JPH1064008A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録媒体との良好な当たり特性を実現すると
ともに、ヘッド効率の高い磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 磁気ヘッド１は、非磁性基板上に形成さ
れて磁気コア４として機能する磁性層が形成された一対
の磁気ヘッド半体２ａ、２ｂが磁気ギャップｇを介して
接合されるとともに、記録媒体摺動面８の両側に記録媒
体摺動方向に略平行な切り欠き部９が形成され、磁気ギ
ャップｇのデプス方向に対して直交し記録媒体摺動面８
に接する仮想平面Ｓと、切り欠き部９の記録媒体に対向
する面、すなわち摺動幅加工底面９との間隔が、磁気ギ
ャップ近傍側の間隔ｔ₁よりも記録媒体摺動方向の両端
近傍側の間隔ｔ₂の方が大きく形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する分野】本発明は、ビデオカセットレコー
ダ等の磁気記録再生装置に搭載される磁気ヘッドに関
し、特に、記録媒体摺動面に摺動幅加工が施された磁気
ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ヘッドは、磁気記録媒体の高密度化
及び情報信号のデジタル化に対応するために、より高周
波帯域にて良好な電磁変換特性を示す必要があり、しか
も更なる小型化が要望されている。

【０００３】これまでビデオカセットレコーダ等に使用
される磁気ヘッドとしては、フェライトよりなる磁気コ
アの磁気ギャップ形成面に金属膜を成膜したＭＩＧ（メ
タル・イン・ギャップ）型の磁気ヘッドや、非磁性セラ
ミック基板にて磁性層を挟み込んだ積層型の磁気ヘッド
等が実用化されている。

【０００４】しかし、ＭＩＧ型の磁気ヘッドにおいて
は、インピーダンスが大きく高周波帯域での使用には適
さない。一方、積層型の磁気ヘッドにおいては、高密度
記録化によるトラック幅の減少に伴い、磁路を構成する
磁性層の厚さ寸法を減少させる必要があり、このため、
ヘッド効率が低下してしまう。

【０００５】そこで、高周波帯域におけるヘッド効率の
良い磁気ヘッドとしては、非磁性基板上に磁気コアとし
て機能する磁性層を形成することによって磁路を短くす
るとともに、薄膜形成プロセスによって磁気ギャップ形
成面に薄膜コイルを形成した磁気ヘッドが提案されてい
る。

【０００６】この磁気ヘッド１００では、図１４に示す
ように、記録媒体摺動面１０１と記録媒体との良好な当
たり特性を得るために、記録媒体摺動面１０１に加工を
施すことによって摺動幅Ｔを制御している。すなわち、
記録媒体摺動面１０１の両端に切り欠き部１０２が形成
され、これによって、記録媒体摺動面１０１が記録媒体
に接する部分の幅である摺動幅Ｔが規制される。

【０００７】この磁気ヘッド１００おいて、切り欠き部
１０２の記録媒体に対向する面、すなわち、摺動幅加工
底面１０３は、ＭＩＧ型磁気ヘッド等と同様に、磁気ギ
ャップｇのデプス方向に対してほぼ直交するように直線
状に形成される。そして、このように摺動幅Ｔを規制す
るために形成される切り欠き部１０２は、磁気ヘッド１
００と記録媒体との良好な当たり特性を得ることを目的
としているので、切り欠き部１０２は、摺動方向に対し
て記録媒体とのコンタクト長以上の領域で同じ摺動幅Ｔ
が得られるように、十分に深くする必要がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の磁気
ヘッド１００では、非磁性基板上に形成した傾斜面上の
一部に磁性層を形成し、当該磁性層のみで磁路を構成し
ている。そして、この磁性層は、摺動幅Ｔを規制するた
めの切り欠き部１０２によって、一部が切り欠かれる。
したがって、切り欠き部１０２の加工深さが深いと、磁
性層によって形成される磁気コア１０４の体積が小さく
なり、ヘッド効率が低下してしまう。

【０００９】また、磁気ヘッド１００は、搭載されるド
ラムのドラム径が小さくなるのに伴って、記録媒体摺動
面１０１の曲率半径を小さくすると、記録媒体摺動面１
０１と摺動幅加工底面１０３との間隔を大きくする必要
がある。この磁気ヘッド１００においては、記録媒体摺
動面１０１と摺動幅加工底面１０３との間隔が大きくな
ると、さらに磁気コア１０４の体積が小さくなり、この
磁気ヘッド１００のヘッド効率が更に低下する。

