JPH1077307A - 安定フリーラジカル重合プロセス及びその組成物 - Google Patents
安定フリーラジカル重合プロセス及びその組成物Info
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Abstract
狭いポリ分散性の単独重合あるいは共重合熱可塑性樹脂
生成物を与えるフリーラジカル重合反応プロセスを提供
する。 【解決手段】 本発明のプロセスは、安定フリーラジカ
ル剤と少なくとも1つの重合可能なモノマー化合物とを
含む混合物について、紫外線を照射しながら加熱、光開
始反応を行う第1の加熱工程と、必要に応じて前記混合
物を冷却する工程と、約100℃から約160℃までの
温度で前記混合物を加熱する第2の加熱工程と、形成さ
れたポリマー生成物を単離する工程と、必要に応じて前
記ポリマーを洗浄、乾燥する工程と、を備える。
Description
ダム共重合体、ブロック共重合体、官能基活性重合体等
を含む重合体を製造するためのプロセスに関し、より詳
細には、重合プロセス及びその重合プロセスにより形成
されるポリマーに関する。特に、スチレンアクリレー
ト、スチレンメタクリレートのようなスチレン重合体、
共重合体、多ブロック共重合体などの重合体を製造する
ためのプロセスに関する。
は共重合体を生成する1つの方法としては、アニオン重
合プロセスが挙げられる。工業的生産において、狭いポ
リ分散を有する樹脂の用途及び有用性は、本来限られて
いる。
セスは、酸素と水分を除去した雰囲気下で行われ、操作
が難しいと共に、危険な開始剤を使用するため、結果的
にアニオン重合プロセスは、一般的に小さいバッチ反応
器に限られていた。
度でかつ無水である必要があり、これらの要求のない他
の方法に比べてコスト高であった。また、全てのモノマ
ーがアニオン重合できるとは限らないという問題があっ
た。
を有する、一貫して狭いポリ分散性の単独重合あるいは
共重合熱可塑性樹脂生成物を与えるフリーラジカル重合
反応系を提供することである。この場合の温度は約−4
0℃から110℃まで、あるいは約20℃から約60℃
まで、より好ましくは実施の形態では約25℃、の低温
を選択することができ、実施の形態においては光開始剤
成分が選択される。
グあるいは不均化停止反応は、フリーラジカル重合反応
を調整する役割を担う安定フリーラジカル剤を用いて可
逆的にフリーラジカル鎖の伸張を停止させることにより
阻止される。
5から約1.95、好ましくは約1.1から約1.6の
Mw/Mn比を有する樹脂の製造のための光開始プロセ
スが提供される。このプロセスでは、モノマーからポリ
マーへの変換率を高くすることができ、例えば少なくと
も50%、約50から100%、あるいは50から95
%が可能である。
レンの単独重合体などの単独重合体、ランダム共重合
体、ブロック共重合体、多ブロック共重合体など、を得
るための安定フリーラジカル重合プロセスが提供され
る。例えばこの発明のプロセスを用いると、特にスチレ
ンアクリレート、スチレンメタクリレート、スチレンブ
タジエン、及び一般的にはA、AA、AB、BA、AA
A、ABA、BAB、AABBAB、ABC、単独重合
体及び共重合体が様々な実施の形態において得られる。
の目的は、実施の形態においては低温での光開始反応に
より行われるフリーラジカル重合プロセスにより達成す
ることができる。より詳細には、本発明のプロセスは、
低温で紫外線を照射しながら、安定フリーラジカル剤と
少なくとも1つの、例えば1から約5の、実施の形態に
おいては好ましくは1の高いモノマーからポリマーへの
変換率で重合してポリマーを形成することができるモノ
マー化合物の混合物を加熱する工程と、混合物を冷却す
る工程と、必要に応じてポリマー生成物を単離する工程
と、必要に応じてポリマー生成物を洗浄乾燥する工程と
を備え、ポリマーは一貫して、例えば約1.05から約
1.95までの、より好ましくは1.1から1.6まで
の狭いポリ分散性を有するフリーラジカル重合プロセス
である。
を製造するためのフリーラジカル光開始重合プロセスを
示したものであり、約−40℃から約110℃の温度で
UV光を照射しながらスチレンなどのモノマーと安定フ
リーラジカル剤を含む混合物を加熱する工程と、それか
ら約100℃から、好ましくは約120℃から約160
℃までの温度で第2の加熱を行うことによりポリマーを
伸張させる工程と、その後の冷却工程とを含む。光開始
剤成分群、あるいは1つの光開始剤成分は本発明のプロ
セスのために選択することができ、普通UV光を照射し
ながら加熱する前に反応混合物に添加される。
マーあるいは樹脂を製造するためのフリーラジカル光開
始重合プロセスを示したものであり、約−40℃から約
110℃の温度でUV光を照射しながら安定フリーラジ
カル剤と第1の中間生成物樹脂を形成する少なくとも1
つの重合可能なモノマーを含む第1の混合物を加熱する
