JPH1075143A - LC bandpass filter - Google Patents

LC bandpass filter

Info

Publication number
JPH1075143A
JPH1075143A JP8248644A JP24864496A JPH1075143A JP H1075143 A JPH1075143 A JP H1075143A JP 8248644 A JP8248644 A JP 8248644A JP 24864496 A JP24864496 A JP 24864496A JP H1075143 A JPH1075143 A JP H1075143A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ground electrode
capacitor
conductive layer
layer
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8248644A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Michiya Arakawa
美智也 荒川
Takeshi Ito
伊藤  剛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP8248644A priority Critical patent/JPH1075143A/en
Publication of JPH1075143A publication Critical patent/JPH1075143A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Filters And Equalizers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 波形の乱れの少ないLCバンドパスフィルタ
を提供する。 【解決手段】 最下層に配設した絶縁基板1の下面に補
助接地電極40を形成し、上部導電層21に形成した接
地電極26を、厚み方向に形成した導通路41を介して
補助接地電極40に接続したものであるから、接地電極
面積が大きくなり、外部ノイズを遮断でき、波形が安定
化する。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide an LC bandpass filter with less waveform disturbance. SOLUTION: An auxiliary ground electrode 40 is formed on the lower surface of an insulating substrate 1 provided at the lowermost layer, and a ground electrode 26 formed on an upper conductive layer 21 is connected to an auxiliary ground electrode via a conductive path 41 formed in the thickness direction. Since it is connected to 40, the area of the ground electrode is increased, external noise can be cut off, and the waveform is stabilized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、携帯電話や自動車
電話等の各種無線通信機器に使用されるLCバンドパス
フィルタに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an LC bandpass filter used for various wireless communication devices such as a portable telephone and a car telephone.

【0002】[0002]

【従来の技術】LCバンドパスフィルタとしては、アル
ミナ等の薄い、複数又は単数の絶縁基板により入出力用
コンデンサとインダクタとを並列接続した並列共振回路
を担持してなるものが一般的に用いられている。このL
Cバンドパスフィルタは、誘電体ブロック内に複数の貫
通孔状の共振導体を形成した一体型誘電体フィルタや二
枚の誘電基板の間に箔状の共振導体を挟持した三導体型
ストリップラインフィルタに比して薄肉化、小型化が容
易である等の利点から携帯電話等に好適に採用されつつ
ある。
2. Description of the Related Art As an LC bandpass filter, a filter having a parallel resonance circuit in which an input / output capacitor and an inductor are connected in parallel by a thin, plural or single insulating substrate such as alumina is generally used. ing. This L
The C bandpass filter is an integrated dielectric filter in which a plurality of through-hole-shaped resonance conductors are formed in a dielectric block, or a three-conductor stripline filter in which a foil-shaped resonance conductor is sandwiched between two dielectric substrates. It is being favorably used in mobile phones and the like because of its advantages such as easy thinning and miniaturization as compared with.

