JPH0725922A - エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 - Google Patents
エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物Info
- Publication number
- JPH0725922A JPH0725922A JP19677593A JP19677593A JPH0725922A JP H0725922 A JPH0725922 A JP H0725922A JP 19677593 A JP19677593 A JP 19677593A JP 19677593 A JP19677593 A JP 19677593A JP H0725922 A JPH0725922 A JP H0725922A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- parts
- formula
- acid
- photopolymerization initiator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 35
- -1 phenoxy, phenylcarbonyl Chemical group 0.000 claims abstract description 33
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical group [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical group [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 5
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000002932 luster Substances 0.000 abstract 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 32
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 32
- 239000000047 product Substances 0.000 description 29
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 21
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 4
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 3
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GVYKABJIEOOUOX-UHFFFAOYSA-N 1-fluoro-4-(4-fluorophenyl)sulfinylbenzene Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1S(=O)C1=CC=C(F)C=C1 GVYKABJIEOOUOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJWNJEJCQHNDNM-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-(4-methylphenyl)sulfinylbenzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)C1=CC=C(C)C=C1 MJWNJEJCQHNDNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVEWTCACRDEAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyphenyl)acetic acid Chemical compound COC1=CC=CC=C1CC(O)=O IVEWTCACRDEAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N Diphenyl sulfoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)C1=CC=CC=C1 JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N (e)-2-cyano-3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=CC=C1 CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethylbenzene Chemical compound COC(C)(OC)C1=CC=CC=C1 XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenoxy)butane Chemical compound C=COCCCCOC=C MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEIPWOFSKAZYJO-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-[2-(2-ethenoxyethoxy)ethoxy]ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOCCOC=C UEIPWOFSKAZYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJGYFISADIZFEL-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(4-chlorophenyl)sulfinylbenzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 KJGYFISADIZFEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- LEDPSBGADKSDKI-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(4-methoxyphenyl)sulfinylbenzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1S(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 LEDPSBGADKSDKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRPINYUDVPFIRX-UHFFFAOYSA-N 1-naphthaleneacetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)O)=CC=CC2=C1 PRPINYUDVPFIRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005971 1-naphthylacetic acid Substances 0.000 description 1
- GHRYSOFWKRRLMI-UHFFFAOYSA-N 1-naphthyloxyacetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(OCC(=O)O)=CC=CC2=C1 GHRYSOFWKRRLMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORAVNMWUNPXAO-UHFFFAOYSA-N 2,2',4,4'-tetrachlorobiphenyl Chemical group ClC1=CC(Cl)=CC=C1C1=CC=C(Cl)C=C1Cl QORAVNMWUNPXAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBURUDXSBYGPBL-UHFFFAOYSA-N 2,2,3-trimethylhexanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(C)CCC(O)=O GBURUDXSBYGPBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMLMVXTJIMQTK-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-phenoxyphenyl)sulfinylmethyl]thiirane Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC=CC=2)C=CC=1S(=O)CC1CS1 BCMLMVXTJIMQTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWAYYRQGQZKCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloropropionic acid Chemical compound CC(Cl)C(O)=O GAWAYYRQGQZKCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HENCHDCLZDQGIQ-UHFFFAOYSA-N 