JPH107668A - 光学活性なグリシド酸エステルの製造法 - Google Patents
光学活性なグリシド酸エステルの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学活性な3−(p−メトキシフェニル)グ
リシド酸エステルの工業的製造法の開発を目的とする。 【解決手段】 式(I): 【化1】 で示される化合物を、炭化水素系溶媒中、アルドール縮
合試薬および式(II): 【化2】 で示される化合物と反応させ、式(III): 【化3】 で示される化合物を得、次いで該化合物をエポキシ化す
ることを特徴とする式(IV): 【化4】 で示されるグリシド酸エステルを得ることを特徴とする
製造法を提供する。
リシド酸エステルの工業的製造法の開発を目的とする。 【解決手段】 式(I): 【化1】 で示される化合物を、炭化水素系溶媒中、アルドール縮
合試薬および式(II): 【化2】 で示される化合物と反応させ、式(III): 【化3】 で示される化合物を得、次いで該化合物をエポキシ化す
ることを特徴とする式(IV): 【化4】 で示されるグリシド酸エステルを得ることを特徴とする
製造法を提供する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ジルチアゼム(Diltia
zem)に代表される血管拡張作用を有する(+)−シス
型1,5−ベンゾチアゼピン誘導体の有用な合成中間体
である光学活性3−(p−メトキシフェニル)グリシド
酸エステルの製造法に関する。
zem)に代表される血管拡張作用を有する(+)−シス
型1,5−ベンゾチアゼピン誘導体の有用な合成中間体
である光学活性3−(p−メトキシフェニル)グリシド
酸エステルの製造法に関する。
【0002】
【従来技術】(+)−シス型の1,5−ベンゾチアゼピ
ン誘導体であるジルチアゼム(V)の一般的な製造法と
しては、例えば下記の反応式:
ン誘導体であるジルチアゼム(V)の一般的な製造法と
しては、例えば下記の反応式:
【化5】 で示される合成ルートが知られている(薬学雑誌、19
88年、108巻、716頁)。この合成ルートによれ
ば、 o−ニトロチオフェノール(VI)と(−)−3
−(p−メトキシフェニル)グリシド酸メチルエステル
(VII)とを付加反応させた後、得られたスレオ型中
間体のニトロ基を還元、メチルエステルを加水分解し、
環化、N−アルキル化、アセチル化を経て目的のジルチ
アゼム(V)を得ている。化合物(V)のような、分子
内に2つの不斉炭素を有する化合物は、理論上4種類の
光学異性体が可能であるが、化合物(V)の場合、
(+)−シス体のみが強力な薬効を有することが明らか
にされているため、所望の(+)−シス型1,5−ベン
ゾチアゼピン誘導体(V)を効率よく製造するために、
光学活性体(VII)を出発原料として用いている。
88年、108巻、716頁)。この合成ルートによれ
ば、 o−ニトロチオフェノール(VI)と(−)−3
−(p−メトキシフェニル)グリシド酸メチルエステル
(VII)とを付加反応させた後、得られたスレオ型中
間体のニトロ基を還元、メチルエステルを加水分解し、
環化、N−アルキル化、アセチル化を経て目的のジルチ
アゼム(V)を得ている。化合物(V)のような、分子
内に2つの不斉炭素を有する化合物は、理論上4種類の
光学異性体が可能であるが、化合物(V)の場合、
(+)−シス体のみが強力な薬効を有することが明らか
にされているため、所望の(+)−シス型1,5−ベン
ゾチアゼピン誘導体(V)を効率よく製造するために、
光学活性体(VII)を出発原料として用いている。
【0003】このように、光学活性化合物(VII)の
効率よい製造法の開発は、(+)−シス型1,5−ベン
ゾチアゼピン誘導体をより効率よく製造するための改良
法につながると期待される。既に化合物(VII)の製
造法としては、生化学反応を利用する酵素法と化学合成
法が知られているが、化学法合成ではさらに光学分割を
経る方法と不斉合成法の2つの方法が報告されている。
光学分割を経て光学活性化合物(VII)を得る方法と
