JPH1060223A - 共重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の水性分散剤およびこのための安定剤 - Google Patents
共重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の水性分散剤およびこのための安定剤Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 長時間安定した、共重合可能なエチレン性不
飽和基を有する化合物からなる水性分散剤を提供する。 【解決手段】 前記分散剤は、2,2,6,6位にC1
〜C6−炭化水素基によりテトラ置換された少なくとも
1個のピペリジン−N−オキシル基を有する安定剤を含
有する。
飽和基を有する化合物からなる水性分散剤を提供する。 【解決手段】 前記分散剤は、2,2,6,6位にC1
〜C6−炭化水素基によりテトラ置換された少なくとも
1個のピペリジン−N−オキシル基を有する安定剤を含
有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、2,2,6,6位
にC1〜C6−炭化水素基によりテトラ置換された少なく
とも1個のピペリジン−N−オキシル基(短くはN−オ
キシル基と記載する)を有する安定剤を含有する、共重
合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の水性分散
剤に関する。
にC1〜C6−炭化水素基によりテトラ置換された少なく
とも1個のピペリジン−N−オキシル基(短くはN−オ
キシル基と記載する)を有する安定剤を含有する、共重
合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の水性分散
剤に関する。
【0002】
【従来の技術】放射線硬化可能なポリウレタンアクリレ
ートは、ラジカルを捕捉するかまたはヒドロペルオキシ
ドを分解する化合物により、好ましくないラジカルの形
成およびラジカル架橋反応に対して保護される。この化
合物の例は2,6−ジ−t−ブチル−パラ−クレゾール
またはパラ−メトキシフェノール、詳しくはフェノチア
ジンである。銅(II)塩およびホスファイトおよびホ
スホナイトも適当である。チオエーテルも場合により使
用される。更に重合可能なアルキルラジカルはプロトン
移送剤(proton transfer)により捕捉され、より安定
なラジカルの形成により中和される。この種の安定剤の
組合せは、たとえば欧州特許公開第0449912号明
細書または欧州特許公開第0449913号明細書に記
載されている。
ートは、ラジカルを捕捉するかまたはヒドロペルオキシ
ドを分解する化合物により、好ましくないラジカルの形
成およびラジカル架橋反応に対して保護される。この化
合物の例は2,6−ジ−t−ブチル−パラ−クレゾール
またはパラ−メトキシフェノール、詳しくはフェノチア
ジンである。銅(II)塩およびホスファイトおよびホ
スホナイトも適当である。チオエーテルも場合により使
用される。更に重合可能なアルキルラジカルはプロトン
移送剤(proton transfer)により捕捉され、より安定
なラジカルの形成により中和される。この種の安定剤の
組合せは、たとえば欧州特許公開第0449912号明
細書または欧州特許公開第0449913号明細書に記
載されている。
【0003】放射線硬化可能なポリマーの水性分散剤、
すなわちエチレン性不飽和基を含有するポリマーの場合
は、保存時間が長くなると粒子が大きくなり、再分散で
きない沈殿物を形成する。
すなわちエチレン性不飽和基を含有するポリマーの場合
は、保存時間が長くなると粒子が大きくなり、再分散で
きない沈殿物を形成する。
【0004】前記安定剤を水性分散剤に添加しても十分
な長時間安定性が達成されず、すなわち更に顕著な粒度
の増加を生じ、なお沈殿物を形成する。
な長時間安定性が達成されず、すなわち更に顕著な粒度
の増加を生じ、なお沈殿物を形成する。
【0005】ソ連特許第478838号明細書には、以
下に記載される式Iの化合物を熱ラジカル重合に抑制剤
として使用することが記載されている。N−オキシル
は、たとえば米国特許第4665185号明細書および
ドイツ特許出願公開第4219459号明細書に記載さ
れている。
下に記載される式Iの化合物を熱ラジカル重合に抑制剤
として使用することが記載されている。N−オキシル
は、たとえば米国特許第4665185号明細書および
ドイツ特許出願公開第4219459号明細書に記載さ
れている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、共重合可能なエチレン性不飽和基を有し、可能な限
り長く安定であり、すなわち分散したポリマー粒子の増
大および沈殿物の形成が生じないかまたはきわめて緩慢
に行われる、ポリマーの水性分散剤を提供することであ
る。
は、共重合可能なエチレン性不飽和基を有し、可能な限
り長く安定であり、すなわち分散したポリマー粒子の増
大および沈殿物の形成が生じないかまたはきわめて緩慢
に行われる、ポリマーの水性分散剤を提供することであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題は、冒頭に記載
の水性分散剤により解決される。
の水性分散剤により解決される。
【0008】分散剤に分散している化合物は、特にポリ
マー、特に有利にはポリエステル(メタ)アクリレー
