JPH1053548A - トリメチルヒドロキノンの製造方法 - Google Patents
トリメチルヒドロキノンの製造方法Info
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- JPH1053548A JPH1053548A JP9120403A JP12040397A JPH1053548A JP H1053548 A JPH1053548 A JP H1053548A JP 9120403 A JP9120403 A JP 9120403A JP 12040397 A JP12040397 A JP 12040397A JP H1053548 A JPH1053548 A JP H1053548A
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- trimethylhydroquinone
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- dione
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/01—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by replacing functional groups bound to a six-membered aromatic ring by hydroxy groups, e.g. by hydrolysis
- C07C37/055—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by replacing functional groups bound to a six-membered aromatic ring by hydroxy groups, e.g. by hydrolysis the substituted group being bound to oxygen, e.g. ether group
- C07C37/0555—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by replacing functional groups bound to a six-membered aromatic ring by hydroxy groups, e.g. by hydrolysis the substituted group being bound to oxygen, e.g. ether group being esterified hydroxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/08—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with the hydroxy or O-metal group of organic compounds
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２，３，５−トリメチルヒドロキノンの改良
された製造方法を提供する。 【解決手段】 該方法は、３，５，５−トリメチルシク
ロヘキセ−２−エン−１，４−ジオン（ケト−イソホロ
ン、４−オキソ−イソホロン）をトリメチルヒドロキノ
ンジエステルに転位させ、引き続き該トリメチルヒドロ
キノンエステルを鹸化することによる： 【化１】 【効果】 トリメチルヒドロキノンの収率が高く、触媒
量は少量で済み、かつトリメチルヒドロキノンジエステ
ルの鹸化も一段と容易である。
された製造方法を提供する。 【解決手段】 該方法は、３，５，５−トリメチルシク
ロヘキセ−２−エン−１，４−ジオン（ケト−イソホロ
ン、４−オキソ−イソホロン）をトリメチルヒドロキノ
ンジエステルに転位させ、引き続き該トリメチルヒドロ
キノンエステルを鹸化することによる： 【化１】 【効果】 トリメチルヒドロキノンの収率が高く、触媒
量は少量で済み、かつトリメチルヒドロキノンジエステ
ルの鹸化も一段と容易である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は３，５，５−トリメ
チルシクロヘキセ−２−エン−１，４−ジオン（ケト−
イソホロン、４−オキソ−イソホロン）をトリメチルヒ
ドロキノンジエステルに転位させ、引き続き該トリメチ
ルヒドロキノンジエステルを鹸化することによる２，
３，５−トリメチルヒドロキノンのより改良された製造
方法に関する：
チルシクロヘキセ−２−エン−１，４−ジオン（ケト−
イソホロン、４−オキソ−イソホロン）をトリメチルヒ
ドロキノンジエステルに転位させ、引き続き該トリメチ
ルヒドロキノンジエステルを鹸化することによる２，
３，５−トリメチルヒドロキノンのより改良された製造
方法に関する：
【０００２】
【化１】
【０００３】トリメチルヒドロキノンは他方またビタミ
ンＥの製造にとって重要な出発物質の一つである。
ンＥの製造にとって重要な出発物質の一つである。
【０００４】
【従来の技術】ケト−イソホロンを気相でゼオライトを
用いてトリメチルヒドロキノンに転位させることは公知
である（ドイツ国特許第２６４６１７２（Ｃ２）号明細
書）。もっとも該反応の際の収率は極めて低い（３０％
の反応率で５０％の収率）、そのため経済的な方法にと