【0003】一方、近年は、電子機器等の小型化、高性
能化、高密度実装化に対する要望がさらに高まってお
り、このため、LCバンドパスフィルタのいっそうの小
型化が強く求められるようになっている。そしてこの要
求に対応するために、フィルタの大部分を占める容量部
の小型化が求められ、この小型化を図るために、スパッ
タリング法やCVD法等の薄膜形成技術により容量部を
多層構造としたものが提案されている。
On the other hand, in recent years, there has been a growing demand for downsizing, high performance, and high-density mounting of electronic devices and the like. Therefore, further downsizing of LC bandpass filters has been strongly demanded. ing. In order to respond to this demand, it is required to reduce the size of the capacitance portion that occupies most of the filter. In order to achieve this reduction, the capacitance portion has a multilayer structure by a thin film forming technique such as a sputtering method or a CVD method. Things have been suggested.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上述の多層構造からな
るLCバンドパスフィルタにあって、従来は、接地電極
が最上層の一部分のみに形成されているだけであるた
め、接地電極面積が不十分となり、安定化せず、外部か
らのノイズを十分遮断できず、波形に乱れを生じやすい
という問題点があった。本発明は、かかる従来の多層構
造からなるLCバンドパスフィルタの問題点を是正する
ことを目的とするものである。
In the above-described LC bandpass filter having a multilayer structure, the area of the ground electrode is insufficient because the ground electrode is conventionally formed only in a part of the uppermost layer. Therefore, there is a problem that the stabilization is not performed, the noise from the outside cannot be sufficiently shut off, and the waveform is likely to be disturbed. It is an object of the present invention to correct the problems of the conventional LC bandpass filter having a multilayer structure.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、多層構造から
なり、その最上層に配設された上部導電層に、少なくと
も接地電極を設け、更に最下層に配設した絶縁基板の下
面に補助接地電極を形成し、前記上部導電層の接地電極
を、各層を貫通して形成した導通路を介して補助接地電
極に接続したことを特徴とするLCバンドパスフィルタ
である。
According to the present invention, there is provided a multilayer structure having at least a ground electrode provided on an upper conductive layer provided on an uppermost layer thereof, and an auxiliary electrode provided on a lower surface of an insulating substrate provided on a lowermost layer. An LC band-pass filter, wherein a ground electrode is formed, and the ground electrode of the upper conductive layer is connected to an auxiliary ground electrode via a conductive path formed through each layer.

【0006】最下層の絶縁基板の下面を利用して、該下
面に補助接地電極を形成し、これを最上層の接地電極
と、厚み方向に形成された導通路を介して接続するよう
にした。このため接地電極面積が大きくなり、波形が安
定化する。
An auxiliary ground electrode is formed on the lower surface of the lowermost insulating substrate by utilizing the lower surface thereof, and this is connected to the ground electrode of the uppermost layer via a conductive path formed in the thickness direction. . Therefore, the area of the ground electrode is increased, and the waveform is stabilized.

【0007】かかる構成のフィルタとしては、図1で例
示するように、最下層となる絶縁基板1の表面に、下部
導電層2を形成して、この下部導電層2に二つの共通コ
ンデンサ電極3a,3bを並設し、該下部導電層2上に
誘電体薄膜層10を形成し、さらに該誘電体薄膜層10
上に、中間導電層11を形成して、該中間導電層11に
共通コンデンサ電極3aと対向する部位に、入出力用コ
ンデンサC1 ,共振用コンデンサC3 の他側コンデンサ
電極12a,13aを夫々設け、共通コンデンサ電極3
bと対向する部位に、入出力用コンデンサC2 ,共振用
コンデンサC4の他側コンデンサ電極12b,13bを
夫々設け、さらに中間導電層11上に絶縁層20を設け
て、該絶縁層20上に、上部導電層21を形成し、
As a filter having such a structure, as illustrated in FIG. 1, a lower conductive layer 2 is formed on the surface of an insulating substrate 1 which is a lowermost layer, and two common capacitor electrodes 3a are formed on the lower conductive layer 2. , 3b, a dielectric thin film layer 10 is formed on the lower conductive layer 2, and the dielectric thin film layer 10
An intermediate conductive layer 11 is formed thereon, and the other side capacitor electrodes 12a and 13a of the input / output capacitor C 1 and the resonance capacitor C 3 are respectively provided on portions of the intermediate conductive layer 11 facing the common capacitor electrode 3a. Provided, common capacitor electrode 3
b, the other side capacitor electrodes 12b and 13b of the input / output capacitor C 2 and the resonance capacitor C 4 are further provided, and an insulating layer 20 is further provided on the intermediate conductive layer 11. To form an upper conductive layer 21;

