JPH1069876A - 質量分析装置用直接試料導入プローブのフィラメント - Google Patents
質量分析装置用直接試料導入プローブのフィラメントInfo
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- JPH1069876A JPH1069876A JP8247280A JP24728096A JPH1069876A JP H1069876 A JPH1069876 A JP H1069876A JP 8247280 A JP8247280 A JP 8247280A JP 24728096 A JP24728096 A JP 24728096A JP H1069876 A JPH1069876 A JP H1069876A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置の直接
試料導入プローブの先端に備えたフィラメントに、試料
を容易にサンプリングして安定的に保持できるようにす
るとともに、試料をフィラメントで抵抗加熱して気化さ
せる際に、イオン源フィラメントからの熱電子による影
響を排除する。 【解決手段】 質量分析における試料のイオン化をイオ
ン源フィラメントからの熱電子により行う脱離型電子衝
撃イオン化質量分析装置に試料を直接導入するための直
接試料導入プローブの先端に設けられ、試料ホルダーと
して機能し且つ試料加熱手段として機能するフィラメン
ト１において、その表面に試料を保持するための凹部１
ｂを、イオン源フィラメントからの熱電子による影響を
実質的に受けない位置に設ける。
試料導入プローブの先端に備えたフィラメントに、試料
を容易にサンプリングして安定的に保持できるようにす
るとともに、試料をフィラメントで抵抗加熱して気化さ
せる際に、イオン源フィラメントからの熱電子による影
響を排除する。 【解決手段】 質量分析における試料のイオン化をイオ
ン源フィラメントからの熱電子により行う脱離型電子衝
撃イオン化質量分析装置に試料を直接導入するための直
接試料導入プローブの先端に設けられ、試料ホルダーと
して機能し且つ試料加熱手段として機能するフィラメン
ト１において、その表面に試料を保持するための凹部１
ｂを、イオン源フィラメントからの熱電子による影響を
実質的に受けない位置に設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、質量分析における
試料のイオン化を、イオン源フィラメントからの熱電子
により行う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置に関す
る。特に、質量分析装置に試料を導入するための直接試
料導入プローブ並びにその先端に設けられ、試料ホルダ
ーとして機能するフィラメントに関する。
試料のイオン化を、イオン源フィラメントからの熱電子
により行う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置に関す
る。特に、質量分析装置に試料を導入するための直接試
料導入プローブ並びにその先端に設けられ、試料ホルダ
ーとして機能するフィラメントに関する。
【０００２】
【従来の技術】質量分析装置は様々な物質を高感度分析
（１０-9〜１０-10 ｇオーダー）できる分析装置である
が、最高感度付近での極微量分析においては試料の全量
を無駄なくイオン源内に導入できる直接試料導入プロー
ブが用いられる。中でも、脱離型電子衝撃イオン化プロ
ーブは、試料をイオン源内のイオン化領域にまで直接導
入することができるため、極微量試料の分析に適してい
る。
（１０-9〜１０-10 ｇオーダー）できる分析装置である
が、最高感度付近での極微量分析においては試料の全量
を無駄なくイオン源内に導入できる直接試料導入プロー
ブが用いられる。中でも、脱離型電子衝撃イオン化プロ
ーブは、試料をイオン源内のイオン化領域にまで直接導
入することができるため、極微量試料の分析に適してい
る。
【０００３】このような脱離型電子衝撃イオン化プロー
ブを備えた質量分析装置は、図３に示すような構成とな
っている。即ち、試料ホルダーとして且つ試料加熱手段
として機能するフィラメント１が先端に設けられた脱離
型電子衝撃イオン化プローブ２が、内圧が高真空度（１
０-3〜１０-4Ｐａ）に設定されているイオン源３に挿入
されている。ここでフィラメント１は、通常約１００μ
ｍ径の白金ワイヤーから構成されており、イオン源３の
内部の高真空度（１０-3〜１０-4Ｐａ）に設定されてい
るイオン化室４に挿入されている。イオン化室４には、
気化した試料を電子衝撃によりイオン化するための熱電