ト、ポリエーテル(メタ)アクリレートまたはポリウレ
タン(メタ)アクリレートである。
マー、特に有利にはポリエステル(メタ)アクリレー
ト、ポリエーテル(メタ)アクリレートまたはポリウレ
タン(メタ)アクリレートである。
【0009】ポリマーは乳化剤または保護コロイドを用
いて水相中に分散して存在していてもよい。
いて水相中に分散して存在していてもよい。
【0010】しかしながら、それ自体分散可能である、
すなわちイオン性または非イオン性であってもよい化学
結合した親水性基を含有することにより水に分散可能で
あるポリマーが有利である。
すなわちイオン性または非イオン性であってもよい化学
結合した親水性基を含有することにより水に分散可能で
あるポリマーが有利である。
【0011】非イオン性基は、たとえばポリアルキレン
オキシド基、特にポリエチレンオキシド基またはポリプ
ロピレンオキシド基である。
オキシド基、特にポリエチレンオキシド基またはポリプ
ロピレンオキシド基である。
【0012】イオン性基は、たとえば水に分散するとま
たは分散する前に塩の形に移行するカルボン酸基、スル
ホン酸基または第3級アミノ基である。
たは分散する前に塩の形に移行するカルボン酸基、スル
ホン酸基または第3級アミノ基である。
【0013】前記化合物は共重合可能なエチレン性不飽
和基を有する。
和基を有する。
【0014】ポリマーの場合は、前記基の含量はポリマ
ー100gに対して有利には0.005〜0.5モル、
特に0.05〜0.4モルである。
ー100gに対して有利には0.005〜0.5モル、
特に0.05〜0.4モルである。
【0015】特に有利な化合物はポリウレタン(メタ)
アクリレートである。
アクリレートである。
【0016】ポリウレタン(メタ)アクリレートの構造
成分の例は、 a)ポリイソシアネート、特にジイソシアネート、 b)ポリオール、特に分子量500〜10000g/モ
ルを有するジオール、 c)分子量500g/モル未満を有し、少なくとも2個
のイソシアネート反応性基を有する短鎖化合物(連鎖延
長剤)、 d)少なくとも1個のイソシアネート反応性基を有し、
水中の分散性を保証するために親水性、非イオン性また
は有利にはイオン性基を有する化合物、 e)少なくとも1個のイソシアネート反応性基を有し、
およびエチレン性不飽和基を有する化合物(たとえばヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート)である。
成分の例は、 a)ポリイソシアネート、特にジイソシアネート、 b)ポリオール、特に分子量500〜10000g/モ
ルを有するジオール、 c)分子量500g/モル未満を有し、少なくとも2個
のイソシアネート反応性基を有する短鎖化合物(連鎖延
長剤)、 d)少なくとも1個のイソシアネート反応性基を有し、
水中の分散性を保証するために親水性、非イオン性また
は有利にはイオン性基を有する化合物、 e)少なくとも1個のイソシアネート反応性基を有し、
およびエチレン性不飽和基を有する化合物(たとえばヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート)である。
【0017】特に適したイソシアネート反応性基はヒド
ロキシル基または第1級アミノ基または第2級アミノ基
である。
ロキシル基または第1級アミノ基または第2級アミノ基
である。
【0018】本発明の分散剤は前記安定剤を含有する。
安定剤は後から分散剤に添加してもよい。しかしながら
有利には安定剤を化合物またはポリマーを製造する場合
にまたは製造の前に出発成分に添加する。
安定剤は後から分散剤に添加してもよい。しかしながら
有利には安定剤を化合物またはポリマーを製造する場合
にまたは製造の前に出発成分に添加する。
【0019】分散剤は安定剤を、化合物またはポリマー
に対して、有利には0.001〜0.5重量%、特に
0.002〜0.1重量%、特に有利には0.004〜
0.05重量%含有する。
に対して、有利には0.001〜0.5重量%、特に
0.002〜0.1重量%、特に有利には0.004〜
0.05重量%含有する。
【0020】安定剤は有利には1〜12個、特に有利に
は1〜4個の前記のN−オキシル基を含有する。安定剤
の分子量は有利には3000g/モル未満、特に有利に
は800g/モル未満である。
は1〜4個の前記のN−オキシル基を含有する。安定剤
の分子量は有利には3000g/モル未満、特に有利に
は800g/モル未満である。
【0021】前記のニトロキシル化合物は相当するピペ
リジン化合物からたとえば過酸化水素を用いた酸化によ
り製造することができる。この酸化に関する詳細は、た
とえば先願のドイツ特許第19510184.7号に記
載されている。ピペリジン化合物およびその製造は周知
である。酸化反応は常に完全に進行するとは限らないの
で、出発化合物として使用されるピペリジン化合物およ
び部分的に酸化された中間生成物は本発明の水性分散剤
に含まれていてもよい。
リジン化合物からたとえば過酸化水素を用いた酸化によ
り製造することができる。この酸化に関する詳細は、た
とえば先願のドイツ特許第19510184.7号に記
載されている。ピペリジン化合物およびその製造は周知
である。酸化反応は常に完全に進行するとは限らないの
で、出発化合物として使用されるピペリジン化合物およ
び部分的に酸化された中間生成物は本発明の水性分散剤
に含まれていてもよい。
【0022】一般式I:
【0023】
【化6】
【0024】の安定剤が有利であり、式中のmは1〜1