しては、ラセミ体の3−(p−メトキシフェニル)グリ
シド酸に光学活性アミンを作用させて光学分割した後
(収率44%)、エステル化する方法がある(特開昭6
0−13775、特開昭60−13776)。また、ラ
セミ体の3−(p−メトキシフェニル)グリシド酸アル
カリ金属塩に光学活性な有機アミンの鉱酸塩を反応させ
ることにより光学分割し(収率71%)、その後エステ
ル化するか、ラセミ体の3−(p−メトキシフェニル)
グリシド酸アルカリ金属塩に光学活性な有機アミンを加
えた後、塩酸を滴下することにより光学分割し(収率8
0%)、その後エステル化する方法も既知である(特公
平4−61867および特開平2−17168)。
効率よい製造法の開発は、(+)−シス型1,5−ベン
ゾチアゼピン誘導体をより効率よく製造するための改良
法につながると期待される。既に化合物(VII)の製
造法としては、生化学反応を利用する酵素法と化学合成
法が知られているが、化学法合成ではさらに光学分割を
経る方法と不斉合成法の2つの方法が報告されている。
光学分割を経て光学活性化合物(VII)を得る方法と
しては、ラセミ体の3−(p−メトキシフェニル)グリ
シド酸に光学活性アミンを作用させて光学分割した後
(収率44%)、エステル化する方法がある(特開昭6
0−13775、特開昭60−13776)。また、ラ
セミ体の3−(p−メトキシフェニル)グリシド酸アル
カリ金属塩に光学活性な有機アミンの鉱酸塩を反応させ
ることにより光学分割し(収率71%)、その後エステ
ル化するか、ラセミ体の3−(p−メトキシフェニル)
グリシド酸アルカリ金属塩に光学活性な有機アミンを加
えた後、塩酸を滴下することにより光学分割し(収率8
0%)、その後エステル化する方法も既知である(特公
平4−61867および特開平2−17168)。
【0004】しかしながら、この光学分割を経る方法に
は以下のような問題点が存在する。すなわち、特開昭6
0−13775記載の方法では一般に不安定であること
が知られている3−(p−メトキシフェニル)グリシド
酸を単離していることから収率が著しく低下しているの
で、工業化には不適当である。また特公平4−6186
7記載の方法では、アミンの鉱酸塩を調製しなければな
らず、さらに分割の際に生じる無機塩を濾去した後に結
晶化しなくてはならないなど操作が煩雑である。一方、
特開平2−17168記載の最後に塩酸を滴下する方法
では、特に工業的手法として大量の反応を行う場合、強
酸性条件での分解産物の生成を抑制するため、大量の希
釈した酸を長時間かけて加える必要があり、これも工業
化には不適である。
は以下のような問題点が存在する。すなわち、特開昭6
0−13775記載の方法では一般に不安定であること
が知られている3−(p−メトキシフェニル)グリシド
酸を単離していることから収率が著しく低下しているの
で、工業化には不適当である。また特公平4−6186
7記載の方法では、アミンの鉱酸塩を調製しなければな
らず、さらに分割の際に生じる無機塩を濾去した後に結
晶化しなくてはならないなど操作が煩雑である。一方、
特開平2−17168記載の最後に塩酸を滴下する方法
では、特に工業的手法として大量の反応を行う場合、強
酸性条件での分解産物の生成を抑制するため、大量の希
釈した酸を長時間かけて加える必要があり、これも工業
化には不適である。
【0005】他方、不斉合成を経る方法では、光学活性
リチウムアミド化合物とアルキルリチウム存在下でのハ
ロゲノ酢酸エステルとベンズアルデヒドとのカップリン
グ反応を経る方法(特開平1−226881)、および
2−ハロゲノ−3−オキソ−3−フェニルプロピオン酸
誘導体の不斉還元を経る方法(特開平3−19086
5)等が知られている。しかしこれらの不斉合成を経る
方法では、反応収率および光学収率の問題、あるいは不
斉源が無駄になるというコスト的な問題があり、工業化
には不適当である。また、オキサゾリジノン誘導体を縮
合試薬およびアルデヒド化合物との反応に付す方法(Te
trahedron Letters, Vol.28, No.1, 39-42, 1987)が知