子を発生するレニウム線などからなるイオン源フィラメ
ント７が、フィラメント１の先端領域１ａの下方に設け
られている。また、イオン化室４には、イオン化された
試料を検出器（図示せず）方向へ通過させるための穴５
が設けられており、その穴５の上方にはレンズ系を構成
する電極群６が設けられている。
ブを備えた質量分析装置は、図３に示すような構成とな
っている。即ち、試料ホルダーとして且つ試料加熱手段
として機能するフィラメント１が先端に設けられた脱離
型電子衝撃イオン化プローブ２が、内圧が高真空度（１
０-3〜１０-4Ｐａ）に設定されているイオン源３に挿入
されている。ここでフィラメント１は、通常約１００μ
ｍ径の白金ワイヤーから構成されており、イオン源３の
内部の高真空度（１０-3〜１０-4Ｐａ）に設定されてい
るイオン化室４に挿入されている。イオン化室４には、
気化した試料を電子衝撃によりイオン化するための熱電
子を発生するレニウム線などからなるイオン源フィラメ
ント７が、フィラメント１の先端領域１ａの下方に設け
られている。また、イオン化室４には、イオン化された
試料を検出器（図示せず）方向へ通過させるための穴５
が設けられており、その穴５の上方にはレンズ系を構成
する電極群６が設けられている。
【０００４】このような質量分析装置において質量分析
を行う場合、まず、試料を保持しているフィラメント１
に電流を流して抵抗加熱して試料を気化させ、その気化
した試料に、イオン源フィラメント７から放出された熱
電子を衝突させてイオン化する。生成イオンは、穴５を
通過して電極群６により収束されて検出器（図示せず）
へ到達し、その質量が分析される。
を行う場合、まず、試料を保持しているフィラメント１
に電流を流して抵抗加熱して試料を気化させ、その気化
した試料に、イオン源フィラメント７から放出された熱
電子を衝突させてイオン化する。生成イオンは、穴５を
通過して電極群６により収束されて検出器（図示せず）
へ到達し、その質量が分析される。
【０００５】ところで、このようなプローブを用いて極
微量試料を質量分析する際には、これらのプローブに設
けられたフィラメントに試料をサンプリングすることが
必要となるが、この場合、極微量の試料をマニュピュレ
ーターの針先に採取し、その針先に採取した試料をフィ
ラメントの先端に擦りつけることによりサンプリングが
行われている。
微量試料を質量分析する際には、これらのプローブに設
けられたフィラメントに試料をサンプリングすることが
必要となるが、この場合、極微量の試料をマニュピュレ
ーターの針先に採取し、その針先に採取した試料をフィ
ラメントの先端に擦りつけることによりサンプリングが
行われている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４に
示すように、プローブに設けられたフィラメント１の先
端領域１ａ近傍の平面図（同図（ａ））におけるｘ−ｘ
断面が、非常に小さな直径の円形（同図（ｂ））なの
で、その上に試料を擦りつけてサンプリングすることが
困難であり、また、うまくサンプリングできたとして
も、しっかりとフィラメント１上に試料が固定されてい
ないので、質量分析装置のイオン源にプローブを挿入す
る以前に試料を紛失してしまうこともある。
示すように、プローブに設けられたフィラメント１の先
端領域１ａ近傍の平面図（同図（ａ））におけるｘ−ｘ
断面が、非常に小さな直径の円形（同図（ｂ））なの
で、その上に試料を擦りつけてサンプリングすることが
困難であり、また、うまくサンプリングできたとして
も、しっかりとフィラメント１上に試料が固定されてい
ないので、質量分析装置のイオン源にプローブを挿入す
る以前に試料を紛失してしまうこともある。
【０００７】しかも、フィラメント１の先端に試料をサ
ンプリングするために、イオン源フィラメント７からの
熱電子が試料に直接衝突することとなり、フィラメント
１の加熱前に、即ち、質量分析開始前に試料がすべて気
化してしまうために分析が不可能となる場合があった。
ンプリングするために、イオン源フィラメント７からの
熱電子が試料に直接衝突することとなり、フィラメント
１の加熱前に、即ち、質量分析開始前に試料がすべて気
化してしまうために分析が不可能となる場合があった。
【０００８】本発明は、以上のような従来の技術の課題
を解決しようとするものであり、質量分析における試料
のイオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により
行う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置に試料を直接
導入するための直接試料導入プローブの先端に備えたフ