00の整数であり、R1およびR2はC1〜C4−アルキル
基、フェニル基を表すかまたは結合しているC原子と一
緒に5または6員の飽和炭化水素環を形成してもよく、
R3は水素原子、ヒドロキシル基、第1級アミノ基を表
すかまたは酸素原子または硫黄原子を介して結合したm
価の有機基を表してもよく、R4は水素原子、C1〜C12
−アルキル基またはC1〜C12−アルコキシ基を表して
もよく、またはmは1であり、R3およびR4は一緒にケ
ト基(=O)を表すかまたはR3およびR4は結合してい
るC原子と一緒に式II:
00の整数であり、R1およびR2はC1〜C4−アルキル
基、フェニル基を表すかまたは結合しているC原子と一
緒に5または6員の飽和炭化水素環を形成してもよく、
R3は水素原子、ヒドロキシル基、第1級アミノ基を表
すかまたは酸素原子または硫黄原子を介して結合したm
価の有機基を表してもよく、R4は水素原子、C1〜C12
−アルキル基またはC1〜C12−アルコキシ基を表して
もよく、またはmは1であり、R3およびR4は一緒にケ
ト基(=O)を表すかまたはR3およびR4は結合してい
るC原子と一緒に式II:
【0025】
【化7】
【0026】の環構造または式III:
【0027】
【化8】
【0028】の環構造または式IV:
【0029】
【化9】
【0030】の環構造を形成し、式中のR5は水素原
子、C1〜C12−アルキル基または−(CH2)n−CO
OR8を表し、R6,R7,R8は互いに無関係にC1〜C
18−アルキル基またはH原子を表し、nおよびpは互い
に無関係に1〜12の整数である。
子、C1〜C12−アルキル基または−(CH2)n−CO
OR8を表し、R6,R7,R8は互いに無関係にC1〜C
18−アルキル基またはH原子を表し、nおよびpは互い
に無関係に1〜12の整数である。
【0031】式Iの置換基は有利には以下のものを表
す。
す。
【0032】mは1〜10の整数、特に1または2の整
数であり、特に有利にはmは1であり、R1およびR2は
メチル基を表し、R3は、mが1である場合は、R3は特
に水素原子、ヒドロキシル基、第1級アミノ基を表すか
またはC1〜C20−アルコキシ基、C1〜C20−カルボキ
シレート基、第2級アミノ基NHR′、第3級アミノ基
NR′R″またはアンモニウム基+NR′R″R″′X
−を表し、式中のR′〜R″′は互いに無関係に有機
基、特に20個までのC原子を有する炭化水素基、たと
えばC1〜C12−アルキル基またはフェニル基を表し、
X−は反対イオン、たとえばハロゲンイオンを表し、m
が1より大きい場合は、R3はたとえば以下のものを表
す。
数であり、特に有利にはmは1であり、R1およびR2は
メチル基を表し、R3は、mが1である場合は、R3は特
に水素原子、ヒドロキシル基、第1級アミノ基を表すか
またはC1〜C20−アルコキシ基、C1〜C20−カルボキ
シレート基、第2級アミノ基NHR′、第3級アミノ基
NR′R″またはアンモニウム基+NR′R″R″′X
−を表し、式中のR′〜R″′は互いに無関係に有機
基、特に20個までのC原子を有する炭化水素基、たと
えばC1〜C12−アルキル基またはフェニル基を表し、
X−は反対イオン、たとえばハロゲンイオンを表し、m
が1より大きい場合は、R3はたとえば以下のものを表
す。
【0033】
【化10】
【0034】
【化11】
【0035】
【化12】
【0036】
【化13】
【0037】上記式中、R9はC1〜C12−アルキル基ま
たは−(CH2)z−COOR6(R6は前記のものを表
す)を表し、R10は水素原子またはC1〜C18−アルキ
ル基を表し、R11はC1〜C18−アルキル基、ビニル基
またはイソプロペニル基を表し、R12は水素原子または
出発モノマーのラジカル重合の際に一般に形成される有
機基を表し、R13はC8〜C22−アルキル基を表し、y
は0または1であり、xは1〜12であり、zは1〜5
0であり、wは1〜50であり、vは0〜20である。
たは−(CH2)z−COOR6(R6は前記のものを表
す)を表し、R10は水素原子またはC1〜C18−アルキ
ル基を表し、R11はC1〜C18−アルキル基、ビニル基
またはイソプロペニル基を表し、R12は水素原子または
出発モノマーのラジカル重合の際に一般に形成される有
機基を表し、R13はC8〜C22−アルキル基を表し、y
は0または1であり、xは1〜12であり、zは1〜5
0であり、wは1〜50であり、vは0〜20である。
【0038】mが1より大きい場合はR3は特に100
までの、有利には50までのC原子を有するm価の有機
基、たとえば炭化水素基またはポリカルボキシレート基
を表す。
までの、有利には50までのC原子を有するm価の有機
基、たとえば炭化水素基またはポリカルボキシレート基
を表す。
【0039】同様にR3は有利には式:
【0040】
【化14】
【0041】の基を表し、R4は有利には水素原子を表
す。
す。
【0042】1個以上のヒドロキシル基または第1級ま
たは第2級アミノ基を有する安定剤が特に有利である。
たは第2級アミノ基を有する安定剤が特に有利である。
【0043】ヒドロキシ−TEMPO(4−ヒドロキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)として得
られる式:
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)として得
られる式:
【0044】
【化15】
【0045】の安定剤がきわめて有利である。
【0046】特に適当な安定剤として以下のものが挙げ