【0008】この上部導電層21に、接地電極26と、
該接地電極26から延出するインダクタL1 ,L2 と、
さらには、前記入出力用コンデンサC1 ,C2 の他側コ
ンデンサ電極12a,12bと夫々接続する入出力電極
22a,22bとを配設すると共に、インダクタL1
2 の端部を、下部導電層2の共通コンデンサ電極3
a,3bに夫々接続し、さらに接地電極26を、下部導
電層2の他側コンデンサ電極13a,13bに夫々接続
し、さらには、最下層に配設した絶縁基板1の下面に補
助接地電極40を形成し、前記上部導電層21の接地電
極26を、厚み方向に形成された導通路41を介して補
助接地電極40に接続してなるLCバンドパスフィルタ
は、小型で、しかも接地電極面積が大きくなり、安定し
た濾波特性を得ることができる。
The upper conductive layer 21 has a ground electrode 26,
Inductors L 1 and L 2 extending from the ground electrode 26;
Furthermore, the input capacitor C 1, C 2 of the other side capacitor electrodes 12a, 12b and respectively connected to input and output electrodes 22a, as well as arranged and 22b, inductor L 1,
The end of L 2, the common capacitor electrode 3 of the lower conductive layer 2
a, 3b, and the ground electrode 26 is connected to the other capacitor electrodes 13a, 13b of the lower conductive layer 2, respectively. Further, the auxiliary ground electrode 40 is connected to the lower surface of the insulating substrate 1 provided at the lowermost layer. The LC bandpass filter formed by connecting the ground electrode 26 of the upper conductive layer 21 to the auxiliary ground electrode 40 via the conductive path 41 formed in the thickness direction is small and has a small ground electrode area. As a result, a stable filtering characteristic can be obtained.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】添付図面について本発明の一実施
例を説明する。図1は本発明に係るLCバンドパスフィ
ルタを示すものであり、寸法例が厚0.635mm,縦
横2mm程度等の矩形状に成形されたアルミナ等の絶縁
基板1上に、Fe−Ni合金からなる下部導電層2(厚
3μm)と、SiO2 からなる誘電体薄膜層10(厚2
μm)と、アルミニュウムからなる中間導電層11(厚
3μm)と、ポリイミド樹脂等の有機絶縁膜からなる絶
縁層20(厚3μm)と、さらにはCuからなる上部導
電層21(厚5μm)とが順次積層してなる。また、こ
のフィルタのうちその面領域のほぼ半面をコンデンサ形
成領域S1 とし、他半面をインダクタ形成領域S2 とし
ている。この全体の総厚は、その総和からも理解される
ように、0.7mm以下の極薄状となる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows an LC band-pass filter according to the present invention, in which a dimension example is formed on a rectangular insulating substrate 1 such as alumina having a thickness of about 0.635 mm and a length and width of about 2 mm. lower conductive layer 2 (thickness 3 [mu] m), a dielectric thin film layer 10 made of SiO 2 comprising (thickness 2
μm), an intermediate conductive layer 11 made of aluminum (thickness 3 μm), an insulating layer 20 made of an organic insulating film such as a polyimide resin (thickness 3 μm), and an upper conductive layer 21 made of Cu (thickness 5 μm). They are sequentially laminated. Moreover, almost half of the surface area of the filter and the capacitor formation region S 1, are another half an inductor forming area S 2. As can be understood from the sum, the total thickness of the whole becomes an extremely thin shape of 0.7 mm or less.

【0010】前記絶縁基板1上に形成される下部導電層
2にあって、そのコンデンサ形成領域S1 には、左右に
隣接して矩形状の二つの共通コンデンサ電極3a,3b
が並設され、夫々インダクタ形成領域S2 側に接続路
4,4を延出している。また、絶縁基板1の上面周囲
と、その中心線に沿って、縁取り部5が形成され、この
縁取り部5により誘電体薄膜層10との積層面にあっ
て、その周縁で肉厚差がないようにして、均厚な面接触
を確保するようにしている。
[0010] The insulating substrate there 1 to the lower conductive layer 2 formed on, in its capacitor formation region S 1, rectangular two common capacitor electrode 3a adjacent to the left and right, 3b
There are juxtaposed, it extends the connection passage 4, 4 to each inductor forming area S 2 side. A border 5 is formed around the upper surface of the insulating substrate 1 and along the center line thereof, and the border 5 forms a laminated surface with the dielectric thin film layer 10 and has no difference in thickness at the periphery. In this manner, uniform surface contact is ensured.

