JPH1073714A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れたパターン形状と高い印刷寸法精度とで
もってパターンを形成できるカラーフィルタの製造方法
を提供する。 【解決手段】 凹版オフセット印刷法によるカラーフィ
ルタの製造方法において、(1) ブランケットの表面自由
エネルギーが１８〜２４ｄｙｎ／ｃｍで、(2) 表面自由
エネルギーの大きさが、凹版＜ブランケット＜透明基板
の関係を満たし、かつ(3) 凹版からブランケットへのイ
ンキの転移速度Ｖb と、ブランケットから透明基板への
インキの転移速度Ｖg とが、式： １≦Ｖg ／Ｖb ≦１０ を満たす。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
等に用いられるカラーフィルタの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ブラウン管等に代わる表示デバイスとし
て用いられている液晶ディスプレイは、カラーフィルタ
を用いてカラー表示を実現している。このカラーフィル
タは、例えば図１に示すように、１画素毎にパターン化
された赤色(R) 、緑色(G) および青色(B) のカラーフィ
ルタ層２と、遮光用のブラックマトリックス層３とを透
明基板１上に形成したものである。

【０００３】近年の液晶ディスプレイの高画質化に伴
い、前記カラーフィルタ層やブラックマトリックス層に
は、(i) パターンの線幅が極めて微細であること、(ii)
パターンの寸法精度が高いこと、(iii) パターンのエッ
ジがシャープで、表面の平坦性や直線性等に優れている
こと、すなわちパターン形状が優れていること等が要求
されている。

【０００４】上記の要求を満たすため、従来よりカラー
フィルタの製造にはフォトリソ法が用いられているが、
カラーフィルタの低コスト化に対応すべく、製造工程が
簡単であるといった利点を有する印刷法を用いることが
検討されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタの製造
に使用可能な印刷法としては、一般に水無し平板オフセ
ット印刷法と凹版オフセット印刷法があげられるが、な
かでも、凹版凹部に充填したインキを一旦ブランケット
に転移し、さらに透明基板に転移してカラーフィルタ層
等のパターンを形成する凹版オフセット印刷法は、パタ
ーンの直線性やインキ膜厚の均一性等に優れるという利
点を有することから好適に用いられる。

【０００６】しかし、上記凹版オフセット印刷法におい
ては、インキの離型性に優れたシリコーンブランケット
を用いることによってブランケットから透明基板へのイ
ンキの完全転移を実現できるものの、一般に用いられて
いる凹版の基材がインキの離型性の低いガラスや金属で
あるために、凹版からブランケットへインキを転移させ
るときにインキの一部が凹版の凹部に残存してしまい、
パターンのエッジが丸まるなどして、パターン形状が低
下するという問題がある。

【０００７】従って、凹版オフセット印刷法で、極めて
微細な線幅のパターンを優れたパターン形状でもって印
刷するには、凹版からブランケットへのインキの転移
と、ブランケットから透明基板へのインキの転移との両
方において、インキの完全転移を実現することが重要と
なる。凹版からブランケットへのインキの転移性を向上
させるには、凹版からブランケットへのインキの転移速
度Ｖb （すなわち、凹版とブランケットとの相対移動速
度）を通常のオフセット印刷やグラビア印刷よりも非常
に遅く設定するという方法が考えられる。具体的には、
通常のオフセット印刷やグラビアにおける前記転移速度
Ｖb が３００ｍｍ／ｓ〜１０ｍ／ｓ程度であるのに対
し、カラーフィルタの製造においては、前記転移速度Ｖ
b を１〜５０ｍｍ／ｓの範囲で設定するのが好ましい。

【０００８】一方、ブランケットから透明基板へのイン
キの転移速度Ｖg （すなわち、ブランケットと透明基板
との相対移動速度）は、パターン形状の観点から速くす
る必要がある。すなわち、カラーフィルタ層やブラック
マトリックス層用のインキは、通常バインダー樹脂中に
顔料を分散させたものであって、チキソトロピー性を有
するものであることから、上記転移速度Ｖg を前述の転
移速度Ｖb と同程度に遅くすると、外部応力の影響によ
ってインキの見掛けの粘度が低下してしまい、パイリン
グが発生するおそれがある。パイリングが発生すると、
インキが分断されることによって、パターン形状が低下
してしまう。逆に、転移速度Ｖg が速いと、インキの見
掛けの粘度が低下する前に透明基板上に転移されること
から、前述のようにパイリングが生じるおそれがない。
このため、カラーフィルタの製造では、ブランケットか
ら透明基板へのインキの転移速度Ｖg は、通常１００〜
１，０００ｍｍ／ｓの範囲で設定されており、凹版から
ブランケットへのインキの転移速度Ｖb の２０〜３０倍
程度となっている。