られているが、この方法では、溶媒としてジエチルエー
テルを使用しているため工業的手法としては不適であ
る。
リチウムアミド化合物とアルキルリチウム存在下でのハ
ロゲノ酢酸エステルとベンズアルデヒドとのカップリン
グ反応を経る方法(特開平1−226881)、および
2−ハロゲノ−3−オキソ−3−フェニルプロピオン酸
誘導体の不斉還元を経る方法(特開平3−19086
5)等が知られている。しかしこれらの不斉合成を経る
方法では、反応収率および光学収率の問題、あるいは不
斉源が無駄になるというコスト的な問題があり、工業化
には不適当である。また、オキサゾリジノン誘導体を縮
合試薬およびアルデヒド化合物との反応に付す方法(Te
trahedron Letters, Vol.28, No.1, 39-42, 1987)が知
られているが、この方法では、溶媒としてジエチルエー
テルを使用しているため工業的手法としては不適であ
る。
【0006】また酵素法では、エステラーゼを用いた方
法(特開平4−228070)が知られているが、この
方法も特別な装置を使用しなくてはならないことや、後
処理が困難である等の問題がある。このように従来法で
はいずれの方法においても、光学活性化合物(VII)
の工業生産に多くの問題を残している。
法(特開平4−228070)が知られているが、この
方法も特別な装置を使用しなくてはならないことや、後
処理が困難である等の問題がある。このように従来法で
はいずれの方法においても、光学活性化合物(VII)
の工業生産に多くの問題を残している。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、式(IV)
で示される(−)−3−(p−メトキシフェニル)グリ
シド酸エステルの効率的で安全な製造法を目的として鋭
意研究を重ねた結果、式(I)で示される化合物を、炭
化水素系溶媒中、アルドール縮合試薬および式(II)
で示される化合物と反応させ、式(III)で示される
化合物とし、さらにエポキシ化することにより、光学活
性な化合物(IV)へと導くことに成功し、本発明を完
成した。
で示される(−)−3−(p−メトキシフェニル)グリ
シド酸エステルの効率的で安全な製造法を目的として鋭
意研究を重ねた結果、式(I)で示される化合物を、炭
化水素系溶媒中、アルドール縮合試薬および式(II)
で示される化合物と反応させ、式(III)で示される
化合物とし、さらにエポキシ化することにより、光学活
性な化合物(IV)へと導くことに成功し、本発明を完
成した。
【0008】即ち、本発明は式(I):
【化6】 (式中、R1は水素、アルキル、アルコキシまたはハロ
ゲン;R2はアルキルまたはアルコキシ;Xはハロゲ
ン)で示される化合物を、炭化水素系溶媒中、アルドー
ル縮合試薬および式(II):
ゲン;R2はアルキルまたはアルコキシ;Xはハロゲ
ン)で示される化合物を、炭化水素系溶媒中、アルドー
ル縮合試薬および式(II):
【化7】 (式中、R3は水素、アルキル、アルコキシまたはハロ
ゲン)で示される化合物と反応させ、式(III):
ゲン)で示される化合物と反応させ、式(III):
【化8】 (式中、R1、R2、R3およびXは前記と同意義であ
る)で示される化合物を得、次いで該化合物をエポキシ
化することを特徴とする式(IV):
る)で示される化合物を得、次いで該化合物をエポキシ
化することを特徴とする式(IV):
【化9】 (式中、R4はアルキルを表わし、R3は前記と同意義で
ある)で示されるグリシド酸エステルを得ることを特徴
とする製造法を提供するものである。
ある)で示されるグリシド酸エステルを得ることを特徴
とする製造法を提供するものである。
【0009】本明細書中、「アルキル」とは、直鎖状ま
たは分枝状のC1〜C6アルキル、例えば、メチル、エ
チル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、sec-ブチル、およびtert-ブチル、n-ペンチル、n-
ヘキシル等を意味し、特にC1〜C3アルキルが好まし