第1の加熱工程と、必要に応じて第1の混合物を冷却す
る工程と、安定フリーラジカル剤と少なくとも1つの重
合可能なモノマー化合物を含む第2の混合物であって、
その第2の混合物の重合可能なモノマーまたはモノマー
群は第1の混合物の重合可能なモノマーあるいはモノマ
ー群と同じでありかつ第2の混合物の安定フリーラジカ
ル剤は複合混合物を形成する第1の混合物の安定フリー
ラジカル剤と同じあるいは異なる前記第2の混合物を第
1の中間生成物樹脂に添加する工程と、約100℃から
約160℃までの有効温度で複合混合物を加熱して重合
を行い第1の中間生成物樹脂と、添加した第2のモノマ
ーあるいはモノマー群から形成された第1の生成物樹脂
と、第2のモノマーあるいはモノマー群から形成された
第2の生成物樹脂と、を含む熱可塑性樹脂混合物を有す
る第3の混合物を形成する第2の加熱工程と、第3の混
合物を冷却する工程と、必要に応じて第3の混合物から
熱可塑性生成物樹脂の混合物を単離する工程と、必要に
応じて熱可塑性樹脂の混合物を洗浄、乾燥する工程とを
含む。第1の生成物樹脂と第2の生成物樹脂はそれぞれ
狭いポリ分散性を有し、熱可塑性樹脂の混合物は約1か
ら2のモダリティーを有する。所望であれば、その後最
終的な冷却及び単離工程の前に、モノマーあるいはモノ
マー群とフリーラジカル開始剤と安定フリーラジカル剤
の新しい混合物を有効量添加すれば、例えば約3から約
20の高いモダリティーが都合良く達成することができ
る。
ロック共重合体熱可塑性樹脂あるいは樹脂群を製造する
ためのフリーラジカル重合プロセスが提供されており、
このプロセスは、約−40℃から約110℃、好ましく
は約20℃から60℃、より好ましくは室温、例えば2
5℃の温度でUV光を照射しながら安定フリーラジカル
剤と光開始剤成分と第1の中間生成物樹脂を形成する少
なくとも1つの重合可能なモノマー化合物を含む第1の
混合物を加熱する工程と、第1の混合物を冷却する工程
と、第1の中間生成物樹脂を単離する工程と、少なくと
も1つの(ブロック共重合体を製造する時には普通1度
に1つのモノマーが添加され、その後約100から約1
60℃の温度で重合され、それから次のモノマーが添加
される。そのため異なるモノマーを添加することのでき
る工程及び回数は多いが各回では1つのモノマーだけが
添加される)重合可能なモノマー化合物を含む第2の混
合物であって、その第2の混合物の重合可能なモノマー
は複合混合物を形成する第1の混合物の重合可能なモノ
マーと異なる前記第2の混合物を第1の中間生成物樹脂
に添加する工程と、複合混合物を加熱して第1の中間生
成物樹脂と添加した第2のモノマーから形成される第1
の生成物樹脂を含むブロック共重合体熱可塑性樹脂を有
する第3の混合物を形成する工程と、第3の混合物を冷
却する工程と、必要に応じて第3の混合物からブロック
共重合体熱可塑性樹脂を単離する工程と、必要に応じて
ブロック共重合体熱可塑性樹脂を洗浄、乾燥する工程と
を含み、ブロック共重合体は狭いポリ分散性と1のモダ
リティーを有する。最も高い純度及びブロックの完全性
のある又は、一様性が所望の場合、中間生成物樹脂を単
離することが好ましい。すなわち、第1の混合物の残っ
た未反応モノマーあるいはモノマー群はその後重合可能
なモノマー化合物の第2の混合物から形成される成長中
のポリマー鎖と反応して1つになることがある。このた
め、この発明の方法によりブロック共重合体を製造する
際には、高い純度が所望である場合、あるいは重合度が
ブロックあるいは多ブロック重合反応に対し約70から
90未満である場合、例えば重合反応の中間生成物の沈
殿による単離が好ましい。
えば1.8未満の優れたポリ分散性を有する。実施の形
態においては、本発明は、少なくとも1つのモノマー化
合物から、狭いポリ分散性(polydispersi
ty)、すなわち比率Mw/Mn(ここで、Mwは重量
平均分子量及びMnは数平均分子量である)で表される
狭い分子量分布、及び制御し易いモダリティ(moda
lity)を有する熱可塑性重合体樹脂あるいは樹脂群
を製造するための安定フリーラジカル調整プロセスに関
する。このプロセスは、光開始工程であって、好ましく
はUV光、リビングフリーラジカル重合反応により達成
される光開始工程であって、より詳細にはすべてのポリ
マー鎖の形成がほとんど同時に開始されるような条件下
でUV光などの光を照射しながら安定フリーラジカル剤
と少なくとも1つの重合可能なモノマー化合物の混合物
を有効期間加熱する前記光開始工程と、その混合物を冷
却して効果的に重合を終了させる工程と、熱可塑性樹脂
生成物を単離する工程と、必要に応じてポリマー樹脂生
成物を洗浄乾燥させる工程と、を含む。実施の形態にお
ける本発明の方法を用いた場合、光開始温度は低くする
ことができ、例えば約−40℃から約100℃、あるい
は約20℃から60℃とすることができ、実施の形態で
は室温付近の温度、例えば約25℃、が好ましい。実施
