JPH1058580A - ゾルゲル法 - Google Patents
ゾルゲル法Info
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- JPH1058580A JPH1058580A JP9159957A JP15995797A JPH1058580A JP H1058580 A JPH1058580 A JP H1058580A JP 9159957 A JP9159957 A JP 9159957A JP 15995797 A JP15995797 A JP 15995797A JP H1058580 A JPH1058580 A JP H1058580A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 多層反射防止コーティングを有するプラスチ
ック製品の製法の提供。 【解決手段】 プラスチック基体上に多層反射防止コー
ティングを付着させる方法であって、チタンアルコキシ
ド、アルコール及び水を含む１種以上の重合したチタン
含有溶液を供給し、ケイ素アルコキシド、アルコール及
び水を含む１種以上の重合したケイ素含有溶液を供給
し、プラスチック基体に交互のやり方でチタン含有溶液
を塗布し且つケイ素含有溶液を塗布して、塗布の各段階
の後に所定量の溶液が基体に付着し、塗布の各段階の後
に、次の連続的塗布段階が起こる前に付着した溶液を硬
化させ、それぞれの上記硬化段階が基体上に別の重合層
を形成し、連続した重合層が協同して、可視光線の反射
率を実質的に減少させる少なくとも４層の多層コーティ
ングを形成する段階を含んでなる、方法。
ック製品の製法の提供。 【解決手段】 プラスチック基体上に多層反射防止コー
ティングを付着させる方法であって、チタンアルコキシ
ド、アルコール及び水を含む１種以上の重合したチタン
含有溶液を供給し、ケイ素アルコキシド、アルコール及
び水を含む１種以上の重合したケイ素含有溶液を供給
し、プラスチック基体に交互のやり方でチタン含有溶液
を塗布し且つケイ素含有溶液を塗布して、塗布の各段階
の後に所定量の溶液が基体に付着し、塗布の各段階の後
に、次の連続的塗布段階が起こる前に付着した溶液を硬
化させ、それぞれの上記硬化段階が基体上に別の重合層
を形成し、連続した重合層が協同して、可視光線の反射
率を実質的に減少させる少なくとも４層の多層コーティ
ングを形成する段階を含んでなる、方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的にはプラス
チック基体上の反射防止コーティングに関し、更に詳細
には二酸化ケイ素及び二酸化チタンの多層反射防止コー
ティングを付着させるゾルゲル法に関する。
チック基体上の反射防止コーティングに関し、更に詳細
には二酸化ケイ素及び二酸化チタンの多層反射防止コー
ティングを付着させるゾルゲル法に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック基体（支持体）の反射防止
コーティングは、基体から可視光線の反射を減少させ、
基体中への又は通過するこの光線の透過を高める。基体
をディスプレー装置のカバープレートとして用いるとき
には、これらのコーティングによって様々な照明条件に
対して表示される情報の輝度、コントラスト及び読み易
さが増す。
コーティングは、基体から可視光線の反射を減少させ、
基体中への又は通過するこの光線の透過を高める。基体
をディスプレー装置のカバープレートとして用いるとき
には、これらのコーティングによって様々な照明条件に
対して表示される情報の輝度、コントラスト及び読み易
さが増す。
【０００３】この種の幾つかの反射防止コーティング
は、二酸化チタンと二酸化ケイ素とが交互になった層を
有する多層堆積(multi-layer stacks)を含んでいた。二
酸化チタンは一般に屈折率がかなり高く、二酸化ケイ素
層は一般に屈折率が比較的低く、典型的には下になって
いるプラスチック基体の屈折率より低い。多層堆積の各
層は所定の厚みを有し、多層堆積からの反射は有害な程
干渉し、４００〜７００ｎｍの全可視スペクトルに亙っ
て反射率が減少する。
は、二酸化チタンと二酸化ケイ素とが交互になった層を
有する多層堆積(multi-layer stacks)を含んでいた。二
酸化チタンは一般に屈折率がかなり高く、二酸化ケイ素
層は一般に屈折率が比較的低く、典型的には下になって
いるプラスチック基体の屈折率より低い。多層堆積の各
層は所定の厚みを有し、多層堆積からの反射は有害な程
干渉し、４００〜７００ｎｍの全可視スペクトルに亙っ
て反射率が減少する。
【０００４】前記に簡単に記載した多層コーティングな
どの各種の反射防止コーティングは、一般に可視スペク
トルに関して反射率を減少させるのに有効であったが、
これらのコーティングは多くの用途に使用するのに完全
に満足であるとは思われない。例えば、これらの方法の
幾つかは、摩擦によって機械的損傷を極めて受けやす
く、且つ下になっている基体に対する接着が弱いコーテ
ィングを提供する。
どの各種の反射防止コーティングは、一般に可視スペク
トルに関して反射率を減少させるのに有効であったが、
これらのコーティングは多くの用途に使用するのに完全
に満足であるとは思われない。例えば、これらの方法の
幾つかは、摩擦によって機械的損傷を極めて受けやす
く、且つ下になっている基体に対する接着が弱いコーテ
ィングを提供する。
【０００５】更に、電子ビーム蒸着、反応性プラズマス
パッタリング及びイオン補助蒸着などのこのようなコー
ティングの付着法は、実施するには比較的費用がかか
り、多くのサイズ及び形状を有するコーティング基体に
対しては容易には用いることができない。また、幾つか
の基体では、過度の熱が発生するため、その様な方法に
よって損傷を受けることがある。ポリメチルメタクリレ
ート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン、ポリカーボネート、
アリルジグリコールカーボネート（ＣＲ−３９）、及び
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）から形成される
基体は、このような熱損傷を特に受け易いものと考えら
れる。幾つかの付着法では、熱損傷が起こらなくした
が、それらはアイウェアレンズのような大きさ及び形状
が限定された基体でしか使用に適さないと考えられてい
る。
パッタリング及びイオン補助蒸着などのこのようなコー
ティングの付着法は、実施するには比較的費用がかか
り、多くのサイズ及び形状を有するコーティング基体に
対しては容易には用いることができない。また、幾つか
の基体では、過度の熱が発生するため、その様な方法に
よって損傷を受けることがある。ポリメチルメタクリレ
ート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン、ポリカーボネート、
アリルジグリコールカーボネート（ＣＲ−３９）、及び
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）から形成される
基体は、このような熱損傷を特に受け易いものと考えら
れる。幾つかの付着法では、熱損傷が起こらなくした
が、それらはアイウェアレンズのような大きさ及び形状
が限定された基体でしか使用に適さないと考えられてい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、改良した多層
反射防止コーティング、並びにこのようなコーティング
を様々な大きさ及び形状のプラズマ基体上に、少ない経
費で且つ機械的、環境的及び熱損傷の受け易さを少なく
して、付着する方法が必要であることを理解すべきであ
る。
反射防止コーティング、並びにこのようなコーティング
を様々な大きさ及び形状のプラズマ基体上に、少ない経
費で且つ機械的、環境的及び熱損傷の受け易さを少なく
して、付着する方法が必要であることを理解すべきであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、多層反射防止
コーティング、並びにこのようなコーティングであって
高い機械的強度及び耐久性を有するコーティングをプラ
スチック基体上に付着する方法である。この方法は、ア
ルコキシド、アルコール、及び水を混合して１種以上の
第一の重合溶液を生成し、１種以上の第二の重合溶液を
生成する予備段階を含み、第一の溶液は屈折率が１．８
０以上の薄膜を提供するように処方され、第二の溶液
は、屈折率が１．４６以下の薄膜を提供するように処方
される。第一の重合した溶液及び第二の重合した溶液を
交互にプラスチック基体に塗布し、それぞれの塗布によ
って所定量の溶液を基体に付着させる。塗布の各段階の
後に、付着した溶液を硬化して、別の重合層を基体上に
形成させる。連続的な重合層が協同して、可視光線の反
射率を実質的に減少させる少なくとも４層の多層コーテ
ィングを形成する。
コーティング、並びにこのようなコーティングであって
高い機械的強度及び耐久性を有するコーティングをプラ
スチック基体上に付着する方法である。この方法は、ア
ルコキシド、アルコール、及び水を混合して１種以上の
第一の重合溶液を生成し、１種以上の第二の重合溶液を
生成する予備段階を含み、第一の溶液は屈折率が１．８
０以上の薄膜を提供するように処方され、第二の溶液
は、屈折率が１．４６以下の薄膜を提供するように処方
される。第一の重合した溶液及び第二の重合した溶液を
交互にプラスチック基体に塗布し、それぞれの塗布によ
って所定量の溶液を基体に付着させる。塗布の各段階の
後に、付着した溶液を硬化して、別の重合層を基体上に
形成させる。連続的な重合層が協同して、可視光線の反
射率を実質的に減少させる少なくとも４層の多層コーテ
ィングを形成する。
【０００８】１種以上の第一の溶液は、チタンイソプロ
ポキシド、チタンプロポキシド、又はチタンエトキシド
のようなチタンアルコキシドを、エチルアルコール、脱
イオン水、及び塩酸又は硝酸のような酸性触媒と、所定
の相対的比率で混合することによって製造するのが好ま
しい。１種以上の第二の溶液は、テトラエチルオルトシ
リケート又はテトラメチルオルトシリケートのようなケ
イ素アルコキシド、エチルアルコール、脱イオン水、及
び塩酸又は硝酸のような酸性触媒を所定の相対的比率で
混合することによって製造するのが好ましい。硬化する
と、溶液は、二酸化チタン及び二酸化ケイ素の重合した
固体層を生成する。二酸化チタン層の屈折率は１．８０
〜２．２０の範囲であり、二酸化ケイ素層の屈折率は
１．４０〜１．４６の範囲である。４層コーティングの
場合には、第一層は、好ましくは二酸化チタンであり、
均一厚みが１０〜３０ｎｍの範囲であり、第二層は二酸
化ケイ素であり、均一厚みが２０〜４０ｎｍの範囲であ
り、第三層は二酸化チタンであり、均一厚みが７０〜１
００ｎｍの範囲であり、第四層は二酸化ケイ素であり、
均一厚みが８０〜１１０ｎｍの範囲である。
ポキシド、チタンプロポキシド、又はチタンエトキシド
のようなチタンアルコキシドを、エチルアルコール、脱
イオン水、及び塩酸又は硝酸のような酸性触媒と、所定
の相対的比率で混合することによって製造するのが好ま
しい。１種以上の第二の溶液は、テトラエチルオルトシ
リケート又はテトラメチルオルトシリケートのようなケ
イ素アルコキシド、エチルアルコール、脱イオン水、及
び塩酸又は硝酸のような酸性触媒を所定の相対的比率で
混合することによって製造するのが好ましい。硬化する
と、溶液は、二酸化チタン及び二酸化ケイ素の重合した
固体層を生成する。二酸化チタン層の屈折率は１．８０
〜２．２０の範囲であり、二酸化ケイ素層の屈折率は
１．４０〜１．４６の範囲である。４層コーティングの
場合には、第一層は、好ましくは二酸化チタンであり、
均一厚みが１０〜３０ｎｍの範囲であり、第二層は二酸
化ケイ素であり、均一厚みが２０〜４０ｎｍの範囲であ
り、第三層は二酸化チタンであり、均一厚みが７０〜１
００ｎｍの範囲であり、第四層は二酸化ケイ素であり、
均一厚みが８０〜１１０ｎｍの範囲である。
【０００９】第一及び第二の溶液をそれぞれ少なくとも
４時間混合し、その時間中に溶液が加水分解反応及び重
合を行なう。基体に塗布する前に、溶液を開口度が５μ
ｍ以下のフィルターを用いて濾過する。
４時間混合し、その時間中に溶液が加水分解反応及び重
合を行なう。基体に塗布する前に、溶液を開口度が５μ
ｍ以下のフィルターを用いて濾過する。
【００１０】コーティングを塗布する段階は、湿度を慎
重に制御した室内で行なわれる。二酸化チタン層を塗布
するときには、湿度を４０％を上回るように保持するの
が好ましく、二酸化ケイ素層を塗布するときには、湿度
を４０％を下回るように保持する。総ての４層は、高温
（例えば、幾つかの等級のポリメチルメタクリレートに
対しては８４℃）で、それぞれ少なくとも１０分間硬化
される。熱的衝撃を回避するため、温度を１５℃／分を
超過しない速度で硬化温度まで制御可能に上昇させ、硬
化の後、同様な速度で室温まで低下させる。
重に制御した室内で行なわれる。二酸化チタン層を塗布
するときには、湿度を４０％を上回るように保持するの