っては不十分である。
用いてトリメチルヒドロキノンに転位させることは公知
である（ドイツ国特許第２６４６１７２（Ｃ２）号明細
書）。もっとも該反応の際の収率は極めて低い（３０％
の反応率で５０％の収率）、そのため経済的な方法にと
っては不十分である。
【０００５】さらに別の方法（Y．A． Joe， Y．M． Go
o， Y．Y． Lee Bull． Korean． Chem． Soc． 1991，
12， 253）では、転位を無水酢酸中の５％の溶液中で
濃硫酸を５当量添加することにより行う。この場合、ト
リメチルヒドロキノンエステルは収率３１％で得られる
にすぎず、そのため該方法もまた経済的ではない。
o， Y．Y． Lee Bull． Korean． Chem． Soc． 1991，
12， 253）では、転位を無水酢酸中の５％の溶液中で
濃硫酸を５当量添加することにより行う。この場合、ト
リメチルヒドロキノンエステルは収率３１％で得られる
にすぎず、そのため該方法もまた経済的ではない。
【０００６】三つめの方法（ドイツ国特許出願公開第２
１４９１５９号明細書）によると、ケト−イソホロンを
無水酢酸中でプロトン酸の存在下でトリメチルヒドロキ
ノンジアセテートに転位させることができ、該トリメチ
ルヒドロキノンジアセテートを引き続き鹸化して２，
３，５−トリメチルヒドロキノンとする。この方法の欠
点は、大量の無水酢酸（ケト−イソホロン１モルあたり
５〜１０モル ）および大量の触媒酸（１５０モル％ま
で）を使用すること、かつ最大で６６％と収率が低いこ
とである。
１４９１５９号明細書）によると、ケト−イソホロンを
無水酢酸中でプロトン酸の存在下でトリメチルヒドロキ
ノンジアセテートに転位させることができ、該トリメチ
ルヒドロキノンジアセテートを引き続き鹸化して２，
３，５−トリメチルヒドロキノンとする。この方法の欠
点は、大量の無水酢酸（ケト−イソホロン１モルあたり
５〜１０モル ）および大量の触媒酸（１５０モル％ま
で）を使用すること、かつ最大で６６％と収率が低いこ
とである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題は
従来の技術の欠点を有しないトリメチルヒドロキノンの
改良された製造方法を提供することである。
従来の技術の欠点を有しないトリメチルヒドロキノンの
改良された製造方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】ところで前記課題は、触
媒量のプロトン酸の存在下で３，５，５−トリメチルシ
クロヘキセ−２−エン−１，４−ジオンとアシル化剤を
反応させ、かつ引き続きまず形成されたトリメチルヒド
ロキノンエステルを鹸化することによりトリメチルヒド
ロキノン（ＴＭＨＱ）を製造する方法において、プロト
ン酸としてトリフルオロメタンスルホン酸、クロロスル
ホン酸、ポリ燐酸又は発煙硫酸もしくはこれらの酸の混
合物を３，５，５−トリメチルシクロヘキセ−２−エン
−１，４−ジオンに対して０．１〜５０重量％、特に
０．５〜２５重量％使用することにより解決される。有
利には公知のアシル化剤を３，５，５−トリメチルシク
ロヘキセ−２−エン−１，４−ジオン１モルあたり２モ
ルより多く４モルまで、特に２．１〜３モル使用する。
媒量のプロトン酸の存在下で３，５，５−トリメチルシ
クロヘキセ−２−エン−１，４−ジオンとアシル化剤を
反応させ、かつ引き続きまず形成されたトリメチルヒド
ロキノンエステルを鹸化することによりトリメチルヒド
ロキノン（ＴＭＨＱ）を製造する方法において、プロト
ン酸としてトリフルオロメタンスルホン酸、クロロスル
ホン酸、ポリ燐酸又は発煙硫酸もしくはこれらの酸の混
合物を３，５，５−トリメチルシクロヘキセ−２−エン
−１，４−ジオンに対して０．１〜５０重量％、特に
０．５〜２５重量％使用することにより解決される。有
利には公知のアシル化剤を３，５，５−トリメチルシク
ロヘキセ−２−エン−１，４−ジオン１モルあたり２モ
ルより多く４モルまで、特に２．１〜３モル使用する。
【０００９】本発明により使用されるアシル化剤は、有
利には無水カルボン酸またはエノールエステルである。
特に一般式：
利には無水カルボン酸またはエノールエステルである。
特に一般式：
【００１０】
【化２】
【００１１】［式中Ｒは、１〜８の炭素原子を有する、
置換されていてもよくかつ１〜３個のハロゲン原子を有
していてもよい脂肪族、脂環式または芳香族基を表す］
の無水カルボン酸が使用される。特に有利に使用される
酸無水物は無水酢酸である。その他の適した酸無水物は
プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、シクロヘキサンカルボ
ン酸、安息香酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸および
トリフルオロメタンスルホン酸の無水物である。
置換されていてもよくかつ１〜３個のハロゲン原子を有
していてもよい脂肪族、脂環式または芳香族基を表す］
の無水カルボン酸が使用される。特に有利に使用される
酸無水物は無水酢酸である。その他の適した酸無水物は
プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、シクロヘキサンカルボ
ン酸、安息香酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸および