られる。
られる。
【0047】1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、1−オキシル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−オン、1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−アセ
テート、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル−2−エチルヘキサノエート、1
−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル−ステアレート、1−オキシル−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−ベンゾエ
ート、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル−(4−t−ブチル)ベンゾエー
ト、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル)−スクシネート、ビス(1−
オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)−アジペート、ビス(1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−セ
バセート、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−n−ブチルマロネー
ト、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル)−フタレート、ビス(1−オ
キシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)−イソフタレート、ビス(1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−テ
レフタレート、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル)−ヘキシヒドロテ
レフタレート、N,N′−ビス(1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−ア
ジピンアミド、N−(1−オキシル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル)−カプロラクタ
ム、N−(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル)−ドデシルスクシンイミド、
2,4,6−トリス−[N−ブチル−N−(1−オキシ
ル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)]−s−トリアジンおよび4,4′−エチレンビス
(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペラ
ジン−3−オン)。
チルピペリジン、1−オキシル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−オン、1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−アセ
テート、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル−2−エチルヘキサノエート、1
−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル−ステアレート、1−オキシル−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−ベンゾエ
ート、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル−(4−t−ブチル)ベンゾエー
ト、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル)−スクシネート、ビス(1−
オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)−アジペート、ビス(1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−セ
バセート、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−n−ブチルマロネー
ト、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル)−フタレート、ビス(1−オ
キシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)−イソフタレート、ビス(1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−テ
レフタレート、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル)−ヘキシヒドロテ
レフタレート、N,N′−ビス(1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−ア