が好ましく、二酸化ケイ素層を塗布するときには、湿度
を４０％を下回るように保持する。総ての４層は、高温
（例えば、幾つかの等級のポリメチルメタクリレートに
対しては８４℃）で、それぞれ少なくとも１０分間硬化
される。熱的衝撃を回避するため、温度を１５℃／分を
超過しない速度で硬化温度まで制御可能に上昇させ、硬
化の後、同様な速度で室温まで低下させる。
【００１１】幾つかの場合には、薄い下塗をプラスチッ
ク基体に塗布した後、反射防止コーティングを塗布す
る。この下塗により、基体表面のあらゆる細かい引っ掻
き傷の視度も最小限になる。
ク基体に塗布した後、反射防止コーティングを塗布す
る。この下塗により、基体表面のあらゆる細かい引っ掻
き傷の視度も最小限になる。
【００１２】本発明の方法によって製造されたコーティ
ングしたプラスチック基体の平均反射率は４５０〜６５
０ｎｍの波長範囲について０．２％未満であり、４００
〜７００ｎｍの全可視スペクトルについて０．９％未満
である。このコーティングは、耐摩耗性及び下になって
いる基体への接着性に優れている。また、このコーティ
ングは、過酷な環境条件に耐えることができ、その光学
的及び機械的特性が著しく低下することがない。好適な
基体材料としては、ポリメチルメタクリレート、ポリス
チレン、ポリカーボネート、アリルジグリコールカーボ
ネート、及びポリエチレンテレフタレートが挙げられ
る。
ングしたプラスチック基体の平均反射率は４５０〜６５
０ｎｍの波長範囲について０．２％未満であり、４００
〜７００ｎｍの全可視スペクトルについて０．９％未満
である。このコーティングは、耐摩耗性及び下になって
いる基体への接着性に優れている。また、このコーティ
ングは、過酷な環境条件に耐えることができ、その光学
的及び機械的特性が著しく低下することがない。好適な
基体材料としては、ポリメチルメタクリレート、ポリス
チレン、ポリカーボネート、アリルジグリコールカーボ
ネート、及びポリエチレンテレフタレートが挙げられ
る。
【００１３】本発明の他の特徴及び利点は、例によって
本発明の原理を例示する添付の図面に関連して採用され
る好ましい方法の下記の説明から明らかになるであろ
う。
本発明の原理を例示する添付の図面に関連して採用され
る好ましい方法の下記の説明から明らかになるであろ
う。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、図面、特に図１に関して説
明すれば、４層の反射防止コーティング１５が付着し
て、４０〜７００ｎｍの全可視スペクトルに関して低反
射率を提供するプラスチック基体１３を含むパネル１１
が示されている。反射防止コーティングとしては、重合
した二酸化チタン及び重合した二酸化ケイ素が交互にな
っている層であって、各層の厚み及び屈折率を慎重に制
御することができるゾルゲル法を用いて連続的に付着し
ているものが挙げられる。コーティングの第一層１７ａ
及び第三層１７ｃは二酸化チタンから形成され、コーテ
ィングの第二層１７ｂ及び第四層１７ｄは二酸化ケイ素
から形成されている。基体１３は、ポリメチルメタクリ
レート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレンポリカーボネート、
アリルジグリコールカーボネート（ＣＲ−３９）、又は
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のような任意の
通常のプラスチック材料から形成することができる。
明すれば、４層の反射防止コーティング１５が付着し
て、４０〜７００ｎｍの全可視スペクトルに関して低反
射率を提供するプラスチック基体１３を含むパネル１１
が示されている。反射防止コーティングとしては、重合
した二酸化チタン及び重合した二酸化ケイ素が交互にな
っている層であって、各層の厚み及び屈折率を慎重に制
御することができるゾルゲル法を用いて連続的に付着し
ているものが挙げられる。コーティングの第一層１７ａ
及び第三層１７ｃは二酸化チタンから形成され、コーテ
ィングの第二層１７ｂ及び第四層１７ｄは二酸化ケイ素
から形成されている。基体１３は、ポリメチルメタクリ
レート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレンポリカーボネート、
アリルジグリコールカーボネート（ＣＲ−３９）、又は
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のような任意の
通常のプラスチック材料から形成することができる。
【００１５】この方法の予備段階では、プラスチック基
体１３をクリーニングする。平坦なシート状のプラスチ
ック基体は、両面に接着剤ペーパーを有するものが、製
造業者によって供給されて、取扱いによる損傷をできる
だけ少なくする。この接着剤ペーパーを最初に剥がし
て、裸のシートを次に超音波槽で洗剤溶液を用いてクリ
ーニングし、脱イオン水で濯ぐ。次いで、クリーニング
したシートを高温空気流下にて乾燥した後、イオン化し
た気流で乾燥し、表面に静電荷が付着するのを回避す
る。以下に記載の例で用いられるプラスチックシート
は、長方形で平らであり、寸法が１５ｃｍ×４０ｃｍ×
２ｍｍであった。しかし、開示の方法は、これより小さ
い又は大きいシート、並びに湾曲及び屈曲を有する複雑
な形状のものにも容易に用いることができる。
体１３をクリーニングする。平坦なシート状のプラスチ
ック基体は、両面に接着剤ペーパーを有するものが、製
造業者によって供給されて、取扱いによる損傷をできる
だけ少なくする。この接着剤ペーパーを最初に剥がし
て、裸のシートを次に超音波槽で洗剤溶液を用いてクリ
ーニングし、脱イオン水で濯ぐ。次いで、クリーニング
したシートを高温空気流下にて乾燥した後、イオン化し
た気流で乾燥し、表面に静電荷が付着するのを回避す
る。以下に記載の例で用いられるプラスチックシート
は、長方形で平らであり、寸法が１５ｃｍ×４０ｃｍ×
２ｍｍであった。しかし、開示の方法は、これより小さ
い又は大きいシート、並びに湾曲及び屈曲を有する複雑
な形状のものにも容易に用いることができる。
【００１６】反射防止コーティング１５は、基体１３の
表面の細かな引っ掻き傷を過度に見えるようにすること
がある。従って、薄い、ケイ素又はアクリル酸を基剤と
した下塗を基体表面に塗布するのが望ましいことがあ
る。この下塗は、下になっているプラスチック基体に匹
敵する屈折率を有するのが好ましく、例えば浸漬コーテ
ィングによって約１〜５μｍの厚さに塗布される。好適
なＵＶ硬化性コーティング材料は、Red Spot Paint & V
arian Co., Inc. 、エバンスビル、インディアナから発
売されているＵＶＢ５１０Ｒ６である。適当な熱によっ
て硬化した材料はSDC Coatings Inc. 、アナハイム、カ
リフォルニアから発売されているＳｉｌｖｕｅ ２０１
である。
表面の細かな引っ掻き傷を過度に見えるようにすること
がある。従って、薄い、ケイ素又はアクリル酸を基剤と
した下塗を基体表面に塗布するのが望ましいことがあ
る。この下塗は、下になっているプラスチック基体に匹
敵する屈折率を有するのが好ましく、例えば浸漬コーテ
ィングによって約１〜５μｍの厚さに塗布される。好適
なＵＶ硬化性コーティング材料は、Red Spot Paint & V
arian Co., Inc. 、エバンスビル、インディアナから発
売されているＵＶＢ５１０Ｒ６である。適当な熱によっ
て硬化した材料はSDC Coatings Inc. 、アナハイム、カ
リフォルニアから発売されているＳｉｌｖｕｅ ２０１
である。
【００１７】二酸化チタン層、すなわち第一層１７ａ及
び第三層１７ｃの付着のためのコーティング溶液は、チ
タンイソプロポキシド（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 ）、エチル
アルコール（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ2 Ｏ）、及び
塩酸（ＨＣｌ）を混合することによって調製される。第
一層に好適であると考えられているモル組成の一般的範
囲は、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 １モル、ＥｔＯＨ ８０〜
１２０モル、Ｈ2 Ｏ２〜５モル、及びＨＣｌ ０．０５
〜０．５モルである。第三層に好適であると考えられて
いるモル組成の一般的範囲は、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 １
モル、ＥｔＯＨ ３５〜５５モル、Ｈ2 Ｏ ２〜５モ
ル、及びＨＣｌ ０．１〜０．４モルである。チタンプ
ロポキシド、及びチタンエトキシドのような他のチタン
アルコキシドを、チタンイソプロポキシドの代わりに用
いることができる。また、硝酸（ＨＮＯ3 ）を、塩酸の
代わりに用いることができる。チタンイソプロポキシド
とエチルアルコールとの間のモル比は、連続使用のため
に９０日間以上溶液の安定性を保持するのに重要である
ことが分かった。
び第三層１７ｃの付着のためのコーティング溶液は、チ
タンイソプロポキシド（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 ）、エチル
アルコール（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ2 Ｏ）、及び
塩酸（ＨＣｌ）を混合することによって調製される。第
一層に好適であると考えられているモル組成の一般的範
囲は、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 １モル、ＥｔＯＨ ８０〜
１２０モル、Ｈ2 Ｏ２〜５モル、及びＨＣｌ ０．０５
〜０．５モルである。第三層に好適であると考えられて
いるモル組成の一般的範囲は、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 １
モル、ＥｔＯＨ ３５〜５５モル、Ｈ2 Ｏ ２〜５モ
ル、及びＨＣｌ ０．１〜０．４モルである。チタンプ
ロポキシド、及びチタンエトキシドのような他のチタン
アルコキシドを、チタンイソプロポキシドの代わりに用
いることができる。また、硝酸（ＨＮＯ3 ）を、塩酸の
代わりに用いることができる。チタンイソプロポキシド
とエチルアルコールとの間のモル比は、連続使用のため
に９０日間以上溶液の安定性を保持するのに重要である
ことが分かった。
【００１８】二酸化チタン溶液の２種の成分を室温で少
なくとも４時間混合し、その時間中に溶液が加水分解及
び重合を行なう。次に、重合した溶液を濾過して、適当
なコーティングタンクに移す。コーティングタンクはポ
リプロピレンから作られているのが好ましく、これらを
完全にクリーニングした後、溶液を受け入れる。
なくとも４時間混合し、その時間中に溶液が加水分解及
び重合を行なう。次に、重合した溶液を濾過して、適当
なコーティングタンクに移す。コーティングタンクはポ
リプロピレンから作られているのが好ましく、これらを
完全にクリーニングした後、溶液を受け入れる。
【００１９】二酸化ケイ素層、すなわち第二層１７ｂ及
び第四層１７ｄを付着するためのコーティング溶液は、
テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）、エチルア
ルコール（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ2 Ｏ）及び塩酸
（ＨＣｌ）を混合することによって調製する。第二層に
好適であると考えられているモル組成の一般的範囲は、
ＴＥＯＳ １モル、ＥｔＯＨ ７０〜１１０モル、Ｈ2
Ｏ ２〜６モル、及びＨＣｌ ０．１〜０．３モルであ
る。第四層に好適であると考えられているモル組成の一
般的範囲は、ＴＥＯＳ １モル、ＥｔＯＨ ２０〜４０
モル、脱イオンしたＨ2 Ｏ ２〜５モル、及びＨＣｌ
０．０５〜０．１モルである。テトラメチルオルトシリ
ケートのような他のケイ素アルコキシドをテトラエチル
オルトシリケートの代わりに用いることができ、硝酸
（ＨＮＯ3 ）を塩酸の代わりに用いることができる。テ
トラエチルオルトシリケートとエチルアルコールとの間
のモル比は、反復コーティングのために３０日間以上溶
液の安定性を保持するのに重要であることが分かった。
び第四層１７ｄを付着するためのコーティング溶液は、
テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）、エチルア
ルコール（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ2 Ｏ）及び塩酸
（ＨＣｌ）を混合することによって調製する。第二層に
好適であると考えられているモル組成の一般的範囲は、
ＴＥＯＳ １モル、ＥｔＯＨ ７０〜１１０モル、Ｈ2
Ｏ ２〜６モル、及びＨＣｌ ０．１〜０．３モルであ
る。第四層に好適であると考えられているモル組成の一
般的範囲は、ＴＥＯＳ １モル、ＥｔＯＨ ２０〜４０
モル、脱イオンしたＨ2 Ｏ ２〜５モル、及びＨＣｌ