ィラメントに、試料を容易にサンプリングでき且つサン
プリングした試料を安定的に保持できるようにし、しか
も試料をフィラメントにより抵抗加熱して気化させる際
に、イオン源フィラメントからの熱電子による影響を受
けないようにすることを目的とする。
を解決しようとするものであり、質量分析における試料
のイオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により
行う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置に試料を直接
導入するための直接試料導入プローブの先端に備えたフ
ィラメントに、試料を容易にサンプリングでき且つサン
プリングした試料を安定的に保持できるようにし、しか
も試料をフィラメントにより抵抗加熱して気化させる際
に、イオン源フィラメントからの熱電子による影響を受
けないようにすることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、試料を抵抗
加熱により気化させるためのフィラメントの表面に凹部
を設け、しかもその凹部をイオン源フィラメントからの
熱電子による影響を実質的に受けない位置に設けること
により上述の目的を達成できることを見出し、本発明を
完成させるに至った。
加熱により気化させるためのフィラメントの表面に凹部
を設け、しかもその凹部をイオン源フィラメントからの
熱電子による影響を実質的に受けない位置に設けること
により上述の目的を達成できることを見出し、本発明を
完成させるに至った。
【００１０】即ち、本発明は、質量分析における試料の
イオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により行
う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置に試料を直接導
入するための直接試料導入プローブの先端に設けられ、
試料ホルダーとして機能し且つ試料加熱手段として機能
するフィラメントにおいて、試料を保持するための凹部
が、イオン源フィラメントからの熱電子による影響を実
質的に受けない位置に設けられていることを特徴とする
フィラメントを提供する。
イオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により行
う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置に試料を直接導
入するための直接試料導入プローブの先端に設けられ、
試料ホルダーとして機能し且つ試料加熱手段として機能
するフィラメントにおいて、試料を保持するための凹部
が、イオン源フィラメントからの熱電子による影響を実
質的に受けない位置に設けられていることを特徴とする
フィラメントを提供する。
【００１１】また、本発明は、質量分析における試料の
イオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により行
う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置に試料を直接導
入するための直接試料導入プローブであって、その先端
に試料ホルダーとして機能し且つ試料加熱手段として機
能するフィラメントが設けられた直接試料導入プローブ
において、フィラメントの表面に試料を保持するための
凹部が、イオン源フィラメントからの熱電子による影響
を実質的に受けない位置に設けられていることを特徴と
する直接試料導入プローブを提供する。
イオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により行
う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置に試料を直接導
入するための直接試料導入プローブであって、その先端
に試料ホルダーとして機能し且つ試料加熱手段として機
能するフィラメントが設けられた直接試料導入プローブ
において、フィラメントの表面に試料を保持するための
凹部が、イオン源フィラメントからの熱電子による影響
を実質的に受けない位置に設けられていることを特徴と
する直接試料導入プローブを提供する。
【００１２】更に、本発明は、質量分析における試料の
イオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により行
う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置であって、試料
ホルダーとして機能し且つ試料加熱手段として機能する
フィラメントが先端に設けられた直接試料導入プローブ