【０００９】しかしながら、カラーフィルタの印刷精度
の観点からは、ブランケットから透明基板へのインキの
転移速度Ｖg を、凹版からブランケットへのインキの転
移速度Ｖb に近づけるのが好ましい。これは、インキを
転移させる際には転移速度に応じてブランケットに変形
が生じ、これが印刷精度を低下させる原因となるもの
の、上記転移速度Ｖb とＶg とを近づける（好ましくは
等しくする）ことにより、凹版からブランケットへのイ
ンキの転移と、ブランケットから透明基板へのインキの
転移とでのブランケットの変形を同じにすることがで
き、印刷精度が低下するのを防ぐことができるからであ
る。

【００１０】従って、前述のように、転移速度Ｖb を１
〜５０ｍｍ／ｓ程度の遅い速度に設定するとともに、転
移速度Ｖg をＶb の２０〜３０倍程度に設定して印刷を
行うと、ブランケットから透明基板へインキを転移する
ときにパイリングが生じず、優れたパターン形状でもっ
て印刷できるものの、印刷寸法精度が低下するという問
題が残る。

【００１１】そこで、カラーフィルタ層などのパターン
を、優れたパターン形状で、かつ優れた印刷寸法精度で
もって形成するため、前記転移速度Ｖg をＶb と同程度
にまで遅くしてもパターン形状が低下しないようにする
ことが求められている。本発明の目的は、優れたパター
ン形状で、かつ高い印刷寸法精度でもってパターンを形
成できるカラーフィルタの製造方法を提供することであ
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、凹版の凹部に
充填したインキを、一旦ブランケットの表面に転移した
後、透明基板の表面に印刷して、この透明基板の表面に
複数種のインキ層を形成するカラーフィルタの製造方法
において、(1) 前記ブランケットの表面自由エネルギー
が１８〜２４ｄｙｎ／ｃｍで、(2) 前記凹版、ブランケ
ットおよび透明基板における表面自由エネルギーの大き
さが、式： 凹版＜ブランケット＜透明基板 を満たし、かつ(3) 凹版からブランケットへのインキの
転移速度Ｖb と、ブランケットから透明基板へのインキ
の転移速度Ｖg とが、式： １≦Ｖg ／Ｖb ≦１０ を満たすときは、カラーフィルタ層等のパターンを、優
れたパターン形状で、かつ高い印刷寸法精度でもって形
成できるという新たな事実を見出し、本発明のカラーフ
ィルタの製造方法を完成するに至った。

【００１３】すなわち、ブランケットの表面自由エネル
ギーが上記範囲を満たし、かつ凹版、ブランケットおよ
び透明基板における表面自由エネルギーの大きさが上記
の順序となるように（すなわち、インキを保持している
側の表面自由エネルギーがインキを受理する側のそれよ
りも低くなるように）設定したときには、凹版からブラ
ンケットへのインキの転移速度Ｖb を遅く設定し、かつ
ブランケットから透明基板へのインキの転移速度Ｖg を
上記転移速度Ｖb に近づけても、パイリングが発生する
ことがない。従って、優れたパターン形状と高い印刷精
度でもって、カラーフィルタ層等のパターンを形成でき
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルタの
製造方法に使用される種々の材料について、詳細に説明
する。 (a) ブランケット 本発明に使用可能なブランケットは、その表面自由エネ
ルギーが１８〜２４ｄｙｎ／ｃｍ、好ましくは２０〜２
２ｄｙｎ／ｃｍのものである。ブランケットの表面自由
エネルギーが１８ｄｙｎ／ｃｍを下回ると、凹版からの
インキの受理性が著しく低下し、ピンホールや線ぬけが
多数発生する。一方、２４ｄｙｎ／ｃｍを超えると、ブ
ランケットから透明基板へインキを転移する際にパイリ
ングが生じる。なお、この場合には、ブランケットから
透明基板へのインキの転移速度Ｖg を速くすることによ
ってパイリングを抑制できるものの、透明基板からブラ
ンケットへのインキの転移速度Ｖb との比Ｖg ／Ｖb を
１０以下に設定することが困難になり、ひいては印刷寸
法精度が低下してしまう。