ジピンアミド、N−(1−オキシル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル)−カプロラクタ
ム、N−(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル)−ドデシルスクシンイミド、
2,4,6−トリス−[N−ブチル−N−(1−オキシ
ル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)]−s−トリアジンおよび4,4′−エチレンビス
(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペラ
ジン−3−オン)。
【0048】本発明の分散剤は、もちろん、2,2,
6,6位にC1〜C6−炭化水素基によりテトラ置換され
た少なくとも1個のピペリジン−N−オキシル基を有す
る安定剤のほかに、更にほかの安定剤を有してもよい。
6,6位にC1〜C6−炭化水素基によりテトラ置換され
た少なくとも1個のピペリジン−N−オキシル基を有す
る安定剤のほかに、更にほかの安定剤を有してもよい。
【0049】たとえばN−オキシル基を有しない2,
2,6,6−テトラアルキルピペリジンまたはヒドロキ
シルアミン、芳香族ニトロ化合物またはニトロソ化合
物、置換されたフェノール、特にアルキルまたはアルコ
キシ置換基を有するフェノール、フェノチアジン、キノ
ン、銅(II)塩、ホスファイト、ホスホナイト、チオ
エーテルまたはフェニレンジアミンまたはこれらの化合
物の混合物の群から選択され共安定剤(co-stabilize
r)が挙げられる。
2,6,6−テトラアルキルピペリジンまたはヒドロキ
シルアミン、芳香族ニトロ化合物またはニトロソ化合
物、置換されたフェノール、特にアルキルまたはアルコ
キシ置換基を有するフェノール、フェノチアジン、キノ
ン、銅(II)塩、ホスファイト、ホスホナイト、チオ
エーテルまたはフェニレンジアミンまたはこれらの化合
物の混合物の群から選択され共安定剤(co-stabilize
r)が挙げられる。
【0050】本発明の分散剤は数か月または数年にわた
る長い時間安定である。この期間に分散した粒子のわず
かの増大のみが生じ、沈殿物の形成がほとんど認められ
ない。
る長い時間安定である。この期間に分散した粒子のわず
かの増大のみが生じ、沈殿物の形成がほとんど認められ
ない。
【0051】本発明の分散剤は特にエネルギの多い光線
で照射することにより硬化する被覆物を製造するために
使用され、ほかの添加剤、たとえば放射線硬化のための
光開始剤を含有してもよい。放射線硬化の場合の化合物
の反応性は安定剤Iの存在により損なわれないかまたは
ほとんど損なわれない。
で照射することにより硬化する被覆物を製造するために
使用され、ほかの添加剤、たとえば放射線硬化のための
光開始剤を含有してもよい。放射線硬化の場合の化合物
の反応性は安定剤Iの存在により損なわれないかまたは
ほとんど損なわれない。
【0052】
例1 ポリウレタンアクリレート分散剤の製造 反応器に、Tempol(ポリウレタンのすべての出発
成分に対して0.01重量%の量)と一緒に、ヒドロキ
シル成分、すなわちブタンジオール、ポリエステルジオ
ールおよびヒドロキシエチルアクリレートを予め入れ、
イソシアネート成分、すなわちイソホロンジイソシアネ
ートおよび三量体のヘキサメチレンジイソシアネートを
添加し、生じる反応熱を十分に排出できた。イソシアネ
ート含量2%に達すると、分散剤にPUD塩(アクリル
酸とアルキレンジアミン1:1のアダクト)の水溶液を
添加し、引き続き反応時間15分後、水60重量部(ポ
リウレタン40重量部に対して)を添加した。その後温
度が上昇し、減圧下で反応容器からアセトンを留去し
た。最初のポリウレタンアクリレートの水性アセトン溶
液はアセトンが消失するとともにますます粘性になり、
最後に水性分散剤に移行した。
成分に対して0.01重量%の量)と一緒に、ヒドロキ
シル成分、すなわちブタンジオール、ポリエステルジオ
ールおよびヒドロキシエチルアクリレートを予め入れ、
イソシアネート成分、すなわちイソホロンジイソシアネ
ートおよび三量体のヘキサメチレンジイソシアネートを
添加し、生じる反応熱を十分に排出できた。イソシアネ
ート含量2%に達すると、分散剤にPUD塩(アクリル
酸とアルキレンジアミン1:1のアダクト)の水溶液を
添加し、引き続き反応時間15分後、水60重量部(ポ
リウレタン40重量部に対して)を添加した。その後温
度が上昇し、減圧下で反応容器からアセトンを留去し
た。最初のポリウレタンアクリレートの水性アセトン溶
液はアセトンが消失するとともにますます粘性になり、
最後に水性分散剤に移行した。
【0053】比較例 比較例において、Tempolの代りにフェノチアジン
(0.01重量%)を使用した。
(0.01重量%)を使用した。
【0054】長時間安定性の試験 連続的に長い保存時間にわたって粒度(nm)を決定し
た。保存温度は60℃であった。
た。保存温度は60℃であった。
【0055】 保存時間 比較例 実施例 (日) 0 82.0 75.0 2 134.0 107.0 4 148.5 110.4 8 155.8 112.3 15 186.5 118.2 30 198.1 120.0 52 204.5 146.2 72 208.1 169.2 90 232.5 195.2
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07D 211/94 C07D 211/94 (72)発明者 ヴェルナー レープキューヒャー ドイツ連邦共和国 フリーデルスハイム ハウプトシュトラーセ 61