【0011】また、誘電体薄膜層10上に形成される中
間導電層11にあって、前記共通コンデンサ電極3aと
対向する部位には、入出力用コンデンサC1 の他側コン
デンサ電極12aと、これをL形に囲んで隣接する共振
用コンデンサC3 の他側コンデンサ電極13aとが設け
られ、前記共通コンデンサ電極3bと対向する部位に
は、入出力用コンデンサC2 の他側コンデンサ電極12
bと、これをL形に囲んで隣接する共振用コンデンサC
4 の他側コンデンサ電極13bとが設けられる。
[0011] In the intermediate conductive layer 11 formed on the dielectric thin film layer 10, wherein the common capacitor electrode 3a facing the site, and the other side capacitor electrode 12a of the input and output capacitors C 1, which and another-side capacitor electrodes 13a of the resonance capacitor C 3 adjacent is provided surrounding the L-shaped, the part facing the common capacitor electrode 3b is the other side capacitor electrodes 12 of the input and output capacitors C 2
b and an adjacent resonance capacitor C surrounding the L shape
And four other-side capacitor electrodes 13b.

【0012】ポリイミド樹脂等の有機絶縁膜からなる絶
縁層20はスピンコ−ト法等により、中間導電層11上
に積層される。また、この絶縁層20上に形成される上
部導電層21は、銅メッキ法等により形成される。この
上部導電層21にあって、コンデンサ形成領域S1
は、他側コンデンサ電極12aと対向する位置に入出力
電極22aが設けられ、同じく他側コンデンサ電極12
bと対向する位置に入出力電極22bが設けられる。さ
らには、入出力電極22a,22b間には、これを容量
結合するための結合電極24が絶縁間隙25,25を置
いて形成され、該絶縁間隙により、結合コンデンサC5
を形成するようにしている。
An insulating layer 20 made of an organic insulating film such as a polyimide resin is laminated on the intermediate conductive layer 11 by a spin coating method or the like. The upper conductive layer 21 formed on the insulating layer 20 is formed by a copper plating method or the like. In the the upper conductive layer 21, the capacitor formation region S 1, input and output electrodes 22a is provided at a position facing the other side capacitor electrodes 12a, also the other side capacitor electrodes 12
An input / output electrode 22b is provided at a position opposing b. Further, input and output electrodes 22a, the inter-22b, which are coupling electrodes 24 for capacitively coupling is formed at the insulating gap 25, 25, the insulating gap, the coupling capacitor C 5
Is formed.

【0013】また、コンデンサ形成領域S1 には、これ
ら入出力電極22a,22b,結合電極24を囲繞する
ように、接地電極26が形成される。そして、この接地
電極26の内側縁の中央からは、インダクタ形成領域S
2 側へ直線路が形成される。この直線路はインダクタL
3 を構成するものであり、後述するようにこの長さを調
整することにより、反射損失を調整することが可能とな
る。そして、このインダクタインダクタL3 の端部から
は、インダクタ形成領域S2 で、両側へ二つに分岐し
て、外側から中心に向けて巻回する二つのスパイラルイ
ンダクタL1 ,L2 が連成されることとなる。
Further, the capacitor formation region S 1, these input and output electrodes 22a, 22b, so as to surround the coupling electrode 24, the ground electrode 26 is formed. From the center of the inner edge of the ground electrode 26, the inductor forming region S
A straight path is formed on the two sides. This straight path is the inductor L
3 , and the reflection loss can be adjusted by adjusting the length as described later. Then, from the end of the inductor inductor L 3, the inductor forming area S 2, is branched into two on both sides, the two spiral inductors L 1, L 2 which is wound toward the center from the outside Coupling Will be done.