【００１５】本発明に用いられるブランケットは、表面
自由エネルギーが上記範囲にあるほかは特に限定され
ず、例えば、必要に応じて多孔質の弾性層を有する１層
または複数層の支持体層上に、表面ゴム層を設けたブラ
ンケット等、従来公知のものが使用可能である。表面自
由エネルギーが上記範囲を満たすブランケットを得るに
は、例えば表面ゴム層がシリコーンゴムからなるシリコ
ーンブランケットを用いるのが好ましい。シリコーンゴ
ムには種々のものがあり、その表面自由エネルギーは、
通常１５〜２７ｄｙｎ／ｃｍの範囲にある。シリコーン
ゴムの表面自由エネルギーを小さくするには、低分子量
のシロキサン、シリコーンオイル、シリコーンゲル等を
添加すればよい。逆に、シリコーンブランケットの表面
自由エネルギーを大きくするには、シリコーンゴム中に
存在する低分子量のシロキサンやシリコーンオイル等を
真空オーブンにて除去したり、トルエン、ヘキサン等の
良溶媒で抽出すればよい。ＳｉＯ₂ 等の無機フィラーを
添加することによっても表面自由エネルギーを大きくで
きる。また、付加型シリコーンゴムにおいては、ビニル
基とヒドロシラン基との比率（ビニル基／ヒドロシラン
基）を代えることによって、表面自由エネルギーを調節
できる。前記比率は通常２であるが、例えば前記比率を
小さくすれば、表面自由エネルギーを小さくできる。

【００１６】(b) 凹版 本発明における凹版には、ブランケットよりも表面自由
エネルギーが小さいもの、具体的には、凹版の表面自由
エネルギーがブランケットのそれよりも２ｄｙｎ／ｃｍ
以上、好ましくは４ｄｙｎ／ｃｍ以上、 より好ましく
は５〜１０ｄｙｎ／ｃｍ程度小さいものが適当である。
凹版とブランケットとの表面自由エネルギーの差が上記
範囲を下回ると、凹版からブランケットへインキを転移
する際にパイリングが発生し、凹版凹部にインキが残存
するおそれがある。

【００１７】凹版の基板には、ソーダライムガラス、ノ
ンアルカリガラス、石英ガラス、低アルカリガラス、低
膨張ガラスなどのガラス基板；ステンレス、銅、低膨張
合金アンバー等の金属基板等、従来公知の種々のものを
使用できる。一般に、上記例示のガラス基板や金属基板
は、ブランケットよりも表面自由エネルギーが大きい
が、上記基板の表面に、例えばシリコーンゴム、ポリテ
トラフルオロエチレン（テフロン樹脂）等のコーティン
グ層を形成することにより、凹版の表面自由エネルギー
をブランケットのそれよりも小さくなるように調整でき
る。なお、ブランケットとしてシリコーンブランケット
を用いる場合には、凹版の基板表面に形成するシリコー
ンゴムのコーティング層は、シリコーンブランケットよ
りも表面自由エネルギーが小さい必要がある。

【００１８】(c) 透明基板 本発明における透明基板には、ブランケットよりも表面
自由エネルギーが大きいもの、具体的には、透明基板の
表面自由エネルギーがブランケットのそれよりも５ｄｙ
ｎ／ｃｍ以上、好ましくは１０ｄｙｎ／ｃｍ以上大きい
ものが適当である。ブランケットと透明基板との表面自
由エネルギーの差が上記範囲を下回ると、ブランケット
から透明基板へインキを転移する際にパイリングが発生
するおそれがある。

【００１９】本発明に用いられる透明基板としては、例
えばソーダライムガラス、ノンアルカリガラス、石英ガ
ラス、低アルカリガラス、低膨張ガラスなどのガラス基
板；ポリエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート等の
フィルム基板等、従来公知の種々のものを使用できる。
一般に、上記ガラス基板やフィルム基板からなる透明基
板は、空気中のゴミ、ほこり等をその表面に吸着しやす
いため、見掛けの表面自由エネルギーが経時的に変化す
るおそれがある。しかし、透明基板の表面を水／溶剤系
の洗浄剤等で洗浄し、さらに紫外線処理等によって十分
に洗浄すれば、有機または無機系の高分子であるブラン
ケットよりも非常に高い表面自由エネルギーを示す。