い。
たは分枝状のC1〜C6アルキル、例えば、メチル、エ
チル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、sec-ブチル、およびtert-ブチル、n-ペンチル、n-
ヘキシル等を意味し、特にC1〜C3アルキルが好まし
い。
【0010】「アルコキシ」とは、直鎖状または分枝状
のC1〜C6アルコキシをい意味し、例えば、メトキシ、
エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキ
シ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、n-
ペンチルオキシ、n-ヘキシルオキシ等が例示される。
「ハロゲン」とはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意
味する。
のC1〜C6アルコキシをい意味し、例えば、メトキシ、
エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキ
シ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、n-
ペンチルオキシ、n-ヘキシルオキシ等が例示される。
「ハロゲン」とはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意
味する。
【0011】本発明は、式(I)で示される化合物を、
炭化水素系溶媒中、塩基の存在下でアルドール縮合試薬
および式(II)で示される化合物と反応させ、次い
で、エポキシ化することにより式(IV)で示されるグ
リシド酸エステルを製造する。本発明の出発物質である
光学活性体のオキサゾリジノン誘導体(I)は既知化合
物であり、例えば、J.Am.Chem.Soc.1981, 103, 2127-21
29に記載の方法に準じて製造することができる。化合物
(I)にアルデヒド誘導体(II)を縮合させる際に使
用される塩基としては、トリエチルアミン、N,N−ジ
イソプロピルーN−エチルアミン、ピリジン等が挙げら
れる。また、アルドール縮合試薬としては、n-ジブチル
ボロントリフレート、塩化亜鉛、錫(II)トリフレー
ト等が挙げられる。また、炭化水素系溶媒としては、ジ
クロロメタン、トルエン、ヘキサン、トルエンーヘキサ
ン混合溶媒、ジクロロメタンーヘキサン混合溶媒等が挙
げられる。該化合物(I)に対して、塩基を1〜5当
量、好ましくは、1.3〜2当量、アルドール縮合試薬
を1〜2当量、好ましくは、1〜1.5当量反応させ
る。反応温度は、―78℃〜20℃で行う。好ましく
は、―20℃である。また、本発明に用いる式(II)
で示される化合物の具体例としては、p-メトキシベンズ
アルデヒド、p-エトキシベンズアルデヒド、p-メチルベ
ンズアルデヒド、p-クロロベンズアルデヒド等が挙げら
れる。また、エポキシ化は、アルコール系溶媒中、塩基
の存在下で行う。アルコール系溶媒としは、メタノー
ル、エタノール等が挙げられる。塩基としては、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメト
キシド、カリウムブトキシド等が挙げられる。
炭化水素系溶媒中、塩基の存在下でアルドール縮合試薬
および式(II)で示される化合物と反応させ、次い
で、エポキシ化することにより式(IV)で示されるグ
リシド酸エステルを製造する。本発明の出発物質である
光学活性体のオキサゾリジノン誘導体(I)は既知化合
物であり、例えば、J.Am.Chem.Soc.1981, 103, 2127-21
29に記載の方法に準じて製造することができる。化合物
(I)にアルデヒド誘導体(II)を縮合させる際に使
用される塩基としては、トリエチルアミン、N,N−ジ
イソプロピルーN−エチルアミン、ピリジン等が挙げら
れる。また、アルドール縮合試薬としては、n-ジブチル
ボロントリフレート、塩化亜鉛、錫(II)トリフレー
ト等が挙げられる。また、炭化水素系溶媒としては、ジ