を備えた質量分析装置において、フィラメントの表面に
試料を保持するための凹部が、イオン源フィラメントか
らの熱電子による影響を実質的に受けない位置に設けら
れていることを特徴とする質量分析装置を提供する。
イオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により行
う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置であって、試料
ホルダーとして機能し且つ試料加熱手段として機能する
フィラメントが先端に設けられた直接試料導入プローブ
を備えた質量分析装置において、フィラメントの表面に
試料を保持するための凹部が、イオン源フィラメントか
らの熱電子による影響を実質的に受けない位置に設けら
れていることを特徴とする質量分析装置を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照しなが
ら詳細に説明する。
ら詳細に説明する。
【００１４】本発明のフィラメントは、機能的には従来
のフィラメントと同様に、試料を保持する試料ホルダー
として機能するとともに、電気を導通することにより自
ら発熱し、試料を加熱気化させるための加熱手段として
機能する。このため、本発明のフィラメント１は、導電
性の細いワイヤーを、図１（ａ）の平面図に示すよう
に、屈曲させた構造となっている。ここで、先端領域１
ａにはイオン源フィラメントからの熱電子が衝突してし
まうので、本発明においては、試料を保持するための凹
部１ｂを、イオン源フィラメントからの熱電子による影
響を実質的に受けない位置、即ち、先端領域１ａ以外の
フィラメント１の表面に設ける。凹部１ｂのｘ−ｘ断面
図の例を図１（ｂ）に示す。このように凹部１ｂを設け
ることにより、その部分にマニュピュレーターの針先で
極微量の試料を擦りつけた場合に、容易にサンプリング
することができ、しかもサンプリングした試料の保持性
が向上し、質量分析装置のイオン源にプローブを挿入す
る以前に試料を紛失してしまうことを防止することがで
きる。また、イオン源フィラメントからの熱電子が直接
衝突しないために、熱電子による影響を排除することが
できる。
のフィラメントと同様に、試料を保持する試料ホルダー
として機能するとともに、電気を導通することにより自
ら発熱し、試料を加熱気化させるための加熱手段として
機能する。このため、本発明のフィラメント１は、導電
性の細いワイヤーを、図１（ａ）の平面図に示すよう
に、屈曲させた構造となっている。ここで、先端領域１
ａにはイオン源フィラメントからの熱電子が衝突してし
まうので、本発明においては、試料を保持するための凹
部１ｂを、イオン源フィラメントからの熱電子による影
響を実質的に受けない位置、即ち、先端領域１ａ以外の
フィラメント１の表面に設ける。凹部１ｂのｘ−ｘ断面
図の例を図１（ｂ）に示す。このように凹部１ｂを設け
ることにより、その部分にマニュピュレーターの針先で
極微量の試料を擦りつけた場合に、容易にサンプリング
することができ、しかもサンプリングした試料の保持性
が向上し、質量分析装置のイオン源にプローブを挿入す
る以前に試料を紛失してしまうことを防止することがで
きる。また、イオン源フィラメントからの熱電子が直接
衝突しないために、熱電子による影響を排除することが
できる。
【００１５】なお、フィラメント１の材料としては、試
料を汚染せず、耐久性に優れた白金ワイヤーを使用する
ことが好ましい。
料を汚染せず、耐久性に優れた白金ワイヤーを使用する
ことが好ましい。
【００１６】ここで、凹部１ｂの形状には、試料のサン
プリングと保持とを容易にするような形状であるかぎり
特に制限はない。例えば、図１（ａ）におけるｘ−ｘ断
面形状に関し、図１（ｂ）の場合には凹部１ｂが三角形
状となっているが、図２（ａ）に示すように半円形状で
もよく、矩形形状（図２（ｂ））でもよい。また、凹部
１ｂが複数存在してもよい（図２（ｃ））。更に、凹部
１ｂの表面を平坦にしてもよい（図２（ｄ））。また、
試料をサンプリングしやすくするために、図１（ｂ）や
図２（ａ）〜（ｄ）等に示すように、凹部１ｂの先端部
１ｃが、角をもつように形成することが好ましいが、図
２（ｅ）に示すように、滑らかな曲線に形成することも
できる。
プリングと保持とを容易にするような形状であるかぎり
特に制限はない。例えば、図１（ａ）におけるｘ−ｘ断
面形状に関し、図１（ｂ）の場合には凹部１ｂが三角形
状となっているが、図２（ａ）に示すように半円形状で
もよく、矩形形状（図２（ｂ））でもよい。また、凹部
１ｂが複数存在してもよい（図２（ｃ））。更に、凹部
１ｂの表面を平坦にしてもよい（図２（ｄ））。また、
