JPH107680A - 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 - Google Patents
光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物Info
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Landscapes
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】相容性、保存安定性が良好で透明で硬化性に優
れ、硬化塗膜の光沢が良好で臭気が少なく、優れた物性
の硬化物を得ることができる新規な光重合開始剤、これ
を含有する樹脂組成物を提供する。 【解決手段】カチオン重合物質(A)と特定の構造を有
する硼酸塩である光重合開始剤(B)を含有するエネル
ギー線硬化性組成物。
れ、硬化塗膜の光沢が良好で臭気が少なく、優れた物性
の硬化物を得ることができる新規な光重合開始剤、これ
を含有する樹脂組成物を提供する。 【解決手段】カチオン重合物質(A)と特定の構造を有
する硼酸塩である光重合開始剤(B)を含有するエネル
ギー線硬化性組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な特定の構造
を有する硼酸塩、それからなる光重合開始剤、これを含
有するエネルギー線の照射により硬化が可能なエネルギ
ー線硬化性組成物及びその硬化物に関する。
を有する硼酸塩、それからなる光重合開始剤、これを含
有するエネルギー線の照射により硬化が可能なエネルギ
ー線硬化性組成物及びその硬化物に関する。
【0002】
【従来の技術】光重合性組成物は印刷インキ、塗料、コ
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース、無公害性等の要請から盛んに
研究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研
究の大部分は二重結合のラジカル重合反応に基づくもの
であった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂
は、物性的には優れた材料であるが光重合をさせること
は困難で、今までアクリル変性することにより二重結合
を導入した材料が主に使用されている。
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース、無公害性等の要請から盛んに
研究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研
究の大部分は二重結合のラジカル重合反応に基づくもの
であった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂
は、物性的には優れた材料であるが光重合をさせること
は困難で、今までアクリル変性することにより二重結合
を導入した材料が主に使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】光によりエポキシ樹脂
を硬化されるのに、例えば米国特許第3794576号
には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開始剤として
使用し光照射により光重合開始剤を分解し、ルイス酸を
放出することによりエポキシ樹脂を重合する方法が提案
されている。しかしながら芳香族ジアゾニウム塩は光分
解によりルイス酸と同時に窒素ガスを放出し、そのため
にエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上になると塗膜が発泡
し、厚塗りの用途には適さない。更に、又、エポキシ樹
脂との混合物は光が存在しない時でも、徐々に硬化が進
行する等、保存安定性に問題があり、一液性の組成物と
はいえない。上記のジアゾニウム塩系開始剤の欠点を克
服すべく、種々検討がなされ、厚塗り性及び保存安定性
の改良された技術として芳香族スルホニウム塩系や芳香
族ヨードニウム塩系開始剤及びそれらを含有する硬化性
樹脂組成物が特公昭52−14278号公報、特公昭5
2−14277号公報、特開昭54−53181号公
報、特公昭59−19581号公報等に開示されてい
る。しかしながら、これらの芳香族オニウム塩を含有す
る組成物はジアゾニウム塩に比較し硬化性が乏しいとい
う欠点を有し、又芳香族スルホニウム塩の場合は、硬化
物の臭気が問題となっていた。かかる欠点を克服するべ
く、特開昭56−55420号公報等に、特定の基を有
する芳香族スルホニウム塩が提案されている。しかし、
上記の欠点は、いくらか解消されるものの十分ではな
い。又、光重合組成物の使用される分野が拡大するにつ
れて、市場の要求に対応するために、新規な光重合開始
剤、それを含有する組成物の提供は重要である。
を硬化されるのに、例えば米国特許第3794576号
には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開始剤として
使用し光照射により光重合開始剤を分解し、ルイス酸を
放出することによりエポキシ樹脂を重合する方法が提案
されている。しかしながら芳香族ジアゾニウム塩は光分
解によりルイス酸と同時に窒素ガスを放出し、そのため
にエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上になると塗膜が発泡
し、厚塗りの用途には適さない。更に、又、エポキシ樹
脂との混合物は光が存在しない時でも、徐々に硬化が進
行する等、保存安定性に問題があり、一液性の組成物と
はいえない。上記のジアゾニウム塩系開始剤の欠点を克
服すべく、種々検討がなされ、厚塗り性及び保存安定性
の改良された技術として芳香族スルホニウム塩系や芳香
族ヨードニウム塩系開始剤及びそれらを含有する硬化性
樹脂組成物が特公昭52−14278号公報、特公昭5
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報、特公昭59−19581号公報等に開示されてい
る。しかしながら、これらの芳香族オニウム塩を含有す
る組成物はジアゾニウム塩に比較し硬化性が乏しいとい
う欠点を有し、又芳香族スルホニウム塩の場合は、硬化
物の臭気が問題となっていた。かかる欠点を克服するべ
く、特開昭56−55420号公報等に、特定の基を有
する芳香族スルホニウム塩が提案されている。しかし、
上記の欠点は、いくらか解消されるものの十分ではな
い。又、光重合組成物の使用される分野が拡大するにつ
れて、市場の要求に対応するために、新規な光重合開始
