はハロゲン,シアノ,ニトロ,C1-4 アルキル,C1-4ハロアルキル,C1-4アルコキシまたはRaS(式中、RaはC1-4 アルキルである)であり;R8,R9およびR10は独立して水素,ハロゲン, C1-4アルキル,C1-4アルコキシ,C1-4ハロアルキル,C1-4ハロアルコキシ, シアノ,ニトロ,フェノキシもしくは置換されたフェノキシ;RbS(O)nm (式中、mはゼロまたは1であり,nはゼロ,1または2であり,RbはC1-4 アルキル,C1-4ハロアルキル,フェニルもしくはベンジル,NHCORc(式 中、RcはC1-4アルキルである),またはNRdRe(式中、RdおよびRe は独立して水素またはC1-4アルキルである)である);RfC(O)−(式中 、 Rfは水素,C1-4アルキル,C1-4ハロアルキルまたはC1-4アルコキシである );またはSO2NRgRh(式中、RgおよびRhは独立して水素またはC1-4 アルキルである)であるか;あるいはR8,R9およびR10の任意の2個がそれら が結合している炭素原子と一緒になって、酸素原子、窒素原子または硫黄原子か ら選択された3個以下のヘテロ原子を含有する5員環もしくは6員環の複素環を 形成し、かつ当該複素環は所望によりC1-4アルキル,C1-4ハロアルキル,C1- 4 アルコキシ,=NOC1-4アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよい)の 化合物の製造方法において、式(II)(式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6, R7,R8,R9およびR10は式(I)に関して定義された通りである)の化合物 を塩基および極性非プロトン性溶媒の存在下で転位させることを含む製造方法で あって、当該方法がシアン化水素またはシアン陰イオンを実質的に含まない反応 媒質中で実施されることを特徴とする前記方法、が提供される。 本明細書中において使用される用語“アルキル”は直鎖または分岐鎖を意味す る。用語“ハロアルキル”は少なくとも1個のハロゲン原子で置換されたアルキ ル基を意味する。同様に、用語“ハロアルコキシ”は少なくとも1個のハロゲン で置換されたアルコキシ基を意味する。本明細書中において使用される用語“ハ ロゲン”はフッ素、塩素、臭素およびヨウ素を意味する。 フェノキシ基であるR8,R9およびR10に対する適切な任意の置換基はフッ素 および塩素のようなハロゲン原子およびC1-4ハロアルキルを含む。 式(I)の好ましい基の化合物はR1,R2,R3,R4,R5およびR6が独立し て水素またはC1-6アルキルであり;R7がハロゲン,シアノ,ニトロ,C1-4ア ルキル,C1-4ハロアルキル,C1-4アルコキシまたはRaS(式中、RaはC1- 4 アルキルである);R8,R9およびR10は独立して水素,ハロゲン,C1-4アル キル,C1-4アルコキシ,C1-4ハロアルキル,C1-4ハロアルコキシ,シアノ, ニトロ,フェノキシもしくは置換されたフェノキシ;RbS(O)nm(式中、 mはゼロもしくは1であり,nはゼロ,1もしくは2であり,RbはC1-4アル キル,C1-4ハロアルキル,フェニルもしくはベンジル,NHCORc(式中、 RcはC1-4アルキルである),NRdRe(式中、RdおよびReは独立して 水素もしくはC1-4アルキルである);RfC(O)−(式中、Rfは水素,C1 -4 アルキル,C1-4ハロアルキルまたはC1-4アルコキシである);またはSO2 NRgRh(式中、RgおよびRhは独立して水素もしくはC1-4アルキルであ る)である。 好ましくはR1,R2,R3,R4,R5およびR6が独立して水素もしくはC1-4 アルキルである。更に好ましくはR1,R2,R5およびR6が水素であり、並びに R3およびR4が独立して水素もしくはメチルである。 R7は好ましくはハロゲンもしくはニトロである。R8の好ましい置換基は水素 である。 R9は好ましくは水素またはC1-4アルコキシ、特にエトキシである。最も好ま しくはR9は水素である。 好ましくはR10は基RbS(O)nmであり、式中、Rb,nおよびmは上で 定義した通りである。更に好ましくは、mがゼロであり,nが2であり、かつR bがメチル(CH3)またはエチル(C25)である。最も好ましくは、R10は ベンゾイル基の4位に結合したCH3SO2基である。 適当な塩基はトリアルキルアミン類のような有機塩基およびアルカリ金属の炭 酸塩およびリン酸塩のような無機塩基の両方を含む。トリアルキルアミン類は1 個のアルキル基に対して1〜6個、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するトリ (低級アルキル)アミン類が好ましい。特に好ましいアミンはトリエチルアミン である。適切な無機塩基類としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム及びリン酸三 ナトリウムが挙げられる。