【0014】このスパイラルインダクタL1 ,L2 の中
心は、絶縁層20,誘電体薄膜層10を貫通して形成し
た導通路30を介して、絶縁基板1上の共通コンデンサ
電極3a,3bの接続路4,4に接続される。さらに接
地電極26を、絶縁層20に形成した導通路31を介し
て、共振用コンデンサC3 ,C4 の各他側コンデンサ電
極13a,13bに接続される。同様に、入出力電極2
2a,22bは、絶縁層20に形成した導通路32によ
り他側コンデンサ電極12a,12bに接続される。
The centers of the spiral inductors L 1 and L 2 are connected to the common capacitor electrodes 3 a and 3 b on the insulating substrate 1 via a conductive path 30 formed through the insulating layer 20 and the dielectric thin film layer 10. The roads 4 and 4 are connected. Further, the ground electrode 26 is connected to the other-side capacitor electrodes 13a and 13b of the resonance capacitors C 3 and C 4 via the conduction path 31 formed in the insulating layer 20. Similarly, input / output electrode 2
2a and 22b are connected to the other-side capacitor electrodes 12a and 12b by a conduction path 32 formed in the insulating layer 20.

【0015】而して、上述したように、誘電体薄膜層1
0を介して、共通コンデンサ電極3a,他側コンデンサ
電極12a間に入出力用コンデンサC1 が形成され、共
通コンデンサ電極3b,他側コンデンサ電極12b間に
入出力用コンデンサC2 が形成され、さらに共通コンデ
ンサ電極3a,他側コンデンサ電極13a間に共振用コ
ンデンサC3 が形成され、共通コンデンサ電極3b,他
側コンデンサ電極13b間に共振用コンデンサC4 が形
成され、さらに、結合電極24を介して、入出力電極2
2a,22b間に結合コンデンサC5 が形成され得ると
共に、接地側に、インダクタL3 ,共振用コンデンサC
3 ,共振用コンデンサC4 が接続され、かつインダクタ
3 から分岐したスパイラルインダクタL1 に対して、
共振用コンデンサC3 が並列接続し、同じくインダクタ
3 から分岐したスパイラルインダクタL2 に対して、
共振用コンデンサC4 が並列接続して、図3の等価回路
を構成することとなる。
As described above, the dielectric thin film layer 1
Through 0, the common capacitor electrode 3a, output capacitor C 1 between the other side capacitor electrode 12a is formed, the common capacitor electrode 3b, output capacitor C 2 between the other side capacitor electrode 12b is formed, further common capacitor electrode 3a, the resonance capacitor C 3 is formed between the other side capacitor electrodes 13a, the common capacitor electrode 3b, the resonant capacitor C 4 is formed between the other side capacitor electrodes 13b, further, through the coupling electrodes 24 , Input / output electrode 2
2a, together with the coupling capacitor C 5 may be formed between 22b, to the ground, the inductor L 3, a resonance capacitor C
3, relative to the spiral inductor L 1 of the resonant capacitor C 4 is connected, and branched from the inductor L 3,
A resonance capacitor C 3 is connected in parallel, and a spiral inductor L 2 branched from the inductor L 3 ,
Resonant capacitor C 4 is connected in parallel, it constitutes the equivalent circuit of FIG.

【0016】このように、上述した多層構造により、容
量部が小型化し、極小のフィルタが構成され得ることと
鳴る。
As described above, the above-described multilayer structure makes it possible to reduce the size of the capacitance portion and to form a very small filter.

【0017】次に本発明の要部につき説明する。最下層
に配設した絶縁基板1の下面には、その全面にわたって
補助接地電極40が形成される。そして、前記上部導電
層21の接地電極26を、絶縁基板1,誘電体薄膜層1
0及び絶縁層20を貫通して形成した導通孔(導通路)
41を介して補助接地電極40に接続するようにしてい
る。この場合に、導通孔41は縁取り部5には、接続す
るものの、各層の他の導電層には、非接続となるように
している。このように、従来、無垢のままであった絶縁
基板1の下面に、補助接地電極40を形成して最上層に
ある接地電極26と接続したことにより、接地電極面積
が従来に比して、著しく広がる。
Next, the main part of the present invention will be described. An auxiliary ground electrode 40 is formed on the entire lower surface of the insulating substrate 1 disposed at the lowermost layer. Then, the ground electrode 26 of the upper conductive layer 21 is connected to the insulating substrate 1, the dielectric thin film layer 1
0 and conductive holes (conductive paths) formed through the insulating layer 20
A connection is made to the auxiliary ground electrode 40 via 41. In this case, the conduction hole 41 is connected to the edge portion 5 but is not connected to other conductive layers of each layer. As described above, the auxiliary ground electrode 40 is formed on the lower surface of the insulating substrate 1 which has been conventionally solid, and is connected to the ground electrode 26 on the uppermost layer. Spread significantly.

【0018】上述の構成では、導通孔41により、補助
接地電極40と接地電極26とを接続するようにした
が、図2で示すように、絶縁基板1,誘電体薄膜層10
及び絶縁層20の側縁に沿って導電材料を塗着形成し、
これにより導電路50を形成するようにしてもよい。
In the above-described configuration, the auxiliary ground electrode 40 and the ground electrode 26 are connected by the conduction hole 41. However, as shown in FIG.
And applying a conductive material along the side edges of the insulating layer 20,
Thus, the conductive path 50 may be formed.

【0019】[0019]

【発明の効果】上述したように、本発明のLCバンドパ
スフィルタは、最下層に配設した絶縁基板の下面に補助
接地電極を形成し、上部導電層に形成した接地電極を、
厚み方向に形成した導通路を介して補助接地電極に接続
したものであるから、接地電極面積が大きくなり、外部
ノイズを遮断でき、濾波特性が安定化する。このため、
LCバンドパスフィルタの小型化を損なうことなく、そ
の濾波特性を改善し得る優れた効果がある。
As described above, in the LC bandpass filter of the present invention, the auxiliary ground electrode is formed on the lower surface of the insulating substrate provided on the lowermost layer, and the ground electrode formed on the upper conductive layer is
Since the ground electrode is connected to the auxiliary ground electrode via the conductive path formed in the thickness direction, the area of the ground electrode increases, external noise can be cut off, and the filtering characteristics are stabilized. For this reason,
There is an excellent effect that the filtering characteristics can be improved without impairing the miniaturization of the LC bandpass filter.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るLCバンドパスフィルタの分離斜
視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view of an LC bandpass filter according to the present invention.

【図2】他の構成の導通路50を示す一部の縦断側面図
である。
FIG. 2 is a partial longitudinal side view showing a conduction path 50 having another configuration.

【図3】等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁基板 2 下部導電層 3a,3b 共通コンデンサ電極 10 誘電体薄膜層 11 中間導電層 12a,12b 他側コンデンサ電極 13a,13b 他側コンデンサ電極 20 絶縁層 21 上部導電層 22a,22b 入出力電極 24 結合電極 26 接地電極 L3 インダクタ L1 ,L2 スパイラルインダクタ C1 ,C2 入出力用コンデンサ C3 ,C4 共振用コンデンサ S1 コンデンサ形成領域 S2 インダクタ形成領域 40 補助接地電極 41 導通孔 50 導電路DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating substrate 2 Lower conductive layer 3a, 3b Common capacitor electrode 10 Dielectric thin film layer 11 Intermediate conductive layer 12a, 12b Other-side capacitor electrode 13a, 13b Other-side capacitor electrode 20 Insulating layer 21 Upper conductive layer 22a, 22b Input / output electrode 24 Coupling electrode 26 ground electrode L 3 inductor L 1 , L 2 spiral inductor C 1 , C 2 input / output capacitor C 3 , C 4 resonance capacitor S 1 capacitor formation area S 2 inductor formation area 40 auxiliary ground electrode 41 conduction hole 50 Conductive path