の形態における本発明の方法により生成したポリマー樹
脂は本質的には単一モードであり、実施の形態では加熱
と光開始工程とを繰り返すことにより、狭いポリ分散性
と公知のあるいは選択可能なモダリティの両方の特性を
有する構成的には同じ樹脂型である単一モードのポリマ
ー樹脂の混合物を得るための方法が得られる。実施の形
態においては、本発明のプロセスにより、多キログラム
(multikilogram)あるいはそれ以上の規
模でバルクあるいはニートフリーラジカル重合プロセス
を実行するための方法が得られる。前記実施の形態は1
つのあるいは単一のポット反応器環境で達成することが
できる。更に、実施の形態においては、重合鎖の成長は
擬似リビングメカニズムにより進み、分子量が非常に低
いものから非常に高いものまで、例えば約2,000未
満から約300,000以上のものまで、様々な熱可塑
性樹脂が得られるが、分子量分散あるいはポリ分散性は
狭いままであり、例えば1.05から約1.95まで、
あるいは実施の形態においては1.8未満である。ここ
で、モノマーからポリマーへの変換率は高く、例えば少
なくとも約50%であり、特に約50%から約99から
100%までである。更に、実施の形態においてはブロ
ック共重合体は前記安定フリーラジカル調整フリーラジ
カル重合プロセスにより合成できる。ここで、形成され
た各ブロックは例えば、反応させるモノマーにより長さ
が明確に規定でき、形成された各ブロックは狭い分子量
分布を有し、ブロック共重合体は実質的には100%ブ
ロック共重合体であり、第2のモノマーの単独重合体が
混じることはない。第2のブロックモノマーの単独重合
体の形成はこの明細書において引用した大津等の従来技
術などの他の従来技術(iniferter prio
r art).Makromol chem.,Rap
id Commun.,3,127(1982)などの
他の従来技術による方法においては起こりうる競争反応
である。
あるいはポリマー群を製造するための方法が必要とされ
る。このポリ分散性は経済的かつ計量可能なフリーラジ
カル重合技術により一貫して達成される。このポリマー
は所望の物理的特性、例えば硬度、低いゲル量、加工
性、透明度、高い光沢耐久性などの多くをあるいは全て
を保持している。一方、このポリマーは従来のフリーラ
ジカル重合プロセスに関連して生じていたゲル形成、発
熱、容積制限及び多段階反応系、精製、ポリマー樹脂生
成物の性能特性などの問題を有していない。重合は約5
0℃から約95℃までの低い温度で達成することができ
る。また、本発明の方法を用いると、低温が選択でき、
重合速度を速くすることができ、更に、フリーラジカル
成分、例えば過酸化ベンゾイルを避けることができる。
更に、本発明を用いると、フリーラジカル成分及びその
望ましくない逆の副反応を避けることができる。
生成物はトーナーや現像液など多くの使用のために、よ
り詳細には電子写真結像方法のためのトーナーとして選
択することができる。その場合単一モードの樹脂あるい
は単一モードの狭い分子量樹脂の混合物あるいは各ブロ
ック成分内で狭い分子量分散を有するブロック共重合体
は熱可塑性フィルム及びコーティング技術などにおいて
適している。
含まれる。
ル重合プロセスは、安定フリーラジカル剤と、必要に応
じて光開始剤とスチレンなどの少なくとも1つの重合可
能なモノマー化合物との混合物を加熱する工程であっ
て、前記加熱が約−40℃から約110℃の温度で紫外
線を照射しながら行われる前記加熱工程と、混合物を冷
却する工程と、約100℃から約160℃の温度で加熱
することにより重合とポリマー鎖の伸張を行う工程と、
ポリスチレンなどのポリマー生成物を単離し、そのポリ
マーを洗浄、乾燥する工程とを含み、実施の形態におい
ては、安定フリーラジカル剤として、4‐オキソ‐2,
2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ
(4‐オキソ‐TEMPO)あるいはTEMPOが選択
できる。
ト及びアクリレート誘導体モノマーから狭いポリ分散性
の単一アクリレート樹脂及び共重合アクリレート樹脂の
合成を可能にする擬似リビング(pseudolivi
ng)重合プロセスを提供する。本発明の実施の形態に
おいては、UV光/フリーラジカル剤、例えばTEMP
O、が開始剤として作用し、フリーラジカル開始剤、例
えば過酸化ベンゾイルは選択されない。
合あるいは共重合樹脂組成物が得られるが、生成物樹脂
あるいは樹脂群は重量平均分子量(Mw)が約2,00
0から300,000で、数平均分子量(Mn)が約
1,800から約153,000、かつポリ分散性は約
1.05から1.95であり、特に、Mw/Mnが約
1.1から約1.6、約1.1から約1.5あるいは1
よりわずかに大きい数値から約1.6のものである。本
発明のプロセスは更に、実施の形態においては、モノマ
ーの添加あるいは重合工程を連続して繰り返すための手
