JPH1067078A - 光学要素とその製造に用いられるフッ化物材料の多層積層体 - Google Patents
光学要素とその製造に用いられるフッ化物材料の多層積層体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外、可視、赤外域での反射防止膜、トリク
ロミックミラー、分光フィルタ、あるいは保護膜として
使用可能で、レーザ照射に抵抗性のある多層積層体を提
供する。 【解決手段】 光学製品及びその製造工程に使用可能な
フッ化物材料の多層積層体を提供するため、ＹＦ3 とい
った第１の高屈折材料と、ＬｉＦといった第２の低屈折
フッ化物材料の層を交互に積層して積層体を作成した。
この積層体の境界層に、ＹＬｉＦ４といった特殊で安定
な化合物が析出されるので、この化合物が境界層の少な
くとも一部に形成された多層積層体を作成することによ
って、隣接する層間の接着性が向上し、かつ目標とする
光学特性が得られた。
ロミックミラー、分光フィルタ、あるいは保護膜として
使用可能で、レーザ照射に抵抗性のある多層積層体を提
供する。 【解決手段】 光学製品及びその製造工程に使用可能な
フッ化物材料の多層積層体を提供するため、ＹＦ3 とい
った第１の高屈折材料と、ＬｉＦといった第２の低屈折
フッ化物材料の層を交互に積層して積層体を作成した。
この積層体の境界層に、ＹＬｉＦ４といった特殊で安定
な化合物が析出されるので、この化合物が境界層の少な
くとも一部に形成された多層積層体を作成することによ
って、隣接する層間の接着性が向上し、かつ目標とする
光学特性が得られた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学構成要素の処
理のために用いられるフッ化物材料の多層の積層体に関
する。この積層体は、例えば、紫外から赤外までの波長
領域におけるミラー、分光フィルター、あるいは反射防
止コーティングなどの光学部品に光学機能を付与し、あ
るいは、予め構成された光学要素を、例えば、激しいレ
ーザ光線による損傷から保護するために析出された保護
層として機能させることが出来る。
理のために用いられるフッ化物材料の多層の積層体に関
する。この積層体は、例えば、紫外から赤外までの波長
領域におけるミラー、分光フィルター、あるいは反射防
止コーティングなどの光学部品に光学機能を付与し、あ
るいは、予め構成された光学要素を、例えば、激しいレ
ーザ光線による損傷から保護するために析出された保護
層として機能させることが出来る。
【０００２】
【従来の技術】光学の分野において、ある光学機能、例
えば、ミラー、分光フィルタ、反射防止被覆層などの性
能は、少なくとも一部は、膜厚が典型的には、全体とし
て数十分の一ミクロンと数ミクロンの間の薄い層または
は薄膜の多層膜によって満たされる。
えば、ミラー、分光フィルタ、反射防止被覆層などの性
能は、少なくとも一部は、膜厚が典型的には、全体とし
て数十分の一ミクロンと数ミクロンの間の薄い層または
は薄膜の多層膜によって満たされる。
【０００３】求められる光学機能の複雑性の関数とし
て、積層体は１つまたは異なった屈折率を持つ１つ以上
の材料から構成される。多くの場合、高い屈折率ｎ1 を
持つ一方の材料と、ｎ1 より低い屈折率ｎ2 を持つ他方
の材料の２つの材料で、これらの機能を満足させること
ができる。材料の選択は、材料の光学常数（屈折率ｎ及
び吸光係数ｋ）に連結した純粋に光学的な考察またそれ
ら材料の透明な波長範囲を考慮して導かれる。現在用い
られている多数の材料の中で、特に以下の３種のグルー
プが特に注目されている。ー特に珪酸からなる酸化物成
分（低屈折率）、またチタン、タンタル、ジルコニウ
ム、ハフニウム、アルミニウムその他の酸化物成分（高
屈折率）で、これらの成分は可視域、ある場合には紫外
域における応用に広く用いられている。ー特に、赤外光
領域における応用を意図した、カルコゲナイド（Ｚｎ
Ｓ、ＺｎＳｅ）あるいはゲルマニウムといった材料。
て、積層体は１つまたは異なった屈折率を持つ１つ以上
の材料から構成される。多くの場合、高い屈折率ｎ1 を
持つ一方の材料と、ｎ1 より低い屈折率ｎ2 を持つ他方
の材料の２つの材料で、これらの機能を満足させること
ができる。材料の選択は、材料の光学常数（屈折率ｎ及
び吸光係数ｋ）に連結した純粋に光学的な考察またそれ
ら材料の透明な波長範囲を考慮して導かれる。現在用い
られている多数の材料の中で、特に以下の３種のグルー
プが特に注目されている。ー特に珪酸からなる酸化物成
分（低屈折率）、またチタン、タンタル、ジルコニウ
ム、ハフニウム、アルミニウムその他の酸化物成分（高
屈折率）で、これらの成分は可視域、ある場合には紫外
域における応用に広く用いられている。ー特に、赤外光
領域における応用を意図した、カルコゲナイド（Ｚｎ
Ｓ、ＺｎＳｅ）あるいはゲルマニウムといった材料。
【０００４】ー幅広い成分範囲に亘るフッ化物（ＭｇＦ
2、ＣａＦ2、ＹＦ3、ＬａＦ3、ＮａＡｌＦ4 その他）
で、これら材料の多くは、一般に０．２から１０μｍま
での広い透過波長範囲を持つという特徴を持つ。従っ
て、これらフッ化物材料は、遠紫外から赤外に広がる広
い波長範囲に応用され極めて広い応用範囲を潜在的に持
つ。例えば、それら材料は赤外域における応用（Ｙ
Ｆ3、ＴｈＦ4）に用いられ、あるいは、可視光域での反
射防止材料（ＣａＦ2、ＭｇＦ2）として応用される。
2、ＣａＦ2、ＹＦ3、ＬａＦ3、ＮａＡｌＦ4 その他）
で、これら材料の多くは、一般に０．２から１０μｍま
での広い透過波長範囲を持つという特徴を持つ。従っ
て、これらフッ化物材料は、遠紫外から赤外に広がる広
い波長範囲に応用され極めて広い応用範囲を潜在的に持
つ。例えば、それら材料は赤外域における応用（Ｙ
Ｆ3、ＴｈＦ4）に用いられ、あるいは、可視光域での反
射防止材料（ＣａＦ2、ＭｇＦ2）として応用される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】フッ化物材料は明らか
な光学的な利点がある。特に、紫外領域のミラーの製造
に利点を持つが、複雑な光学的応用の開発を進めると、
光学的な性能特性を劣化させることなく、機械的に安定
