JPH0572007B2 - - Google Patents
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- JPH0572007B2 JPH0572007B2 JP57060879A JP6087982A JPH0572007B2 JP H0572007 B2 JPH0572007 B2 JP H0572007B2 JP 57060879 A JP57060879 A JP 57060879A JP 6087982 A JP6087982 A JP 6087982A JP H0572007 B2 JPH0572007 B2 JP H0572007B2
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- Japan
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- head
- magnetic
- metal magnetic
- head core
- track width
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P30/00—Technologies relating to oil refining and petrochemical industry
- Y02P30/20—Technologies relating to oil refining and petrochemical industry using bio-feedstock
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高抗磁力記録媒体に対して充分な記
録能力を有する磁気ヘツドの製造方法に関するも
のである。
録能力を有する磁気ヘツドの製造方法に関するも
のである。
従来より、VTRあるいは磁気デイスク用のヘ
ツドコアにはフエライト材料が多く用いられてき
た。これは数ＭHz以上の高い周波数領域における
透磁率の高さと耐摩耗性の良好なことによるもの
である。
ツドコアにはフエライト材料が多く用いられてき
た。これは数ＭHz以上の高い周波数領域における
透磁率の高さと耐摩耗性の良好なことによるもの
である。
ところが、近年、記録密度の向上を図るために
合金粉末、メツキあるいは蒸着等による高抗磁力
記録媒体が使われる傾向にある。
合金粉末、メツキあるいは蒸着等による高抗磁力
記録媒体が使われる傾向にある。
しかし、従来のフエライト材料によるヘツドコ
アでは飽和磁束密度が低いため、抗磁力が1000
（Oe）を超えるような記録媒体に対する記録能力
が不充分である。
アでは飽和磁束密度が低いため、抗磁力が1000
（Oe）を超えるような記録媒体に対する記録能力
が不充分である。
そこで、従来より特殊な用途として放送用
VTRのヘツドとして使われてきた飽和磁束密度
の高いセンダストヘツドが見直されている。
VTRのヘツドとして使われてきた飽和磁束密度
の高いセンダストヘツドが見直されている。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、
トラツク幅を精度よく出すことができ、かつ容易
に任意のトラツク幅とすることのできる磁気ヘツ
ドの製造方法を提供するものである。
トラツク幅を精度よく出すことができ、かつ容易
に任意のトラツク幅とすることのできる磁気ヘツ
ドの製造方法を提供するものである。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例で製造した磁気ヘツ
ドのヘツドコアを示している。
ドのヘツドコアを示している。
第１図において、１ａ，２ａはヘツドコア半体
で、共にガラス、セラミツクス等の非磁性材料で
形成されている。
で、共にガラス、セラミツクス等の非磁性材料で
形成されている。
そして、ヘツドコア半体１ａ，２ａの突き合わ
せ面１a′，２a′には、それぞれセンダスト、パー
マロイ等からなる高飽和磁束密度の金属磁性層３
が形成されている。
せ面１a′，２a′には、それぞれセンダスト、パー
マロイ等からなる高飽和磁束密度の金属磁性層３
が形成されている。
この金属磁性層３の厚さは、使用する周波数帯
域での表皮効果によるスキンデプスの２倍程度に
設定するのが好ましい。
域での表皮効果によるスキンデプスの２倍程度に
設定するのが好ましい。
しかし、長波長側でのコンタクトエフエクトが
重要な場合には、より厚く設定してもよい。
重要な場合には、より厚く設定してもよい。
そして、金属磁性層３，３の間には、SiO2，
Ａ2O3党からなる非磁性層４が介在されてい
る。
Ａ2O3党からなる非磁性層４が介在されてい
る。
なお、非磁性層４は、ヘツドギヤツプを形成す
るもので、ヘツドギヤツプ長に相当する厚さを有
している。
るもので、ヘツドギヤツプ長に相当する厚さを有
している。
また、一方のヘツドコア半体１ａの突き合わせ
面１a′にはほぼ45度の傾斜面を有するＶ字状の巻
線溝５が形成され、この巻線溝５を介してヘツド
コア半体１ａ，２ａにそれぞれ巻線（図示せず）
が捲回される。