段を含み、更にこのプロセスの安定フリーラジカル剤及
びフリーラジカル開始剤をN回添加すると、混合物中の
各樹脂が別個の狭いポリ分散性を有するポリマーを含
み、かつ混合物のモダリティーがN+1に等しい熱可塑
性樹脂の明確な混合物が得られる。ここで、Nは開始剤
及び/またはUV光による励起、安定フリーラジカル剤
及びモノマーの添加工程が繰り返された場合の回数であ
る。
成物のポリ分散性は一貫して狭く、例えば、モノマー/
コモノマー系により、安定フリーラジカル剤とフリーラ
ジカル開始剤とのモル濃度の比を変えることにより、及
び光開始剤成分により、約1.05から約1.95まで
変動させることができる。本発明の重合光開始プロセス
をUV光を用いず、光開始剤を用いず、SFR(安定フ
リーラジカル剤)を用いずに行おうとすると、2から6
の間のポリ分散性を有するブロードな分子量の樹脂が通
常得られ、モノマーのポリマーへの変換率が低くなる。
媒質、例えば懸濁液、エマルジョン、バルク中で行うこ
とができる。それらの媒質は、ニートであり、あるいは
溶媒なしであり、あるいは水溶液であり、あるいは非水
溶液であるが、トルエンやキシレンなどのより高い沸騰
溶剤を用いるのが好ましい。
せてポリマーを形成させる間、反応時間は変えることが
でき、例えば約1から約60時間とすることができ、好
ましくは約2から10時間であり、約4から7時間が至
適である。至適反応時間は温度、反応の体積及び規模、
及び選択した重合開始剤及び安定フリーラジカル剤の質
及び型により変えることができる。重合反応温度は調節
可能な外部熱源を設けることにより加熱段階全体を通し
て比較的一定に保持され、温度はこの中で示されるよう
に約120℃から約160℃に維持される。
場合、安息香酸あるいはスルホン酸などの適当な試薬に
より熱重合が抑制されると、実質的には加熱しても重合
は起こらない。しかしながら、このモノマーとニトロキ
シドの同じ混合物を約−40℃から約105℃の温度に
おいて紫外線を照射し、続いてより高い温度まで加熱す
ると、擬似リビング重合が起きる。TEMPOや他の効
果的なニトロキシドのような安定フリーラジカル剤は重
合を開始させるには、基底状態ではエネルギー的に十分
でないと考えられる。しかしながら、これらの同じニト
ロキシドにUVを照射すると、励起状態から重合を開始
させることができると考えられる。この型の開始プロセ
スは広範囲のニトロキシド及びモノマーを用いる場合に
使用でき、開始温度を低温にすることで一貫して狭いポ
リ分散性が得られる。また、本発明を用いると、このプ
ロセスは熱重合を阻害する添加剤が存在する連続プロセ
スにおける熱開始反応の代わりとして選択することがで
きる。更にこの発明のプロセスを使用するのに過酸化ベ
ンゾイルなどのフリーラジカル開始剤に敏感な試薬ある
いは反応物質は必要ない。実施の形態における本発明の
プロセスは、例えば90重量%以上の、特に実施の形態
においては約75から約100%の高いモノマーからポ
リマーへの変換率、すなわち重合度を与えるものであ
る。更に、実施の形態における本発明のプロセスは、約
2,000から約300,000の範囲の、好ましくは
約2,000から約25,000の範囲の重量平均分子
量を有するかなり高い重量平均分子量のポリマー生成物
を与える。実施の形態においては本発明のプロセスを用
いると、約500,000のMwを有するポリマーが得
られる。
剤、すなわち成分の例としてはニトロキシドフリーラジ
カルなど、例えばプロキシル(2,2,5,5‐テトラ
メチル‐1‐ピロリジニルオキシ)、3‐カルボキシル
‐プロキシル、3‐カルバモイル‐プロキシル、2,2
‐ジメチル‐4,5‐シクロヘキシル‐プロキシル、3
‐オキソ‐プロキシル、3‐ヒドロキシルイミン‐プロ
キシル、3‐アミノメチル‐プロキシル、3‐メトキシ
‐プロキシル、3‐t‐ブチル‐プロキシル、3‐マレ
イミド‐プロキシル、3,4‐ジ‐t‐ブチル‐プロキ
シル、3‐カルボキシリック‐2,2,5,5‐テトラ
メチル‐1‐ピロリジニルオキシなど、及びその誘導
体、TEMPO(2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐
ピペリジニルオキシ)、4‐ベンゾキシルオキシ‐TE
MPO、4‐メトキシ‐TEMPO、4‐カルボキシリ
ック‐4‐アミノ‐TEMPO、4‐クロロ‐TEMP
O、4‐ヒドロキシスイミン‐TEMPO、4‐ヒドロ
キシ‐TEMPO、4‐オキソ‐TEMPO、4‐オキ
ソ‐TEMPO‐エチレンケタール、4‐アミノ‐TE
MPO、2,2,6,6‐テトラエチル‐1‐ピペリジ
ニルオキシ、2,2,6‐トリメチル‐6‐エチル‐1
‐ピペリジニルオキシなど、及びその誘導体、及びジ‐
t‐ブチルニトロキシド、ジフェニルニトロキシド、t
‐ブチル‐t‐アミルニトロキシドなど、及びその誘導
体、などのジアルキルニトロキシドラジカル、及びDO