3-[3,5-bis(2-carboxyethyl)-2,4,6-trioxo-1,3,5-triazinan-1-yl]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCN1C(=O)N(CCC(O)=O)C(=O)N(CCC(O)=O)C1=O HENCHDCLZDQGIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKZFRKHYUVIIFN-UHFFFAOYSA-N 4-(furan-2-yl)but-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=CCC1=CC=CO1 JKZFRKHYUVIIFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N Bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether Chemical compound C1CC2OC2C1OC1CCC2OC21 ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNVSHALFPVGANN-UHFFFAOYSA-N C1COCOC1.O=C1CCCCC1 Chemical compound C1COCOC1.O=C1CCCCC1 JNVSHALFPVGANN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- FFDGPVCHZBVARC-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylglycine Chemical compound CN(C)CC(O)=O FFDGPVCHZBVARC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020808 NaBF Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- OVHKECRARPYFQS-UHFFFAOYSA-N cyclohex-2-ene-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC=C1 OVHKECRARPYFQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- WUAXWQRULBZETB-UHFFFAOYSA-N homoveratric acid Chemical compound COC1=CC=C(CC(O)=O)C=C1OC WUAXWQRULBZETB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N methoxyacetic acid Chemical compound COCC(O)=O RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N thiodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CSCC(O)=O UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】相容性に優れ、透明で硬化性に優れ、硬化塗膜
の光沢が良好で硬化塗膜の臭気が小さく、優れた物性の
硬化物を得ることができる樹脂組成物及びその硬化物を
提供する。 【構成】特定のオニウム塩である光重合開始剤(A)の
有効量とカチオン重合物質(B)を含有するエネルギー
線硬化性組成物。
の光沢が良好で硬化塗膜の臭気が小さく、優れた物性の
硬化物を得ることができる樹脂組成物及びその硬化物を
提供する。 【構成】特定のオニウム塩である光重合開始剤(A)の
有効量とカチオン重合物質(B)を含有するエネルギー
線硬化性組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な特定な構造を有す
るオニウム塩である光重合開始剤を含有する、エネルギ
ー線の照射により硬化が可能な、エネルギー線硬化性組
成物及びその硬化物に関する。
るオニウム塩である光重合開始剤を含有する、エネルギ
ー線の照射により硬化が可能な、エネルギー線硬化性組
成物及びその硬化物に関する。
【0002】
【従来の技術】光重合性組成物は印刷インキ、塗料、コ
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース無公害性等の要請から盛んに研
究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研究
の大分部は二重結合のラジカル重合反応に基づくもので
あった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂は、
物性的には優れた材料であるが光重合をさせることは困
難で、今までアクリル変性することにより二重結合を導
入した材料が主に使用されている。
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース無公害性等の要請から盛んに研
究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研究
の大分部は二重結合のラジカル重合反応に基づくもので
あった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂は、
物性的には優れた材料であるが光重合をさせることは困
難で、今までアクリル変性することにより二重結合を導
入した材料が主に使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】光によりエポキシ樹脂
を硬化させるに当り、例えば米国特許第3794576
号には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開始剤とし
て使用し光照射により光重合開始剤を分解し、ルイス酸
を放出させることによりエポキシ樹脂を重合する方法が
提案されている。しかしながら芳香族ジアゾニウム塩は
光分解によりルイス酸と同時に窒素ガスを放出し、その
ためにエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上になると塗膜が
発泡し、厚塗りの用途には適さない。更に、又、エポキ
シ樹脂との混合物は光が存在しない時でも、除々に硬化
が進行する等保存安定性に問題があり、一液性の組成物
とはなりえない。
を硬化させるに当り、例えば米国特許第3794576
号には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開始剤とし
て使用し光照射により光重合開始剤を分解し、ルイス酸
を放出させることによりエポキシ樹脂を重合する方法が
提案されている。しかしながら芳香族ジアゾニウム塩は
光分解によりルイス酸と同時に窒素ガスを放出し、その
ためにエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上になると塗膜が
発泡し、厚塗りの用途には適さない。更に、又、エポキ
シ樹脂との混合物は光が存在しない時でも、除々に硬化
が進行する等保存安定性に問題があり、一液性の組成物
とはなりえない。
【0004】上記のジアゾニウム塩系開始剤の欠点を克
服すべく、種々検討がなされ、厚塗り性及び保存安定性
の改良された技術として、芳香族スルホニウム塩系や芳
香族ヨードニウム塩系開始剤及びそれらを含有する硬化
性樹脂組成物が特公昭52−14278号公報、特公昭
52−14277号公報、特開昭54−53181号公
報、特公昭59−19581号公報等に開示されてい
る。しかしながら、これらの芳香族オニウム塩を含有す
る組成物はジアゾニウム塩に比較し硬化性が乏しいとい
う欠点を有し、又芳香族スルホニウム塩の場合は、硬化
物の臭気が問題となっていた。かかる欠点を克服するべ
く、特開昭56−55420号公報等に、特定の基を有
する芳香族スルホニウム塩が提案されている。しかし、
上記の欠点は、いくらか解消されるものの十分ではな
い。又、光重合性組成物の使用される分野が拡大するに
つれて、市場の要求に対応するために、新規な光重合開
始剤、それを含有する組成物の提供は重要である。
服すべく、種々検討がなされ、厚塗り性及び保存安定性
の改良された技術として、芳香族スルホニウム塩系や芳
香族ヨードニウム塩系開始剤及びそれらを含有する硬化
性樹脂組成物が特公昭52−14278号公報、特公昭
52−14277号公報、特開昭54−53181号公
報、特公昭59−19581号公報等に開示されてい
る。しかしながら、これらの芳香族オニウム塩を含有す
る組成物はジアゾニウム塩に比較し硬化性が乏しいとい
う欠点を有し、又芳香族スルホニウム塩の場合は、硬化
物の臭気が問題となっていた。かかる欠点を克服するべ
く、特開昭56−55420号公報等に、特定の基を有
する芳香族スルホニウム塩が提案されている。しかし、
上記の欠点は、いくらか解消されるものの十分ではな
い。又、光重合性組成物の使用される分野が拡大するに
つれて、市場の要求に対応するために、新規な光重合開
始剤、それを含有する組成物の提供は重要である。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究の結果、新規な光重合開始剤
を開発し、これを用いた組成物は、保存安定性、相容
性、(特に各種ビニルエーテルと光重合開始剤との相容
性)硬化性に優れ、その硬化物は臭気が少ないエネルギ
ー線硬化性組成物を提供することに成功した。すなわ
ち、本発明は、式(1)で示されるオニウム塩である光
重合開始剤(A)
題を解決するため鋭意研究の結果、新規な光重合開始剤
を開発し、これを用いた組成物は、保存安定性、相容