試料をサンプリングしやすくするために、図１（ｂ）や
図２（ａ）〜（ｄ）等に示すように、凹部１ｂの先端部
１ｃが、角をもつように形成することが好ましいが、図
２（ｅ）に示すように、滑らかな曲線に形成することも
できる。
【００１７】なお、図１及び図２の態様において、凹部
１ｂとして、ｘ−ｘ方向に直交する方向のライン状の凹
部を例示したが、図１（ａ）のｙ−ｙ方向に直交するラ
イン状の凹部を形成してもよく、またｘ−ｘ方向あるい
はｙ−ｙ方向に対して斜めの方向のライン状凹部（図示
せず）としてもよい。また、それらを組み合わせて十文
字形状の凹部や格子状の凹部を形成してもよい（図示せ
ず）。ライン状以外にも、曲線状あるいは円形ホール状
の凹部を形成してもよい（図示せず）。また、凹部の深
さや幅についても、特に制限はなく、使用する導電性ワ
イヤーの材料の種類や、分析対象となる試料の量などに
より適宜選択することができる。
１ｂとして、ｘ−ｘ方向に直交する方向のライン状の凹
部を例示したが、図１（ａ）のｙ−ｙ方向に直交するラ
イン状の凹部を形成してもよく、またｘ−ｘ方向あるい
はｙ−ｙ方向に対して斜めの方向のライン状凹部（図示
せず）としてもよい。また、それらを組み合わせて十文
字形状の凹部や格子状の凹部を形成してもよい（図示せ
ず）。ライン状以外にも、曲線状あるいは円形ホール状
の凹部を形成してもよい（図示せず）。また、凹部の深
さや幅についても、特に制限はなく、使用する導電性ワ
イヤーの材料の種類や、分析対象となる試料の量などに
より適宜選択することができる。
【００１８】本発明のフィラメントへの凹部の形成は、
カミソリを用いて人の手で行うこともでき、マイクロ加
工機械を使用して行うこともできる。
カミソリを用いて人の手で行うこともでき、マイクロ加
工機械を使用して行うこともできる。
【００１９】以上の利点を有する本発明のフィラメント
は、質量分析における試料のイオン化をイオン源フィラ
メントからの熱電子により行う脱離型電子衝撃イオン質
量分析装置に試料を直接導入するための直接試料導入プ
ローブのフィラメントとして、非常に有用である。な
お、この直接試料導入プローブの構造は、本発明のフィ
ラメントを使用する以外は、従来の直接試料導入プロー
ブと同様の構造とすることができる。
は、質量分析における試料のイオン化をイオン源フィラ
メントからの熱電子により行う脱離型電子衝撃イオン質
量分析装置に試料を直接導入するための直接試料導入プ
ローブのフィラメントとして、非常に有用である。な
お、この直接試料導入プローブの構造は、本発明のフィ
ラメントを使用する以外は、従来の直接試料導入プロー
ブと同様の構造とすることができる。
【００２０】更に、この直接試料導入プローブを質量分
析装置に使用することにより、極微量分析が容易とな
る。なお、この質量分析装置の構造は、本発明のフィラ
メントを備えた直接試料導入プローブを使用する以外
は、従来の質量分析装置と同様の構造とすることができ
る。
析装置に使用することにより、極微量分析が容易とな
る。なお、この質量分析装置の構造は、本発明のフィラ
メントを備えた直接試料導入プローブを使用する以外
は、従来の質量分析装置と同様の構造とすることができ
る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。
る。
【００２２】実施例１ １００μｍ径の白金ワイヤーからなる図１（ａ）の形状
のフィラメントを有する直接試料導入プローブの当該フ
ィラメントに、カミソリを用いて人の手で、図１（ｂ）
に示すような深さ５０μｍで幅７０μｍのライン状の凹
部を、先端領域１ａから外れたフィラメント１の表面に
形成した。
のフィラメントを有する直接試料導入プローブの当該フ
ィラメントに、カミソリを用いて人の手で、図１（ｂ）
に示すような深さ５０μｍで幅７０μｍのライン状の凹
部を、先端領域１ａから外れたフィラメント１の表面に
形成した。
【００２３】このフィラメント１の凹部に、直径２０〜
３０μｍの高分子有機化合物粒子をマニュピュレーター
の針先で擦り付けた。その結果、凹部に試料を容易にサ
ンプリングでき、しかも安定的に保持することができ
た。
３０μｍの高分子有機化合物粒子をマニュピュレーター
の針先で擦り付けた。その結果、凹部に試料を容易にサ
ンプリングでき、しかも安定的に保持することができ
た。
【００２４】このように試料を保持した直接試料導入プ
ローブを、図３に示すような脱離型電子衝撃イオン化質
量分析装置に装着したところ、抵抗加熱用のフィラメン
トを加熱する前に、イオン源フィラメントからの熱電子
により気化することなく、良好な質量分析結果を得るこ
とができた。
ローブを、図３に示すような脱離型電子衝撃イオン化質