XYL(4,4‐ジメチル‐1‐オキサゾリジニルオキ
シ)、2‐ジ‐t‐ブチル‐ドキシル、5‐デカン‐ド
キシル、2‐シクロヘキサン‐ドキシルなど、及びその
誘導体、2,5‐ジメチル‐3,4‐ジカルボキシリッ
ク‐ピロール、2,5‐ジメチル‐3,4‐ジエチルエ
ステル‐ピロール、2,3,4,5‐テトラフェニル‐
ピロールなど、3‐シアノ‐ピロリン‐3‐カルバモイ
ル‐ピロリン、3‐カルボキシリック‐ピロリンなど;
1,1,3,3‐テトラメチルイソインドリン‐2‐イ
ルオキシル及び1,1,3,3‐テトラエチルイソイン
ドリン‐2‐イルオキシなど;5‐シクロヘキシルポル
フェレキシドニトロキシル及び2,2,4,5,5‐ペ
ンタメチル‐△3 ‐イミダゾリン‐3‐オキシド‐1‐
オキシルなどのポルフィレキシドニトロキシルラジカ
ル、及びグラビノキシなど;1,3,3‐トリメチル‐
2‐アザビシクロ[2,2,2]オクタン‐5‐オン‐
2‐オキシド及び1‐アザビシクロ[3,3,1]ノナ
ン‐2‐オキシドなど、が挙げられ、TEMPOが好ま
しい。
重合が可能なものが含まれ、スチレン、置換スチレン及
びその誘導体、例えば、α‐メチルスチレン、4‐メチ
ルスチレン、ブタジエン及び安定フリーラジカル調整重
合反応条件下で十分な反応性を有し安定フリーラジカル
付加生成物及び高分子量ポリマー生成物を与える共役ジ
エンモノマー、例えばイソプレン、ミルセン、アクリレ
ート、及びその誘導体が挙げられるがそれに限定される
ものではない。得られるポリマーとしては、スチレン、
アクリレート、スチレンアクリレート、スチレンブタジ
エンなどが挙げられる。本発明の反応のアクリレート重
合は実施の形態においては、溶剤あるいは助溶剤を補う
ことにより、確実に反応混合物がモノマーの変換期間中
一様の単一相となるようにすることができる。全ての重
合反応が完結するまで、反応物あるいはポリマー生成物
の沈殿あるいは相分離が起こらない溶剤系で、溶剤媒質
が効果を発するものであれば、どのような溶剤または助
溶剤を選択しても良い。溶剤あるいは助溶剤としては、
ポリマー生成物と適合性のある脂肪族アルコール、グリ
コール、エーテル、グリコールエーテル、ピロリジン、
N‐アルキルピロリジノン、N‐アルキルピロリドン、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
アミド、カルボン酸及びその塩、エステル、有機スルフ
ィド、スルホキシド、スルホン、アルコール誘導体、ヒ
ドロキシエーテル誘導体、例えばブチルCARBITO
L(商品名)あるいはCELLOSOLVE(商品
名)、アミノアルコール、ケトンなど、それらの誘導体
及びそれらの混合物が挙げられる。特定の溶剤として
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、ジプロピレングリコー
ル、テトラヒドロフラン、など及びそれらの混合物が挙
げられる。反応媒質として水と水に可溶なあるいは水と
混和する有機液体の混合物を選択すると、水の助溶剤に
対する重量比は一般的には約100:0から約10:9
0であり、好ましくは約97:3から約25:75であ
る。
り、モノマーの重合反応速度は実施の形態において加速
することができ、反応時間は16時間以上から約4から
7時間に減少することができる。このプロトン酸はカチ
オン重合を開始することはできず、スルホン酸、リン
酸、カルボン酸及び3‐カルボキシル‐プロキシルなど
の酸官能基を含むニトロキシドなどの有機酸からなるグ
ループから選択され、しょうのうスルホン酸が好ましい
酸である。安定フリーラジカル剤の酸に対するモル比を
変えることができ、例えば、約100:1から1:1ま
でとすることができ、約20:1及び5:1の間の比が
好ましい。前述した量より過剰に有機酸を添加すると、
実施の形態において樹脂ポリ分散性のブロード化を引き
起こす可能性がある。
セスは、更にモノマーあるいはモノマー群を様々な量の
光開始剤及び安定フリーラジカル剤と共に遅延させてあ
るいは段階的に添加し、同じ反応容器内において複数回
繰り返すことにより、各成分が別個の分子量を有し狭い
分子量分布を有すると共に、混合物のモダリティーがN
+1である単一モードの樹脂混合物を形成させても良
い。ここで、Nはモノマー、開始剤及び安定フリーラジ
カル剤を添加した回数を示す。
となり、安定フリーラジカル調整反応は効果的に抑えら
れあるいは終了される。冷却は油浴などの加熱源を終わ
らせることにより、及び容器を油浴から除去し撹拌しな
がらそのまま冷却させることにより実行することができ
る。モノマー、安定フリーラジカル剤及び光開始剤を新
しくあるいはその後に添加してUV光を照射しながら加
熱すると狭い分子量分布を有する新しいポリマー種が得
られ、各新しいポリマー種はその前に形成された他のポ
リマー種とは独立して成長し続ける。
た後、新しいブロックを形成する開始剤または安全フリ