０．０５〜０．１モルである。テトラメチルオルトシリ
ケートのような他のケイ素アルコキシドをテトラエチル
オルトシリケートの代わりに用いることができ、硝酸
（ＨＮＯ3 ）を塩酸の代わりに用いることができる。テ
トラエチルオルトシリケートとエチルアルコールとの間
のモル比は、反復コーティングのために３０日間以上溶
液の安定性を保持するのに重要であることが分かった。
【００２０】二酸化ケイ素溶液の４成分を、少なくとも
４時間、総て室温で混合して、その時間中に溶液が加水
分解を重合を行なう。次に、重合した溶液を濾過して、
適当なポリプロピレンコーティングタンクに移す。
４時間、総て室温で混合して、その時間中に溶液が加水
分解を重合を行なう。次に、重合した溶液を濾過して、
適当なポリプロピレンコーティングタンクに移す。
【００２１】調製した二酸化チタン及び二酸化ケイ素溶
液を、多数の好適な手法のいずれかによって、好ましく
は浸漬コーティングによって、プラスチック基体１３上
に個々の層として付着する。浸漬コーティング法では、
基体を片持部に固定して、駆動系が片持部及び基体を垂
直軸に沿って上下に移動する。移動範囲は、溶液を入れ
た浸漬タンクに基体を完全に浸漬し、これから取出すの
に十分でなければならない。
液を、多数の好適な手法のいずれかによって、好ましく
は浸漬コーティングによって、プラスチック基体１３上
に個々の層として付着する。浸漬コーティング法では、
基体を片持部に固定して、駆動系が片持部及び基体を垂
直軸に沿って上下に移動する。移動範囲は、溶液を入れ
た浸漬タンクに基体を完全に浸漬し、これから取出すの
に十分でなければならない。
【００２２】多層反射防止コーティング１５のそれぞれ
の連続層は、片持ち部及び基体を所定の速度で、溶液を
入れた浸漬タンク中に下げることによって基体１３に付
着する。基体を短時間沈めたままにした後、溶液から所
定の速度で引き上げる。駆動系は、片持ち部及び基体の
引上げ速度を精確に制御するため適当にプログラムされ
たコンピューターであって、付着する層の厚さを制御す
るようにしたものを含んでいる。一般に、引上げ速度を
遅くすると、薄いコーティング層が得られる。
の連続層は、片持ち部及び基体を所定の速度で、溶液を
入れた浸漬タンク中に下げることによって基体１３に付
着する。基体を短時間沈めたままにした後、溶液から所
定の速度で引き上げる。駆動系は、片持ち部及び基体の
引上げ速度を精確に制御するため適当にプログラムされ
たコンピューターであって、付着する層の厚さを制御す
るようにしたものを含んでいる。一般に、引上げ速度を
遅くすると、薄いコーティング層が得られる。
【００２３】浸漬タンク及び片持ち部は、湿度を制御し
た浸漬コーティング室内に治められている。室内の湿度
は、精確に制御して、透明な傷のないコーティング層が
確実に付着するようにしなければならない。二酸化チタ
ン層（例えば、層１７ａ及び１７ｃ）を付着させるに
は、室内の相対湿度は４０〜８０％の範囲となるように
制御される。これより低い湿度では、付着した層が半透
明又は不透明になることがあり、これより高い湿度で
は、付着した層がスポットの傷を含むことがある。一
方、二酸化ケイ素層（例えば層１７ｂ及び１７ｄ）を付
着させるには、室内の相対湿度は２０〜４０％の範囲と
なるように制御される。これより高い湿度では、付着し
た層にスポットの傷を生じることがある。
た浸漬コーティング室内に治められている。室内の湿度
は、精確に制御して、透明な傷のないコーティング層が
確実に付着するようにしなければならない。二酸化チタ
ン層（例えば、層１７ａ及び１７ｃ）を付着させるに
は、室内の相対湿度は４０〜８０％の範囲となるように
制御される。これより低い湿度では、付着した層が半透
明又は不透明になることがあり、これより高い湿度で
は、付着した層がスポットの傷を含むことがある。一
方、二酸化ケイ素層（例えば層１７ｂ及び１７ｄ）を付
着させるには、室内の相対湿度は２０〜４０％の範囲と
なるように制御される。これより高い湿度では、付着し
た層にスポットの傷を生じることがある。
【００２４】浸漬コーティング室内の湿度を所定範囲内
の値に保持すると、上記のプラスチック基体１３上に透
明で傷のないコーティング層を生じる。室内の温度は、
１９°〜２５℃の範囲に保持するのが好ましい。
の値に保持すると、上記のプラスチック基体１３上に透
明で傷のないコーティング層を生じる。室内の温度は、
１９°〜２５℃の範囲に保持するのが好ましい。
【００２５】それぞれのコーティング層を付着した後、
パネル１１をオーブンに移して、硬化させる。硬化によ
って、残留有機物が最上層から蒸発して、幾らかの残留
細孔を有する固形フィルムを生成する。オーブンの温度
は、用いる基体１３の種類によって制御し、特定の基体
が変形せずに耐えることができる最高温度となるように
選択するのが好ましい。ＰＭＭＡについては、硬化温度
は８４℃に保持される。
パネル１１をオーブンに移して、硬化させる。硬化によ
って、残留有機物が最上層から蒸発して、幾らかの残留
細孔を有する固形フィルムを生成する。オーブンの温度
は、用いる基体１３の種類によって制御し、特定の基体
が変形せずに耐えることができる最高温度となるように
選択するのが好ましい。ＰＭＭＡについては、硬化温度
は８４℃に保持される。
【００２６】それぞれのコーティング層の硬化の時間
は、生成する多層堆積１５の強度に影響を与える。好ま
しい方法では、層１７ａ、１７ｂ、１７ｃ及び１７ｄの
それぞれについての硬化時間は少なくとも１０分間であ
る。これら４層のいずれか１つについての硬化時間がこ
れより短ければ、全多層コーティング１５の機械的特
性、例えばその耐引っ掻き性及び接着性のいずれか又は
両方が弱くなる。
は、生成する多層堆積１５の強度に影響を与える。好ま
しい方法では、層１７ａ、１７ｂ、１７ｃ及び１７ｄの
それぞれについての硬化時間は少なくとも１０分間であ
る。これら４層のいずれか１つについての硬化時間がこ
れより短ければ、全多層コーティング１５の機械的特
性、例えばその耐引っ掻き性及び接着性のいずれか又は
両方が弱くなる。
【００２７】コーティングした基体１３を最初に硬化オ
ーブンに入れるとき、これに対する熱衝撃を回避するた
め、オーブンの温度を最初は約２３℃に保持した後、制
御した均一な速度でその最終の８４℃の温度まで上昇さ
せる。この温度上昇は、１５℃／分を超過しない速度で
行なうのが好ましい。上記の硬化時間、例えば１０分間
この８４℃の温度に保持した後、オーブン温度を再度１
５℃／分以下の制御した均一な速度で２３℃で冷却す
る。熱衝撃を回避することができないと、付着した層に
ひび割れが形成されることがある。
ーブンに入れるとき、これに対する熱衝撃を回避するた
め、オーブンの温度を最初は約２３℃に保持した後、制
御した均一な速度でその最終の８４℃の温度まで上昇さ
せる。この温度上昇は、１５℃／分を超過しない速度で
行なうのが好ましい。上記の硬化時間、例えば１０分間
この８４℃の温度に保持した後、オーブン温度を再度１
５℃／分以下の制御した均一な速度で２３℃で冷却す
る。熱衝撃を回避することができないと、付着した層に
ひび割れが形成されることがある。
【００２８】反射防止コーティング１５の第四層１７ｄ
の硬化の後、パネル１１に幾つかの試験を行なう。一つ
の試験は分光光度計を用いて行ない、４００〜７００ｎ
ｍの可視波長範囲についてのコーティングした基体の反
射率を確認する。他の試験では、鉛筆引っ掻き試験及び
テープ接着試験を含む、コーティングの機械的強度を確
認する。
の硬化の後、パネル１１に幾つかの試験を行なう。一つ
の試験は分光光度計を用いて行ない、４００〜７００ｎ
ｍの可視波長範囲についてのコーティングした基体の反
射率を確認する。他の試験では、鉛筆引っ掻き試験及び
テープ接着試験を含む、コーティングの機械的強度を確
認する。
【００２９】鉛筆引っ掻き試験では、ＨＢ、Ｈ、２Ｈ、
３Ｈなどの等級を有する標準的な鉛筆をそれぞれ尖らせ
て鋭利な鉛尖端として、１０００ｇの圧縮荷重を加えて
反射防止コーティング１５の表面に沿って数ｍｍ引きず
る。次に、コーティングを、標準的な室内照明条件下で
目に見える引っ掻き傷の跡の存在について検査する。
３Ｈなどの等級を有する標準的な鉛筆をそれぞれ尖らせ
て鋭利な鉛尖端として、１０００ｇの圧縮荷重を加えて
反射防止コーティング１５の表面に沿って数ｍｍ引きず
る。次に、コーティングを、標準的な室内照明条件下で
目に見える引っ掻き傷の跡の存在について検査する。
【００３０】テープ接着試験では、３Ｍ製透明テープを
反射防止コーティング１５にしっかりと押し付けた後、
素早く上方に引っ張って垂直に取り除く。次いで、コー
ティング表面を、均一性について検査する。
反射防止コーティング１５にしっかりと押し付けた後、
素早く上方に引っ張って垂直に取り除く。次いで、コー
ティング表面を、均一性について検査する。
【００３１】コーティングした基体１３の環境による分
解の受け易さを試験する。これらの試験としては、1)高
温試験、2)低温試験、3)湿度試験、4)熱衝撃試験、及び
5)耐薬品性試験が挙げられる。
解の受け易さを試験する。これらの試験としては、1)高
温試験、2)低温試験、3)湿度試験、4)熱衝撃試験、及び
5)耐薬品性試験が挙げられる。
【００３２】高温試験では、パネル１１を８４℃に１９
２時間暴露した後、その反射率、耐引っ掻き性、接着特
性、及び外観の低下について検査する。低温試験では、
コーティングした基体を−４０℃に１９２時間暴露した
後、これらの同じパラメーターをチェックする。湿度試
験では、コーティングした基体を６０℃で９５％相対湿
度に１９２時間暴露した後、同じパラメーターをチェッ
クする。熱衝撃試験では、コーティングした基体を８４
℃と−３０℃との間で２００回反復させた後、同じパラ
メーターをチェックする。最後に、耐薬品性試験では、
洗剤、艶出しワックス、ブレーキ油、及び家庭用ガラス
クリーナーをコーティング１５に塗布して、パネル１１
を６０℃に２４時間暴露した後、同じパラメーターをチ
ェックする。
２時間暴露した後、その反射率、耐引っ掻き性、接着特
性、及び外観の低下について検査する。低温試験では、
コーティングした基体を−４０℃に１９２時間暴露した
後、これらの同じパラメーターをチェックする。湿度試
験では、コーティングした基体を６０℃で９５％相対湿
度に１９２時間暴露した後、同じパラメーターをチェッ
クする。熱衝撃試験では、コーティングした基体を８４
℃と−３０℃との間で２００回反復させた後、同じパラ
メーターをチェックする。最後に、耐薬品性試験では、
洗剤、艶出しワックス、ブレーキ油、及び家庭用ガラス
クリーナーをコーティング１５に塗布して、パネル１１
を６０℃に２４時間暴露した後、同じパラメーターをチ
ェックする。
【００３３】本発明の好ましい方法を一般的に記載した
が、下記の具体例により本発明の様々な特性を例示し、
本発明の実際の利点を明らかにする。これらの例は、単
なる例示のためのものと解釈すべきであり、開示内容又
は特許請求の範囲の残りの部分を限定すべきではない。
が、下記の具体例により本発明の様々な特性を例示し、
本発明の実際の利点を明らかにする。これらの例は、単
なる例示のためのものと解釈すべきであり、開示内容又
は特許請求の範囲の残りの部分を限定すべきではない。
【００３４】
例１ この例では、長さ４０ｃｍ、幅１５ｃｍ、及び厚さ２ｍ
ｍのポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）の基体上に
４層の反射防止コーティングを製造した。接着剤ペーパ
ーを最初にＰＭＭＡシートから取り除き、次に、裸のシ
ートを超音波槽中で洗剤溶液を用いてクリーニングし、
脱イオン水で十分に濯いだ。次いで、シートを高温気流
下で乾燥した後、イオン化した気流によって乾燥して、
静電荷が付着するのを回避する。
ｍのポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）の基体上に
４層の反射防止コーティングを製造した。接着剤ペーパ
ーを最初にＰＭＭＡシートから取り除き、次に、裸のシ
ートを超音波槽中で洗剤溶液を用いてクリーニングし、
脱イオン水で十分に濯いだ。次いで、シートを高温気流
下で乾燥した後、イオン化した気流によって乾燥して、
静電荷が付着するのを回避する。
【００３５】コーティングの４層のそれぞれについて、
別のコーティング溶液を調製した。第一及び第三層につ
いての溶液はチタンを基剤とし、第二及び第四層につい
ての溶液はケイ素を基剤としていた。
別のコーティング溶液を調製した。第一及び第三層につ
いての溶液はチタンを基剤とし、第二及び第四層につい
ての溶液はケイ素を基剤としていた。
【００３６】第一層についての溶液は、チタンイソプロ
ポキシド（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 ）、エチルアルコール
（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ2 Ｏ）及び塩酸（ＨＣ
ｌ）を混合することによって調製した。この第一層につ