クロロメタン、トルエン、ヘキサン、トルエンーヘキサ
ン混合溶媒、ジクロロメタンーヘキサン混合溶媒等が挙
げられる。該化合物(I)に対して、塩基を1〜5当
量、好ましくは、1.3〜2当量、アルドール縮合試薬
を1〜2当量、好ましくは、1〜1.5当量反応させ
る。反応温度は、―78℃〜20℃で行う。好ましく
は、―20℃である。また、本発明に用いる式(II)
で示される化合物の具体例としては、p-メトキシベンズ
アルデヒド、p-エトキシベンズアルデヒド、p-メチルベ
ンズアルデヒド、p-クロロベンズアルデヒド等が挙げら
れる。また、エポキシ化は、アルコール系溶媒中、塩基
の存在下で行う。アルコール系溶媒としは、メタノー
ル、エタノール等が挙げられる。塩基としては、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメト
キシド、カリウムブトキシド等が挙げられる。
【0012】以下の実施例により本発明法を具体的に説
明する。 参考例1
明する。 参考例1
【化10】 (4R,5S)―(+)−4―メチルー5―フェニルー
2―オキザゾリドン(1) クロロギ酸エチル10.5ml(1.1当量)をトルエ
ン20mlに溶かし、(1S,2R)―(+)−ノルエ
フェドリン15.12g(100mmol)、トリエチ
ルアミン15.3ml(1.1当量)をトルエン120
mlに溶かした液へ10分を要して加えた。反応混合物
を30分間攪拌した後、水を加え、トルエンで抽出し
た。有機層を水、希塩酸、炭酸ナトリウムー水、水で順
次洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧
濃縮し、エトキシカルボニル体の結晶残渣22.03g
(98.7%)を得た。エトキシカルボニル体21.3
6g(95.7mmol)をトルエン210mlに溶か
し、―20℃に冷却し、カリウムーtert―ブトキシド1
2.88g(1.2当量)を加えた。反応混合物は、同
温度で1時間、氷冷1時間攪拌後、水で希釈し、有機層
を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し
た。得られた結晶残渣はトルエン120ml、ヘキサン
60mlから再結晶し、化合物(1)15.2g(収率
89.6%)を得た。 融点 124―125℃(柱晶) [α] D 24=+164.7°(c 1.96, CHCl3) [Lit. (Aldrich pp. 869 1992-1993) mp 121-123℃;
[α] D 25=+170°(c 2,CHCl3)] IR (Nujol): 3260, 3160(sh), 1758, 1715, 1500 cm-1 NMR (CDCl3): δ0.82 (d, J=6.4Hz, 3H), 4.21 (m, 1H)
5.4 (bs, 1H), 5.72(d, J=8.0 Hz, 1H), 7.25-7.4 (m,
5H)
2―オキザゾリドン(1) クロロギ酸エチル10.5ml(1.1当量)をトルエ
ン20mlに溶かし、(1S,2R)―(+)−ノルエ
フェドリン15.12g(100mmol)、トリエチ
ルアミン15.3ml(1.1当量)をトルエン120
mlに溶かした液へ10分を要して加えた。反応混合物
を30分間攪拌した後、水を加え、トルエンで抽出し
た。有機層を水、希塩酸、炭酸ナトリウムー水、水で順
次洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧
濃縮し、エトキシカルボニル体の結晶残渣22.03g
(98.7%)を得た。エトキシカルボニル体21.3
6g(95.7mmol)をトルエン210mlに溶か
し、―20℃に冷却し、カリウムーtert―ブトキシド1
2.88g(1.2当量)を加えた。反応混合物は、同
温度で1時間、氷冷1時間攪拌後、水で希釈し、有機層
を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し
た。得られた結晶残渣はトルエン120ml、ヘキサン
60mlから再結晶し、化合物(1)15.2g(収率