ーラジカル剤を更に添加せずに新しいモノマーあるいは
モノマー群を添加することによりブロック共重合体樹脂
もまた製造することができる。各ブロック成分はその長
さが明確であり、狭い分子量分布を有し、繰り返した順
序及び組み入れるために選択したモノマーに依存する特
性を有する。
の添加剤を選択しても良い。これらの添加剤は結果的に
得られる生成物の性能の向上をもたらすものである。例
えば、着色料、潤滑剤、剥離剤あるいは転移剤、界面活
性剤、安定剤、消泡材などである。
分子量分布の別個の混合物を有するポリマー樹脂は本実
施の形態において、特に電子写真トーナー組成物に対し
て、改善された流量及び弾性を含む融解流動学特性、及
び摩擦帯電、混合率、貯蔵安定性などの改善した性能特
性などのいくつかの利点を有する。
成するために選択することができる。例えば、本発明プ
ロセスを選択して、スチレンモノマーを重合してポリス
チレンを、ブタジエンを重合してポリブタジエンを、あ
るいはn‐ブチルアクリレートを重合してポリ(n‐ブ
チルアクリレート)を形成することができる。本発明プ
ロセスを選択して、2つ以上の異なる重合可能なモノマ
ー混合物を重合させてそれらからなる共重合体を形成す
ることができ、例えば、スチレンとブタジエンの重合に
よりポリ(スチレン‐ブタジエン)が、スチレンとイソ
プレンからポリ(スチレン‐イソプレン)が、スチレン
とエチルアクリレートからポリ(スチレン‐エチルアク
リレート)が形成でき、また共重合体及びターポリマー
を含むそれらの複合物が形成できる。
れる適した反応媒質には、バルクあるいはニート、懸濁
液、エマルジョン及び溶液系が含まれる。
応体に約1,000から約20,000の間の低分子量
を有するワックス成分、例えばポリエチレンワックス、
ポリプロピレンワックスなどのアルケン及びそれらの混
合物、を組み入れることができる。特定のトーナーに適
用するにはそのような成分を使用するのが望ましい。ポ
リエチレン及びポリプロピレンなどの適した低分子量ワ
ックスが合衆国特許第4,659,641号に開示され
ている。
ーセントに対して約1から約10重量%の光開始剤とし
ては、ベンゾイン、ジスルフィド、アラルキルケトン、
オキシミノケトン、ペルオキシケトン、アシルホスフィ
ンオキシド、Micherケトンなどのジアミノケト
ン、3‐ケトクマリン(3−keto courmar
ins)などが挙げられ、1‐ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトンが好ましい。
り、例えば本発明のプロセスを用いて得られるポリマー
あるいは樹脂、例えばスチレン、スチレン共重合体、ス
チレンブタジエン共重合体などと、顔料粒子、例えばマ
グネタイト、カーボンブラックあるいはそれらの混合
物、シアン、黄色、マゼンタ、緑、茶、赤あるいはそれ
らの混合物と、好ましくは約0.5%から約5%の電荷
向上添加剤をワーナープフライダラー(Werner
Pfleiderer)から購入できる「ZSK53」
などのトーナー押出し成形装置中で混合及び加熱して、
形成されたトーナー組成物を装置から取り出すことによ
り、製造することができる。冷却後、体積メジアン直径
が約25ミクロン未満の、好ましくは約6から約12ミ
クロンのトーナー粒子を得るために、例えばスタートエ
バント(Sturtevant)ミクロナイザーを用い
てトーナー組成物を粉砕する。この直径はクールターカ
ウンタで測定する。その後、トーナー組成物は体積メジ
アン直径が約4ミクロン未満のトーナー粒子を除去する
目的で、例えばドナルドソン(Donaldson)モ
デルB分級器を用いて分級することができる。
トーナー及び現像液組成物として選択することのできる
本発明のプロセスを用いて得られる適したトーナーポリ
マーの例としては、スチレン、スチレンアクリレート、
スチレンブタジエン、2以上のビニルモノマーの共重合
体及び単独重合体を含むビニル樹脂;スチレン、p‐ク
ロロスチレン、ブタジエン、イソプレン及びミルセンを
含むビニルモノマー;メチルアクリレート、エチルアク
リレート、n‐ブチルアクリレート、イソブチルアクリ
レート、ドデシルアクリレート、2‐エチルヘキシルア
クリレート、n‐オクチルアクリレート、フェニルアク
リレート、アクリロニトリル、メタクリロニトニル、ア
クリルアミドなどを含むモノカルボン酸のエステルなど
のビニルエステル等が挙げられる。好ましいトーナー樹
脂としては、スチレンブタジエン共重合体、その混合物
などが挙げられる。好ましいトーナーポリマーとして
は、スチレンポリマー、スチレン/アクリレート共重合
体、PLIOLITES(商品名)、懸濁液重合スチレ
ンブタジエンが挙げられ、合衆国特許4,557,10
8号の開示がこの中で全体として引用され、参照され
る。
ーナー粒子に対する着色剤として選択することができ
る。例えば、REGAL330(商品名)などのカーボ
ンブラック、ニトロシン染料、アニリンブルー、マグネ