ジメチルホルムアミドのような双極性の非プロトン性 溶媒と一緒に用いられる場合には、炭酸水素カリウムのような炭酸水素塩でさえ もこの反応において効率的に機能するであろう。好ましい塩基類は炭酸ナトリウ ムおよび炭酸カリウムである。 塩基はエノールエステル1モルにつき約1から約4モル、好ましくは約2モル の分量で使用される。 本明細書において使用される“シアン化水素もしくはシアン陰イオンを実質的 に含まない(substantially free of hydrogen cyanide or cyanide anion)” という表現は、これらの成分は一切反応媒質に故意に加えられていないというこ とを意味する。 本発明の方法に用いられる好ましい溶媒はアセトニトリル、ジメチルホルムア ミド、テトラヒドロフランおよびこれらの溶媒とトルエンおよびキシレンのよう な非極性溶媒との混合物である。 一般的に、反応物、塩基および溶媒の性質に依存して、その転位は0℃から約 100℃までの温度で実施することができる。好ましくは最高温度は約80°C である。最も好ましい温度は約20℃から約70℃である。ある場合に、例えば 、過剰な副産物の生成という問題が生じる可能性がある時(例えば、オルトニト ロベンゾイルハライドを使用する時)、温度は最高約40℃に維持すべきである 。 本発明方法はエノールエステルを出発原料として実施することができ、または その場で当該エノールエステルを、例えば、式(III)(式中、R1,R2,R3, R4,R5およびR6は式(I)に関して定義した通りである)の化合物を式(IV )(式中、R7,R8,R9およびR10は式(I)に関して定義した通りであり、 Zはハロ,好ましくはクロロである)の化合物と反応させることにより、生成す ることによって実施することが可能である。 エノ−ルエステルが出発材料として利用される場合、当該エノ−ルエステルは 、式(III)の化合物を式(IV)の化合物でアシル化することを含む数多くの公 知の手段のうち任意の手段によって製造することが可能である。 本発明によれば、式(I)の化合物の製造は、式(III)および式(IV)の化 合物から出発すると有利に実施でき、中間体であるエノールエステルの単離を行 っても行わなくても実施することが可能である。2工程で実施される場合、式( III)の化合物および式(IV)の化合物を炭酸ナトリウムまたはトリエチルアミ ンのような穏やかな塩基の存在下で反応させる。このエノールエステルは、結果 として得られた生成混合物から既知の技術、例えば、得られた混合溶液を酸と塩 基で、次いで飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、かつ乾燥することによって、単 離される。第2の工程、すなわちエノ−ルエステルを式(I)の化合物に転位さ せる工 程に関して別の溶媒が好ましい場合には、そのような技術は都合がよい。乾燥し たエノ−ルエステルはアセトニトリルまたはテトラヒドロフランのような適切な 溶媒と混合し、適切な分量の穏やかな塩基と接触させ、最終生成物を得るために ある温度まで加熱することができる。 それに代わる方法として、エノ−ルエステルを反応生成物中に残しておいても よく、そして第2の工程を(同じ溶媒を用いて)もし必要ならば更に塩基を加え て実施し、式(I)の化合物を製造してもよい。 エノ−ルエステルを単離しても、単離しなくても匹敵できる収量を得ることが できる。 式(I)の化合物はこの反応からその塩の形で得られる。式(I)の望ましい アシル化化合物は酸性化して適切な溶媒で抽出することによって得らことが可能 である。 次に実施例をあげて、本発明の方法をくわしく説明する。実施例1 前以て窒素ガスで浄化し、Drierite安全管(guard tube) とオイル バブラ−(oil bubbler)にはめ込んだ、炎で乾燥した容 量250mlの四首丸底フラスコにアセトニトリル(25g)を加えた。1,3 −シクロヘキサンジオン(5.0g)および炭酸ナトリウム粉末(12.0g) を加えて、赤色のスラリ−を得た。このかたまりを55−57℃に加熱し、20 分間保持した。2−クロロ−4−(メチルスルホニル)ベンゾイルクロリド(1 1.0g)をアセトニトリル(25g)に加えて、ゆるやかに加温して完全なる 溶液を得た。この溶液を温度55−57℃で20分間にわたって、先のかたまり に滴下して淡黄色のスラリ−を得た。このかたまりを温度55−57℃で17時 間維持した。目的とする式(I)の化合物のナトリウム塩が82%の収率で生成 された。実施例2 実施例2では実施例1で使用したアセトニトリルの代わりにジメチルホルムア ミドを使用し、および炭酸ナトリウムの代わりに等モル量の炭酸カリウムを使用 した。同様な手順に従って、酸クロリドの付加が終了して20分後に反応が完結 し、そのカリウム塩としての式(I)の目的生成物の収率は54%であった。