89.6%)を得た。 融点 124―125℃(柱晶) [α] D 24=+164.7°(c 1.96, CHCl3) [Lit. (Aldrich pp. 869 1992-1993) mp 121-123℃;
[α] D 25=+170°(c 2,CHCl3)] IR (Nujol): 3260, 3160(sh), 1758, 1715, 1500 cm-1 NMR (CDCl3): δ0.82 (d, J=6.4Hz, 3H), 4.21 (m, 1H)
5.4 (bs, 1H), 5.72(d, J=8.0 Hz, 1H), 7.25-7.4 (m,
5H)
【0013】実施例1(4R,5S)―(+)−3―クロロアセチルー4―メ
チルー5―フェニルー2―オキザゾリジノン(2) 参考例1で得た化合物(1)49.61g(280mm
ol)は無水テトラヒドロフラン450mlに溶かし、
―65℃に冷却し、1.8M n―ブチルリチウム、ヘ
キサン溶液166ml(1.07当量)を15分間、滴
下した。同温度で15分間攪拌後、塩化クロロアセチル
25.4ml(1.1当量)を無水テトラヒドロフラン
50mlに溶かし、同温度で30分を要して加えた。反
応物を―65℃で45分間、氷冷下で20分間攪拌した
後、水とドライアイスを加え、ジクロロメタンで抽出し
た。有機層を水、炭酸ナトリウムー水、水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた
油状物はシリカゲル(500g)を用い、ジクロロメタ
ンーヘキサン(1:1)でクロマトを行い、薄層クロマ
トで単一のスポットを示す油状化合物(2)63.98
g(収率90.1%)を得た。一部をエーテルーヘキサ
ンから結晶化後、再結晶した。 融点 62.5―63℃(プリズム晶) 元素分析値(%)C12H12NO3Cl 計算値:C, 56.82; H, 4.77; N, 5.52; Cl, 13.97 実測値:C, 56.76; H, 4.80; N, 5.70; Cl, 13.88 IR (Nujol): 1780, 1611, 1498 cm-1 NMR (CDCl3): δ0.95 (d, J=6.8Hz, 3H), 4.77 (s, 2
H), 4.81 (six, J=6.8 and 7.4Hz, 1H), 5.76 (d, J=7.
4Hz, 1H), 7.25-7.5 (m, 5H) [α] D 24=+25.3°(c 1.016, CHCl3)
チルー5―フェニルー2―オキザゾリジノン(2) 参考例1で得た化合物(1)49.61g(280mm
ol)は無水テトラヒドロフラン450mlに溶かし、
―65℃に冷却し、1.8M n―ブチルリチウム、ヘ
キサン溶液166ml(1.07当量)を15分間、滴
下した。同温度で15分間攪拌後、塩化クロロアセチル
25.4ml(1.1当量)を無水テトラヒドロフラン
50mlに溶かし、同温度で30分を要して加えた。反
応物を―65℃で45分間、氷冷下で20分間攪拌した
後、水とドライアイスを加え、ジクロロメタンで抽出し
た。有機層を水、炭酸ナトリウムー水、水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた
油状物はシリカゲル(500g)を用い、ジクロロメタ
ンーヘキサン(1:1)でクロマトを行い、薄層クロマ
トで単一のスポットを示す油状化合物(2)63.98
g(収率90.1%)を得た。一部をエーテルーヘキサ
ンから結晶化後、再結晶した。 融点 62.5―63℃(プリズム晶) 元素分析値(%)C12H12NO3Cl 計算値:C, 56.82; H, 4.77; N, 5.52; Cl, 13.97 実測値:C, 56.76; H, 4.80; N, 5.70; Cl, 13.88 IR (Nujol): 1780, 1611, 1498 cm-1 NMR (CDCl3): δ0.95 (d, J=6.8Hz, 3H), 4.77 (s, 2
H), 4.81 (six, J=6.8 and 7.4Hz, 1H), 5.76 (d, J=7.