性、(特に各種ビニルエーテルと光重合開始剤との相容
性)硬化性に優れ、その硬化物は臭気が少ないエネルギ
ー線硬化性組成物を提供することに成功した。すなわ
ち、本発明は、式(1)で示されるオニウム塩である光
重合開始剤(A)
【0006】
【化6】
【0007】{但し、式中Xは式(2)で示されるスル
ホニオ基
ホニオ基
【0008】
【化7】
【0009】(R1 〜R10はそれぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C25の脂肪族
基、C6 〜C18の置換基で置換されていてもよいフェニ
ル基、フェノキシ基、フェニルカルボニル基、またはチ
オフェノキシ基、少なくとも1個の水酸基を有するC1
〜C25の脂肪族基、
ン原子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C25の脂肪族
基、C6 〜C18の置換基で置換されていてもよいフェニ
ル基、フェノキシ基、フェニルカルボニル基、またはチ
オフェノキシ基、少なくとも1個の水酸基を有するC1
〜C25の脂肪族基、
【0010】
【化8】
【0011】で表される基を含むC3 〜C25の脂肪族基
のいずれかから選択される基、R11は水素原子またはメ
チル基である。) Rは芳香族基以外の基、aは1以上の数値、bは0また
は1以上の数値、a+bは1以上の数値、nは1以上の
数値、Zは式(3)または式(4)で示され
のいずれかから選択される基、R11は水素原子またはメ
チル基である。) Rは芳香族基以外の基、aは1以上の数値、bは0また
は1以上の数値、a+bは1以上の数値、nは1以上の
数値、Zは式(3)または式(4)で示され
【0012】
【化9】
【0013】
【化10】
【0014】Mはホウ素原子、リン原子、ヒ素原子また
はアンチモン原子、Qはハロゲン原子、mは4〜6であ
る。}とカチオン重合性物質(B)を含有することを特
徴とするエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物に関
する。
はアンチモン原子、Qはハロゲン原子、mは4〜6であ
る。}とカチオン重合性物質(B)を含有することを特
徴とするエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物に関
する。
【0015】本発明で使用するオニウム塩である光重合
開始剤(A)は、(1)出発原料として式(5)で表さ
れるスルフィド系化合物
開始剤(A)は、(1)出発原料として式(5)で表さ
れるスルフィド系化合物
【0016】
【化11】
【0017】(但し、式中Cは1以上の数値、Rは前記
式(1)と同一である。)と置換または非置換ジフェニ
ルスルホキシド化合物を用い公知のスルホニウム塩の生
成反応を利用して製造する方法(以下、(1)法とい
う)、(2)相当する置換及び非置換のスルホニウム塩
をあらかじめ合成し、その後、置換基を変換、導入する
方法(以下、(2)法という)のいずれかにより合成す
ることができる。
式(1)と同一である。)と置換または非置換ジフェニ
ルスルホキシド化合物を用い公知のスルホニウム塩の生
成反応を利用して製造する方法(以下、(1)法とい
う)、(2)相当する置換及び非置換のスルホニウム塩
をあらかじめ合成し、その後、置換基を変換、導入する
方法(以下、(2)法という)のいずれかにより合成す
ることができる。
【0018】先ず(1)法を具体的に説明すると、式
(5)で表されるスルフィド系化合物具体的な例として
は、酢酸、メトキシ酢酸、2−メトキシベンゼン酢酸、
3,4−ジメトキシベンゼン酢酸、プロピオン酸、2−
クロロプロピオン酸、2−メチルプロピオン酸、1−ナ
フチル酢酸、1−ナフトキシ酢酸、2(N,N−ジメチ
ルアミノ)酢酸、ステアリン酸、ラウリン酸等の脂肪族
系モノカルボン酸、マロン酸、イタコン酸、アジピン
酸、トリメチルアジピン酸、フマール酸、メチルフマー
ル酸、チオジグリコール酸、アゼライン酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、トリス
(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート等の脂肪族
系ポリカルボン酸、アクリル酸、メタクリル酸、桂皮
酸、α−シアノ桂皮酸、(メタ)アクリル酸の2量体、
クロトン酸、β−フルフリルアクリル酸、ポリブタジエ
ンジカルボン酸等の不飽和基含有カルボン酸、ポリエス
テルポリカルボン酸(例えば、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メ
チル−1,5−ペンタンジオール、トリメチロールプロ
パン、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付
加物、ビスフェノールAのポリエトキシジオール等の多
価アルコールとコハク酸、マレイン酸、フマール酸、ア
ジピン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジカルボン
酸、シクロヘキセンジカルボン酸等の多価脂肪族系ポリ
カルボン酸あるいはその無水物との反応物)、重合型ポ
リカルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸の単
独重合物あるいは、スチレン、α−メチルスチレン、エ
チル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレー
ト、等の不飽和基含有化合物との共重合物等)等の芳香
族基以外の基と結合してなるカルボン酸類とジフェニル
スルフィドを反応することにより得ることができる。反
応溶媒としてアルキルスルホン酸(例えばメタンスルホ
ン酸等)に無水リン酸を溶解させたものを用いるのが好
ましく、反応温度は常温〜130℃が好ましい。反応時
間は0.5〜15時間が好ましい。前記カルボン酸類と
ジフェニルスルフィドの使用割合は、前記カルボン酸類
中のカルボン酸1当量に対してジフェニルスルフィドを
約1モル反応させるのが好ましい。}と置換または非置
換ジフェニルスルホキシド化合物(例えば、ジフェニル
スルホキシド、4、4′−ジフルオロジフェニルスルホ
キシド、2,2′−ジフルオロジフェニルスルホキシ
ド、3,3′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、
4,2′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジブロムジフェニルスルホキシド、4,4′−ジ
クロロジフェニルスルホキシド、2,2′−ジクロロジ
フェニルスルホキシド、2,2′,4,4′−テトラク
ロロジフェニルスルホキシド、4,4′−ジメチルジフ
ェニルスルホキシド、4,4′−ジエチルジフェニルス
ルホキシド、4,4′−ジメトキシジフェニルスルホキ
シド、4−メチルチオジフェニルスルホキシド、4−フ
ェニルチオジフェニルスルホキシド、4−フェニルカル
ボニルジフェニルスルホキシド、4−ベンジルオキシジ
フェニルスルホキシド等)を公知の方法、例えば、脱水
剤(例えば、五酸化リン、濃硫酸、無水酢酸等)中で、
常温〜150℃で縮合反応を行い、次いでこれら反応液
を式(3)又は式(4)(例えは、NaSbF6、NaPF6 、Na
AsF6、NaBF4 、NaSbF5OH、KSbF6 、KPF6、KAsF6 、KSbF
5OH 等)の水溶液に滴下し、スルホニウム塩であるオニ
ウム塩を得ることができる。
(5)で表されるスルフィド系化合物具体的な例として
は、酢酸、メトキシ酢酸、2−メトキシベンゼン酢酸、
3,4−ジメトキシベンゼン酢酸、プロピオン酸、2−
クロロプロピオン酸、2−メチルプロピオン酸、1−ナ
フチル酢酸、1−ナフトキシ酢酸、2(N,N−ジメチ
ルアミノ)酢酸、ステアリン酸、ラウリン酸等の脂肪族
系モノカルボン酸、マロン酸、イタコン酸、アジピン
酸、トリメチルアジピン酸、フマール酸、メチルフマー
ル酸、チオジグリコール酸、アゼライン酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、トリス
(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート等の脂肪族
系ポリカルボン酸、アクリル酸、メタクリル酸、桂皮
酸、α−シアノ桂皮酸、(メタ)アクリル酸の2量体、
クロトン酸、β−フルフリルアクリル酸、ポリブタジエ
ンジカルボン酸等の不飽和基含有カルボン酸、ポリエス
テルポリカルボン酸(例えば、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メ
チル−1,5−ペンタンジオール、トリメチロールプロ
パン、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付
加物、ビスフェノールAのポリエトキシジオール等の多
価アルコールとコハク酸、マレイン酸、フマール酸、ア
ジピン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジカルボン
酸、シクロヘキセンジカルボン酸等の多価脂肪族系ポリ
カルボン酸あるいはその無水物との反応物)、重合型ポ
リカルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸の単
独重合物あるいは、スチレン、α−メチルスチレン、エ
チル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレー
ト、等の不飽和基含有化合物との共重合物等)等の芳香
族基以外の基と結合してなるカルボン酸類とジフェニル
スルフィドを反応することにより得ることができる。反
応溶媒としてアルキルスルホン酸(例えばメタンスルホ
ン酸等)に無水リン酸を溶解させたものを用いるのが好