実施例3 炭酸ナトリウムの代わりにトリエチルアミンを使用し、アセトニトリルの代わ りにDMF(ジメチルホルムアミド)を用いて、実施例1の手順を繰り返した。 反応は4時間後に完了し、45%の収率を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウィッフェン,ジョナサン・ウィリアム イギリス国リーズ エルエス13 1ジェイ ジー,ロドリー,クラブ・レーン 24 【要約の続き】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式(I) (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびR6は独立して水素またはC1-6アルキ ルであり;R7はハロゲン,シアノ,ニトロ,C1-4アルキル,C1-4ハロアルキ ル,C1-4アルコキシまたはRaS(式中、RaはC1-4アルキルである)であり ;R8,R9およびR10は独立して水素,ハロゲン,C1-4アルキル,C1-4アルコ キシ,C1-4ハロアルキル,C1-4ハロアルコキシ,シアノ,ニトロ,フェノキシ もしくは置換されたフェノキシ;RbS(O)nm(式中、mはゼロまたは1で あり,nはゼロ,1または2であり,RbはC1-4アルキル,C1-4ハロアルキル ,フェニルもしくはベンジル、NHCORc(式中、RcはC1-4アルキルであ る),またはNRdRe(式中、RdおよびReは独立して水素またはC1-4ア ルキルである)である);RfC(O)−(式中、Rfは水素,C1-4アルキル ,C1-4ハロアルキルまたはC1-4アルコキシである);またはSO2NRgRh (式中、RgおよびRhは独立して水素またはC1-4アルキルである)であるか ;あるいはR8,R9およびR10の任意の2個がそれらが結合している炭素原子と 一緒になって、酸素原子、窒素原子または硫黄原子から選択された3個以下のヘ テロ原子を含有する5員環もしくは6員環の複素環を形成し、かつ当該複素環は 所望によりC1-4アルキル,C1-4ハロアルキル,C1-4アルコキシ,=NOC1-4 アルキルま たはハロゲンで置換されていてもよい) の化合物の製造方法において、式(II) (式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8,R9およびR10は式(I) に関して定義された通りである) の化合物を塩基および極性非プロトン性溶媒の存在下で転位させることを含む製 造方法であって、当該方法がシアン化水素またはシアン陰イオンを実質的に含ま ない反応媒質中で実施されることを特徴とする前記方法。 2.R1,R2,R3,R4,R5およびR6が独立して水素もしくはC1-6アルキ ルであり;R7が水素,シアノ,ニトロ,C1-4アルキル,C1-4ハロアルキル, C1-4アルコキシ、またはRaS(式中、RaはC1-4アルキルである)であり; R8,R9およびR10が独立して水素,ハロゲン,C1-4アルキル,C1-4アルコキ シ,C1-4ハロアルキル,C1-4ハロアルコキシ,シアノ,ニトロ,フェノキシも しくは置換されたフェノキシ;RbS(O)nm(式中、mはゼロまたは1であ り,nはゼロ,1または2であり、RbはC1-4アルキル,C1-4ハロアルキル, フェニルもしくはベンジル,NHCORc(式中、RcはC1-4アルキルである ),またはNRdRe(式中、RdおよびRcは独立して水素またはC1-4アル キルである)である);RfC(O)−(式中、Rfは水素,C1-4アルキル, C1-4ハロアルキルまたはC1-4アルコキシである);またはSO2NRgRh( 式中、RgおよびRhは独立して水素もしくはC1-4アルキルである)である、 請求項1記載の方法。 3.R1,R2,R5およびR6が水素であり、並びにR3およびR4が独立して水 素またはメチルである、請求項1または請求項2に記載の方法。 4.R7がハロゲンまたはニトロである、請求項1ないし3のいずれか1項に 記載の方法。 5.R8が水素である、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。 6.R9が水素もしくはC1-4アルコキシである、請求項1ないし5のいずれか 1項に記載の方法。 7.R10がベンゾイル基の4位に結合しているCH3SO2基である、請求項1 ないし6のいずれか1項に記載の方法。 8.溶媒がアセトニトリル,ジメチルホルムアミド,テトラヒドロフランまた はこれらの溶媒とトルエンもしくはキシレンとの混合物である、請求項1ないし 7のいずれか1項に記載の方法。 9.塩基がトリエチルアミン,炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムである、 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の方法。
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