4Hz, 1H), 7.25-7.5 (m, 5H) [α] D 24=+25.3°(c 1.016, CHCl3)
【0014】(4R,5S,2R′,3S′)―(―)
―3―(2′クロロー3′―ヒドロキシー3′―
(4′′―メトキシフェニル)―1―オキソプロピルー
4―メチルー5―フェニルー2―オキザゾリジノン
(3) 前記で得た化合物(2)10.16g(40mmo
l)、トリエチルアミン8.63ml(1.55当量)
をトルエンーヘキサン(1:2)180mlに溶かし、
―22℃に冷却、1M n―ジブチルボロントリフレー
ト、ジクロロメタン溶液50ml(1.25当量)を1
2分間滴下した。淡黄色の反応液は室温で1時間攪拌
後、再びー20〜―23℃に冷却し、p-アニスアルデヒ
ド7.08g(1.3当量)を10分間加え、同温度で
1.5時間、氷冷下で0.5時間後、メタノール50m
l、0.2M pH7のリン酸緩衝液80mlを加えた。
5分後、30%過酸化水素水40mlを氷冷下加えた。
この反応混合物を30分間激しく攪拌後、析出した結晶
を濾取、水洗、乾燥して化合物(3)9.27g(収率
59.4%)を得た。 融点 135―137℃ [α] D 24=−39.8°(c 1.016, CHCl3) 2層からなる濾液は分液し、有機層を水、10%重亜硫
酸ナトリウム(3回)、炭酸ナトリウム、水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。
得られた油状物はシリカゲル(70g)を用い、ヘキサ
ンーアセトン(5:1〜4:1)でクロマトを行い、残
渣をトルエンーヘキサンから再結晶し、さらに化合物
(3)0.864g(収率5.5%)を得た。一部をさ
らにアセトンーヘキサンから再結晶した。 融点 138―139℃(柱晶) 元素分析値(%)C20H20NO5Cl 計算値:C, 61.62; H, 5.17; N, 3.59; Cl, 9.09 実測値:C, 61.64; H, 5.16; N, 3.59; Cl, 8.86 [α] D 22=−39.4°(c 1.020, CHCl3) IR (Nujol): 3460, 1794, 1788 (sh), 1718, 1613 158
9, 1510 cm-1 NMR (CDCl3): δ0.88 (d, J=6.6Hz, 3H), 3.81 (s, 3
H), 4.54 (quint, J=7.0Hz, 1H), 5.14 (d, J=6.8Hz, 1
H), 5.32 (d, J=7.2Hz, 1H), 5.96 (d, J=6.8Hz,1H),
6.92 (d,J=9.0Hz, 2H), 7.22 (m, 2H), 7.4 (m, 5H)
[α] D 22=−39.4°(c 1.020, CHCl3)
―3―(2′クロロー3′―ヒドロキシー3′―
(4′′―メトキシフェニル)―1―オキソプロピルー
4―メチルー5―フェニルー2―オキザゾリジノン
(3) 前記で得た化合物(2)10.16g(40mmo
l)、トリエチルアミン8.63ml(1.55当量)
をトルエンーヘキサン(1:2)180mlに溶かし、
―22℃に冷却、1M n―ジブチルボロントリフレー
ト、ジクロロメタン溶液50ml(1.25当量)を1
2分間滴下した。淡黄色の反応液は室温で1時間攪拌
後、再びー20〜―23℃に冷却し、p-アニスアルデヒ
ド7.08g(1.3当量)を10分間加え、同温度で
1.5時間、氷冷下で0.5時間後、メタノール50m
l、0.2M pH7のリン酸緩衝液80mlを加えた。
5分後、30%過酸化水素水40mlを氷冷下加えた。
この反応混合物を30分間激しく攪拌後、析出した結晶
を濾取、水洗、乾燥して化合物(3)9.27g(収率
59.4%)を得た。 融点 135―137℃ [α] D 24=−39.8°(c 1.016, CHCl3) 2層からなる濾液は分液し、有機層を水、10%重亜硫
酸ナトリウム(3回)、炭酸ナトリウム、水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。
得られた油状物はシリカゲル(70g)を用い、ヘキサ
ンーアセトン(5:1〜4:1)でクロマトを行い、残
渣をトルエンーヘキサンから再結晶し、さらに化合物
(3)0.864g(収率5.5%)を得た。一部をさ
らにアセトンーヘキサンから再結晶した。 融点 138―139℃(柱晶) 元素分析値(%)C20H20NO5Cl 計算値:C, 61.62; H, 5.17; N, 3.59; Cl, 9.09 実測値:C, 61.64; H, 5.16; N, 3.59; Cl, 8.86 [α] D 22=−39.4°(c 1.020, CHCl3) IR (Nujol): 3460, 1794, 1788 (sh), 1718, 1613 158
9, 1510 cm-1 NMR (CDCl3): δ0.88 (d, J=6.6Hz, 3H), 3.81 (s, 3
H), 4.54 (quint, J=7.0Hz, 1H), 5.14 (d, J=6.8Hz, 1
H), 5.32 (d, J=7.2Hz, 1H), 5.96 (d, J=6.8Hz,1H),
6.92 (d,J=9.0Hz, 2H), 7.22 (m, 2H), 7.4 (m, 5H)