いての組成は、Ｔｉ（ＯｉＰｒ） 4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ
2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：１００：３：０．２であった。これ
らの４成分を室温で４時間十分に混合した後、溶液を室
温で４８時間放置した。この時間中に、溶液は加水分解
反応及び重合を行ない、二酸化チタンポリマー溶液を形
成した。次に、重合した溶液を濾過して、ポリプロピレ
ン保存タンクに移した。
ポキシド（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 ）、エチルアルコール
（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ2 Ｏ）及び塩酸（ＨＣ
ｌ）を混合することによって調製した。この第一層につ
いての組成は、Ｔｉ（ＯｉＰｒ） 4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ
2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：１００：３：０．２であった。これ
らの４成分を室温で４時間十分に混合した後、溶液を室
温で４８時間放置した。この時間中に、溶液は加水分解
反応及び重合を行ない、二酸化チタンポリマー溶液を形
成した。次に、重合した溶液を濾過して、ポリプロピレ
ン保存タンクに移した。
【００３７】第一層の溶液を浸漬コーティング室に移し
て、ＰＭＭＡ基体を垂直方向に移動可能なアームに固定
した。室内の温度を２３℃となるように制御し、室内の
湿度を４０〜８０％の範囲になるように制御した。次
に、基体を溶液中に下げて、１０秒間沈めたままにした
後、これを０．２ｃｍ／秒の速度で引き出した。基体を
引き出すと、透明な均一層が得られた。
て、ＰＭＭＡ基体を垂直方向に移動可能なアームに固定
した。室内の温度を２３℃となるように制御し、室内の
湿度を４０〜８０％の範囲になるように制御した。次
に、基体を溶液中に下げて、１０秒間沈めたままにした
後、これを０．２ｃｍ／秒の速度で引き出した。基体を
引き出すと、透明な均一層が得られた。
【００３８】次に、第一層をコーティングした基体をオ
ーブンに移して、オーブンの温度を均一速度２℃／分で
２３℃から８４℃まで上げた。この８４℃の温度を１０
分間保持し、この時間中に第一のコーティング層を完全
に硬化した。次に、オーブン温度を２３℃まで均一速度
２℃／分で下げ、基体を取出した。硬化した二酸化チタ
ンの第一層の厚みは１５〜２５ｎｍの範囲であると測定
され、この層の屈折率は５５０ｎｍの波長では２．００
と測定された。
ーブンに移して、オーブンの温度を均一速度２℃／分で
２３℃から８４℃まで上げた。この８４℃の温度を１０
分間保持し、この時間中に第一のコーティング層を完全
に硬化した。次に、オーブン温度を２３℃まで均一速度
２℃／分で下げ、基体を取出した。硬化した二酸化チタ
ンの第一層の厚みは１５〜２５ｎｍの範囲であると測定
され、この層の屈折率は５５０ｎｍの波長では２．００
と測定された。
【００３９】第二層のコーティング溶液を、テトラエチ
ルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）、エチルアルコール
（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ2 Ｏ）、及び塩酸（ＨＣ
ｌ）を混合することによって調製した。この第二層につ
いての組成は、ＴＥＯＳ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝
１：８０：３：０．２であった。これらの４成分を室温
で４時間十分に混合した後、溶液を室温で更に４時間放
置した。この時間中に、溶液は加水分解反応及び重合を
行ない、二酸化ケイ素ポリマー溶液を形成した。次に、
重合した溶液を濾過して、ポリプロピレン保存タンクに
移した。
ルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）、エチルアルコール
（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ2 Ｏ）、及び塩酸（ＨＣ
ｌ）を混合することによって調製した。この第二層につ
いての組成は、ＴＥＯＳ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝
１：８０：３：０．２であった。これらの４成分を室温
で４時間十分に混合した後、溶液を室温で更に４時間放
置した。この時間中に、溶液は加水分解反応及び重合を
行ない、二酸化ケイ素ポリマー溶液を形成した。次に、
重合した溶液を濾過して、ポリプロピレン保存タンクに
移した。
【００４０】第二層の溶液を浸漬コーティング室に移し
て、４層反射防止コーティングの第一層が既に付着した
ＰＭＭＡ基体を垂直方向に移動可能なアームに固定し
た。室内の温度を２３℃となるように制御し、室内の湿
度を２０〜４０％の範囲になるように制御した。次に、
基体を溶液中に下げて、１０秒間沈めたままにした後、
これを０．１２ｃｍ／秒の速度で引き出した。基体を引
き出すと、第一層の表面に透明で均一な第二層が得られ
た。
て、４層反射防止コーティングの第一層が既に付着した
ＰＭＭＡ基体を垂直方向に移動可能なアームに固定し
た。室内の温度を２３℃となるように制御し、室内の湿
度を２０〜４０％の範囲になるように制御した。次に、
基体を溶液中に下げて、１０秒間沈めたままにした後、
これを０．１２ｃｍ／秒の速度で引き出した。基体を引
き出すと、第一層の表面に透明で均一な第二層が得られ
た。
【００４１】硬化した第一層及び新たに浸漬した第二層
をコーティングした基体を硬化オーブンに移して、オー
ブンの温度を均一速度２℃／分で２３℃から８４℃まで
上げた。この８４℃の温度を１０分間保持し、この時間
中に第一のコーティング層を硬化した。次に、オーブン
温度を２３℃まで均一速度２℃／分で下げ、基体を取出
した。硬化した二酸化ケイ素の第二層の厚みは２５〜３
５ｎｍの範囲であると測定され、この層の屈折率は５５
０ｎｍの波長では１．４５と測定された。
をコーティングした基体を硬化オーブンに移して、オー
ブンの温度を均一速度２℃／分で２３℃から８４℃まで
上げた。この８４℃の温度を１０分間保持し、この時間
中に第一のコーティング層を硬化した。次に、オーブン
温度を２３℃まで均一速度２℃／分で下げ、基体を取出
した。硬化した二酸化ケイ素の第二層の厚みは２５〜３
５ｎｍの範囲であると測定され、この層の屈折率は５５
０ｎｍの波長では１．４５と測定された。
【００４２】第三層のコーティング溶液を、モル組成が
幾らか異なることを除き、第一層の溶液と同様な方法で
調製した。モル比は、ＴｉＯｉＰｒ：ＥｔＯＨ：Ｈ
2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：４５：３：０．２であった。第三層
の浸漬段階中に、温度及び湿度を第一層の浸漬段階につ
いてと同一になるように制御し、基体を０．２５ｃｍ／
秒の速度で引き出した。第三層の硬化は、第一層の硬化
と精確に同一な方法で行なった。硬化の後、第三層の厚
みは７０〜９０ｎｍの範囲であると測定され、この層の
屈折率は５５０ｎｍの波長では２．００と測定された。
幾らか異なることを除き、第一層の溶液と同様な方法で
調製した。モル比は、ＴｉＯｉＰｒ：ＥｔＯＨ：Ｈ
2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：４５：３：０．２であった。第三層
の浸漬段階中に、温度及び湿度を第一層の浸漬段階につ
いてと同一になるように制御し、基体を０．２５ｃｍ／
秒の速度で引き出した。第三層の硬化は、第一層の硬化
と精確に同一な方法で行なった。硬化の後、第三層の厚
みは７０〜９０ｎｍの範囲であると測定され、この層の
屈折率は５５０ｎｍの波長では２．００と測定された。
【００４３】第四層のコーティング溶液を、モル組成が
幾らか異なることを除き、第二層の溶液と同様な方法で
調製した。モル比は、ＴＥＯＳ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：Ｈ
Ｃｌ＝１：２７：３．７：０．０７であった。第四層の
浸漬段階中に、温度及び湿度を第二層の浸漬段階につい
てと同一になるように制御し、基体を０．２ｃｍ／秒の
速度で引き出した。第四層の硬化は、第二層の硬化と精
確に同一な方法で行なった。硬化の後、第四層の厚みは
９０〜１１０ｎｍの範囲であると測定され、この層の屈
折率は５５０ｎｍの波長では１．４４と測定された。
幾らか異なることを除き、第二層の溶液と同様な方法で
調製した。モル比は、ＴＥＯＳ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：Ｈ
Ｃｌ＝１：２７：３．７：０．０７であった。第四層の
浸漬段階中に、温度及び湿度を第二層の浸漬段階につい
てと同一になるように制御し、基体を０．２ｃｍ／秒の
速度で引き出した。第四層の硬化は、第二層の硬化と精
確に同一な方法で行なった。硬化の後、第四層の厚みは
９０〜１１０ｎｍの範囲であると測定され、この層の屈
折率は５５０ｎｍの波長では１．４４と測定された。
【００４４】この例の４層反射防止コーティングの第四
層の最終的な硬化段階の後、コーティングは透明であ
り、目に見える傷はないことが分かった。試料の反射率
を３００〜８００ｎｍの波長範囲に亙って分光高度計を
用いて測定し、この測定の結果を表しているデータを図
２に示す。これらのデータは、平均反射率が４５０〜６
５０ｎｍの波長範囲で０．２％未満であり、４００〜７
００ｎｍの全可視波長範囲に亙って０．９％未満である
ことを示している。
層の最終的な硬化段階の後、コーティングは透明であ
り、目に見える傷はないことが分かった。試料の反射率
を３００〜８００ｎｍの波長範囲に亙って分光高度計を
用いて測定し、この測定の結果を表しているデータを図
２に示す。これらのデータは、平均反射率が４５０〜６
５０ｎｍの波長範囲で０．２％未満であり、４００〜７
００ｎｍの全可視波長範囲に亙って０．９％未満である
ことを示している。
【００４５】この試料の４層反射防止コーティングを、
耐引っ掻き性試験及びテープ接着試験を用いて評価し
た。この試料は、３Ｈの鉛筆からでも目に見える印は付
かず、またこれはテープ接着に耐え、損傷もなかった。
耐引っ掻き性試験及びテープ接着試験を用いて評価し
た。この試料は、３Ｈの鉛筆からでも目に見える印は付
かず、またこれはテープ接着に耐え、損傷もなかった。
【００４６】この例の４層反射防止コーティングを、上
記の５種の環境条件又は試験に付すことによって環境に
よる分解の受け易さについて評価した。これらの試験と
しては、高温試験、低温試験、湿度試験、熱衝撃試験及
び耐薬品性試験が挙げられる。
記の５種の環境条件又は試験に付すことによって環境に
よる分解の受け易さについて評価した。これらの試験と
しては、高温試験、低温試験、湿度試験、熱衝撃試験及
び耐薬品性試験が挙げられる。
【００４７】例２ ４層の反射防止コーティングを、例１と精確に同じ手続
きを用いて、ポリスチレン、ポリカーボネート、ＣＲ−
３９及びＰＥＴから形成したプラスチック基体に付着さ
せる。それぞれの場合に、図２に示したのと同じ極めて
低い反射率が観察され、例１の試料と同様の機械特性が
得られる。
きを用いて、ポリスチレン、ポリカーボネート、ＣＲ−
３９及びＰＥＴから形成したプラスチック基体に付着さ
せる。それぞれの場合に、図２に示したのと同じ極めて
低い反射率が観察され、例１の試料と同様の機械特性が
得られる。
【００４８】例３ 浸漬コーティングの前にコーティング溶液を濾過しなか
ったことを除き、例１に記載したのと精確に同じ方法で
調製したコーティング溶液を用いて４層の反射防止コー
ティングをＰＭＭＡ基体上に付着させた。これらの層の
それぞれは、スポットの傷を含み、コーティングしたパ
ネルは使用できなかった。
ったことを除き、例１に記載したのと精確に同じ方法で
調製したコーティング溶液を用いて４層の反射防止コー
ティングをＰＭＭＡ基体上に付着させた。これらの層の
それぞれは、スポットの傷を含み、コーティングしたパ
ネルは使用できなかった。
【００４９】例４ 第二及び第四層の二酸化ケイ素溶液を室温で４時間では
なく３０分間だけ混合したことを除き、例１と精確に同
じ方法で調製したコーティング溶液を用いて４層反射防
止コーティングをＰＭＭＡ基体上に付着させた。生成す
る４層反射防止コーティングの反射率は、４５０〜６５
０ｎｍの範囲に亙って０．２％よりかなり高かった。更
に、これらの同一溶液を用いてコーティングした多数の
パネルについて、反射率の値は実質的に変動した。これ
は、溶液が３０分の混合時間内には安定しなかったこと
を示していた。
なく３０分間だけ混合したことを除き、例１と精確に同
じ方法で調製したコーティング溶液を用いて４層反射防
止コーティングをＰＭＭＡ基体上に付着させた。生成す
る４層反射防止コーティングの反射率は、４５０〜６５
０ｎｍの範囲に亙って０．２％よりかなり高かった。更