ましく、反応温度は常温〜130℃が好ましい。反応時
間は0.5〜15時間が好ましい。前記カルボン酸類と
ジフェニルスルフィドの使用割合は、前記カルボン酸類
中のカルボン酸1当量に対してジフェニルスルフィドを
約1モル反応させるのが好ましい。}と置換または非置
換ジフェニルスルホキシド化合物(例えば、ジフェニル
スルホキシド、4、4′−ジフルオロジフェニルスルホ
キシド、2,2′−ジフルオロジフェニルスルホキシ
ド、3,3′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、
4,2′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジブロムジフェニルスルホキシド、4,4′−ジ
クロロジフェニルスルホキシド、2,2′−ジクロロジ
フェニルスルホキシド、2,2′,4,4′−テトラク
ロロジフェニルスルホキシド、4,4′−ジメチルジフ
ェニルスルホキシド、4,4′−ジエチルジフェニルス
ルホキシド、4,4′−ジメトキシジフェニルスルホキ
シド、4−メチルチオジフェニルスルホキシド、4−フ
ェニルチオジフェニルスルホキシド、4−フェニルカル
ボニルジフェニルスルホキシド、4−ベンジルオキシジ
フェニルスルホキシド等)を公知の方法、例えば、脱水
剤(例えば、五酸化リン、濃硫酸、無水酢酸等)中で、
常温〜150℃で縮合反応を行い、次いでこれら反応液
を式(3)又は式(4)(例えは、NaSbF6、NaPF6 、Na
AsF6、NaBF4 、NaSbF5OH、KSbF6 、KPF6、KAsF6 、KSbF
5OH 等)の水溶液に滴下し、スルホニウム塩であるオニ
ウム塩を得ることができる。
【0019】本発明で使用する光重合開始剤を製造する
(1)法の好ましい方法は式(5)で表されるジフェニ
ルスルフィド系化合物中の末端のスルフィド基1当量に
対して前記置換または非置換ジフェニルスルホキシド化
合物を0.1〜1.2モルの範囲で反応させるのがよ
く、特に好ましくは1.0〜1.1モルの範囲である。
(1)法の好ましい方法は式(5)で表されるジフェニ
ルスルフィド系化合物中の末端のスルフィド基1当量に
対して前記置換または非置換ジフェニルスルホキシド化
合物を0.1〜1.2モルの範囲で反応させるのがよ
く、特に好ましくは1.0〜1.1モルの範囲である。
【0020】次に(2)法を具体的に説明すると、
(1)法で合成したスルホニウム塩、例えば、式(6)
(1)法で合成したスルホニウム塩、例えば、式(6)
【0021】
【化12】
【0022】(但し、式中R、a、b、n、Zは前記式
(1)と同一であり、Aはフッ素原子または臭素原子で
ある。)で示される化合物等のハライド化合物と公知の
方法、例えば塩基性化合物(例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等)の存在下、大過剰のモノ又はポ
リアルコール類(例えば、メタノール、エタノール、カ
ルビトール、エチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、1,4−ブタンジオール、シクロヘキサ
ンジオール、モノヒドロキシエチルチオール等)を室温
〜150℃で反応させることにより、前記、ハライド化
合物のハライド部が例えば
(1)と同一であり、Aはフッ素原子または臭素原子で
ある。)で示される化合物等のハライド化合物と公知の
方法、例えば塩基性化合物(例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等)の存在下、大過剰のモノ又はポ
リアルコール類(例えば、メタノール、エタノール、カ
ルビトール、エチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、1,4−ブタンジオール、シクロヘキサ
ンジオール、モノヒドロキシエチルチオール等)を室温
〜150℃で反応させることにより、前記、ハライド化
合物のハライド部が例えば
【0023】
【化13】
【0024】
【化14】
【0025】
【化15】
【0026】
【化16】
【0027】
【化17】
【0028】等の置換基に変換されたオニウム塩を得る
ことができる。又、(2)法によって得られた置換基が
水酸基を有する置換基に変換された化合物をさらにその
水酸基にラクトン類(例えば、ε−カプロラクトン等)
や、酸類(例えば、酢酸、無水酢酸等)を公知の方法で
反応させたオニウム塩も本発明に含まれる。
ことができる。又、(2)法によって得られた置換基が
水酸基を有する置換基に変換された化合物をさらにその
水酸基にラクトン類(例えば、ε−カプロラクトン等)
や、酸類(例えば、酢酸、無水酢酸等)を公知の方法で
反応させたオニウム塩も本発明に含まれる。
【0029】本発明に用いられるカチオン重合性物質
(B)としては、例えば、エポキシ樹脂、スチレン、ビ
ニルエーテル等のカチオン重合性ビニルエーテル化合
物、更にはスピロオルソエステル、ビシクロオルソエス
テル、スピロオルソカーボナートのような環状エーテル
類が挙げられる。エポキシ樹脂としては、従来、公知の
芳香族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポ
キシ樹脂、更にはエポキシド単量体、エピサルファイド
単量体類が挙げられる。
(B)としては、例えば、エポキシ樹脂、スチレン、ビ
ニルエーテル等のカチオン重合性ビニルエーテル化合
物、更にはスピロオルソエステル、ビシクロオルソエス
テル、スピロオルソカーボナートのような環状エーテル
類が挙げられる。エポキシ樹脂としては、従来、公知の
芳香族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポ
キシ樹脂、更にはエポキシド単量体、エピサルファイド
単量体類が挙げられる。
【0030】ここで、芳香族エポキシ樹脂として例示す
れば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノー
ルまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシ
ジルエーテルであって、例えばビスフェノールA、ビス
フェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化
合物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイ
ド(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロルヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテ
ル等が挙げられる。また、脂環式エポキシ樹脂として、
具体的な例としては、3,4−エポキシシクロヘキシシ
ルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノ
ン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロ
ペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセル化
学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂(軟化点71℃)
等が挙げられる。
れば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノー
ルまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシ
ジルエーテルであって、例えばビスフェノールA、ビス
フェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化
合物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイ
ド(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロルヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテ
ル等が挙げられる。また、脂環式エポキシ樹脂として、
具体的な例としては、3,4−エポキシシクロヘキシシ
ルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノ
ン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロ
ペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセル化
学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂(軟化点71℃)
等が挙げられる。
【0031】更に脂肪族エポキシ樹脂の例としては、脂
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例とし
ては、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテ
ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコ
ールに1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド)を付加する
ことにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリ
シジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド単量体類
の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール
またはこれらにアルキレンオキサイドを付加することに
より得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジル
エーテル等が挙げられる。
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例とし
ては、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテ
ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコ
ールに1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド)を付加する
ことにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリ
シジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド単量体類
の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール
またはこれらにアルキレンオキサイドを付加することに
より得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジル
エーテル等が挙げられる。
【0032】カチオン重合性ビニル化合物としては、例
えば、トリエチレングリコール、ジビニルエーテル、テ
トラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキ
サン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4
−ブタンジオールジビニルエーテル
えば、トリエチレングリコール、ジビニルエーテル、テ
トラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキ
サン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4
−ブタンジオールジビニルエーテル
【0033】
【化18】
【0034】
【化19】
【0035】及びウレタンポリビニルエーテル(例え
ば、ALLIED−SIGNAL社製、VECtomer201
0)等が挙げられる。また、これらカチオン重合性有機材
料は、単独又は2種以上の混合物として使用される。本
発明の硬化性組成物は、100重量部のカチオン重合性
物質(B)に対して0.01〜20重量部、より好まし
くは0.1〜10重量部の前記の式(1)で示されるオ
ニウム塩の光重合開始剤(A)を必須の成分とするが適
当な割合はカチオン重合性物質の性質やエネルギー線の
種類、照射量、所望の硬化時間、温度、湿度、塗膜厚な
どさまざまな要因を考慮することによって決定される。
カチオン重合性物質への光重合開始剤の溶解を容易にす
るため、あらかじめ光重合開始剤を溶剤類(例えば、プ
ロピレンカーボネート、カルビトール、カルビトールア
セテート、γ−ブチロラクトン等)に溶解し使用するこ
ともできる。本発明の硬化性組成物は、カチオン重合性
物質(B)及び光重合開始剤(A)を混合、溶解あるい
は混練等の方法により調製することができる。
ば、ALLIED−SIGNAL社製、VECtomer201
0)等が挙げられる。また、これらカチオン重合性有機材
料は、単独又は2種以上の混合物として使用される。本
発明の硬化性組成物は、100重量部のカチオン重合性
物質(B)に対して0.01〜20重量部、より好まし
くは0.1〜10重量部の前記の式(1)で示されるオ
ニウム塩の光重合開始剤(A)を必須の成分とするが適
当な割合はカチオン重合性物質の性質やエネルギー線の
種類、照射量、所望の硬化時間、温度、湿度、塗膜厚な
どさまざまな要因を考慮することによって決定される。
カチオン重合性物質への光重合開始剤の溶解を容易にす
るため、あらかじめ光重合開始剤を溶剤類(例えば、プ
ロピレンカーボネート、カルビトール、カルビトールア
セテート、γ−ブチロラクトン等)に溶解し使用するこ
ともできる。本発明の硬化性組成物は、カチオン重合性
物質(B)及び光重合開始剤(A)を混合、溶解あるい
は混練等の方法により調製することができる。
【0036】本発明の硬化性組成物は、紫外線等のエネ
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することがで
きる。適当なエネルギー線としては、光重合開始剤の分
解を誘発するエネルギーを有する限りいかなるものでも
よいが、好ましくは高、低圧水銀ランプ、キセノンラン
プ、殺菌灯、レーザー光などから得られる2000オン
グストローム〜7000オングストロームの波長を有す
る電磁波エネルギーや電子線、X線、放射線等の高エネ
ルギー線を使用する。エネルギー線への暴露は、エネル
ギー線の強度によるが、通常は0.1秒〜10秒程度で
十分である。しかし比較的厚い塗装物についてはそれ以
上の時間をかけるのが好ましい。エネルギー線照射後
0.1秒〜数分後には、ほとんどの組成物はカチオン重
合により指触乾燥するが、カチオン重合反応を促進する
ために加熱を併用することも場合によっては好ましい。
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することがで
きる。適当なエネルギー線としては、光重合開始剤の分
解を誘発するエネルギーを有する限りいかなるものでも
よいが、好ましくは高、低圧水銀ランプ、キセノンラン
プ、殺菌灯、レーザー光などから得られる2000オン
グストローム〜7000オングストロームの波長を有す
る電磁波エネルギーや電子線、X線、放射線等の高エネ
ルギー線を使用する。エネルギー線への暴露は、エネル
ギー線の強度によるが、通常は0.1秒〜10秒程度で
十分である。しかし比較的厚い塗装物についてはそれ以
上の時間をかけるのが好ましい。エネルギー線照射後
0.1秒〜数分後には、ほとんどの組成物はカチオン重
合により指触乾燥するが、カチオン重合反応を促進する
ために加熱を併用することも場合によっては好ましい。
【0037】本発明の組成物には、さらにカチオン重合
を損わない範囲で希釈のための溶剤や、改質のための非
反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エステル化合物(例
えば、ビスフェノールA型、エポキシ樹脂、ノボラック
型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)ア
クリレート等のオリゴマーや、2−ヒドロキシ(メタ)
アクレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等
のモノマー等)を配合することができる。(メタ)アク
リル酸エステル化合物を使用する場合には、光ラジカル
重合開始剤(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、アセトフェノンジメチルケタール、ベン
ゾイルメチルエーテル等)を使用するのが好ましい。ま
た例えば、電気特性を改良する目的などのため有機カル
ボン酸や酸無水物を使用したり、あるいはゴム弾性をも
たせるなどの目的でポリマールその他の可とう性プレポ
リマーを混合することができる。
を損わない範囲で希釈のための溶剤や、改質のための非
反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エステル化合物(例
えば、ビスフェノールA型、エポキシ樹脂、ノボラック
型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)ア
クリレート等のオリゴマーや、2−ヒドロキシ(メタ)
アクレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等
のモノマー等)を配合することができる。(メタ)アク
リル酸エステル化合物を使用する場合には、光ラジカル
重合開始剤(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、アセトフェノンジメチルケタール、ベン
ゾイルメチルエーテル等)を使用するのが好ましい。ま
た例えば、電気特性を改良する目的などのため有機カル
ボン酸や酸無水物を使用したり、あるいはゴム弾性をも
たせるなどの目的でポリマールその他の可とう性プレポ
リマーを混合することができる。
【0038】本発明の組成物は、通常透明な液状として
使用されるものであるが、用途によっては不活性な顔
料、染料、充填剤、静電防止剤、難燃剤、消泡剤、流動
調整剤、増感剤、促進剤、光安定剤等を混合しても用い
られる。本発明の組成物は、金属、木材、ゴム、プラス
チック、ガラス、セラミック製品等に使用することがで
きる。さらに本発明の具体的な用途としては、塗料、コ
ーティング剤、インキ、レジスト、液状レジストイン
キ、接着剤、成形材料、注型材料、パテ、ガラス繊維含
浸剤、目止め剤等が挙げられる。
使用されるものであるが、用途によっては不活性な顔
料、染料、充填剤、静電防止剤、難燃剤、消泡剤、流動
調整剤、増感剤、促進剤、光安定剤等を混合しても用い
られる。本発明の組成物は、金属、木材、ゴム、プラス
チック、ガラス、セラミック製品等に使用することがで
きる。さらに本発明の具体的な用途としては、塗料、コ
ーティング剤、インキ、レジスト、液状レジストイン
キ、接着剤、成形材料、注型材料、パテ、ガラス繊維含
浸剤、目止め剤等が挙げられる。
【0039】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお合成例中の部は重量部である。
明する。なお合成例中の部は重量部である。
【0040】(式(5)で表されるスルフィド系化合物