【００１０】このような傾向は、記録媒体の高記録密度
化によるトラック幅の減少に伴い磁性層の厚さを薄くな
るにしたがって、更に顕著になる。

【００１１】そこで本発明は、上述のような実情に鑑み
て提案されたものであり、記録媒体摺動面１０１と、切
り欠き部１０２によって形成される摺動幅加工底面１０
３との間隔を制御することによって、記録媒体との良好
な当たり特性を実現するとともに、再生効率の高い磁気
ヘッドを提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
る本発明にかかる磁気ヘッドは、非磁性基板上に形成さ
れて磁気コアとして機能する磁性層が形成された一対の
磁気ヘッド半体が磁気ギャップを介して接合されるとと
もに、記録媒体摺動面の両側に記録媒体摺動方向に略平
行な切り欠き部が形成された磁気ヘッドであって、磁気
ギャップのデプス方向に対して直交し記録媒体摺動面に
接する仮想平面と、切り欠き部の記録媒体に対向する面
との間隔が、磁気ギャップ近傍側よりも記録媒体摺動方
向の両端近傍側が大きく形成されていることを特徴とす
る。

【００１３】この磁気ヘッドでは、仮想平面と、切り欠
き部の記録媒体に対向する面である摺動幅加工底面との
間隔が、磁気ギャップ近傍よりも記録媒体摺動方向の両
端近傍側の方が大きいので、記録媒体に対する当たり特
性を良好に維持しつつ、磁気コアとして機能する磁性層
の体積を増加させることが可能となり、ヘッド効率を向
上させることが可能となる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる磁気ヘッド
及びその製造方法の実施の形態について図面を参照しな
がら詳細に説明する。なお、本実施の形態は、ビデオカ
セットレコーダ用の磁気ヘッドに本発明を適用したもの
である。

【００１５】本実施の形態の磁気ヘッド１は、図１及び
図２に示すように、一対の磁気ヘッド半体２ａ、２ｂが
磁気ギャップｇを介して突き合わされて接合一体化して
なる。この磁気ヘッド１は、一対の磁気ヘッド半体２
ａ、２ｂの表面に形成されたＡｕ等の金属膜を金属拡散
結合させて磁気ギャップｇを形成して接合してなる。

【００１６】これら磁気ヘッド半体２ａ、２ｂは、基板
３と、この基板３上に成膜されて磁気コアとして機能す
る磁性層４と、これら基板３及び磁性層４上に充填され
たガラス５と、このガラス５部分に薄膜形成プロセスに
よって形成された薄膜コイル６と、この薄膜コイル６と
外部の端子とを電気的に接続するための端子溝７とを有
してなる。そして、一対の磁気ヘッド半体２ａ、２ｂ
は、それぞれの磁性層４が突き合わされて各磁性層４間
にフロントギャップｆｇ及びバックギャップｂｇとが形
成されるように接合される。また、この磁気ヘッド１に
は、記録媒体摺動面８の摺動幅Ｔを制御するために、摺
動幅加工が施されている。

【００１７】この磁気ヘッド１は、摺動幅加工が行われ
ることにより、図１（ａ）に示すように、記録媒体摺動
面８の両側に記録媒体摺動方向と略平行な切り欠き部９
が形成されており、この切り欠き部９により摺動幅Ｔが
所定の幅とされている。この磁気ヘッド１は、記録媒体
摺動面８の曲率半径と、切り欠き部９の記録媒体に対向
する面、すなわち摺動幅加工底面１０の曲率半径とをほ
ぼ同一にして形成されている。

【００１８】したがって、この磁気ヘッド１は、図１
（ｂ）に示すように、磁気ギャップｇ近傍において、デ
プス方向に対して直交し記録媒体摺動面８に接する仮想
平面Ｓと、摺動幅加工底面１０との間隔をｔ₁とし、切
り欠き部９の両端近傍において、デプス方向に対して直
交し記録媒体摺動面８に接する仮想平面Ｓと、摺動幅加
工底面１０との間隔をｔ₂としたとき、ｔ₁＜ｔ₂となる
ように形成されている。また、この磁気ヘッド１は、磁
気ギャップｇ近傍から、切り欠き部９の両端近傍に亘っ
て記録媒体摺動面８と摺動幅加工底面１０との間隔ｔが
ほぼ一定となるように形成されている。

【００１９】本実施の形態において、この磁気ヘッド１
は、ｔ₁を約１０μｍとなるように形成し、摺動幅加工
底面１０及び記録媒体摺動面８の曲率半径をともに約３
ｍｍとして形成されている。

【００２０】すなわち、磁気ヘッド１は、磁気ギャップ
ｇ近傍における仮想平面Ｓと摺動幅加工底面１０との間
隔をｔ₁とし、切り欠き部９の両端近傍における仮想平
面Ｓと摺動幅加工底面１０との間隔をｔ₂としたときに
ｔ₁＜ｔ₂となるように形成されている。また、この磁気
ヘッド１では、記録媒体摺動面８と摺動幅加工底面１０
とが、ほぼ同一の曲率半径で形成されているので、記録
媒体に対する良好な当たり特性を得ることが可能である
とともに、磁気コアとして機能する磁性層４の体積を大
きくすることが可能であり、ヘッド効率を向上させるこ
とが可能である。

【００２１】また、この磁気ヘッド１は、デプス方向に
おいて、仮想平面Ｓと摺動幅加工底面１０との間隔が、
磁気ギャップ近傍のおける間隔ｔ₁よりも切り欠き部９
の両端近傍における間隔ｔ₂が大きくなっていれば、図
３に示すように、摺動幅加工底面１０を台形状に形成し
ても良い。さらに、この磁気ヘッド１は、摺動幅加工底
面１０を多角形状に形成して切り欠き部９の両端に向か
うにしたがって仮想平面Ｓと摺動幅加工底面１０との間
隔が大きくなるように形成しても良い。

【００２２】このように構成された磁気ヘッド１は、摺
動幅加工底面１０が磁気ギャップ近傍において仮想平面
Ｓとの間隔を小さくして形成されているとともに、記録
媒体摺動方向の両端近傍側において仮想平面Ｓとの間隔
を大きくして形成されているので、記録媒体に対する良
好な当たり特性を得ることが可能であるとともに、磁気
コアとして機能する磁性層４の体積を大きくすることが
可能であり、ヘッド効率を向上させることが可能であ
る。

【００２３】なお、この磁気ヘッド１は、磁気ギャップ
近傍における仮想平面Ｓと摺動幅加工底面１０との間隔
をｔ₁とし、記録媒体摺動方向の両端近傍における仮想
平面Ｓと摺動幅加工底面１０との間隔をｔ₂としたとき
にｔ₁＜ｔ₂となるように形成されていれば、摺動幅加工
底面１０の曲率半径を記録媒体摺動面８の曲率半径より
も小さくして形成しても良い。

【００２４】以下、上述の磁気ヘッド１の製造方法を通
じて、この磁気ヘッドの詳細な構成を説明する。

【００２５】磁気ヘッド１を製造する際は、先ず、図４
に示すように、ＭｎＯ−ＮｉＯ混合燃結材等の非磁性材
料よりなる平板上の基板３を例えば長さ約３０ｍｍ、幅
約３０ｍｍ、厚み約２ｍｍに成形する。

【００２６】次いで、図５に示すように、片面を４５度
に成形した砥石により基板３上に斜面が約４５度の傾き
を持つように磁気コアを形成するための複数の磁気コア
溝３ａをそれぞれ等間隔かつ平行に形成する。ここで、
磁気コア溝３ａの斜面の傾きは、４５度に限定されるも
のではない。ただし、完成した磁気ヘッド１に生じる疑
似ギャップや、トラック幅精度を考慮すると、約４５度
が好適である。また、本実施の形態においては、磁気コ
ア溝３ａの深さを約１３０μｍ、幅を約１５０μｍに形
成した。

【００２７】次いで、磁気コア溝３ａが形成された基板
３上には、図６に示すように、磁性層４が形成される。
この磁性層４は、膜厚約５μｍのセンダスト（Ｆｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金）からなる金属磁性膜と、膜厚約０．１５
μｍのＡｌ₂Ｏ₃からなる絶縁膜とを交互に、金属磁性膜
が３層となるように積層されてなる。

【００２８】この磁性層４の構造は、単一の金属磁性膜
としても良いが、渦電流損を低減し、高周波帯域におい
て高感度をもたせるために金属磁性膜の膜厚を小さくす
る必要がある。また、絶縁膜の膜厚は、少なくとも絶縁
効果の得られる膜厚が必要であるが、実効的なトラック
幅が低下しないように、十分に薄くする必要がある。

【００２９】この磁性層４の形成方法は、スパッタリン
グ法が好適であるが、蒸着法、分子エピタキシー（ＭＢ
Ｅ）法等のようなスパッタリング法以外の物理的な成膜
方法や、化学的な成膜方法を用いても良い。

【００３０】また、この金属磁性膜の材料としては、セ
ンダストが好適であるが、その他の金属磁性体、例え
ば、センダストに類似した合金、窒化系軟磁性合金、炭
化系軟磁性合金等も使用可能である。絶縁膜の材料とし
ては、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、又はＳｉＯも使用可能であ
り、また、これらＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＳｉＯの混合状
態でも使用可能である。

【００３１】次いで、この磁性層４が成膜された基板３
上には、図７に示すように、磁気コア溝３ａに対して直
角に、薄膜コイル６を形成するための巻線溝３ｂと、磁
性層４を磁気コア毎に分離する分離溝３ｃとが形成され
る。

【００３２】この巻線溝３ｂは、図２に示すように、フ
ロントギャップ側の磁性層４がフロントギャップｆｇに
向けて斜めに絞り込んだ形となるように、例えば、巻線
溝３ｂのフロントギャップｆｇ側を約４５度の斜面をも
つ砥石にて形成する。このように、フロントギャップｆ
ｇ側の磁性層４がフロントギャップｆｇに向けて絞り込
んだ形になっていると、磁束が集中して高い記録感度が
得られる。

【００３３】ただし、巻線溝３ｂの形状は、フロントギ
ャップｆｇ側の磁性層４がフロントギャップｆｇに向け
て絞り込んだ形になっていれば、巻線溝３ｂのフロント
ギャップｆｇ側の斜面の角度は４５度でなくても良い。
さらに、巻線溝３ｂのフロントギャップｆｇ側の形状
は、円弧状又は多角形状であっても良い。

【００３４】また、巻線溝３ｂの深さは、磁性層４が分
断されない深さであれば良いが、深すぎると、磁路長が
大きくなり、磁束伝達の効率が低下する。また、巻線溝
３ｂの幅は、後の工程にて形成される薄膜コイル６の幅
と巻線数によって決定される。そして、本実施の形態で
は、巻線溝３ｂの線幅は、約１４０μｍとし、巻線溝３
ｂの深さは、約２０μｍとした。

【００３５】一方、分離溝３ｃは、磁性層４が分断され
ていれば任意の形状で良く、例えば加工が容易な矩形状
とする。この分離溝３ｃの深さは、磁気コア溝３ａの底
面から約１５０μｍの深さまで形成した。また、分離溝
３ｃの幅は、磁性層４のフロントギャップｆｇ側部分の
長さと、磁性層４のバックギャップｂｇ側部分の長さと
を規定する。したがって、分離溝３ｃの幅は、所望する
磁気ヘッド１のフロントギャップｆｇの長さとバックギ
ャップｂｇの長さの兼ね合いによって決定される。ただ
し、フロントギャップｆｇの長さは、最終的に磁気ヘッ
ド１を所定の形状に加工する際に記録媒体摺動面８をラ
ップするため、最終的に所望するフロントギャップｆｇ
の長さよりも長めに設定して分離溝３ｃを形成する。し
たがって、本実施の形態においては、フロントギャップ
ｆｇの長さが約３００μｍ、バックギャップｂｇの長さ
が約８５μｍとなるように分離溝３ｃを形成している。

【００３６】次いで、図８に示すように、磁気コア溝３
ａ、巻線溝３ｂ及び分離溝３ｃに低融点のガラス５を溶
解充填し、その後、ガラス５表面に対して鏡面処理を施
す。

【００３７】次に、図９に示すように、端子溝１２を基
板３上にて薄膜コイル６の引き出し部の一端と重なるよ
うに形成する。この端子溝１２は、本実施の形態におい
て、幅及び深さを約１００μｍとなるように形成した。
なお、この端子溝１２の断面形状は、長方形、多角形、
及び端子溝１２の底部が丸底になるように形成しても良
い。

【００３８】次に、図１０に示すように、端子溝１２内
に、導電性ペーストを流し込む方法や、電解メッキ法等
により、Ｃｕ等の良導電性材料を充填した後に、端子溝
１２上の表面を研磨することによって平坦化する。