な薄層の積層体構造を得ることの困難さ伴う問題が生じ
てきた。
な光学的な利点がある。特に、紫外領域のミラーの製造
に利点を持つが、複雑な光学的応用の開発を進めると、
光学的な性能特性を劣化させることなく、機械的に安定
な薄層の積層体構造を得ることの困難さ伴う問題が生じ
てきた。
【０００６】薄いフッ化物層の積層体の製造において遭
遇する問題は、フッ化物の特殊な機械的特性とフッ化物
材料の化学的性質に主に起因している。
遇する問題は、フッ化物の特殊な機械的特性とフッ化物
材料の化学的性質に主に起因している。
【０００７】すなわち、フッ化物は、酸化物に対して約
１０倍の高い熱膨張係数を持つので、析出に伴って、析
出層内には数百ＭＰａの引張り応力が発生する。従っ
て、多くの応用において、フッ化物の層は１μｍの厚さ
を越えるとクラックのために剥離してしまう。
１０倍の高い熱膨張係数を持つので、析出に伴って、析
出層内には数百ＭＰａの引張り応力が発生する。従っ
て、多くの応用において、フッ化物の層は１μｍの厚さ
を越えるとクラックのために剥離してしまう。
【０００８】フッ化物においては１価のフッ素結合（ー
Ｆ）がフッ化物間の化学的接着を困難にし、このことが
機械的に安定な多層構造を製作することを制限する。
Ｆ）がフッ化物間の化学的接着を困難にし、このことが
機械的に安定な多層構造を製作することを制限する。
【０００９】加えて、フッ化物は低温において容易に結
晶化する材料である。この結果、フッ化物の積層体にお
いて拡散による光学的損失が生じ、この損失のレベルは
特に紫外領域において特性に決定的な影響を与える。
晶化する材料である。この結果、フッ化物の積層体にお
いて拡散による光学的損失が生じ、この損失のレベルは
特に紫外領域において特性に決定的な影響を与える。
【００１０】フッ化物の十分に光学的に満足な積層体を
得るためには、必然的に一方では、フッ化物層の機械的
特性（応力、密度）の改良が、他方では、界面の機械
的、光学的特質（接着性、拡散性）の改良が必要とな
る。
得るためには、必然的に一方では、フッ化物層の機械的
特性（応力、密度）の改良が、他方では、界面の機械
的、光学的特質（接着性、拡散性）の改良が必要とな
る。
【００１１】フッ化物層は、一般に真空析出法、特に真
空蒸着法によって得られる。これらの方法において蒸発
された材料流は極めて低いエネルギーしか持たず、その
結果得られる層は気孔を含むかあるいは不均一となる。
フッ化物の層をより緻密化しかつ引張り応力を減少させ
るために、温度を上げた状態で析出させることによっ
て、こうした問題は回避できる。しかし、Ｒ．ショー
「ＳＰＩＥ誌、１８４８巻、３１２ー３２１ページ（１
９９２）」に記述されているように、ＬａＦ3／Ｎｄ
Ｆ3、または、ＧｄＦ3／Ｎａ3ＡｌＦ6 といった材料の
ペアーを積層する場合、積層体内の交互の層の間に非常
に高い引張り応力が生じ、これらの材料のペアーの積層
体は５対に限定され、そのため最大の反射率は３５５ｎ
ｍにおいて５０％に限定される。
空蒸着法によって得られる。これらの方法において蒸発
された材料流は極めて低いエネルギーしか持たず、その
結果得られる層は気孔を含むかあるいは不均一となる。
フッ化物の層をより緻密化しかつ引張り応力を減少させ
るために、温度を上げた状態で析出させることによっ
て、こうした問題は回避できる。しかし、Ｒ．ショー
「ＳＰＩＥ誌、１８４８巻、３１２ー３２１ページ（１
９９２）」に記述されているように、ＬａＦ3／Ｎｄ
Ｆ3、または、ＧｄＦ3／Ｎａ3ＡｌＦ6 といった材料の
ペアーを積層する場合、積層体内の交互の層の間に非常
に高い引張り応力が生じ、これらの材料のペアーの積層
体は５対に限定され、そのため最大の反射率は３５５ｎ
ｍにおいて５０％に限定される。
【００１２】これらの機械的な問題を克服する解決策
は、高いエネルギーの析出方法を用いて析出層の機械的
安定化を図るか、または析出層の組成を修正するかのい
ずれかが考えられる。
は、高いエネルギーの析出方法を用いて析出層の機械的
安定化を図るか、または析出層の組成を修正するかのい
ずれかが考えられる。
【００１３】そこで、この目的のために、イオンビーム
蒸着またはＩＡＤ、及びイオンビームスパッタリングま
たはＩＢＳが開発された。（イザワ等「ＳＰＩＥ誌、１
８４８巻、３２２ー３２９頁（１９９３）」：Ｊ．コル
ベ等「ＳＰＩＥ誌、１６２４巻、２２１ー２３５頁（１
９９１）」：ＳＶＣ「第３６回技術年会議予稿集、４４
ー５０頁（１９９３）」：及び、「ＳＰＩＥ誌、１７８
２巻、４３５ー４４６頁（１９９３）」参照）
蒸着またはＩＡＤ、及びイオンビームスパッタリングま
たはＩＢＳが開発された。（イザワ等「ＳＰＩＥ誌、１
８４８巻、３２２ー３２９頁（１９９３）」：Ｊ．コル
ベ等「ＳＰＩＥ誌、１６２４巻、２２１ー２３５頁（１
９９１）」：ＳＶＣ「第３６回技術年会議予稿集、４４
ー５０頁（１９９３）」：及び、「ＳＰＩＥ誌、１７８
２巻、４３５ー４４６頁（１９９３）」参照）
【００１４】例えば、ＹＦ3 またはＬａＦ3 にＳｒＦ2
を混合することによる析出層の組成の修正は、Ｓ．マッ
ケルダウニー及びＬ．ブラウンの「光学干渉被膜会議予
稿集、２６９ー２７１頁（ツーソン、１９９５）」に述
べられている。ＳｒＦ2添加によるこの修正は、ＹＦ3
及びＬａＦ3 内の引張り応力を減少させるが、この添加
によって表面粗さが増大し、これが層間の界面の品質を
損なう。
を混合することによる析出層の組成の修正は、Ｓ．マッ
ケルダウニー及びＬ．ブラウンの「光学干渉被膜会議予
稿集、２６９ー２７１頁（ツーソン、１９９５）」に述
べられている。ＳｒＦ2添加によるこの修正は、ＹＦ3
及びＬａＦ3 内の引張り応力を減少させるが、この添加
によって表面粗さが増大し、これが層間の界面の品質を
損なう。
【００１５】従って、既知の方法によって析出層の機械
的特性の改良は可能であるが、析出層の間の接着性を改
良することのできる方法は知られていなかった。この析
出層を持つ部品が短い波長（λ＜２５０ｎｍ）に応用さ
れると、ミラーを構成する積層体は１．５μｍを超えな
い膜厚の接着力を有し、積層体間の接着性の不足による