トリフルオロメタンスルホン酸の無水物である。
【００１２】有利な実施態様では、生成したＴＭＨＱ−
ジアセテートを単離せずに、場合により未反応無水酢酸
の留去後に、水または希釈した酸、特に硫酸を添加しか
つ該混合物を加熱して沸騰させることにより鹸化する。
引き続き、生成したＴＭＨＱを濾別する。
ジアセテートを単離せずに、場合により未反応無水酢酸
の留去後に、水または希釈した酸、特に硫酸を添加しか
つ該混合物を加熱して沸騰させることにより鹸化する。
引き続き、生成したＴＭＨＱを濾別する。
【００１３】しかしまた、生成したＴＭＨＱ−ジアセテ
ートを水の添加後に反応混合物から分離し、希釈した
酸、特に硫酸中で相媒介剤の存在下で加水分解し、かつ
生成したＴＭＨＱを、特に濾過により、分離することも
可能である。
ートを水の添加後に反応混合物から分離し、希釈した
酸、特に硫酸中で相媒介剤の存在下で加水分解し、かつ
生成したＴＭＨＱを、特に濾過により、分離することも
可能である。
【００１４】単離したトリメチルヒドロキノンジエステ
ルを鹸化する場合にもまた、相媒介剤として、水との混
和性を示すあらゆる有機溶剤を用いることができる。特
に有利には酢酸、ｎ−ブタノール、およびｎ−ブチルア
セテートまたは前記の溶剤の混合物を使用することがで
きる。
ルを鹸化する場合にもまた、相媒介剤として、水との混
和性を示すあらゆる有機溶剤を用いることができる。特
に有利には酢酸、ｎ−ブタノール、およびｎ−ブチルア
セテートまたは前記の溶剤の混合物を使用することがで
きる。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明による方法に基づく２，
３，５−トリメチルヒドロキノンの製造のためには、一
槽法で、例えば、ケト−イソホロン０．２モルを、無水
酢酸０．４モルより多く０．６モル以下および前記の極
めて強い酸の一つ、ケト−イソホロンに対して０．1〜
５０重量％、特に０．５〜２５重量％からなる混合物に
０℃〜６０℃で１〜３時間以内に滴加し、かつ引き続き
１〜７時間で約２５℃〜７０℃に加熱する。その後十分
な量の水を添加することにより残余の無水酢酸を加水分
解する。生成した懸濁液に、場合により硫酸、特に約３
０％の硫酸を添加し、１〜５時間加熱し沸騰させる。引
き続き溶剤の一部を留去し、かつ同量の水を補充し、懸
濁液を室温に冷却しかつ析出したトリメチルヒドロキノ
ンを分離する。
３，５−トリメチルヒドロキノンの製造のためには、一
槽法で、例えば、ケト−イソホロン０．２モルを、無水
酢酸０．４モルより多く０．６モル以下および前記の極
めて強い酸の一つ、ケト−イソホロンに対して０．1〜
５０重量％、特に０．５〜２５重量％からなる混合物に
０℃〜６０℃で１〜３時間以内に滴加し、かつ引き続き
１〜７時間で約２５℃〜７０℃に加熱する。その後十分
な量の水を添加することにより残余の無水酢酸を加水分
解する。生成した懸濁液に、場合により硫酸、特に約３
０％の硫酸を添加し、１〜５時間加熱し沸騰させる。引
き続き溶剤の一部を留去し、かつ同量の水を補充し、懸
濁液を室温に冷却しかつ析出したトリメチルヒドロキノ
ンを分離する。
【００１６】同様に最初の水の添加後に析出したトリメ
チルヒドロキノンジエステルを分離しかつ別々に鹸化す
ることも可能である。このためにはトリメチルヒドロキ
ノンジエステルを例えば十分な量の希釈した酸、有利に
は３０％の硫酸、および例えばｎ−ブタノールのような
相媒介剤中に懸濁させ、かつ引き続き１〜７時間加熱し
沸騰させる。
チルヒドロキノンジエステルを分離しかつ別々に鹸化す
ることも可能である。このためにはトリメチルヒドロキ
ノンジエステルを例えば十分な量の希釈した酸、有利に
は３０％の硫酸、および例えばｎ−ブタノールのような
相媒介剤中に懸濁させ、かつ引き続き１〜７時間加熱し
沸騰させる。
【００１７】その後蒸留液を除去し、かつ引き続き同量
の水を塔底に加える。その後析出したトリメチルヒドロ
キノンを分離し、かつ後洗浄により精製する。
の水を塔底に加える。その後析出したトリメチルヒドロ
キノンを分離し、かつ後洗浄により精製する。
【００１８】
【実施例】次に実施例により本発明を詳細に説明する。
【００１９】例１：無水酢酸６１ｇ（０．６ｍｏｌ)お
よびトリフルオロメタンスルホン酸０．３４ｇ（２．３
ｍｍｏｌ)の溶液に対し、ケト−イソホロン（９８％）
３０．５ｇ（０．２ｍｏｌ) を３０℃〜４０℃で１時間
半以内で滴加した。引き続き、４０℃で３時間反応させ
た。反応終了後に冷却しながら水１２５ｍｌを加え、析
出したトリメチルヒドロキノン−ジアセテートを吸引濾
過し、後洗浄し、かつ真空中で５５℃で１４時間乾燥し
た。
よびトリフルオロメタンスルホン酸０．３４ｇ（２．３
ｍｍｏｌ)の溶液に対し、ケト−イソホロン（９８％）
３０．５ｇ（０．２ｍｏｌ) を３０℃〜４０℃で１時間
半以内で滴加した。引き続き、４０℃で３時間反応させ
た。反応終了後に冷却しながら水１２５ｍｌを加え、析
出したトリメチルヒドロキノン−ジアセテートを吸引濾
過し、後洗浄し、かつ真空中で５５℃で１４時間乾燥し
た。
【００２０】 収量： ４５．０ｇ（理論値の９５％)、 ＧＣ： ＴＭＨＱ−ジアセテート９４．５％。
【００２１】例２：３０％の硫酸１００ｍｌおよびｎ−
ブタノール１５ｍｌの混合物中でＴＭＨＱ−ジアセテー
ト４３ｇ（０．１８ｍｏｌ)を加熱して溶解させ、かつ
引き続き４時間加熱し沸騰させた。その後４５分以内で