面１a′にはほぼ45度の傾斜面を有するＶ字状の巻
線溝５が形成され、この巻線溝５を介してヘツド
コア半体１ａ，２ａにそれぞれ巻線（図示せず）
が捲回される。
なお、図中、６はヘツドコア半体１ａ，２ａの
テープ当接面側に形成されたトラツク幅規制用溝
７はこのトラツク幅規制用溝６に埋込まれたガラ
ス、８，９はトラツク形成部である。
テープ当接面側に形成されたトラツク幅規制用溝
７はこのトラツク幅規制用溝６に埋込まれたガラ
ス、８，９はトラツク形成部である。
第２図ａ〜ｄは上記一実施例の磁気ヘツドのヘ
ツドコアの製造方法を示している。
ツドコアの製造方法を示している。
これによれば、まず第２図ａに示すように、ガ
ラス、セラミツクス等からなる一対の非磁性基板
１，２の表面をそれぞれ平滑な面に研磨し、一方
の非磁性基板１の表面に巻線溝５を加工する。
ラス、セラミツクス等からなる一対の非磁性基板
１，２の表面をそれぞれ平滑な面に研磨し、一方
の非磁性基板１の表面に巻線溝５を加工する。
次いで、第２図ｂに示すように、非磁性基板
１，２の表面に蒸着、スパツタリングあるいはメ
ツキ等の手段で金属磁性層３を形成する。この工
程において、巻線溝５で金属磁性層３が不連続に
ならないように配慮する必要がある。
１，２の表面に蒸着、スパツタリングあるいはメ
ツキ等の手段で金属磁性層３を形成する。この工
程において、巻線溝５で金属磁性層３が不連続に
ならないように配慮する必要がある。
この後、第２図ｃに示すように、非磁性基板
１，２とそれぞれの金属磁性層３，３にワイアー
ソー、ダイシングマシン、スライシングマシン等
によつてトラツク加工を施し、トラツク幅規制用
溝６を形成する。
１，２とそれぞれの金属磁性層３，３にワイアー
ソー、ダイシングマシン、スライシングマシン等
によつてトラツク加工を施し、トラツク幅規制用
溝６を形成する。
次いで、金属磁性層３の表面にそれぞれヘツド
ギヤツプ長の半分に相当する厚さの非磁性層４を
蒸着、スパツタリング等の手段で形成した後、第
２図ｄに示すように、非磁性基板１，２の金属磁
性層３同士を突き合わせ、トラツク形成部８，９
の突き合わせずれが少なくなるようにしてガラス
溶着によつて非磁性基板１，２を一体に接合す
る。
ギヤツプ長の半分に相当する厚さの非磁性層４を
蒸着、スパツタリング等の手段で形成した後、第
２図ｄに示すように、非磁性基板１，２の金属磁
性層３同士を突き合わせ、トラツク形成部８，９
の突き合わせずれが少なくなるようにしてガラス
溶着によつて非磁性基板１，２を一体に接合す
る。
この後、トラツク幅規制用溝６にガラス７を充
填する。
填する。
なお、非磁性基板１，２のテープ当接面（フロ
ント部）と反対側のバツク部に切り欠き１０を形
成しておき、ここにもガラス７を充填すると、非
磁性基板１，２をより強固に接合できる。
ント部）と反対側のバツク部に切り欠き１０を形
成しておき、ここにもガラス７を充填すると、非
磁性基板１，２をより強固に接合できる。
これにより、第２図ｄに示すように、ヘツドコ
アブロツク１１が得られる。このヘツドコアブロ
ツク１１のテープ当接面を円研磨した後、第２図
ｄに示す一点鎖線に沿つてブレード、ワイアーソ
ーを使用して切断すると、第１図に示すヘツドコ
アが得られる。
アブロツク１１が得られる。このヘツドコアブロ
ツク１１のテープ当接面を円研磨した後、第２図
ｄに示す一点鎖線に沿つてブレード、ワイアーソ
ーを使用して切断すると、第１図に示すヘツドコ
アが得られる。
次いで、巻線溝５を介してヘツドコア半体１
ａ，２ａに巻線を捲回する。
ａ，２ａに巻線を捲回する。
なお、第２図ｃに示す工程において、平坦な非
磁性基板２にトラツク加工する際、ワイアーソー
等を使う代わりに金属磁性層３のみを化学エツチ
ングやドライエツチングでトラツク加工してもよ
い。
磁性基板２にトラツク加工する際、ワイアーソー
等を使う代わりに金属磁性層３のみを化学エツチ
ングやドライエツチングでトラツク加工してもよ
い。
以上説明したように、本発明によれば、金属磁
性層を形成した後にトラツク加工を施しているの
で、トラツク幅を精度よく出すことができる。
性層を形成した後にトラツク加工を施しているの
で、トラツク幅を精度よく出すことができる。
また、トラツク加工を施すことにより、任意の
トラツク幅を有する磁気ヘツドを容易に製造する
ことができる。
トラツク幅を有する磁気ヘツドを容易に製造する
ことができる。
第１図は本発明の一実施例で製造したヘツドコ
アの斜視図、第２図ａ〜ｄはヘツドコアの製造方
法を説明する説明図である。 １，２……非磁性基板、１ａ，２ａ……ヘツド
コア半体、１a′，２a′……突き合わせ面、３……
金属磁性層、４……非磁性層、５……巻線溝、６
……トラツク幅規制用溝、７……ガラス、１１…
…ヘツドコアブロツク。
アの斜視図、第２図ａ〜ｄはヘツドコアの製造方
法を説明する説明図である。 １，２……非磁性基板、１ａ，２ａ……ヘツド
コア半体、１a′，２a′……突き合わせ面、３……
金属磁性層、４……非磁性層、５……巻線溝、６
……トラツク幅規制用溝、７……ガラス、１１…
…ヘツドコアブロツク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ガラス等からなる一対の非磁性基板に高飽和
磁束密度の金属磁性層を形成し、 この金属磁性層あるいは前記金属磁性層と前記
非磁性基板にトラツク加工を施すことにより所定
間隔で並んだ複数のトラツク幅規制用溝を形成
し、 次いで前記金属磁性層間にヘツドギヤツプを形
成する非磁性層を介在させて前記一対の非磁性基
板を一体に接合してヘツドコアブロツクを形成
し、 その後このヘツドコアブロツクを前記所定間隔
で並んだ各トラツク幅規制用溝の中央位置で切断
することによりヘツドコア単体に切り分けること を特徴とする磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57060879A JPS58179925A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57060879A JPS58179925A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58179925A JPS58179925A (ja) | 1983-10-21 |
| JPH0572007B2 true JPH0572007B2 (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=13155097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57060879A Granted JPS58179925A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58179925A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58182118A (ja) * | 1982-04-19 | 1983-10-25 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気ヘツド及びその製造法 |
| JPS6089807A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-20 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPH0766494B2 (ja) * | 1985-06-19 | 1995-07-19 | 株式会社日立製作所 | 磁気ヘツド |
| DE3630841A1 (de) * | 1985-09-13 | 1987-03-26 | Hitachi Metals Ltd | Fliegender magnetkopf |
| JPS62146412A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-30 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
| JPH0654528B2 (ja) * | 1986-04-23 | 1994-07-20 | 株式会社日立製作所 | 磁気ヘツド |
| JPH03141006A (ja) * | 1990-08-21 | 1991-06-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 複合型磁気ヘッド |
| JPH0515107U (ja) * | 1991-07-30 | 1993-02-26 | ミツミ電機株式会社 | 複合型磁気ヘツド |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53116810A (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-12 | Hitachi Ltd | Magnetic head core |
| JPS5514550A (en) * | 1978-07-19 | 1980-02-01 | Hitachi Ltd | Manufacture for magnetic head |
| JPS55117723A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-10 | Sony Corp | Magnetic head |
| JPS55157121A (en) * | 1979-05-19 | 1980-12-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Magnetic head core |
-
1982
- 1982-04-14 JP JP57060879A patent/JPS58179925A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58179925A (ja) | 1983-10-21 |
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