害は少ない。しかし、λ＝３５５ｎｍといった波長より
長い場合、そして可視光の範囲での応用ではミラー厚は
２．５μｍを越え、特に積層体内部が高い接着力を持つ
ことが必要とあり、そうでないと積層体の物理的な結合
を保持できない。
的特性の改良は可能であるが、析出層の間の接着性を改
良することのできる方法は知られていなかった。この析
出層を持つ部品が短い波長（λ＜２５０ｎｍ）に応用さ
れると、ミラーを構成する積層体は１．５μｍを超えな
い膜厚の接着力を有し、積層体間の接着性の不足による
害は少ない。しかし、λ＝３５５ｎｍといった波長より
長い場合、そして可視光の範囲での応用ではミラー厚は
２．５μｍを越え、特に積層体内部が高い接着力を持つ
ことが必要とあり、そうでないと積層体の物理的な結合
を保持できない。
【００１６】問題の２つのフッ化物層の界面を接着する
酸化物系の中間層を用いて、これらの界面を強化するこ
とが考えられる。しかし、多層膜の積層体の場合、前記
中間層を加えることは析出工程を複雑にし界面の数を２
倍に増加させる。このことは、光学部品の本来の信頼
性、特に強いレーザ光の照射に対する抵抗性を損なう。
また、このことは前記界面での光拡散現象に結合した界
面数が増加することによって、最終の部品の光学損失を
増加させる。
酸化物系の中間層を用いて、これらの界面を強化するこ
とが考えられる。しかし、多層膜の積層体の場合、前記
中間層を加えることは析出工程を複雑にし界面の数を２
倍に増加させる。このことは、光学部品の本来の信頼
性、特に強いレーザ光の照射に対する抵抗性を損なう。
また、このことは前記界面での光拡散現象に結合した界
面数が増加することによって、最終の部品の光学損失を
増加させる。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明は、光学要素に適
用されるフッ化物材料の多層積層体において積層間の接
着性に欠けるという上述の問題を解決可能とする積層体
に関する。
用されるフッ化物材料の多層積層体において積層間の接
着性に欠けるという上述の問題を解決可能とする積層体
に関する。
【００１８】本発明によれば、光学要素に適用される、
第１層が高屈折率ｎ1、第２層がｎ1より低い屈折率ｎ2
の層が繰り替えされる多層のフッ化物積層体であって、
第１と第２の材料は、互いに明確に別種で安定な化合物
を形成可能な透明なフッ化物であり、第１の材料のそれ
ぞれの層と第２の材料のそれぞれの層の間の境界の少な
くとも一部は、前記明確に定義できる安定な化合物によ
って構成されていることを特徴としている。
第１層が高屈折率ｎ1、第２層がｎ1より低い屈折率ｎ2
の層が繰り替えされる多層のフッ化物積層体であって、
第１と第２の材料は、互いに明確に別種で安定な化合物
を形成可能な透明なフッ化物であり、第１の材料のそれ
ぞれの層と第２の材料のそれぞれの層の間の境界の少な
くとも一部は、前記明確に定義できる安定な化合物によ
って構成されていることを特徴としている。
【００１９】従って、本発明によれば、交互に繰り返さ
れる第１と第２の材料を構成するフッ化物を適切に選択
した結果、特に透明な波長範囲において、第１材料と第
２材料に極めて近い光学特性を持つ特に強固な境界層が
得られている。
れる第１と第２の材料を構成するフッ化物を適切に選択
した結果、特に透明な波長範囲において、第１材料と第
２材料に極めて近い光学特性を持つ特に強固な境界層が
得られている。
【００２０】また、第１と第２の材料の間の強い化学的
親和性によって、両材料間の接着性は大きく改善されて
いる。その上、形成される境界層は極めて薄い（数単原
子層）であり、このため、拡散に基づく光損失問題が回
避される。
親和性によって、両材料間の接着性は大きく改善されて
いる。その上、形成される境界層は極めて薄い（数単原
子層）であり、このため、拡散に基づく光損失問題が回
避される。
【００２１】本発明の第１の実施の形態によれば、境界
は両材料の組み合わせの結果である明確に定義できる安
定な化合物から構成されている。
は両材料の組み合わせの結果である明確に定義できる安
定な化合物から構成されている。
【００２２】この場合、積層体の構造は、定義できる化
合物によって主として形成された、数ナノメータの厚さ
の境界層によって互いに結合された第１と第２の材料が
交互に繰り返される連続層に相当する。
合物によって主として形成された、数ナノメータの厚さ
の境界層によって互いに結合された第１と第２の材料が
交互に繰り返される連続層に相当する。
【００２３】本発明の第２の実施の形態によれば、境界
層は、第１の材料と定義できる化合物の混合物、次い
で、第２の材料と定義できる化合物からなる段階的な層
であり、前記境界層の組成は、境界を通過するにつれて
第１の材料の組成から第２の材料の組成に連続的に変化
する。
層は、第１の材料と定義できる化合物の混合物、次い
で、第２の材料と定義できる化合物からなる段階的な層
であり、前記境界層の組成は、境界を通過するにつれて
第１の材料の組成から第２の材料の組成に連続的に変化
する。
【００２４】接着性に関しては、この場合の構造は本発
明の第１の実施の形態の構造と本質的に等しいが、境界
層は光損失が完全に取り除かれているという利点が付加
される。
明の第１の実施の形態の構造と本質的に等しいが、境界
層は光損失が完全に取り除かれているという利点が付加
される。
【００２５】本発明によれば、２つの材料として用いら
れるフッ化物は、それらの透明な波長範囲の関数として
選定される。すなわち、両材料が広い波長範囲、例え
ば、２００ｎｍから１２μｍに亘って透明であることが
特に大切である。それら材料は、また、明確に定義でき
る安定な化合物を形成するように選定される。
れるフッ化物は、それらの透明な波長範囲の関数として
選定される。すなわち、両材料が広い波長範囲、例え
ば、２００ｎｍから１２μｍに亘って透明であることが
特に大切である。それら材料は、また、明確に定義でき
る安定な化合物を形成するように選定される。
【００２６】高屈折率ｎ1 層の形成に適したフッ化物材
料としてＥｒＦ3、ＹＦ3、ＣｅＦ3、及びＢａＦ3があ
る。
料としてＥｒＦ3、ＹＦ3、ＣｅＦ3、及びＢａＦ3があ
る。