の合成例) 合成例1 メタンスルホン酸161.7部、五酸化リン16.2部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びアジピン酸7.3部を仕込み、80℃で10時間
反応を行い、液体クロマトグラフィにて反応が終了して
いることを確認し、この反応混合物を水酸化カリウム水
溶液1000部(水800部に水酸化カリウム200部
を溶解させたもの。)に滴下し、沈澱物を分離、乾燥
し、次いでこれをエタノール200部に加熱(60℃)
溶解し、−5℃まで冷却後析出物を分離し、乾燥し、ワ
ックス状の生成物17部を得た。生成物の構造式は以下
のものである。
の合成例) 合成例1 メタンスルホン酸161.7部、五酸化リン16.2部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びアジピン酸7.3部を仕込み、80℃で10時間
反応を行い、液体クロマトグラフィにて反応が終了して
いることを確認し、この反応混合物を水酸化カリウム水
溶液1000部(水800部に水酸化カリウム200部
を溶解させたもの。)に滴下し、沈澱物を分離、乾燥
し、次いでこれをエタノール200部に加熱(60℃)
溶解し、−5℃まで冷却後析出物を分離し、乾燥し、ワ
ックス状の生成物17部を得た。生成物の構造式は以下
のものである。
【0041】
【化20】
【0042】合成例2 メタンスルホン酸161.7部、五酸化リン16.2部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及び2−メトキシベンゼン酢酸16.6部を仕込み8
0℃で1時間反応を行い液体クロマトグラフィーにて反
応が終了していることを確認し、この反応混合物を合成
例1と同様に処理を行い、油状の生成物23部を得た。
生成物の構造式は以下のものである。
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及び2−メトキシベンゼン酢酸16.6部を仕込み8
0℃で1時間反応を行い液体クロマトグラフィーにて反
応が終了していることを確認し、この反応混合物を合成
例1と同様に処理を行い、油状の生成物23部を得た。
生成物の構造式は以下のものである。
【0043】
【化21】
【0044】合成例3 メタンスルホン酸161.7部、五酸化リン16.2部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びフマール酸5.8部を仕込み80℃で10時反応
を行ない液体クロマトグラフィーにて反応が終了してい
ることを確認し、この反応混合物を合成例1と同様に処
理を行ない、白色の固体15部を得た。生成物の構造式
は以下のものである。
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びフマール酸5.8部を仕込み80℃で10時反応
を行ない液体クロマトグラフィーにて反応が終了してい
ることを確認し、この反応混合物を合成例1と同様に処
理を行ない、白色の固体15部を得た。生成物の構造式
は以下のものである。
【0045】
【化22】
【0046】合成例4 メタンスルホン酸161.7部、五酸化リン16.2部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びトリメチロールプロパン1モルと無水コハク酸3
モルの反応物14.67部を仕込み80℃で15時間反
応を行い液体クロマトグラフィーにて反応が終了してい
ることを確認し、この反応混合物を合成例1と同様に処
理を行い油状の生成物20.5部を得た。生成物の構造
式は以下のものである。
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びトリメチロールプロパン1モルと無水コハク酸3
モルの反応物14.67部を仕込み80℃で15時間反
応を行い液体クロマトグラフィーにて反応が終了してい
ることを確認し、この反応混合物を合成例1と同様に処
理を行い油状の生成物20.5部を得た。生成物の構造
式は以下のものである。
【0047】
【化23】
【0048】(式(1)で示されるオニウム塩である光
重合開始剤の合成例) 合成例5 合成例1で得た生成物24.1部、ジフェニルスルホキ
シド20.2部、無水酢酸100部、硫酸10部を仕込
み、攪拌しながら50℃で3時間反応を行い、次いでこ
の反応混合物を攪拌しながら、5℃のNaSbF6の水溶液4
31.1部(水405.3部にNaSbF6を25.8部を溶
解したもの。)に少しづつ滴下し、析出した白色の固体
をろ別し、乾燥し、次いでイソプロパノール650部に
加熱(70℃)し、溶解し、0℃まで冷却しろ別し、乾
燥後白色の固体45部を得た。生成物の構造式は、以下
のものである。
重合開始剤の合成例) 合成例5 合成例1で得た生成物24.1部、ジフェニルスルホキ
シド20.2部、無水酢酸100部、硫酸10部を仕込
み、攪拌しながら50℃で3時間反応を行い、次いでこ
の反応混合物を攪拌しながら、5℃のNaSbF6の水溶液4
31.1部(水405.3部にNaSbF6を25.8部を溶
解したもの。)に少しづつ滴下し、析出した白色の固体
をろ別し、乾燥し、次いでイソプロパノール650部に
加熱(70℃)し、溶解し、0℃まで冷却しろ別し、乾
燥後白色の固体45部を得た。生成物の構造式は、以下
のものである。
【0049】
【化24】
【0050】合成例6 合成例2で得た生成物33.4部、4,4′−ジフルオ
ロジフェニルスルホキシド23.8部、濃硫酸180部
を仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの反応
混合物を攪拌しながら、5 ℃のNaSbF6の水溶液432部
(水406.1部にNaSbF625.9部を溶解したも
の。)に少しずつ滴下し、油状物を分離し、乾燥し、油
状の生成物62部を得た。生成物の構造式は、以下のも
のである。
ロジフェニルスルホキシド23.8部、濃硫酸180部
を仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの反応
混合物を攪拌しながら、5 ℃のNaSbF6の水溶液432部
(水406.1部にNaSbF625.9部を溶解したも
の。)に少しずつ滴下し、油状物を分離し、乾燥し、油
状の生成物62部を得た。生成物の構造式は、以下のも
のである。
【0051】
【化25】
【0052】合成例7 合成例3で得た生成物22.6部、4,4′−ジブロム
ジフェニルスルホキシド36部、濃硫酸240.6部を
仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの反応混
合物を攪拌しながら、5 ℃のNaSbF6の水溶液431.1
部(水405.3部にNaSbF6を25.8部を溶解したも
の。)に少しずつ滴下し、白色の固体をろ別し、乾燥
し、次いでイソプロパノール650部に加熱(70℃)
溶解し、0℃まで冷却し、ろ別し乾燥後、白色の固体6
7部を得た。生成物の構造式は以下のものである。
ジフェニルスルホキシド36部、濃硫酸240.6部を
仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの反応混
合物を攪拌しながら、5 ℃のNaSbF6の水溶液431.1
部(水405.3部にNaSbF6を25.8部を溶解したも
の。)に少しずつ滴下し、白色の固体をろ別し、乾燥
し、次いでイソプロパノール650部に加熱(70℃)
溶解し、0℃まで冷却し、ろ別し乾燥後、白色の固体6
7部を得た。生成物の構造式は以下のものである。
【0053】
【化26】
【0054】合成例8 合成例4で得た生成物66.5部、4,4′−ジメチル
ジフェニルスルホキシド46.1部、濃硫酸233.4
部を仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの反
応混合物を攪拌しながら、0°のNaPF6 の水溶液560
部(水526.4部にNaPF6 を33.6部を溶解したも
の。)に少しずつ滴下し、沈澱物を分離し、乾燥し、次
いでイソプロパノール650部で加熱(70℃)溶解
し、−5℃まで冷却し、ろ別し、乾燥後、ワックス状の
生成物95部を得た。生成物の構造式は以下のものであ
る。
ジフェニルスルホキシド46.1部、濃硫酸233.4
部を仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの反
応混合物を攪拌しながら、0°のNaPF6 の水溶液560
部(水526.4部にNaPF6 を33.6部を溶解したも
の。)に少しずつ滴下し、沈澱物を分離し、乾燥し、次
いでイソプロパノール650部で加熱(70℃)溶解
し、−5℃まで冷却し、ろ別し、乾燥後、ワックス状の
生成物95部を得た。生成物の構造式は以下のものであ
る。
【0055】
【化27】
【0056】合成例9 合成例6で得た生成物39.5部、水酸化ナトリウム4
部、1,4−ブタンジオール100部を仕込み、室温で
24時間反応を行い、その後、水中に注ぎ込み、油状物
を分離し、乾燥し、淡黄色、液状の生成物33部を得
た。生成物の構造式は、以下ものである。
部、1,4−ブタンジオール100部を仕込み、室温で
24時間反応を行い、その後、水中に注ぎ込み、油状物
を分離し、乾燥し、淡黄色、液状の生成物33部を得
た。生成物の構造式は、以下ものである。
【0057】
【化28】
【0058】合成例10 合成例6で得た生成物39.5部、水酸化ナトリウム4
部、エチレングリコール200部を仕込み、室温で24
時間反応し、その後水中に注ぎ込み、油状物を分離し、
乾燥し、油状の生成物を得た。次いで上記の生成物8
7.4部、ε−カプロラクトン45.6部、塩化第一ス
ズ0.04部を仕込み、120℃で15時間反応し、ε
−カプロラクトンが反応混合物中、1%以下であること
を確認し反応を終了し、液状の生成物133部を得た。
生成物の構造式は、以下のものである。