蒸留液８０ｍｌを除去し、かつ水１００ｍｌを加えた。
析出したトリメチルヒドロキノンを２０℃で吸引濾過
し、後洗浄し、かつ真空中で５５℃で１４時間乾燥し
た。
ブタノール１５ｍｌの混合物中でＴＭＨＱ−ジアセテー
ト４３ｇ（０．１８ｍｏｌ)を加熱して溶解させ、かつ
引き続き４時間加熱し沸騰させた。その後４５分以内で
蒸留液８０ｍｌを除去し、かつ水１００ｍｌを加えた。
析出したトリメチルヒドロキノンを２０℃で吸引濾過
し、後洗浄し、かつ真空中で５５℃で１４時間乾燥し
た。
【００２２】 収率： ２６．２g（理論値の９５％ ）、 ＨＰＬＣ： ９８．５％。
【００２３】例２ａ：別の鹸化では、ｎ−ブタノールお
よび３０％の硫酸の代わりに実験２の蒸留液５０ｍｌ、
硫酸３０ｇおよび水５０ｍｌの混合物を使用した。
よび３０％の硫酸の代わりに実験２の蒸留液５０ｍｌ、
硫酸３０ｇおよび水５０ｍｌの混合物を使用した。
【００２４】例３：例１の実験を繰り返したが、この場
合には反応後に無水酢酸と酢酸の混合物３０ｇを留去し
た。その他の後処理は同様に行った。
合には反応後に無水酢酸と酢酸の混合物３０ｇを留去し
た。その他の後処理は同様に行った。
【００２５】収量： ＴＭＨＱ−ジアセテート４
５．５g（理論値の９６％)。
５．５g（理論値の９６％)。
【００２６】例４：例２の実験を繰り返したが、この場
合には生成物の濾過前に混合物を−１０℃に冷却した。
合には生成物の濾過前に混合物を−１０℃に冷却した。
【００２７】 収量： ＴＭＨＱ２６．９g（理論値の９７％)、 ＨＰＬＣ： ９５％。
【００２８】例５〜７：例１の実験を繰り返したが、こ
の場合にはトリフルオロメタンスルホン酸の代わりに別
の触媒を使用した。
の場合にはトリフルオロメタンスルホン酸の代わりに別
の触媒を使用した。
【００２９】
【表１】
【００３０】例８： （直接変更実施例） 無水酢酸６１ｇ（０．６ｍｏｌ）および発煙硫酸３ｇ
（ＳＯ3６５％）の混合物に、ケト−イソホロン３０．
５ｇ（０．２ｍｏｌ)を１０〜２５℃で１．５時間以内
で滴加し、かつ引き続き４０℃に４時間加熱した。その
後水９０ｍｌを添加することより加水分解した。生成し
た懸濁液に硫酸４７ｇを添加し、かつ３時間加熱し沸騰
させた。その他の後処理は例２と同様に行った。
（ＳＯ3６５％）の混合物に、ケト−イソホロン３０．
５ｇ（０．２ｍｏｌ)を１０〜２５℃で１．５時間以内
で滴加し、かつ引き続き４０℃に４時間加熱した。その
後水９０ｍｌを添加することより加水分解した。生成し
た懸濁液に硫酸４７ｇを添加し、かつ３時間加熱し沸騰
させた。その他の後処理は例２と同様に行った。
【００３１】 収率： ＴＭＨＱ２７g（理論値の８９％）、 ＨＰＬＣ： ９８．５％。
【００３２】
【発明の効果】本発明による２，３，５−トリメチルヒ
ドロキノンの製造は、従来の技術に対して著しい利点が
ある：収率は本発明による方法によれば引用文献におけ
るよりも２５％まで高く、８５〜９０％である。
ドロキノンの製造は、従来の技術に対して著しい利点が
ある：収率は本発明による方法によれば引用文献におけ
るよりも２５％まで高く、８５〜９０％である。
【００３３】必要とされる触媒量は文献においては１５
０％以下であるのに対して、０．１〜５０％である。
０％以下であるのに対して、０．１〜５０％である。
【００３４】ケト−イソホロン１モル当たりの無水カル
ボン酸は、文献においては５〜１０モルであるのに対し
て２モルより多く４モル以下を必要とするにすぎない。
ボン酸は、文献においては５〜１０モルであるのに対し
て２モルより多く４モル以下を必要とするにすぎない。
【００３５】単離したトリメチルヒドロキノンジエステ
ルの酸溶液を用いた鹸化は、有利に容易な方法で相媒介
剤の存在下で実施できる。
ルの酸溶液を用いた鹸化は、有利に容易な方法で相媒介
剤の存在下で実施できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 ベルント ドラパル ドイツ連邦共和国 アルツェナウ ダンツ ィガー プラッツ １ (72)発明者 ヘルマン シュミット ドイツ連邦共和国 ローデンバッハ ベル リーナー シュトラーセ 24 (72)発明者 クラウス フートマッハー ドイツ連邦共和国 ゲルンハウゼン レル ヒェンヴェーク 18 (72)発明者 ヘルベルト タナー ドイツ連邦共和国 ハーナウ ヴィルダウ シュトラーセ 20
Claims (7)
- 【請求項１】 触媒量のプロトン酸の存在下で３，５，
５−トリメチルシクロヘキセ−２−エン−１，４−ジオ
ンとアシル化剤を反応させ、かつ引き続きまず形成され
たトリメチルヒドロキノンエステルを鹸化することによ
りトリメチルヒドロキノン（ＴＭＨＱ）を製造する方法
おいて、プロトン酸としてトリフルオロメタンスルホン
酸、クロロスルホン酸、ポリ燐酸、または発煙硫酸もし
くはこれらの酸の混合物を使用することを特徴とするト
リメチルヒドロキノンの製造方法。 - 【請求項２】 酸を３，５，５−トリメチルシクロヘキ
セ−２−エン−１，４−ジオンに対して０．１〜５０重
量％の量で使用する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 ３，５，５−トリメチルシクロヘキセ−
２−エン−１，４−ジオン１モル当たりアシル化剤を２
モルより多く４モルまで使用する請求項１または２記載
の方法。 - 【請求項４】 無水酢酸をアシル化剤として使用する請