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】多層構造からなり、その最上層に配設され
た上部導電層に、少なくとも接地電極を設け、更に最下
層に配設した絶縁基板の下面に補助接地電極を形成し、
前記上部導電層の接地電極を、厚み方向に形成された導
通路を介して補助接地電極に接続したことを特徴とする
LCバンドパスフィルタ。
An upper conductive layer provided on an uppermost layer thereof, at least a ground electrode, and an auxiliary ground electrode formed on a lower surface of an insulating substrate provided on a lowermost layer;
An LC bandpass filter, wherein the ground electrode of the upper conductive layer is connected to an auxiliary ground electrode via a conductive path formed in a thickness direction.
【請求項2】最下層となる絶縁基板1の表面に、下部導
電層2を形成して、この下部導電層2に二つの共通コン
デンサ電極3a,3bを並設し、該下部導電層2上に誘
電体薄膜層10を形成し、さらに該誘電体薄膜層10上
に、中間導電層11を形成して、該中間導電層11に共
通コンデンサ電極3aと対向する部位に、入出力用コン
デンサC1 ,共振用コンデンサC3 の他側コンデンサ電
極12a,13aを夫々設け、共通コンデンサ電極3b
と対向する部位に、入出力用コンデンサC2 ,共振用コ
ンデンサC4 の他側コンデンサ電極12b,13bを夫
々設け、さらに中間導電層11上に絶縁層20を設け
て、該絶縁層20上に、上部導電層21を形成し、 この上部導電層21に、接地電極26と、該接地電極2
6から延出するインダクタL1 ,L2 と、さらには、前
記入出力用コンデンサC1 ,C2 の他側コンデンサ電極
12a,12bと夫々接続する入出力電極22a,22
bとを配設すると共に、 インダクタL1 ,L2 の端部を、下部導電層2の共通コ
ンデンサ電極3a,3bに夫々接続し、さらに接地電極
26を、下部導電層2の他側コンデンサ電極13a,1
3bに夫々接続し、 さらには、最下層に配設した絶縁基板1の下面に補助接
地電極40を形成し、前記上部導電層21の接地電極2
6を、厚み方向に形成された導通路41を介して補助接
地電極40に接続したことを特徴とする請求項1記載の
LCバンドパスフィルタ。
2. A lower conductive layer 2 is formed on the surface of an insulating substrate 1 serving as a lowermost layer, and two common capacitor electrodes 3a and 3b are provided on the lower conductive layer 2 in parallel. A dielectric thin-film layer 10 is formed on the dielectric thin-film layer 10, and an intermediate conductive layer 11 is formed on the dielectric thin-film layer 10. An input / output capacitor C is provided on the intermediate conductive layer 11 at a position facing the common capacitor electrode 3a. 1, the other side capacitor electrode 12a of the resonance capacitor C 3, the 13a provided respectively, the common capacitor electrode 3b
The other side capacitor electrodes 12b and 13b of the input / output capacitor C 2 and the resonance capacitor C 4 are provided on the portion opposed to, and the insulating layer 20 is further provided on the intermediate conductive layer 11. , An upper conductive layer 21, and a ground electrode 26 and the ground electrode 2
An inductor L 1, L 2 extending from 6, further, the input capacitor C 1, C 2 of the other side capacitor electrodes 12a, 12b and respectively connected to input and output electrodes 22a, 22
b, the ends of the inductors L 1 and L 2 are connected to the common capacitor electrodes 3 a and 3 b of the lower conductive layer 2, respectively, and the ground electrode 26 is connected to the other capacitor electrode of the lower conductive layer 2. 13a, 1
3b, and an auxiliary ground electrode 40 is formed on the lower surface of the insulating substrate 1 disposed on the lowermost layer.
2. The LC bandpass filter according to claim 1, wherein the first and second electrodes are connected to an auxiliary ground electrode via a conductive path formed in the thickness direction.
JP8248644A 1996-08-30 1996-08-30 LC bandpass filter Pending JPH1075143A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8248644A JPH1075143A (en) 1996-08-30 1996-08-30 LC bandpass filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8248644A JPH1075143A (en) 1996-08-30 1996-08-30 LC bandpass filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1075143A true JPH1075143A (en) 1998-03-17