剤、それを含有する組成物の提供は重要である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究の結果、新規な光重合開始剤
を開発し、これを用いた組成物は、保存安定性、相容
性、硬化性に優れ、その硬化物は臭気が少ないエネルギ
ー線硬化性組成物を提供することに成功した。すなわ
ち、本発明は、 (1)式(1) (1)硼酸塩であってカチオン部分が式(1)又は式
(2)で表わされる
題を解決するため鋭意研究の結果、新規な光重合開始剤
を開発し、これを用いた組成物は、保存安定性、相容
性、硬化性に優れ、その硬化物は臭気が少ないエネルギ
ー線硬化性組成物を提供することに成功した。すなわ
ち、本発明は、 (1)式(1) (1)硼酸塩であってカチオン部分が式(1)又は式
(2)で表わされる
【0005】
【化5】
【0006】
【化6】
【0007】{式(1)又(2)中、Xは式(3)で示
される基
される基
【0008】
【化7】
【0009】ような少なくとも1個の電子吸引基で置換
されたフェニル基又は少なくとも2個のハロゲン原子
(特に弗素)で置換されたフェニル基を表わす。}で示
される前記硼酸塩。 (2)これらの塩からなる光重合開始剤(B)及び (3)カチオン重合性物質(A)と(2)項記載の光重
合開始剤(B)を含有することを特徴とするエネルギー
線硬化性組成物及びその硬化物に関する。
されたフェニル基又は少なくとも2個のハロゲン原子
(特に弗素)で置換されたフェニル基を表わす。}で示
される前記硼酸塩。 (2)これらの塩からなる光重合開始剤(B)及び (3)カチオン重合性物質(A)と(2)項記載の光重
合開始剤(B)を含有することを特徴とするエネルギー
線硬化性組成物及びその硬化物に関する。
【0010】本発明で用いるカチオン重合性物質(A)
としては、例えば、エポキシ樹脂、スチレン、ビニルエ
ーテル等のカチオン重合性ビニル化合物、更にはスピロ
オルソエステル、ビシクロオルソエステル、スピロオル
ソカーボナートのような環状エーテル類が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、従来、公知の芳香族エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、更には
エポキシド単量体類、エピサルファイド単量体類が挙げ
られる。ここで、芳香族エポキシ樹脂として例示すれ
ば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノール
またはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジ
ルエーテルであって、例えばビスフェノールA、ビスフ
ェーノルF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合
物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサン
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ
樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエー
テル等が挙げられる。また、脂環式エポキシ樹脂とし
て、具体的な例としては、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキ
サノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシ
クロペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセ
ル化学工業株式会社製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点7
1℃)等が挙げられる。
としては、例えば、エポキシ樹脂、スチレン、ビニルエ
ーテル等のカチオン重合性ビニル化合物、更にはスピロ
オルソエステル、ビシクロオルソエステル、スピロオル
ソカーボナートのような環状エーテル類が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、従来、公知の芳香族エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、更には
エポキシド単量体類、エピサルファイド単量体類が挙げ
られる。ここで、芳香族エポキシ樹脂として例示すれ
ば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノール
またはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジ
ルエーテルであって、例えばビスフェノールA、ビスフ
ェーノルF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合
物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサン
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ
樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエー
テル等が挙げられる。また、脂環式エポキシ樹脂とし
て、具体的な例としては、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキ
サノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシ
クロペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセ
ル化学工業株式会社製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点7
1℃)等が挙げられる。
【0011】更に脂肪族エポキシ樹脂の例としては、脂
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例とし
ては、1,4−ブタンジーオルのジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテ
ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコ
ールニ1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド)を付加する
ことにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリ
シジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド単量体類
の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール
またはこれらにアルキレンオキサイドを付加することに
より得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジル
エーテル等が挙げられる。
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例とし
ては、1,4−ブタンジーオルのジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテ
ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコ
ールニ1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド)を付加する
ことにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリ
シジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド単量体類
の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール
またはこれらにアルキレンオキサイドを付加することに
より得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジル
エーテル等が挙げられる。
【0012】カチオン重合性ビニル化合物としては、例
えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テト
ラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4−
ブタンジオールジビニルエーテル、
えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テト
ラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4−
ブタンジオールジビニルエーテル、
【0013】
【化8】
【0014】及び
【0015】
【化9】
【0016】等が挙げられる。また、これらカチオン重
合性有機材料は単独でも2種以上の混合物でもかまわな
い。
合性有機材料は単独でも2種以上の混合物でもかまわな
い。
【0017】本発明で用いる一般式(1)又は一般式
(2)で表わされる硼酸塩のカチオン部分としては、一
般式(5)で表されるチオキサントン化合物あるいは
(2)で表わされる硼酸塩のカチオン部分としては、一
般式(5)で表されるチオキサントン化合物あるいは
【0018】
【化10】
【0019】一般式(6)で表されるアンスラキノン化
合物
合物
【0020】
【化11】
【0021】(式(5)及び式(6)中のR1 〜R10は
前記式(1)及び式(2)中のR1 〜R10と同一であ
る。)と置換または非置換ジフェニルスルホキシド化合
物を公知のスルホウニム塩の生成反応を利用する方法
(以下 1)法という)、2)相当する置換及び非置換
のスルホニウム塩をあらかじめ合成し、その後、置換基
を変換、導入する方法(以下 2)法という)のいずれ
かにより合成することができる。先ず1)法を具体的に
説明すると式(5)で表されるチオキサントン化合物
(具体例としては、2,4−ジエチルチオキサントン、
2,4−ジプロピルチオキサントン、2−イソプロピル
チオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2
−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシ
チオキサントン、2−ヒドロキシ−3,4−ジメチルチ
オキサントン、1−メトキシチオキサントン、2−メト
キシチオキサントン、3−メトキシチオキサントン、4
−メトキシチオキサントン、1−メチル−4−ヒドロキ
シチオキサントン、1−メチル−4−クロロチオキサン
トン、1,2−ジメチル−4−クロロチオキサントン、
1,3−ジメチル−4−クロロチオキサントン、2,
3,4−トリメチルチオキサントン、3−ニトロチオキ
サントン、3−エトキシチオキサントン、1,3,4−
トリメチル−2−オキシカルボニルメチルチオキサント
ン、2−オキシカルボニルメチル−4−メチルチオキサ
ントン、2−フェニルチオキサントン、1−カルボニル
オキシメチルチオキサントン、1−カルボニルオキシエ
チル−3−ニトロチオキサントン、1−カルボニルオキ
シエチル−3−エトキシチオキサントン等)、式(6)
で表されるアンスラキノン化合物(具体例としては、1
−フェニルチオアンスラキノン、3−フェニルチオアン
スラキノン、1−フェニルチオ−4−メチルアンスラキ
ノン、1−エトキシ−3−フェニルチオアンスラキノ
ン、1−フェニルチオ−3,4−ジメチルアンスラキノ
ン、1−ニトロ−4−フェニルチオ−3−フェニルアン
スラキノン等)と置換または非置換ジスェニルスルホキ
シド化合物(例えば、ジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、2,2′−
ジフルオロジフェニルフルホキシド、3,3′−ジフル
オロジフェニルスルホキシド、4,2′−ジフルオロジ
フェニルスルホキシド、4,4′−ジブロムジフェニル
スルホキシド、4,4′−ジクロロジフェニルスルホキ
シド、2,2′,4,4′−テトラクロロジフェニルス
ルホキシド、4,4′−ジメチルジフェニルスルホキシ
ド、4,4′−ジエチルフェニルスルホキシド、4,
4′−ジメトキシジフェニルスルホキシド、4,4′−
ジエトキシジフェニルスルホキシド、4−メチルチオジ
フェニルスルホキシド、4−フェニルチオジフェニルス
ルホキシド等)を公知の方法、例えば、脱水剤(例え
ば、五酸化リン、無水酢酸、濃硫酸等)と溶媒として、
メタンスルホン酸、パーフルオロメタンスルホン酸ある
いは濃硫酸等を用いて通常は常温〜100℃で縮合反応
を行ない、次いで、これらの反応液を式(4)をアニオ
ン部分とするアルカリ金属塩(例えば、LiB(C6 F
5)4 ,LiB(C6 H4 CF3)4 ,NaB(C
6 F5)4 ,LiBF3 (C6 F5),LiB(C6 H3 F
2)4 ,KB(C6 F5)4 ,KB(C6 F5)2 F2 等)の
水溶液に滴下し硼酸塩を得ることができる。
前記式(1)及び式(2)中のR1 〜R10と同一であ
る。)と置換または非置換ジフェニルスルホキシド化合
物を公知のスルホウニム塩の生成反応を利用する方法