求項３記載の方法。 - 【請求項５】 生成したＴＭＨＱ−ジアセテートを単離
せずに、場合により未反応無水酢酸の留去後、水および
／または希釈した酸の添加により鹸化し、かつ生成した
ＴＭＨＱを分離する請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 生成したＴＭＨＱ−ジアセテートを水の
添加後に反応混合物から分離し、相媒介剤の存在下に希
釈した酸を使用して鹸化し、かつ生成したＴＭＨＱを分
離する請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 相媒介剤として酢酸、ｎ−ブタノール、
またはｎ−ブチルアセテートもしくはこれらの混合物を
使用する請求項６記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19619387 | 1996-05-14 | ||
| DE19627977A DE19627977A1 (de) | 1996-05-14 | 1996-07-11 | Verfahren zur Herstellung von Trimethylhydrochinon |
| DE19619387.7 | 1996-07-11 | ||
| DE19627977.1 | 1996-07-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1053548A true JPH1053548A (ja) | 1998-02-24 |
Family
ID=26025681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9120403A Abandoned JPH1053548A (ja) | 1996-05-14 | 1997-05-12 | トリメチルヒドロキノンの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6063968A (ja) |
| EP (1) | EP0808815B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1053548A (ja) |
| CN (1) | CN1102138C (ja) |
| AT (1) | ATE204251T1 (ja) |
| DK (1) | DK0808815T3 (ja) |
| ES (1) | ES2162147T3 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009079024A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Air Water Inc | ２−ナフトール誘導体の製造方法 |
| JP2010083782A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Dic Corp | ２−ナフトール誘導体の製造方法 |
| JP4749336B2 (ja) * | 2003-11-07 | 2011-08-17 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． | ２，３，５−トリメチルヒドロキノンジアシレートの調製方法 |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US10790262B2 (en) | 2018-04-11 | 2020-09-29 | Invensas Bonding Technologies, Inc. | Low temperature bonded structures |
| US11749645B2 (en) | 2018-06-13 | 2023-09-05 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | TSV as pad |
| US11393779B2 (en) | 2018-06-13 | 2022-07-19 | Invensas Bonding Technologies, Inc. | Large metal pads over TSV |
| US11011494B2 (en) | 2018-08-31 | 2021-05-18 | Invensas Bonding Technologies, Inc. | Layer structures for making direct metal-to-metal bonds at low temperatures in microelectronics |
| US11158573B2 (en) | 2018-10-22 | 2021-10-26 | Invensas Bonding Technologies, Inc. | Interconnect structures |
| US11244920B2 (en) | 2018-12-18 | 2022-02-08 | Invensas Bonding Technologies, Inc. | Method and structures for low temperature device bonding |
| WO2021236361A1 (en) | 2020-05-19 | 2021-11-25 | Invensas Bonding Technologies, Inc. | Laterally unconfined structure |