【００２０】従って、本発明においては、透明基板とブ
ランケットとの表面自由エネルギーの大きさの関係を調
整することを目的として、透明基板の表面にコーティン
グ層を形成するなどの表面処理を行う必要はない。但
し、透明基板とインキとの濡れ性を向上させる目的で、
ＰＶＡ、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹
脂等をコーティングしてもよい。

【００２１】次に、本発明のカラーフィルタの製造方法
について詳細に説明する。本発明のカラーフィルタの製
造方法は、前述の凹版、ブランケットおよび透明基板を
使用し、凹版オフセット印刷法によって、複数種のイン
キ層を形成するものである。前記複数種のインキ層とし
ては、例えば赤色(R) 、緑色(G) および青色(B) の３色
のカラーフィルタ層のほか、遮光用のブラックマトリッ
クス層等があげられる。

【００２２】上記印刷は、凹版の凹部に充填したインキ
をブランケットの表面に転移する工程と、ブランケット
の表面に転移されたインキを透明基板の表面に転移する
工程とを含む。凹版からブランケットへのインキの転移
速度Ｖb と、ブランケットから透明基板へのインキの転
移速度Ｖg との比Ｖg ／Ｖb は、１０以下、好ましくは
１〜１０、より好ましくは３〜８である。比Ｖg ／Ｖb
が１０を超えると、凹版からインキを受理するときと透
明基板へインキを転移するときとにおいて、ブランケッ
トの変形にヒステリシスが生じるために好ましくない。
一方、比Ｖg ／Ｖb が１を下回ると、ブランケットから
透明基板へインキを転移するときに、ブランケット上に
インキが残存して、パイリングが生じるために好ましく
ない。

【００２３】凹版からブランケットへのインキの転移速
度Ｖb は、ブランケットのインキの受理性を高めるとい
う観点から、通常のオフセット印刷よりも遅い速度で、
すなわち、通常１〜５０ｍｍ／ｓ、好ましくは５〜３０
ｍｍ／ｓの範囲で設定される。上記転移速度Ｖb が５０
ｍｍ／ｓを超えると、インキの転移が不完全になってピ
ンホールが発生するおそれがある。一方、転移速度Ｖb
が１ｍｍ／ｓを下回ると、インキがブランケットの表面
に保持される時間が長くなってインキがブランケット上
で乾燥してしまい、ピンホールが多数発生するおそれが
ある。

【００２４】また、ブランケットから透明基板へのイン
キの転移速度Ｖg は、通常１０〜５００ｍｍ／ｓ、好ま
しくは５０〜３００ｍｍ／ｓの範囲において、比Ｖg ／
Ｖbが上記範囲となるように設定される。本発明のカラ
ーフィルタの製造方法においては、例えば、透明基板の
表面に遮光用のブラックマトリックス層を印刷した後、
赤色(R) 、緑色(G) および青色(B) の３色のカラーフィ
ルタ層を印刷される。なお、ブラックマトリックス層と
カラーフィルタ層との印刷の順序は上記と逆であっても
よい。また、ブラックマトリックス層は形成しなくても
よい。

【００２５】透明基板の表面にカラーフィルタ層やブラ
ックマトリックス層等の複数種のインキ層を形成した
後、かかるインキ層を、透明基板が熱変形しない温度と
時間（通常１８０〜２５０℃で３０〜１８０分間、好ま
しくは２００〜２３０℃で５０〜８０分間）で加熱、乾
燥して完全に硬化させることにより、カラーフィルタが
得られる。

【００２６】

【実施例】以下、実施例および比較例をあげて本発明を
説明する。 実施例１ ポリエステル−メラミン系樹脂（トリメリト酸とネオペ
ンチルグリコールとをエステル化したものに、架橋剤と
してメチル化メラミン樹脂を加えたもの）、着色剤（銅
フタロシアニン、ジオキサジンバイオレッド）および溶
剤（炭素数１３〜１５程度の高沸点炭化水素）を混合
し、粘度を５００〜１，０００ポアズ（Ｐ）に調整した
ものをインキとして用いた。