(以下 1)法という)、2)相当する置換及び非置換
のスルホニウム塩をあらかじめ合成し、その後、置換基
を変換、導入する方法(以下 2)法という)のいずれ
かにより合成することができる。先ず1)法を具体的に
説明すると式(5)で表されるチオキサントン化合物
(具体例としては、2,4−ジエチルチオキサントン、
2,4−ジプロピルチオキサントン、2−イソプロピル
チオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2
−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシ
チオキサントン、2−ヒドロキシ−3,4−ジメチルチ
オキサントン、1−メトキシチオキサントン、2−メト
キシチオキサントン、3−メトキシチオキサントン、4
−メトキシチオキサントン、1−メチル−4−ヒドロキ
シチオキサントン、1−メチル−4−クロロチオキサン
トン、1,2−ジメチル−4−クロロチオキサントン、
1,3−ジメチル−4−クロロチオキサントン、2,
3,4−トリメチルチオキサントン、3−ニトロチオキ
サントン、3−エトキシチオキサントン、1,3,4−
トリメチル−2−オキシカルボニルメチルチオキサント
ン、2−オキシカルボニルメチル−4−メチルチオキサ
ントン、2−フェニルチオキサントン、1−カルボニル
オキシメチルチオキサントン、1−カルボニルオキシエ
チル−3−ニトロチオキサントン、1−カルボニルオキ
シエチル−3−エトキシチオキサントン等)、式(6)
で表されるアンスラキノン化合物(具体例としては、1
−フェニルチオアンスラキノン、3−フェニルチオアン
スラキノン、1−フェニルチオ−4−メチルアンスラキ
ノン、1−エトキシ−3−フェニルチオアンスラキノ
ン、1−フェニルチオ−3,4−ジメチルアンスラキノ
ン、1−ニトロ−4−フェニルチオ−3−フェニルアン
スラキノン等)と置換または非置換ジスェニルスルホキ
シド化合物(例えば、ジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、2,2′−
ジフルオロジフェニルフルホキシド、3,3′−ジフル
オロジフェニルスルホキシド、4,2′−ジフルオロジ
フェニルスルホキシド、4,4′−ジブロムジフェニル
スルホキシド、4,4′−ジクロロジフェニルスルホキ
シド、2,2′,4,4′−テトラクロロジフェニルス
ルホキシド、4,4′−ジメチルジフェニルスルホキシ
ド、4,4′−ジエチルフェニルスルホキシド、4,
4′−ジメトキシジフェニルスルホキシド、4,4′−
ジエトキシジフェニルスルホキシド、4−メチルチオジ
フェニルスルホキシド、4−フェニルチオジフェニルス
ルホキシド等)を公知の方法、例えば、脱水剤(例え
ば、五酸化リン、無水酢酸、濃硫酸等)と溶媒として、
メタンスルホン酸、パーフルオロメタンスルホン酸ある
いは濃硫酸等を用いて通常は常温〜100℃で縮合反応
を行ない、次いで、これらの反応液を式(4)をアニオ
ン部分とするアルカリ金属塩(例えば、LiB(C6 F
5)4 ,LiB(C6 H4 CF3)4 ,NaB(C
6 F5)4 ,LiBF3 (C6 F5),LiB(C6 H3 F
2)4 ,KB(C6 F5)4 ,KB(C6 F5)2 F2 等)の
水溶液に滴下し硼酸塩を得ることができる。
【0022】2)法を具体的に説明すると、1)法で合
成した硼酸塩、例えば、式(7)あるいは式(8)
成した硼酸塩、例えば、式(7)あるいは式(8)
【0023】
【化12】
【0024】
【化13】
【0025】(但し、式(7)及び式(8)中のAは、
ハロゲン原子、
ハロゲン原子、
【0026】
【化14】 〔BYaRb〕-
【0027】は式(4)で示される。)で示される化合
物等を公知の方法、例えば、塩基性化合物(例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等)の
存在下、過剰のモノ又はポリアルコール類(例えば、メ
タノール、エタノール、カルビトール、エチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、1,4−ブ
タン−ジオール、グリシドール、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、アリルアルコール等)を室温〜15
0℃で、必要に応じて、ジメチルスルホキシド等の有機
溶剤の存在下反応させることにより、前記ハライド化合
物のハライド部が例えば
物等を公知の方法、例えば、塩基性化合物(例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等)の
存在下、過剰のモノ又はポリアルコール類(例えば、メ
タノール、エタノール、カルビトール、エチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、1,4−ブ
タン−ジオール、グリシドール、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、アリルアルコール等)を室温〜15
0℃で、必要に応じて、ジメチルスルホキシド等の有機
溶剤の存在下反応させることにより、前記ハライド化合
物のハライド部が例えば
【0028】
【化15】
【0029】
【化16】
【0030】
【化17】
【0031】
【化18】
【0032】等の置換基に変換された硼酸塩を得ること
ができる。一般式(1)又は一般式(2)で示される化
合物の硼酸塩の代表例としては、次表1、表2及び表3
の化合物を挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。
ができる。一般式(1)又は一般式(2)で示される化
合物の硼酸塩の代表例としては、次表1、表2及び表3
の化合物を挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。
【0033】
【表1】
【0034】
【表2】
【0035】
【表3】
【0036】本発明の硬化性組成物は、100重量部の
カチオン重合性物質(A)に対して0.01〜20重量
部の前記の式(1)又は式(2)で示される化合物の硼
酸塩からなる光重合開始剤(B)を必須の成分とするが
適当な割合は、カチオン重合性物質のエネルギー線の種
類、照射量、所望の硬化時間、温度、湿度、塗膜厚など
さまざまな要因を考慮することによって決定される。カ
チオン重合物質へのスルホウニム塩の溶解を容易にする
ため、あらかじめスルホニウム塩を溶剤類(例えば、プ
ロピレンカーボネート、カルビトール、カルビトールア
セテート、ブチロラクトン等)に溶解し使用することが
できる。本発明の硬化性組成物はカチオン重合性物質及