量分析装置に装着したところ、抵抗加熱用のフィラメン
トを加熱する前に、イオン源フィラメントからの熱電子
により気化することなく、良好な質量分析結果を得るこ
とができた。
【００２５】比較例１ 凹部を設けないフィラメントを使用する以外は、実施例
１と同様にサンプリングを試みた。その結果、うまくサ
ンプリングすることができず、わずかにサンプリングで
きた試料も質量分析装置のイオン源に挿入する前に粉失
してしまった。
１と同様にサンプリングを試みた。その結果、うまくサ
ンプリングすることができず、わずかにサンプリングで
きた試料も質量分析装置のイオン源に挿入する前に粉失
してしまった。
【００２６】比較例２ 実施例１と同様の手法により、直接試料導入プローブの
フィラメントの先端に凹部を形成した。
フィラメントの先端に凹部を形成した。
【００２７】この凹部に、直径２０〜３０μｍの高分子
有機化合物粒子をマニュピュレーターの針先で擦り付け
たところ、凹部に試料を容易にサンプリングでき、しか
も安定的に保持することができたが、試料を保持した直
接試料導入プローブを、図３に示すような脱離型電子衝
撃イオン化質量分析装置に装着したところ、抵抗加熱用
のフィラメントを加熱する前に、イオン源フィラメント
からの熱電子により試料が気化してしまい、正確な質量
分析ができなかった。
有機化合物粒子をマニュピュレーターの針先で擦り付け
たところ、凹部に試料を容易にサンプリングでき、しか
も安定的に保持することができたが、試料を保持した直
接試料導入プローブを、図３に示すような脱離型電子衝
撃イオン化質量分析装置に装着したところ、抵抗加熱用
のフィラメントを加熱する前に、イオン源フィラメント
からの熱電子により試料が気化してしまい、正確な質量
分析ができなかった。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、質量分析における試料
のイオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により
行う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置において、試
料を直接導入するための直接試料導入プローブの先端に
備えたフィラメントに、試料を容易にサンプリングで
き、サンプリングした試料を安定的に保持できる。しか
も試料をフィラメントで抵抗加熱して気化させる際に、
イオン源フィラメントからの熱電子による影響を排除す
ることができる。
のイオン化をイオン源フィラメントからの熱電子により
行う脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置において、試
料を直接導入するための直接試料導入プローブの先端に
備えたフィラメントに、試料を容易にサンプリングで
き、サンプリングした試料を安定的に保持できる。しか
も試料をフィラメントで抵抗加熱して気化させる際に、
イオン源フィラメントからの熱電子による影響を排除す
ることができる。
【図１】凹部が形成された本発明のフィラメントの平面
図（同図（ａ））と凹部の断面図（同図（ｂ））であ
る。
図（同図（ａ））と凹部の断面図（同図（ｂ））であ
る。
【図２】本発明のフィラメントの凹部の断面図（同図
（ａ）〜（ｅ））である。
（ａ）〜（ｅ））である。
【図３】脱離型電子衝撃イオン化プローブを用いて試料
をイオン化して質量分析する場合の概略説明図である。
をイオン化して質量分析する場合の概略説明図である。
【図４】従来の直接試料導入プローブに設けられたフィ
ラメントの先端領域及びその近傍の平面図（同図
（ａ））と、そのｘ−ｘ断面図（同図（ｂ））である。
ラメントの先端領域及びその近傍の平面図（同図
（ａ））と、そのｘ−ｘ断面図（同図（ｂ））である。
１…フィラメント， ２…脱離型電子衝撃イオン化プロ
ーブ， ３…イオン源 ４…イオン化室， ５…穴， ６…電極群， ７…イオ
ン源フィラメント
ーブ， ３…イオン源 ４…イオン化室， ５…穴， ６…電極群， ７…イオ
ン源フィラメント
Claims (6)
- 【請求項１】 質量分析における試料のイオン化をイオ
ン源フィラメントからの熱電子により行う脱離型電子衝
撃イオン化質量分析装置に試料を直接導入するための直
接試料導入プローブの先端に設けられ、試料ホルダーと
して機能し且つ試料加熱手段として機能するフィラメン
トにおいて、試料を保持するための凹部が、イオン源フ
ィラメントからの熱電子による影響を実質的に受けない
位置に設けられていることを特徴とするフィラメント。 - 【請求項２】 フィラメントが白金ワイヤーである請求
項１記載のフィラメント。 - 【請求項３】 質量分析における試料のイオン化をイオ