| US11264357B1 (en) | 2020-10-20 | 2022-03-01 | Invensas Corporation | Mixed exposure for large die |
| US12456662B2 (en) | 2020-12-28 | 2025-10-28 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | Structures with through-substrate vias and methods for forming the same |
| US12381128B2 (en) | 2020-12-28 | 2025-08-05 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | Structures with through-substrate vias and methods for forming the same |
| EP4272249A4 (en) | 2020-12-30 | 2024-12-25 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | STRUCTURE WITH CONDUCTIVE CHARACTERISTIC AND ITS MANUFACTURING METHOD |
| EP4515594A1 (en) | 2022-04-25 | 2025-03-05 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | Expansion controlled structure for direct bonding and method of forming same |
| US12506114B2 (en) | 2022-12-29 | 2025-12-23 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | Directly bonded metal structures having aluminum features and methods of preparing same |
| US12545010B2 (en) | 2022-12-29 | 2026-02-10 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | Directly bonded metal structures having oxide layers therein |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| UST900015I4 (en) * | 1970-10-01 | 1972-07-25 | defensive publication |
-
1997
- 1997-04-05 AT AT97105669T patent/ATE204251T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-04-05 DK DK97105669T patent/DK0808815T3/da active
- 1997-04-05 ES ES97105669T patent/ES2162147T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-05 EP EP97105669A patent/EP0808815B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-12 CN CN97104282A patent/CN1102138C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-05-12 JP JP9120403A patent/JPH1053548A/ja not_active Abandoned
- 1997-05-14 US US08/855,270 patent/US6063968A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1102138C (zh) | 2003-02-26 |
| ATE204251T1 (de) | 2001-09-15 |
| DK0808815T3 (da) | 2001-11-26 |
| EP0808815B1 (de) | 2001-08-16 |
| CN1165133A (zh) | 1997-11-19 |
| US6063968A (en) | 2000-05-16 |
| ES2162147T3 (es) | 2001-12-16 |
| EP0808815A3 (de) | 1998-02-04 |
| EP0808815A2 (de) | 1997-11-26 |
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|---|---|---|---|
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|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20050711 |