Family

ID=17181191

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8248644A Pending JPH1075143A (en) 1996-08-30 1996-08-30 LC bandpass filter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1075143A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1075145A (en) * 1996-08-30 1998-03-17 Ngk Spark Plug Co Ltd LC bandpass filter

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4930861A (en) * 1972-07-21 1974-03-19
JPS6247222U (en) * 1985-09-10 1987-03-23
JPH04131908U (en) * 1991-05-29 1992-12-04 サンシン電機株式会社 high frequency filter
JPH05343262A (en) * 1992-06-08 1993-12-24 Tdk Corp Multilayered thin film electronic component for high frequency
JPH06151243A (en) * 1992-11-12 1994-05-31 Tdk Corp Laminated filter
JPH07130575A (en) * 1993-10-29 1995-05-19 Kyocera Corp Laminated filter parts
JPH1075145A (en) * 1996-08-30 1998-03-17 Ngk Spark Plug Co Ltd LC bandpass filter

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4930861A (en) * 1972-07-21 1974-03-19
JPS6247222U (en) * 1985-09-10 1987-03-23
JPH04131908U (en) * 1991-05-29 1992-12-04 サンシン電機株式会社 high frequency filter
JPH05343262A (en) * 1992-06-08 1993-12-24 Tdk Corp Multilayered thin film electronic component for high frequency
JPH06151243A (en) * 1992-11-12 1994-05-31 Tdk Corp Laminated filter
JPH07130575A (en) * 1993-10-29 1995-05-19 Kyocera Corp Laminated filter parts
JPH1075145A (en) * 1996-08-30 1998-03-17 Ngk Spark Plug Co Ltd LC bandpass filter

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1075145A (en) * 1996-08-30 1998-03-17 Ngk Spark Plug Co Ltd LC bandpass filter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3127792B2 (en) LC resonator and LC filter
US7667951B2 (en) Electronic component
JP2001520470A (en) Surface mount LC filter with polymer layer
JP2007300002A (en) Electronic components
JPH07193403A (en) Resonator
US7307829B1 (en) Integrated broadband ceramic capacitor array
US20070132060A1 (en) Electronic component
US20070035363A1 (en) Electromagnetic delay line inductance element
JP2008027982A (en) Lc composite component
JP2863387B2 (en) Multilayer dielectric filter
JPH1075144A (en) LC bandpass filter and frequency characteristic adjustment method thereof
JP3135443B2 (en) Multilayer ceramic capacitors
JPH1075143A (en) LC bandpass filter
JPH1075145A (en) LC bandpass filter
JP2001044778A (en) Composite electronic components
WO2024014212A1 (en) Electronic component
JPH1065476A (en) LC low pass filter
JP2005116647A (en) Common mode choke coil, manufacturing method thereof, and common mode choke coil array
JP2002261518A (en) Laminated dielectric resonator and laminated dielectric filter
JPH1051257A (en) LC low pass filter
JP3955212B2 (en) Multilayer dielectric filter
US20250037919A1 (en) Electronic component
JP3176859B2 (en) Dielectric filter
JPH06140804A (en) Strip line filter
JPH10150337A (en) Method of adjusting reflection characteristics of LC low-pass filter