ン源フィラメントからの熱電子により行う脱離型電子衝
撃イオン化質量分析装置に試料を直接導入するための直
接試料導入プローブであって、その先端に試料ホルダー
として機能し且つ試料加熱手段として機能するフィラメ
ントが設けられた直接試料導入プローブにおいて、フィ
ラメントの表面に試料を保持するための凹部が、イオン
源フィラメントからの熱電子による影響を実質的に受け
ない位置に設けられていることを特徴とする直接試料導
入プローブ。 - 【請求項４】 フィラメントが白金ワイヤーである請求
項３記載の直接試料導入プローブ。 - 【請求項５】 質量分析における試料のイオン化をイオ
ン源フィラメントからの熱電子により行う脱離型電子衝
撃イオン化質量分析装置であって、試料ホルダーとして
機能し且つ試料加熱手段として機能するフィラメントが
先端に設けられた直接試料導入プローブを備えた質量分
析装置において、フィラメントの表面に試料を保持する
ための凹部が、イオン源フィラメントからの熱電子によ
る影響を実質的に受けない位置に設けられていることを
特徴とする脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置。 - 【請求項６】 フィラメントが白金ワイヤーである請求
項５記載の脱離型電子衝撃イオン化質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8247280A JPH1069876A (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 質量分析装置用直接試料導入プローブのフィラメント |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8247280A JPH1069876A (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 質量分析装置用直接試料導入プローブのフィラメント |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1069876A true JPH1069876A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=17161118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8247280A Pending JPH1069876A (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 質量分析装置用直接試料導入プローブのフィラメント |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1069876A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009092649A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-30 | Hitachi Ltd | 微小試料加熱プローブおよびその製造方法、ならびに微小試料加熱プローブを用いた分析装置および分析方法 |
| JP2013008606A (ja) * | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 質量分析装置及び質量分析方法 |
-
1996
- 1996-08-28 JP JP8247280A patent/JPH1069876A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009092649A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-30 | Hitachi Ltd | 微小試料加熱プローブおよびその製造方法、ならびに微小試料加熱プローブを用いた分析装置および分析方法 |
| JP2013008606A (ja) * | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 質量分析装置及び質量分析方法 |
| US9184037B2 (en) | 2011-06-27 | 2015-11-10 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mass spectrometer and mass analyzing method |
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