に、これらの同一溶液を用いてコーティングした多数の
パネルについて、反射率の値は実質的に変動した。これ
は、溶液が３０分の混合時間内には安定しなかったこと
を示していた。
【００５０】例５ 混合後に、第一及び第三層の二酸化チタン溶液を室温で
４時間ではなく３０分間だけ混合したことを除き、例１
と精確に同じ方法で調製したコーティング溶液を用いて
４層反射防止コーティングをＰＭＭＡ基体上に付着させ
た。生成する４層反射防止コーティングの反射率は、４
５０〜６５０ｎｍの範囲に亙って０．２％よりかなり高
かった。更に、これらの同一溶液を用いてコーティング
した多数のパネルについて、反射率の値は実質的に変動
した。これは、溶液が３０分の混合時間内には安定しな
かったことを示していた。
４時間ではなく３０分間だけ混合したことを除き、例１
と精確に同じ方法で調製したコーティング溶液を用いて
４層反射防止コーティングをＰＭＭＡ基体上に付着させ
た。生成する４層反射防止コーティングの反射率は、４
５０〜６５０ｎｍの範囲に亙って０．２％よりかなり高
かった。更に、これらの同一溶液を用いてコーティング
した多数のパネルについて、反射率の値は実質的に変動
した。これは、溶液が３０分の混合時間内には安定しな
かったことを示していた。
【００５１】例６ 二酸化チタン層、すなわち第一及び第三層を４０％未満
の相対湿度で浸漬コーティングしたことを除き、コーテ
ィングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確に同じ方法で調
製した。コーティングした基体をコーティング溶液から
とりだすと、両層は不透明になった。生成する４層反射
防止コーティングは透明ではなく、耐引っ掻き性試験及
びテープ接着試験にも不合格であった。
の相対湿度で浸漬コーティングしたことを除き、コーテ
ィングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確に同じ方法で調
製した。コーティングした基体をコーティング溶液から
とりだすと、両層は不透明になった。生成する４層反射
防止コーティングは透明ではなく、耐引っ掻き性試験及
びテープ接着試験にも不合格であった。
【００５２】二酸化ケイ素層、すなわち第二及び第四層
を４０％を上回る相対湿度で浸漬コーティングしたこと
を除き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確
に同じ方法で調製した。コーティングした基体をコーテ
ィング溶液からとりだすと、両層は複数のスポット傷を
有していた。生成する４層反射防止コーティングはこれ
らのスポット傷を含み、パネルは使用できなかった。
を４０％を上回る相対湿度で浸漬コーティングしたこと
を除き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確
に同じ方法で調製した。コーティングした基体をコーテ
ィング溶液からとりだすと、両層は複数のスポット傷を
有していた。生成する４層反射防止コーティングはこれ
らのスポット傷を含み、パネルは使用できなかった。
【００５３】例８ ４層をそれぞれ１０分間ではなく１分間だけ硬化したこ
とを除き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精
確に同じ方法で調製した。生成する４層反射防止コーテ
ィングはひび割れを有し、耐引っ掻き性試験及びテープ
接着試験にも不合格であった。
とを除き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精
確に同じ方法で調製した。生成する４層反射防止コーテ
ィングはひび割れを有し、耐引っ掻き性試験及びテープ
接着試験にも不合格であった。
【００５４】例９ ＵＶ硬化性下塗を最初にパネル表面に塗布したことを除
き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確に同
じ方法で調製した。図２に示したものに匹敵する低い反
射率が見られ、例１の試料同様の機械特性が得られた。
き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確に同
じ方法で調製した。図２に示したものに匹敵する低い反
射率が見られ、例１の試料同様の機械特性が得られた。
【００５５】例１０〜１２ 第一層についてのコーティング組成がＴｉ（ＯｉＰｒ）
4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：８０：２：０．０
５（例１０）、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ
2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：９０：３：０．１（例１１）、及び
Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：
１２０：５：０．５（例１２）であることを除き、コー
ティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確に同じ方法で
調製する。それぞれの場合に、図２に示したのと同様な
極めて低い反射率が見られ、例１のコーティングしたパ
ネルによって提供されるものと同様の機械特性が得られ
る。
4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：８０：２：０．０
５（例１０）、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ
2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：９０：３：０．１（例１１）、及び
Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：
１２０：５：０．５（例１２）であることを除き、コー
ティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確に同じ方法で
調製する。それぞれの場合に、図２に示したのと同様な
極めて低い反射率が見られ、例１のコーティングしたパ
ネルによって提供されるものと同様の機械特性が得られ
る。
【００５６】例１３〜１４ 第二層についてのコーティング組成がＴＥＯＳ：ＥｔＯ
Ｈ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：７０：２：０．１（例１
３）、及びＴＥＯＳ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：
９０：６：０．３（例１４）であることを除き、コーテ
ィングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確に同じ方法で調
製する。それぞれの場合に、図２に示したのと同様な極
めて低い反射率が見られ、例１のコーティングしたパネ
ルによって提供されるものと同様の機械特性が得られ
る。
Ｈ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：７０：２：０．１（例１
３）、及びＴＥＯＳ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：
９０：６：０．３（例１４）であることを除き、コーテ
ィングしたＰＭＭＡパネルを例１と精確に同じ方法で調
製する。それぞれの場合に、図２に示したのと同様な極
めて低い反射率が見られ、例１のコーティングしたパネ
ルによって提供されるものと同様の機械特性が得られ
る。
【００５７】例１５〜１６ 第三層についてのコーティング組成がＴｉ（ＯｉＰｒ）
4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：３５：２：０．１
（例１５）、及びＴｉ（ＯｉＰｒ）4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ2
Ｏ：ＨＣｌ＝１：５５：５：０．４（例１６）であるこ
とを除き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精
確に同じ方法で調製する。それぞれの場合に、図２に示
したのと同様な極めて低い反射率が見られ、例１のコー
ティングしたパネルによって提供されるものと同様の機
械特性が得られる。
4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：３５：２：０．１
（例１５）、及びＴｉ（ＯｉＰｒ）4 ：ＥｔＯＨ：Ｈ2
Ｏ：ＨＣｌ＝１：５５：５：０．４（例１６）であるこ
とを除き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを例１と精
確に同じ方法で調製する。それぞれの場合に、図２に示
したのと同様な極めて低い反射率が見られ、例１のコー
ティングしたパネルによって提供されるものと同様の機
械特性が得られる。
【００５８】例１７〜１９ 第四層についてのコーティング組成がＴＥＯＳ：ＥｔＯ
Ｈ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：２５：２：０．０５（例１
７）、ＴＥＯＳ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：３
０：４：０．０９（例１８）、及びＴＥＯＳ：ＥｔＯ
Ｈ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：３５：５：０．１（例１９）
であることを除き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを
例１と精確に同じ方法で調製する。それぞれの場合に、
図２に示したのと同様な極めて低い反射率が見られ、例
１のコーティングしたパネルによって提供されるものと
同様の機械特性が得られる。
Ｈ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：２５：２：０．０５（例１
７）、ＴＥＯＳ：ＥｔＯＨ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：３
０：４：０．０９（例１８）、及びＴＥＯＳ：ＥｔＯ
Ｈ：Ｈ2 Ｏ：ＨＣｌ＝１：３５：５：０．１（例１９）
であることを除き、コーティングしたＰＭＭＡパネルを
例１と精確に同じ方法で調製する。それぞれの場合に、
図２に示したのと同様な極めて低い反射率が見られ、例
１のコーティングしたパネルによって提供されるものと
同様の機械特性が得られる。
【００５９】上記の説明から、本発明は、多層反射防止
コーティングをプラスチック基体上に付着させるための
改良法であって、４００〜７００ｎｍの全可視波長範囲
に亙って極めて低い反射率、並びに優れた機械的強度及
び耐久性を提供する改良法を提供することを理解すべき
である。多層コーティングは、重合した二酸化チタン及
び重合した二酸化ケイ素の交互になった堆積であって、
特定の重合した溶液から塗布されるものを含む。
コーティングをプラスチック基体上に付着させるための
改良法であって、４００〜７００ｎｍの全可視波長範囲
に亙って極めて低い反射率、並びに優れた機械的強度及
び耐久性を提供する改良法を提供することを理解すべき
である。多層コーティングは、重合した二酸化チタン及
び重合した二酸化ケイ素の交互になった堆積であって、
特定の重合した溶液から塗布されるものを含む。
【００６０】本発明を好ましい方法に関してだけ詳細に
説明してきたが、当業者であれば、各種の改質を本発明
から離反することなく行なうことができることを理解す
るであろう。従って、本発明は、特許請求の範囲によっ
てのみ定義される。
説明してきたが、当業者であれば、各種の改質を本発明
から離反することなく行なうことができることを理解す
るであろう。従って、本発明は、特許請求の範囲によっ
てのみ定義される。
【図１】本発明の好ましい方法を用いて４層反射防止コ
ーティングを付着した透明なプラスチック基体の横断面
（縮尺による製図ではない）。
ーティングを付着した透明なプラスチック基体の横断面
（縮尺による製図ではない）。
【図２】本発明の好ましい方法により付着した多層反射
防止コーティングを有する及び持たないポリメチルメタ
クリレート基体の反射率のグラフ。
防止コーティングを有する及び持たないポリメチルメタ
クリレート基体の反射率のグラフ。
１１ パネル １３ 基体 １５ ４層の反射防止コーティング １７ａ〜ｄ コーティング層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サトヤブラタ レイチョウドフリィ アメリカ合衆国カリフォルニア州アゴウ ラ，ペサロ ストリート 502 (72)発明者 ソト ヨシタケ アメリカ合衆国カリフォルニア州アゴウ ラ，ディアー ラン レーン 710，ナン バー 170 (72)発明者 アーナブ サーカー アメリカ合衆国カリフォルニア州ウエスト ヒルズ，ダリン ドライブ 6715