Claims (7)
- 【請求項1】 2,2,6,6位にC1〜C6−炭化水素基
によりテトラ置換された少なくとも1個のピペリジン−
N−オキシル基を有する安定剤を含有することを特徴と
する、共重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物
の水性分散剤。 - 【請求項2】 安定剤が一般式I: 【化1】 [式中、 mは1〜100の整数を表し、 R1およびR2はC1〜C4−アルキル基、フェニル基を表
すかまたは結合しているC原子と一緒に5または6員の
飽和炭化水素環を表していてもよく、 R3は水素原子、ヒドロキシル基、第1級アミノ基を表
すかまたは酸素原子または窒素原子を介して結合したm
価の有機基を表していてもよく、 R4は水素原子、C1〜C12−アルキル基またはC1〜C
12−アルコキシ基を表していてもよく、またはmは1で
あり、 R3およびR4は一緒にケト基(=O)を表すかまたはR
3およびR4は結合しているC原子と一緒に式II: 【化2】 の環構造または式III: 【化3】 の環構造または式IV: 【化4】 の環構造を形成し、上記式中、 R5は水素原子、C1〜C12−アルキル基または−(CH
2)n−COOR8を表し、 R6,R7,R8は互いに無関係にC1〜C18−アルキル基ま
たはH原子を表し、 nおよびpは互いに無関係に1〜12の整数を表す]で
示される化合物または化合物の混合物である請求項1記
載の水性分散剤。 - 【請求項3】 安定剤が式V: 【化5】 の化合物である請求項2記載の水性分散剤。
- 【請求項4】 化合物に対して0.001〜0.5重量%
の安定剤を含有する請求項1から3までのいずれか1項
記載の水性分散剤。 - 【請求項5】 化合物がポリウレタンである請求項1か
ら4までのいずれか1項記載の水性分散剤。 - 【請求項6】 ポリウレタン中のエチレン性不飽和基の
含量がポリウレタン100g当たり0.005〜0.4モ
ルである請求項5記載の水性分散剤。 - 【請求項7】 2,2,6,6位にC1〜C6−炭化水素基
によりテトラ置換された少なくとも1個のピペリジン−
N−オキシル基を有することを特徴とする、共重合可能
なエチレン性不飽和基を有する化合物の水性分散剤を安
定化するための安定剤。
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|---|---|---|---|
| DE19613994.5 | 1996-04-09 | ||
| DE19613994A DE19613994A1 (de) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | Stabilisierte wäßrige Dispersionen von Polymeren mit ethylenisch ungesättigten Gruppen |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH1060223A true JPH1060223A (ja) | 1998-03-03 |
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Family Applications (1)
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|---|---|
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| JP (1) | JPH1060223A (ja) |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102251239A (zh) * | 2011-06-29 | 2011-11-23 | 安徽工业大学 | 一种基于水性环氧树脂复合的镀锌板彩涂无铬钝化液 |
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| JPH09316026A (ja) * | 1996-05-27 | 1997-12-09 | Mitsubishi Chem Corp | (メタ)アクリル酸及びそのエステルの重合防止方法 |
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- 1997-04-08 CA CA002202178A patent/CA2202178A1/en not_active Abandoned
- 1997-04-09 JP JP9090391A patent/JPH1060223A/ja not_active Withdrawn
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| CN102251239A (zh) * | 2011-06-29 | 2011-11-23 | 安徽工业大学 | 一种基于水性环氧树脂复合的镀锌板彩涂无铬钝化液 |
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| EP0801092A3 (de) | 1999-03-17 |
| CA2202178A1 (en) | 1997-10-09 |
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