【００３９】次に、図１１に示すように、薄膜形成プロ
セスによって、ガラス５部分に、巻線溝３ｂを通過する
ように、磁気コア毎に渦巻状の薄膜コイル６を形成す
る。この薄膜コイル６の形成は、先ず、薄膜コイル６が
設置される部分に約５μｍの凹部を形成する。その後、
レジストにより薄膜コイル６の形状をパターンニングし
た後に電解メッキ法等によりＣｕ等を約３μｍ形成す
る。ここで、薄膜コイル６は、その端部が端子溝１２に
接触するように形成される。なお、本実施の形態では、
薄膜コイル６のコイルパターンを電解メッキ法により成
長させているが、電解メッキ法に限らず、スパッタリン
グ法や蒸着法等でも良い。

【００４０】次に、基板３上に、各磁気ヘッド半体２
ａ、２ｂを接合するために、接合部にＡｕ薄膜のパター
ニングを施す。

【００４１】次に、基板３を各端子溝１２と平行に分割
して各磁気ヘッドブロック半体を作製する。その後、図
１２及び図１３に示すように、各磁気ヘッドブロック半
体に形成されたＡｕ薄膜を接触させるように突き合わ
せ、荷重を加えながら金属拡散結合させて磁気ヘッドブ
ロックを形成する。なお、この磁気ヘッドブロック半体
の接合は、本実施の形態では、金属拡散結合を採用して
いるが、接着剤等の化学的な接合法でも良い。

【００４２】次に、磁気ヘッドブロックの記録媒体摺動
面方向に摺動幅加工を施す。この摺動幅加工では、切り
欠き部９を形成することにより、摺動幅加工底面１０を
形成して、記録媒体摺動面８を所定の摺動幅Ｔに成形す
る。

【００４３】この摺動幅加工では、曲率半径を例えば約
３ｍｍとして記録媒体摺動面８を形成するとともに、摺
動幅加工底面１０の曲率半径を約３ｍｍとして、切り欠
き部９を形成する。このように摺動幅加工は、記録媒体
摺動面８と、摺動幅加工底面１０との間隔ｔとが、切り
欠き部９の全体に亘ってほぼ同一の寸法になるように形
成する。本実施の形態においては、この記録媒体摺動面
８と、摺動幅加工底面１０との間隔ｔは、約１０μｍに
て形成されている。

【００４４】なお、この摺動幅加工は、磁気ギャップ近
傍における仮想平面Ｓと摺動面加工底面１０との間隔ｔ
を、ギャップデプスとほぼ等しく形成すれば、摺動幅加
工底面１０の曲率半径を記録媒体摺動面８の曲率半径よ
りも小さくして形成しても良い。

【００４５】また、摺動幅加工は、仮想平面Ｓと摺動幅
加工底面１０との間隔が、磁気ギャップ近傍における間
隔ｔ₁よりも切り欠き部９の両端における間隔ｔ₂が大き
くなるように形成するものであれば良く、例えば、摺動
幅加工底面１０を台形状、多角形状に形成して、磁気ギ
ャップｇ近傍から切り欠き部９の両端に向かうにしたが
って仮想平面Ｓと摺動幅加工底面１０との間隔ｔが大き
くなるように形成しても良い。

【００４６】この後、磁気ヘッドブロックに対して、磁
気コア毎にスライシング加工を施して切り出しを行い、
各ヘッドチップを作製する。

【００４７】そしてこれらヘッドチップに所定の後処理
を施すことにより、上記磁気ヘッドが完成する。

【００４８】ところで、磁気ヘッド１は、記録媒体との
接触によって記録媒体摺動面８が摩耗して磁気ギャップ
ｇがなくなってしまうと、磁気ヘッドとして機能しなく
なってしまう。このような磁気ヘッドの寿命は、通常、
ギャップデプスによって定まるものであり、ギャップデ
プスが深く形成されているほど寿命は長くなる。

【００４９】ところが、磁気ギャップ近傍における仮想
平面Ｓと摺動幅加工底面１０との間隔ｔ₁が、ギャップ
デプスよりも小さいと、摩耗が摺動幅加工底面１０にま
で至った段階で、記録媒体に対する当たり幅が適切に規
制されなくなり、磁気ヘッドとして使えなくなってしま
う。したがって、摩耗による寿命を考慮すると、磁気ギ
ャップ近傍における仮想平面Ｓと摺動幅加工底面１０と
の間隔ｔ₁は、ギャップデプスと同程度にすることが好
ましい。