【００２７】低屈折率ｎ2層の製作に用いられるフッ化
物材料の例には、ＬｉＦ、ＫＦ、ＢａＦ2 といったフッ
化物がある。
物材料の例には、ＬｉＦ、ＫＦ、ＢａＦ2 といったフッ
化物がある。
【００２８】これらの材料は、特に、次の表１に示され
るように組み合わされる。
るように組み合わされる。
【００２９】
【表１】
【００３０】例えば、積層体の厚さは総計で０．１から
１００μｍである。
１００μｍである。
【００３１】本発明による境界層を得るために多層積層
体は、真空析出法、すなわち、望ましくは、本質的にエ
ネルギーの高い真空析出法、例えば、イオンビームスパ
ッタリングまたはＩＢＳを用いることによって形成する
ことができる。
体は、真空析出法、すなわち、望ましくは、本質的にエ
ネルギーの高い真空析出法、例えば、イオンビームスパ
ッタリングまたはＩＢＳを用いることによって形成する
ことができる。
【００３２】さらに、本発明は、第１と第２のフッ化物
材料の多層の積層体製造の方法に関し、この製造方法に
よれば、第１と第２の材料のそれぞれの層は、第１のフ
ッ化物材料と第２のフッ化物材料からそれぞれ構成され
るターゲットからイオンビームスパッタリングによって
析出される。
材料の多層の積層体製造の方法に関し、この製造方法に
よれば、第１と第２の材料のそれぞれの層は、第１のフ
ッ化物材料と第２のフッ化物材料からそれぞれ構成され
るターゲットからイオンビームスパッタリングによって
析出される。
【００３３】イオンビームスパッタリングのイオン源は
イオンビームを作ることのできるイオンガンであり、イ
オンビームは約５００から２０００ｅＶのエネルギーを
持つ。
イオンビームを作ることのできるイオンガンであり、イ
オンビームは約５００から２０００ｅＶのエネルギーを
持つ。
【００３４】２つの材料の組み合わせによって作られる
明確に定義できる安定な化合物で形成された境界層を構
成する場合、それらの材料のターゲットのそれぞれか
ら、連続的にかつ交互にスパッタリングが行われる。
明確に定義できる安定な化合物で形成された境界層を構
成する場合、それらの材料のターゲットのそれぞれか
ら、連続的にかつ交互にスパッタリングが行われる。
【００３５】反対に、累進的な境界層を作成する場合、
第２のイオン源を必要とし、１つの層から他の層への移
行は、一方のターゲットのスパッターのイオン電流を他
方に比べて時間的に調整して、同時に２つのターゲット
を用いてスパッターを行い、累進的で連続的な境界層の
組成プロファイルが得られる。
第２のイオン源を必要とし、１つの層から他の層への移
行は、一方のターゲットのスパッターのイオン電流を他
方に比べて時間的に調整して、同時に２つのターゲット
を用いてスパッターを行い、累進的で連続的な境界層の
組成プロファイルが得られる。
【００３６】本発明によって、蒸着に比較して数十倍ま
たは数百倍もの材料流を作り出すイオンビームスパッタ
リングを選択したことによって数多くの利点が得られ
る。
たは数百倍もの材料流を作り出すイオンビームスパッタ
リングを選択したことによって数多くの利点が得られ
る。
【００３７】すなわち、イオンビームスパッタリングに
よって、フッ化物層内に圧縮応力（数百ＭＰａ）を付与
することができ、この圧縮応力によって厚さが１００μ
ｍまでの層を形成することを可能となる。さらに、この
方法によって形成された層は、特別に高い比重（固体材
料の９０％以上）を持つ特徴が生ずる。従って、真空蒸
着または真空析出によって作られた層と違って、それら
は環境の変化に対して殆ど影響されない。それ故、周囲
の湿度の変化に対して、多層積層体の機械的応力及び光
学的応答は殆ど有意な変化は生じない。フッ化物材料が
水について極めて高い親和性を考慮すると、この多層積
層体が湿度による変化を受けないことは興味深い。
よって、フッ化物層内に圧縮応力（数百ＭＰａ）を付与
することができ、この圧縮応力によって厚さが１００μ
ｍまでの層を形成することを可能となる。さらに、この
方法によって形成された層は、特別に高い比重（固体材
料の９０％以上）を持つ特徴が生ずる。従って、真空蒸
着または真空析出によって作られた層と違って、それら
は環境の変化に対して殆ど影響されない。それ故、周囲
の湿度の変化に対して、多層積層体の機械的応力及び光
学的応答は殆ど有意な変化は生じない。フッ化物材料が
水について極めて高い親和性を考慮すると、この多層積
層体が湿度による変化を受けないことは興味深い。
【００３８】フッ化物に対してイオンビームスパッタリ
ング法を用いたことの利点の最後は、紫外域の低波長側
での光学的拡散を最小にできることである。
ング法を用いたことの利点の最後は、紫外域の低波長側
での光学的拡散を最小にできることである。
【００３９】従来のフッ化物の蒸着法によってミラーが
得られるが、このミラーの深い紫外域（例えば、１９３
ｎｍ）における動作特性は析出層の強い拡散のために極
めて限定される。
得られるが、このミラーの深い紫外域（例えば、１９３
ｎｍ）における動作特性は析出層の強い拡散のために極
めて限定される。
【００４０】
【発明の実施の形態】本発明のその他の特徴および利点
は、添付した図面を参照した以下の記述にまとめて示さ
れる。
は、添付した図面を参照した以下の記述にまとめて示さ
れる。
【００４１】図１は、本発明の第１の実施の形態による
多層積層体の２つの層の間の単独のの境界層の概略を示
す概略図である。図２は、本発明の第２の実施の形態に
よる多層積層体の２つの層間の組成の累進的な境界層を
示す図である。図３は、本発明による２つの多層積層体
の反射（Ｒ）と透過（Ｔ）を波長の関数としての示すグ
ラフである。図４は、フッ化物材料であるＹＦ3 及びＬ
ｉＦの屈折率（ｎ）を波長（ｎｍ表示）の関数として示
す図である。
多層積層体の２つの層の間の単独のの境界層の概略を示
す概略図である。図２は、本発明の第２の実施の形態に
よる多層積層体の２つの層間の組成の累進的な境界層を
示す図である。図３は、本発明による２つの多層積層体
の反射（Ｒ）と透過（Ｔ）を波長の関数としての示すグ
ラフである。図４は、フッ化物材料であるＹＦ3 及びＬ
ｉＦの屈折率（ｎ）を波長（ｎｍ表示）の関数として示