Claims (66)
- 【請求項１】 プラスチック基体上に多層反射防止コー
ティングを付着させる方法であって、 チタンアルコキシド、アルコール及び水を含む１種以上
の重合したチタン含有溶液を供給し、 ケイ素アルコキシド、アルコール及び水を含む１種以上
の重合したケイ素含有溶液を供給し、 プラスチック基体に交互のやり方でチタン含有溶液を塗
布し且つケイ素含有溶液を塗布して、塗布の各段階の後
に所定量の溶液が基体に付着し、 塗布の各段階の後に、次の連続的塗布段階が起こる前に
付着した溶液を硬化させ、それぞれの上記硬化段階が基
体上に別の重合層を形成し、連続した重合層が協同し
て、可視光線の反射率を実質的に減少させる少なくとも
４層の多層コーティングを形成する段階を含んでなる、
方法。 - 【請求項２】 チタン含有溶液から形成される多層コー
ティングの各層の屈折率が１．８０〜２．２０の範囲で
あり、 ケイ素含有溶液から形成される多層コーティングの各層
の屈折率が１．４０〜１．４６の範囲である、請求項１
記載の方法。 - 【請求項３】 多層コーティングの第一層がチタン含有
溶液から形成され、均一な厚みが１０〜３０ｎｍの範囲
であり、 多層コーティングの第二層がケイ素含有溶液から形成さ
れ、均一な厚みが２０〜４０ｎｍの範囲であり、 多層コーティングの第三層がチタン含有溶液から形成さ
れ、均一な厚みが７０〜１００ｎｍの範囲であり、 多層コーティングの第四層がケイ素含有溶液から形成さ
れ、均一な厚みが８０〜１１０ｎｍの範囲である、 請求項１記載の方法。 - 【請求項４】 塗布の各段階が、チタン含有溶液又はケ
イ素含有溶液に基体を浸漬し、基体を取出す段階を含
み、各連続的な取出しが制御された速度で行なわれ、所
定量の溶液が基体に付着するようにする、請求項３記載
の方法。 - 【請求項５】 各ケイ素含有溶液を、 テトラエチルオルトシリケート及びテトラメチルオルト
シリケートからなる群から選択されるケイ素アルコキシ
ド、 エチルアルコール、 脱イオン水、及び塩酸及び硝酸からなる群から選択され
る酸性触媒を混合することによって調製する、請求項１
記載の方法。 - 【請求項６】 多層コーティングの第二層が、ケイ素ア
ルコキシド１モルに対してエチルアルコール７０〜９０
モル、脱イオン水２〜６モル及び酸性触媒０．１〜０．
３モルを含む溶液から形成される、請求項５記載の方
法。 - 【請求項７】 多層コーティングの第四層が、ケイ素ア
ルコキシド１モルに対してエチルアルコール２５〜３５
モル、脱イオン水２〜５モル及び酸性触媒０．０５〜
０．１モルを含む溶液から形成される、請求項５記載の
方法。 - 【請求項８】 各チタン含有溶液を、 チタンイソプロポキシド、チタンプロポキシド及びチタ
ンエトキシドからなる群から選択されるチタンアルコキ
シド、 エチルアルコール、 脱イオン水、及び塩酸及び硝酸からなる群から選択され
る酸性触媒を混合することによって調製する、請求項１
記載の方法。 - 【請求項９】 多層コーティングの第一層がチタンアル
コキシド１モルに対してエチルアルコール８０〜１２０
モル、脱イオン水２〜５モル及び酸性触媒０．０５〜
０．５モルを含む溶液から形成される、請求項８記載の
方法。 - 【請求項１０】 多層コーティングの第三層がチタンア
ルコキシド１モルに対してエチルアルコール３５〜５５
モル、脱イオン水２〜５モル及び酸性触媒０．１〜０．
４モルを含む溶液から形成される、請求項８記載の方
法。 - 【請求項１１】 各ケイ素含有溶液を、 テトラエチルオルトシリケート及びテトラメチルオルト
シリケートからなる群から選択されるケイ素アルコキシ
ド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製し、 各チタン含有溶液を、 チタンイソプロポキシド、チタンプロポキシド及びチタ
ンエトキシドからなる群から選択されるチタンアルコキ
シド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製する、請求項
１記載の方法。 - 【請求項１２】 多層コーティングの第一層が、チタン
アルコキシド１モルに対してエチルアルコール８０〜１
２０モル、脱イオン水２〜５モル、及び酸性触媒０．０
５〜０．５モルを含むチタン含有溶液から形成され、 多層コーティングの第二層が、ケイ素アルコキシド１モ
ルに対してエチルアルコール７０〜９０モル、脱イオン
水２〜６モル、及び酸性触媒０．１〜０．３モルを含む
ケイ素含有溶液から形成され、 多層コーティングの第三層が、ケイ素アルコキシド１モ
ルに対してエチルアルコール３５〜５５モル、脱イオン
水２〜５モル、及び酸性触媒０．１〜０．４モルを含む
ケイ素含有溶液から形成され、 多層コーティングの第四層が、ケイ素アルコキシド１モ
ルに対してエチルアルコール２５〜３５モル、脱イオン
水２〜５モル、及び酸性触媒０．０５〜０．１モルを含
むケイ素含有溶液から形成される、請求項１１記載の方
法。 - 【請求項１３】 １種以上のケイ素含有溶液及び１種以
上のチタン含有溶液を提供する段階が、それぞれの溶液
を室温で少なくとも４時間混合した後、基体に塗布する
ことを包含する、請求項１項記載の方法。 - 【請求項１４】 １種以上のケイ素含有溶液及び１種以
上のチタン含有溶液を提供する段階が、開口度が５μｍ
以下のフィルターを用いて各溶液を濾過する段階を包含
する、請求項１０記載の方法。 - 【請求項１５】 チタン含有溶液をプラスチック基体に
塗布する段階が、相対湿度が少なくとも４０％であるコ
ーティング室内で行なわれる、請求項１記載の方法。 - 【請求項１６】 ケイ素含有溶液をプラスチック基体に
塗布する段階が、相対湿度が４０％未満であるコーティ
ング室内で行なわれる、請求項１記載の方法。 - 【請求項１７】 多層コーティングの第一、第二、第三
及び第四層の硬化段階が、それぞれ高温で少なくとも１
０分間行なわれる、請求項１記載の方法。 - 【請求項１８】 硬化の連続的段階の高温が、プラスチ
ック基体の変形温度未満である、請求項１７記載の方
法。 - 【請求項１９】 プラスチック基体がポリメチルメタク
リレートから形成され、 硬化の連続的段階の高温が８４℃未満である、請求項１
８記載の方法。 - 【請求項２０】 硬化の連続的段階が、 基体の温度を１５℃／分を超過しない割合で高温まで上
昇させ、 基体の温度を１５℃／分を超過しない割合で高温から室
温まで低下させることを包含する、請求項１８記載の方
法。 - 【請求項２１】 硬化の最終段階の後に提供される多層
コーティングの平均反射率が、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ
の波長範囲について０．２％以下であり、４００〜７０
０ｎｍの波長範囲について０．９％以下である、請求項
１記載の方法。 - 【請求項２２】 硬化の最終段階の後に提供される多層
コーティングが、１Ｈ鉛筆の引っ掻き試験に耐え、損傷
がない、請求項１記載の方法。 - 【請求項２３】 硬化の最終段階の後に提供される多層
コーティングが、少なくとも１９２時間の６０℃での９
５％相対湿度への暴露に耐え、光学的及び機械的特性に
著しい低下がない、請求項１記載の方法。 - 【請求項２４】 硬化の最終段階の後に提供される多層
コーティングが、１９２時間の８４℃の温度への暴露、
及び１９２時間の−４０℃の温度への暴露に耐え、光学
的及び機械的特性に著しい低下がない、請求項１記載の
方法。 - 【請求項２５】 硬化の最終段階の後に提供される多層
コーティングが、８４℃及び−３０℃の間で２００回反
復する温度への暴露に耐え、光学的及び機械的特性に著
しい低下がない、請求項１記載の方法。 - 【請求項２６】 プラスチック基体が、ポリメチルメタ
クリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、アリル
ジグリコールカーボネート、及びポリエチレンテレフタ
レートからなる群から選択される材料から形成される、
請求項１記載の方法。 - 【請求項２７】 下塗をプラスチック基体に適用する予
備段階をも含む、請求項１記載の方法。 - 【請求項２８】 塗布の各段階が、チタン含有溶液又は
ケイ素含有溶液に基体を浸漬して、基体を取出す段階を
含み、各連続的取出しを制御した速度で行ない、所定量
の溶液が基体に付着するようにする、請求項１記載の方
法。 - 【請求項２９】 多層の反射防止コーティングをプラス
チック基体に付着する方法であって、 アルコキシド、アルコール及び水を混合し、屈折率が
１．８０以上である薄膜を提供するように処方した１種
以上の第一の重合溶液を生成させ、 アルコキシド、アルコール及び水を混合し、屈折率が
１．４６以下である薄膜を提供するように処方した１種
以上の第二の重合溶液を生成させ、 第一の重合溶液及び第二の重合溶液をプラスチック基体
に交互に塗布し、塗布の各段階の後に所定量の溶液が基
体に付着するようにし、 塗布の各段階の後に、塗布の次の連続的段階を行なう前
に付着した溶液を硬化させ、連続的な重合層が協同し
て、可視光線の反射率を実質的に減少させる少なくとも
４層の多層コーティングを形成する段階を含んでなる、
方法。 - 【請求項３０】 混合の段階において混合して１種以上
の第一の重合溶液を生成させるためのアルコキシドが、
チタンイソプロポキシド、チタンプロポキシド及びチタ
ンエトキシドからなる群から選択され、このような１種
以上の第一の溶液から製造される重合層が二酸化チタン
を含み、 混合の段階において混合して１種以上の第二の重合溶液
を生成させるためのアルコキシドが、テトラエチルオル
トシリケート及びテトラメチルオルトシリケートからな
る群から選択され、このような１種以上の第二の溶液か
ら製造される重合層が二酸化チタンを含む、請求項２９
に記載の方法。 - 【請求項３１】 第一の溶液から形成される多層コーテ
ィングの各層の屈折率が１．８０〜２．２０の範囲であ
り、 第二の溶液から形成される多層コーティングの各層の屈
折率が１．４０〜１．４６の範囲である、請求項３０に
記載の方法。 - 【請求項３２】 多層コーティングの第一層が第一の溶
液から形成され、厚みが１０〜３０ｎｍの範囲であり、 多層コーティングの第二層が第二の溶液から形成され、
厚みが２０〜４０ｎｍの範囲であり、 多層コーティングの第三層が第一の溶液から形成され、
厚みが７０〜１００ｎｍの範囲であり、 多層コーティングの第四層が第二の溶液から形成され、
厚みが８０〜１１０ｎｍの範囲である、請求項３０に記
載の方法。 - 【請求項３３】 １種以上の第二の溶液のそれぞれを、 テトラエチルオルトシリケート及びテトラメチルオルト
シリケートからなる群から選択されるケイ素アルコキシ
ド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製する、請求項
３０記載の方法。 - 【請求項３４】 １種以上の第一の溶液のそれぞれを、 チタンイソプロポキシド、チタンプロポキシド、及びチ
タンエトキシドからなる群から選択されるチタンアルコ
キシド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製する、請求項
３０記載の方法。 - 【請求項３５】 各ケイ素含有溶液を、 テトラエチルオルトシリケート及びテトラメチルオルト
シリケートからなる群から選択されるケイ素アルコキシ
ド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製し、 各チタン含有溶液を、 チタンイソプロポキシド、チタンプロポキシド及びチタ
ンエトキシドからなる群から選択されるチタンアルコキ
シド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製する、請求項
３０記載の方法。 - 【請求項３６】 多層コーティングの第一層が、チタン
アルコキシド１モルに対してエチルアルコール８０〜１
２０モル、脱イオン水２〜５モル、及び酸性触媒０．０
５〜０．５モルを含むチタン含有溶液から形成され、 多層コーティングの第二層が、ケイ素アルコキシド１モ
ルに対してエチルアルコール７０〜９０モル、脱イオン
水２〜６モル、及び酸性触媒０．１〜０．３モルを含む
チタン含有溶液から形成され、 多層コーティングの第三層が、チタンアルコキシド１モ
ルに対してエチルアルコール３５〜５５モル、脱イオン
水２〜５モル、及び酸性触媒０．１〜０．４モルを含む
チタン含有溶液から形成され、 多層コーティングの第四層が、ケイ素アルコキシド１モ
ルに対してエチルアルコール２５〜３５モル、脱イオン
水２〜５モル、及び酸性触媒０．０５〜０．１モルを含
むチタン含有溶液から形成される、請求項３５記載の方
法。 - 【請求項３７】 下塗をプラスチック基体に適用する予
備段階をも含む、請求項２９記載の方法。 - 【請求項３８】 塗布の各段階が、チタン含有溶液又は
ケイ素含有溶液に基体を浸漬して、基体を取出す段階を
含み、各連続的取出しを制御した速度で行ない、所定量
の溶液が基体に付着するようにする、請求項２９記載の
方法。 - 【請求項３９】 多層の反射防止コーティングをプラス