[α] D 22=−39.4°(c 1.020, CHCl3)
【0015】メチル (2R,3S)―(―)―3―
(4―メトキシフェニル)グリシデート(4) 前記で得た化合物(3)1.330g(3.41mmo
l)をメタノール6mlに懸濁氷冷下、0.5Mナトリ
ウムメチラートのメタノール溶液16.5ml(2.4
当量)を加えた。1.5時間同温度で攪拌後、ドライア
イスと氷を加えジクロロメタンで抽出した。有機層を水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。得られた残渣はジイソプロピルエーテル10mlに
溶解し、化合物(1)の種核を加え放置した。析出結晶
を濾過すると化合物(1)498mg(収率82.4
%;融点124―125℃)が得られた。この母液を減
圧留去後、残渣はt―ブチルアルコール2mlから再結
晶して567mg(収率79.9%)のグリシデートを
得た。 融点 88―89℃ [α] 578 24=−211.8°(c 0.501, CH3OH) [(特開平2―17168) 融点 89.2℃;[α]
578 22=−212.2°(c 0.504, CH3OH)] NMRスペクトルは
標品のスペクトルに一致した。
(4―メトキシフェニル)グリシデート(4) 前記で得た化合物(3)1.330g(3.41mmo
l)をメタノール6mlに懸濁氷冷下、0.5Mナトリ
ウムメチラートのメタノール溶液16.5ml(2.4
当量)を加えた。1.5時間同温度で攪拌後、ドライア
イスと氷を加えジクロロメタンで抽出した。有機層を水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。得られた残渣はジイソプロピルエーテル10mlに
溶解し、化合物(1)の種核を加え放置した。析出結晶
を濾過すると化合物(1)498mg(収率82.4
%;融点124―125℃)が得られた。この母液を減
圧留去後、残渣はt―ブチルアルコール2mlから再結
晶して567mg(収率79.9%)のグリシデートを
得た。 融点 88―89℃ [α] 578 24=−211.8°(c 0.501, CH3OH) [(特開平2―17168) 融点 89.2℃;[α]
578 22=−212.2°(c 0.504, CH3OH)] NMRスペクトルは
標品のスペクトルに一致した。
【0016】
【発明の効果】本発明は、光学活性な化合物(IV)を
効率的で安全に製造する方法を提供し、ジルチアゼム等
の医薬品の製造、開発に貢献しうる。
効率的で安全に製造する方法を提供し、ジルチアゼム等
の医薬品の製造、開発に貢献しうる。
Claims (1)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 (式中、R1は水素、アルキル、アルコキシまたはハロ
ゲン;R2はアルキルまたはアルコキシ;Xはハロゲ
ン)で示される化合物を、炭化水素系溶媒中、アルドー
ル縮合試薬および式(II): 【化2】 (式中、R3は水素、アルキル、アルコキシまたはハロ
ゲン)で示される化合物と反応させ、式(III): 【化3】 (式中、R1、R2、R3およびXは前記と同意義であ
る)で示される化合物を得、次いで該化合物をエポキシ
化することを特徴とする式(IV): 【化4】 (式中、R4はアルキルを表わし、R3は前記と同意義で
ある)で示されるグリシド酸エステルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16354496A JPH107668A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 光学活性なグリシド酸エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16354496A JPH107668A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 光学活性なグリシド酸エステルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH107668A true JPH107668A (ja) | 1998-01-13 |
Family
ID=15775915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16354496A Pending JPH107668A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 光学活性なグリシド酸エステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH107668A (ja) |
-
1996
- 1996-06-25 JP JP16354496A patent/JPH107668A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060704 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061031 |