す図である。
【００４２】図５は、フッ化物であるＹＦ3 及びＬｉＦ
の吸光係数（ｋ）を波長（ｎｍ表示）の関数として示す
図である。図６は、ＹＦ3 とＬｉＦの層を交互に積層体
して作られたダイクロイックミラーの反射率（Ｒｓ）を
波長（ｎｍ表示）の関数として示す図である。図７は、
ＹＦ3 の吸光係数を比Ｆ／Ｙの関数として示すグラフで
ある。図８は、本発明によるダイクロミックミラーの反
射率（Ｒｓ）を波長の関数として示す図である。
の吸光係数（ｋ）を波長（ｎｍ表示）の関数として示す
図である。図６は、ＹＦ3 とＬｉＦの層を交互に積層体
して作られたダイクロイックミラーの反射率（Ｒｓ）を
波長（ｎｍ表示）の関数として示す図である。図７は、
ＹＦ3 の吸光係数を比Ｆ／Ｙの関数として示すグラフで
ある。図８は、本発明によるダイクロミックミラーの反
射率（Ｒｓ）を波長の関数として示す図である。
【００４３】次の記述において、第１の高屈折ｎ1のフ
ッ化物材料はフッ化イットリウムＹＦ3 であり、第２の
低屈折ｎ2 のフッ化物材料はフッ化リチウムＬｉＦであ
る。これら２つの材料を組み合わせると明瞭に定義でき
る化合物ＹＬｉＦ4 が生成される。この強い化学的親和
性によって、ＹＦ3 とＬｉＦの間の接着性は大幅に改良
される。このように生成された境界層は極めて厚さが薄
く（数原子のフィルム）、ＹＬＩＦ4 で構成されている
ので、その光学特性、特に透明な波長範囲はＹＦ3 及び
ＬｉＦと極めて近い。
ッ化物材料はフッ化イットリウムＹＦ3 であり、第２の
低屈折ｎ2 のフッ化物材料はフッ化リチウムＬｉＦであ
る。これら２つの材料を組み合わせると明瞭に定義でき
る化合物ＹＬｉＦ4 が生成される。この強い化学的親和
性によって、ＹＦ3 とＬｉＦの間の接着性は大幅に改良
される。このように生成された境界層は極めて厚さが薄
く（数原子のフィルム）、ＹＬＩＦ4 で構成されている
ので、その光学特性、特に透明な波長範囲はＹＦ3 及び
ＬｉＦと極めて近い。
【００４４】指摘したい点は、ＹＦ3 は波長が０．２か
ら１３μｍに亘る広い光学スペクトル範囲において透明
であり、ＬｉＦもまた０．１から５μｍの広い光学スペ
クトル範囲に亘って透明であることである。
ら１３μｍに亘る広い光学スペクトル範囲において透明
であり、ＬｉＦもまた０．１から５μｍの広い光学スペ
クトル範囲に亘って透明であることである。
【００４５】本発明の第１の実施の形態による積層体を
作成するため、２つの材料はＹＦ3ターゲットとＬｉＦ
ターゲットによるイオンビームスパッタリングによって
交互に析出され、それぞれの層は相当するターゲットか
らのスパッタリングによって得られた。この場合に得ら
れる境界層は図１に示す。図１に示されるように、第１
材料ＹＦ3 の層と、第２材料ＬｉＦの層との間にＹＬｉ
Ｆ4 からなる境界層が見られる。境界層の厚さは極めて
薄い（２−３ｎｍ程度）。
作成するため、２つの材料はＹＦ3ターゲットとＬｉＦ
ターゲットによるイオンビームスパッタリングによって
交互に析出され、それぞれの層は相当するターゲットか
らのスパッタリングによって得られた。この場合に得ら
れる境界層は図１に示す。図１に示されるように、第１
材料ＹＦ3 の層と、第２材料ＬｉＦの層との間にＹＬｉ
Ｆ4 からなる境界層が見られる。境界層の厚さは極めて
薄い（２−３ｎｍ程度）。
【００４６】図２は、本発明の第２の実施の形態により
得られた境界層を示す。この場合、上述と同様のターゲ
ットを用いて、２つのイオンスパッタソースによって、
イオンビームスパッタリングによって積層体を作成して
いる。この二つのイオンスパタリングソースを用いて、
時間の関数として、一方のターゲットへのイオンスパッ
ター電流を他方のターゲットのイオンスパッター電流に
対して調整し、純粋なＹＦ3 と純粋なＬｉＦの間の連続
的に変化する境界層の組成プロファイルを作り出す。
得られた境界層を示す。この場合、上述と同様のターゲ
ットを用いて、２つのイオンスパッタソースによって、
イオンビームスパッタリングによって積層体を作成して
いる。この二つのイオンスパタリングソースを用いて、
時間の関数として、一方のターゲットへのイオンスパッ
ター電流を他方のターゲットのイオンスパッター電流に
対して調整し、純粋なＹＦ3 と純粋なＬｉＦの間の連続
的に変化する境界層の組成プロファイルを作り出す。
【００４７】図２に見られるように、この場合には、Ｙ
Ｆ3 の層とＬｉＦの層との境界層は、ＹＦ３、ＬｉＦ及
びＹＬｉＦ4 の混合物で構成される。境界層のＹＦ3 の
濃度は、時間の関数として、図２に示されるように直線
的に１００％から０％まで変化させ、一方ＬｉＦの濃度
は、境界層の形成時間に相当する同じ時間の間、０％か
ら１００％に変化させる（図２（Ｃ））。
Ｆ3 の層とＬｉＦの層との境界層は、ＹＦ３、ＬｉＦ及
びＹＬｉＦ4 の混合物で構成される。境界層のＹＦ3 の
濃度は、時間の関数として、図２に示されるように直線
的に１００％から０％まで変化させ、一方ＬｉＦの濃度
は、境界層の形成時間に相当する同じ時間の間、０％か
ら１００％に変化させる（図２（Ｃ））。
【００４８】イオンビームスパッタリングによって製造
されたＬｉＦ層とＹＦ3 の特性は、次の通りである。 ーＹＦ3 : ３５５ｎｍにおけるｎ1＝１．５４±０．２ −ＬｉＦ：３５５ｎｍにおけるｎ2＝１．４１±０．２ ー各層の３５５ｎｍにおける吸光係数Ｋ≦１．１０-3
されたＬｉＦ層とＹＦ3 の特性は、次の通りである。 ーＹＦ3 : ３５５ｎｍにおけるｎ1＝１．５４±０．２ −ＬｉＦ：３５５ｎｍにおけるｎ2＝１．４１±０．２ ー各層の３５５ｎｍにおける吸光係数Ｋ≦１．１０-3
【００４９】次の実施例１に、ＹＦ3 とＬｉＦを交互に
積層体して形成された多層積層体の製造を示す。
積層体して形成された多層積層体の製造を示す。
【００５０】実施例１：４層の交互層の積層体 この積層体を製作するため、１１００ｅＶのエネルギー
のイオンビームを放射するイオンガンを用い、さらに２
つのＹＦ3 ターゲットとＬｉＦターゲットを用いたイオ
ンビームスパッタリング装置を用いた。そして、シリカ
基板上にＹＦ3とＬｉＦの層、すなわち、２層のＹＦ3
層と、２層のＬｉＦ層を交互に析出した４層であって、
ＹＦ3 が５８μｍ、ＬｉＦが６４μｍの厚さの層を析出
した。
のイオンビームを放射するイオンガンを用い、さらに２
つのＹＦ3 ターゲットとＬｉＦターゲットを用いたイオ
ンビームスパッタリング装置を用いた。そして、シリカ
基板上にＹＦ3とＬｉＦの層、すなわち、２層のＹＦ3
層と、２層のＬｉＦ層を交互に析出した４層であって、
ＹＦ3 が５８μｍ、ＬｉＦが６４μｍの厚さの層を析出
した。
【００５１】次いで、積層体の光学的応答、すなわち、
反射Ｒと透過Ｔを波長（ｎｍ表示）の関数として測定し
た。図３の破線の曲線Ｒ１とＴ１はそれぞれ前期積層体
について得られた結果を示す。
反射Ｒと透過Ｔを波長（ｎｍ表示）の関数として測定し
た。図３の破線の曲線Ｒ１とＴ１はそれぞれ前期積層体
について得られた結果を示す。
【００５２】実施例２：６層の交互層で構成された積層
体の製造 実施例１と同様の操作手順によって、ＹＦ3 とＬｉＦの
交互層（３層のＹＦ３層と３層のＬｉＦ層）が析出さ
れ、積層体の光学的応答が測定された。
体の製造 実施例１と同様の操作手順によって、ＹＦ3 とＬｉＦの
交互層（３層のＹＦ３層と３層のＬｉＦ層）が析出さ
れ、積層体の光学的応答が測定された。
【００５３】得られた結果は図３に示した。ここで、曲
線Ｒ２は前記積層体の反射を、また曲線Ｔ２は透過を示
す。多数の析出層の結果によれば、ＹＦ３／ＬｉＦのペ
アーを用いると、積層体の光学的応答を調整させること
が可能であった。さらに、レーザ照射に対し、特に紫外
線中で安定な挙動を示したので、この種の多層膜は保護
層として使用可能である。積層体の破損状況を調べる
と、レーザ照射の損傷に関わらず、積層体は基板から浮
き上がるが、交互のフッ化物層間の剥離は見られず、Ｙ
Ｆ３ ／ＬｉＦの結合は極めて安定であることが認めら
れた。
線Ｒ２は前記積層体の反射を、また曲線Ｔ２は透過を示
す。多数の析出層の結果によれば、ＹＦ３／ＬｉＦのペ
アーを用いると、積層体の光学的応答を調整させること
が可能であった。さらに、レーザ照射に対し、特に紫外
線中で安定な挙動を示したので、この種の多層膜は保護
層として使用可能である。積層体の破損状況を調べる
と、レーザ照射の損傷に関わらず、積層体は基板から浮
き上がるが、交互のフッ化物層間の剥離は見られず、Ｙ
Ｆ３ ／ＬｉＦの結合は極めて安定であることが認めら
れた。
【００５４】実施例３：λ＝３ω（３５１ｎｍ）に中心
波長を持つダイクロミックミラー この積層体を製作する前に、ＹＦ3 とＬｉＦの単独層の
光学特性を３００から８００ｎｍの波長範囲で測定し
た。図４の曲線は波長の関数としてのＹＦ３とＬｉＦの
屈折率（ｎ）の変化を示す。図５は、波長の関数として
の吸光係数（ｋ）の変化を示している。
波長を持つダイクロミックミラー この積層体を製作する前に、ＹＦ3 とＬｉＦの単独層の
光学特性を３００から８００ｎｍの波長範囲で測定し
た。図４の曲線は波長の関数としてのＹＦ３とＬｉＦの
屈折率（ｎ）の変化を示す。図５は、波長の関数として
の吸光係数（ｋ）の変化を示している。
【００５５】これらの特徴に基づいて、ＹＦ3 及びＬｉ
Ｆの厚さｅ1 及びｅ2 で、ｎｅ＝λ／４とされた交互層
から構成される積層体が製造された。層厚はそれぞれＹ
Ｆ3に対する ｅ1＝５８ｎｍ、ＬｉＦに対する ｅ2＝６
４ｎｍであった。積層体は、最初にＹＦ3 で出発し、最
後にＹＦ3 で終了する６１層の交互層で構成された。積
層体の全体の厚さは３．７μｍであった。
Ｆの厚さｅ1 及びｅ2 で、ｎｅ＝λ／４とされた交互層
から構成される積層体が製造された。層厚はそれぞれＹ
Ｆ3に対する ｅ1＝５８ｎｍ、ＬｉＦに対する ｅ2＝６
４ｎｍであった。積層体は、最初にＹＦ3 で出発し、最
後にＹＦ3 で終了する６１層の交互層で構成された。積
層体の全体の厚さは３．７μｍであった。
【００５６】図６の曲線Ｒ３は、この積層体の反射率を
波長の関数として示している。明らかに、３５１ｎｍに
おいて最大の反射率である９７％が得られている。
波長の関数として示している。明らかに、３５１ｎｍに
おいて最大の反射率である９７％が得られている。
【００５７】実施例４：３５１ｎｍに中心波長をもつダ
イクロミックミラー この例においては、ＬｉＦとＹＦ3 のターゲットを用い
て、ＹＦ3 とＬｉＦの交互層からなる積層体を製作し
た。化学量論に可能な限り近い組成とすることによっ
て、この積層体の３５５ｎｍにおける吸光係数は、５ｘ
１０-5とされた。
イクロミックミラー この例においては、ＬｉＦとＹＦ3 のターゲットを用い
て、ＹＦ3 とＬｉＦの交互層からなる積層体を製作し
た。化学量論に可能な限り近い組成とすることによっ
て、この積層体の３５５ｎｍにおける吸光係数は、５ｘ
１０-5とされた。
【００５８】図７は、ＹＦ3 の３５５ｎｍにおける吸光
係数（ｋ）の変化をＹＦ３層内のＦ／Ｙの比の関数とし
て示している。吸光係数は、１．６ｘ１０ー5程度に低
い。
係数（ｋ）の変化をＹＦ３層内のＦ／Ｙの比の関数とし
て示している。吸光係数は、１．６ｘ１０ー5程度に低
い。
【００５９】ＹＦ3 とＬｉＦの５１層の交互層２５（Ｈ
Ｂ）Ｈからなり、かつＹＦ３に始まるＹＦ3 に終わるミ
ラーを構成する積層体の厚さは、３．１μｍである。
Ｂ）Ｈからなり、かつＹＦ３に始まるＹＦ3 に終わるミ
ラーを構成する積層体の厚さは、３．１μｍである。
【００６０】析出時に析出層のフッ化を付加することに
よって、例えば、ＹＦ３ターゲットをフッ素ガス雰囲気
（ＣＦ４）中で反応性スパッタリングを行うことによっ
て、Ｆ／Ｙの比を増加させることができる。
よって、例えば、ＹＦ３ターゲットをフッ素ガス雰囲気
（ＣＦ４）中で反応性スパッタリングを行うことによっ
て、Ｆ／Ｙの比を増加させることができる。
【００６１】図７に示すように、上述の方法で析出層の
組成を改良することによって、組成比Ｆ／Ｙを固体のそ
れに近づけることがことができ、光の吸収を低減するこ
とができる。
組成を改良することによって、組成比Ｆ／Ｙを固体のそ
れに近づけることがことができ、光の吸収を低減するこ
とができる。
【００６２】上記ミラーの反射特性、すなわち、ミラー
の反射率の波長依存性が図８に示されている。２５（Ｈ
Ｂ）Ｈによって構成された積層体は、３５１ｎｍにおい
て、最大反射率９９％を有することは特筆すべきことで
ある。
の反射率の波長依存性が図８に示されている。２５（Ｈ
Ｂ）Ｈによって構成された積層体は、３５１ｎｍにおい
て、最大反射率９９％を有することは特筆すべきことで
ある。
【００６３】しかし、実施例３に示す反射特性、すなわ
ち低い透明性の層を有する同様に制作されたミラーにお
いては、反射率は９５％を越えない（図６の曲線
Ｒ’）。
ち低い透明性の層を有する同様に制作されたミラーにお
いては、反射率は９５％を越えない（図６の曲線
Ｒ’）。
【００６４】実施例５：トリクロイックミラー この実施例においては、λ＝３ωにおいて最大の反射率
を有し、λ＝２ω、及びλ＝ωにおいて、非反射性の特
性を持つミラーが製作された。この特性を得るため、実
施例４に用いられたと同じ特性を持つＹＦ３及びＬｉＦ
層を用いたが、しかし、層の厚さは、各層ごとに同じ厚
さとしてはいない。２つの材料ともに、１０ｎｍから１
００ｎｍの範囲で厚さを変えている。（上記の光学特性
を得るために、幾つかの可能な層の構成法がある。）
を有し、λ＝２ω、及びλ＝ωにおいて、非反射性の特
性を持つミラーが製作された。この特性を得るため、実
施例４に用いられたと同じ特性を持つＹＦ３及びＬｉＦ
層を用いたが、しかし、層の厚さは、各層ごとに同じ厚
さとしてはいない。２つの材料ともに、１０ｎｍから１
００ｎｍの範囲で厚さを変えている。（上記の光学特性
を得るために、幾つかの可能な層の構成法がある。）
【００６５】本発明によって得られた多層積層体は、紫
外線ミラー、特に、１９３ｎｍ、２４８ｎｍ、３５５ｎ
ｍ、といった波長での紫外線ミラーの製作のために用い
ることができるし、また、高いレーザー作用に対して抵
抗性のあるより複雑な機能部品（トリクロニックミラ
ー、分光フィルター）の作成に用いられる。また、この
積層体は、すでに構成されている光学製品、例えば、酸
化物ミラーのレーザ照射に対する抵抗性を上げるために
保護膜として使用することができる。また、この積層体
は、紫外、可視、赤外の波長範囲での反射防止膜として
適している。この積層体は、これらの特性を要求するい
かなる用途に対しても、光学的、機械的に安定だからで
ある。
外線ミラー、特に、１９３ｎｍ、２４８ｎｍ、３５５ｎ
ｍ、といった波長での紫外線ミラーの製作のために用い
ることができるし、また、高いレーザー作用に対して抵
抗性のあるより複雑な機能部品（トリクロニックミラ
ー、分光フィルター）の作成に用いられる。また、この
積層体は、すでに構成されている光学製品、例えば、酸
化物ミラーのレーザ照射に対する抵抗性を上げるために
保護膜として使用することができる。また、この積層体
は、紫外、可視、赤外の波長範囲での反射防止膜として
適している。この積層体は、これらの特性を要求するい
かなる用途に対しても、光学的、機械的に安定だからで
ある。
【図１】 本発明の第１の実施の形態による多層積層体
の２つの層の間の単独のの境界層の概略を示す概略図で
ある。
の２つの層の間の単独のの境界層の概略を示す概略図で
ある。
【図２】 本発明の第２の実施の形態による多層積層体
の２つの層間の組成の累進的な境界層を示す図である。
の２つの層間の組成の累進的な境界層を示す図である。
【図３】 本発明による２つの多層積層体の反射（Ｒ）
と透過（Ｔ）を波長の関数としての示すグラフである。
と透過（Ｔ）を波長の関数としての示すグラフである。
【図４】 フッ化物材料であるＹＦ3 及びＬｉＦの屈折
率（ｎ）を波長（ｎｍ表示）の関数として示す図であ
る。
率（ｎ）を波長（ｎｍ表示）の関数として示す図であ
る。
【図５】 フッ化物であるＹＦ3 及びＬｉＦの吸光係数
（ｋ）を波長（ｎｍ表示）の関数として示す図である。
（ｋ）を波長（ｎｍ表示）の関数として示す図である。
【図６】 ＹＦ3 とＬｉＦの層を交互に積層体して作ら
れたダイクロイックミラーの反射率（Ｒｓ）を波長（ｎ
ｍ表示）の関数として示す図である。
れたダイクロイックミラーの反射率（Ｒｓ）を波長（ｎ
ｍ表示）の関数として示す図である。
【図７】 ＹＦ3 の吸光係数を比Ｆ／Ｙの関数として示
すグラフである。
すグラフである。
【図８】 本発明によるダイクロミックミラーの反射率
（Ｒｓ）を波長の関数として示す図である。
（Ｒｓ）を波長の関数として示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジャン−イヴ・ロビック フランス・38100・グレノーブル・プラ ス・ルイ・ジューヴェ・８ (72)発明者 ベルナール・ローラン フランス・38240・メラン・リュ・デ・エ ギナール・51・アー (72)発明者 ジャン・ディジョン フランス・38800・シャンパニエール・ア レ・デ・ルースロール（番地なし)
Claims (11)
- 【請求項１】 第１の高屈折ｎ1の材料及び第２のｎ1よ
り低いｎ2の低屈折材料が交互に積層された層によって
構成された光学要素用のフッ化物の多層積層体であっ
て、第１材料及び第２材料は明確に定義できる安定な化
合物を形成することが可能な透明なフッ化物材料であ
り、第１材料のそれぞれの層と第２材料のそれぞれの層
の境界層は、その少なくとも一部が前記明確に定義でき
る安定な化合物によって構成されていることを特徴とす
るフッ化物材料の積層体。 - 【請求項２】 境界層は２種の材料の組み合わせから得
られる定義できる安定な化合物から構成されることを特
徴とする請求項１に記載の積層体。 - 【請求項３】 境界層は第１材料と定義できる材料、さ
らに、第２材料と定義できる化合物の混合物からなる段
階的な境界層であり、第１材料の組成から第２材料の組
成へと累進的に変化することを特徴とする請求項１に記
載の積層体。 - 【請求項４】 第１材料は、ＥｒＦ3、ＹＦ3、ＣｅＦ3
及びＢａＦ2 から選定され、第２材料はＬｉＦ、ＫＦ、
ＢａＦ2，ＡｌＦ3の中から選定されることを特徴とする
請求項１から３までのいずれか１つに記載の積層体。 - 【請求項５】 境界層の定義できる化合物は、ＹＬｉＦ
4、Ｙ3ＫＦ10、ＬｉＥｒＦ4、ＫＣｅＦ4、Ｋ3ＣｅＦ6、
ＢａＡＬＦ9、ＢａＡｌＦ5、Ｂａ2Ａｌ3Ｆ13、Ｂａ2Ｙ2
Ｆ10、及びＹＢａＦ5 の中から選定されることを特徴と
する請求項４に記載の積層体。 - 【請求項６】 第１材料がＹＦ3 であり、第２材料がＬ
ｉＦであり、かつ定義できる化合物はＹＬｉＦ4 である
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載
の積層体。 - 【請求項７】 積層体の厚さの総計が０．１から１００
μｍであることを特徴とする請求項１から６までのいず
れか１つに記載の積層体。 - 【請求項８】 第１材料のターゲットと第２材料のター
ゲットをイオンビームによって交互にスパッタリングす
る真空析出によって積層の各層を連続的に析出させるこ
とを特徴とする請求項２に記載の多層積層体を製造する
ための方法。 - 【請求項９】 第１材料のターゲット及び第２材料のタ
ーゲットからのイオンビームスパッタリングによる真空
析出法によって積層体の各層が連続的に析出され、その
析出に際して、第１材料と次いで第２材料を交互に析出
し、第１材料の層から第２材料の層に移行する際は、一
方のターゲットのイオン電流を他のターゲットのイオン
電流と時間的に調整することによって第１材料と第２材
料を同時に析出させ、２つの連続する層の間に、組成が
累進的連続的に変化する境界層を得ることを特徴とする
請求項３による多層積層体の製造方法。 - 【請求項１０】 請求項１から７までのいずれか１つに
記載の多層積層体を有する光学要素。 - 【請求項１１】 積層体は、ミラー、特殊フィルターま
たは反射防止膜として用いられることを特徴とする請求
項１０に記載の光学要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9607759 | 1996-06-21 | ||
| FR9607759A FR2750216B1 (fr) | 1996-06-21 | 1996-06-21 | Empilement multicouche de materiaux fluorures, utilisable en optique et son procede de fabrication |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1067078A true JPH1067078A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=9493307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9163081A Withdrawn JPH1067078A (ja) | 1996-06-21 | 1997-06-19 | 光学要素とその製造に用いられるフッ化物材料の多層積層体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5879820A (ja) |
| EP (1) | EP0814350B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1067078A (ja) |
| DE (1) | DE69721386D1 (ja) |
| FR (1) | FR2750216B1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4161387B2 (ja) * | 1997-01-23 | 2008-10-08 | 株式会社ニコン | 多層反射防止膜 |
| DE19735832A1 (de) * | 1997-08-18 | 1999-02-25 | Zeiss Carl Fa | Operationsmikroskop mit einem Interferenzfilter und Interferenzfilter |
| FR2795183A1 (fr) * | 1999-06-15 | 2000-12-22 | Commissariat Energie Atomique | Composant optique protege contre le vieillissement |
| US6304383B1 (en) * | 1999-09-17 | 2001-10-16 | Corning Incorporated | Controlled stress thermal compensation for filters |
| US6480330B1 (en) * | 2000-02-24 | 2002-11-12 | Silicon Valley Group, Inc. | Ultraviolet polarization beam splitter for microlithography |
| US7414785B2 (en) * | 2000-02-24 | 2008-08-19 | Asml Holding N.V. | Ultraviolet polarization beam splitter with minimum apodization |
| DE10119909B4 (de) * | 2001-04-23 | 2005-04-21 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Inspektionsmikroskop für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich und Reflexionsminderungsschicht für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich |
| GB2396436B (en) * | 2002-12-19 | 2006-06-28 | Thales Plc | An optical filter |
| JP5586687B2 (ja) * | 2010-03-17 | 2014-09-10 | 株式会社東芝 | ミラー |
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