チック基体に付着する方法であって、 下記成分：チタンイソプロポキシド、チタンプロポキシ
ド、及びチタンエトキシドからなる群から選択されるチ
タンアルコキシド１．０モル、 エチルアルコール８０〜１２０モル、 脱イオン水２〜５モル、並びに塩酸及び硝酸からなる群
から選択される酸性触媒０．０５〜０．５モルを上記割
合で混合することによって第一の重合したチタン含有溶
液を提供し、 下記成分：チタンイソプロポキシド、チタンプロポキシ
ド及びチタンエトキシドからなる群から選択されるチタ
ンアルコキシド１．０モル、 エチルアルコール３５〜５５モル、 脱イオン水２〜５モル、並びに塩酸及び硝酸からなる群
から選択される酸性触媒０．１〜０．４モルを上記割合
で混合することによって第二の重合したチタン含有溶液
を提供し、 下記成分：テトラエチルオルトシリケート及びテトラメ
チルオルトシリケートからなる群から選択されるケイ素
アルコキシド１．０モル、 エチルアルコール７０〜９０モル、 脱イオン水２〜６モル、並びに塩酸及び硝酸からなる群
から選択される酸性触媒０．１〜０．３モルを上記割合
で混合することによって第一の重合したケイ素含有溶液
を提供し、 下記成分：テトラエチルオルトシリケート及びテトラメ
チルオルトシリケートからなる群から選択されるケイ素
アルコキシド１．０モル、 エチルアルコール２５〜３５モル、 脱イオン水２〜５モル、並びに塩酸及び硝酸からなる群
から選択される酸性触媒０．０５〜０．１モルを上記割
合で混合することによって第二の重合したケイ素含有溶
液を提供し、 第一の重合したチタン含有溶液をポリメチルメタクリレ
ート、ポリスチレン、ポリカーボネート、アリルジグリ
コールカーボネート、及びポリエチレンテレフタレート
からなる群から選択される材料から形成される基体に塗
布し、所定量の溶液が基体に付着するようにし、 付着した溶液を硬化させて、第一の重合層を形成させ、
この層は重合した二酸化チタンを含み、所定の均一な厚
み及び１．８０〜２．２０の範囲の屈折率を有し、 第一の重合したケイ素含有溶液をコーティングした基体
に適用して、所定量の溶液がコーティングした基体に付
着するようにし、 付着した溶液を硬化させて、第二の重合層を形成させ、
この層は重合した二酸化ケイ素を含み、所定の均一な厚
み及び１．４０〜１．４６の範囲の屈折率を有し、 第二の重合したチタン含有溶液をコーティングした基体
に塗布して、所定量の溶液がコーティングした基体に付
着するようにし、 付着した溶液を硬化させて、第三の重合層を形成させ、
この層は重合した二酸化チタンを含み、所定の均一な厚
み及び１．８０〜２．２０の範囲の屈折率を有し、 第二の重合したケイ素含有溶液をコーティングした基体
に塗布して、所定量の溶液がコーティングした基体に付
着するようにし、 付着した溶液を硬化させて、第四の重合層を形成させ、
この層は重合した二酸化ケイ素を含み、所定の均一な厚
み及び１．４０〜１．４６の範囲の屈折率を有し、 第一、第二、第三及び第四層が協同して、可視光線の反
射率を実質的に減少させる反射防止コーティングを形成
する段階を含んでなる、方法。 - 【請求項４０】 第一層の厚みが１０〜３０ｎｍの範囲
であり、 第二層の厚みが２０〜４０ｎｍの範囲であり、 第三層の厚みが７０〜１００ｎｍの範囲であり、 第四層の厚みが８０〜１１０ｎｍの範囲である、請求項
３９記載の方法。 - 【請求項４１】 プラスチック基体、及びプラスチック
基体に付着した反射防止コーティングを含んでなるコー
ティング製品であって、 コーティングが、所定の均一な厚みを有する４以上の重
合層を含み、これらの層が重合した二酸化チタンと重合
した二酸化ケイ素とが交互になっており、 これらの層が協同して、可視光線の反射率を実質的に減
少させることを特徴とする、コーティングした製品。 - 【請求項４２】 重合した二酸化チタンから形成される
反射防止コーティングの各層の屈折率が１．８０〜２．
２０の範囲であり、 重合した二酸化ケイ素から形成される反射防止コーティ
ングの各層の屈折率が１．４０〜１．４６の範囲であ
る、請求項４１記載のコーティングした製品。 - 【請求項４３】 反射防止コーティングの第一層が重合
した二酸化チタンから形成され、均一な厚みが１０〜３
０ｎｍの範囲であり、 反射防止コーティングの第二層が重合した二酸化ケイ素
から形成され、均一な厚みが２０〜４０ｎｍの範囲であ
り、 反射防止コーティングの第三層が重合した二酸化チタン
から形成され、均一な厚みが７０〜１００ｎｍの範囲で
あり、 反射防止コーティングの第四層が重合した二酸化ケイ素
から形成され、均一な厚みが８０〜１１０ｎｍの範囲で
ある、請求項４１記載のコーティングした製品。 - 【請求項４４】 反射防止コーティングが、４５０〜６
５０ｎｍの波長範囲について０．２％未満の平均反射率
を示し、４００〜７００ｎｍの波長範囲について０．９
％以下の平均反射率を示す。請求項４１記載のコーティ
ングした製品。 - 【請求項４５】 反射防止コーティングが少なくとも１
Ｈの鉛筆の引っ掻き試験に耐え、損傷がない、請求項４
１記載のコーティングした製品。 - 【請求項４６】 反射防止コーティングが、少なくとも
１９２時間の６０℃での９５％相対湿度への暴露に耐
え、光学的及び機械的特性に著しい低下がない、請求項
４１記載のコーティングした製品。 - 【請求項４７】 反射防止コーティングが、１９２時間
の８４℃の温度への暴露、及び１９２時間の−４０℃の
温度への暴露に耐え、光学的及び機械的特性に著しい低
下がない、請求項４１記載のコーティングした製品。 - 【請求項４８】 反射防止コーティングが、８４℃及び
−３０℃の間で２００回反復する温度への暴露に耐え、
光学的及び機械的特性に著しい低下がない、請求項４１
記載のコーティングした製品。 - 【請求項４９】 プラスチック基体が、ポリメチルメタ
クリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、アリル
ジグリコールカーボネート及びポリエチレンテレフタレ
ートからなる群から選択される、請求項４１記載のコー
ティングした製品。 - 【請求項５０】 ポリメチルメタクリレートから形成さ
れる基体、及び基体へ付着した反射防止コーティングで
あって、 重合した二酸化チタンから形成され、屈折率が１．８０
〜２．２０の範囲であり、均一厚みが１０〜３０ｎｍの
範囲である第一層、 重合した二酸化ケイ素から形成され、屈折率が１．４０
〜１．４６の範囲であり、均一厚みが２０〜４０ｎｍの
範囲である第二層、 重合した二酸化チタンから形成され、屈折率が１．８０
〜２．２０の範囲であり、均一厚みが７０〜１００ｎｍ
の範囲である第三層、 重合した二酸化ケイ素から形成され、屈折率が１．４０
〜１．４６の範囲であり、均一厚みが８０〜１１０ｎｍ
の範囲である第四層の連続的層を含むコーティングを含
んでなるコーティングした製品であって、 反射防止コーティングの層同志が協同して、可視光線の
反射率を実質的に減少させることを特徴とする、コーテ
ィングした製品。 - 【請求項５１】 重合した二酸化チタンの薄膜状の光学
的コーティングをプラスチック基体上に付着させる方法
であって、 チタンアルコキシド、アルコール、及び水を含む重合し
たチタン含有溶液を提供し、 チタン含有溶液をプラスチック基体に塗布して、所定量
の溶液が基体に付着するようにし、塗布は相対湿度が少
なくとも４０％であるコーティング室内で行ない、 付着したチタン含有溶液を硬化させて、重合した二酸化
チタンの白膜状の光学的コーティングを基体上に付着さ
せることを含んでなる、方法。 - 【請求項５２】 チタン含有溶液を、下記のチタンイソ
プロポキシド、チタンプロポキシド及びチタンエトキシ
ドからなる群から選択されるチタンアルコキシド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製する、請求項
５１記載の方法。 - 【請求項５３】 提供が、開口度が５μｍ以下のフィル
ターを用いてチタン含有溶液を濾過することを含む、請
求項５１記載の方法。 - 【請求項５４】 硬化を高温で少なくとも１０分間行な
い、高温がプラスチック基体の変形温度未満である、請
求項５１記載の方法。 - 【請求項５５】 重合した二酸化ケイ素の薄膜状の光学
的コーティングをプラスチック基体上に付着させる方法
であって、 ケイ素アルコキシド、アルコール、及び水を含む重合し
たケイ素含有溶液を提供し、 このケイ素含有溶液をプラスチック基体に塗布して、所
定量の溶液が基体に付着するようにし、塗布は相対湿度
が少なくとも４０％であるコーティング室内で基体に付
着するようにし、 付着したケイ素含有溶液を硬化して、重合した二酸化ケ
イ素の薄膜状の光学的コーティングを基体上に形成させ
ることを含んでなる、方法。 - 【請求項５６】 ケイ素含有溶液を、下記のテトラエチ
ルオルトシリケート及びテトラメチルオルトシリケート
からなる群から選択されるケイ素アルコキシド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製する、請求項
５５記載の方法。 - 【請求項５７】 提供が、開口度が５μｍ以下のフィル
ターを用いてケイ素含有溶液を濾過することを含む、請
求項５５記載の方法。 - 【請求項５８】 硬化を高温で少なくとも１０分間行な
い、高温がプラスチック基体の変形温度未満である、請
求項５５記載の方法。 - 【請求項５９】 重合した二酸化チタンの薄膜状の光学
的コーティングをプラスチック基体上に付着させる方法
であって、 チタンアルコキシド、アルコール及び水を含む重合した
チタン含有溶液を提供し、提供が、開口度が５μｍ以下
のフィルターを用いてチタン含有溶液を濾過することを
含み、 このチタン含有溶液をプラスチック基体に塗布して、所
定量の溶液が基体に付着するようにし、 付着したチタン含有溶液を硬化して、重合した二酸化チ
タンの薄膜状の光学的コーティングを基体上に形成させ
ることを含んでなる、方法。 - 【請求項６０】 チタン含有溶液を、下記のチタンイソ
プロポキシド、チタンプロポキシド及びチタンエトキシ
ドからなる群から選択されるチタンアルコキシド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製する、請求項
５９記載の方法。 - 【請求項６１】 塗布を、相対湿度が少なくとも４０％
であるコーティング室内で行なう、請求項５９記載の方
法。 - 【請求項６２】 硬化を高温で少なくとも１０分間行な
い、高温がプラスチック基体の変形温度未満である、請
求項５９記載の方法。 - 【請求項６３】 重合した二酸化ケイ素の薄膜状の光学
的コーティングをプラスチック基体上に付着させる方法
であって、 ケイ素アルコキシド、アルコール、及び水を含む重合し
たケイ素含有溶液を提供し、提供が、開口度が５μｍ以
下のフィルターを用いて溶液を濾過することを含み、 このケイ素含有溶液をプラスチック基体に塗布して、所
定量の溶液が基体に付着するようにし、 付着したケイ素含有溶液を硬化して、重合した二酸化ケ
イ素の薄膜状の光学的コーティングを基体上に形成させ
ることを含んでなる、方法。 - 【請求項６４】 ケイ素含有溶液を、下記のテトラエチ
ルオルトシリケート及びテトラメチルオルトシリケート
からなる群から選択されるケイ素アルコキシド、 エチルアルコール、 脱イオン水、並びに塩酸及び硝酸からなる群から選択さ
れる酸性触媒を混合することによって調製する、請求項
６３記載の方法。 - 【請求項６５】 塗布を、相対湿度が４０％未満のコー
ティング室内で行なう、請求項６３記載の方法。 - 【請求項６６】 硬化を高温で少なくとも１０分間行な
い、高温がプラスチック基体の変形温度未満である、請
求項６３記載の方法。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008541176A (ja) * | 2005-05-11 | 2008-11-20 | 矢崎総業株式会社 | 反射防止コーティング組成物及びそのようなコーティングを堆積させる方法 |
| JP2015508324A (ja) * | 2011-12-01 | 2015-03-19 | ユニバーシティ・オブ・ユタ・リサーチ・ファウンデイション | 平坦および湾曲する基板上のフォトニック素子およびその製造方法 |
| JP2017097364A (ja) * | 2010-12-10 | 2017-06-01 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティックＥｓｓｉｌｏｒ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｍｐａｇｎｉｅ Ｇｅｎｅｒａｌｅ Ｄ’ Ｏｐｔｉｑｕｅ | 紫外領域及び可視領域の両方において低い反射性を持つ反射防止膜を有する光学部品 |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6586193B2 (en) * | 1996-04-25 | 2003-07-01 | Genicon Sciences Corporation | Analyte assay using particulate labels |