【００２７】凹版には、ソーダライムガラス基板の表面
にアモルファスフッ素樹脂のコーティング層（表面自由
エネルギー：１５ｄｙｎ／ｃｍ）を形成したものを用い
た。この凹版の凹部は線幅５０μｍ、深さ５μｍのスト
ライプパターンであった。ブランケットには、表面ゴム
層がシリコーンゴム（表面自由エネルギー：２０ｄｙｎ
／ｃｍ）からなるものを使用した。また、透明基板に
は、コーニング社製のノンアルカリガラス「＃７０５
９」（表面自由エネルギー：７３ｄｙｎ／ｃｍ以上）を
使用した。

【００２８】上記凹版、ブランケット、透明基板および
インキを使用し、通常の平台オフセット印刷機による凹
版オフセット印刷にて、ストライプパターンを印刷し
た。かかる印刷において、凹版からブランケットへのイ
ンキの転移速度Ｖb は３０ｍｍ／ｓ、ブランケットから
透明基板へのインキの転移速度Ｖg は３００ｍｍ／ｓで
あった。

【００２９】実施例２ ブランケットから透明基板へのインキの転移速度Ｖg が
１５０ｍｍ／ｓであるほかは、実施例１と同様にしてス
トライプパターンの印刷を行った。 実施例３ ブランケットから透明基板へのインキの転移速度Ｖg が
３０ｍｍ／ｓであるほかは、実施例１と同様にしてスト
ライプパターンの印刷を行った。

【００３０】実施例４ 凹版として、ソーダライムガラス基板の表面にシリコー
ンゴムのコーティング層（表面自由エネルギー：２０ｄ
ｙｎ／ｃｍ）を形成したものを使用し、ブランケットと
して、表面ゴム層がシリコーンゴム（表面自由エネルギ
ー：２３ｄｙｎ／ｃｍ）からなるものを使用したほか
は、実施例１と同様にしてストライプパターンの印刷を
行った。

【００３１】実施例５ ブランケットから透明基板へのインキの転移速度Ｖg が
３０ｍｍ／ｓであるほかは、実施例４と同様にしてスト
ライプパターンの印刷を行った。 比較例１ 凹版には、ソーダライムガラス基板（表面自由エネルギ
ー：７３ｄｙｎ／ｃｍ以上）を形成したものを使用し
た。凹版の凹部は実施例１と同じであった。

【００３２】ブランケットには、表面ゴム層がアクリロ
ニトリル−ブタジエンゴム（アクリロニトリルの含有量
３５％、表面自由エネルギー：３５ｄｙｎ／ｃｍ）から
なるものを使用した。インキ、透明基板および印刷機と
しては、実施例１と同じものを使用した。上記凹版、ブ
ランケット、透明基板およびインキを使用し、通常の平
台オフセット印刷機による凹版オフセット印刷にて、ス
トライプパターンを印刷した。かかる印刷において、凹
版からブランケットへのインキの転移速度Ｖb は３０ｍ
ｍ／ｓ、ブランケットから透明基板へのインキの転移速
度Ｖg は９００ｍｍ／ｓであった。

【００３３】比較例２ ブランケットとして、表面ゴム層がシリコーンゴム（表
面自由エネルギー：２６ｄｙｎ／ｃｍ）からなるものを
使用したほかは、比較例１と同様にしてストライプパタ
ーンの印刷を行った。 比較例３ ブランケットから透明基板へのインキの転移速度Ｖg が
４５０ｍｍ／ｓであるほかは、比較例２と同様にしてス
トライプパターンの印刷を行った。

【００３４】比較例４ ブランケットから透明基板へのインキの転移速度Ｖg が
３００ｍｍ／ｓであるほかは、比較例２と同様にしてス
トライプパターンの印刷を行った。 比較例５ 凹版として、実施例１で用いたのと同じものを使用した
ほかは、比較例４と同様にしてストライプパターンの印
刷を行った。

【００３５】比較例６ ブランケットとして、表面ゴム層がシリコーンゴム（表
面自由エネルギー：１６ｄｙｎ／ｃｍ）からなるものを
使用したほかは、比較例２と同様にしてストライプパタ
ーンの印刷を行った。 比較例７ ブランケットから透明基板へのインキの転移速度Ｖg が
３００ｍｍ／ｓであるほかは、比較例６と同様にしてス
トライプパターンの印刷を行った。

【００３６】比較例８ 凹版として、ソーダライムガラス基板にポリテトラフル
オロエチレン（ＰＴＦＥ、テフロン樹脂）の蒸着膜（表
面自由エネルギー：１０ｄｙｎ／ｃｍ）を形成したもの
を使用したほかは、比較例７と同様にしてストライプパ
ターンの印刷を行った。