タイト、あるいはそれらの混合物が挙げられる。トーナ
ー組成物を十分着色するのに十分な量の顔料、好ましく
はカーボンブラックが存在しなければならない。一般
に、トーナー組成物の総重量に対し約1重量%から約2
0重量%、好ましくは約2重量%から約10重量%の量
の顔料粒子が存在する。しかしながら、それ以下あるい
はそれ以上の顔料粒子が存在するように選択しても良
い。
ックスを含有することもできる。例えば、アライドケミ
カルアンドペトロライト(Allied Chemic
aland Petlite)社が市販しているポリプ
ロピレン及びポリエチレン、イーストマンケミカルプロ
ダクツ(Eastman Chemical Prod
ucts)社が市販している「EPOLENE N‐1
5」(商品名)、サンヨー化成株式会社製の低平均分子
量ポリプレンである「VISCOL 550‐P」(商
品名)、及び同様のワックスである。選択された市販の
ポリエチレンは約1,000から1,500までの分子
量Mnを有し、トーナーに使用される市販のポリプロピ
レンは約4,000から約7,000の分子量を有する
と考えられる。ポリエチレン及びポリプロピレン組成物
の例は英国特許第1,442,835号に示されてい
る。
のトーナー組成物あるいはポリマー樹脂ビードに含まれ
ている。しかしながら、一般に、これらのワックスはト
ーナー組成物では約1重量%から約15重量%、好まし
くは約2重量%から約10重量%の量で含まれており、
実施の形態ではフューザーロール剥離剤(fuserr
oll rellease agent)として機能す
る。
子キャリヤ成分、特にトーナー組成物の極性とは摩擦電
気的に反対の極性を有することができる成分と混合され
る。従って、キャリヤ粒子は正に帯電したトーナー粒子
がキャリヤ粒子に付着し被覆するため負の極性を有する
ように選択される。キャリヤ粒子の例としては、鉄粉、
鋼、ニッケル、鉄、銅亜鉛フェライトを含むフェライ
ト、などが挙げられる。更に、キャリヤ粒子として、こ
の中で全体が引用され参照されている合衆国特許第3,
847,604号に示されているようなニッケルベリー
キャリヤを選択することができる。選択したキャリヤ粒
子はコーティングしてあるいはコーティング無しで使用
することができ、コーティングは一般にスチレン、メチ
ルメタクリレート、及びトリエトキシシラン、引用文献
の合衆国特許第3,526,533号、合衆国特許第
4,937,166号及び合衆国特許第4,935,3
26号、などのシランとのターポリマーを含み、例えば
「KYNAR」(商品名)及びポリメチルメタクリレー
ト混合物(40/60)が挙げられる。コーティング重
量はこの中で示すように変えることができる。しかしな
がら、一般には、約0.3から約2、好ましくは約0.
5から約1.5重量%のコーティング重量が選択され
る。
直径は、一般に約50ミクロンから約1,000ミクロ
ンであり、実施の形態においては、約70から175ミ
クロンである。これにより、十分な密度及び慣性が得ら
れ、現像中の静電像への付着が避けられる。キャリヤ成
分はトーナー組成物と様々な適した組み合わせで混合す
ることができるが、約10から約200重量部のキャリ
ヤにトーナーあたり約1から5部とした場合に最も良い
結果が得られる。
帯電できる従来の光受容体を含む静電複写画像装置にお
いて使用するために選択することができる。このため、
トーナー及び現像液組成物は合衆国特許第4,265,
990号において示されているような負に帯電可能な層
状光受容体と共に使用することができる。結像及び焼き
付け工程のために選択することができる無機光受容体と
しては、セレン、セレン砒素やセレンテルルなどのセレ
ン合金、ハロゲンドープセレン物質、及びハロゲン添加
セレン合金などが挙げられる。結像および焼き付け工程
のために電荷移動を伴う可撓性の結像部材及び光発生層
を選択することができる。
スルホン酸ナトリウム(2.607g)とTEMPO
(3.198g)を水/メタノール(30ml/30m
l‐脱酸素化なし)に溶解しUV照射を行った。使用し
た光源は高圧450W Hanovia水銀灯であり、
水冷された石英浸せきウェル(エースガラスカンパニ
ー:Ace Glass Company)内に配置し
た。浸せきウェルは水を有する2リットルビーカー中に
配置し、メタノール/水中の試薬を含む反応サンプルは
ビーカー内の長いガラス製のクレイグ管内に置いた。4
時間45分の照射後、15mlのサンプルを取り出し分
液漏斗に入れ、ジエチルエーテル(2×15ml)で抽
出し過剰のTEMPOを除去した。残渣水溶液(7.3
g)は次の工程で使用した。
溶液(7.3g)をスチレンスルホン酸ナトリウム(1
5g)、エチレングリコール(28g)及び水(12
g)に添加し、7時間40分110℃まで加熱した。こ
の間、4アリコット(aliquot)取り出し、この