| US6926952B1 (en) | 1998-01-13 | 2005-08-09 | 3M Innovative Properties Company | Anti-reflective polymer constructions and method for producing same |
| US6475644B1 (en) | 1998-11-18 | 2002-11-05 | Radiovascular Systems, L.L.C. | Radioactive coating solutions methods, and substrates |
| FR2810118B1 (fr) | 2000-06-07 | 2005-01-21 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
| AU2002246818B2 (en) * | 2000-12-20 | 2006-09-14 | Yazaki Corporation | Apparatus and related method for rapid cure of sol-gel coatings |
| US7361472B2 (en) * | 2001-02-23 | 2008-04-22 | Invitrogen Corporation | Methods for providing extended dynamic range in analyte assays |
| US20030049866A1 (en) * | 2001-09-05 | 2003-03-13 | Genicon Sciences Corporation | Sample device preservation |
| JP2006504996A (ja) * | 2002-10-29 | 2006-02-09 | トッパン、フォウタマスクス、インク | フォトマスク・アセンブリ、およびリソグラフィ工程中に生成される汚染物からそれを保護する方法 |
| US7018463B2 (en) * | 2003-07-24 | 2006-03-28 | Lens Technology I, Llc | Abrasion resistant coating composition |
| US7083851B2 (en) * | 2003-07-28 | 2006-08-01 | Vampire Optical Coatings, Inc. | High refractive index layers |
| US7794831B2 (en) * | 2003-07-28 | 2010-09-14 | Vampire Optical Coating, Inc. | Anti-reflective coating |
| DE10356823A1 (de) * | 2003-12-05 | 2005-07-07 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zum Beschichten eines Substrats |
| US20050141843A1 (en) * | 2003-12-31 | 2005-06-30 | Invitrogen Corporation | Waveguide comprising scattered light detectable particles |
| US20050260455A1 (en) * | 2004-05-20 | 2005-11-24 | Xin John H | Methods of coating titanium dioxide |
| GB2425976A (en) * | 2005-05-11 | 2006-11-15 | Univ Sheffield Hallam | Sol-gel derived coating |
| WO2007050500A2 (en) * | 2005-10-24 | 2007-05-03 | Aculon, Inc. | Chemical wipes |
| CN101122646A (zh) * | 2006-08-11 | 2008-02-13 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 偏光片及液晶显示装置 |
| TWI411820B (zh) * | 2006-08-11 | 2013-10-11 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 偏光片及液晶顯示裝置 |
| US20100068404A1 (en) * | 2008-09-18 | 2010-03-18 | Guardian Industries Corp. | Draw-off coating apparatus for making coating articles, and/or methods of making coated articles using the same |
| FR2938931B1 (fr) | 2008-11-27 | 2011-03-18 | Essilor Int | Procede de fabrication d'un article d'optique a proprietes antireflets |
| US8883935B2 (en) | 2010-04-29 | 2014-11-11 | Battelle Memorial Institute | High refractive index composition |
| KR101819094B1 (ko) * | 2010-11-18 | 2018-03-02 | 코오롱글로텍주식회사 | 투명 플렉시블 필름 및 이의 제조방법 |
| US10450221B2 (en) | 2011-02-24 | 2019-10-22 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Hybrid sol-gel coated glass containers |
| DE102011013822A1 (de) | 2011-03-14 | 2012-09-20 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Modifizierung einer Oberfläche eines Substrats durch Ionenbeschuss |
| DE102011056693A1 (de) * | 2011-12-20 | 2013-06-20 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Form zur Herstellung von Kunststoffschaumteilen mit hybridpolymerer Beschichtung zur Verbesserung der Entformung |
| WO2013106365A1 (en) | 2012-01-11 | 2013-07-18 | 3M Innovative Properties Company | Hollow light duct bend |
| US8883252B2 (en) * | 2012-06-28 | 2014-11-11 | Intermolecular, Inc. | Antireflective coatings with self-cleaning, moisture resistance and antimicrobial properties |
| US20140009834A1 (en) * | 2012-07-05 | 2014-01-09 | Intermolecular, Inc. | Novel antireflective coatings with graded refractive index |
| KR20140148204A (ko) * | 2013-06-21 | 2014-12-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치용 윈도우 및 이를 포함하는 표시 장치 |
| JP6451057B2 (ja) * | 2014-02-04 | 2019-01-16 | 東海光学株式会社 | 可視域反射防止近赤外域透過抑制光学製品並びに眼鏡レンズ及び眼鏡 |
| KR101601530B1 (ko) * | 2014-11-06 | 2016-03-09 | 현대자동차주식회사 | 전파 투과형 다층 광학막 |
| CN105864628A (zh) * | 2016-03-29 | 2016-08-17 | 思嘉环保材料科技（上海）有限公司 | 一种双膜储气柜材料结构 |
| US11352292B2 (en) * | 2019-01-30 | 2022-06-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method for preparing optical articles with multi-layer antireflective coatings |
| EP3968060A1 (en) * | 2020-09-15 | 2022-03-16 | Applied Materials, Inc. | Anti-reflective and anti-viral protective shield, method for manufacturing an anti-reflective and anti-viral protective shield and/or an anti-reflective and anti-viral visor for a face protection system, and anti-reflective and anti-viral visor for a face protection system |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4590117A (en) * | 1983-03-10 | 1986-05-20 | Toray Industries, Inc. | Transparent material having antireflective coating |
| DE3441948A1 (de) * | 1984-11-16 | 1986-05-28 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Antireflex beschichtete, transparente abdeckung von zeichen, insbesondere fuer anzeigegeraete |
| US4830879A (en) * | 1986-09-25 | 1989-05-16 | Battelle Memorial Institute | Broadband antireflective coating composition and method |
| US5332618A (en) * | 1992-02-07 | 1994-07-26 | Tru Vue, Inc. | Antireflection layer system with integral UV blocking properties |
| EP0661558A1 (en) * | 1993-12-29 | 1995-07-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymer-ceramic sol gel |
-
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-
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008541176A (ja) * | 2005-05-11 | 2008-11-20 | 矢崎総業株式会社 | 反射防止コーティング組成物及びそのようなコーティングを堆積させる方法 |
| JP2017097364A (ja) * | 2010-12-10 | 2017-06-01 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティックＥｓｓｉｌｏｒ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｍｐａｇｎｉｅ Ｇｅｎｅｒａｌｅ Ｄ’ Ｏｐｔｉｑｕｅ | 紫外領域及び可視領域の両方において低い反射性を持つ反射防止膜を有する光学部品 |
| JP2015508324A (ja) * | 2011-12-01 | 2015-03-19 | ユニバーシティ・オブ・ユタ・リサーチ・ファウンデイション | 平坦および湾曲する基板上のフォトニック素子およびその製造方法 |
Also Published As
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