【００５０】ただし、磁気ヘッド１を回転ドラムに搭載
するようなとき、磁気ヘッドの寿命は、ギャップデプス
ではなく、回転ドラムからの突き出し量によって定まる
場合もある。すなわち、ギャップデプスが十分に深く形
成されていても、回転ドラムから突き出している部分が
摩耗してしまうと、磁気ヘッドとして使えなくなってし
まう。このようなとき、磁気ギャップ近傍における仮想
平面Ｓと摺動幅加工底面１０との間隔ｔ₁は、ギャップ
デプスと同程度とするのではなく、回転ドラムからの突
き出し量と同程度とすることが好ましい。これにより、
摺動幅加工によって磁気ヘッドの寿命を短くしてしまう
ようなことなく、磁気コアの体積をより大きくすること
が可能となる。

【００５１】また、ギャップデプスを約１０μｍとし、
磁気ギャップ近傍における仮想平面Ｓと摺動幅加工底面
１０との間隔ｔ₁を約１０μｍとし、記録媒体摺動面８
及び摺動幅加工底面１０の曲率半径を３ｍｍとし、記録
媒体摺動面８の摺動幅Ｔを４０μｍとして摺動幅加工を
行った磁気ヘッドと、仮想平面Ｓと摺動幅加工底面との
間隔を約５０μｍとし、摺動幅加工底面が直線状に形成
されている従来の摺動幅加工で形成した磁気ヘッドとの
再生出力の比較を行った。このとき、ドラムテスターを
用い、記録媒体摺動面８と記録媒体であるメタル蒸着テ
ープとの相対速度を１０．２ｍ／ｓとしたところ、本実
施の形態による磁気ヘッド１は、従来の摺動幅加工によ
る磁気ヘッドより約１．５ｄＢ程度高い再生出力が得ら
れた。

【００５２】

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明にかか
る磁気ヘッドは、磁気ギャップのデプス方向に対して直
交し記録媒体摺動面に接する平面と、切り欠き部の記録
媒体に対向する面との間隔が、磁気ギャップ近傍側より
も記録媒体摺動方向の両端近傍側が大きく形成されてい
る。

【００５３】このように構成された磁気ヘッドは、記録
媒体に対する良好な当たり特性を得ることが可能である
とともに、磁気コアとして機能する磁性層の体積を大き
くすることが可能であり、ヘッド効率を向上させること
が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる磁気ヘッドの一構成例を示し、
(ａ）は斜視図、(ｂ）は要部平面図である。

【図２】同磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍のを示す要部
拡大斜視図である。

【図３】磁気ヘッドの一構成例を示す要部平面図であ
る。

【図４】基板を示す斜視図である。

【図５】基板に磁気コア溝を形成した状態を示す斜視図
である。

【図６】磁気コア溝が形成された基板上に磁性層を形成
した状態を示す斜視図である。

【図７】基板上に巻線溝と、分離溝を形成した状態を示
す斜視図である。

【図８】基板上にガラスを充填した状態を示す斜視図で
ある。

【図９】基板上に充填されたガラス上に端子溝を形成し
た状態を示す斜視図である。

【図１０】基板上に形成された端子溝内に導電性材を充
填した状態を示す斜視図である。

【図１１】薄膜コイルを形成した状態を示す斜視図であ
る。

【図１２】基板を端子溝と平行に切断し、一対の磁気ヘ
ッドブロック半体を接合させた状態を示す斜視図であ
る。

【図１３】一対の磁気ヘッドブロック半体を接合させた
状態を示す斜視図である。

【図１４】従来の磁気ヘッドを示す斜視図である。

【符号の説明】

１ 磁気ヘッド、２ 磁気ヘッド半体、３ 基板、４
磁性層、６ 薄膜コイル、５ 磁性層、８ 記録媒体摺
動面、９ 切り欠き部、１０ 摺動幅加工底面

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板上に形成されて磁気コアとし
   て機能する磁性層が形成された一対の磁気ヘッド半体が
   磁気ギャップを介して接合されるとともに、記録媒体摺
   動面の両側に記録媒体摺動方向に略平行な切り欠き部が
   形成された磁気ヘッドにおいて、 磁気ギャップのデプス方向に対して直交し記録媒体摺動
   面に接する仮想平面と、上記切り欠き部の記録媒体に対
   向する面との間隔が、磁気ギャップ近傍側よりも記録媒
   体摺動方向の両端近傍側が大きく形成されていることを
   特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 上記一対の磁気ヘッド半体の少なくとも
   一方には、磁性層を巻回する薄膜コイルが形成されてい
   ることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 上記切り欠き部の記録媒体に対向する面
   が曲面とされ、当該曲面の曲率半径が、記録媒体摺動面
   の曲率半径以下とされていることを特徴とする請求項１
   記載の磁気ヘッド。