アリコットのGPCのグラフを描いた。このグラフか
ら、重合はリビングの状態であり、スチレンスルホン酸
生成物には全くデッドなポリマーは無いことが明らかに
なった。他の開始システムを用いると、反応の開始段階
に普通デッドポリマーが形成された。4つのサンプルは
以下の測定特性を有していた。BK7026‐78R2
0は11,211のMn、16,671のMw、15,
402のMP、1.487のポリ分散性を有した。 B
K7026‐77R20は14,946のMn、21,
775のMw、19,518のMP、1.456のポリ
分散性を有した。 BK7026‐78BR120は1
9,174のMn、26,614のMw、23,395
のMP、1.388のポリ分散性を有した。 BK70
26‐78R240は25,319のMn、34,20
1のMw、30,614のMP、1.351のポリ分散
性を有した。
合物をメタノール/アセトン(75ml/75ml)に
添加し、得られた沈殿をアセトンでスラリー化した。鎖
の伸張は上記の様に行われたが、残っている過剰のTE
MPOは全て除去されていたので反応は目下のところず
っと速かった。非常に高い分子量、例えば100,00
0Mwが達成され、これにより鎖の伸張が起こっていた
ことが示された。
シルフェニルケトン1.06gをUV照射前に反応混合
物に添加したことを除き、上記の工程を繰り返した。実
質的に同様の結果が得られた。
行い、その後、約130℃のより高い温度で主にポリマ
ーの伸張のために第2の加熱を行うようにして上記プロ
セスを繰り返すことができる。この場合、約1.17の
優れたポリ分散性を有するスチレン、スチレンスルホン
酸などのポリマーが得られると考えられる。
持基板、三方晶系セレンの光発生層及び55重量%のポ
リカーボネート「MAKROLON」(商品名)、合衆
国特許第4,254,990号参照、に45重量%分散
されたアリルアミンN,N’‐ジフェニル‐ N,N’
‐ビス(3‐メチルフェニル)1,1’‐ビフェニル‐
4,4‘‐ジアミンの電荷移動層を含む負に帯電した層
状結像部材とを備えたゼログラフィ結像テスト取り付け
具において、スチレン共重合体などのポリマー生成物と
「REGAL300」(商品名)カーボンブラック、8
重量%に調製されたトーナー組成物を用いて、現像する
ことができる。この像は高品質で、バックグラウンドデ
ポジットが無く、約75,000結像サイクルを超える
と考えられる数の増した結像サイクルにわたり解像力が
高いと考えられる。
トーナー、公知の添加剤を含むトーナーなど他のトーナ
ー組成物も本発明のプロセスを用いて得られたポリマー
及びコポリマー樹脂から従来の手段により容易に調整で
きる。
整重合プロセスは広範囲の有機モノマーに適用すること
ができ、所望の電子写真特性、コーティングなどを有す
るトーナーポリマー材料を提供することができる。例え
ば、ポリマー生成物は光受容体顔料のための分散剤とし
て選択することができる。多モードポリマー樹脂生成物
は低融解トーナー樹脂に使用することができ、特定の単
一モード樹脂はカーボンブラック及び他の顔料粒子の表
面を修飾するのに使用することができ、顔料粒子がホス
トポリマーあるいは分散媒質とより混合しやすくなる。
更に、複写に適用するトーナー樹脂として狭い(PD)
分子量樹脂、例えばポリ(スチレンブタジエン)を選択
することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 安定フリーラジカル剤と少なくとも1つ
の重合可能なモノマー化合物とを含む混合物に、紫外線
を照射しながら加熱、光開始反応を行う第1の加熱工程
と、 必要に応じて前記混合物を冷却する工程と、 約100℃から約160℃までの温度で前記混合物を加
熱する第2の加熱工程と、 形成されたポリマー生成物を単離する工程と、 必要に応じて前記ポリマーを洗浄、乾燥する工程と、を
備えることを特徴とするポリマーを製造するためのフリ
ーラジカル重合プロセス。 - 【請求項2】 前記第1の加熱工程は約−40℃から約
110℃の温度で行われると共に、前記第2の加熱工程
は約120℃から約160℃までの温度で行われること
を特徴とする請求項1記載のフリーラジカル重合プロセ
ス。 - 【請求項3】 安定フリーラジカル剤と1つの重合可能
なモノマーとを含む混合物に、光開始剤成分を添加して
紫外線を照射しながら加熱、光開始反応を行う第1の加
熱工程であって、該第1の加熱工程が約20℃から約6
0℃までの低温で行われる前記第1の加熱工程と、 前記混合物を冷却する工程と、 約120℃から約160℃までの温度で前記混合物を加
熱する第2の加熱工程と、 形成されたポリマー生成物を単離する工程と、 前記ポリマーを洗浄、乾燥する工程と、を備えることを
特徴とするポリマーを製造するためのフリーラジカル重
合プロセス。
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