【００３７】上記実施例および比較例について、使用し
た凹版、ブランケットおよび透明基板における表面自由
エネルギーの大きさ（ｄｙｎ／ｃｍ）、凹版からブラン
ケットへのインキの転移速度Ｖb （ｍｍ／ｓ）、ブラン
ケットから透明基板へのインキの転移速度Ｖg （ｍｍ／
ｓ）および転移速度Ｖb とＶg との比Ｖg ／Ｖb を、そ
れぞれ下記の表１および表２に示す。

【００３８】なお、ブランケットの表面自由エネルギー
は、使用したシリコーンゴムまたはＮＢＲゴムにおける
値である。表面にコーティング層を形成した凹版の表面
自由エネルギーは、コーティングに用いた材料における
値である。表面にコーティング層を形成していない凹版
と、透明基板とについての表面自由エネルギーは、直接
測定できなかったものの、いずれも水に対する濡れ性が
良好であったので、水の表面自由エネルギー（７３ｄｙ
ｎ／ｃｍ）よりも大きいと考えられる。

【００３９】また、凹版、ブランケットおよび透明基板
における表面自由エネルギーの大きさが、式： 凹版＜ブランケット＜透明基板 を満たしたものには〇、満たさなかったものには×の符
号を下記の表１〜２中に示した。

【００４０】（パイリングの有無）上記各実施例および
比較例について、凹版からブランケットへのインキの転
移およびブランケットから透明基板へのインキの転移に
おけるパイリングの有無を確認し、インキの転移性を評
価した。パイリングによって転移されなかったインキの
割合を下記の表１〜２に示す。パイリングが０％あるの
は、インキが１００％転移したことを示しており、パイ
リングの割合が大きいほどインキの転移性が低いことを
示している。

【００４１】（印刷寸法精度の評価）上記の各実施例お
よび比較例について、印刷されたパターンの位置と、凹
版の凹部の位置とのずれを測定し、印刷寸法精度（μ
ｍ）を求めた。印刷寸法精度は１０μｍ以下であればよ
い。

【００４２】

【表１】

【００４３】

【表２】

【００４４】表１〜２から明らかなように、比較例１〜
８では、インキの転移性が低下したり、印刷寸法精度が
低下するといった問題が生じた。一方、(1) ブランケッ
トの表面自由エネルギーが１８〜２４ｄｙｎ／ｃｍで、
(2) 表面自由エネルギーの大きさが、凹版＜ブランケッ
ト＜透明基板の関係を満たし、かつ(3) 凹版からブラン
ケットへのインキの転移速度Ｖb と、ブランケットから
透明基板へのインキの転移速度Ｖg とが、式： １≦Ｖg ／Ｖb ≦１０ を満たす実施例１〜５においては、いずれもインキの転
移性が良好で、印刷寸法精度にも優れていた。

【００４５】従って、上記実施例１〜５の印刷条件にて
カラーフィルタ層やブラックマトリックス層などの複数
種のインキ層を印刷したときは、パターン形状および印
刷寸法精度に優れたパターンを有するカラーフィルタを
製造することができる。

【００４６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
優れたパターン形状および高い印刷精度でもって、カラ
ーフィルタ層等のパターンを形成できる。従って、本発
明のカラーフィルタの製造方法は、高画質化に対応した
カラーフィルタの製造方法として、好適に用いられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】カラーフィルタの一例を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 透明基板 ２ カラーフィルタ層 ３ ブラックマトリックス層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】凹版の凹部に充填したインキを、一旦ブラ
   ンケットの表面に転移した後、透明基板の表面に印刷し
   て、この透明基板の表面に複数種のインキ層を形成する
   カラーフィルタの製造方法において、(1) 前記ブランケ
   ットの表面自由エネルギーが１８〜２４ｄｙｎ／ｃｍ
   で、(2) 前記凹版、ブランケットおよび透明基板におけ
   る表面自由エネルギーの大きさが、式： 凹版＜ブランケット＜透明基板 を満たし、かつ(3) 凹版からブランケットへのインキの
   転移速度Ｖb と、ブランケットから透明基板へのインキ
   の転移速度Ｖg とが、式： １≦Ｖg ／Ｖb ≦１０ を満たすことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。