部、エチレングリコール200部を仕込み、室温で24
時間反応し、その後水中に注ぎ込み、油状物を分離し、
乾燥し、油状の生成物を得た。次いで上記の生成物8
7.4部、ε−カプロラクトン45.6部、塩化第一ス
ズ0.04部を仕込み、120℃で15時間反応し、ε
−カプロラクトンが反応混合物中、1%以下であること
を確認し反応を終了し、液状の生成物133部を得た。
生成物の構造式は、以下のものである。
【0059】
【化29】
【0060】(組成物の実施例) 実施例1〜12、比較例1〜6 表1及び2に示す配合組成(数値は重量部である。)に
従ってエネルギー線硬化性組成物を配合し、混合溶解し
た。これをアルミテストパネル上に5μに塗布し高圧水
銀灯(80W/cm) で8cmの距離から紫外線を照射し硬
化させた。調製された組成物の透明性、保存安定性、指
触乾燥性、硬化塗膜の光沢、臭気について試験した。そ
れらの結果を表1及び2に示す。
従ってエネルギー線硬化性組成物を配合し、混合溶解し
た。これをアルミテストパネル上に5μに塗布し高圧水
銀灯(80W/cm) で8cmの距離から紫外線を照射し硬
化させた。調製された組成物の透明性、保存安定性、指
触乾燥性、硬化塗膜の光沢、臭気について試験した。そ
れらの結果を表1及び2に示す。
【0061】(試験方法) (透明性):組成物の透明性を目視判定した。 ○・・・・完全に透明である △・・・・わずかににごりあり ×・・・・白ダクしている ××・・・・すぐに分離する (保存安定性):組成物を40℃で3ケ月間保存し、安
定性を調査した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している (指触乾燥性):指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2)
を測定した。 (光 沢):指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2) を照
射した後、硬化塗膜の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない
定性を調査した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している (指触乾燥性):指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2)
を測定した。 (光 沢):指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2) を照
射した後、硬化塗膜の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない
【0062】(臭気):塗布面に1000mJ/cm2照射し
た後、硬化塗膜の表面の臭気を観察した。 ○・・・・全く臭気がない △・・・・わずかに臭気がある ×・・・・臭気がある ××・・・・臭気が強い
た後、硬化塗膜の表面の臭気を観察した。 ○・・・・全く臭気がない △・・・・わずかに臭気がある ×・・・・臭気がある ××・・・・臭気が強い
【0063】
【表1】 表1−1 実 施 例 1 2 3 4 5 6 合成例5で得た光重合開始剤 1.5 合成例6で得た光重合開始剤 1.5 合成例7で得た光重合開始剤 1.5 合成例8で得た光重合開始剤 1.5 合成例9で得た光重合開始剤 1.5 合成例10で得た光重合開始剤 1.5 化合物 1 *1 化合物 2 *2 化合物 3 *3 セロキサイド 2021*4 80 80 80 80 80 80 EHPE−3150 *5 20 20 20 20 20 20 透明性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 保存安定性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 指触乾燥性(mJ/cm2) 23 23 23 69 23 30 光 沢 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 臭 気 ○ ○ ○ ○ ○ ○
【0064】注 *1 化合物1:トリフェニルスル
ホニウムヘキサフルオロホスフェート *2 化合物2:ジフェニル−4−チオフェノキシフ
ェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート *3 化合物3:4,4′−ビス〔ビス(P−2−ヒ
ドロキシエトキシフェニル)スルホニオ〕フェニルスル
フィドビスヘキサフルオロホスフェート *4 セロキサイド2021:ダイセル化学工業
(株)製、脂環式エポキシ樹脂 *5 EHPE−3150:ダイセル化学工業(株)
製、脂環式エポキシ樹脂
ホニウムヘキサフルオロホスフェート *2 化合物2:ジフェニル−4−チオフェノキシフ
ェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート *3 化合物3:4,4′−ビス〔ビス(P−2−ヒ
ドロキシエトキシフェニル)スルホニオ〕フェニルスル
フィドビスヘキサフルオロホスフェート *4 セロキサイド2021:ダイセル化学工業
(株)製、脂環式エポキシ樹脂 *5 EHPE−3150:ダイセル化学工業(株)
製、脂環式エポキシ樹脂
【0065】
【表2】 表2−1 実 施 例 7 8 9 10 11 12 合成例5で得た光重合開始剤 1.0 合成例6で得た光重合開始剤 1.0 合成例7で得た光重合開始剤 1.0 合成例8で得た光重合開始剤 1.0 合成例9で得た光重合開始剤 1.0 合成例10で得た光重合開始剤 1.0 化合物 1 化合物 3 VEctomer2010 *6 25 25 25 VEctomer4020 *7 60 60 25 25 25 60 トリエチレングリコール ジビニルエーテル 10 10 10 透明性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 保存安定性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 指触乾燥性(mJ/cm2) 12 12 12 25 12 12 光 沢 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 臭 気 ○ ○ ○ ○ ○ ○
【0066】注 *6: VEctomer2010:ALLIED
-SIGNAL 社製芳香族ウレタンビニルエーテル *7: VEctomer4020:ALLIED-SIGNAL 社製下記の
構造式を有する脂肪族エステルビニルエーテル
-SIGNAL 社製芳香族ウレタンビニルエーテル *7: VEctomer4020:ALLIED-SIGNAL 社製下記の
構造式を有する脂肪族エステルビニルエーテル
【0067】
【化30】
【0068】*8 : 組成物は、相容性が悪く、混合後
すぐに分離してしまい1000mJ/cm2以上の紫外線を照
射しても硬化しない。
すぐに分離してしまい1000mJ/cm2以上の紫外線を照
射しても硬化しない。
【0069】表1及び2の結果から明らかなように、本
発明の光重合開始剤及びそれを含有した組成物は、相容
性に優れ、透明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好
であり、硬化塗膜の臭気も小さい。
発明の光重合開始剤及びそれを含有した組成物は、相容
性に優れ、透明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好
であり、硬化塗膜の臭気も小さい。
【0070】
【発明の効果】本発明の光重合開始剤を含有したエネル
ギー線硬化性組成物は、相容性に優れ、透明で硬化性に
優れ、硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜の臭気も小さ
く、優れた物性の硬化物をあたえる。
ギー線硬化性組成物は、相容性に優れ、透明で硬化性に
優れ、硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜の臭気も小さ
く、優れた物性の硬化物をあたえる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年5月23日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 エネルギー線硬化性組成物及び
その硬化物
その硬化物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/029
Claims (2)
- 【請求項1】式(1)で示されるオニウム塩である光重
合開始剤(A) 【化1】 {但し、式中Xは式(2)で示されるスルホニオ基 【化2】 (R1 〜R10はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、アルコキシ基、C1 〜C25の脂肪族基、C6 〜C
18の置換基で置換されてもよいフェニル基、フェノキシ
基、フェニルカルボニル基またはチオフェノキシ基、少
なくとも1個の水酸基を有するC1 〜C25の脂肪族基、 【化3】 で表わされる基を含むC3 〜C25の脂肪族基のいずれか
から選択される基、R11は水素原子またはメチル基であ
る。)Rは芳香族基以外の基、aは1以上の数値、bは
0または1以上の数値、a+bは1以上の数値、nは1
以上の数値、Zは式(3)または式(4)で示され 【化4】 【化5】 Mはホウ素原子、リン原子、ヒ素原子またはアンチモン
原子、Qはハロゲン原子、mは4〜6である。}とカチ
オン重合性物質(B)を含有することを特徴とするエネ