びスルホニウム塩を混合、溶解あるいは混練等の方法に
より調製することができる。
カチオン重合性物質(A)に対して0.01〜20重量
部の前記の式(1)又は式(2)で示される化合物の硼
酸塩からなる光重合開始剤(B)を必須の成分とするが
適当な割合は、カチオン重合性物質のエネルギー線の種
類、照射量、所望の硬化時間、温度、湿度、塗膜厚など
さまざまな要因を考慮することによって決定される。カ
チオン重合物質へのスルホウニム塩の溶解を容易にする
ため、あらかじめスルホニウム塩を溶剤類(例えば、プ
ロピレンカーボネート、カルビトール、カルビトールア
セテート、ブチロラクトン等)に溶解し使用することが
できる。本発明の硬化性組成物はカチオン重合性物質及
びスルホニウム塩を混合、溶解あるいは混練等の方法に
より調製することができる。
【0037】本発明の硬化性組成物は、紫外線等のエネ
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することがで
きる。適当なエネルギー線としては、スルホニウム塩ま
たはスルホキソニウム塩の分触を誘発するエネルギーを
有する限りいかなるものでもよいが、好ましくは、高、
低圧水銀ランプ、キセノンランプ、殺菌灯、レーザー光
などから得られる2000オングストローム〜7000
オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電
子線、X線、放射線等の高エネルギー線を使用する。エ
ネルギー線への暴露は、エネルギー線の強度によるが、
通常は0.1秒〜10秒程度で十分である。しかし比較
的厚い塗装物についてはそれ以上の時間をかけるのが好
ましい。エネルギー線照射後0.1秒〜数分後には、ほ
とんどの組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、
カチオン重合反応を促進するために加熱を併用すること
も場合によっては好ましい。本発明の組成物には、さら
にカチオン重合を損わない範囲で希釈のための溶剤や、
改質のための非反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エス
テル化合物(例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリ
レート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル
ポリ(メタ)アクリレート等のオリゴマーや、2−ヒド
ロキシ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート等のモノマー等)を配合することがで
きる。(メタ)アクリル酸エステル化合物を使用する場
合には、光ラジカル重合開始剤(例えば、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンジメ
チルケタール、ベンゾイルメチルエーテル等)を使用す
るのが好ましい。また例えば、電気特製を改良する目的
などのため有機カルボン酸や酸無水物を使用したり、あ
るいはゴム弾性をもたせるなどの目的でポリマールその
他の可とう性プレポリマーを混合することができる。本
発明の組成物は、通常透明な液状として使用されるもの
であるが、用途によっては不活性な顔料、染料、充填
剤、静電気防止剤、難燃剤、消泡剤、流動調整剤、増感
剤、促進剤、光安定剤等を混合して用いられる。本発明
の組成物は金属、木材、ゴム、プラスチック、ガラス、
セラミック製品等に使用することができる。さらに本発
明の具体的な用途としては、塗料、コーティング剤、イ
ンキ、レジスト、液状レジスト、接着剤、成形材料、注
型材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤等があげら
れる。
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することがで
きる。適当なエネルギー線としては、スルホニウム塩ま
たはスルホキソニウム塩の分触を誘発するエネルギーを
有する限りいかなるものでもよいが、好ましくは、高、
低圧水銀ランプ、キセノンランプ、殺菌灯、レーザー光
などから得られる2000オングストローム〜7000
オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電
子線、X線、放射線等の高エネルギー線を使用する。エ
ネルギー線への暴露は、エネルギー線の強度によるが、
通常は0.1秒〜10秒程度で十分である。しかし比較
的厚い塗装物についてはそれ以上の時間をかけるのが好
ましい。エネルギー線照射後0.1秒〜数分後には、ほ
とんどの組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、
カチオン重合反応を促進するために加熱を併用すること
も場合によっては好ましい。本発明の組成物には、さら
にカチオン重合を損わない範囲で希釈のための溶剤や、
改質のための非反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エス
テル化合物(例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリ
レート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル
ポリ(メタ)アクリレート等のオリゴマーや、2−ヒド
ロキシ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート等のモノマー等)を配合することがで
きる。(メタ)アクリル酸エステル化合物を使用する場
合には、光ラジカル重合開始剤(例えば、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンジメ
チルケタール、ベンゾイルメチルエーテル等)を使用す
るのが好ましい。また例えば、電気特製を改良する目的
などのため有機カルボン酸や酸無水物を使用したり、あ
るいはゴム弾性をもたせるなどの目的でポリマールその
他の可とう性プレポリマーを混合することができる。本
発明の組成物は、通常透明な液状として使用されるもの
であるが、用途によっては不活性な顔料、染料、充填
剤、静電気防止剤、難燃剤、消泡剤、流動調整剤、増感
剤、促進剤、光安定剤等を混合して用いられる。本発明
の組成物は金属、木材、ゴム、プラスチック、ガラス、
セラミック製品等に使用することができる。さらに本発
明の具体的な用途としては、塗料、コーティング剤、イ
ンキ、レジスト、液状レジスト、接着剤、成形材料、注
型材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤等があげら
れる。
【0038】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例中の部は、重量部である。
る。なお、実施例中の部は、重量部である。
【0039】(式(1)で表されるスルホニウム塩の合
成例) (硼酸塩の合成例) 実施例1 2,4−ジエチルチオキサントン38.4部、4,4′
−ジフルオロジフェニルスルホキシド34.1部、無水
酢酸100部及び濃硫酸398部を仕込み、25℃で攪
拌しながら約8時間反応を行ない、次いで、この反応混
合物を水1000部で希釈し、25%NaOH水溶液で
pH7まで中和し、不溶解分をろ過し、除去し、次い
で、ろ液にテトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸
リチウム99部を添加し30分間攪拌し、減圧下に水を
蒸発し、残った固体をアセトン500部に溶解し、不溶
解物をろ別し、アセトン層のアセトンを蒸発し、淡黄色
固体133部を得た。得られた生成物の融点は85〜9
1℃で元素分析値は次のとおりであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 54.53 54.47 水素 2.15 1.98 イオウ 5.41 5.49 硼素 0.87 0.92 フッ素 35.70 35.76 この製造方法に基づいて構造式
成例) (硼酸塩の合成例) 実施例1 2,4−ジエチルチオキサントン38.4部、4,4′
−ジフルオロジフェニルスルホキシド34.1部、無水
酢酸100部及び濃硫酸398部を仕込み、25℃で攪
拌しながら約8時間反応を行ない、次いで、この反応混
合物を水1000部で希釈し、25%NaOH水溶液で
pH7まで中和し、不溶解分をろ過し、除去し、次い
で、ろ液にテトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸
リチウム99部を添加し30分間攪拌し、減圧下に水を
蒸発し、残った固体をアセトン500部に溶解し、不溶
解物をろ別し、アセトン層のアセトンを蒸発し、淡黄色
固体133部を得た。得られた生成物の融点は85〜9
1℃で元素分析値は次のとおりであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 54.53 54.47 水素 2.15 1.98 イオウ 5.41 5.49 硼素 0.87 0.92 フッ素 35.70 35.76 この製造方法に基づいて構造式
【0040】
【化19】
【0041】のスルホニウム塩を得た。 実施例2. 2−イソプロピルチオキサントン50.8部、ジフェニ
ルスルホキシド40.4部、無水酢酸100部及び濃硫
酸500部を仕込み、25℃で約8時間反応させ、次い
で反応混合物を水3000部で希釈し、25%NaOH
水溶液でpH=7まで中和し、不溶解分をろ過、除去
し、次いで、ろ液にテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸リチウム138.6部を添加し30分間攪拌
し、減圧下に水を蒸発し、残った固体をアセトン100
0ブに溶解し、不溶解物をろ別し、アセトン層のアセト
ンを蒸発し淡黄色固体175部を得た。得られた生成物
の融点は75.5〜82.1℃で元素分析値は次のとお
りであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 55.47 55.35 水素 2.15 2.09 イオウ 5.84 5.79 硼素 0.94 0.98 フッ素 34.25 34.33 この製造法に基づいて構造式
ルスルホキシド40.4部、無水酢酸100部及び濃硫
酸500部を仕込み、25℃で約8時間反応させ、次い
で反応混合物を水3000部で希釈し、25%NaOH
水溶液でpH=7まで中和し、不溶解分をろ過、除去
し、次いで、ろ液にテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸リチウム138.6部を添加し30分間攪拌
し、減圧下に水を蒸発し、残った固体をアセトン100
0ブに溶解し、不溶解物をろ別し、アセトン層のアセト
ンを蒸発し淡黄色固体175部を得た。得られた生成物
の融点は75.5〜82.1℃で元素分析値は次のとお
りであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 55.47 55.35 水素 2.15 2.09 イオウ 5.84 5.79 硼素 0.94 0.98 フッ素 34.25 34.33 この製造法に基づいて構造式
【0042】
【化20】
【0043】のスルホニウム塩を得た。
【0044】実施例3 1−フェニルチオアンスラキノン45.3部、4,4′
−ジフルオロジフェニルスルホキシド34.1部、無水
酢酸100部及び濃硫酸400部を仕込み、25℃で、
攪拌しながら約8時間反応させ、次いでこの反応混合物
を水2000部で希釈し、25%NaOH水溶液でpH
=7まで中和し、不溶解分をろ過、除去し、次いでろ液
にテトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸リチウム
99部を添加し30分間攪拌し、減圧下に水を蒸発し、
残った固体をアセトン500部に溶解し、不溶解物をろ
別し、アセトン層のアセトンを蒸発し黄色の固体148
部を得た。得られた生成物の融点は89.3部〜96.
7℃で元素分析値は次おとおりであった。
−ジフルオロジフェニルスルホキシド34.1部、無水
酢酸100部及び濃硫酸400部を仕込み、25℃で、
攪拌しながら約8時間反応させ、次いでこの反応混合物
を水2000部で希釈し、25%NaOH水溶液でpH
=7まで中和し、不溶解分をろ過、除去し、次いでろ液
にテトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸リチウム
99部を添加し30分間攪拌し、減圧下に水を蒸発し、
残った固体をアセトン500部に溶解し、不溶解物をろ
別し、アセトン層のアセトンを蒸発し黄色の固体148
部を得た。得られた生成物の融点は89.3部〜96.
7℃で元素分析値は次おとおりであった。
【0045】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 55.35 55.28 水素 1.65 1.57 イオウ 5.28 5.27 硼素 0.87 0.89 フッ素 34.29 34.35 この製造方法に基づいて構造式
【0046】
【化21】
【0047】のスルホニウム塩を得た。 実施例4 実施例1で得た化合物5.0部、水酸化ナトリウム0.
8部、エチレングリコール100部を仕込み、60℃で
24時間反応し、その後、水中に注ぎ込み析出した淡黄
色固体をろ過し、乾燥し常温で固体の生成物を得た。生
成物の構造式は、下記のものであり、元素分析の結果は
計算値にほぼ一致した。
8部、エチレングリコール100部を仕込み、60℃で
24時間反応し、その後、水中に注ぎ込み析出した淡黄
色固体をろ過し、乾燥し常温で固体の生成物を得た。生
成物の構造式は、下記のものであり、元素分析の結果は
計算値にほぼ一致した。
【0048】
【化22】
【0049】(組成物の実施例) 実施例5〜8、比較例1〜4 表4及び表5に示す配合組成(数値は重量部である。)
に従ってエネルギー線硬化性組成物を配合し、混合溶解
した。これを、アルミテストパネル上に5μの厚さに塗
布し高圧水銀灯(80W/cm2 )で8cmの距離から
紫外線を照射し硬化させた。調製された組成物の透明
性、保存安定性、指触乾燥性、硬化塗膜の光沢、臭気に
ついて試験した。それらの結果を表4及び表5に示す。
に従ってエネルギー線硬化性組成物を配合し、混合溶解
した。これを、アルミテストパネル上に5μの厚さに塗
布し高圧水銀灯(80W/cm2 )で8cmの距離から
紫外線を照射し硬化させた。調製された組成物の透明
性、保存安定性、指触乾燥性、硬化塗膜の光沢、臭気に
ついて試験した。それらの結果を表4及び表5に示す。
【0050】透明性:組成物の透明性を目視判定した。 ○・・・・完全に透明である △・・・・わずかににごりがあり ×・・・・白ダクしている ××・・・・すぐる分離する 保存安定性:組成物を40℃で3ケ月間保存し、安定性
を調査した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している 指触乾燥性:指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2) を測
定した。 光沢:指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2) を照射した
後、硬化塗膜の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない
を調査した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している 指触乾燥性:指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2) を測
定した。 光沢:指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2) を照射した
後、硬化塗膜の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない
【0051】臭気:塗布面1000mJ/cm2照射した後、
硬化塗膜の表面の臭気を観察した。 ○・・・・全く臭気がない △・・・・わずかに臭気がある ×・・・・臭気がある ××・・・・臭気が強い
硬化塗膜の表面の臭気を観察した。 ○・・・・全く臭気がない △・・・・わずかに臭気がある ×・・・・臭気がある ××・・・・臭気が強い
【0052】
【表4】 表4 実施例 5 6 7 8 実施例1で得た光重合開始剤 1.5 実施例2で得た光重合開始剤 1.5 実施例3で得た光重合開始剤 1.5 実施例4で得た光重合開始剤 1.5 化合物1 *1 化合物2 *2 ポリエステルビニルエーテル *3 50 50 シクロヘキサンジメチロールビニルエーテル 50 50 セロキサイド2021 *4 80 80 EHPE−3150 *5 20 20 透明性 ○ ○ ○ ○ 保存安定性 ○ ○ ○ ○ 指触乾燥性(mJ/cm2) 15 10 15 10 光沢 ○ ○ ○ ○ 臭気 ○ ○ ○ ○
【0053】
【表5】 表5 比較例 1 2 3 4 実施例1で得た光重合開始剤 実施例2で得た光重合開始剤 実施例3で得た光重合開始剤 実施例4で得た光重合開始剤 化合物1 *1 1.5 1.5 化合物2 *2 1.5 1.5 ポリエステルビニルエーテル *3 50 50 シクロヘキサンジメチロールビニルエーテル 50 50 セロキサイド2021 *4 80 80 EHPE−3150 *5 20 20 透明性 ○ ×× ○ ×× 保存安定性 ○ − ○ − 指触乾燥性(mJ/cm2) 75 − 35 − 光沢 ○ − ○ − 臭気 × − × −
【0054】注) *1 化合物1 : ジフェニ
ル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェート *2 化合物2 : 4,4′−ビス〔ビスフェニ
ルスルホオニオ〕フェニルスルフィドビスヘキサフルオ
ロホスフェート *3 ポリエステルジビニルエーテル:構造式
ル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェート *2 化合物2 : 4,4′−ビス〔ビスフェニ
ルスルホオニオ〕フェニルスルフィドビスヘキサフルオ
ロホスフェート *3 ポリエステルジビニルエーテル:構造式
【0055】
【化23】
【0056】*4 セロキサイド2021:ダイセ
ル化学工業(株)製、脂環式エポシド樹脂 *5 EHPE−3150:ダイセル化学工業
(株)製、脂環式エポキシ樹脂 表2の結果から明らかなように、本発明の光重合開始剤
を含有した組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透明
で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好であり、硬化塗
膜の臭気も小さい。
ル化学工業(株)製、脂環式エポシド樹脂 *5 EHPE−3150:ダイセル化学工業
(株)製、脂環式エポキシ樹脂 表2の結果から明らかなように、本発明の光重合開始剤
を含有した組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透明
で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好であり、硬化塗
膜の臭気も小さい。
【0057】
【発明の効果】本発明の光重合開始剤を含有したエネル
ギー線硬化性組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透
明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜
の着色も小さく、優れた物性の硬化物をあたえる。
ギー線硬化性組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透
明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜
の着色も小さく、優れた物性の硬化物をあたえる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08F 16/32 MLA C08F 16/32 MLA C08G 59/18 NLE C08G 59/18 NLE 59/68 NKL 59/68 NKL
Claims (4)
- 【請求項1】硼酸塩であってカチオン部分が式(1)又
は式(2)で表わされる 【化1】 【化2】 {式(1)又(2)中、Xは式(3)で示される基 【化3】 (式中、R11〜R20は、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C20の構造中に水
酸基、エーテル基、エステル基、(メタ)アクリロイル
基、エポキシ基あるいはアリル基を有していても良い脂
肪族基、フェニル基、フェノキシ基およびチオフェノキ
シ基のいずれかから選択された基である。)R1 〜R10
は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、水酸基、C1 〜
C15の脂肪族基、ニトロ基、アルコキシ基及びフェニル
基から選択された基である。}オニウム塩、アニオン性
硼酸塩部分が式(4) 【化4】 {式中、a及びbは0〜4の範囲の整数であり、ここで
a+bは4であり、Yは、aが0〜3である場合にはハ
ロゲン原子(塩素又は弗素)を表わし、またaが0〜2
である場合にはOH基を表わすこともできる。Rは、C
F3 、NO2 、CN等のような少なくとも1個の電子吸
引基で置換されたフェニル基又は、少なくとも2個のハ
ロゲン原子(特に弗素)で置換されたフェニル基を表わ
す。}で示される前記硼酸塩。 - 【請求項2】請求項1記載の硼酸塩からなる光重合開始
剤(B)。 - 【請求項3】カチオン重合性物質(A)と請求項2記載
の光重合開始剤(B)を含有することを特徴とするエネ
ルギー線硬化性組成物。 - 【請求項4】請求項3記載の組成物の硬化物。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17730996A JPH107680A (ja) | 1996-06-18 | 1996-06-18 | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| PCT/JP1997/001851 WO1997047660A1 (en) | 1996-06-12 | 1997-05-30 | Photopolymerization initiator and actinic radiation-curable composition comprising the same |
| CN97190676A CN1195356A (zh) | 1996-06-12 | 1997-05-30 | 光聚合引发剂和包含它的可能量射线固化的组合物 |
| US09/011,371 US6054501A (en) | 1996-06-12 | 1997-05-30 | Photopolymerization initiator and energy ray curable composition containing the same |
| KR1019980701007A KR19990036339A (ko) | 1996-06-12 | 1997-05-30 | 광중합 반응 개시제 및 이를 함유하는 에너지선경화성 조성물 |
| EP97924275A EP0844255A1 (en) | 1996-06-12 | 1997-05-30 | Photopolymerization initiator and actinic radiation-curable composition comprising the same |
| TW086108075A TW406089B (en) | 1996-06-12 | 1997-06-12 | Photopolymerization initiator and energy radiation curable composition comprising the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17730996A JPH107680A (ja) | 1996-06-18 | 1996-06-18 | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH107680A true JPH107680A (ja) | 1998-01-13 |
Family
ID=16028738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17730996A Pending JPH107680A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-18 | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH107680A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008189599A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Toyo Gosei Kogyo Kk | スルホニウム塩 |
| JP2008189598A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Toyo Gosei Kogyo Kk | スルホニウム塩 |
| WO2010095385A1 (ja) | 2009-02-20 | 2010-08-26 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩,光酸発生剤及び感光性樹脂組成物 |
| WO2011040531A1 (ja) | 2009-10-01 | 2011-04-07 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス用材料、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、及びそれを用いた表示素子、照明装置、表示装置 |
| WO2011096195A1 (en) | 2010-02-05 | 2011-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, method for producing structure, and liquid discharge head |
| WO2011132702A1 (ja) | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置 |
| JP2012025762A (ja) * | 2011-09-02 | 2012-02-09 | Fujifilm Corp | 感光性組成物に用いられる化合物 |
| WO2014136900A1 (ja) | 2013-03-08 | 2014-09-12 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
| US9061499B2 (en) | 2010-02-05 | 2015-06-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Negative photosensitive resin composition, pattern formation method, and liquid discharge head |
| WO2016043024A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2016-03-24 | 株式会社ダイセル | 硬化性組成物、及びそれを用いた光学素子 |
| WO2020145043A1 (ja) | 2019-01-10 | 2020-07-16 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 |
| WO2021186846A1 (ja) | 2020-03-17 | 2021-09-23 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 |
-
1996
- 1996-06-18 JP JP17730996A patent/JPH107680A/ja active Pending
Cited By (17)
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| WO2011132702A1 (ja) | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置 |
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| JPWO2016043024A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2017-07-13 | 株式会社ダイセル | 硬化性組成物、及びそれを用いた光学素子 |
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| WO2020145043A1 (ja) | 2019-01-10 | 2020-07-16 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 |
| WO2021186846A1 (ja) | 2020-03-17 | 2021-09-23 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 |
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