ルギー線硬化性組成物。 - 【請求項2】請求項1記載の組成物の硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19677593A JPH0725922A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19677593A JPH0725922A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0725922A true JPH0725922A (ja) | 1995-01-27 |
Family
ID=16363430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19677593A Pending JPH0725922A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725922A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6451873B1 (en) * | 1998-07-07 | 2002-09-17 | Sun Chemical Corporation | Low VOC cationic curable lithographic printing inks |
| US6489375B2 (en) * | 1998-07-07 | 2002-12-03 | Sun Chemical Corporation | Low VOC cationic curable lithographic printing inks |
| CN100361998C (zh) * | 2004-06-22 | 2008-01-16 | 三井化学株式会社 | 离子性化合物和含有该化合物的树脂组合物及其用途 |
| JP2008510785A (ja) * | 2004-08-27 | 2008-04-10 | メルク シャープ エンド ドーム リミテッド | 5−ht2aアンタゴニストとしてのジアリールスルホン |
| JP2010132601A (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 |
| WO2011040531A1 (ja) | 2009-10-01 | 2011-04-07 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス用材料、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、及びそれを用いた表示素子、照明装置、表示装置 |
| WO2011132702A1 (ja) | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置 |
| JP2013164471A (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-22 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子 |
| WO2014136900A1 (ja) | 2013-03-08 | 2014-09-12 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
-
1993
- 1993-07-15 JP JP19677593A patent/JPH0725922A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6451873B1 (en) * | 1998-07-07 | 2002-09-17 | Sun Chemical Corporation | Low VOC cationic curable lithographic printing inks |
| US6489375B2 (en) * | 1998-07-07 | 2002-12-03 | Sun Chemical Corporation | Low VOC cationic curable lithographic printing inks |
| CN100361998C (zh) * | 2004-06-22 | 2008-01-16 | 三井化学株式会社 | 离子性化合物和含有该化合物的树脂组合物及其用途 |
| JP2008510785A (ja) * | 2004-08-27 | 2008-04-10 | メルク シャープ エンド ドーム リミテッド | 5−ht2aアンタゴニストとしてのジアリールスルホン |
| JP2010132601A (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 |
| WO2011040531A1 (ja) | 2009-10-01 | 2011-04-07 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス用材料、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、及びそれを用いた表示素子、照明装置、表示装置 |
| WO2011132702A1 (ja) | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置 |
| JP2013164471A (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-22 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子 |
| WO2014136900A1 (ja) | 2013-03-08 | 2014-09-12 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3942202B2 (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JP5138870B2 (ja) | カチオン硬化性組成物用の硬化剤 | |
| KR19990036339A (ko) | 광중합 반응 개시제 및 이를 함유하는 에너지선경화성 조성물 | |
| CN101479310B (zh) | 通过活化能射线照射活化的胺酰亚胺化合物、利用该化合物的组合物及该组合物的固化方法 | |
| JP3625219B2 (ja) | 新規オニウム塩、光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| US7709548B2 (en) | Method for manufacturing monosulfonium salt, cationic polymerization initiator, curable composition, and cured product | |
| JPH10287643A (ja) | 新規オニウム塩、光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH107680A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH107649A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH10212286A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| US5502083A (en) | Onium salt, photopolymerization initiator, energy ray-curing composition containing the initiator, and cured product | |
| JPH06345726A (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| JPH08157510A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JP3424772B2 (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH10245378A (ja) | 新規スルホニウム塩、それからなる光重合開始剤及びエネルギー線硬化性組成物 | |
| JPH0710914A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JP3424771B2 (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH09278813A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JP3402520B2 (ja) | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH10204083A (ja) | 新規スルホニウム塩、光重合開始剤、エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH09143212A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH10152495A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH08301991A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH09278814A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH10182634A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |